CN105684108A - 电磁致动器用电枢线圈、电磁致动器、曝光装置及器件制造方法 - Google Patents

电磁致动器用电枢线圈、电磁致动器、曝光装置及器件制造方法 Download PDF

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纐纈雅之
森本树
吉元宏充
田中幸次
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Abstract

一种构成X轴线性马达的固定件并通过通电来产生磁场的电枢线圈(60)具有：带状的导电层(62a)，由铜形成，卷绕于规定的绕线轴；带状的绝缘层(62b)，设于导电层(62a)的相对的面部之间，使相对的导电层(62a)彼此间电气绝缘；粘接层(62c)，将导电层(62a)的相对的面之间隔着绝缘层(62b)粘接起来。

Description

电磁致动器用电枢线圈、电磁致动器、曝光装置及器件制造方法
技术领域
本发明涉及一种电磁致动器用电枢线圈、电磁致动器、曝光装置及器件制造方法，更详细来说，涉及一种用于线性马达等电磁致动器的电枢线圈、使用该电枢线圈的电磁致动器、使用该电磁致动器的曝光装置以及使用该曝光装置的器件制造方法。
背景技术
以往，在制造半导体元件(集成电路等)、液晶显示元件等电子器件(微型器件)的光刻工序中所使用的例如步进-重复(stepandrepeat)方式的投影曝光装置(所谓的步进机(stepper))或者步进-扫描(stepandscan)方式的投影曝光装置(所谓的步进式扫描机(scanning-stepper))中，将例如线性马达等电磁致动器用于对作为曝光对象的晶圆或者玻璃板(以下，统称为晶圆)的位置控制。
此处，已知作为在曝光装置中使用的电磁致动器所具有的电枢线圈的绕线(导线)而使用了细长的带状电线(所谓的扁线(strip))(例如，参照专利文献1)。
此处，作为电磁致动器用电枢线圈，最好是既能确保绕线匝数又能小型化的电枢线圈。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利第6,891,600号说明书
发明内容
本发明是在上述情况下提出的，若从第一种观点出发，则提供一种电磁致动器用电枢线圈，其通过将带状的绕线绕规定的绕线轴卷绕多圈而形成的，所述绕线具有带状的导电体、和设于所述导电体的一面侧的带状的绝缘体。
由此，利用绝缘体阻隔在被卷绕于绕线轴的状态下相对的(重叠的)导电体间导通(防止电气短路)。由于绝缘体形成为带状，所以与假设用绝缘物覆盖导电体的整个表面的情况相比，能够缩小线圈的径向的尺寸。
若从第二种观点出发，则本发明提供一种电磁致动器，该电磁致动器具有：设于可动件以及固定件中的一方的本发明的电磁致动器用电枢线圈；以及设于所述可动件以及固定件中的另一方的磁体，通过所述电磁致动器用电枢线圈与所述磁体的电磁相互作用，而在所述电磁致动器用电机线圈与所述磁体之间产生推力。
若从第三种观点出发，则本发明提供一种曝光装置，该曝光装置具有：移动体，其保持规定的物体，并利用本发明的电磁致动器所产生的所述推力来移动；以及图案形成装置，其使用能量束在所述移动体所保持的所述物体上形成规定的图案。
若从第四种观点出发，则本发明提供一种器件制造方法，该器件制造方法包括如下的步骤：使用本发明的曝光装置来对所述物体进行曝光；以及使曝光了的所述物体显影。
附图说明
图1是概略地示出一个实施方式的曝光装置的结构的图。
图2是示出图1的曝光装置所具有的载台装置的立体图。
图3的(A)是示出图2的载台装置所具有的X轴用的固定件的立体图，图3的(B)是图3的(A)的固定件所具有的线圈单元的立体图。
图4的(A)是图3的(B)的线圈单元所具有的线圈的立体图，图4的(B)是沿着图4的(A)的B-B线的剖视图。
