KR102654665B1 - 액처리 장치 - Google Patents

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쇼고 다카하시
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다로 야마모토
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 기판에 처리액을 공급하여 처리를 행하는 액처리 장치에 있어서, 기판에의 파티클의 부착을 억제하는 기술을 제공하는 것.
[해결수단] 수평으로 유지한 웨이퍼(W)에 각 노즐부(5, 6, 7)로부터 처리 유체를 공급하여 처리함에 있어서, 각 노즐부(5, 6, 7)를 웨이퍼(W)의 상측과 대기 위치 사이에서 이동시키는 이동 베이스(54, 64, 74) 및 가이드 레일(55, 65, 75)의 상측을 각 노즐부(5, 6, 7)를 이동시키기 위한 개구부(16a, 16b, 16c)가 마련된 커버 부재(15)로 덮고, 커버 부재(15) 하측의 구동 영역을 배기하도록 구성하고 있다. 또한, 각 노즐부(5, 6, 7)를 대기 위치에 위치시켰을 때 상기 개구부(16a, 16b, 16c)가 각각 각 노즐부(5, 6, 7)의 노즐 아암(52, 62, 72)에 의해 막히도록 구성하고 있다.

Description

액처리 장치{LIQUID PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 기판에 노즐로부터 처리액을 공급하여 처리하는 액처리 장치에 관한 것이다.
반도체 디바이스의 제조 공정의 하나인 포토레지스트 공정에서는, 반도체 웨이퍼 (이하 「웨이퍼」라고 한다)의 표면에 레지스트를 도포하고, 이 레지스트를 미리 정해진 패턴으로 노광한 후에 현상하여 레지스트 패턴을 형성하고 있다. 이러한 처리는, 일반적으로 레지스트의 도포, 현상을 행하는 도포, 현상 장치에 노광 장치를 접속한 시스템을 이용하여 이루어지고, 상기 도포, 현상 장치에는, 웨이퍼에 레지스트액이나 현상액 등의 처리액을 공급하는 다양한 액처리 장치가 내장되어 있다.
이러한 액처리 장치에서는, 특허문헌 1, 2에 기재되어 있는 것과 같은 처리 유체를 토출하는 노즐을, 기판인 반도체 웨이퍼(이하 「웨이퍼」라고 한다)로부터 떨어진 대기 위치에 위치시킨 상태에서, 기판 유지부에 웨이퍼를 배치한다. 또한, 노즐을 웨이퍼의 상측으로 이동시키고, 웨이퍼로 향해서 처리 유체를 토출하여 액처리를 행하는 구성이 알려져 있다.
또한, 예컨대 현상을 행하는 장치에서는, 현상액을 웨이퍼에 공급하여 현상을 종료한 후, 예컨대 세정액 및 불활성 가스를 각각 전용 노즐로부터 토출하여 웨이퍼의 표면으로부터 용해물을 제거하도록 하고 있다.
이 처리액이나 처리용 가스를 토출하는 처리 유체 노즐을 이동시키는 이동 기구는, 예컨대 볼나사 등을 포함하여, 볼나사 기구를 구동시킴으로써 가이드 레일을 따라서 이동시키도록 구성되어 있다. 또한, 이동 기구에 동력을 전하기 위한 배관이 접속되고, 배관의 굴곡 방향을 규제하기 위한 배관 규제 부재가 마련되어 있다.
이러한 볼나사나 가이드 레일 혹은 배관 규제 부재는, 이동 기구가 이동했을 때에, 발진(發塵)을 발생시키는 경우가 있으며, 이동 기구로부터 발생하는 발진이 컵체의 위쪽으로 비산되어, 기판 유지부에 유지된 웨이퍼에 부착될 우려가 있었다.
특허문헌 1: 일본 특허공개 2015-26744호 공보 특허문헌 2: 일본 특허공개 2012-28571호 공보
본 발명은 이러한 사정 하에 이루어진 것으로, 그 목적은, 기판에 처리액을 공급하여 처리를 행하는 액처리 장치에 있어서, 기판에의 파티클 부착을 억제하는 기술을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 액처리 장치는, 노즐로부터 기판에 처리액을 공급하여 액처리를 행하는 장치에 있어서,
기판을 수평으로 유지하기 위한 기판 유지부를 둘러싸도록 마련된 컵체와,
전단부에 상기 노즐이 마련되고, 후단부가 지지부에 지지된 노즐 아암과,
대기 위치와 상기 노즐로부터 처리 유체를 기판에 공급하는 처리 위치 사이에서 상기 노즐부를 통해 노즐 아암을 이동시키기 위한 이동 기구와,
상기 지지부를 승강시키는 승강 기구와,
상기 이동 기구 및 승강 기구가 배치된 구동 영역보다 상측에 마련되는 상부판부를 포함하고, 상기 구동 영역을 상기 컵체 내에서 기판이 유지되는 영역과 구획하기 위한 커버 부재와,
상기 상부판부에 있어서의 상기 지지부의 이동로에 대응하는 부위에 상기 지지부가 이동할 수 있도록 형성된 개구부와,
상기 구동 영역을 배기하는 배기 기구를 포함한 것을 특징으로 한다.
본 발명은, 노즐 아암을 그 후단부에서 지지하는 지지부를 가로 방향 및 상하 방향으로 이동시키는 기구가 배치되는 구동 영역을, 컵체 내에서 기판이 유지되는 영역과 구획하기 위한 커버 부재를 마련하여, 구동 영역을 배기하고 있다. 그리고, 커버 부재를 구성하는 상부판부로 지지부가 이동하기 위한 개구부를 형성하고 있다. 따라서, 구동 영역에 배치된 기구로부터 발생하는 파티클이 컵 내의 기판에 부착되는 것을 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명의 현상 장치를 도시하는 사시도이다.
도 2는 상기 현상 장치의 종단측면도이다.
도 3은 현상 처리부를 도시하는 단면도이다.
도 4는 현상 장치에 있어서의 커버 부재 및 펀칭 플레이트의 하측을 도시하는 평면도이다.
도 5는 제1 노즐부를 도시하는 사시도이다.
도 6은 제1 노즐부를 후방 측에서 본 측면도이다.
도 7은 배선 규제 부재를 도시하는 사시도이다.
도 8은 본 발명의 작용을 도시하는 설명도이다.
도 9는 본 발명의 작용을 도시하는 설명도이다.
도 10은 본 발명의 작용을 도시하는 설명도이다.
도 11은 본 발명의 작용을 도시하는 설명도이다.
도 12는 본 발명의 작용을 도시하는 설명도이다.
도 13은 본 발명의 작용을 도시하는 설명도이다.
도 14는 본 발명의 작용을 도시하는 설명도이다.
도 15는 본 발명의 작용을 도시하는 설명도이다.
도 16은 본 발명의 액처리 장치의 다른 예를 도시하는 사시도이다.
본 발명의 실시형태에 따른 액처리를 현상 장치에 적용한 예에 관해서 설명한다. 도 1은 현상 장치의 일 실시형태를 도시하는 개략 사시도, 도 2는 현상 장치를 도시하는 종단측면도이다. 현상 장치는 직사각형의 케이스(10)를 포함하며, 길이 방향 일단 측의 측면에 기판인 웨이퍼(W)를 반입출하기 위한 반입출구(11)가 형성되고, 반입출구(11)에는 반입출구를 개폐하는 셔터(12)가 마련되어 있다. 케이스(10)에 있어서의 반입출구(11) 측을 전방, 반입출구(11)에서 봤을 때 케이스(10)의 안쪽을 후방이라고 하면, 케이스(10)의 전방 부근 위치에는 현상 처리부(1)가 마련되어 있다. 이하 명세서에서는, 케이스(10)에 있어서의 반입출구(11) 측을 전방, 반입출구(11)에서 봤을 때 케이스(10)의 안쪽을 후방으로 하여 설명한다.
