KR20000004549A - 반도체 메모리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 정전용량이 큰 물질을 기억소자로 하는 램을 설계할 경우 요구되는 강한 구동력과 빠른 동작성을 구현하기 위해, 셀 플레이트 라인 드라이버의 전위를 2종류로 사용하여 셀 플레이트 라인의 전위를 안정화 시키고, 이 셀 플레이트 라인 드라이버 회로와 연동되어 셀 플레이트 라인 전압을 인가받고, 다시 피드-백 시키는 디코더 회로에는 C-모스 트랜지스터를 사용하여 입/출력의 손실을 방지하는 기술에 관한 것이다.

Description

반도체 메모리 장치
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 정전용량이 큰 물질을 기억소자로 하는 램을 설계할 경우 요구되는 강한 구동력 및 빠른 동작성을 구현할 수 있는 셀 플레이트 라인 드라이버 회로 및 이의 출력을 손실없이 셀 플레이트 라인으로 전달하는 회로에 관한 것이다.
현재 상용화되어 사용중인 디램 메모리 반도체의 기억소자에 있는 정보의 입/출력 여부를 제어하는 워드라인을 구동하는 드라이버는 어느 특정 레벨 이상의 전위만이 요구된다.
따라서 워드라인 드라이버는 특정 레벨 이상의 전위를 빠른 시간에 온/오프 시키는 역할을 하고 있는 바, 이를 도면을 통해 알아보면 도 1에 도시된 바와 같이, 전압 레벨을 전이 시키는 레벨 쉬프터부(10)와;
상기 레벨쉬프터부(10) 출력 전압을 워드라인으로 구동하는 드라이버부(30); 및
상기 드라이버부(30)의 동작을 제어하는 제어부(40)를 포함하여 구성된다.
상기와 같이 구성된 워드라인 드라이버의 동작을 개략적으로 살펴보면, 상기 제어부(40)에 인가되는 제어신호(C1)가 '하이' 값으로 인에이블되어 입력되면, 제어부(40) 내의 각 인버터(INV41, 42)를 거쳐 드라이버부(30)의 N-모스 트랜지스터(N31)를 턴-온시킨다.
한편, 상기 제어신호(C1)는 소정의 지연시간을 가지는 딜레이(50)를 거쳐 레벨 쉬프터부(10)에 입력된 후, 레벨 쉬프터를 동작시켜 P-모스 트랜지스터(P11)를 통해 드라이버부(30)에 고전압(Vpp)이 인가되도록 하며, 결국 이 전압은 워드라인에 인가된다.
그리고, 상기와 같은 동작이 수행되는 과정에서 변화되는 각 라인들의 전압 변화를 도 2에 도시하였는 바, 도면에서 보는 바와 같이 워드라인(W/L)이 Vpp 까지 서서히 높아짐을 알 수 있다.
이상과 같이 동작하는 워드라인 드라이버는 현재 실리콘으로 제조된 기억소자들의 정전용량이 작기 때문에 드라이버의 구동 능력이 크게 중요하지 않았다.
그러나 디램의 기억소자인 실리콘을 대신하여 강유전체(Ferroelectric materials)를 비롯한 정전용량이 큰 물질을 사용할 때에는 종래에 사용하던 워드라인 드라이버 구조를 셀 플레이트 라인 드라이버에 그대로 적용할 경우, 여러가지 문제점이 발생하게 된다.
이는 강유전체를 기억소자로 사용하는 경우에는 셀 플레이트 라인에 특정 레벨이 요구된다.
그리고 정전용량이 큰 물질을 기억소자로 하는 경우에는 물질 자체가 정전용량이 실리콘에 비해 매우 크기 때문에, 강한 드라이빙 능력이 요구된다.
따라서 이러한 물질을 기억소자로 하는 램을 상용화시키기 위해서는 현재 디램에서 사용하고 있는 워드라인 드라이버 회로를 셀 플레이트 라인 드라이버로 바로 사용할 수 없고, 새로운 형태의 회로가 요구되는 실정이다.