图5是示出以曝光装置的控制***为中心而构成的主控制装置的输入输出关系的框图。
具体实施方式
以下，针对一个实施方式，使用图1～图5进行说明。
在图1中概略地示出一个实施方式的曝光装置10的结构。曝光装置10是步进-扫描方式的投影曝光装置，是所谓的扫描仪(scanner)。如后文所述，在本实施方式中设有投影光学***16b，以下，以与投影光学***16b的光轴AX平行的方向作为Z轴方向，以在与Z轴方向正交的平面内光罩R与晶圆W相对扫描的方向作为Y轴方向，以与Z轴以及Y轴正交的方向作为X轴方向，以绕X轴、Y轴以及Z轴的旋转(倾斜)方向分别作为θx、θy以及θz方向来进行说明。
曝光装置10具有照明***12、光罩载台14、投影单元16、包含晶圆载台30在内的载台装置20以及它们的控制***等。在晶圆载台30上载置有表面上涂敷了抗蚀剂(感光剂)的晶圆W。
例如美国专利申请公开第2003/0025890号说明书等披露的那样，照明***12具有光源、包含光学积分器(opticalintegrator)等在内的照度均匀化光学***以及具有光罩遮帘等(均未图示)的照明光学***。照明***12利用照明光(曝光用光)IL以大致均匀的照度来照射由光罩遮帘(也称为遮蔽***)设定(限制)的光罩R上的狭缝状的照明区域IAR。作为照明光IL而使用例如ArF(氟化氩)准分子激光(波长193nm)。
光罩载台14通过例如真空吸附保持着在图案面(图1中的-Z侧的面)形成有电路图案等的光罩R。光罩载台14能够由包含例如XY双自由度的线性马达(未图示)在内的光罩驱动***72(图1中未图示。参照图5)，在扫描方向(Y轴方向)上以规定的行程来驱动，且能够在X轴以及θz方向上被微量地驱动。光罩载台14在XY平面内的位置信息(包含θz方向的旋转量信息)是由主控制装置70(在图1中未图示。参照图5)利用包含例如激光干涉仪***(或者编码器(encoder)***)的光罩位置测量***74来求出的。主控制装置70基于上述光罩位置测量***74的输出来控制光罩驱动***72所具有的XY双自由度线性马达，由此控制光罩载台14在XY平面内的位置(包括θz方向的旋转量)。
投影单元16配置于光罩载台14的下方(-Z侧)。投影单元16具有镜筒16a和在镜筒16a内保持的投影光学***16b。例如使用由沿着光轴AX排列的多个光学元件(透镜元件)组成的折射光学***作为投影光学***16b。投影光学***16b例如是两侧远心的，并具有规定的投影倍率(例如1/4倍、1/5倍或者1/8倍等)。
因此，当利用来自照明***12的照明光IL照射光罩R上的照明区域IAR时，利用从以图案面与投影光学***16b的第一面(物体面)大致一致的方式配置的光罩R透过的照明光IL，经由投影光学***16b将该照明区域IAR内的光罩R的电路图案的缩小像(电路图案的一部分的缩小像)形成于晶圆W上的与上述照明区域IAR共轭的区域(以下，也称为曝光区域)IA上，该晶圆W配置于投影光学***16b的第二面(像面)侧。而且，通过同步驱动光罩载台14和晶圆载台30，一边使光罩R在扫描方向上相对于照明区域IAR(照明光IL)相对移动，一边使晶圆W在扫描方向上相对于曝光区域IA(照明光IL)相对移动，由此扫描曝光晶圆W上的一个照射(shot)区域(划分区域)，将光罩R的图案转印至该照射区域。即，在本实施方式中，利用照明***12以及投影光学***16b在晶圆W上生成光罩R的图案，利用照明光IL对晶圆W上的感光层(抗蚀剂层)进行曝光来在晶圆W上形成该图案。
载台装置20具有设置于洁净室的地板100上的框架搬运部件(framecaster)22、载置于该框架搬运部件22上的底盘24、配置于该底盘24的上方的晶圆载台30、驱动晶圆载台30的晶圆驱动***76(在图1中未图示。参照图5)以及用于求出晶圆载台30的位置信息的晶圆位置测量***78等。
