KR102641469B1 - 고효율 형광 유세포 분석기를 사용하는 세포 선별 - Google Patents
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일 측면에서, 세포로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해 무선주파수에 의해 서로 편이된 적어도 2개의 광 주파수를 갖는 방사선으로 세포를 조명하는 단계, 시간적 형광 데이터를 생성시키기 위해 형광 방사선을 검출하는 단계, 및 형광 데이터를 기초로 하여 세포의 이미지(즉, 픽섹-대-픽셀 이미지)를 생성시키지 않으면서 세포에 관한 분류 결정에 도달하기 위해 시간적 형광 데이터를 처리하는 단계를 포함하는 유세포 분석 시스템에서 세포를 분류하는 방법이 개시된다. 다시 말해서, 형광 데이터가 픽셀-대-픽셀 형광 강도 맵을 생성할 수 있는 이미지 데이터를 함유할 수 있지만, 본 방법은 이러한 맵을 생성시키지 않으면서 분류 결정에 도달한다. 일부 경우에, 분류 결정은 약 100 마이크로초 미만의 지연시간으로 이루질 수 있다. 일부 구현예에서, 상기 세포를 분류하는 방법은 하위-세포 해상도를 가질 수 있으며, 예를 들어, 분류 결정은 세포의 성분의 특징을 기초로 할 수 있다. 2개 초과의 주파수-편이된 광 주파수가 사용되는 일부 구현예에서, 단일 무선주파수 편이는 광 주파수를 분리시키기 위해 사용되며, 다른 이러한 구현예에서, 복수의 상이한 무선주파수 편이가 사용된다.
Description
관련 출원
본 출원은 2016년 3월 17일에 출원되고 발명의 명칭이 "Cell Sorting Using A High Throughput Fluorescence flow cytometer"인 가출원번호 제62/309,806호를 우선권으로 주장하며, 이러한 출원은 전문이 본원에 참고로 포함된다.
정부 권리
본 발명은 국립 과학 재단(National Science Foundation)의 Grant No. NSF 1447381호에 의해 자금 지원된 것이다. 정부는 본 발명에서 특정 권리를 갖는다.
본 발명은 일반적으로, 예를 들어, 샘플의 형광 분석을 통해, 유세포 분석기를 통해 흐르는 입자의 특징을 결정하기 위한 디바이스 및 방법, 및 보다 특히, 예를 들어, 이의 특징을 기초로 하여, 입자를 분류하기 위한, 예를 들어, 유세포 분석기에서 세포를 분류하기 위한 디바이스 및 방법에 관한 것이다.
이종 집단으로부터 하위 집단 또는 심지어 단일 세포의 단리는 현대 생물학 및 생물의학에서 다양한 적용을 갖는다. 세포 하위 집단을 분리하기 위한 일부 통상적인 기술은 형광 활성화 세포 분류(FACS), 자성 활성화 세포 분류(MACS), 레이저 캡쳐 마이크로절제, 및 DEP 어레이 분류를 포함한다. 이러한 기술은 세포 분류 적용에서 일상적으로 사용되지만, 여러 단점을 나타낸다. 예를 들어, 세포 생물학의 모든 영역에 걸쳐 널리 사용되고 있는 FACS는 하위 세포 분해능이 부족하고, 이에 따라, 단지 세포의 파라미터의 평균을 기초로 하여 분류를 결정한다. 또한, 이미징 세포를 기초로 한 통상적인 분류 방법은 일반적으로 분류 결정을 내리는데 있어서 이의 높은 지연시간(latency)으로 인하여 고처리량 세포 분리 적용에서 사용할 수 없다.
이에 따라, 세포를, 예를 들어, 유세포 분석 시스템에서 분류하기 위한 개선된 방법 및 시스템이 요구되고 있다.
일 측면에서, 입자로부터 적어도 하나의 방사성 반응(radiative response)을 유발시키기 위해 입자가 유세포 분석 시스템(flow cytometry system)을 통해 흐를 때, 입자를 무선주파수-변조 광학 빔(radiofrequency-modulated optical beam)으로 조명하고, 입자로부터 방출하는 방사성 반응을 검출하여 방사성 반응과 관련된 시간적 파형 데이터(temporal waveform data)를 생성시키고, 파형 데이터를 처리하여 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치(estimate)를 획득하는 것을 포함하는, 입자의 특징을 결정하는 방법이 개시된다. 일부 구현예에서, 처리 단계는 파형 데이터를 기초로 한 입자의 이미지를 생성시키지 않으면서 수행된다. 일부 구현예에서, 방사성 반응은 형광 또는 산란된 방사선 중 어느 하나일 수 있다. 일부 구현예에서, 처리 단계는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하는 것과 관련된 지연시간이 약 100 마이크로초 이하, 예를 들어, 약 20 마이크로초 이하이도록 충분히 빠르다.
일부 구현예에서, 무선주파수-변조 광학 빔은 적어도 무선주파수에 의해 서로 분리된 적어도 2개의 광 주파수를 포함한다. 이러한 구현예에서, 처리 단계는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 결정하기 위해 상기 방사성 반응에서 검출된 적어도 하나의 무선주파수와 관련된 적어도 하나의 비트 주파수(beat frequency)를 분석하는 것을 포함할 수 있다.
상기 방법은 입자의 다양한 상이한 특징의 추정치를 결정하기 위해 사용될 수 있다. 일 예로서, 입자의 특징은 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기의 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화(co-localization), 방사성 반응의 점상화도(degree of punctateness), 입자로부터 방출된 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 입자의 위치 또는 배향의 측정치, 입자의 편심의 측정치, 기준 입자에 대한 입자의 유사성의 측정치, 입자의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 입자가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치 중 적어도 하나일 수 있다.
관련된 측면에서, 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치는 그러한 입자와 관련한 분류 결정에 도달하기 위해 사용될 수 있다.
관련된 측면에서, 입자로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해 입자가 유세포 분석 시스템을 통해 흐를 때 입자를 무선주파수에 의해 서로 편이된 적어도 2개의 광 주파수를 갖는 방사선으로 조명시키고,, 입자로부터 형광 방사선을 검출하여 시간적 형광 데이터를 생성시키고, 시간적 형광 데이터를 처리하여 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하는 것을 포함하는, 입자의 하나 이상의 특징을 결정하는 방법이 개시된다. 일부 구현예에서, 처리 단계는 시간적 형광 데이터를 기초로 한 형광 이미지를 생성시키지 않으면서 수행된다. 일부 구현예에서, 처리 단계는 입자의 적어도 하나의 특징의 상기 추정치를 획득하기 위해 시간적 형광 데이터를 변조하는 하나 이상의 비트 주파수를 분석하는 것을 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 처리 단계는 입자의 적어도 하나의 특징의 상기 추정치를 획득하는 것과 관련된 지연시간이 약 100 마이크로초 미만, 예를 들어, 약 20 마이크로초 미만이도록 충분히 빠르다.
일부 구현예에서, 결정된 특징은 입자의 내부 성분과 관련될 수 있다. 일부 구현예에서, 결정된 특징은 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기들의 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 형광 방사선의 점상화도, 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 입자의 위치 또는 배향의 측정치, 입자의 편심의 측정치, 기준 입자에 대한 입자의 유사성의 측정치, 입자의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 입자가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치 중 어느 하나일 수 있다.
일부 구현예에서, 입자를 조명하는 단계는 상기 빔렛(beamlet)이 입자 내에 적어도 2개의 공간적 위치를 조명하도록, 각각이 상기 적어도 2개의 광 주파수 중 하나를 갖는 적어도 2개의 빔렛을 포함하는 광학 방사선 빔에 입자를 노출시키는 것을 포함한다. 일부 구현예에서, 2개의 조명된 공간 위치는 부분적으로 중첩한다.
일부 구현예에서, 입자는 적어도 2개의 형광 마커로 염색될 수 있으며, 여기서, 각 마커는 광 주파수 중 하나를 갖는 방사선에 의한 조명에 반응하여 형광 방사선을 방출시키도록 구성된다. 이러한 구현예에서, 본 방법은 각각이 마커 중 하나에 상응하는, 시간적 형광 파형을 생성시키기 위해 이러한 마커로부터 방출된 형광 신호를 수집하고 디지털화하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 형광 파형은 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 처리될 수 있다. 일 예로서, 형광 파형의 처리는 파형 중 적어도 하나에 고역 또는 대역 통과 필터를 적용하여 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키고 이후에, 파형의 포인트별 곱(point-wise multiplication)을 수행하여 적어도 하나의 배수 파형(multiplicative waveform)을 생성시키고, 배수 파형을 적분하여 적분된 수치를 획득하고, 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하여 공-편재화의 측정치를 획득하는 것을 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 공-편재화의 측정치의 결정은 파형의 적어도 하나에 고역 또는 대역 통과 필터를 적용하여 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키고, 이후에, 파형의 포인트별 곱을 수행하여 얻어진 배수 파형을 생성시키고, 배수 파형을 적분하여 적분된 수치를 획득하고, 적분된 수치에서 백그라운드 수치를 빼고, 얻어진 수치를 강도로 스케일링하여 최종 수치를 생성시키고, 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하여 공-편재화의 측정치를 획득하는 것을 포함할 수 있다.
상기 방법의 일부 구현예에서, 처리 단계는 유세포 분석 시스템에서 입자 흐름 방향에 대해 실질적으로 수직 방향을 따라 입자의 측면 크기의 추정치를 획득하는 것을 포함한다.
상기 방법의 일부 구현예에서, 형광 파형은 파형을 제곱하고, 제곱된 파형에 대역 통과 필터를 적용하고, 필터링된 파형을 적분하고, 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교함으로써 입자의 측면 크기의 추정치를 획득하기 위해 사용된다.
일부 구현예에서, 유세포 분석기에서 입자 흐름 방향과 평행한 방향의 입자 크기의 추정치는 조명 단계에 반응하여 입자로부터 방출되는 형광 방사선의 펄스의 시간적 기간을 기초로 하여 획득될 수 있다.
일부 구현예에서, 입자 흐름 방향에 대해 수직 방향 및 평행한 방향에서의 입자 크기의 추정치는 입자의 종횡비의 추정치를 획득하기 위해 사용될 수 있다.
상기 방법은 다양한 상이한 입자에 적용될 수 있다. 일 예로서, 입자는 임의의 세포, 작은 유기체(예를 들어, 선충류 c. 엘레건), 비드, 마이크로입자, 나노입자, 바이러스 입자, 박테리아, 엑소좀, 또는 약제 제품일 수 있다. 일부 구현예에서, 입자는 포유류 세포, 예를 들어, 질병에 걸린 세포일 수 있다.
관련된 측면에서, 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치는 하기에서 상세히 논의되는 바와 같이, 그러한 입자와 관련하여 분류 결정에 도달하기 위해 사용될 수 있다.
관련된 측면에서, 입자로부터 형광 및 산란된 방사선 중 어느 하나를 유발시키기 위해 무선주파수-변조 광학 빔을 입자에 조명하고, 입자로부터 방출하는 형광 또는 산란된 방사선을 검출하여 시간적 형광 또는 산란 파형 데이터를 생성시키고, 형광 및 산란 데이터 중 어느 하나를 처리하여 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하는 것을 포함하는, 입자의 특징을 결정하는 방법이 개시된다. 일부 구현예에서, 처리 단계는 시간적 형광 또는 산란 파형 데이터를 기초로 하여 입자의 이미지를 생성시키지 않으면서 형성될 수 있다. 일부 이러한 구현예에서, 처리 단계는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하는 것과 관련된 지연시간이 약 100 마이크로초 미만, 예를 들어, 약 20 마이크로초 미만이도록 충분히 빠르다.
상기 방법의 일부 구현예에서, 입자의 특징은 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기들의 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 형광 방사선의 점상화도, 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 입자의 위치 또는 배향의 측정치, 입자의 편심의 측정치, 기준 입자에 대한 입자의 유사성의 측정치, 입자의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 입자가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 입자로부터 방출된 형광 및 산란된 방사선 둘 모두는 형광 및 산란 파형 데이터를 생성시키기 위해 검출될 수 있다. 형광 데이터는 입자 흐름 방향에 대해 실질적으로 수직 방향에서 입자의 측면 크기(lateral size)의 추정치를 획득하기 위해 사용될 수 있으며, 산란 파형 데이터는 상기 유세포 분석 시스템에서 입자 흐름의 방향과 평행한 방향에서 입자의 크기의 추정치를 획득하기 위해 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치는 입자가 유세포 분석기를 통해 흐를 때, 그러한 입자에 대해 분류 결정에 도달하기 위해 사용될 수 있다.
