JP2001222030A - インプレーンスイッチングモード液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
インプレーンスイッチングモード液晶表示装置及びその製造方法Info
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Abstract
置での開口率と透過率を向上させる。 【解決手段】 透明性絶縁基板20と、交差して配列さ
れたゲート、データバスライン22、26と、ゲートバ
スラインと平行し、一対の遮光部21aを有する共通電
極ライン21と、ゲート、データバスラインの交差点付
近に配置する薄膜トランジスタと、共通電極ラインの遮
光部の間の画素領域に配置され、数個のブランチ24
a、ブランチの一端と連結しながら共通電極ラインと接
続するバー24bとで構成する透明導電体カウンター電
極24と、共通電極ラインの遮光部とオーバーラップ配
置される一対の第1電極部28a、カウンター電極のブ
ランチの間に配置される第2電極部28b、第1及び第
2電極部の一端と連結し薄膜トランジスタの一部分と接
続する第3電極部28cとで構成する透明導電体画素電
極28とを含む。
Description
し、より詳しくは、開口率と透過率を向上させたインプ
レーンスイッチング(In Plane Switch
ing)モード液晶表示装置及びその製造方法に関する
ものである。
T(Cathode Ray Tube)に比べ軽量、
薄型、低消費電力の利点を有するため、CRTに代えて
各種情報機器の端末機又はビデオ機器等に多く利用され
ている。このようなLCDは、駆動モードとしてTN
(Twist Nematic)モードを主に採用して
いる。しかし、TNモードLCDは実用化されている
が、視野角が狭いという欠点がある。したがって、TN
モードLCDの狭い視野角の欠点を改善するため、イン
プレーンスイッチング(以下、IPS)モードLCDが
提案されている。
Dの平面図であり、以下に、図1を参照してその構造を
説明することにする。図示したように、ゲートバスライ
ン2とデータバスライン6が交差・配置され、これによ
り単位画素が限定される。スイッチング素子としてTF
T10が、ゲートバスライン2とデータバスライン7の
交差点付近に配置される。TFT10は周知のように、
ゲート電極2aとチャネル層(未図示)及びソース/ド
レイン電極6a、6bを含む。
カウンター電極4は、データバスライン6と平行に配置
されながら、単位画素の両側縁にそれぞれ配置される一
対の第1ブランチ4aと、第1ブランチ4aの間に配置
される第2ブランチ4b、及び第1ブランチ4aと第2
ブランチ4bの一端と連結しながら、単位画素内でゲー
トバスライン2と最大限離隔して平行に配置され、そし
て共通電極ラインとして機能するバー4cで構成され
る。
極8は、カウンター電極の第1ブランチ4aとそれぞれ
オーバーラップするよう配置される一対の第1電極部8
aと、カウンター電極の第2ブランチ4bの間にそれぞ
れ配置される第2電極部8b、及び第1及び第2電極部
8a、8bの一端と連結しながら、TFT10のソース
電極6aとコンタクトされる第3電極部8cとで構成さ
れる。
記のような構造の下部基板の上部に所定間隔離隔して配
置され、さらに、数個の液晶分子等を含む液晶層が下部
基板と上部基板の間に介在する。
Dの断面図であり、以下に図2を参照してその製造方法
を説明することにする。
着される。不透明金属膜は公知のフォトリソグラフィー
工程でパターニングされ、これにより、ゲート電極2a
を含むゲートバスライン(未図示)と、第1及び第2ブ
ランチ4a、4bとバー(未図示)を含むカウンター電
極4が形成される。ゲート絶縁膜3がゲートバスライン
とカウンター電極が形成されたガラス基板1の全体上に
蒸着される。チャネル層5がゲート電極2a上部のゲー
ト絶縁膜部分上に形成される。ソース/ドレイン用金属
膜がチャネル層5とゲート絶縁膜上に蒸着され、その次
に、ソース及びドレイン電極6a、6bを含むデータバ
スライン6が金属膜をパターニングすることにより形成
され、この結果TFT10が構成される。オミックコン
タクト層(未図示)がチャネル層5とソース/ドレイン
電極6a、6bの間に介在する。
され、その次に、保護膜7はその一部分が露出するよう
にエッチングされる。ITO膜のような透明金属膜が保
護膜7上に蒸着され、透明金属膜がパターニングされる
ことにより第1及び第2電極部等8a、8bと第3電極
部8cを含む画素電極8が形成される。このとき、画素
電極の第3電極部はTFTのソース電極6aとコンタク
トするよう形成される。
駆動させるためのカウンター電極と画素電極が単一基板
に互いに平行に配列された構造を有し、よってカウンタ
ー電極と画素電極の間に形成される電界は基板面に平行
する。したがって、液晶分子等はそれ自身の長軸が電界
と平行に配列されるため、使用者は全ての方向で液晶分
子の長軸を見ることになり、この結果、TNモードLC
Dより改善された視野角を有する。
電極と画素電極が不透明金属で形成されるため、開口率
及び透過率の改善が満足できるものではない。さらに、
IPSモードLCDでの満足できるような輝度は、バッ
クライトの強度を増加させることにより得ることができ
るため消費電力が増加するという問題点があった。
従来のインプレーンスイッチングモード液晶表示装置に
おける問題点に鑑みてなされたものであって、開口率と
透過率を向上させたIPSモードLCDを提供すること
を目的とする。
過率を向上させることができるIPSモードLCDの製
造方法を提供することである。
するためになされた本発明によるインプレーンスイッチ
ングモード液晶表示装置は、透明性絶縁基板と、単位画
素空間を限定するように、前記透明性絶縁基板上に交差
して配列されたゲートバスラインとデータバスライン
と、前記ゲートバスラインと平行しながら単位画素内で
最大限離隔して配列され、単位画素の両側縁に配置され
る一対の遮光部を有する共通電極ラインと、前記ゲート
バスラインとデータバスラインの交差点付近に配置され
た薄膜トランジスタと、前記共通電極ラインの遮光部の
間の画素領域に配置され、前記データバスラインと平行
に配置される数個のブランチと、前記ブランチの一端と
連結しながら前記共通電極ラインとコンタクトされるバ
ー(Bar)とで構成され、透明導電体で成るカウンタ
ー電極と、前記データバスラインと平行しながら、前記