如图2所示，框架搬运部件22由大致平板状的构件构成，该大致平板状的构件在其X侧方向一侧和另一侧的端部附近一体地形成有以Y轴方向为长边方向且向上方突出的凸部26a、26b。在框架搬运部件22的凸部26a的上方载置有在Y轴方向上延伸的Y轴用的固定件42a。同样地，在框架搬运部件22的凸部26b的上方载置有在Y轴方向上延伸的Y轴用的固定件42b。在本实施方式中，Y轴用的固定件42a、42b由具有沿着Y轴方向以规定间隔配置的多个永磁铁的磁铁单元构成。
底盘24由也称为平台的板状构件构成，并配置于被框架搬运部件22的上述凸部26a、26b所夹着的区域上。底盘24的上表面形成得平坦度非常高，并作为当晶圆载台30移动时的引导面。
晶圆载台30具有配置于底盘24的上方的晶圆载台主体32和经由未图示的Z-俯仰(tilt)驱动机构而搭载于该晶圆载台主体32上的晶圆台34。Z-俯仰驱动机构具有以3个点将晶圆台34支承在晶圆载台主体32上的例如3个致动器(例如，音圈马达)等，并在Z轴方向、θx方向、θy方向这3个自由度方向上微量地驱动晶圆台34。
晶圆载台主体32由箱形的构件构成，该箱形的构件形成有在X轴方向上贯穿的贯穿孔。在晶圆载台主体32的下表面安装有多个未图示的空气轴承。晶圆载台30经由该多个空气轴承，隔着几μm左右的游隙(clearance)以非接触的方式被支承于上述的引导面的上方。晶圆台34由板状构件构成，该板状构件当俯视时(从+Z方向观察)呈大致正方形，在该晶圆台34的上表面设有保持晶圆W的晶圆保持件(未图示)。
在晶圆载台主体32的内部配置有由YZ截面呈U字形的磁铁单元构成的可动件44，该磁铁单元具有沿着X轴方向以规定间隔配置的多个永磁铁。
在可动件44的一对相对面之间***有在X轴方向上延伸的X轴用的固定件46。X轴用的固定件46由电枢单元构成，该电枢单元中内置沿着X轴方向以规定间隔配置的多个电枢线圈60(以下，简称为线圈60)。利用由磁铁单元构成的可动件44和由电枢单元构成的X轴用的固定件46，构成在X轴方向上驱动晶圆载台30的动磁(movingmagnet)式的X轴线性马达。以下，为了方便，使用与该固定件(X轴用的固定件)46相同的附图标记来表示上述X轴线性马达，并将上述X轴线性马达称为X轴线性马达46。此外，也可以使用动圈(movingcoil)式的线性马达作为X轴线性马达。
在X轴用的固定件46的长边方向的一侧和另一侧的端部分别固定有由电枢单元构成的可动件48a、48b，在该电枢单元中内置例如沿着Y轴方向以规定间隔配置的多个电枢线圈(未图示)。可动件48a、48b分别***上述的Y轴用的固定件42a、42b的一对相对面之间。即，在本实施方式中，利用由电枢单元构成的可动件48a、48b和由磁铁单元构成的Y轴用的固定件42a、42b，构成两个动圈式的Y轴线性马达。以下，为了方便，分别使用与各自的固定件(Y轴用的固定件)42a、42b相同的附图标记来表示上述两个Y轴线性马达，并将上述两个Y轴线性马达称为Y轴线性马达42a、42b。此外，也可以使用动磁式的线性马达作为Y轴线性马达。
主控制装置70(参照图5)利用X轴线性马达46在X轴方向上驱动晶圆载台30，并且利用Y轴线性马达42a、42b以使晶圆载台30与X轴线性马达46一体的方式在Y轴方向上驱动晶圆载台30。另外，主控制装置70使Y轴线性马达42a、42b所产生的Y轴方向的驱动力稍微不同，由此也在θz方向上旋转驱动晶圆载台30。在本实施方式中，由Y轴线性马达42a、42b以及X轴线性马达46、驱动晶圆台34的未图示的Z-俯仰驱动机构来构成图5所示的晶圆驱动***76，构成该晶圆驱动***76的各部分受主控制装置70控制。