관련된 측면에서, 유세포 분석기에 복수의 입자를 함유한 샘플을 도입하고, 하나 이상의 유세포 분석기 측정으로부터 상기 복수의 입자에 대한 적어도 하나의 입자 특징의 추정치를 획득하되, 여기서, 상기 획득 단계가 입자로부터 방사성 반응을 유발시키기 위해, 입자가 유세포 분석기를 통해 흐를 때, 입자를 무선주파수, 예를 들어, 약 50 MHz 내지 약 250 MHz 범위의 무선주파수에 의해 서로 편이된 적어도 2개의 광 주파수를 갖는 방사선으로 조명하는 것을 포함하고, 입자로부터 방사성 반응을 검출하여 반응과 관련된 시간적 파형 데이터를 생성시키는 것을 포함하는, 컴퓨터-보조 유세포 분석을 수행하는 방법이 개시된다. 본 방법은 상기 시간적 파형 데이터를 변조시키는 하나 이상의 비트 주파수를 분석하고 컴퓨터 프로세서를 통해 사전규정된 범위 내의 상기 입자 특징의 수치를 갖는 상기 입자들 중 하나 이상의 게이트 지표(gate indicative)를 확인함으로써, 상기에 논의된 것과 같은, 상기 적어도 하나의 입자 특징의 수치를 획득하기 위해 시간적 파형 데이터를 처리하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 일 예로서, 방사성 반응은 임의의 형광, 산란된, 또는 투과된 방사선일 수 있다.
일 측면에서, 세포로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해 무선주파수에 의해 서로 편이된 적어도 2개의 광 주파수를 갖는 방사선을 세포에 조명하고, 형광 방사선을 검출하여 시간적 형광 데이터를 생성시키고, 시간적 형광 데이터를 처리하여 세포에 관한 분류 결정을 도달하는 것을 포함하는, 유세포 분석 시스템에서 세포를 분류하는 방법이 개시된다. 일부 구현예에서, 분류 결정은 형광 데이터를 기초로 한 세포의 이미지(즉, 픽셀-대-픽셀 이미지)를 생성시키지 않으면서 이루어질 수 있다. 다시 말해서, 형광 데이터가 픽셀-대-픽셀 형광 강도 맵을 생성시킬 수 있는 이미지 데이터를 함유할 수 있지만, 본 방법은 이러한 맵을 생성시키지 않으면서 분류 결정에 도달한다. 일부 경우에, 분류 결정은 약 100 마이크로초 미만의 지연시간으로 이루어질 수 있다. 일부 구현예에서, 상기 세포를 분류하는 방법은 하위 세포 분해능을 가질 수 있으며, 예를 들어, 분류 결정은 세포의 성분의 특징을 기초로 할 수 있다. 2개 초과의 주파수-편이 광 주파수가 사용되는 일부 구현예에서, 단일 무선주파수 편이는 광 주파수를 분리시키기 위해 사용되며, 다른 이러한 구현예에서, 복수의 상이한 편이가 이용된다.
처리 단계를 분류 결정에 도달하기 위해 형광 데이터를 변조시키는 하나 이상의 비트 주파수를 분석하는 것을 포함할 수 있다. 비트 주파수는 무선-주파수 편이 광 주파수의 주파수들 간의 차이에 해당할 수 있다. 예를 들어, 광학 빔이 조명된 세포에서 간섭하고 무선주파수에 의해 분리된 2개의 광 주파수를 갖는 2개의 빔렛을 포함할 때, 비트 주파수는 광 주파수 간의 차이에 해당한다. 비트 주파수는 통상적으로, 약 1 MHz 내지 약 250 MHz의 주파수 범위이다.
일부 구현예에서, 처리 단계는 세포의 특징의 추정치를 획득하기 위해 형광 데이터에서 작동하고 그러한 추정치를 기초로 하여 분류 결정을 이루는 것을 포함할 수 있다. 세포의 다양한 상이한 특징이 사용될 수 있다. 예를 들어, 세포의 특징은 세포 성분의 특징, 및/또는 세포 또는 이의 성분이 여기 방사선에 반응하는 방식에 관한 것일 수 있다. 일 예로서, 세포 특징은 세포의 내부 기관, 예를 들어, 이의 핵의 크기와 관련될 수 있다. 사용될 수 있는 세포 특징의 일부 예는 세포 크기, 상이한 치수에 따른 세포의 크기들의 비율, 세포와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 세포의 핵에 대한 세포의 세포질의 크기의 비율, 세포로부터 방출된 형광 방사선의 점상화도, 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 세포의 위치 및/또는 배향의 측정치, 세포의 편심의 측정치, 기준 세포에 대한 세포의 유사성의 측정치, 세포의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 세포가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치를 포함하지만, 이로 제한되지 않는다. 본 교시가 열거된 특징으로 제한되지 않고, 세포의 임의의 적합한 특징과 관련하여 사용될 수 있다는 것이 이해되어야 한다.
일부 구현예에서, 처리 단계는 분류 결정에 도달하는 것과 관련된 지연시간이 약 100 마이크로초 미만, 예를 들어, 약 10 마이크로초 내지 약 100 마이크로초의 범위, 또는 약 20 마이크로초 내지 약 80 마이크로초의 범위, 또는 약 30 마이크로초 내지 약 50 마이크로초의 범위이도록 충분히 빠르다.
일부 구현예에서, 광학 빔은 세포 내의 복수의 공간적 위치 각각에 조명되는 광 주파수가 무선 주파수-편이 광 주파수 중 상이한 하나에 상응하도록 구성된다. 일 예로서, 일부 구현예에서, 광학 빔은 각각이 서로에 대해 무선주파수 편이를 갖는 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛을 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 세포는 적어도 2개의 형광 마커로 염색될 수 있으며, 광학 방사선은 그러한 마커로부터 형광 방사선을 유발시키도록 구성된다. 형광 방사선은 각각이 마커 중 하나에 상응하는 시간적 형광 파형(즉, 시간에 따른 형광 강도를 나타내는 파형)을 생성시키기 위해 수집되고 디지털화될 수 있다. 처리 단계는 파형에 대해 작동하여 형광 마커에 상응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하고 공-편재화 추정치를 기초로 하여 분류 결정을 이루는 것을 포함한다. 특히, 본 방법은 파형 중 적어도 하나에 고역 또는 대역 통과 필터를 적용하여 적어도 하나의 적분된 파형을 생성시키고 이후에 파형의 포인트별 곱을 수행하여 얻어진 배수 파형을 생성시키고, 배수 파형을 적분하여 적분된 수치를 획득하고, 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하여 공-편재화의 측정치를 획득하는 것을 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 공-편재화의 측정치의 결정은 파형 중 적어도 하나에 고역 또는 대역 통과 필터를 적용하여 적어도 하나의 적분된 파형을 생성시키고, 이후에 파형의 포인트별 곱을 수행하여 얻어진 배수 파형을 생성시키고, 배수 파형을 적분하여 적분된 수치를 획득하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 얻어진 수치를 강도에 의해 스케일링하여 최종 수치를 생성시키고, 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하여 공-편재화의 측정치를 획득하는 것을 포함할 수 있다. 공-편재화의 측정치는 세포에 대해 분류 결정에 도달하기 위해 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 처리 단계는 형광 데이터에 대해 작동하여 세포의 크기의 추정치를 획득하고, 추정된 세포 크기를 기초로 하여 분류 결정을 이루는 것을 포함한다. 일 예로서, 형광 데이터는 유세포 분석 시스템에서 세포 흐름의 방향의(즉, 세포 흐름의 방향과 실질적으로 평행한 방향을 따라) 세포 크기의 추정치, 또는 세포의 측면 크기(예를 들어, 세포 흐름의 방향에 대해 수직 방향으로)의 추정치를 획득하기 위해 분석될 수 있다. 일부 이러한 구현예에서, 세포 흐름의 방향에서의 세포 크기는 세포에 의해 방출된 형광 방사선의 펄스의 시간적 기간을 기초로 하여 추정될 수 있다. 또한, 세포의 측면 크기의 추정치는 검출된 형광 데이터를 제곱하고, 대역 통과 필터를 제곱된 형광 데이터에 적용하고, 필터링된 데이터를 적분하고, 필터링된 데이터를 사전규정된 문턱값과 비교함으로써 획득될 수 있다. 일부 경우에, 처리 단계는 형광 데이터에 대해 작동하여 2개의 상이한 치수를 따라 세포 크기의 비율을 획득하고, 그러한 비율을 이용하여 분류 결정을 이루는 것을 포함한다.
일부 구현예에서, 세포는 2개의 형광 마커로 표지되며, 이들 중 하나는 세포막에 결합되며, 다른 하나는 세포 핵에 결합된다. 세포에 적용된 광학 방사선은 두 마커 모두로부터 형광을 유발시키도록 구성된다. 두 마커 모두에 의해 방출된 형광 신호는 2개의 상이한 채널에서 검출되고, 분석되어 핵의 크기에 대한 세포질의 크기의 비율의 추정치를 획득한다. 그러한 세포와 관련한 분류 결정은 그러한 비율을 기초로 하여 이루어진다.
일부 구현예에서, 본 방법은 형광 데이터의 푸리에 변환을 획득하고 세포로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해 사용되는 광학 방사선을 변조시키기 위해 사용되는 무선주파수와는 다른 변환에서 주파수를 결정하는 것을 포함한다. 그러한 상이한 주파수에서 푸리에 변환 수치를 총합이 획득되고, 분류 결정을 이루기 위해 사전규정된 문턱값과 비교될 수 있다. 일 예로서, 상이한 주파수는 광학 방사선을 변조하기 위해 사용되는 그러한 주파수들 간의 하나 이상의 주파수일 수 있다.
관련된 측면에서, 세포로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해, 하나 이상의 무선주파수에 의해 서로 편이된 둘 이상의 광학 주파수를 갖는 방사선을 세포에 조명하고, 형광 방사선을 검출하여 시간적 형광 데이터를 생성시키고, 시간적 형광 데이터를 처리하여 약 100 마이크로초 이하의 지연시간으로 세포와 관련하여 분류 결정에 도달하기는 것을 포함하는, 유세포 분석 시스템에서 세포를 분류하는 방법이 개시된다. 일 예로서, 분류 결정은 약 10 마이크로초 내지 약 100 마이크로초의 범위, 또는 약 20 마이크로초 내지 약 80 마이크로초의 범위, 또는 약 30 마이크로초 내지 약 50 마이크로초의 범위의 지연시간으로 이루어질 수 있다.
상기 방법에서, 처리 단계는 형광 데이터에 대해 작동하여 세포의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하고 그러한 추정치를 기초로 한 분류 결정을 이루는 것을 포함할 수 있다. 또한, 처리 단계는 분류 결정에 도달하기 위해 광학 방사선의 광 주파수의 간섭과 관련된 하나 이상의 비트 주파수에서 형광 데이터의 변조를 분석하는 것을 포함할 수 있다.
다른 측면에서, 형광단(들)으로부터 형광단 방사선을 유발시키기 위해, 무선주파수-변조 광학 방사선을 세포 각각에 조명하도록 초 당 약 1000개 세포 초과의 속도로 소정 시간에 광학 송신 영역에, 각각이 적어도 하나의 형광단과 관련된 복수의 세포를 도입하는 것을 포함하는, 유세포 분석 시스템에서 세포를 분류시키는 방법이 개시된다. 각 세포에 대하여, 세포로부터 방출된 형광 방사선은 시간-주파수 파형을 생성시키기 위해 검출되며, 파형은 세포와 관련된 분류 결정에 도달하기 위해 처리된다. 본 방법은 세포를 그러한 분류 결정을 기초로 한 복수의 용기들 중 하나에 유도하는 것을 추가로 포함할 수 있다.
다른 측면에서, 입자로부터 임의의 형광 및 산란된 방사선을 유발시키기 위해 무선주파수-변조 광학 빔을 입자에 조명하고, 입자로부터 방출하는 형광 또는 산란된(또는 투과된) 방사선을 검출하여 형광 또는 산란(또는 투과) 파형 데이터를 생성시키고, 임의의 형광 및 산란(또는 투과) 데이터를 처리하여 데이터를 기초로 하여 입자의 이미지(즉, 픽셀-대-픽셀 형광 또는 산란된(또는 투과된) 강도 맵)를 계산하지 않으면서 입자와 관련하여 분류 결정을 이루는 것을 포함하는, 입자(예를 들어, 생물학적 입자, 예를 들어, 세포)를 분류하는 방법이 개시된다. 광학 빔은 예를 들어, 레이저 빔일 수 있다. 또한, 광학 빔은 일부 구현예에서, 약 300 THz 내지 약 1000 THz 범위의 광 주파수를 가질 수 있다. 일 예로서, 일부 구현예에서, 광학 빔의 무선주파수 변조는 빔을 약 50 MHz 내지 약 250 MHz 범위, 예를 들어, 약 100 MHz 내지 약 200 MHz 범위의 무선주파수에서 변조함으로써 달성될 수 있다. 또한, 일부 구현예에서, 무선주파수-변조 광학 빔은 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛을 포함할 수 있으며, 이들 각각은 서로 무선주파수 편이를 갖는다. 상기 방법에서, 처리 단계는 분류 결정에 도달하기 위해 임의의 형광 또는 산란된 방사선에서 검출된 하나 이상의 비트 주파수를 분석하는 것을 포함할 수 있다. 비트 주파수는 입자(예를 들어, 세포)를 조명하는 광학 방사선의 광 주파수에 상응할 수 있다.