현상 처리부(1)에 관해서 도 3을 참조하여 설명한다. 현상 처리부(1)는, 웨이퍼(W)를 수평으로 흡착 유지하는 기판 유지부인 스핀 척(2)을 포함하고 있다. 이 스핀 척(2)은 웨이퍼(W) 이면의 중앙부를 수평으로 흡착 유지하고, 연직축을 중심으로 회전가능하게 구성되어 있다. 스핀 척(2)은 평면에서 봤을 때 원형으로 형성되고, 회전 승강축(21)을 통해 구동 기구(스핀 척 모터)(22)에 접속되어 있다. 또한, 스핀 척(2)은 도시하지 않는 흡인관과 접속되어 있으며, 도시하지 않는 흡착 구멍을 통해 웨이퍼(W)를 흡착하면서 유지하는 진공 척으로서의 기능을 갖추고 있다. 또한, 스핀 척(2)의 측방에는, 승강 기구(391)와 접속된 지지 핀(392)이 원주 방향 등간격으로 3개 마련되어 있고, 외부의 반송 기구와 지지 핀(392)의 협동 작용에 의해서, 스핀 척(2)에 웨이퍼(W)의 전달을 할 수 있게 구성되어 있다.
스핀 척(2)의 주위에는, 처리 유체인 현상액의 비산을 억제함과 더불어 현상액을 회수하기 위해서, 스핀 척(2)에 유지된 웨이퍼(W)의 측방 및 하측을 원주 방향 전체에 걸쳐 둘러싸도록 하여 평면에서 봤을 때 환상의 컵체(3)가 마련되어 있다. 이 컵체(3)의 상면은 웨이퍼(W)보다 대구경의 개구부(31)로 되어 있고, 이 개구부(31)를 통해, 후술하는 도포, 현상 장치의 반송 기구와 스핀 척(2) 사이에서 웨이퍼(W)를 전달할 수 있게 되어 있다.
또한, 컵체(3)는 측벽(32)을 포함하며, 이 측벽(32)의 상단 측은 내측으로 경사져 경사부(321)를 이루고 있고, 컵체(3)의 바닥부 측은 예컨대 오목부 형상을 이루는 액받음부(33)로서 형성되어 있다. 액받음부(33)는, 환상의 내측 컵(34)의 주연부 측 아래쪽으로 향해서 뻗어 나오며, 웨이퍼(W)의 주연부 하측으로 전체 둘레에 걸쳐 형성된 격벽부(36)에 의해 외측 영역과 내측 영역으로 구획되어 있다. 외측 영역의 저면부에는 저류한 현상액의 드레인을 배출하기 위한 배액관(35)이 접속되어 있다. 내측 컵의 내주 측에는, 원형 판 형상의 평판부(37)가 마련되고, 평판부(37)의 주연부의 상면 측에는, 스핀 척(2)에 유지된 웨이퍼(W)와 극히 좁은 간극으로 하기 위한 엣지부(37a)가 전체 둘레에 걸쳐 형성되어 있다.
후방 측에서 전방을 봤을 때, 격벽부(36) 내측에 있어서의 스핀 척(2)의 좌우의 위치에는 각각 컵체(3) 내의 분위기를 배기하는 배기관(38)이 컵체(3)의 저면으로부터 돌입(突入)되어 있고, 배기관(38)의 상단은 컵체(3)의 내부에서 개구되는 제1 배기구(39)를 형성하고 있다.
컵체(3)의 아래쪽에는, 도 2, 도 4에 도시한 것과 같이, 배기로인 배기 덕트(9)가 마련되어 있다. 배기 덕트(9)는 수평 방향으로 신장하도록 배치되고, 도 4에 도시한 것과 같이, 일단 측이 2 갈래로 분기되어 분기 덕트(91)로 되어 있고, 타단 측이 집합 덕트(92)에 접속되어 있다. 도 2, 도 4에 도시한 것과 같이, 분기 덕트(91)의 각 단부의 상면 측에는 개구부(93)가 형성되어 있고, 각 개구부(93)에는 각각 배기관(38)의 하단부가 접속되어 있다. 또한, 배기 덕트(9)에 있어서의 분기 덕트(91)의 분기 위치보다 집합 덕트(92) 측, 구체적으로는 컵체(3)와 케이스(10)에 형성한 반입출구(11) 사이에 있어서의, 배기 덕트(9)의 상면 측에 케이스(10) 내의 분위기를 배기하기 위한 제2 배기구(94)가 형성되어 있다.
도 2에 도시한 것과 같이, 제2 배기구(94)에는, 제1 배기구(39)의 배기량과 제2 배기구(94)의 배기량의 유량비를 조정하기 위한 배기 댐퍼(95)가 마련되어 있다. 이 배기 덕트(95)를 조정함으로써, 제1 배기구 측(39)으로부터의 많은 배기를 행하여, 제2 배기구(94)의 배기량을 적게 하고, 컵체(3) 내부의 배기량을 많게 하는 「컵 배기」 상태와, 제1 배기구(39)의 배기량을 적게 하고, 제2 배기구(94)의 배기량을 많게 하여, 컵체(3)의 내부보다 컵체(3) 외부의 배기량을 많게 하는 「모듈 배기」의 상태를 전환할 수 있게 구성되어 있다. 또한, 도 2 중에 도시하는 96은 배액관(35)으로부터 배출되는 액을 배액하는 배액로이다.
또한, 현상 장치는, 스핀 척(2)에 유지된 웨이퍼(W)에 처리 유체를 공급하기 위한 현상 노즐부(5), 세정 노즐부(6) 및 보조 노즐부(7)를 포함하고 있다. 상기 현상 노즐부(5)는 제1 처리 유체인 현상액을 공급하기 위한 노즐, 세정 노즐부(6)는 세정액(린스액) 및 건조 가스를 공급하기 위한 노즐, 보조 노즐부는 현상 노즐로부터 공급하는 현상액과는 다른, 예컨대, 계면활성제가 첨가된 현상액을 공급하기 위한 노즐로서 각각 이용된다.
현상 노즐부(5)는, 그 하단면에 전후 방향으로 신장하는 가늘고 긴 슬릿형으로 개구된 현상 노즐(51)을 갖추고, 현상 노즐부(5)가 처리 위치에 있을 때는 웨이퍼(W)의 중심부를 포함하는 영역에 띠 형상으로 현상액을 토출하도록 되어 있다. 도 1, 도 4 및 도 5에 도시한 것과 같이, 현상 노즐(51)은, 전후 방향으로 수평으로 신장하여, 선단 측이 후방에서 전방을 봤을 때 우측 방향으로 향해서 수평으로 뻗어 나온 제1 노즐 아암(52)의 선단에 마련되어 있다. 또한, 도 5, 도 6에 도시하는 것과 같이 제1 노즐 아암(52)의 후방 측의 단부는, 아래쪽으로 향해서 신장하는 지지부인 지지 기둥(53)의 상단에 접속되어 있다. 지지 기둥(53)의 하단은, 승강 기구(59)를 통해 이동 베이스(54)에 접속되어 있다. 현상 노즐부(5)에 있어서는, 지지 기둥(53)의 하단은 이동 베이스(54)의 우측으로부터의 위치에 접속되어 있다. 승강 기구(59)는, 예컨대 이동 베이스(54)의 상면에서부터 후술하는 상부판부(20)의 상면의 높이 위치의 반의 높이 위치까지 신장하는 도시하지 않는 가이드용의 지주에 접속되어 있고, 예컨대 볼나사 기구 등에 의해 지지 기둥(53)을 승강시키도록 구성되어 있다.