본 발명에서는 상기에 기술한 바와 같은 종래 요구사항을 감안하여, 강유전체를 비롯한 정전용량이 큰 물질을 사용할 때, 셀 플레이트 라인 드라이버에 요구되는 요건들을 충족시키는 드라이버 회로 및 이에 따르는 디코더 회로를 구현하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 셀 플레이트 라인 드라이버를 워드라인 드라이버로 사용하는 반도체 메모리 장치를 제공하는 것이다.
도 1은 종래 실리콘을 기억소자로 하는 디램의 워드라인 드라이버 회로도.
도 2는 도 1의 회로 동작시 각 노드의 전압 변화를 나타내는 그래프.
도 3은 본 발명에 의해 구현된 정전용량이 큰 물질을 기억소자로 하는 램의 셀 플레이트 라인 드라이버 회로도.
도 4는 도 3의 회로 동작시 각 노드의 전압 변화를 나타내는 그래프.
도 5는 본 발명에 의한 셀 플레이트 라인 드라이버의 출력을 사용한 디코더 회로도.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
60 : 고전압 인가부 70 : 내부전압 인가부
80 : 전압 비교부 81 : 차동 증폭기
90 : 제어부 100 : 디코더부
110 : 선택부 120 : 셀 어레이
130 : 출력부
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은 셀 플레이트 라인 드라이버 회로에 있어서,
셀 플레이트 라인에 고전압(Vpp)을 인가하는 고전압 인가부와;
셀 플레이트 라인에 내부전압(Vint)을 인가하는 내부전압 인가부와;
기준 셀 플레이트 라인(CPL_ref) 전위와 내부전압의 전위를 비교하여, 상기 각 전압 인가부로 출력하는 전압 비교부; 및
상기 각 부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하여 구성하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은 디코더부와 셀 어레이를 포함하여 셀 플레이트 라인 드라이버와 연동되는 디코더회로에 있어서,
셀 플레이트 라인 드라이버 회로에서 입력되는 셀 플레이트 라인 전압을 인에이블된 워드라인에 선택적으로 인가하는 선택부와;
상기 선택부를 통해 인가된 셀 플레이트 라인 전압이 셀 어레이를 통과하여 기준 셀 플레이트 라인(CPL_ref) 전압으로 전이되면, 이 신호(CPL_ref)를 셀 플레이트 라인 드라이버의 전압 비교부로 입력하는 출력부를 포함하여 구성하며;
상기 선택부와 출력부를 이루는 스위칭 소자는 C-모스 트랜지스터를 사용해 입/출력 신호의 손실을 방지하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치는 복수개의 전위를 이용하여 셀 플레이트 라인(CPL)의 전위를 안정시키기 위해, 셀 플레이트 라인에 고전압(Vpp)을 인가하는 고전압 인가부와,
셀 플레이트 라인에 내부전압(Vint)을 인가하는 내부전압 인가부와,
기준 셀 플레이트 라인(CPL_ref) 전위와 내부전압의 전위를 비교하여, 상기 각 전압 인가부로 출력하는 전압 비교부, 및
상기 각 부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하여 구성되는 셀 플레이드 라인 드라이버와;
셀 플레이트 라인 드라이버 회로에서 입력되는 셀 플레이트 라인 전압을 워드라인이 인에이블된 셀에 선택적으로 인가하는 선택부와,
상기 선택부를 통해 인가된 셀 플레이트 라인 전압이 셀 어레이를 통과하여 기준 셀 플레이트 라인(CPL_ref) 전압으로 전이되면, 이 신호(CPL_ref)를 셀 플레이트 라인 드라이버의 전압 비교부로 입력하는 출력부를 포함하여 구성되는 디코더회로를 구비하는 것을 특징으로 한다.