관련된 측면에서, 무선주파수-변조 광학 방사선을 입자에 조명하기 위한 조명 시스템, 형광 또는 산란 데이터를 생성시키기 위해 상기 조명에 반응하여 입자로부터 방출하는 임의의 형광 및 산란된 방사선을 검출하기 위한 검출 시스템, 및 상기 형광 및 산란 데이터를 수용하고 상기 데이터를 처리하여 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 계산하기 위한 상기 검출 시스템과 소통하는 분석 모듈을 포함하는, 입자의 특징을 결정하기 위한 시스템이 개시된다. 일부 구현예에서, 분석 모듈은 상기 형광 또는 산란 데이터를 기초로 한 입자의 이미지를 형성하지 않으면서 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 계산할 수 있다. 일 예로서, 입자의 적어도 하나의 특징은 임의의 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기의 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 입자로부터 방출된 형광 방사선의 점상화도, 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 입자의 위치 또는 배향의 측정치, 입자의 편심의 측정치, 기준 입자에 대한 입자의 유사성의 측정치, 입자의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 입자가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치를 포함할 수 있다.
상기 시스템은 다양한 상이한 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하기 위해 사용될 수 있다. 일 예로서, 입자는 임의의 세포, 미세소포, 세포 단편, 리포솜, 비드, 및 작은 유기체일 수 있다. 일부 구현예에서, 입자는 세포이며, 결정된 특징은 세포의 세포질 및 핵의 크기의 비율이다.
상기 시스템의 일부 구현예에서, 조명 시스템은 적어도 하나의 무선주파수에 의해 서로 분리된 광 주파수를 갖는 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛을 포함하는 광학 빔을 포함할 수 있다. 일부의 이러한 구현예에서, 조명 시스템은 레이저 빔을 발생시키기 위한 소스, 상기 레이저 빔을 수용하기 위한 단일 음향 광학 디플렉터(AOD), 및 상기 수용된 레이저 빔을 상기 복수의 각도로 분리된 빔렛을 회절시키기 위해 복수의 RF 구동 신호를 상기 AOD에 적용하기 위한 무선주파수(RF) 콤 발생기를 포함할 수 있다.
다른 측면에서, 무선주파수-변조 방사서늘 입자에 조명하기 위한 조명 시스템, 형광 또는 산란 데이터(또는 투과된 데이터)를 생성시키기 위해 조명에 반응하여 입자로부터 방출하는 임의의 형광 및 산란된(또는 투과된) 방사선을 검출하기 위한 검출 시스템, 형광 및/또는 산란(또는 투과) 데이터를 수용하고 형광 및/또는 산란(또는 투과) 데이터를 기초로 하여 입자의 이미지를 형성하지 않으면서 입자와 관련하여 분류 결정에 도달하기 위해 데이터를 처리하기 위한 검출 시스템과 소통하는 분석 모듈, 및 필요한 경우에, 상기 분류 결정을 기초로 하여 용기를 분리하기 위해, 이의 흐름 경로로부터 입자를 전환시킬 수 있는 구동기를 포함하는, 입자(예를 들어, 생물학적 입자)를 분류하기 위한 시스템이 개시된다. 일부 구현예에서, 무선주파수-변조 방사선은 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛으로 이루어진 광학 빔의 형태를 가질 수 있으며, 이들 각각은 다른 것에 대한 무선주파수 편이를 갖는다.
본 발명의 다양한 양태의 추가 이해는 하기에서 단순하게 기술되는, 첨부된 도면과 함께 하기 상세한 설명을 참조로 하여 얻어질 수 있다.
도 1은 본 발명의 구현예에 따른 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2a는 빔의 전파 방향에 대해 수직인 면에서의 가우시안 빔의 개략적, 예시적인 프로파일이다.
도 2b는 톱햇 빔 셰이퍼(top-hat beam shaper)를 통해 도 2a에 도시된 가우시안 빔을 진행시키고 빔 셰이퍼의 출력 빔을 포커싱함으로써 얻어진 개략적, 톱햇 빔 프로파일이다.
도 3은 예시적인 톱햇 빔 셰이퍼의 구성성분을 개략적으로 도시한 것이다.
도 4는 복수의 RF 콤 빔(comb beam)의 단면 빔 프로파일을 개략적으로 도시한 것이다.
도 5는 도 4에 도시된 RF 콤 빔 및 톱햇 빔 프로파일을 갖는 LO 빔의 중첩을 개략적으로 도시한 것이다.
도 6은 분석 중인 샘플을 조명하는 도 5에 도시된 결합된 빔을 개략적으로 도시한 것이다.
도 7은 가상 형광단의 예시적인 에너지 레벨을 개략적으로 도시한 것이다.
도 8은 도 7의 가상 형광단에 해당하는 흡수 곡선을 개략적으로 도시한 것이다.
도 9a는 형광 방사선의 전송을 위한 광섬유를 포함하는, 본 교시의 일 구현예에 따른 검출 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 9b는 형광 방사선이 복수의 광검출기에 도달하기 위해 자유 공간을 통해 전파하는, 본 교시의 일 구현예에 따른 다른 검출 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 9c는 본 교시의 일부 구현예에서 사용하기 위한 명시야 및 암시야 이미지 생성 아암을 개략적으로 도시한 것이다.
도 9d는 명시야 이미지를 생성시키기 위한 검출 아암, 및 샘플로부터 산란된 여기 방사선뿐만 아니라 샘플에 의해 방출된 형광 방사선의 검출을 위한 능력을 통합하는 검출 아암을 포함하는, 본 교시의 일부 구현예에서 사용하기 위한 검출 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 10은 본 발명에 따른 시스템의 일 구현예에서 광검출기에 의해 생성된 형광 신호가 증폭기에 의해 증폭될 수 있으며 증폭된 신호가 분석 중인 샘플의 형광 이미지를 구성하기 위해 분석 모듈에 의해 분석될 수 있음을 개략적으로 도시한 것이다.
도 11a 및 도 11b는 샘플에 복수의 RF 콤 빔 및 톱햇 프로파일링된 LO 빔으로 이루어진 결합된 빔을 조명함으로써 얻어진 형광 신호의 분석을 위한 본 발명의 일 구현예에 따른 방법에서의 다양한 단계를 도시한 것이다.
도 12는 본 발명의 일 구현예에 따른 분석 모듈의 예시적인 하드웨어 실행의 선택된 구성성분을 개략적으로 도시한 것이다.
도 13a 및 도 13b는 샘플에 복수의 RF 콤 빔 및 톱햇 프로파일링된 LO 빔으로 이루어진 결합된 빔을 조명함으로써 얻어진 형광 신호의 분석을 위한 본 발명의 일 구현예에 따른 다른 방법에서의 다양한 단계를 도시한 것이다.
도 14a 및 도 14b는 샘플에 복수의 RF 콤 빔 및 톱햇 프로파일링된 LO 빔으로 이루어진 결합된 빔을 조명함으로써 얻어진 형광 신호의 분석을 위한 본 발명의 일 구현예에 따른 또 다른 방법에서의 다양한 단계를 도시한 것이다.
도 15a는 단일 여기 주파수에서 톱햇 프로파일링된 빔에 의한 샘플의 조명을 개략적으로 도시한 것이다.
도 15b는 형광 수명 측정 및 형광 수명 이미징을 허용하는 본 교시의 일 구현예에 따른 시스템의 개략도이다.
도 16a는 유세포 분석 시스템을 통해 흐르는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 결정하기 위한 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 16b는 유세포 분석 시스템을 통해 흐르는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 결정하기 위한 일 구현예에 따른 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 16aa는 하나 이상의 입자 특징의 수치를 기초로 하여 유세포 분석 시스템에서 입자를 게이팅하기 위한 일 구현예에 따른 방법에서 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 16c는 둘 이상의 상이한 주파수 채널에서, 입자, 예를 들어, 세포로부터 방출된 형광 방사선의 공-편재화를 기초로 하여 분류 결정을 만들기 위한 일 구현예에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 17은 도 16의 순서도에 도시된 방법에서 사용되는 이의 생성물 및 2개의 채널에 해당하는 가상 형광 시간-주파수 파형을 개략적으로 도시한 것이다.
도 18a는 명시야, 암시야 이미지뿐만 아니라, 녹색 염료 및 적색 염료로 세포를 마킹함으로써 얻어진 녹색 및 적색 형광 이미지를 포함하는, A, B, C, 및 D로서 표지된 4개의 세포의 형광 이미지를 도시한 것이다.
도 18b는 도 18a에 도시된 세포에 대한 측정된 녹색 형광 시간-도메인 신호를 도시한 것이다.
도 18c는 도 18a에 도시된 세포에 대한 측정된 적색 형광 시간-도메인 신호를 도시한 것이다.
도 18d는 도 18b 및 도 18c에 도시된 정규화된 적색 및 녹색 형광 파형을 곱하고 저역 통과 필터를 통해 얻어진 파형을 진행시킴으로써 얻어진 각 세포에 대한, 공-편재화 시간-도메인 파형을 도시한 것이다.
도 19는 각 세포 A, B, C, 및 D에 대한 적분된 필터링된 신호의 수치를 도시한 것이다(이러한 도면에서 파선은 분류 문턱값을 나타낸 것이다).
도 20은 본 발명의 일 구현예에 따른 세포 크기를 기초로 한 세포 분류에서 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 21a는 복수의 무선주파수-변조 빔렛을 포함하는 가상 빔에 의해 조명된 가상 세포를 개략적으로 도시한 것이다.
도 21b는 형광 파형을 제곱함으로써 얻어진 파형뿐만 아니라 도 21a에 도시된 조명된 세포로부터 얻어진 가상 형광 파형을 개략적으로 도시한 것이다.
도 22는 세포의 종횡비를 기초로 하여 세포를 분류하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 23a는 세포 핵 및 세포의 세포질의 크기의 비를 추정하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 23b는 세포 핵 및 세포의 세포질의 크기의 비를 추정하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 24a는 세포로부터 방출된 형광 방사선의 세포 입상도를 추정하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 24b는 세포로부터 방출된 형광 방사선의 세포 입상도를 추정하는 것을 기초로 하여 세포를 분류하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 25는 세포로부터 형광 방사선을 유발시키기 위한 도 24의 순서도에 기술된 방법에서 사용된 광학 빔을 변조하기 위해 사용된 변조 주파수를 개략적으로 도시한 것이다.
도 26은 세포를 분류하기 위한 본 교시를 도입한 분류 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 27은 도 26의 시스템에서 사용된 분석/제어 모듈의 예시적인 실행을 개략적으로 도시한 것이다.
도 28은 일 구현예에 따라 입자의 특징을 결정하고 분류 결정을 만들기 위해 그러한 특징을 이용하기 위한 예시적인 방법에서 다양한 단계를 도시한 흐름이다.
도 29는 복수의 세포에 대한 수평 및 수직 2차 중심 모멘트의 산점도이다.
도 2a는 빔의 전파 방향에 대해 수직인 면에서의 가우시안 빔의 개략적, 예시적인 프로파일이다.
도 2b는 톱햇 빔 셰이퍼(top-hat beam shaper)를 통해 도 2a에 도시된 가우시안 빔을 진행시키고 빔 셰이퍼의 출력 빔을 포커싱함으로써 얻어진 개략적, 톱햇 빔 프로파일이다.
도 3은 예시적인 톱햇 빔 셰이퍼의 구성성분을 개략적으로 도시한 것이다.
도 4는 복수의 RF 콤 빔(comb beam)의 단면 빔 프로파일을 개략적으로 도시한 것이다.
도 5는 도 4에 도시된 RF 콤 빔 및 톱햇 빔 프로파일을 갖는 LO 빔의 중첩을 개략적으로 도시한 것이다.
도 6은 분석 중인 샘플을 조명하는 도 5에 도시된 결합된 빔을 개략적으로 도시한 것이다.
도 7은 가상 형광단의 예시적인 에너지 레벨을 개략적으로 도시한 것이다.
도 8은 도 7의 가상 형광단에 해당하는 흡수 곡선을 개략적으로 도시한 것이다.
도 9a는 형광 방사선의 전송을 위한 광섬유를 포함하는, 본 교시의 일 구현예에 따른 검출 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 9b는 형광 방사선이 복수의 광검출기에 도달하기 위해 자유 공간을 통해 전파하는, 본 교시의 일 구현예에 따른 다른 검출 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 9c는 본 교시의 일부 구현예에서 사용하기 위한 명시야 및 암시야 이미지 생성 아암을 개략적으로 도시한 것이다.
도 9d는 명시야 이미지를 생성시키기 위한 검출 아암, 및 샘플로부터 산란된 여기 방사선뿐만 아니라 샘플에 의해 방출된 형광 방사선의 검출을 위한 능력을 통합하는 검출 아암을 포함하는, 본 교시의 일부 구현예에서 사용하기 위한 검출 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 10은 본 발명에 따른 시스템의 일 구현예에서 광검출기에 의해 생성된 형광 신호가 증폭기에 의해 증폭될 수 있으며 증폭된 신호가 분석 중인 샘플의 형광 이미지를 구성하기 위해 분석 모듈에 의해 분석될 수 있음을 개략적으로 도시한 것이다.
도 11a 및 도 11b는 샘플에 복수의 RF 콤 빔 및 톱햇 프로파일링된 LO 빔으로 이루어진 결합된 빔을 조명함으로써 얻어진 형광 신호의 분석을 위한 본 발명의 일 구현예에 따른 방법에서의 다양한 단계를 도시한 것이다.
도 12는 본 발명의 일 구현예에 따른 분석 모듈의 예시적인 하드웨어 실행의 선택된 구성성분을 개략적으로 도시한 것이다.