如上述方式构成的晶圆载台30(晶圆台34)的6个自由度方向(X、Y、Z、θx、θy以及θz方向)的位置信息是利用例如美国专利第8,059,260号说明书中披露的包含干涉仪***在内的晶圆位置测量***78(参照图5)来求出的。此外，也可以取代干涉仪***，而是使用例如美国专利申请公开第2008/0094592号说明书中披露的编码器***(或者将干涉仪***和编码器***组合而成的测量***)来作为用于求出晶圆载台30的6个自由度方向的位置信息的测量***。
以下，针对X轴用的固定件46的结构以及该固定件46所具有的线圈60的结构进行说明。
如图3的(A)所示，固定件46具有多个线圈单元50。多个线圈单元50在X轴方向上以相互紧挨的状态排列。在图3的(B)中代表性地示出多个线圈单元50中的一个。线圈单元50具有电路基板52、底板54、冷却板56和多个线圈60等。
电路基板52由板状构件构成，该板状构件当俯视时呈大致正方形，该电路基板52安装有开关元件(未图示)等。底板54由板状构件构成，该板状构件当俯视时呈大致正方形。利用螺钉53将上述电路基板52隔着规定的间隙(游隙(clearance)、缝隙(gap))固定于底板54的下表面(-Z侧面)。冷却板56由板状构件构成，该板状构件当俯视时呈大致正方形，该冷却板56隔着规定的间隙配置于底板54的上表面侧。在冷却板56的内部形成有用于使制冷剂通过的流路(所谓的微型通道)，该制冷剂用于冷却线圈60。
本实施方式的线圈单元50具有例如6个线圈60。例如，6个线圈60中的3个在X轴方向上以规定间隔配置在底板54与冷却板56之间(冷却板56的下表面侧)，剩余的3个在X轴方向上以规定间隔配置于冷却板56的上表面侧。此外，配置于冷却板56的上表面侧的线圈60以及配置于冷却板56的下表面侧的线圈60的结构在实质上是相同的。
在上述底板54的上表面，在X轴方向上以规定间隔形成有例如3组成对的突起58，该成对的突起58是向+Z方向突出而形成的。底板54共计具有例如6个突起58，并由电气绝缘材料(例如以氧化铝作为原料的陶瓷等)形成。成对的突起58插穿于线圈60的空芯部内。突起58的外周面与形成线圈60的空芯部的壁面以实质上没有间隙的状态接触(紧贴)。通过这样，当利用X轴线性马达46在X轴方向上驱动晶圆载台30(分别参照图2)时，作用于线圈60的驱动反作用力由突起58(即底板54)来支承。另外，在上述冷却板56上也形成有与突起58对应的未图示的贯穿孔。
在图4的(A)中代表性地示出线圈单元50所具有的多个线圈60中的一个。本实施方式的线圈60是当俯视时呈椭圆状的所谓的平面线圈(扁平线圈)，其上表面以及下表面分别与XY平面平行地形成。如图3的(B)所示，配置于冷却板56的下表面侧的例如3个线圈60的上表面与冷却板56的下表面接触，配置于冷却板56的上表面侧的例如3个线圈60的下表面与冷却板56的上表面接触。线圈单元50具有用于测量线圈60附近的温度的线圈温度传感器组66(在图3的(B)中未图示。参照图5)。主控制装置70(参照图5)基于该线圈温度传感器组66的输出，控制从未图示的制冷剂供给装置供给至冷却板56的制冷剂的流量，以使伴随着通电而发热的线圈60的温度在期望的范围内。此外，也可以是，在配置于冷却板56的下表面侧的例如3个线圈60的下表面侧进一步配置追加的冷却板，以及/或者在配置于冷却板56的上表面侧的例如3个线圈60的上表面侧进一步配置追加的冷却板。
返回图4的(A)，线圈60是通过将长条带状的绕线62(也称为扁线等)绕与Z轴平行的绕线轴(未图示)卷绕多次(例如500次左右)而形成的。如图4的(B)所示，绕线62具有导电层62a、绝缘层62b以及粘接层62c。导电层62a是由所谓的铜箔(形成为厚度较薄的带状的铜)形成的。导电层62a(铜箔)的厚度并不特别限定，但是在本实施方式中，设定为例如35μm左右。此外，构成导电层62a的导电性的金属材料不限于铜，也可以使用例如铝等的其他导电性材料。
