KR20010063296A - 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치 및 그의 제조방법 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 37
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 35
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 8
- 229910005881 NiSi 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 5
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134363—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
Description
Claims (13)
- 투명성 절연기판;화소 공간을 한정하도록, 상기 투명성 절연기판 상에 서로 교차하게 배열된 게이트 라인 및 데이터 라인;상기 게이트 라인과 데이타 라인의 교차점 부근에 배치된 박막 트랜지스터;상기 게이트 라인 및 데이터 라인에 의해 한정된 화소 공간 내에 배치되며, 상기 데이타 라인과 평행하게 연장되면서 상기 화소 공간의 양측 가장자리 부분에 각각 배치되는 한 쌍의 제1브렌치들과, 상기 제1브렌치와 평행하게 연장되면서 상기 제1브렌치들 사이에 배치되는 수 개의 제2브렌치들, 상기 제1브렌치들의 일측 단을 연결하면서 공통전극 라인으로서 기능하는 제1바, 및 상기 제2브렌치들의 일측단을 연결하면서 상기 제1바와 콘택되는 제2바를 포함하는 카운터 전극; 및상기 화소 공간 내에 배치되며, 상기 데이타 라인과 평행하면서 상기 카운터 전극의 제1 및 제2브레치들 사이에 각각 배치되는 수 개의 제3브렌치들과, 상기 제3브렌치들의 일측단을 연결하면서 상기 박막 트랜지스터의 소오스 전극과 콘택되는 제3바를 포함하는 화소 전극을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인-프레인 스위칭 모드 액정표시장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 카운터 전극은,상기 제1바와 제2바 사이의 용이한 콘택을 위하여, 상기 제1바로부터 화소공간쪽으로 인출된 돌출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 카운터 전극은,상기 제1바와 제2바 사이의 용이한 콘택을 위하여, 상기 제2바로부터 상기 제1바족으로 인출된 돌출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 카운터 전극의 제1브렌치들 및 제1바는 전도성이 우수한 불투명 금속막의 재질로 이루어지고, 상기 카운터 전극의 제2브렌치 및 제2바는 투명 전도체의 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 카운터 전극의 제2브렌치들과, 상기 화소전극의 제3브렌치들은 5 내지 10㎛의 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 카운터 전극의 제1 및 제2브렌치들과 상기 화소전극의 제3브렌치들은 5 내지 10㎛의 간격을 갖는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치.
- 투명성 절연기판 상에 전도성이 우수한 불투명 금속막을 증착하는 단계;상기 금속막을 패터닝하여, 게이트 전극을 포함한 게이트 라인과, 단위 화소 공간 내에서 상기 게이트 라인과 수직하면서 상기 단위 화소 공간의 양측 가장자리 부분에 각각 배치되는 한 쌍의 제1브렌치 및 상기 제1브렌치들의 일측단을 연결하면서 공통전극 라인으로서 기능하는 제1바를 형성하는 단계;상기 게이트 라인과 제1브렌치 및 제1바가 형성된 투명성 절연기판의 전면 상에 게이트 절연막을 형성하는 단계;상기 게이트 전극 상부의 게이트 절연막 부분 상에 채널층을 형성하는 단계;박막 트랜지스터가 형성되도록, 상기 채널층의 일측 및 타측 상부와 각각 오버랩되게 배치되는 소오스 전극 및 드레인 전극을 포함한 데이터 라인을 상기 게이트 라인과 교차하게 형성하는 단계;상기 결과물의 상부에 상기 소오스 전극을 노출시키는 콘택홀을 갖는 보호막을 형성하는 단계;상기 보호막 상에 투명 전도체를 증착하는 단계; 및상기 투명 전도체를 패터닝하여, 상기 제1브렌치들 사이의 화소 공간에 배치되는 수 개의 제2브렌치들과 상기 제2브렌치들의 일측단을 연결하면서 상기 콘택홀을 통하여 상기 제1바와 콘택되는 제2바, 및, 상기 제1와 제2바 및 제2바들 사이에 각각 배치되는 수 개의 제3브렌치들과 상기 제3브렌치들의 일측단을 연결하면서 상기 소오스 전극과 콘택되는 제3바를 포함한 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하여이루어지며,상기 화소 전극과 인-프레인 전계를 일으켜, 액정을 구동시는 카운터 전극은 상기 제1브렌치와, 제2브렌치, 제1바 및 제2바를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치의 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 카운터 전극은,상기 제1바와 제2바 사이의 용이한 콘택을 위하여, 상기 제1바로부터 화소 공간쪽으로 인출된 돌출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치의 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 카운터 전극은,상기 제1바와 제2바 사이의 용이한 콘택을 위하여, 상기 제2바로부터 상기 제1바쪽으로 인출된 돌출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치의 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 투명 전도체는,ITO막, InO3과 ZnO3가 혼합된 IXO막, 또는, NiSi2실리사이드막 중에서 선택되는 하나의 막인 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치의 제조방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 NiSi2실리사이드막은 50 내지 100Å 두께로 증착하는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치의 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 카운터 전극의 제2브렌치들과, 상기 화소전극의 제3브렌치들은 5 내지 10㎛의 폭을 갖도록 형성하는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치의 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 카운터 전극의 제1 및 제2브렌치들과 상기 화소전극의 제3브렌치들은, 5 내지 10㎛의 간격을 갖도록 형성하는 것을 특징으로 하는 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치의 제조방법.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990060328A KR100322969B1 (ko) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치 및 그의 제조방법 |
US09/740,558 US6449027B2 (en) | 1999-12-22 | 2000-12-19 | In plane switching mode liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
JP2000388467A JP2001222030A (ja) | 1999-12-22 | 2000-12-21 | インプレーンスイッチングモード液晶表示装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990060328A KR100322969B1 (ko) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치 및 그의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010063296A true KR20010063296A (ko) | 2001-07-09 |
KR100322969B1 KR100322969B1 (ko) | 2002-02-01 |
Family
ID=19628063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990060328A KR100322969B1 (ko) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | 인-플레인 스위칭 모드 액정표시장치 및 그의 제조방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6449027B2 (ko) |
JP (1) | JP2001222030A (ko) |
KR (1) | KR100322969B1 (ko) |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR100322969B1 (ko) | 2002-02-01 |
US20010005252A1 (en) | 2001-06-28 |
US6449027B2 (en) | 2002-09-10 |
JP2001222030A (ja) | 2001-08-17 |
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Legal Events
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A201 | Request for examination | ||
N231 | Notification of change of applicant | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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