도 13a 및 도 13b는 샘플에 복수의 RF 콤 빔 및 톱햇 프로파일링된 LO 빔으로 이루어진 결합된 빔을 조명함으로써 얻어진 형광 신호의 분석을 위한 본 발명의 일 구현예에 따른 다른 방법에서의 다양한 단계를 도시한 것이다.
도 14a 및 도 14b는 샘플에 복수의 RF 콤 빔 및 톱햇 프로파일링된 LO 빔으로 이루어진 결합된 빔을 조명함으로써 얻어진 형광 신호의 분석을 위한 본 발명의 일 구현예에 따른 또 다른 방법에서의 다양한 단계를 도시한 것이다.
도 15a는 단일 여기 주파수에서 톱햇 프로파일링된 빔에 의한 샘플의 조명을 개략적으로 도시한 것이다.
도 15b는 형광 수명 측정 및 형광 수명 이미징을 허용하는 본 교시의 일 구현예에 따른 시스템의 개략도이다.
도 16a는 유세포 분석 시스템을 통해 흐르는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 결정하기 위한 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 16b는 유세포 분석 시스템을 통해 흐르는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 결정하기 위한 일 구현예에 따른 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 16aa는 하나 이상의 입자 특징의 수치를 기초로 하여 유세포 분석 시스템에서 입자를 게이팅하기 위한 일 구현예에 따른 방법에서 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 16c는 둘 이상의 상이한 주파수 채널에서, 입자, 예를 들어, 세포로부터 방출된 형광 방사선의 공-편재화를 기초로 하여 분류 결정을 만들기 위한 일 구현예에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 17은 도 16의 순서도에 도시된 방법에서 사용되는 이의 생성물 및 2개의 채널에 해당하는 가상 형광 시간-주파수 파형을 개략적으로 도시한 것이다.
도 18a는 명시야, 암시야 이미지뿐만 아니라, 녹색 염료 및 적색 염료로 세포를 마킹함으로써 얻어진 녹색 및 적색 형광 이미지를 포함하는, A, B, C, 및 D로서 표지된 4개의 세포의 형광 이미지를 도시한 것이다.
도 18b는 도 18a에 도시된 세포에 대한 측정된 녹색 형광 시간-도메인 신호를 도시한 것이다.
도 18c는 도 18a에 도시된 세포에 대한 측정된 적색 형광 시간-도메인 신호를 도시한 것이다.
도 18d는 도 18b 및 도 18c에 도시된 정규화된 적색 및 녹색 형광 파형을 곱하고 저역 통과 필터를 통해 얻어진 파형을 진행시킴으로써 얻어진 각 세포에 대한, 공-편재화 시간-도메인 파형을 도시한 것이다.
도 19는 각 세포 A, B, C, 및 D에 대한 적분된 필터링된 신호의 수치를 도시한 것이다(이러한 도면에서 파선은 분류 문턱값을 나타낸 것이다).
도 20은 본 발명의 일 구현예에 따른 세포 크기를 기초로 한 세포 분류에서 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 21a는 복수의 무선주파수-변조 빔렛을 포함하는 가상 빔에 의해 조명된 가상 세포를 개략적으로 도시한 것이다.
도 21b는 형광 파형을 제곱함으로써 얻어진 파형뿐만 아니라 도 21a에 도시된 조명된 세포로부터 얻어진 가상 형광 파형을 개략적으로 도시한 것이다.
도 22는 세포의 종횡비를 기초로 하여 세포를 분류하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 23a는 세포 핵 및 세포의 세포질의 크기의 비를 추정하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 23b는 세포 핵 및 세포의 세포질의 크기의 비를 추정하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 24a는 세포로부터 방출된 형광 방사선의 세포 입상도를 추정하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 24b는 세포로부터 방출된 형광 방사선의 세포 입상도를 추정하는 것을 기초로 하여 세포를 분류하는 방법에서의 다양한 단계를 도시한 순서도이다.
도 25는 세포로부터 형광 방사선을 유발시키기 위한 도 24의 순서도에 기술된 방법에서 사용된 광학 빔을 변조하기 위해 사용된 변조 주파수를 개략적으로 도시한 것이다.
도 26은 세포를 분류하기 위한 본 교시를 도입한 분류 시스템을 개략적으로 도시한 것이다.
도 27은 도 26의 시스템에서 사용된 분석/제어 모듈의 예시적인 실행을 개략적으로 도시한 것이다.
도 28은 일 구현예에 따라 입자의 특징을 결정하고 분류 결정을 만들기 위해 그러한 특징을 이용하기 위한 예시적인 방법에서 다양한 단계를 도시한 흐름이다.
도 29는 복수의 세포에 대한 수평 및 수직 2차 중심 모멘트의 산점도이다.
본 교시는 일반적으로, 유세포 분석기에서 입자, 예를 들어, 세포의 하나 이상의 특징을 결정하고 일부 구현예에서 입자를 분류하기 위한 그러한 특징을 사용하기 위한 방법 및 시스템에 관한 것이다. 하기에 논의되는 구현예에서, 본 방법은 이의 실행을 위한 컴퓨터 프로세서를 사용한다. 본 교시를 기술하기 위해 하기에 사용되는 다양한 용어들은 달리 기술하지 않는 한, 당해 분야에서의 이의 일반적인 의미를 갖는다. 예를 들어, 본원에서 사용되는 용어 "형광단(fluorophore)"은 여기 방사선에 의한 조명에 반응하여 방사선을 방출할 수 있는 형광 화학적 화합물을 지칭하기 위해 당해 분야에서 이의 통상적인 의미와 일치한다.
용어 "세포분석(cytometry)" 및 "유세포 분석(flow cytometry)"은 또한, 당해 분야에서 이의 통상적인 의미와 일치하여 사용된다. 특히, 용어 "세포분석"은 세포를 동정하고/거나 분류하거나 달리 분석하기 위한 기술을 지칭할 수 있다. 용어 "유세포 분석"은 유체 흐름에 존재하는 세포는 예를 들어, 이를 형광 마커로 표지하고 방사성 여기를 통해 형광 마커를 검출함으로써 동정하고/거나 분류하거나, 달리 분석될 수 있는 세포분석 기술을 지칭할 수 있다. 본원에서 사용되는 용어 "약" 및 "실질적으로"는 수치를 포함하는 속성에 대해 10% 또는 5%의 최대 편차를 나타낸다.
입자, 예를 들어, 세포의 특징을 결정하고 입자를 분류하기 위한 본 발명의 교시는 다양한 상이한 방식으로 실행될 수 있다. 분류 결정을 만들기 위해 사용되는 형광 및/또는 산란 데이터는 다양한 시스템을 이용함으로써 획득될 수 있다. 일부 구현예에서, 입자는 복수의 무선주파수-편이된 빔렛을 갖는 광학 빔에 의해 조명되며, 입자로부터의 형광은 분류 결정을 만들기 위해 본 교시에 따라 수집되고 분석된다. 본 교시가 도입될 수 있는 입자로부터 형광 데이터를 유발시키기 위한 이러한 시스템의 일부 예가 하기에 기술되며, 이후에 본 교시에 따라 입자를 분류하기 위한 방법 및 시스템의 상세한 설명이 기술된다.
일 예로서, 도 1은 입자를 분류하기 위한 본 교시가 도입될 수 있는 세포분석을 수행하기 위한 시스템(10)을 개략적으로 도시한 것이다. 시스템(10)은 3가지 작동 모드로 작동될 수 있다. 하기에서 더 상세히 논의되는 바와 같이, 하나의 작동 모드에서, 연구 중인 샘플은 복수의 여기 주파수로 동시에 조명되며, 각각은 예를 들어, 레이저 빔의 중심 주파수를 이동시킴으로써 얻어질 수 있다. 더욱 상세하게, 복수의 샘플 위치는, 각 샘플 위치가 존재하는 경우에, 그러한 위치에서 고려되는 형광단을 여기시키기 위한 무선주파수-편이된 빔 중 하나 및 기준 빔에 의해 조명되도록, 복수의 무선주파수-편이된 레이저 빔과 기준 레이저 빔(본원에 또한 국부 오실레이터 빔(local oscillator beam)으로서 지칭됨)을 혼합함으로써 생성되는 레이저 빔에 의해 동시에 조명될 수 있다. 일부 구현예에서, 기준 빔 자체는 레이저 빔의 무선주파수 편이를 통해 생성될 수 있다. 이에 따라, 샘플의 각 공간적 위치는 기준 빔의 주파수와 무선주파수-편이된 빔 중 하나의 주파수 간의 차이에 해당하는 상이한 비트 주파수로 "태그화"될 수 있다. 다시 말해서, 형광단에 의해 방출된 형광 방사선은 비트 주파수를 공간적으로 인코딩할 것이다. 형광 방출은 검출될 수 있으며, 이의 주파수 성분은 샘플의 형광 이미지를 구성하기 위해 분석될 수 있다.
다른 작동 모드에서, 샘플은 복수의 여기 주파수에서 레이저 빔에 의해 소정 시간 간격으로 연속적으로 조명될 수 있다. 일부 이러한 구현예에서, 여기 주파수는 레이저 빔을 수용하는, 음향 광학 디플렉터(acousto-optic deflector: AOD)에 시변 구동 신호를 적용함으로써 얻어질 수 있다. 다수의 구현예에서, 레이저 빔은 수백 테라헤르츠(THz) 범위, 예를 들어, 약 300 THz 내지 약 1000 THz의 범위의 주파수를 갖는다. AOD에 적용된 구동 신호는 통상적으로, 무선주파수 범위, 예를 들어, 약 10 MHz 내지 약 250 MHz의 범위이다. AOD를 통한 레이저 빔의 통과는 복수의 회절된 빔을 생성하며, 각각은 상이한 회절 차수에 해당한다. 0차 회절된 빔이 입력 레이저 빔의 주파수에 대해 주파수 편이를 나타내지 않는 한, 고차의 회절된 빔은 구동 신호의 주파수 또는 이의 배수에 해당하는 입력 레이저 빔의 주파수에 대한 주파수 편이를 나타낸다. 일부 구현예에서, 구동 신호에 의해 이동된 입력 레이저 빔의 주파수에 해당하는 주파수를 갖는 1차 회절된 빔은 존재하는 경우에, 분석 중인 샘플에서 고려되는 형광단을 여기시키기 위한 여기 빔으로서 사용된다. 구동 신호가 시간에 따라 변하기 때문에, 1차 회절된 빔의 주파수 및 각 편이가 또한 변하고, 이에 의해 상이한 위치에서의 상이한 여기 주파수에서 샘플의 조명을 가능하게 한다. 임의의 경우에, 각 조명된 위치로부터의 형광 방출은 샘플의 형광 이미지를 구성하기 위해 수집되고 분석될 수 있다.
또 다른 작동 모드에서, 시스템(10)은 단일 여기 주파수에 의해 샘플의 복수의 위치를 동시에 조명하도록 작동될 수 있으며, 이는 예를 들어, 무선주파수에 의해 레이저 빔의 중심 주파수를 이동시킴으로써 생성될 수 있다. 예를 들어, 샘플의 수평 범위는 단일 여기 주파수에서 레이저 빔에 의해 조명될 수 있다. 검출된 형광 방사선은 샘플, 예를 들어, 세포/입자의 형광 함량을 분석하기 위해 사용될 수 있다.
이에 따라, 하기에 논의되는 다른 것들 중에서, 시스템(10)의 하나의 장점은 상이한 작동 모드 간에 스위칭될 때 상이한 기기를 사용하거나 시스템에 임의의 기계적 변형을 만들 필요 없이 상이한 모드에서 형광 방출 데이터를 얻는데 상당한 융통성을 제공한다는 것이다.
특정 구현예에서, 시스템은 하나 이상의 광원을 포함한다. 일부 경우에, 광원은 좁은 파장 LED, 레이저를 포함하지만 이로 제한되지 않는 협대역 광원, 또는 조합하여 협대역의 조명 광을 생성시키는 하나 이상의 광학 대역 통과 필터, 회절 게이팅, 모노크로메이터 또는 이들의 임의의 조합에 결합된 광대역 광원이다. 일부 경우에, 광원은 단파장 레이저, 예를 들어, 단파장 다이오드 레이저(예를 들어, 488 nm 레이저)이다. 일부 구현예에서, 대상 시스템은 단일 광원(예를 들어, 레이저)을 포함한다. 다른 구현예에서, 대상 시스템은 둘 이상의 상이한 광원, 예를 들어, 3개 이상의 상이한 광원, 예를 들어, 4개 이상의 상이한 광원을 포함하고, 5개 이상의 상이한 광원을 포함한다. 예를 들어, 시스템은 제1 파장을 출력하는 제1 광원(예를 들어, 레이저), 및 제2 파장을 출력하는 제2 광원을 포함할 수 있다. 다른 구현예에서, 시스템은 제1 파장을 출력하는 제1 광원, 제2 파장을 출력하는 제2 광원, 및 제3 파장을 출력하는 제3 광원을 포함한다.