绝缘层62b是通过在构成上述导电层62a的铜箔的一个面(在本实施方式中，是在将绕线62卷绕成线圈状的状态下的内侧面)涂敷了合成树脂材料(或者贴合不导电的薄膜)而与导电层62a一体地形成的。能够使用例如聚酰亚胺或聚对苯二甲酸乙二醇酯等合成树脂材料作为形成绝缘层62b的不导电材料(电气绝缘物质)。绝缘层62b的厚度并不特别限定，但是在本实施方式中，绝缘层62b的厚度比导电层62a薄，例如设定为3μm左右。粘接层62c是通过在上述绝缘层62b的一个面(与绝缘层62b和导电层62a的接合面相反的面)涂敷粘接剂(或者粘合剂)而与绝缘层62b一体地形成的。构成粘接层62c的粘接剂的种类并不特别限定，但优选具有电气绝缘性以及耐热性的种类。粘接层62c的厚度并不特别限定，但是在本实施方式中，粘接层62c的厚度比绝缘层62b薄，例如设定为2μm左右。
绕线62的上述导电层62a、绝缘层62b以及粘接层62c是预先一体化的，当在制造线圈60的过程中将绕线62卷绕于绕线轴时，粘接层62c与内周侧的导电层62a粘接。通过这样，来阻隔重叠的导电层62a相互间导通，以防止短路。
另外，在线圈60的上表面以及下表面形成有涂敷膜64，该涂敷膜64是通过热喷涂以例如氧化铝等金属氧化物为原料的陶瓷来形成的。通过这样，线圈60的上表面以及下表面变得平坦，抑制在线圈60与冷却板56(在图4的(B)中未图示。参照图3的(B))之间形成间隙(空气介入)，使得线圈60与冷却板56之间的热交换效率提高。此外，虽然未图示，但是构成线圈60的最外周面的绕线62的外周面被例如合成树脂材料所覆盖，防止导电层62a露出到外部。
在图5中示出曝光装置10的控制***的主要的结构。控制***以主控制装置70为中心构成，该主控制装置70由总体上控制装置整体的微型计算机(或者工作站)构成。
如上述构成的曝光装置10(参照图1)首先，将光罩R以及晶圆W分别装载到光罩载台14以及晶圆载台30上，进行光罩调准以及基准线测量还有晶圆调准(例如EGA(增强型全晶圆调准)等)等规定的准备工作。然后，在主控制装置70的管理下，将晶圆载台30驱动到对晶圆W的第一个照射区域进行曝光的加速开始位置，并且驱动光罩载台14，以使光罩R的位置成为加速开始位置。然后，沿着Y轴方向同步驱动光罩载台14和晶圆载台30，由此对晶圆W上的第一个照射区域进行曝光。以后，对光罩上的全部照射区域进行曝光，由此完成晶圆W的曝光。
上述定位动作包含于曝光动作中，曝光装置10利用晶圆驱动***76(参照图5)在底盘24上在6个自由度方向适当驱动晶圆载台30(晶圆W)，该晶圆驱动***76具有X轴线性马达46、Y轴线性马达42a、42b以及Z-俯仰驱动机构(未图示)。
根据以上说明了的本实施方式，X轴线性马达46(X轴用的固定件46)所具有的多个线圈60各自的绕线62仅将用于防止导电层62a之间短路的绝缘层62b设于构成该导电层62a的铜箔的一面侧(在本实施方式中内侧面)，因此与用假设构成导线层的铜箔的整个外周表面都被绝缘覆盖的绕线来制作相同匝数的线圈的情况相比，能够缩小线圈60的径向尺寸。通过这样，能够使线圈60小型化、轻型化。另外，由于利用由粘接剂形成的粘接层62c将重叠的导电层62a之间粘接起来，所以线圈60的刚性提高。
另外，由于线圈60在与冷却板56的接触面具有由热传导性良好的氧化铝形成的涂敷膜64，所以能够高效率地冷却伴随着通电而发热的线圈60。通过这样，能够抑制在曝光装置10内产生温度分布差异(或者温度梯度)，能够进行高精度的曝光动作。另外，由于线圈60的刚性(例如在与XY平面交叉的方向上的扭转刚性)因涂敷膜64的作用而提高，所以线圈60便于使用。另外，本实施方式的线圈60的导电层62a的宽度方向两端部(在图4的(B)中是+Z以及-Z侧的端部)未被绝缘覆盖，但是由于在上下表面上形成有电气绝缘性良好的氧化铝陶瓷的涂敷膜64，所以防止了导电层62a露出到外部。