共通電極ラインの遮光部とオーバーラップするよう配置
される一対の第1電極部と、前記カウンター電極のブラ
ンチの間にそれぞれ配置される第2電極部と、前記第1
及び第2電極部の一端と連結しながら薄膜トランジスタ
の一部分とコンタクトする第3電極部とで構成され、透
明導電体で成る画素電極とを含むことを特徴とする。
た本発明によるインプレーンスイッチングモード液晶表
示装置の製造方法は、透明性絶縁基板上に第1不透明金
属膜を蒸着する段階と、前記第1不透明金属膜をパター
ニングし、ゲート電極を含むゲートバスラインと、前記
ゲートバスラインと平行しながら単位画素内で最大限離
隔して配置され、単位画素の両側縁にそれぞれ配置され
る一対の遮光部を有する共通電極ラインを形成する段階
と、前記ゲートバスラインと共通電極ラインを覆うよう
に、前記透明性絶縁基板上にゲート絶縁膜を形成する段
階と、前記ゲート電極上部のゲート絶縁膜部分上にチャ
ネル層を形成する段階と、薄膜トランジスタが構成され
るように、又、単位画素が限定されるように、前記チャ
ネル層上にソース/ドレイン電極を形成し、同時に、前
記ゲートバスラインと交差して配列されるようにデータ
バスラインを形成する段階と、前記データバスラインを
形成する段階までの結果物上に前記共通電極ラインの一
部分と、薄膜トランジスタの一部分を露出させるコンタ
クトホールを有する保護膜を形成する段階と、前記保護
膜上に透明導電体を蒸着する段階と、前記透明導電体を
パターニングし、前記データバスラインと平行しなが
ら、前記共通電極ラインの遮光部とオーバーラップする
よう配置される一対の第1電極部と、前記カウンター電
極のブランチの間にそれぞれ配置される第2電極部、及
び前記第1と第2電極部の一端と連結しながら薄膜トラ
ンジスタの一部分とコンタクトする第3電極部で構成さ
れる画素電極を形成する段階とを含むことを特徴とす
る。
ンスイッチングモード液晶表示装置及びその製造方法の
実施の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
の平面図である。図示したように、ゲートバスライン2
2とデータバスライン26が交差・配列され、これによ
り単位画素が限定される。共通電極ライン21がゲート
バスラインと平行しながら、単位画素内で最大限離隔す
るよう配列される。共通電極ライン21は、ゲートバス
ライン22と同一平面上に配置され、そして同一物質で
形成される。共通電極ライン21は一対の遮光部21a
を含み、遮光部21aは共通電極ライン21からデータ
バスライン26と平行に引き出され、単位画素の両側縁
にそれぞれ配置される。共通電極ライン21は画素の内
側に僅かに延長された突出部21bを含む。
ートバスライン22とデータバスライン26の交差点付
近に配置される。TFT30はゲートバスライン22か
ら延長されたゲート電極22aと、ゲート電極22aの
上部に配置されたチャネル層(未図示)、データバスラ
イン26から引き出され、チャネル層の一側とオーバー
ラップするよう配置されたドレイン電極26b、及びチ
ャネル層の他側とオーバーラップするよう配置されたソ
ース電極26aとで構成される。
る。カウンター電極24は、共通電極ラインの遮光部2
1aの間の画素領域にデータバスライン26と平行に配
置される数個のブランチ24aと、ブランチ24aの一
端と連結しながら共通電極ラインの突出部21bとコン
タクトするバー24bとで構成される。カウンター電極
24は透明導電体、例えばITO膜で成る。
素電極28はデータバスライン26と平行しながら、共
通電極ラインの遮光部21aとオーバーラップするよう
配置される一対の第1電極部28aと、カウンター電極
のブランチ24aの間にそれぞれ配置される第2電極部
28b、及び第1及び第2電極部28a、28bの一端
と連結しながらTFTのソース電極26aとコンタクト
される第3電極部28cとで構成される。画素電極28
は、カウンター電極と同様に透明導電体、例えばITO
膜で成る。
の断面図である。図示したように、導電性が優れた第1
不透明金属膜が透明性絶縁基板、例えばガラス基板20
上に蒸着され、その次に一対の遮光部21aを含む共通
電極ラインと、ゲート電極22aを含むゲートバスライ
ンが公知のフォトリソグラフィー工程を利用し、第1不
透明金属膜をパターニングすることにより形成される。
ゲート絶縁膜23が上記段階までの結果物上に形成され
る。
チャネル層25が、公知の工程を介してゲート電極22
a上部のゲート絶縁膜23部分上に形成される。ソース
/ドレイン用第2不透明金属膜がチャネル層を含むゲー
ト絶縁膜23上に蒸着され、ソース/ドレイン電極26
a、26bを含むデータバスラインがフォトリソグラフ
ィー工程を利用し、第2不透明金属膜をパターニングす
ることにより形成され、この結果TFT30が構成され
る。
された非晶質シリコン材質のオミックコンタクト層がチ
ャネル層25とソース/ドレイン電極26a、26bの
間に介在する。
段階までの結果物上に蒸着され、保護膜27の所定部分
がTFTのソース電極26aと共通電極ラインの一部分
を露出させるよう選択的にエッチングされる。
nO3が混合したIXO膜、又はNiSi2膜中から選
択される一つの膜が、ホールを完全に埋め込むよう保護
膜27上に蒸着される。透明導電体が公知のフォトリソ
グラフィー工程を介してパターニングされ、よって、数
個のブランチ24aとブランチ24aの一端と連結する
バーを含むカウンター電極が形成され、同時に、共通電
極ラインの遮光部21aとオーバーラップするよう配置
される一対の第1電極部28aと、カウンター電極のブ
ランチ24aの間にそれぞれ配置される第2電極部28
b、及び第1及び第2電極部28a、28bの一端と連
結しながらTFTのソース電極26aとコンタクトされ
る第3電極部28cを含む画素電極が形成される。
と画素電極の第1及び第2電極部28a、28bは10
μm以下、好ましくは5〜10μmの幅に形成される。
カウンター電極のブランチ24aと、画素電極の第1及
び第2電極部28a、28bの間の間隔は10μm以
下、好ましくは5〜10μm程度である。カウンター電
極のバーは、保護膜27に形成されたホールを介して共
通電極ラインの突出部とコンタクトするよう形成され
る。透明導電体としてNiSi2膜が利用される場合、
NiSi2膜は100Å以下、好ましくは50〜100
Åに蒸着される。
CDは、TNモードLCDより向上した視野角を有する
だけでなく、カウンター電極と画素電極が透明導電体で