각 광원은 300 nm 내지 1OOOnm, 예를 들어, 350 nm 내지 950 nm, 예를 들어, 400 nm 내지 900 nm 및 450 nm 내지 850 nm을 포함하는 범위인 파장을 가질 수 있다. 특정 구현예에서, 광원은 (하기에 기술된 바와 같이) 하나 이상의 형광단의 최대 흡수에 해당하는 파장을 갖는다. 예를 들어, 광원은 280 내지 310 nm, 305 내지 325 nm, 320 내지 350 nm, 340 내지 375 nm, 370 내지 425 nm, 400 내지 450 nm, 440 내지 500 nm, 475 내지 550 nm, 525 내지 625 nm, 625 내지 675 nm 및 650 내지 750 nm 중 하나 이상의 범위인 파장을 갖는 광을 출력할 수 있다. 특정 구현예에서, 각 광원은 348 nm, 355 nm, 405 nm, 407 nm, 445 nm, 488 nm, 640 nm 및 652 nm로부터 선택된 파장을 갖는 광을 출력한다.
시스템(10)은 레이저 빔(14)을 발생시키는 레이저 방사선원(12)을 포함한다. 일 예로서, 레이저 빔은 약 300 nm 내지 약 1000 nm 범위의 진공 파장에 해당하는 약 1000 THz 내지 약 300 THz 범위의 주파수를 가질 수 있다. 레이저 빔(가우시안 레이저 빔이 사용될 때 빔 웨이스트)의 빔 직경은 예를 들어, 약 0.1 mm 내지 약 10 mm의 범위일 수 있다. 보편성을 잃지 않으면서, 이러한 구현예에서, 레이저(12)는 약 1 mm의 빔 직경을 갖는, 488 nm의 파장에서의 방사선을 방출한다.
레이저 빔의 주파수는 시스템이 의도되는 특정 적용(들)을 기초로 하여 선택될 수 있다. 상세하게, 하기에서 더욱 상세히 논의되는 바와 같이, 레이저 주파수는 저 주파수에서 형광단이 형광 방사선을 방출시키기 위하여, 예를 들어, 방사선의 흡수를 통해 고려되는 형광단의 전자 전이를 여기시키는 데 적합할 수 있다. 다양한 레이저 소스가 사용될 수 있다. 이러한 레이저 소스의 일부 예는 비제한적으로, Sapphire 488-SF(Coherent, Inc.(Santa Clara, CA U.S.A.)에 의해 시판됨, Genesis MX-488-1000-STM(Coherent, Inc.), OBIS 405-LX(Coherent, Inc.), Stadus 405-250(Vortran Laser Technology, Inc.(Sacramento, CA U.SA.)에 의해 시판됨), 및 LQC-660-110(Newport Corporation of Irvine, CA U.S.A)을 포함한다. 보편성을 잃지 않으면서, 본 구현예에서, 레이저 빔은 이의 전파 방향에 대해 수직인 평면에서 가우시안 강도 프로파일을 갖는 것으로 가정된다.
미러(16)는 레이저 방사선 빔(14)을 수용하고, 반사를 통해 음향 광학 디플렉터(AOD)(18)로 레이저 빔을 유도한다. 이러한 구현예에서, AOD(18)는 빔(14)의 전파 방향에 대해 수직인 축 둘레에 AOD의 회전을 가능하게 하는 조정 가능한 포스트 홀더 마운트(A) 상에 탑재된다. 제어기(21)의 제어 하에서 작동하는 직접 디지털 합성기(direct digital synthesizer: DDS)(20)는 AOD(18)에 하나 이상의 구동 신호를 적용할 수 있다. 일 예로서, 일부 구현예에서, 이러한 구동 신호는 약 50 MHz 내지 약 250 MHz의 주파수 범위를 포괄할 수 있다. 예를 들어, AOD에 적용된 구동 신호는 약 55 MHz 내지 약 255 MHz, 예를 들어, 약 60 MHz 내지 약 200 MHz, 예를 들어, 약 65 MHz 내지 약 175 MHz, 예를 들어, 약 70 MHz 내지 약 150 MHz 및 약 75 MHz 내지 약 125 MHz의 범위일 수 있다. 일부 구현예에서, 구동 신호는 약 0.1 MHz 내지 약 4 MHz 범위의 주파수에 의해 서로 분리될 수 있다. 예를 들어, 구동 신호는 약 0.2 MHz 내지 약 3.9 MHz, 예를 들어, 약 0.3 MHz 내지 약 3.8 MHz, 예를 들어, 약 0.4 MHz 내지 약 3.7 MHz, 예를 들어, 약 0.5 MHz 내지 약 3.6 MHz 및 약 1 MHz 내지 약 3.5 MHz의 주파수에 의해 서로 분리될 수 있다. 이러한 구현예에서, 전자 파워 증폭기(21')는 AOD(18)에 적용하기 위한 DDS(20)에 의해 생성된 무선주파수 신호를 증폭시킨다.
샘플이 복수의 여기 주파수와 동시에 조명되는 작동 모드에서, RF 콤 발생기(20)는 AOD(18)에 복수의 RF 구동 신호를 동시에 적용한다. 일 예로서, 동시에 적용된 RF 구동 신호의 수는 약 20 내지 약 200의 범위일 수 있다. 레이저 빔 및 구동 신호의 상호작용은 복수의 각도로 분리된 레이저 빔을 생성시키며, 이들 각각은 레이저(12)에 의해 생성된 레이저 빔의 주파수에 대해 구동 신호들 중 하나에 해당하는 주파수 편이를 갖는다. 임의의 특정 이론으로 제한하는 것은 아니지만, AOD에서, 압전 변환기는 결정, 예를 들어, 석영 결정에서 무선주파수 포논을 생성시킬 수 있으며, 이러한 무선주파수 포논에 의한 레이저 빔의 광학적 광자의 산란은 주파수-편이된 레이저 빔을 생성시킬 수 있다. 이러한 주파수-편이된 빔(22) 중 하나는 본원에서, "국부 오실레이터"(LO) 빔으로서 지칭되며, 주파수-편이된 빔(24)의 나머지는 본원에서 "RF 콤 빔"으로서 지칭된다. 주파수 편이된 빔의 각 분리는 예를 들어, 약 1 밀리라디안(milliradian) 내지 약 100 밀리라디안 범위일 수 있다. 예를 들어, 주파수 편이된 빔의 각 분리는 2 밀리라디안 내지 약 95 밀리라디안, 예를 들어, 3 밀리라디안 내지 약 90 밀리라디안, 예를 들어, 4 밀리라디안 내지 약 85 밀리라디안, 예를 들어, 5 밀리라디안 내지 약 80 밀리라디안, 및 10 밀리라디안 내지 약 75 밀리라디안의 범위일 수 있다.
LO 및 RF 콤 빔은 렌즈(26)를 통해 진행하며, 이는 이러한 구현예에서, 약 50 mm의 초점 길이를 갖는 포지티브 렌즈이다. 렌즈(26)를 통한 통과 후에, LO 레이저 빔은 미러(28)에 의해 차단되는데, 이는 상이한 방향에서(이러한 구현예에서, LO 빔의 본래 전파 방향에 대해 실질적으로 직교 방향에서) LO 빔을 다시 유도한다. 미러(28)은 이러한 빔이 미러(28)를 빗나가고 렌즈(30)로 전파하도록 RF 콤 빔에 대해 정위된다(이는 이러한 구현예에서, 200 mm의 초점 길이를 가짐). 이러한 방식에서, LO 빔 및 RF 콤 빔은 상이한 전파 방향을 따라 유도된다. 상기 개시된 방식으로 픽오프 미러(pickoff mirror)(28)의 사용은 LO 빔 및 RF 콤 빔 둘 모두를 생성시키기 위해 단일 AOD를 사용하고 샘플을 조명하기 위한 여기 빔을 생성시키기 위해 하기에 논의되는 방식으로 이를 결합시킬 수 있다. 다중 AOD(예를 들어, 2개 AOD, 하나는 LO 빔을 생성시키며, 다른 하나는 RF 콤 빔을 생성시킴)보다 오히려 단일 AOD의 사용은 시스템의 설계를 단순화시키고, 하기에 더욱 상세히 논의되는 바와 같이, 다수의 별개의 작동 모드에서 시스템의 효율적인 사용을 추가로 허용한다.
일부 구현예에서, LO 빔의 빔 프로파일은 RF 콤 빔과 재조합하기 전에 변형된다. 예를 들어, LO 빔의 빔 프로파일은 빔의 공간 치수, 빔 형상, 강도, 공간 분포, 또는 이들의 임의의 조합에 있어서 조정(증가 또는 감소)될 수 있다. 특정 구현예에서, LO 빔의 빔 프로파일의 공간 치수가 변경된다. 예를 들어, 빔 프로파일은 흐름 스트림의 종방향 축에 대해 수직인 축을 따르는 것과 같은, 하나 이상의 치수에서 빔 프로파일을 길어지도록 조정될 수 있다. 이러한 구현예에 따른 일 예에서, 빔 프로파일의 공간 치수(예를 들어, 하나 이상의 치수에서)는 1% 이하, 예를 들어, 2% 이하, 예를 들어, 3% 이하, 예를 들어, 5% 이하, 예를 들어, 10% 이하, 예를 들어, 25% 이하, 예를 들어, 50% 이하, 예를 들어, 75% 이하, 예를 들어, 90% 이하, 예를 들어, 1.5배 이상, 예를 들어, 2배 이상, 예를 들어, 3배 이상 및 5배 이상 증가될 수 있다. 이러한 구현예에 따른 다른 예에서, 빔 프로파일의 공간 치수(예를 들어, 하나 이상의 치수에서)는 1% 이하, 예를 들어, 2% 이하, 예를 들어, 3% 이하, 예를 들어, 5% 이하, 예를 들어, 10% 이하, 예를 들어, 25% 이하, 예를 들어, 50% 이하, 예를 들어, 75% 이하, 예를 들어, 90% 이하, 예를 들어, 1.5배 이상, 예를 들어, 2배 이상, 예를 들어, 3배 이상 및 5배 이상 감소될 수 있다.
다른 구현예에서, LO 빔의 빔 형상이 변경된다. 예를 들어, 빔 형상은 하나 이상의 치수에서 빔 프로파일을 길게 하도록 변경될 수 있다. 특정 경우에, LO 빔의 빔 형상은 LO 빔의 전파 방향에 대해 수직인 면에서 연장된다. 특정 구현예에서, LO 빔 프로파일의 형상은 원형 빔 프로파일에서 흐름 스트림의 종방향 축에 대해 직교인 축에서 연장되는 타원형 빔 프로파일로 변경된다. 다른 구현예에서, LO 빔 프로파일의 형상은 원형 빔 프로파일에서, 흐름 스트림의 종방향 축에 대해 직교인 축에서의 긴 치수를 갖는 직사각형 빔 프로파일로 변경된다. 또 다른 구현예에서, LO 빔의 강도는 변경된다. 예를 들어, LO 빔의 강도는 예를 들어, 1% 이하, 예를 들어, 2% 이상, 예를 들어, 3% 이상, 예를 들어, 5% 이상, 예를 들어, 10% 이상, 예를 들어, 25% 이상, 예를 들어, 50% 이상, 예를 들어, 75% 이상, 예를 들어, 90% 이상, 예를 들어, 1.5배 이상, 예를 들어, 2배 이상, 예를 들어, 3배 이상 및 5배 이상 증가될 수 있다. 특정 구현예에서, LO 빔의 강도는 RF 콤 빔의 강도와 매칭하도록 변경된다. 예를 들어, LO 빔은 RF 콤 빔의 강도와 10% 이하, 예를 들어, 9% 이하, 예를 들어, 8% 이하, 예를 들어, 7% 이하, 예를 들어, 6% 이하, 예를 들어, 5% 이하, 예를 들어, 4% 이하, 예를 들어, 3% 이하, 예를 들어, 2% 이하, 예를 들어, 1% 이하, 예를 들어, 0.01% 이하 차이가 나는 강도를 가질 수 있으며, 여기서, LO 빔의 강도는 RF 콤 빔과 0.001% 이하 차이가 난다. 특정 경우에, LO 빔 및 RF 콤 빔의 강도는 동일하다.
또 다른 구현예에서, 빔 프로파일의 공간 분포가 또한 변경될 수 있다. 예를 들어, LO 빔은 LO 빔의 강도가 하나 이상의 치수에서 더 이상 가우시안이 아니도록 변경될 수 있다. 예를 들어, LO 빔은 흐름 스트림의 종방향 축에 대해 평행한 제1 축을 따르는 가우시안 분포, 및 흐름 스트림의 종방향 축에 대해 직교인 제2 축을 따르는 비-가우시안 분포를 갖도록 변경될 수 있다.
임의의 빔 형상화 프로토콜은 반사성 및 회절성 빔 형상화 프로토콜을 포함하지만, 이로 제한되지 않는, LO 빔의 빔 프로파일을 변경시키기 위해 사용될 수 있다. 일부 구현예에서, LO 빔은 톱햇 빔 셰이퍼에 의해 변경된다.
이러한 구현예에서, LO 빔은 다른 포지티브 렌즈(32)로 전파한다(이러한 구현예에서, 약 200 mm의 초점 길이를 가짐). 렌즈(26)와 렌즈(32)의 조합은 톱햇 빔 셰이퍼(34)의 뒤쪽 개구를 적절히 채우기 위하여 LO 빔을 확대하고 조준한다. 더욱 상세하게, LO 빔(22)은 렌즈(32)를 통해 진행하고, 미러(33 및 35)에 의해 톱햇 빔 셰이퍼(34)로 반사된다.