또한, 케이스(10)의 저면에는, 전후 방향으로 신장하는 가이드 레일(55)과, 이동 베이스(54)를 가이드 레일(55)을 따라서 전후 방향으로 이동시키기 위한, 모터, 타이밍 벨트 및 풀리 등으로 구성된 도시하지 않는 구동 기구가 마련되어 있다. 이 모터에 의해 풀리를 회전시켜 타이밍 벨트를 구동시킴으로써, 이동 베이스(54)가 가이드 레일(55)을 따라서 전후 방향으로 이동한다. 이동 베이스(54), 구동 기구 및 가이드 레일(55)은 현상 노즐(51)을 전후 방향으로 진퇴시키는 이동 기구를 구성한다.
또한, 현상 노즐부(5)에 있어서는, 가이드 레일(55)은 제1 노즐 아암(52)보다 왼쪽으로 치우친 위치에 마련되어 있고, 이동 베이스(54)의 왼쪽으로 치우친 위치에 가이드 레일(55)이 접속되어 있다. 또한, 도 2에 도시한 것과 같이, 이동 베이스(54), 가이드 레일(55)을 포함하는 이동 기구는 컵체(3)의 상단보다 낮은 위치에 마련되어 있다.
또한, 제1 노즐 아암(52)의 내부에는, 현상 노즐(51)에 하류 측의 단부가 접속된 도시하지 않는 현상액 공급로가 형성되어 있고, 현상액 공급로의 상류 측의 단부는, 도 5에 도시하는 것과 같이 제1 노즐 아암(52)의 기단의 후방 측의 측면에 접속된, 현상액 공급관(56)의 일단 측에 접속되어 있다. 현상액 공급관(56)은, 아래쪽으로 굴곡되고, 타단 측이 더욱 전방으로 향하여 둘러쳐져 있다. 도 5, 도 6에 도시한 것과 같이, 현상액 공급관(56)에 있어서의 제1 노즐 아암(52) 측을 하류 측이라고 하면, 현상액 공급관(56)의 상류 측의 부위는, 제1 노즐 아암(52)의 이동로의 아래쪽에, 제1 노즐 아암(52), 지지 기둥(53) 및 이동 베이스(54)와 간섭하지 않도록 배치된 고정구(50)로 고정되어 있다. 이에 따라 이동 베이스(54)가 이동했을 때에, 현상액 공급관(56)에 있어서의 상기 고정구(50)에 고정된 부위가 정지한 상태가 되도록 구성되고, 현상액 공급관(56)의 고정구(50)보다 하류 측은 자유롭게 굴곡 변형하도록 구성되어 있다. 또한, 현상액 공급관(56)의 고정구(50)보다 상류 측은 더욱 둘러쳐져, 후술하는 현상액 공급원(58)에 접속되어 있다.
또한, 이동 베이스(54)에는, 노즐 아암(52)을 상하 방향으로 승강시키는 승강 기구를 구동시키기 위한 예컨대 볼나사의 모터를 구동하기 위한 전력 공급 라인이나, 이동 위치 확인 센서의 신호파를 송신하기 위한 신호선 등으로 구성된 배선부(57)의 일단이 접속되어 있다. 배선부(57)는, 위쪽으로 굴곡되고, 타단 측이 더욱 전방으로 향하여 둘러쳐져 있다. 배선부(57)의 타단 측은 이미 상술한 고정구(50)의 좌측 상측 부근의 위치에 고정되고, 또한 배선부(57)의 고정구(50)보다 타단 측은, 예컨대 신호선이 제어부에 접속되고, 전선이 전원부에 접속되어 있다.
또한, 배선부(57)에 있어서의 이동 베이스(54)와 고정구(50) 사이의 부위에는 배선 규제 부재(8)가 마련되어, 굴곡 방향이 규제되고 있다. 도 7에 도시한 것과 같이, 배선 규제 부재(8)는, 복수의 연결 부재(81)를 배선 규제 부재(8)의 길이 방향으로 연결하여 구성되어 있다. 각 연결 부재(81)는, 상호 마주 보게 배치한 2장의 연결판(82)을 포함하고, 2장의 연결판(82)은, 그 폭 방향 양단(연결 부재(81)의 일면 측 및 타면 측)을 각각 가교판(83)에 의해 상호 고정하여 형성되어 있다. 2장의 연결판(82)에 있어서의 각각의 길이 방향 일단 측은, 서로의 대향하는 면(내측의 면)에 단차가 형성되고, 단차 부분에는 두께 방향으로 관통하는 연결 구멍(84)이 형성되어 있다. 또한, 2장의 연결판에 있어서의 각각의 길이 방향 타단 측에는, 외측의 면에 단차가 형성되고, 단차 부분에는 외측으로 향해서 돌출된 연결 핀(85)이 형성되어 있다. 각 연결 부재(81)는, 연결판(82)에 있어서의 길이 방향 일단 측과 길이 방향 타단 측이 서로 계합하는 형상으로 설정되어 있다. 그리고, 상호 인접하는 연결 부재(81)는, 연결 핀(85)을 연결 구멍(84)에 끼워 넣음으로써 연결판(82)의 길이 방향으로 연결된다. 이 때 서로 끼워 맞춰진 연결판(82)끼리는, 연결 핀(85)을 회전축으로 하여 이미 정해진 각도의 범위를 회동할 수 있지만, 2장의 연결판(82)은 가교판(83)에 의해 상호 고정되어 있기 때문에, 두께 방향(2장의 대향하는 연결판(82)이 나란히 늘어서는 방향)의 움직임이 규제된다.
그리고, 배선 규제 부재(8)는, 복수의 연결 부재(81)를 연결판(82)의 길이 방향으로 연결하여 다수의 관절부를 형성한 장척형(長尺狀)으로 구성되고, 각 연결 부재(81)에 있어서의 가교판(83) 사이에 전력 공급 라인 및 신호선 등의 배선(80)이 배선 규제 부재(8)의 폭 방향으로 나란하게 배치된다. 따라서, 각 배선(80)은, 배선 규제 부재(8)의 두께 방향으로는 굴곡할 수 있지만, 연결판(82)의 두께 방향, 즉 배선 규제 부재(8)의 폭 방향의 움직임이 규제되게 된다. 이 배선부(57)는, 이동 베이스(54)에 대하여, 배선 규제 부재(8)의 두께 방향이 상하 방향과 가지런하게 접속되고, 이동 베이스(54)의 후방 측에서 전방 측으로 굴곡되어, 배선 규제 부재(8)의 상하 방향을 반대로 한 상태에서 고정구(50)에 접속된다.
도 6에 도시한 것과 같이, 배선부(57)와 현상액 공급관(56)은 상호 교차하지 않도록 이격되어 접속되어 있음과 더불어 배선부(57)는 배선 규제 부재(8)에 의해 좌우로 굴곡이 규제되고 있다. 따라서, 이동 베이스(54)가 가이드 레일(55)을 따라서 이동했을 때에 배선부(57)와 현상액 공급관(56)이 상호 교차하지 않게 구성되어 있다. 또한, 배선부(57)에 관해서도 컵체(3)의 상단보다 낮은 위치에 마련되어 있다.