形成されたことに基づき、従来のそれより向上した開口
率及び透過率を有する。
口面積、即ち画素領域での光透過面積に依存する。従来
はカウンター電極が不透明金属で構成されるため、カウ
ンター電極の面積に該当するほどの画素領域は光透過が
行われなかった。しかし、本発明のカウンター電極は透
明導電体で形成されるため、カウンター電極を介した光
透過が発生する。したがって、光透過がカウンター電極
の部分で発生するため、本発明のIPSモードLCDは
従来のそれより向上した開口率と透過率を有することに
なる。
モードLCDの平面図である。この実施例によれば、共
通電極ライン21は突出部を含まない。その代り突出部
24cは、共通電極ライン21との容易な電気的コンタ
クトのためのカウンター電極24に備えられる。このと
き、突出部24cは透明導電体で成るため、この実施例
は前述の実施例よりさらに向上した開口率及び透過率を
得ることができる。
はない。本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で多様に変
更実施することが可能である。
ー電極が透明導電体で成るため画素領域での開口面積が
増大し、よって、向上した開口率及び透過率を有するI
PSモードLCDを得ることができる。
基づく表面段差が除去されるため、保護膜の蒸着工程と
後続のラビング(rubbing)工程の安定性を図る
ことができ、よって、製造収率を向上させることができ
る。
面図である。
面図である。
の平面図である。
Claims (13)
- 【請求項1】 透明性絶縁基板と、 単位画素空間を限定するように、前記透明性絶縁基板上
に交差して配列されたゲートバスラインとデータバスラ
インと、 前記ゲートバスラインと平行しながら単位画素内で最大
限離隔して配列され、単位画素の両側縁に配置される一
対の遮光部を有する共通電極ラインと、 前記ゲートバスラインとデータバスラインの交差点付近
に配置された薄膜トランジスタと、 前記共通電極ラインの遮光部の間の画素領域に配置さ
れ、前記データバスラインと平行に配置される数個のブ
ランチと、前記ブランチの一端と連結しながら前記共通
電極ラインとコンタクトされるバー(Bar)とで構成
され、透明導電体で成るカウンター電極と、 前記データバスラインと平行しながら、前記共通電極ラ
インの遮光部とオーバーラップするよう配置される一対
の第1電極部と、前記カウンター電極のブランチの間に
それぞれ配置される第2電極部と、前記第1及び第2電
極部の一端と連結しながら薄膜トランジスタの一部分と
コンタクトする第3電極部とで構成され、透明導電体で
成る画素電極とを含むことを特徴とするインプレーンス
イッチングモード液晶表示装置。 - 【請求項2】 前記共通電極ラインは、カウンター電極
のバーとコンタクトされる突出部をさらに含むことを特
徴とする請求項1記載のインプレーンスイッチングモー
ド液晶表示装置。 - 【請求項3】 前記カウンター電極のバーは、共通電極
ラインとコンタクトされる突出部をさらに含むことを特
徴とする請求項1記載のインプレーンスイッチングモー
ド液晶表示装置。 - 【請求項4】 前記カウンター電極のブランチと画素電
極の第1及び第2電極部は、5〜10μmの幅を有する
ことを特徴とする請求項1記載のインプレーンスイッチ
ングモード液晶表示装置。 - 【請求項5】 前記カウンター電極のブランチと画素電
極の第1及び第2電極部の間の間隔は、5〜10μmで
あることを特徴とする請求項1記載のインプレーンスイ
ッチングモード液晶表示装置。 - 【請求項6】 前記透明導電体は、ITO膜、InO3
とZnO3が混合されたIXO膜、又はNiSi2膜中
から選択される一つであることを特徴とする請求項1記
載のインプレーンスイッチングモード液晶表示装置。 - 【請求項7】 透明性絶縁基板上に第1不透明金属膜を
蒸着する段階と、 前記第1不透明金属膜をパターニングし、ゲート電極を
含むゲートバスラインと、前記ゲートバスラインと平行
しながら単位画素内で最大限離隔して配置され、単位画
素の両側縁にそれぞれ配置される一対の遮光部を有する
共通電極ラインを形成する段階と、 前記ゲートバスラインと共通電極ラインを覆うように、
前記透明性絶縁基板上にゲート絶縁膜を形成する段階
と、 前記ゲート電極上部のゲート絶縁膜部分上にチャネル層
を形成する段階と、 薄膜トランジスタが構成されるように、又、単位画素が
限定されるように、前記チャネル層上にソース/ドレイ
ン電極を形成し、同時に、前記ゲートバスラインと交差
して配列されるようにデータバスラインを形成する段階
と、 前記データバスラインを形成する段階までの結果物上に
前記共通電極ラインの一部分と、薄膜トランジスタの一
部分を露出させるコンタクトホールを有する保護膜を形
成する段階と、 前記保護膜上に透明導電体を蒸着する段階と、 前記透明導電体をパターニングし、前記データバスライ
ンと平行しながら、前記共通電極ラインの遮光部とオー
バーラップするよう配置される一対の第1電極部と、前
記カウンター電極のブランチの間にそれぞれ配置される
第2電極部、及び前記第1と第2電極部の一端と連結し
ながら薄膜トランジスタの一部分とコンタクトする第3
電極部で構成される画素電極を形成する段階とを含むこ
とを特徴とするインプレーンスイッチングモード液晶表
示装置の製造方法。 - 【請求項8】 前記共通電極ラインは、カウンター電極
のバーとコンタクトする突出部を有するよう形成するこ
とを特徴とする請求項7記載のインプレーンスイッチン
グモード液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項9】 前記カウンター電極は、共通電極ライン
とコンタクトする突出部を有するよう形成することを特
徴とする請求項7記載のインプレーンスイッチングモー
ド液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項10】 前記透明導電体は、ITO膜、InO
3とZnO3が混合されたIXO膜、又はNiSi2膜
中から選択される一つであることを特徴とする請求項7
記載のインプレーンスイッチングモード液晶表示装置の
製造方法。 - 【請求項11】 前記NiSi2膜は、50〜100Å
の厚さに蒸着することを特徴とする請求項10記載のイ
ンプレーンスイッチングモード液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項12】 前記カウンター電極のブランチと画素