톱햇 빔 셰이퍼(34)는 톱햇 강도 프로파일을 형성하기 위해 가우시안 LO 빔의 위상면(phase front)을 형상화한다. 더욱 상세하게, 톱햇 빔 셰이퍼에서 배출하는 LO 레이저 빔(22')은 빔 스플릿터(44)에 의해 반사되고, 중간 이미지 면(48) 상에 렌즈(46)(이러한 구현예에서, 100 mm의 초점 길이를 가짐)에 의해 포커싱된다. 중간 이미지 면(48) 상의 레이저 빔은 빔의 전파 방향에 대해 수직인 평면에서 수평 방향을 따라 톱햇 강도 프로파일을 갖는다. AOD(18)와 유사하게, 이러한 구현예에서, 빔 스플릿터(44)는 조정 가능한 포스트 홀더 마운트(B) 상에 탑재된다. 이러한 구현예에서, 톱햇 빔 셰이퍼는 톱햇 빔 프로파일을 생성시키며, 여기서, 방사선의 분극화는 빔의 톱햇 방향을 따라(이러한 구현예에서 수평 방향을 따라) 실질적으로 균일하다.
예시로서, 도 2a는 레이저 빔이 톱-핵 빔 셰이퍼로 진입하기 때문에, LO 레이저 빔의 가우시안 강도 프로파일을 개략적으로 도시한 것이다. 도 2b에 개략적으로 도시된 바와 같이, 중간 이미지 평면(48) 상에서, LO 레이저 빔은 수평 방향(이러한 예시에서 페이지에 대해 수직인 방향)에서 신장되고 프로파일, 예를 들어, 수평선 A를 통해 연장하는 각 수평선을 따라 실질적으로 일정하지만 가우시안 프로파일을 따라 수직으로 변하는 빔 프로파일을 나타낸다.
다양한 톱햇 빔 셰이퍼가 이용될 수 있다. 예로서, 비구면 또는 회절 광학 요소를 갖는 굴절 광학 요소는 적절한 공간 위상면을 갖는 빔을 생성하는 데 사용될 수 있으며, 이 빔은 렌즈에 의해 포커싱된 후에, 렌즈의 초점면에서 톱햇 프로파일 패턴을 생성할 것이다. 다수의 폼 팩터(form factor)가 이와 같은 톱햇 빔 셰이퍼에 대해 존재하며, 이와 같은 접근법의 다양한 실행예가 본 교시의 다양한 구현예에 있어서 샘플에서 적절한 LO 빔 형상을 생성하는 데 이용 가능하다. 예를 들어, "Refractive optical system that converts a laser beam to a collimated flat-top beam"이라는 명칭의 미국 특허 제6,295,168호 및 "Rectangular flat-top beam shaper"라는 명칭의 미국특허 제7,400,457호는 본 교시의 일부 구현예에 따른 시스템에서 플랫톱 빔 셰이퍼로 이용될 수 있는 빔 셰이핑 시스템을 개시하고 있으며, 이들 특허 문헌 둘 모두는 그 전체가 본 명세서에 참조로 포함된다. 예시로서, 도 3은 2개의 직교로 배치된 비원통형 렌즈(302 및 304)를 포함하는 정사각형 또는 직사각형 빔을 제공하기 위한 빔 셰이핑 시스템(300)을 개략적으로 도시하는 미국 특허 제7,400,457호(다른 참조 번호를 가짐)의 도 1의 복제도이다. 제1 비원통형 렌즈(302)는 X-축을 따라 입사 빔(A)을 셰이핑하기 위한 것이고, 제2 비원통형 렌즈(304)는 Y-축을 따라 입사 빔(A)을 셰이핑하기 위한 것이다. 2개의 교차된 비원통형 렌즈는 X-축을 따라 플랫톱 프로파일을 갖는 결과적인 직사각형 레이저 빔(B)을 제공하도록 구성된다. 비원통형 렌즈(302)의 입력 표면(302a)은 표면의 중심에서 보다 작고 렌즈의 양 X-말단부를 향해 매끄럽게 증가하는 가변 곡률 반경을 갖는 볼록한 비원통형 표면이다. 제2 비원통형 렌즈(304)는 제1 비원통형 렌즈와 유사하지만, Y-축을 따라 비임을 셰이핑하기 위해 렌즈(302)에 대해 직교로 배치된다. 렌즈(302 및 304)의 입력 표면(302a/304a) 및 출력 표면(302b/304b)의 프로파일은 입사 빔(A)의 X-프로파일 및 Y-프로파일 및 결과적인 직사각형 빔(B)의 원하는 강도 프로파일의 함수로서 독립적으로 선택될 수 있다(예를 들어, 상기 특허의 칼럼 5 및 6 참조).
이용될 수 있는 상업적으로 입수 가능한 톱햇 빔 셰이퍼의 예는 예를 들어 오셀라 인코퍼레이티드(Osela, Inc.)(Lachine, Canada)에 의해 시판되는 DTH-1D-0.46deg-4 ㎜를 포함한다.
하기에서 더욱 상세히 논의되는 바와 같이, 수평 방향을 따라 LO 빔을 신장시키기 위한 빔 셰이퍼의 사용은 다수의 이점을 제공한다. 예를 들어, LO 빔과 RF 콤 빔의 조합이 실질적으로 유사한 조명 강도를 갖는 복수의 샘플 위치를 조명하여 샘플 위치 전체에 걸쳐 LO 및 RF 콤 빔의 강도를 정합시키고, 이에 의해 높은 변조 깊이를 갖는 형광 신호의 강도 진폭 변조를 생성하는 것을 보장할 수 있다. 이러한 강도 정합의 부재시에, 이미징 시스템은 작은 시야를 가질 수 있고, AOD를 구동하는 모든 주파수(픽셀)를 이용할 수 없다. 형광 신호의 변조 깊이가 샘플의 형광 이미지를 재구성하는 시스템의 능력에 중요한 역할을 하므로, 모든 픽셀에서의 여기 비트 주파수의 균일하게 높은 변조 깊이가 시스템의 작동에 특히 유리하다. 또한, RF 콤 빔을 생성하기 위해 AOD에 인가된 전자 신호의 진폭은, RF 콤 빔을 동등하게 하도록 (예를 들어, 컨트롤러(21)를 이용함으로써) 직접 디지털 합성기의 출력을 제어함으로써, 이들의 강도가 RF 콤 빔 및 LO 빔이 중첩되는 모든 공간 위치에 걸쳐 LO 빔의 강도와 동일하도록 조정될 수 있다. 이러한 특징은 형광 방사선의 강도 진폭 변조의 높은 변조 깊이를 보장한다는 점에서 이점을 제공한다.
도 1을 다시 참조하면, RF 콤 빔(24)은 렌즈(26 및 30)의 조합을 통해 중간 이미지 평면(38) 상에 이미징된다. 더욱 상세하게, RF 콤 빔(24)은 렌즈(26)를 통과하고, 미러(28)를 지나쳐서 렌즈(30)에 도달하고, 이 렌즈(30)는 RF 콤 빔을 미러(40 및 42)를 통해 중간 이미지 평면(38)으로 지향시킨다.
도 4는 중간 이미지 평면(38)에서의 예시적인 수의 RF 콤 빔의 분포를 개략적으로 도시한다(보편성의 손실 없이, RF 콤 빔의 수는 예시의 목적으로 6개인 것으로 선택되지만(RF1, ..., RF6으로 표시됨), 다른 수가 또한 이용될 수 있음). 도 4에 도시된 바와 같이, 중간 이미지 평면(38)에서, RF 콤 빔(24)은 수평 방향을 따라 서로 공간적으로 분리되어 있다. 다른 구현예에서, 2개 이상의 RF 콤 빔(24)은 부분적으로 중첩될 수 있다. 따라서, 렌즈(26 및 30)의 조합은 각도적으로 분리된 RF 콤 빔을 수평 범위에 걸쳐 있는 공간적으로 분리된 빔의 세트로 변환한다.
도 1을 다시 참조하면, 전술한 바와 같이, 빔 스플리터(44)는 톱햇 빔 셰이퍼(34)를 빠져나가는 레이저 빔(22')을 수용하고 그와 같은 빔을 렌즈(46)로 반사시키고, 이 렌즈(46)는 결국 LO 빔이 톱햇 빔 프로파일을 나타내는 중간 이미지 평면(48) 상에 빔을 포커싱시킨다. 빔 스플리터는 또한 중간 이미지 평면(38)으로부터 RF 콤 빔(24)을 수용하고 RF 콤 빔의 통과를 허용한다. 렌즈(46)는 RF 콤 빔(24)을 중간 이미지 평면(48) 상에 포커싱시켜 톱햇 빔 프로파일을 갖는 LO 빔과 조합시켜서 조합 빔(49)을 생성한다.
예시로서, 도 5는 그 전파 축에 수직한 평면에서 조합 빔(49)의 하나의 예시적인 프로파일을 개략적으로 도시한다. 조합 빔의 강도 프로파일은 톱햇 LO 빔(정사각형으로 개략적으로 도시됨)의 강도 프로파일과 RF 콤 빔(24)(각각이 원 중 하나에 의해 개략적으로 도시됨)의 강도 프로파일의 중첩으로서 생성된다. 보다 상세하게 후술하는 바와 같이, LO 빔 및 RF 콤 빔의 이와 같은 중첩은, 수평 범위를 따라서, 그와 같은 수평 범위를 따른 하나의 공간 위치에 각각 대응하는 복수의 비트 주파수를 제공한다. 샘플의 수평 범위를 조명할 때, 샘플의 위치로부터 방출된 형광 방사선은, 진폭 변조를 통해, 그와 같은 위치를 조명하는 방사선과 관련된 비트 주파수를 인코딩한다.
다시 도 1을 참조하면, 이러한 구현예에서 조정 가능한 포스트 홀더 마운트(C) 상에 마운팅된 포지티브 렌즈(50)(이러한 구현예에서 200 mm 렌즈) 및 대물 렌즈(52)는 플로우 셀(54)을 통해 흐르는 샘플 상의 중간면(48)에서 이미지를 중계하기 위한 망원경을 형성한다. 이러한 구현예에서, 미러(56)은 결합된 빔(49)을 렌즈(50)로 반사시키며, 이색성 미러(58)은 렌즈(50)를 통해 대물 렌즈(52) 쪽으로 통과시킨 후 결합된 광 빔을 반사시킨다.
도 6에 개략적으로 도시된 바와 같이, 결합된 빔(49)은 유동 세포(54)를 통해 유동하는 샘플(62)의 복수의 공간 위치(60)를 동시에 조명한다. 따라서, 각각의 위치(60)는 RF 콤 빔 중 하나와 톱햇형 LO 레이저 빔의 일부분의 중첩에 의해 조명된다. 이와 같은 공간 위치에서, 방사선은, 존재한다면, 샘플 내의 고려되는 형광단을 여기시킬 것이다. 더욱 상세하게, 본 구현예에서, LO 빔 및 RF 콤 빔은 복수의 샘플 위치(60)에서, 예를 들어 여기된 전자 상태로의 형광단의 전자 전이를 일으킴으로써 형광단을 동시에 여기한다.
일부의 구현예에서, 샘플은 복수의 세포가 동반되는 유동 유체를 포함할 수 있다. 일부의 경우에, 세포는 하나 이상의 형광성 마커(형광단)로 표지될 수 있다. 형광성 마커의 일부 예는, 형광성 단백질(예를 들어, GFP, YFP, RFP), 형광단으로 표지된 항체(예를 들어, 플루오레세인 이소티오시안산염(fluorescein isothiocyanate))(FITC), 피코에리트린(phycoerythrin)(PE), 알로피코시아닌(allophycocyanin)(APC)), 핵산 착색제(예를 들어, 4',6-디아미디노-2-페닐인돌(DAPI), SYT016, 프로피디움 요오드화물(PI)), 세포막 착색제(예를 들어, FMI-43), 및 세포 기능 염료(예를 들어, Fluo-4, Indo-1)를 포함하지만, 이로 제한되지 않는다. 다른 경우에, 세포 내에 존재하는 내인성 형광단은 세포로부터 형광 방사선을 유도하는 데 이용될 수 있다. 보다 상세하게 후술하는 바와 같이, 이와 같은 외인성 또는 내인성 형광단은 조명 방사선에 반응하여 전자 여기를 겪고, (통상적으로 여기 주파수보다 낮은 주파수의) 형광 방사선을 방출하며, 이 형광 방사선이 수집 및 분석된다.
예시로서 그리고 임의의 특정 이론으로 제한하지 않으면서, 도 7은 기저 전자 상태(A)뿐만 아니라, 형광단의 2개의 전자 여기된 전자 상태(B 및 C)에 대응하는 가상 에너지 레벨을 도시하고 있다. 형광단은 방사선 에너지의 흡수를 통해 기저 전자 상태(A)로부터 여기 전자 상태(B)로 여기될 수 있다. 이후에, 형광단은 예를 들어 형광단의 진동 모드에 의해 조정되는 비방사 전이를 통해 보다 낮은 여기 상태(B)로 이완될 수 있다. 형광단은 광학 전이를 통해 보다 낮은 전자 상태(C)로부터 기저 상태로 추가로 이완될 수 있으며, 이에 의해 여기 주파수보다 낮은 주파수의 형광 방사선을 방출한다. 이와 같은 가상의 예는 설명의 목적으로만 제공되고, 형광 방사선이 방출될 수 있는 유일한 메커니즘을 나타내는 것은 아니라는 것이 이해되어야 한다.