세정 노즐부(6)는, 세정액 예컨대 순수를 토출하는 세정 노즐(61a)과, 건조 가스 예컨대 질소 가스를 공급하는 가스 노즐(61b)을 포함한 복합 노즐로서 구성되어 있다. 도 4에 도시한 것과 같이, 세정 노즐부(6)는, 현상 노즐부(5)와 마찬가지로, 제2 노즐 아암(62), 지지 기둥(63), 이동 베이스(64) 및 가이드 레일(65)을 포함하고 있는데, 이들 제2 노즐 아암(62), 지지 기둥(63), 이동 베이스(64) 및 가이드 레일(65)은, 도 5에 도시한 제1 노즐 아암(52), 지지 기둥(53), 이동 베이스(54) 및 가이드 레일(55)과 좌우가 반전된 형상으로 되어 있다.
또한, 제2 노즐 아암(62)의 내부에는, 각각 세정 노즐(61a), 가스 노즐(61b)에 접속된 도시하지 않는 세정액 공급로 및 가스 공급로가 형성되고, 세정액 공급로 및 가스 공급로는, 각각 제2 노즐 아암(62)의 기단의 후방 측의 측면에 접속된 세정액 공급관(66a) 및 가스 공급관(66b)에 접속되어 있다. 이 예에서는, 세정액 공급관(66a) 및 가스 공급관(66b)은 측방이 연결된 띠 형상 배관(66)으로 되어 있다. 띠 형상 배관(66)은, 제2 노즐 아암(62)의 기단부에서부터 아래쪽으로 굴곡되고, 타단 측이 또한 전방으로 향하여 둘러쳐져 있다.
또한, 도 2에 도시한 것과 같이, 이동 베이스(64)에는, 현상 노즐부(5)에 마련한 이동 베이스(54)와 마찬가지로 배선 규제 부재(8)를 갖춘 배선부(67)가 접속되어 있다. 띠 형상 배관(66) 및 배선부(67)도 현상 노즐부(5)의 예와 마찬가지로, 배선(80)과 띠 형상 배관(66)은 상호 교차하지 않게 고정구(60)에 고정되어 있다. 따라서, 띠 형상 배관(66)에 있어서의 고정구(60)에서부터 제2 노즐 아암(62)까지의 영역은 굴곡이 자유롭게 구성되어 있음과 더불어, 배선부(67)의 고정구(60)에서부터 제2 노즐 아암(62)까지의 영역은 좌우 방향의 굴곡이 규제되면서 전후로 미끄럼 이동하도록 구성되어 있다.
또한, 보조 노즐부(7)는 도 5에 도시한 현상 노즐부(5)와 거의 같은 식으로 구성되어 있다. 도 4에서는, 제3 노즐부(7)에 있어서의, 제3 노즐 아암, 지지 기둥, 이동 베이스 및 가이드 레일을, 각각 부호 72, 73, 74 및 75로 나타내고 있다.
또한, 도 3에 도시한 것과 같이, 현상 노즐(51), 세정 노즐부(6)의 세정 노즐(61a), 가스 노즐(61b), 보조 노즐(71)은, 각각 현상액 공급관(56), 세정액 공급관(66a), 가스 공급관(66b) 및 현상액 공급관(76)을 통해 현상액 공급원(58), 세정액 공급원(68a), 가스 공급원(68b) 및 현상액 공급원(78)에 접속되어 있다. 또한, 도 3 중 V56, V66a, V66b 및 V76은 각각 현상액 공급관(56), 세정액 공급관(66a), 가스 공급관(66b) 및 현상액 공급관(76)에 개설된 밸브이며, M56, M66a, M66b 및 M76은 각각 유량 조정부이다.
이들 현상 노즐부(5)는, 도 1에 도시한 스핀 척(2) 상의 웨이퍼(W)에 처리 유체를 공급하는 처리 위치와, 도 4에 도시한 것과 같이, 상기 전후 방향의 웨이퍼(W)가 반입출되는 전방 측과는 반대쪽의 후방 측의 대기 위치 사이에서 전후 방향으로 진퇴가 자유롭게 구성되어 있다. 또한, 세정 노즐부(6) 및 보조 노즐부(7)에 있어서도 마찬가지로 스핀 척(2) 상의 웨이퍼(W)에 처리 유체를 공급하는 처리 위치와, 도 4에 도시하는 대기 위치 사이에서 이동 베이스(64, 74)에 의해 가이드 레일(65, 75)을 따라서 전후 방향으로 진퇴가 자유롭게 구성되어 있다.
이 예에서는, 현상 노즐부(5), 세정 노즐부(6) 및 보조 노즐부(7)의 진퇴 방향은, 케이스(10)의 전후 방향으로 가지런하다. 현상 노즐부(5), 세정 노즐부(6) 및 보조 노즐부(7)는, 케이스(10)의 좌우 방향으로 좌측에서부터 현상 노즐부(5), 보조 노즐부(7) 및 세정 노즐부(6)의 순서로 나란하게 배치되어 있고, 도 4에 도시한 것과 같이, 각 노즐부(5, 6, 7)를 대기 위치에 위치시켰을 때에, 현상 노즐(51), 세정 노즐(61a), 가스 노즐(61b) 및 보조 노즐(71)이 전방에서 후방으로 향하여, 이 순서로 일렬로 늘어서도록 배치되어 있다. 또한, 각 노즐부(5, 6, 7)를 대기 위치에 위치시켰을 때에 각 노즐부(5, 6, 7)의 노즐 아암(52, 62, 72)의 상면의 높이 위치가 가지런하게 배치되어 있다. 더욱이, 현상 노즐부(5), 세정 노즐부(6) 및 보조 노즐부(7)를 대기 위치에 위치시켰을 때의 현상 노즐(51), 세정 노즐(61a), 가스 노즐(61b) 및 보조 노즐(71)의 아래쪽에는 집합 버스(79)가 마련되어 있다.
또한, 도 1, 도 2로 되돌아가면, 케이스(10)의 후방 부근의 영역에는, 케이스(10)의 후방 측에 있어서의 이동 베이스(54, 64, 74) 및 가이드 레일(55, 65, 75)을 포함하는 이동 기구와, 지지 기둥(53, 63, 73)을 승강시키는 승강 기구(59, 69)가 배치된 구동 영역보다 상측을 덮는 커버 부재(15)가 마련되어 있다. 커버 부재(15)는, 직사각형 판 형상의 상부판부(20)와, 상부판부(20)에 있어서의 전방 측의 단부에서부터 아래쪽으로 향해서 뻗어 나오도록 마련된 격벽부(19)를 포함하고 있다. 상부판부(20)에는, 대기 위치에 있는 각 노즐부(5, 6, 7)의 노즐 아암(52, 62, 72)의 형상에 대응한 갈고랑이 형상의 3개의 개구부(16a, 16b, 16c)가 형성되어 있다. 개구부(16a, 16b, 16c)는, 각 개구부(16a, 16b, 16c)에 대응하는 노즐 아암(52, 62, 72)이 수습되는 크기로 형성되어 있다. 그리고 각 노즐부(5, 6, 7)를 대기 위치에 위치시킴으로써, 각 노즐 아암(52, 62, 72)에 의해 개구부(16a, 16b, 16c)가 각각 막히도록 구성되어 있다. 따라서, 각 노즐부(5, 6, 7)를 대기 위치에 위치시킴으로써, 각 노즐부(5, 6, 7)의 이동 베이스(54, 64, 74)의 상측이 커버 부재(15) 및 각 노즐 아암(52, 62, 72)에 의해 덮인다고 말할 수 있다. 그리고, 각 개구부(16a, 16b, 16c)는 후단에서 전방으로 향하여 신장되도록 형성되어 있고, 이 방향은 각 노즐부(5, 6, 7)를 대기 위치에서 전방으로 이동시켰을 때에, 노즐 아암(52, 62, 72)을 지지하는 지지 기둥(53, 63, 73)의 이동 방향으로 가지런하다. 따라서, 지지 기둥(53, 63, 73)은 각 개구부(16a, 16b, 16c)을 따라서 이동할 수 있고, 각 개구부(16a, 16b, 16c)는 지지 기둥(53, 63, 73)의 이동로를 따라서 형성되어 있다고 말할 수 있다.