電極の第1及び第2電極部は、5〜10μmの幅を有す
るよう形成することを特徴とする請求項7記載のインプ
レーンスイッチングモード液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項13】前記カウンター電極のブランチと画素電
極の第1及び第2電極部の間の間隔は、5〜10μmを
有するようにすることを特徴とする請求項7記載のイン
プレーンスイッチングモード液晶表示装置の製造方法。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006189763A (ja) * | 2004-12-31 | 2006-07-20 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
CN1314127C (zh) * | 2001-12-14 | 2007-05-02 | 三星Sdi株式会社 | 具有面板的平板显示器件及其制造方法 |
JP2008015511A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 横電界型の液晶表示装置用アレイ基板及びその製造方法 |
CN100432810C (zh) * | 2004-01-08 | 2008-11-12 | Nec液晶技术株式会社 | 液晶显示装置 |
JP2009217211A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-09-24 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
KR100955382B1 (ko) | 2004-12-31 | 2010-04-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
US8358392B2 (en) | 2007-10-23 | 2013-01-22 | Nlt Technologies, Ltd. | Lateral electric field type active-matrix addressing liquid crystal display device |
JP2013083945A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Lg Display Co Ltd | 立体映像表示装置 |
JP2013097190A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | Japan Display Central Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP2019204119A (ja) * | 2006-06-02 | 2019-11-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
US10578935B2 (en) * | 2017-03-09 | 2020-03-03 | Panasonic Liquid Crystal Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device comprising first and second liquid crystal layers and a first light shielding unit having a first portion and a second portion |
JP2020197754A (ja) * | 2005-12-05 | 2020-12-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100881357B1 (ko) * | 1999-09-07 | 2009-02-02 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 액정표시장치 |
JP4667587B2 (ja) * | 2000-12-01 | 2011-04-13 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
US6917406B2 (en) * | 2001-03-16 | 2005-07-12 | Hannstar Display Corp. | Electrode array structure of IPS-LCD |
KR20020085234A (ko) * | 2001-05-07 | 2002-11-16 | 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 | 프린지 필드 구동 액정표시장치 |
KR100412213B1 (ko) * | 2001-05-17 | 2003-12-31 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 박막 트랜지스터 액정표시장치 |
KR100820646B1 (ko) * | 2001-09-05 | 2008-04-08 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 횡전계방식 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 |
JP3879463B2 (ja) * | 2001-09-19 | 2007-02-14 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示パネル,液晶表示装置、及び液晶テレビ |
KR100829785B1 (ko) * | 2001-12-11 | 2008-05-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계형 액정표시장치 |
KR100835975B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2008-06-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계방식 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 |