여러 경우에, 형광단은 기저 상태에서 여기된 전자 상태로 여기되는 소정 범위의 주파수에 걸쳐 전자기 방사선을 흡수할 수 있다. 예시로서, 도 8은 도 7과 관련하여 논의된 가상 형광단에 대한 흡수 곡선을 도시하고 있다. 본 교시에 따른 일 구현예의 하나의 실행예에 있어서, LO 주파수는 고려되는 형광단의 피크 흡수에 대응하는 주파수와 일치하도록 선택될 수 있다. 무선주파수-편이된 빔은 이의 개개 비트 주파수에 의해 피크 흡수로부터 분리된 주파수를 가질 수 있다. 통상적으로, 이러한 주파수 분리는 여기 주파수의 임의의 저하를 회피하기 위해 형광단의 흡수 대역폭에 비하여 작다. 일 예로서 그리고 단지 예시로서, 파선(A 및 B)은 RF 콤 빔 중 하나 및 LO 빔의 주파수를 개략적으로 도시하고 있다(설명의 용이성을 위해 도면은 일정한 축척으로 도시되어 있지 않음). 도시된 RF 콤 빔 중 하나 및 LO 레이저 빔 둘 모두에 의한 샘플의 공간 위치의 동시 조명은 LO 및 RF 콤 빔 주파수들 사이의 차이에 대응하는 비트 주파수로의 진폭 변조를 나타내는 형광 방사선을 초래한다.
또한, 예시로서 그리고 임의의 특정 이론으로 제한하지 않으면서, LO 빔 및 RF 콤 빔 중 하나에 의한 이의 동시 조명을 통해 형광단에 인가되는 전기장은 하기와 같이 수학적으로 정의될 수 있다:
수학식 (1)
상기 식에서,
E com 은 결합된 빔의 전기장을 나타내며,
E RP 는 RF 콤 빔 중 하나와 관련된 전기장의 진폭을 나타내고,
E LO 는 LO 빔과 관련된 전기장의 진폭을 나타내고,
ω o 는 레이저(12)에 의해 생성된 레이저 빔의 주파수를 나타내고,
ω RF 는 RF 콤 빔과 관련된 주파수 편이를 나타내고,
ω LO 는 LO 빔과 관련된 주파수 편이를 나타낸다.
LO 및 RF 콤 빔의 전기장의 중첩에 반응하여 방출된 형광 방사선의 강도는(ωRF-ωLO)에 대응하는 비트 주파수로의 변조를 나타낼 것이다. 이에 따라, RF 콤 빔 중 하나와 LO 빔의 중첩에 의해 조명된 샘플의 각각의 공간 위치로부터 방사되는 형광 방사선은 그와 같은 공간 위치를 조명하는 RF 콤 빔과 관련된 무선주파수 편이와 LO 빔과 관련된 무선주파수 편이 사이의 차이에 대응하는 비트 주파수로의 변조를 나타낸다.
형광 방출의 프로세스가 한정된 시간(통상적으로 일반 유기 형광단에 대해 1 내지 10 나노초)을 필요로 하기 때문에, 방출된 형광은 여기 진동 주파수가 너무 높으면 높은 변조 깊이를 나타내지 않는다. 이에 따라, 많은 구현예에서, 여기 비트 주파수는 1/τf보다 상당히 작도록 선택되며, 여기서, τf는 형광단의 특성 형광 수명이다. 일부 예에서, 여기 비트 주파수는, 5배 이상을 포함하며, 1% 이상만큼, 예를 들어 1% 이상, 예를 들어 2% 이상, 예를 들어 3% 이상, 예를 들어 5% 이상, 예를 들어 10% 이상, 예를 들어 25% 이상, 예를 들어 50% 이상, 예를 들어 75% 이상, 예를 들어 90% 이상, 예를 들어 1.5배 이상, 예를 들어 2배 이상, 예를 들어 3배 이상만큼 1/τf보다 작을 수 있다. 예를 들어, 여기 비트 주파수는, 750 MHz 이상을 포함하여, 0.01 MHz 이상, 예를 들어 0.05 MHz 이상, 예를 들어 0.1 MHz 이상, 예를 들어 0.5 MHz 이상, 예를 들어 1 MHz 이상, 예를 들어 5 MHz 이상, 예를 들어 10 MHz 이상, 예를 들어 25 MHz 이상, 예를 들어 50 MHz 이상, 예를 들어 100 MHz 이상, 예를 들어 250 MHz 이상, 예를 들어 500 MHz 이상만큼 1/τf보다 작을 수 있다. 구현예에 있어서, 광검출기는 조사된 샘플로부터의 광(예를 들어, 형광과 같은 발광)을 검출하도록 구성된다. 구현예에서, 광검출기는, 8개 이상의 검출기를 포함하여, 1개 이상의 검출기, 예를 들어 2개 이상의 검출기, 예를 들어 3개 이상의 검출기, 예를 들어 4개 이상의 검출기, 예를 들어 5개 이상의 검출기, 예를 들어 6개 이상의 검출기, 예를 들어 7개 이상의 검출기를 포함할 수 있다. 다른 광검출기 중에서도, 능동 픽셀 센서(APS), 4분할 포토다이오드(quadrant photodiode), 이미지 센서, 전하 결합 소자(CCD), 강화된 전하 결합 소자(ICCD), 발광 다이오드, 광자 카운터, 볼로미터(bolometer), 초전 검출기(pyroelectric detector), 포토레지스터(photoresistor), 광전지(photovoltaic cell), 포토다이오드, 광전자 증배관, 포토트랜지스터(phototransistor), 양자점 광전도체(quantum dot photoconductor) 또는 포토다이오드, 및 이들의 조합을 포함하지만 이에 한정되지 않는 임의의 광검출 프로토콜이 이용될 수 있다. 일부의 구현예에서, 고려되는 광검출기는, 400 ㎚ 내지 800 ㎚를 포함하여, 350 ㎚ 내지 1200 ㎚, 예를 들어 450 ㎚ 내지 1150 ㎚, 예를 들어 500 ㎚ 내지 1100 ㎚, 예를 들어 550 ㎚ 내지 1050 ㎚, 예를 들어 500 ㎚ 내지 1000 ㎚의 범위인 광을 검출하도록 구성된다. 특정 구현예에서, 광검출기는 395 ㎚, 421 ㎚, 445 ㎚, 448 ㎚, 452 ㎚, 478 ㎚, 480 ㎚, 485 ㎚, 491 ㎚, 496 ㎚, 500 ㎚, 510 ㎚, 515 ㎚, 519 ㎚, 520 ㎚, 563 ㎚, 570 ㎚, 578 ㎚, 602 ㎚, 612 ㎚, 650 ㎚, 661 ㎚, 667 ㎚, 668 ㎚, 678 ㎚, 695 ㎚, 702 ㎚, 711 ㎚, 719 ㎚, 737 ㎚, 785 ㎚, 786 ㎚, 805 ㎚와 같은 발광의 방출 최대에서 광을 검출하도록 구성된다.
일부의 구현예에 있어서, 샘플에 의해 방출된 형광 방사선은 다양한 상이한 방식으로, 예를 들어 여기 빔의 전파 방향에 수직한 광학 경로를 따라 수집될 수 있다. 다른 구현예에서, 형광 방사선은 에피-방향(epidirection)에서 검출된다.
도 1을 다시 참조하면, 본 구현예에서, 조명된 샘플 내에 존재하는 하나 이상의 형광단에 의해 방출된 형광 방사선은 대물 렌즈(52)를 통과하고, 이색성 미러(58)를 통해 투과되어 광검출기(64)에 도달한다. 더욱 상세하게, 본 구현예에서, 렌즈(65)는 이색성 미러(58)를 통해 투과된 형광 방사선을 슬릿 개구(slit aperture)(66) 상에 포커싱시킨다. 슬릿을 통해 투과된 형광 방사선은 형광 방출 필터(68)를 통과하여 광검출기(64)에 도달한다. 광검출기의 전방에 배치된 슬릿 개구(66)(또는 후술하는 다른 구현예에서의 광학 필터)는 샘플의 특정 평면으로부터 방출된 형광 방사선을 실질적으로 통과시키면서 면외(out-of-plane) 형광 방출을 배제한다. 또한, 형광 방출 필터(68), 예를 들어 통과 대역 통과 필터는 형광 방사선을 광검출기(64)로 통과시키면서 다른 주파수의 방사선의 통과를 실질적으로 차단한다.
광검출기(64)는 비트 주파수의 전체 범위로부터 신호를 검출하고 전송하기에 충분한 RF 대역폭을 갖는다. 적합한 광검출기의 일부 예는, 그 중에서도, 광전자 증배관, 애벌란시 포토다이오드(avalanche photodiode), PIN 포토다이오드 및 하이브리드 광검출기를, 제한 없이, 포함한다. 예로서, 일부의 구현예에서, 하마마츠 코퍼레이션(Hamamatsu Corporation)에 의해 시판되는 광전자 증배관(예를 들면, R3896, R10699, H11462)이 이용될 수 있다. 광검출기는 수용된 형광 방사선의 검출에 반응하여 신호, 예를 들어 본 구현예에서는 아날로그 신호를 생성한다.
다른 예로서, 그리고 도 9a를 참조하면, LO 빔 및 공간적으로 분리된 RF 콤 빔에 의한 동시 조명에 반응하여 샘플에 의해 방출된 형광 방사선은 대물 렌즈(52) 및 이색성 미러(58)를 통과하여 렌즈(100)를 통해 다중모드 광섬유(102) 상에 결합되고, 이 다중모드 광섬유는 근위 단부(102a)로부터 원위 단부(102b)까지 연장된다. 더욱 상세하게, 광섬유(102)의 근위 단부(102a)는 형광 방사선을 수용하도록 렌즈(100)의 초점면에 근접하게 위치된다. 광섬유의 원위 단부(102b)에 결합된 광추출 렌즈(outcoupling lens)(104)는 광섬유를 빠져나가는 방사선을 시준한다.
많은 경우에, 샘플을 조명하는 여기 방사선은 여기 주파수가 샘플 내의 다수의 형광단의 흡수 스펙트럼 내에 있도록 충분히 넓은 방사선 흡수 스펙트럼을 가질 수 있는 다수의 형광단(예를 들면, 유기 형광단)을 여기한다. 이후에, 각각의 형광단은 상이한 주파수의 형광 방사선을 방출한다. 보편성의 손실 없이, 그리고 예시의 목적으로, 본 구현예에서, 검출 시스템은 4개의 광전자 증배관(106, 108, 110 및 112)을 포함하며, 각각 광전자 증배관은 조명된 샘플에서 여기 방사선에 의해 여기된 4개의 형광단 중 하나에 의해 방출된 형광 방사선에 대응하는 시준된 방사선의 일부분을 수용한다. 더욱 상세하게, 이색성 미러(114)는 제1 주파수로 형광단 중 하나에 의해 방출된 형광 방사선을 광전자 증배관(106)으로 반사시키면서 다른 주파수의 형광 방사선을 통과시킨다. 다른 이색성 미러(116)는 상이한 제2 주파수로 상이한 형광단에 의해 방출된 형광 방사선을 광전자 증배관(108)으로 반사시키면서, 제3 주파수로 또 다른 형광단에 의해 방출된 형광 방사선을 포함하는 나머지 방사선이 제3 이색성 미러(118)에 도달하게 하며, 이 제3 이색성 미러는 그와 같은 형광 방사선을 광전자 증배관(110)으로 반사시킨다. 이색성 미러(118)는 제4 방사선 주파수로 제4 형광단에 의해 방출된 형광 방사선을 포함하는 나머지 방사선을 통과시켜서 광전자 증배관(112)에 도달하게 한다.
4개의 형광 주파수 중 하나에 각각 중심설정된 복수의 대역 통과 필터(120, 122, 124 및 126)는 각각 광전자 증배관(106, 108, 110 및 112)의 전방에 배치된다. 각각의 광전자 증배관에 의해 검출된 신호는 후술하는 방식으로 분석되어 각각의 형광 주파수로 형광 이미지를 생성한다. 일부의 구현예에서, 다수의 광검출기를 사용하기보다는, 단일 광검출기, 예를 들어 단일 광전자 증배관이 형광 방사선, 예를 들어 단일 형광단으로부터의 방출에 대응하는 형광 주파수를 검출하는 데 사용될 수 있다.
일부의 구현예에서, 샘플이 유동 세포를 통해 흐를 때, 샘플의 상이한 수평 열이 조명되고, 각각의 수평 열과 관련된 형광 방사선이 광전자 증배관(106, 108, 110 및 112)과 같은 하나 이상의 광검출기에 의해 검출된다.
도 9b는 도 9a와 관련하여 전술한 것과 유사한 검출 시스템을 개략적으로 도시하고 있으며, 이와 같은 검출 시스템은, 광섬유를 사용하기보다는, 이색성 미러(58)를 통과한 복수의 형광단으로부터의 형광 방출을 포함하는 형광 방사선이 자유 공간에서 전파하여 광전자 증배관(106, 108 및 112)에 도달한다는 것을 제외하고는, 도 9a의 것과 유사하다. 더욱 상세하게, 렌즈(100)는 렌즈들(100 및 104) 사이에 배치된 개구(126) 상에 형광 방사선을 포커싱시키고, 여기서 개구는 초점을 벗어난 방사선을 배제할 수 있다. 렌즈(104)는 개구를 통과하는 방사선을 시준하며, 여기서 시준된 방사선은 도 9a와 관련하여 전술한 방식으로 광전자 증배관들 사이에 분배된다.