此外，上述实施方式的曝光装置10的结构能够进行适当变更。例如，上述实施方式说明了具有线圈60的电磁致动器是单自由度的马达(X轴线性马达46)的情况，但是电磁致动器也可以是例如美国专利申请公开第2013/0164687号说明书中披露的6个自由度的平面马达，可以将与上述实施方式的线圈60同样的结构应用于该6个自由度的平面马达的固定件(或者可动件)所使用的线圈的绕线结构上。
另外，作为电磁致动器，不限于线性马达，也可以是旋转马达，还可以将与上述实施方式的线圈60同样的结构应用于该旋转马达的可动件(或者固定件)所使用的线圈的绕线结构上。进一步地，在电磁致动器是线性马达的情况下，可以是双自由度(正交的两个轴方向)的线性马达，也可以是3个自由度(正交的两个轴方向以及绕包含该正交的两个轴的平面旋转的方向)的平面马达等，可以将与上述实施方式的线圈60同样的结构应用于该线性马达的可动件(或者固定件)所使用的线圈的绕线结构上。另外，线圈也可以是当俯视时呈大致正方形、大致三角形或者大致梯形等其他形状。
另外，在上述实施方式中，线圈60是由绕线62形成的，该绕线62是在绝缘层62b的一面侧设置有导电层62a，并且在绝缘层62b的另一面侧设置有粘接层62c的三层结构(正面是导电层62a，背面是粘接层62c)，但是绕线62的结构不限于此，例如也可以是在导电层62a的一面侧设置绝缘层62b，在导电层62a的另一面侧设置粘接层62c的三层结构(正面是绝缘层62b，背面是粘接层62c)。另外，也可以与上述实施方式相反，正面是粘接层62c，而背面是导电层62a。
另外，在上述实施方式中，分别保护线圈60的上表面以及下表面的涂敷膜64是由陶瓷形成的，但是不限于此，也可以由例如合成树脂材料形成。另外，涂敷膜64也可以仅设于线圈60的上表面以及下表面中的一方，也可以不设置。另外，上述实施方式的线圈60利用粘接层62c并隔着绝缘层62b将重叠的导电层62a粘接起来，但若能够利用涂敷膜64确保刚性，也可以不设置粘接层62c。另外，在上述实施方式中，导电层62a与绝缘层62b是一体的，但是它们也可以是分体的，例如可以准备带状的导电体和带状的绝缘体，以在重叠的导电体之间夹入绝缘体的方式来将导电体以及绝缘体一体地卷绕，由此形成线圈。
另外，作为晶圆载台装置，除了例如美国专利第8,059,260号说明书中披露的保持晶圆W的晶圆载台以外，还可以具有测量载台，该测量载台具有用于进行与曝光有关的各种测量的测量器具，也可以将与上述实施方式的线圈60同样的结构应用于如下的线性马达的固定件(或者可动件)所使用的线圈的绕线结构，该线性马达用于驱动该测量载台。另外，也可以例如美国专利申请公开第2010/0066992号说明书中披露的曝光装置那样，具有两个晶圆载台。另外，也可以将与上述实施方式的线圈60同样的结构应用于驱动光罩载台14的线性马达的固定件(或者可动件)所使用的线圈的绕线结构上。
另外，上述实施方式的电磁致动器用于曝光装置中的处理对象体(所谓的工件)的位置控制，但是不限于此，也可以用于例如工件搬运装置(所谓的装载装置)所具有的马达等，还可以将与上述实施方式的线圈60同样的结构应用于该马达的可动件(或者固定件)所使用的线圈的绕线结构上。
另外，电磁致动器也可以用于曝光装置以外的装置，例如照相机、便携式电话等可携带设备、如汽车这样的自动(行驶)设备。
另外，作为电磁致动器，不仅限于线性马达和旋转马达，还包括电磁铁等。