또한, 케이스(10)의 전방 부근의 영역에는, 컵체(3)를 둘러싸도록 형성되고, 컵체(3)의 주위를 상하로 구획하는 구획판인 펀칭 플레이트(17)가 마련되어 있다. 펀칭 플레이트(17)는 격벽부(19)의 하단에서 수평으로 신장되도록 연속해서 마련되어 있다. 따라서, 펀칭 플레이트(17)와 커버 부재(15) 사이의 간극은 격벽부(19)에 의해 막혀 있다. 또한, 펀칭 플레이트(17) 하측의 공간은, 커버 부재(15) 하측의 구동 영역이 되는 공간과 연통되어 있고, 이미 상술한 제2 배기구(94)는 펀칭 플레이트(17) 하측의 공간에 개구되어 있다. 따라서 제2 배기구(94)로부터 배기함으로써 펀칭 플레이트(17) 하측의 공간 및 커버 부재(15) 하측의 구동 영역이 되는 공간의 배기가 행해진다. 또한, 케이스(10) 내에 있어서의 컵체(3)의 상측에는 FFU(Fan Filter unit)(18)이 설치되어, 컵체(3)로 향해서 청정 공기의 다운플로우를 공급할 수 있게 구성되어 있다.
또한, 현상 장치는 제어부(100)를 포함하고 있다. 제어부(100)는 예컨대 도시하지 않는 프로그램 저장부를 갖는 컴퓨터로 이루어지고, 프로그램 저장부에는 현상 노즐부(5), 세정 노즐부(6) 및 보조 노즐부(7)를 이용하여 후술하는 현상 처리를 행하는 동작 등에 관한 스텝(명령)군을 갖춘 컴퓨터 프로그램이 저장되어 있다. 그리고, 이 컴퓨터 프로그램이 제어부(100)에 독출됨으로써, 제어부(100)는 현상 장치의 동작을 제어한다. 또한, 이 컴퓨터 프로그램은 예컨대 하드 디스크, 컴팩트 디스크, 마그넷 옵티컬 디스크, 메모리 카드 등의 기억 기구에 수납된 상태로 프로그램 저장부에 저장된다.
이어서 상술한 실시형태에 따른 현상 장치의 작용에 관해서 설명한다. 웨이퍼(W)는 도시하지 않는 외부의 반송 기구에 의해 현상 장치에 반입된다. 현상 장치에 반입되는 웨이퍼(W)는 레지스트가 도포되고, 그 레지스트가 미리 정해진 노광 처리가 행해지고 있다.
우선 도 8에 도시한 것과 같이, 웨이퍼(W)의 반입 전에 반입출구(11)의 셔터(12)를 닫고, 각 노즐부(5, 6, 7)를 대기 위치에 위치시킨 상태에서, FFU(18)으로부터 다운플로우를 공급한다. 또한, 배기 덕트(9)를 모듈 배기로 전환한다. 이에 따라 이미 상술한 것과 같이 컵체(3) 내의 배기가 이루어지지 않고, 제2 배기구(94)로부터 케이스(10) 내의 배기가 이루어진 상태가 된다.
또한, 이 때 각 노즐부(5, 6, 7)가 대기 위치에 위치하고 있기 때문에, 커버 부재(15)의 각 개구부(16a, 16b, 16c)가 막힌 상태로 되어 있다. 그 때문에 FFU(18)으로부터 공급되는 다운플로우는 케이스(10)의 후방 측에 있어서 커버 부재(15) 및 개구부(16a, 16b, 16c)를 막는 노즐 아암(52, 62, 72)에 의해 가로막히고, 커버 부재(15)의 상측을 대류한다. 또한, 케이스(10)의 전방 측에서는, 다운플로우가 컵체(3)에 흡인되지 않고, 펀칭 플레이트(17)를 통과하여 케이스(10)의 아래쪽으로 흘러들어간다.
또한, 모듈 배기를 행하고 있기 때문에, 펀칭 플레이트(17) 하측의 분위기가 제2 배기구(94)로부터 배기된다. 또한, 커버 부재(15) 하측의 분위기도 펀칭 플레이트(17)의 하측을 흘러, 제2 배기구(94)로부터 배기된다.
이 때 예컨대 이동 베이스(54, 64, 74)나 배선 규제 부재(8) 등의 구동하는 부위에서는, 구동에 의해 발생한 파티클이 부착되어 있는 경우가 있지만, 커버 부재(15)에 의해 이들 구동하는 부위의 상측이 막혀 있다. 또한, 커버 부재(15)에 있어서의 격벽부(19)가 스핀 척(2)에 유지된 웨이퍼(W)로부터 이동 베이스(54, 64, 74)가 향하는 위치를 가로막고 있다. 그 때문에 FFU(18)으로부터 공급되는 다운플로우는, 파티클까지 도달하지 않고, 파티클이 다운플로우에 의해 감겨져 올라가는 일이 없다. 또한, 이동 베이스(54, 64, 74)나 배선 규제 부재(8)에 부착되어 있는 파티클은, 커버 부재(15)의 하측에서 제2 배기구(94)로 흘러들어가는 기류에 포착되어 제거된다.
그 후, 외부의 반송 기구에 의해 웨이퍼(W)가 반입출구를 통해 현상 처리부(1)의 상측으로 반입되고, 반송 기구와 지지 핀(392)과의 협동 작용에 의해 웨이퍼(W)가 스핀 척(2)에 전달된다.
이어서 도 9에 도시한 것과 같이, 모듈 배기를 유지한 상태에서 현상 노즐부(5)를 상승시킨다. 이 때 이동 베이스(54)를 약간 전진시키면서 제1 노즐 아암(52)을 상승시킴으로써, 제1 노즐 아암(52)의 후방에 접속된 현상액 공급관(56)과 커버 부재(15)의 간섭을 피한다. 더욱 이동 베이스(54)를 전진시켜, 현상 노즐(51)을 웨이퍼(W)의 상측으로 이동시킨다. 이 때 제1 노즐 아암(52)을 지지하는 지지 기둥(53)은 현상 노즐부(5)에 대응하여 형성된 개구부(16a)를 따라서 전방으로 이동한다. 또한 현상 노즐(51)을, 토출구가 웨이퍼(W)의 표면에서부터 15 mm∼20 mm가 되는 높이 위치로 하강한다. 이 때 커버 부재(15) 하측의 구동 영역의 분위기가 배기되기 때문에, 개구부(16a)를 통해 구동 영역 안으로 흘러들어가는 기류가 형성된다.