US6876420B2 (en) * | 2002-06-25 | 2005-04-05 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | In-plane switching mode liquid crystal display device |
KR100852806B1 (ko) * | 2002-08-01 | 2008-08-18 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 표시 장치의 제조 방법 |
KR100852819B1 (ko) * | 2002-08-01 | 2008-08-18 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정표시장치의 제조 방법 |
KR100899625B1 (ko) * | 2002-08-07 | 2009-05-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계모드 액정표시소자 |
KR100909413B1 (ko) * | 2002-10-04 | 2009-07-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계방식 액정 표시 소자 및 그 제조방법 |
KR100895016B1 (ko) * | 2002-10-04 | 2009-04-30 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계방식 액정 표시 소자 및 그 제조방법 |
KR100895308B1 (ko) * | 2002-10-25 | 2009-05-07 | 삼성전자주식회사 | 수평 전계형 박막 트랜지스터 기판 |
KR100895017B1 (ko) * | 2002-12-10 | 2009-04-30 | 엘지디스플레이 주식회사 | 개구율이 향상된 횡전계모드 액정표시소자 |
KR100919195B1 (ko) * | 2002-12-31 | 2009-09-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 고개구율 액정표시소자 |
KR101048699B1 (ko) * | 2003-12-31 | 2011-07-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계방식 액정표시소자의 제조방법 |
JP4394479B2 (ja) * | 2004-02-26 | 2010-01-06 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP4627148B2 (ja) * | 2004-04-09 | 2011-02-09 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 表示装置 |
KR101157226B1 (ko) * | 2004-05-31 | 2012-06-15 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
WO2006010294A1 (fr) * | 2004-07-26 | 2006-02-02 | Quanta Display Inc. | Dispositif d'affichage a cristaux liquides |
KR101106556B1 (ko) * | 2004-11-26 | 2012-01-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조방법 |
KR101157386B1 (ko) * | 2005-02-02 | 2012-06-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
KR101255299B1 (ko) * | 2005-04-28 | 2013-04-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계방식 액정표시소자 |
JP4385993B2 (ja) | 2005-05-10 | 2009-12-16 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
KR100934823B1 (ko) * | 2005-05-20 | 2009-12-31 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계 방식 액정표시소자 및 그 제조방법 |
KR101318435B1 (ko) * | 2005-11-03 | 2013-10-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계 방식 박막 트랜지스터 어레이 기판 |
KR101180718B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2012-09-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계형 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법 |
KR101246719B1 (ko) * | 2006-06-21 | 2013-03-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계형 액정표시장치용 어레이 기판 및 이의 제조 방법 |
KR101293950B1 (ko) * | 2006-06-30 | 2013-08-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시기판 및 이를 갖는 표시패널 |
US8125603B2 (en) * | 2007-05-17 | 2012-02-28 | Lg Display Co., Ltd. | In-plane switching mode liquid crystal display device and method for fabricating the same |