另外，在曝光装置中，照明光IL不限于ArF准分子激光(波长193nm)，也可以是KrF(氟化氪)准分子激光(波长248nm)等紫外光或者F2激光(波长157nm)等真空紫外光。还可以是例如美国专利第7,023,610号说明书中披露的那样作为真空紫外光而使用高次谐波，该高次谐波是利用例如掺杂了铒(或者铒和镱这两者)的光纤放大器对由DFB(DistributedFeedBack：分布反馈)半导体激光器或者光纤激光器所激发的红外区或者可见区的单一波长激光进行增幅，并使用非线性光学晶体来将波长转换为紫外光而得到的高次谐波。另外，照明光IL不限于波长在100nm以上的光，也可以使用波长不满100nm的光，例如，在使用软X射线区域(例如5～15nm的波长域)的EUV(ExtremeUltraviolet：超紫外光)光的EUV曝光装置中，也能够应用上述实施方式。此外，在使用电子束或者离子束等带电粒子束的曝光装置中，也能够应用上述实施方式。
另外，上述实施方式的曝光装置中的投影光学***不仅可以是缩小***，也可以是等倍以及放大***的某一种，投影光学***16b也不仅可以是折射***，而可以是反射***以及反射折射***中的某一种，该投影像可以是倒立像以及正立像中的某一种。
另外，在上述实施方式中使用了在透光性的基板上形成有规定的遮光图案(或者位相图案、减光图案)的透光型掩膜(光罩)，但也可以取代这种光罩，而是例如美国专利第6,778,257号说明书中披露的那样，基于应该曝光的图案的电子数据，使用透过图案或者反射图案，或者使用形成发光图案的电子掩膜(也称为可变成形掩膜、主动式掩膜(activemask)或者图像生成器，包括例如作为一种非发光型图像显示元件(空间光调制器)的DMD(DigitalMicro-mirrorDevice：数字微镜器件)等)。
另外，例如美国专利第8,004,650号说明书中披露的那样，上述实施方式能够应用于在投影光学***与曝光对象(例如晶圆)之间充满液体(例如纯水)的状态下进行曝光动作的所谓的液浸曝光装置。
另外，例如国际公开第2001/035168号中披露的那样，在晶圆W上形成干涉条纹，由此在晶圆W上形成线与间隔(lineandspace)图案的曝光装置(光刻***)中，也能够应用上述实施方式。另外，上述实施方式也能够应用于将照射区域与照射区域合成的步进-拼接(stepandstitch)方式的缩小投影曝光装置中。
另外，例如美国专利第6,611,316号说明书中披露的那样，在经由投影光学***在晶圆上合成两个光罩图案，通过一次扫描曝光来几乎同时对晶圆上的一个照射区域进行双重曝光的曝光装置中，也能够应用上述实施方式。
另外，在上述实施方式中用于形成图案的物体(被能量束照射的曝光对象的物体)并不限于晶圆，也可以是玻璃板、陶瓷基板、薄膜构件或者掩膜基板(maskblanks)等其他物体。
另外，作为曝光装置的用途不限于半导体制造用的曝光装置，也能够广泛地应用于例如将液晶显示元件图案转印至方形的玻璃板上的液晶用的曝光装置，以及用于制造有机EL、薄膜磁头、摄像元件(CCD(charge-coupleddevice：电荷耦合器件)等)、微型机械以及DNA芯片等的曝光装置中。另外，不仅是半导体元件等微型器件，而且在为了制造在光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置以及电子束曝光装置等中使用的光罩或者掩膜，而将电路图案转印至玻璃基板或者硅晶圆等上的曝光装置中，也能够应用上述实施方式。
半导体元件等电子器件是经过如下的这些步骤制造出来的，这些步骤包括：进行器件的功能、性能设计的步骤；制作基于该设计步骤的光罩的步骤；利用硅材料制作晶圆的步骤；通过上述的实施方式的曝光装置(图案形成装置)以及其曝光方法来将掩膜(光罩)的图案转印至晶圆上的光刻步骤；使曝光了的晶圆显影的显影步骤；通过刻蚀来去除残留有抗蚀剂的部分以外的部分即露出部件的刻蚀步骤；刻蚀结束后去掉不需要的抗蚀剂的抗蚀剂除去步骤；器件组装步骤(包括切割工序、焊接工序和封装工序)；以及检查步骤等。在这种情况下，由于在光刻步骤中，使用上述实施方式的曝光装置执行上述的曝光方法来在晶圆上形成器件图案，所以能够生产性良好地制造出高集成度的器件。