이어서 도 10에 도시한 것과 같이, 컵 배기를 행하도록 배기를 전환한다. 이에 따라, 컵체(3) 내에 컵체(3)의 상측에서 배기관(38)으로 흘러들어가는 기류가 형성되어 배기된다. 또한, 제2 배기구(94)에 의한 배기도 양이 적어지지만 계속하여 행해진다. 이 때 이미 상술한 것과 같이, FFU(18)의 다운플로우가 커버 부재(15)에 의해 가로막히기 때문에, 구동하는 부위에 부착되어 있는 파티클이 감겨져 올라가는 일이 없고, 스핀 척(2)에 유지된 웨이퍼(W)에의 파티클의 부착이 억제되고 있다.
더욱이 도 10, 도 11에 도시한 것과 같이, 스핀 척(2)에 의해 웨이퍼(W)를 회전시키면서 현상 노즐(51)로부터 웨이퍼(W)의 중심부를 포함하는 영역에 현상액을 공급한다. 웨이퍼(W) 중심부에 공급된 현상액(D)은 스핀 코팅에 의해, 웨이퍼(W)의 주연부 측으로 넓어진다. 이 때 현상 노즐(51)로부터 현상액을 토출하면서 현상 노즐(51)을 웨이퍼(W)의 중심부와 외측 방향 사이에서 전후 방향으로 진퇴 이동시키도록 하여도 좋다.
현상 노즐(51)을 처리 위치로 이동시켰을 때, 도 10에 도시한 것과 같이, 현상액 공급관(56)은 상류 측이 고정구(50)에 고정되고, 하류 측의 단부가 제1 노즐 아암(52)의 후방에 고정되고 있다. 그 때문에 현상액 공급관(56)은 제1 노즐 아암(52)의 전진에 따라서 전후 방향으로 굴곡 변형된다.
또한, 배선부(57)는, 현상액 공급관(56)과 마찬가지로 상하 방향으로 굴곡 변형하고자 하지만, 배선 규제 부재(8)에 의해 좌우의 굴곡이 규제되고 있기 때문에, 좌우 방향으로 틀어지지 않고서 전후 방향으로 향하여 미끄럼 이동하면서 굴곡 변형된다. 이와 같이 현상액 공급관(56) 및 배선부(57)는, 서로 좌우 방향으로 이격되도록 배치되어, 전후 방향으로 향해서 굴곡된다. 그 때문에 제1 노즐 아암(52)을 전후 방향으로 이동했을 때에 현상액 공급관(56) 및 배선부(57)는 상호 간섭하지 않는다.
또한, 도 11에 도시한 것과 같이, 커버 부재(15)에 있어서는, 제1 노즐 아암(52)이 위치하고 있던 개구부(16a)가 개방된 상태로 되어 있지만, 다른 개구부(16b, 16c)는 각각 제2 노즐 아암(62) 및 제3 노즐 아암(72)에 의해 막힌 상태로 되어 있다. 그 때문에 개방되는 개구부(16a)는 1 곳뿐이며, 상측의 FFU(18)로부터 공급되는 다운플로우가 커버 부재(15)의 하측으로 진입하지만, 다운플로우에 대항하여 개구부(16a)에서 상측으로 흐르기는 어렵다. 그 때문에 커버 부재(15) 하측의 파티클이 감겨져 올라가 컵체(3) 측으로 흐르는 일은 없다.
이어서 도 12에 도시한 것과 같이, 현상액의 토출을 정지한 후, 제1 노즐 아암(52)을 상승시키고, 이어서 현상 노즐부(5)를 후방으로 이동시킴과 더불어 제1 노즐 아암(52)을 하강시킨다. 이 때 이동 베이스(54)를 후방으로 이동시키면서 제1 노즐 아암(52)을 하강시켜, 제1 노즐 아암(52)의 후방에 접속된 현상액 공급관(56)과 커버 부재(15)와의 간섭을 피한다. 이에 따라 현상 노즐부(5)가 대기 위치로 되돌아가고, 개구부(16a)가 제1 노즐 아암(52)에 의해 막힌다. 그리고 컵 배기를 유지한 상태에서, 웨이퍼(W)를 회전시켜 현상액을 웨이퍼(W)의 표면 전체로 퍼지게 하여 현상 처리를 행하고, 더욱 웨이퍼(W)의 회전수를 상승시켜 현상액을 흩뿌린다.
이 때 도 13에 도시한 것과 같이, 각 노즐부(5, 6, 7)가 대기 위치에 위치하고 있기 때문에, 커버 부재(15)의 각 개구부(16a, 16b, 16c)는 각각 제1 노즐 아암(52), 제2 노즐 아암(62) 및 제3 노즐 아암(73)에 의해 막힌 상태로 되어 있다. 그 때문에 FFU(18)로부터 공급되는 다운플로우는 커버 부재(15) 및 각 노즐 아암(52, 62, 72)에 의해 가로막힌다.
이어서, 배기를 모듈 배기로 전환하여, 도 14에 도시한 것과 같이, 세정 노즐부(6)를 현상 노즐부(5)의 이동과 마찬가지로 상승시킴과 더불어 전진시킨다. 또한, 세정 노즐부(6)를 웨이퍼의 중심부 상측까지 이동시킨 후, 하강시켜, 세정 노즐(61a)의 높이를 맞춘다. 또한, 컵 배기로 전환하여, 웨이퍼(W)를 회전시키면서 세정액인 순수를 웨이퍼(W) 표면의 중심부를 포함하는 영역에 토출한다. 토출된 세정액은 웨이퍼(W)의 원심력의 작용에 의해 액면을 따라서 외측으로 퍼지고, 웨이퍼(W) 표면의 레지스트 용해 성분을 포함하는 현상액을 씻어버려, 웨이퍼(W)의 표면이 세정된다.
세정액의 토출 시작에서부터 미리 정해진 시간이 경과하면, 세정액의 공급을 정지하고, 가스 노즐(61b)이 처리 위치에 위치하도록 세정 노즐부(6)를 진퇴 이동시켜, 웨이퍼(W)의 중심부를 포함하는 영역에 건조 가스인 질소 가스를 공급한다. 이 건조 가스의 공급과 컵체(3) 내의 배기에 의해, 웨이퍼(W)의 중심부에서 주연부로 향하는 기류가 형성되고, 이 기류와 원심력의 작용에 의해, 웨이퍼(W)에 부착된 액은 웨이퍼(W)로부터 제거되어, 웨이퍼(W)가 건조된다.
더욱이, 웨이퍼(W)의 현상 처리가 종료되면, 도 15에 도시한 것과 같이, 배기를 모듈 배기로 전환하여 웨이퍼(W)를 반출한다. 그리고, 예컨대 각 노즐부(5, 6, 7)를 대기 위치에 위치시킨 상태에서 모듈 배기를 행한다. 웨이퍼(W)의 처리에 의해 각 노즐부(5, 6, 7)를 이동시켰기 때문에, 이동 기구, 승강 기구(59) 및 배선 규제 부재(8)에 파티클이 발생하고 있을 우려가 있지만, FFU(18)으로부터 공급되는 다운플로우가 커버 부재(15) 및 각 개구부(16a, 16b, 16c)를 막는 각 노즐 아암(52, 62, 72)에 의해 가로막히기 때문에, 파티클이 감겨져 올라가는 일은 없다. 또한, 커버 부재(15) 하측의 분위기가 제2 배기구(94)로부터 배기되기 때문에, 발생한 파티클이 제거된다.