KR101432572B1 (ko) * | 2007-12-07 | 2014-08-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
KR101308250B1 (ko) * | 2008-12-03 | 2013-09-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조 방법 |
KR101791579B1 (ko) | 2011-04-08 | 2017-10-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
KR101457746B1 (ko) * | 2011-10-26 | 2014-11-04 | 엘지디스플레이 주식회사 | 입체 영상 표시장치 |
CN102591080B (zh) * | 2012-02-21 | 2014-10-29 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种薄膜晶体管液晶显示器、基板及其制造方法 |
TWI572960B (zh) * | 2012-03-19 | 2017-03-01 | 群康科技(深圳)有限公司 | 液晶顯示裝置及導電基板的製作方法 |
CN102866543B (zh) * | 2012-09-13 | 2015-05-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素单元、阵列基板以及液晶显示装置 |
CN107919379A (zh) * | 2017-11-06 | 2018-04-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | Oled显示器及其制作方法 |
CN109856878B (zh) * | 2019-03-22 | 2022-04-19 | 惠科股份有限公司 | 一种显示面板、显示面板的修复方法以及显示装置 |
CN111474784B (zh) * | 2020-05-08 | 2021-06-01 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 像素结构及液晶显示面板 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2952744B2 (ja) * | 1993-11-04 | 1999-09-27 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜トランジスター集積装置 |
JP3712774B2 (ja) * | 1996-03-29 | 2005-11-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 液晶表示素子 |
JP3148129B2 (ja) * | 1996-08-07 | 2001-03-19 | 株式会社日立製作所 | アクティブマトリクス基板とその製法および液晶表示装置 |
JP3481074B2 (ja) * | 1997-04-25 | 2003-12-22 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示素子 |
JPH11271808A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-08 | Toshiba Corp | 表示装置用アレイ基板及びこのアレイ基板を備えた平面表示装置並びにこのアレイ基板の製造方法 |
KR100299381B1 (ko) * | 1998-08-24 | 2002-06-20 | 박종섭 | 고개구율 및 고투과율을 갖는 액정표시장치 및 그 제조방법 |
-
1999
- 1999-12-22 KR KR1019990060328A patent/KR100322969B1/ko active IP Right Grant
-
2000
- 2000-12-19 US US09/740,558 patent/US6449027B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-21 JP JP2000388467A patent/JP2001222030A/ja active Pending
Cited By (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1314127C (zh) * | 2001-12-14 | 2007-05-02 | 三星Sdi株式会社 | 具有面板的平板显示器件及其制造方法 |
CN100432810C (zh) * | 2004-01-08 | 2008-11-12 | Nec液晶技术株式会社 | 液晶显示装置 |
KR100955382B1 (ko) | 2004-12-31 | 2010-04-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
US7576824B2 (en) | 2004-12-31 | 2009-08-18 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method for fabricating the same |
JP2006189763A (ja) * | 2004-12-31 | 2006-07-20 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP7522950B2 (ja) | 2005-12-05 | 2024-07-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
US11899329B2 (en) | 2005-12-05 | 2024-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
JP7318050B2 (ja) | 2005-12-05 | 2023-07-31 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
US11592719B2 (en) | 2005-12-05 | 2023-02-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