상술한 목적 및 특징들, 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이다. 이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에서는 셀 플레이트 라인에 특정한 전위를 빠른 시간에 공급하기 위해 셀 플레이트 라인 드라이버단에 두 가지 서로 다른 전위를 가진 전원을 사용하는 것으로, 초기에 높은 전위의 전원을 연결하여 구동을 시키다가 특정 레벨에 도달하게 되면 낮은 전위의 전원을 연결하여 셀 플레이트 라인의 전위를 안정시키도록 한 개념이며, 셀 플레이트 라인을 디코딩하는 방식은 공지된 디코더에 스위치를 연결하여 셀 플레이트 라인 드라이버단에서 발생하는 출력을 손실없이 셀 플레이트 라인에 전달하게 구성하는 것이다.
본 발명에 의한 셀 플레이트 라인 드라이버 회로를 보면 도 3에 도시한 바와 같이, 셀 플레이트 라인에 고전압인 Vpp 전압을 인가하는 고전압 인가부(60)와;
셀 플레이트 라인에 내부전압인 Vint 전압을 인가하는 내부전압 인가부(70)와;
기준 셀 플레이트 라인 전위(CPL_ref)와 내부전압의 전위를 비교하는 전압 비교부(80); 및
상기 각 부의 동작을 제어하는 제어부(90)를 포함하여 구성한다.
상기 고전압 인가부(60)는 비교부(80)에서 출력된 신호를 반전시키는 복수의 반전소자(INV61, INV62)와;
상기 반전소자(INV62)에서 출력된 신호에 의해 턴-온/오프되어 고전압(Vpp)을 셀 플레이트 라인(CPL)으로 출력하는 P-모스 트랜지스터(P61)와;
상기 P-모스 트랜지스터(P61)의 일측 단자와 연결되며, 상기 제어부(90)에서 출력된 신호에 따라 턴-온/오프되는 N-모스 트랜지스터(N61)로 구성한다.
상기 내부전압 인가부(70)는 상기 고전압 인가부(60) 내의 반전소자(INV61)에서 출력되는 신호와 상기 제어부(90)에서 출력되는 신호를 연산하는 노아-게이트(NOR71)와;
상기 노아-게이트(NOR71)에서 출력되는 신호를 반전하는 반전소자(INV71)와;
상기 반전소자(INV71)에서 출력된 신호에 의해 턴-온/오프되어 내부전압(Vint)을 셀 플레이트 라인(CPL)으로 출력하는 P-모스트랜지스터(P71)를 포함하여 구성한다.
상기 전압 비교부(80)는 기준 셀 플레이트 라인 전압(CPL_ref)과 내부전압을 입력받아 차동 증폭하여, CPL_ref 전위가 Vint 보다 낮으면 CPL에 Vpp가 인가되도록 하고, 반대로 CPL_ref 전위가 Vint 보다 높으면 CPL에 Vint가 인가되도록 하는 차동 증폭기(81)와;
다수의 P-모스 트랜지스터(P81, P82) 및 N-모스 트랜지스터(N81, N82)를 포함하여 구성한다.
상기 제어부(90)는 제어신호(C2)를 입력받아 반전시키는 다수개의 반전소자(INV91 ∼ INV94)와;
N-모스 트랜지스터(N91, N92)를 포함하여 구성한다.
상기와 같이 구현된 셀 플레이트 라인 드라이버 회로의 동작 과정을 설명하면, 제어신호(C2)가 '하이' 값으로 인에이블되어 입력되면 상기 전압 비교부(80)가 동작하기 시작하는 바, 차동 증폭기(81)로 입력된 신호 중 CPL_ref 전위가 Vint 보다 낮으면 '로우' 값을 출력한다.
이 로우 값은 고전압 출력부(60)의 각 반전소자(INV61, 62)를 거쳐 P-모스 트랜지스터(P61)를 턴-온시켜 고전압이 CPL에 인가되도록 한다.
이와 동시에 상기 반전소자(INV61)에서 출력된 '하이' 신호는 다시 내부전압 출력부(70)의 노아-게이트(NOR71) 일측 단자로 입력되고, 다른 일측 단자로는 상기 제어신호(C2)가 반전(INV71)되어 '로우' 값이 입력된다.