产业上的可利用性
如以上说明的那样，本发明的电磁致动器用电枢线圈适合应用于电磁致动器中。另外，本发明的电磁致动器适于产生规定的推力。另外，本发明的曝光装置适于在物体上形成规定的图案。另外，本发明的器件制造方法适于生产微型器件。
附图标记说明
10曝光装置，20载台装置，30晶圆载台，46X轴线性马达(X轴用的固定件)，50线圈单元，60线圈，62绕线，62a导电层，62b绝缘层，62c粘接层，64涂敷膜，70主控制装置，W晶圆。

Claims (14)

1.一种电磁致动器用电枢线圈，其通过将带状的绕线绕规定的绕线轴卷绕多圈而形成，其特征在于，
所述绕线具有带状的导电体和设于所述导电体的一面侧的带状的绝缘体。
2.如权利要求1所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
所述导电体与所述绝缘体一体地形成。
3.如权利要求1或者2所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
在绕所述绕线轴卷绕了所述绕线的状态下，所述绝缘体设于所述导电体的内周面侧。
4.如权利要求1～3中任一项所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
所述导电体与所述绝缘体是以大致相同的宽度形成。
5.如权利要求1～4中任一项所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
所述绕线还具有粘接层，所述粘接层将隔着所述绝缘体相互重叠的所述导电体粘接起来。
6.如权利要求5所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
所述绝缘体与所述粘接层一体地形成。
7.如权利要求1～6中任一项所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
还具有涂敷膜，所述涂敷膜覆盖由所述绕线的宽度方向一侧的端部形成的第一面以及由所述绕线的宽度方向另一侧的端部形成的第二面中的至少一方。
8.如权利要求7所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
所述涂敷膜是由电绝缘体形成的。
9.如权利要求8所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
所述涂敷膜是通过热喷涂金属氧化物类的陶瓷来形成的。
10.如权利要求7～9中任一项所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
所述第一面与所述第二面是平行的。
11.如权利要求1～10中任一项所述的电磁致动器用电枢线圈，其特征在于，
所述绝缘体比所述导电体更薄。
12.一种电磁致动器，其特征在于，具有：
设于可动件以及固定件中的一方的权利要求1～11中任一项所述的电磁致动器用电枢线圈；以及
设于所述可动件以及固定件中的另一方的磁体，
通过所述电磁致动器用电枢线圈与所述磁体的电磁相互作用，而在所述电磁致动器用电枢线圈与所述磁体之间产生推力。
13.一种曝光装置，其特征在于，具有：
移动体，其保持规定的物体，并利用权利要求12所述的电磁致动器所产生的所述推力来移动；以及
图案形成装置，其使用能量束在所述移动体所保持的所述物体上形成规定的图案。
14.一种器件制造方法，其特征在于，包括如下的步骤：
使用如权利要求13所述的曝光装置来对所述物体进行曝光；以及
使曝光了的所述物体显影。
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