이상의 설명은 현상 노즐부(5)를 이용하여 처리를 행하는 경우이지만, 상기한 로트와는 상이한 다른 로트의 기판에 대하여 다른 현상액을 공급하는 경우에는, 현상 노즐부(5) 대신에 보조 노즐부(7)를 이용하여 현상 처리를 행한다.
이 경우에도 웨이퍼(W)에 현상액을 공급할 때에는, 현상 노즐부(5)를 대기 위치에 위치시킨 상태에서 보조 노즐부(7)를 이동시키도록 함으로써, 커버 부재(15)의 개구부(16a, 16b, 16c)의 개방을 한정할 수 있다.
상술한 실시형태에 따르면, 수평으로 유지한 웨이퍼(W)에 각 노즐부(5, 6, 7)로부터 처리 유체를 공급하여 처리함에 있어서, 각 노즐부(5, 6, 7)를 웨이퍼(W)의 상측과 대기 위치 사이에서 이동시키는 이동 베이스(54, 64, 74) 및 가이드 레일(55, 65, 75)의 상측을 각 노즐부(5, 6, 7)를 이동시키기 위한 개구부(16a, 16b, 16c)가 형성된 커버 부재(15)로 덮고, 커버 부재(15) 하측의 구동 영역을 배기하도록 구성하고 있다. 또한, 각 노즐부(5, 6, 7)를 대기 위치에 위치시켰을 때 상기 개구부(16a, 16b, 16c)가 각각 각 노즐부(5, 6, 7)의 노즐 아암(52, 62, 72)에 의해 막히도록 구성하고 있다. 그 때문에 각 노즐부(5, 6, 7)의 이동 베이스(54, 64, 74)에서 발생하는 파티클이 웨이퍼(W)로 향하여 비산하지 않아, 웨이퍼(W) 에의 파티클의 부착을 억제할 수 있다.
또한, 개구부(16a, 16b, 16c)의 크기는, 노즐 아암(52, 62, 72)을 수납했을 때 근소한 간극이 있더라도 스핀 척(2)에 유지된 웨이퍼(W)로 향하여 커버 부재(15) 하측의 파티클이 유출되지 않는 크기면 된다. 이 개구부(16a, 16b, 16c)에 수납된 노즐 아암(52, 62, 72)과 상부판부(20)와의 간극의 폭은 예컨대 2∼7 mm의 범위면 된다.
또한, 각 노즐부(5, 6, 7)의 이동 베이스(54, 64, 74)를 컵체(3)의 상단보다 낮은 위치에 마련하고 있다. 파티클의 발생원이 되는 이동 베이스(54, 64, 74)의 위치가 높은 경우에는 FFU(18)에 가깝게 되기 때문에 기류의 영향을 받기 쉽고, 다운플로우에 의해 감겨 올라갈 우려가 크다. 그 때문에 이동 베이스(54, 64, 74), 가이드 레일(55, 65, 75) 및 배선 규제 부재(8)를 낮은 위치, 구체적으로는 컵체(3)의 상단보다 낮은 위치로 함으로써, 웨이퍼(W)에의 파티클의 부착을 억제할 수 있다.
또한, 본 발명은 전후 방향으로 신장하는 노즐 아암에 지지된 노즐을 케이스(10)의 좌우 방향으로 이동하도록 구성하여도 좋다. 예컨대 도 16에 도시한 것과 같이, 전후 방향으로 신장하는 노즐 아암(52a)의 선단에 현상액 노즐(51)을 마련하고, 노즐 아암(52a)의 후단을 지지 기둥(53)에 의해 지지한다. 그리고, 지지 기둥(53)을 좌우 방향으로 이동하도록 구성하여, 커버 부재(15) 하측에 현상액 노즐(51)을 컵체(3)의 상측과 컵체(3) 외부 대기 버스(79a) 사이에서 좌우 방향으로 이동시키는 이동 기구를 설치하고, 상부판부(20)에 좌우 방향으로 신장하는 개구부(16d)를 형성하면 된다. 또한 도면 중의 16e는 도시를 생략한 다른 노즐을 지지하는 지지 기둥이 배치되는 개구부이다.
이러한 구성에 있어서도 구동 영역의 상측을 커버 부재(15)로 덮고, 커버 부재(15)에 노즐이 이동하기 위한 개구부(16d)를 형성함으로써, 구동 영역에서 발생한 파티클의 컵체(3) 측으로의 비산을 억제할 수 있으므로 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명은 노즐은 1개라도 좋다. 또한, 상술한 실시형태에 나타낸 것과 같이 복수의 노즐을 설치한 구성으로 함에 있어서, 웨이퍼(W)에 처리 유체를 공급하는 노즐 이외의 노즐을 대기 위치에 위치시키도록 구성하여도 좋다. 노즐이 대기 위치로부터 이동하면, 그 노즐에 대응하는 개구부가 개방된다. 그 때문에 대기 위치로부터 동시에 이동하는 처리액 노즐을 한정함으로써, 많은 개구부가 동시에 개방되는 것을 막을 수 있다. 따라서, 커버 부재(15) 하측에서 발생한 파티클이 커버 부재(15)의 위쪽으로 감겨져 올라가 버릴 우려가 적어진다.
또한, 상술한 실시형태에 나타낸 것과 같이 노즐을 대기 위치에서 처리 위치로 이동시킬 때에는, 모듈 배기로 전환하도록 하여도 좋다. 이에 따라 노즐을 대기위치에서 처리 위치로 이동시킬 때에 커버 부재(15) 외부의 분위기가 개구부(16a, 16b, 16c)를 통해 구동 영역으로 흘러들어가는 기류를 형성할 수 있다. 그 때문에 구동 영역에 생긴 파티클의 컵체(3) 측으로의 유출을 보다 막을 수 있다.
이동 기구의 상측에 상부판부를 설치함과 더불어 상부판부의 스핀 척 측의 단부에 아래쪽으로 신장되는 격벽부를 설치하여도 좋다. 스핀 척(2)에 유지된 웨이퍼(W)에서 봤을 때, 상부판부의 아래쪽으로 이동 베이스(54, 64, 74)가 향하는 경우에는, 커버 부재의 하측에서 발생한 파티클이 상부판부의 스핀 척 측의 하측에서 스핀 척 측으로 유출되기 어렵게 된다. 그 때문에 격벽부를 설치함으로써 웨이퍼(W) 측으로의 파티클의 비산을 보다 억제할 수 있다.
혹은 노즐의 대기 위치를 낮게 하여 상부판부(20)를 낮게 하여도 좋다. 상부판부(20)를 낮게 배치함으로써, 격벽부(19)를 설치하지 않는 구성에 있어서도, 이동 기구나 승강 기구를 스핀 척(2)에 유지된 웨이퍼(W)가 향하는 위치로부터 벗어나게 할 수 있다. 그 때문에 이동 기구나 승강 기구에 발생하는 파티클의 웨이퍼(W) 측으로의 비산이 억제된다.
나아가서는 보조 노즐을 각각 세정액과 N2 가스를 토출하는 노즐로서 구성하고, 제2 노즐 및 제3 노즐을 동시에 웨이퍼(W)의 상측으로 이동시켜 세정 처리를 행하는 구성이라도 좋다. 이러한 구성에 있어서도, 제2 노즐 및 제3 노즐을 동시에 웨이퍼(W)의 상측으로 이동시킬 때에도 제1 노즐을 대기 위치에 대기시키도록 함으로써 개방되는 개구부를 적게 할 수 있기 때문에 효과를 얻을 수 있다.