따라서 노아-게이트(NOR71)에서는 '로우' 값이 출력되고, P-모스 트랜지스터(P71)는 턴-오프되어 내부전압이 CPL로 출력되는 것을 방지한다.
한편, 상기 차동 증폭기(81)에서 CPL_ref 전위가 Vint 보다 높으면 '하이' 값이 출력되고 이 값은 고전압 출력부(60)의 P-모스 트랜지스터(P61)를 턴-오프 시켜 고전압이 출력되는 것을 차단하고, 내부 전압 인가부(70)의 P-모스 트랜지스터(P71)는 턴-온 시켜 CPL에 Vint가 인가되도록 한다.
이때 상기 Vpp는 실제 CPL에 공급되는 전위보다 높은 전원이고, Vint 는 W/L에 공급되는 전위와 같은 전원이다.
그리고 Vint와 비교되는 CPL_ref는 셀 플레이트 라인에 전위가 연결되는 경우 가장 약하게 전원이 공급되는 부분의 전압 값(도 5 참조)이다.
그리고, 상기와 같은 동작이 수행되는 과정에서 변화되는 각 라인들의 전압 변화를 도 4에 도시하였는 바, 도면에서 보는 바와 같이 셀 플레이트 라인(CPL)이 Vint 전위까지 빠르게 구동되면서 Vpp 전위까지 높아지지 않고, Vint 전위를 유지하는 것을 알 수 있으며, 도면에서 control_Vpp는 Vpp 인가부(60)의 게이트단(b)으로써, 셀 플레이트 라인이 Vint전위에 도달할 때까지 '로우' 상태를 유지하여 셀 플레이트 라인에 Vpp가 공급되도록 하는 것을 알 수 있다.
그리고 도면에서 control_Vint는 Vint 인가부(70)의 게이트단(c)으로써, Vpp 인가부(60)가 오프된 후에 '로우' 상태로 인에이블 되어 셀 플레이트 라인이 Vint전위를 유지하도록 하는 것을 알 수 있다.
도 5는 상기 도 4에서 출력된 CPL이 셀 어레이에 인가되는 상태를 나타낸 회로로, 디코더 부분과 셀 어레이가 도시된 회로이다.
로우 어드레스(X-어드레스)를 입력받아 디코딩 하는 디코더부(100)와;
상기 디코더부(100)에서 출력된 신호를 반전시켜, 워드라인을 인에이블 시킴과 동시에 상기 셀 플레이트 라인 드라이버에서 인가되는 CPL을 워드라인이 인에이블된 셀에 인가시키는 선택부(110)와;
셀 어레이(120)와;
상기 셀 어레이(120)를 통과한 CPL 전압인 CPL-ref를 출력하는 출력부(130)를 포함하여 구성한다.
이때 상기 선택부(110)와 출력부(130)에 사용된 스위칭 소자들은 모두 C-모스 트랜지스터를 사용하여 셀 플레이트 라인 드라이버에서 발생하는 출력을 손실없이 셀 플레이트 라인에 전달하게 구성한다.
상기와 같이 구성된 셀 어레이의 동작을 보면, 예로써 X-어드레스(X0, X1)가 각기 '로우' 값으로 입력되면 가장 위쪽의 디코더가 선택되고, 이 디코더의 출력은 '로우' 값이 된다.
상기 신호는 다시 선택부(110)의 반전소자를 통해 '하이' 되어 워드라인을 선택하고, 이와 동시에 스위치가 턴-온되어 CPL 전압이 셀에 인가된다.
이어 상기 CPL 전압은 워드라인을 거치면서 저항 들에 의해 전압이 어느정도 다운된 다음 출력부(130)를 통해 CPL_ref 전압으로 출력되면서 도 3의 전압 비교부(80)에 입력된다.