JP2022079668A (ja) * | 2005-12-05 | 2022-05-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
JP7026745B2 (ja) | 2005-12-05 | 2022-02-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
US11126053B2 (en) | 2005-12-05 | 2021-09-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
US11048135B2 (en) | 2005-12-05 | 2021-06-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
JP2020197754A (ja) * | 2005-12-05 | 2020-12-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
JP2019204119A (ja) * | 2006-06-02 | 2019-11-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
US11600236B2 (en) | 2006-06-02 | 2023-03-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and driving method thereof |
US10714024B2 (en) | 2006-06-02 | 2020-07-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and driving method thereof |
US11657770B2 (en) | 2006-06-02 | 2023-05-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and driving method thereof |
US8687158B2 (en) | 2006-06-30 | 2014-04-01 | Lg Display Co. Ltd. | IPS LCD having a first common electrode directly extending from the common line and a second common electrode contacts the common line only through a contact hole of the gate insulating layer |
KR101264789B1 (ko) | 2006-06-30 | 2013-05-15 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계 방식 액정표시장치용 어레이 기판과 그 제조방법 |
JP2008015511A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 横電界型の液晶表示装置用アレイ基板及びその製造方法 |
US8614779B2 (en) | 2007-10-23 | 2013-12-24 | Nlt Technologies, Ltd. | Lateral electric field type active-matrix addressing liquid crystal display device |
US8358392B2 (en) | 2007-10-23 | 2013-01-22 | Nlt Technologies, Ltd. | Lateral electric field type active-matrix addressing liquid crystal display device |
JP2009217211A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-09-24 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2013083945A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Lg Display Co Ltd | 立体映像表示装置 |
US8836613B2 (en) | 2011-10-06 | 2014-09-16 | Lg Display Co., Ltd. | Stereoscopic image display for improving luminance of 2D image and vertical viewing angle of 3D image |
JP2013097190A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | Japan Display Central Co Ltd | 液晶表示装置 |
US11150526B2 (en) | 2017-03-09 | 2021-10-19 | Panasonic Liquid Crystal Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device comprising a first light shielding unit having an opening that overlaps a contact hole and is entirely surrouned by the first light shielding unit |
US10578935B2 (en) * | 2017-03-09 | 2020-03-03 | Panasonic Liquid Crystal Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device comprising first and second liquid crystal layers and a first light shielding unit having a first portion and a second portion |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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