더욱이, 상술한 실시형태에서는, 스핀 척(2)에 유지된 웨이퍼(W)의 측방 및 하측을 둘러쌈과 더불어 내부에 제1 배기구(39)가 개구된 컵체(3)를 마련하여, 제1 배기구(39)로부터 배기를 행하기 위한 배기 덕트(9)를 설치하고 있다. 또한, 상기 배기 덕트(9)에 있어서의, 컵체(3)와 케이스(10)에 형성한 웨이퍼(W)의 반입출구(11) 사이의 부위에 제2 배기구를 마련함과 더불어, 배기로에 배기를 제1 배기구(39)와 제2 배기구(94) 사이에서 전환하는 댐퍼(95)를 마련하고 있다. 그 때문에 반입출구(11)를 통해 케이스(10) 외부로의 파티클의 유출을 억제할 수 있다. 또한, 컵체(3)에서 봤을 때, 배기로가 노즐의 이동 기구가 마련되는 방향과 다른 방향으로 마련되기 때문에, 이동 기구의 높이 위치를 보다 낮게 할 수 있다. 따라서 보다 파티클의 비산 리스크가 작아진다.
또한, 이동 베이스(54, 64, 74)에 접속된 배선(80)의 움직임을 배선 규제 부재(8)에 의해 규제하여, 배선(80)과 처리 유체 공급관이 접촉하지 않게 구성하고 있지만, 배선 규제 부재(8)는 부재가 서로 닿기 때문에 파티클이 발생하기 쉽다. 그 때문에 배선 규제 부재(8)를 적용한 액처리 장치에 있어서, 배선 규제 부재(8)를 커버 부재(15)의 하측, 나아가서는 컵체(3)의 개구부(31)보다 하측에 배치함으로써, 배선 규제 부재(8)로부터 발생하는 파티클의 웨이퍼(W) 측으로의 비산을 억제할 수 있으므로 보다 효과가 크다.
또한, 본 발명은 레지스트 도포 장치나 세정 장치 등에 적용하여도 좋다. 또한, 현상액 등의 처리액을 공급하는 장치에 한하지 않고, 기판에 가스나 미스트 등의 처리 유체를 공급하는 장치라도 좋다. 혹은 기판에 증기를 공급하는 장치라도 좋다.
1: 현상 처리부, 2; 스핀 척, 3: 컵체, 5: 현상 노즐부, 6: 세정 노즐부, 7: 보조 노즐부, 8: 배선 규제 부재, 9: 배기 덕트, 15: 커버 부재, 16a∼16c: 개구부, 18: FFU, 38: 배기관, 39: 제1 배기구, 52, 62, 72: 노즐 아암, 54, 64, 74: 이동 베이스, 94: 제2 배기구, 95; 배기 댐퍼, W: 웨이퍼

Claims (9)

  1. 노즐로부터 기판에 처리액을 공급하여 액처리를 행하는 장치에 있어서,
    기판을 수평으로 유지하기 위한 기판 유지부를 둘러싸도록 마련되는 컵체와,
    전단부에 상기 노즐이 마련된 노즐 아암과,
    상기 노즐 아암을 지지하는 지지 기둥과,
    상기 컵체의 후방 측에 위치하는 대기 위치와 상기 노즐로부터 처리 유체를 기판에 공급하는 처리 위치 사이에서 상기 지지 기둥을 통해 노즐 아암을 이동시키는 이동 베이스와,
    상기 지지 기둥을 승강시키는 승강 기구와,
    상기 이동 베이스, 가이드 레일 및 승강 기구가 배치된 구동 영역의 상측에서 상기 구동 영역의 상측을 덮도록 마련되는 상부판부를 포함하고, 상기 구동 영역을 상기 컵체 내에서 기판이 유지되는 영역과 구획하기 위한 커버 부재와,
    상기 상부판부에 있어서의 상기 지지 기둥의 이동로에 대응하는 부위에 상기 지지 기둥이 이동할 수 있게 형성된 개구부와,
    상기 컵체 및 커버 부재를 향해 청정 기체의 다운플로우를 제공하는 FFU(Fan Filter Unit)를 포함하고,
    상기 노즐 아암은, 서로 독립하여 전후 방향으로 이동 가능하고 또한 승강 가능하게 구성된 복수의 노즐 아암으로서 구성되고,
    상기 복수의 노즐 아암을 각각 지지하는 복수의 지지 기둥은 서로 좌우 방향으로 배치되고,
    상기 복수의 노즐 아암에 각각 마련된 노즐은 서로 전후 방향으로 배치되고,
    상기 복수의 노즐 아암의 이동 베이스의 일부 및 가이드 레일은 지지 기둥보다도 좌우 방향으로 치우친 위치에 마련되고,
    상기 복수의 노즐 아암 중 가장 왼쪽에 위치하는 제1 노즐 아암에 관련된 이동 베이스의 일부 및 가이드 레일은, 지지 기둥보다도 왼쪽에 위치하고,
    상기 복수의 노즐 아암 중 가장 오른쪽에 위치하는 제2 노즐 아암에 관련된 이동 베이스의 일부 및 가이드 레일은, 지지 기둥보다도 오른쪽에 위치하고,
    평면에서 봤을 때, 상기 제2 노즐 아암에 관련된 지지 기둥, 이동 베이스 및 가이드 레일은, 제1 노즐 아암에 관련된 지지 기둥, 이동 베이스 및 가이드 레일과 좌우가 반전한 형상으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 구동 영역을 배기하는 배기 기구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 컵체를 둘러싸도록 마련되고, 상부 측의 공간과 하부 측의 공간을 구획하는 구획판을 포함하고,
    상기 커버 부재는 상기 구획판에 연속하여 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 노즐 아암의 각 노즐은 상기 기판 유지부의 중심부를 통과하는 직선 상에 나란히 마련되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  5. 제4항에 있어서, 복수의 노즐 내의 처리 유체를 기판에 공급하는 노즐이 대기 위치로부터 이동할 때에는, 다른 노즐이 대기 위치에 위치하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 노즐 아암의 측연부와 개구부의 가장자리 사이의 간극의 수평 방향의 치수는 7 mm 이내인 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이동 베이스에 접속되어, 이동 베이스 및 승강 기구를 구동시키기 위한 배선과,
    상기 배선에 있어서의 상기 이동 베이스에 접속되는 측을 일단 측으로 하면, 배선의 타단 측의 부위를 상기 이동 베이스가 이동했을 때에 정지하도록 고정하는 고정구와,
    관절부를 갖춘 장척형(長尺狀)으로 구성되며, 상기 이동 베이스의 이동에 따라서 굴곡되어, 상기 배선에 있어서의 일단 측의 접속 위치와 타단 측의 고정구에 고정되는 고정 위치 사이의 부위를 보호 안내하기 위한 배선 규제 부재를 포함하고,
    상기 배선 규제 부재는 상기 구동 영역에 있어서의 상기 컵체의 개구면의 높이 위치보다 낮은 높이 위치에 마련된 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이동 베이스, 상기 승강 기구 및 상기 컵체는 케이스에 둘러싸이고,
    상기 FFU는, 상기 케이스 내에 있어서의 상기 컵체의 상측에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  9. 삭제
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