이때 CPL_ref 전압은 디코딩 되어 출력된 각 라인 중 현재 인에이블된 라인의 전압이다.
이상과 같은 역할을 하는 셀 어레이 회로에서 본 발명에서는 4개의 셀 플레이트 라인을 디코딩하게 구현하였지만, 그 숫자는 8개, 16개 및 그 이상으로 늘어날 수 있음은 물론이다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명은 현재 실리콘을 기억소자로 하는 디램을 대체하여 강유전체를 비롯한 정전용량이 큰 물질을 기억소자로 하고, 이러한 램을 상용화하는 경우에 사용되는 셀 플레이트 라인 드라이버의 전위를 2종류로 사용하여 셀 플레이트 라인의 전위를 안정화 시키는 잇점이 있다.
또한, 상기와 같은 셀 플레이트 드라이버 회로와 연동되는 디코더 회로에서는 스위칭 소자로 C-모스 트랜지스터를 사용하여 입/출력되는 신호의 손실을 제거한다.
아울러 본 발명의 바람직한 실시예들은 예시의 목적을 위해 개시된 것이며, 당업자라면 본 발명의 사상과 범위안에서 다양한 수정, 변경, 부가등이 가능할 것이므로, 이러한 수정 변경 등은 이하의 특허 청구의 범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.

Claims (6)

  1. 셀 플레이트 라인 드라이버 회로에 있어서,
    복수개의 전위를 이용하여 셀 플레이트 라인(CPL)의 전위를 안정시키기 위해;
    셀 플레이트 라인에 고전압(Vpp)을 인가하는 고전압 인가부와;
    셀 플레이트 라인에 내부전압(Vint)을 인가하는 내부전압 인가부와;
    기준 셀 플레이트 라인(CPL_ref) 전위와 내부전압의 전위를 비교하여, 상기 각 전압 인가부로 출력하는 전압 비교부; 및
    상기 각 부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하여 구성하는 것을 특징으로 하는 복수개의 전위를 사용하는 셀 플레이트 라인 드라이버 회로.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 고전압 인가부는 상기 전압 비교부에서 출력된 신호를 반전시키는 다수의 반전소자와;
    상기 반전소자의 최종 출력 신호에 의해 턴-온/오프되어 고전압을 셀 플레이트 라인으로 출력하는 스위칭 소자와;
    상기 스위칭 소자의 일측 단자와 연결되며, 상기 제어부에서 출력된 신호에 따라 턴-온/오프되는 스위칭 소자로 구성하는 것을 특징으로 하는 복수개의 전위를 사용하는 셀 플레이트 라인 드라이버 회로.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 내부전압 인가부는 상기 고전압 인가부 내의 반전소자에서 출력되는 신호와 상기 제어부에서 출력되는 신호를 연산하는 연산수단과;
    상기 연산수단에서 출력되는 신호를 반전하는 반전소자와;
    상기 반전소자에서 출력된 신호에 의해 턴-온/오프되어 내부전압을 셀 플레이트 라인으로 출력하는 스위칭 소자를 포함하여 구성하는 것을 특징으로 하는 복수개의 전위를 사용하는 셀 플레이트 라인 드라이버 회로.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 전압 비교부는 기준 셀 플레이트 라인 전압(CPL_ref)과 내부전압을 입력받아 차동 증폭하여, CPL_ref 전위가 내부전압 보다 낮으면 CPL에 고전압이 인가되도록 하고, 반대로 CPL_ref 전위가 내부전압 보다 높으면 CPL에 내부전압이 인가되도록 하는 차동 증폭기와;
    다수의 모스 트랜지스터를 포함하여 구성하는 것을 특징으로 하는 복수개의 전위를 사용하는 셀 플레이트 라인 드라이버 회로.
  5. 복수개의 전압을 공급하는 셀 플레이트 라인 드라이버의 출력을 셀 플레이트 라인으로 전달하는 반도체 메모리 장치에 있어서,
    셀 플레이트 라인 드라이버 회로에서 입력되는 셀 플레이트 라인 전압을 워드라인이 인에이블된 셀에 선택적으로 인가하는 선택부와;
    상기 선택부를 통해 인가된 셀 플레이트 라인 전압이 셀 어레이를 통과하여 기준 셀 플레이트 라인(CPL_ref) 전압으로 전이되면, 이 신호(CPL_ref)를 셀 플레이트 라인 드라이버의 전압 비교부로 입력하는 출력부를 포함하여 구성하며;
    상기 선택부와 출력부를 이루는 스위칭 소자는 C-모스 트랜지스터를 사용해 입/출력 신호의 손실을 방지하는 것을 특징으로 하는 디코더 회로.
  6. 반도체 메모리 장치에 있어서,
    복수개의 전위를 이용하여 셀 플레이트 라인(CPL)의 전위를 안정시키기 위해, 셀 플레이트 라인에 고전압(Vpp)을 인가하는 고전압 인가부와,
    셀 플레이트 라인에 내부전압(Vint)을 인가하는 내부전압 인가부와,
    기준 셀 플레이트 라인(CPL_ref) 전위와 내부전압의 전위를 비교하여, 상기 각 전압 인가부로 출력하는 전압 비교부, 및
    상기 각 부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하여 구성되는 셀 플레이드 라인 드라이버와;
    셀 플레이트 라인 드라이버 회로에서 입력되는 셀 플레이트 라인 전압을 워드라인이 인에이블된 셀에 선택적으로 인가하는 선택부와,
    상기 선택부를 통해 인가된 셀 플레이트 라인 전압이 셀 어레이를 통과하여 기준 셀 플레이트 라인(CPL_ref) 전압으로 전이되면, 이 신호(CPL_ref)를 셀 플레이트 라인 드라이버의 전압 비교부로 입력하는 출력부를 포함하여 구성되는 디코더회로를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101351156B1 (ko) * 2010-05-19 2014-01-14 피에스4 뤽스코 에스.에이.알.엘. 반도체 기억 장치

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10032277A1 (de) * 2000-07-03 2002-01-24 Infineon Technologies Ag MRAM-Anordnung

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4873664A (en) * 1987-02-12 1989-10-10 Ramtron Corporation Self restoring ferroelectric memory
US5381379A (en) * 1992-12-03 1995-01-10 Sharp Kabushiki Kaisha Non-volatile dynamic random access memory device; a page store device and a page recall device used in the same; and a page store method and a page recall method
US5373463A (en) * 1993-07-06 1994-12-13 Motorola Inc. Ferroelectric nonvolatile random access memory having drive line segments
JPH07111085A (ja) * 1993-10-14 1995-04-25 Sharp Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2576425B2 (ja) * 1994-10-27 1997-01-29 日本電気株式会社 強誘電体メモリ装置
US5592410A (en) * 1995-04-10 1997-01-07 Ramtron International Corporation Circuit and method for reducing a compensation of a ferroelectric capacitor by multiple pulsing of the plate line following a write operation
US5640030A (en) * 1995-05-05 1997-06-17 International Business Machines Corporation Double dense ferroelectric capacitor cell memory
US5621680A (en) * 1996-04-01 1997-04-15 Motorola, Inc. Data storage element and method for reading data therefrom
JPH09288891A (ja) * 1996-04-19 1997-11-04 Matsushita Electron Corp 半導体メモリ装置
KR100206713B1 (ko) * 1996-10-09 1999-07-01 윤종용 강유전체 메모리 장치에서의 비파괴적 억세싱 방법 및 그 억세싱 회로
JPH10162589A (ja) * 1996-11-28 1998-06-19 Matsushita Electron Corp 強誘電体メモリ装置
US5953276A (en) * 1997-12-18 1999-09-14 Micron Technology, Inc. Fully-differential amplifier

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101351156B1 (ko) * 2010-05-19 2014-01-14 피에스4 뤽스코 에스.에이.알.엘. 반도체 기억 장치

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