일부의 구현예에서, 상기 시스템(10)은 여기 방사선을 사용하여 (샘플의 부재시의 유동 세포의) 샘플의 암시야 이미지 및 명시야 이미지를 제공하도록 구성될 수 있다. 예로서, 도 9c는 샘플의 암시야 이미지 및 명시야 이미지를 각각 검출하기 위한 2개의 검출 아암(200 및 202)을 포함하는 시스템(10)의 일 구현예를 개략적으로 도시하고 있다.
보다 상세하게, 검출 아암(200)은 유동 세포를 통해 유동하는 샘플에 의해 산란된 여기 방사선의 일부분을 수용하도록 여기 방사선의 전파에 수직하게 위치된다. 검출 아암(200)은 2개의 렌즈(204 및 206)를 포함하고, 이들 렌즈는 샘플에 의해 산란된 여기 방사선의 적어도 일부분을 렌즈(204)에 의해 대응되는 입체각으로 광전자 증배관(208) 상으로 집합적으로 지향시킨다. 더욱 상세하게, 렌즈(204)는 수용된 산란 방사선을 시준하고, 렌즈(206)는 평행한 산란 방사선을 광전자 증배관(208) 상에 포커싱시킨다. 본 구현예에서, 적절한 대역 통과 필터(210)는 원하는 주파수를 갖는 방사선을 광전자 증배관(208)으로 통과시키면서 원치 않는 주파수의 방사선을 차단하도록 광전자 증배관(208)의 전방에 배치된다. 광전자 증배관(208)의 출력은 당업계에 알려진 방식으로, 예를 들어 후술하는 바와 같은 분석 모듈에 의해 처리되어 암시야 이미지를 생성할 수 있다.
검출 아암(202)은 차례로 2개의 렌즈(212 및 214)를 포함하며, 여기서 렌즈(212)는 전방 방향으로(실질적으로 유동 세포(54)에 진입하는 여기 방사선의 전파 방향을 따라) 유동 세포를 빠져나가는 여기 방사선을 시준하고, 렌즈(214)는 시준된 방사선을 광검출기(216) 상에 포커싱시킨다. 광검출기의 전방에 배치된 적절한 필터(218), 예를 들어 대역 통과 필터는 여기 주파수를 광검출기(216)로 투과시키면서 다른 방사선 주파수를 실질적으로 차단한다. 광검출기(216)의 출력은 당업계에 알려진 방식으로 처리되어 유동 세포의 명시야 이미지를 생성할 수 있다.
이에 따라, 검출 아암(200)은 세포를 통해 유동하는 유체에 의해 산란된 여기 방사선을 검출하고, 검출 아암(202)은 유동 세포를 통해 투과되는 여기 방사선을 검출한다. 유체가 유동 세포를 통해 유동하지 않을 때, 광전자 증배관(208)에 의해 검출된 신호는 낮고, 광검출기(216)에 의해 검출된 신호는 높은데, 이는 유동 세포를 통과하는 여기 방사선의 산란이 거의 없기 때문이며, 따라서 대부분의 여기 방사선, 및 일부 경우에는 모든 여기 방사선이 유동 세포를 통해 투과된다. 대조적으로, 유동 세포를 통한 유체 샘플의 유동은 샘플에 의한 여기 방사선의 일부분의 산란으로 인해 광전자 증배관(208)에 의해 생성된 신호를 증대시킬 수 있고, 광검출기(216)에 의해 생성된 신호는 유동 세포를 통해 투과된 여기 방사선의 레벨이 감소하므로 감소한다.
다른 예로서, 그리고 도 9d를 참조하면, 본 교시에 따른 시스템의 일 구현예에서, 여기 방사선의 전파 방향에 실질적으로 직교하는 방향으로 유동 세포(54)에 대해 위치된 검출 아암(220a)은 샘플 내의 복수의 형광단에 의해 방출된 형광 방사선뿐만 아니라, 샘플에 의해 산란된 여기 방사선 둘 모두를 검출하기 위한 광검출기를 포함한다. 더욱 상세하게, 검출 아암(220)은 비집속 방사선을 배제하는 개구(226) 상에 형광 방사선뿐만 아니라 산란된 여기 방사선을 지향시키는 렌즈(222 및 224)를 포함한다. 렌즈(228)는 개구를 통과하는 방사선을 시준한다. 이색성 미러(230)는 암시야 이미지의 검출을 위해 여기 주파수의 방사선의 일부분을 광전자 증배관(232) 상으로 반사시키면서 형광 방사선을 통과시킨다. 광전자 증배관(232)의 전방에 배치된 적절한 필터(232a), 예를 들어 대역 통과 필터는 여기 주파수의 방사선을 광전자 증배관(232)으로 통과시키면서 원치 않는 방사선 주파수를 차단한다. 다른 이색성 미러(234)는 제1 주파수로 형광단에 의해 방출된 형광 방사선을 광전자 증배관(236) 상으로 반사시키면서 다른 주파수로 다른 형광단에 의해 방출된 형광 방사선을 통과시킨다. 다른 이색성 미러(238)는 제2 주파수로 다른 형광단에 의해 방출된 형광 방사선을 광전자 증배관(240) 상으로 반사시키면서 제3 주파수로 또 다른 형광단에 의해 방출된 형광 방사선을 통과시키며, 여기서 이것이 광전자 증배관(242)에 의해 검출된다. 이전의 구현예와 유사하게, 복수의 필터(236a, 240a 및 242a)는 광전자 증배관(236, 240 및 242)의 전방에 각각 배치되어, 원하는 주파수의 방사선을 투과시키면서 원치 않는 방사선 주파수를 실질적으로 차단한다.
계속해서 도 9d를 참조하면, 본 교시에 따른 시스템의 이와 같은 실행예는, 예를 들어 도 9c와 관련하여 논의된 방식으로, 명시야 이미지를 생성하기 위한 다른 검출 아암(220b)을 추가로 포함한다. 더욱 상세하게, 검출 아암(202)은 여기 방사선의 명시야 이미지를 생성하기 위해 광검출기(216) 상에 광을 포커싱시키는 2개의 렌즈(212 및 214)를 포함한다. 필터(218), 예를 들어 대역 통과 필터는 광검출기(216)의 전방에 배치되어, 검출기로 여기 방사선을 통과시키면서 원치 않는 방사선 주파수를 배제한다.
도 1뿐만 아니라 도 10을 다시 참조하면, 본 구현예에서, 트랜스임피던스 증폭기(transimpedance amplifier)(70)는 광검출기에 의해 생성된 신호를 증폭하기 위해 광검출기(64)(또는 도 9a 내지 9d와 관련하여 논의된 각각의 광검출기)의 출력부에 결합될 수 있다. 데이터 분석 유닛(72)(본 명세서에서는 분석 모듈 또는 분석기라고도 지칭됨)은 증폭된 신호를 수신하고 신호를 분석하여 샘플의 형광 이미지를 생성한다. 데이터 분석 유닛(72)은 하드웨어, 펌웨어 및/또는 소프트웨어로 구현될 수 있다. 예로서, 검출된 형광 데이터를 분석하기 위한 방법은 프로세서의 제어하에서 액세스되는 분석 모듈의 판독 전용 메모리(ROM) 유닛에 저장되어 수신된 형광 신호를 분석할 수 있다.
하기에서 더욱 상세히 논의되는 바와 같이, 분석 방법은 시변 광검출기의 출력의 주파수 성분을 결정하고, 이와 같은 주파수 성분에 기초하여 샘플의 형광 이미지를 구성한다. 광검출기 출력의 주파수 성분을 결정하기 위한 다양한 방법이 이용될 수 있다. 이와 같은 적절한 방법의 일부 예는 푸리에 변환, 록인 검출(lock-in detection), 필터링, I/Q 복조, 호모다인 검출(homodyne detection) 및 헤테로다인 검출(heterodyne detection)을 포함하지만, 이로 제한되지 않는다.
예로서, 도 11a 및 도 11b는 샘플의 형광 이미지를 생성하기 위해 분석 모듈(72)에 의해 수행될 수 있는 예시적인 분석 단계를 도시하고 있다. 단계 (1)에서, 아날로그 증폭 신호는 디지털화되어 디지털화된 형광 데이터를 생성한다. 단계 (2)에서, 디지털화된 데이터의 적절한 부분(길이)이 분석을 위해 선택된다. 예를 들면, 샘플의 조명된 열(본 명세서에서는 프레임이라고도 지칭됨)에 대응하는 형광 데이터가 분석을 위해 선택될 수 있다. 대안적으로, 데이터 프레임의 일부분이 분석을 위해 선택될 수 있다.
단계 (3)에서, 선택된 데이터의 푸리에 변환이 수행된다. 예로서, 일부의 구현예에서, 데이터의 고속 푸리에 변환(Fast Fourier Transform; FFT)이 수행되어 데이터의 주파수 성분을 결정한다. 일부의 이와 같은 구현예에서, FFT의 빈(bin)은 데이터 획득을 위해 선택된 주파수에 대응할 수 있다. 예를 들면, 256 MHz 샘플링 속도의 경우, 256개의 샘플은 1 MHz만큼 서로 분리된 주파수 빈, 예를 들어 DC로부터 128 MHz까지를 산출할 수 있다. FFT 분석은 방출된 형광 방출이 진폭 변조를 나타내는 비트 주파수에 대응하는 주파수를 제공한다.
계속해서 도 11a 및 도 11b를 참조하면, 본 구현예에 있어서, 단계 (4)에서, FFT 데이터에 존재하는 각각의 주파수 성분의 진폭의 크기는 그와 같은 주파수 성분의 실수 및 허수 성분의 제곱의 합의 제곱근을 얻음으로써 산출된다. 각각의 주파수 성분이 샘플의 특정 위치로부터 형광 방사선을 유도하는 데 이용되는 비트 주파수 중 하나에 대응하므로, 주파수 성분의 진폭의 크기는 샘플의 수평 열을 따르는 그와 같은 주파수 성분과 관련된 위치에 대한 픽셀 수치를 제공할 수 있다. 이와 같은 방식으로, 샘플의 수평 열의 이미지에 대한 픽셀 값이 결정될 수 있다. 샘플이 수직 방향으로 유동 세포를 통해 흐를 때 샘플의 각 수평 열에 대해 얻어진 형광 데이터에 대하여 상기 단계가 반복될 수 있다. 픽셀 값은 형광 이미지를 구성하는 데 사용될 수 있다(단계 5).
전술한 바와 같이, 분석 모듈(72)은 당업계에 알려진 기술을 사용하여 그리고 본 교시에 따라 하드웨어, 펌웨어 및/또는 소프트웨어로 구현될 수 있다. 예로서, 도 12는 증폭기(70)로부터 증폭된 형광 신호를 수신하고 그와 같은 신호를 디지털화하여 디지털화된 형광 데이터를 생성하기 위한 아날로그-디지털 변환기(74)를 포함하는 분석기(72)의 예시적인 실행예를 개략적으로 도시하고 있다. 분석 모듈은, 계산 및 논리 연산을 수행하는 것을 포함하여, 분석 모듈의 작동을 제어하기 위한 중앙 처리 장치(CPU)(76)를 추가로 포함한다. 분석 모듈은 또한 ROM(판독 전용 메모리)(78), RAM(랜덤 액세스 메모리)(80) 및 영구 메모리(permanent memory)(82)를 포함한다. 통신 버스(84)는, CPU(76)와 다른 구성요소 사이의 통신을 포함하여, 분석 모듈의 다양한 구성요소들 사이의 통신을 용이하게 한다. 메모리 모듈은 형광 데이터 및 분석 결과를 분석하기 위한 명령을 저장하는 데 사용될 수 있다. 예로서, 일부의 구현예에서, 데이터 분석을 위한 명령, 예를 들어 도 11a 및 도 11b와 관련하여 논의된 상기 단계를 수행하기 위한 명령이 ROM(78)에 저장될 수 있다. CPU는 RAM(80)에 저장된 디지털화된 형광 데이터를 연산하여 샘플의 형광 이미지(예를 들면, 1차원 또는 2차원 이미지)를 생성하도록 ROM(78)에 저장된 명령을 이용할 수 있다. CPU는 영구 메모리(82), 예를 들어 데이터베이스에 형광 이미지의 저장을 실행할 수 있다. 도 12에 개략적으로 도시된 바와 같이, 분석 모듈은 수신된 데이터(예를 들면, 형광 데이터)로부터 픽셀 강도 및 다른 양의 계산을 수행하기 위한 그래픽 처리 유닛(GPU)(76')을 선택적으로 포함할 수 있다.
일부의 구현예에 있어서, 광검출기에 의해 생성된 출력 신호의 주파수 복조는 록인 검출 기술을 사용하여 달성될 수 있다. 예로서, 도 13a 및 도 13b를 참조하면, 이와 같은 일 구현예에서, 증폭된 형광 신호는 디지털화되고(단계 1), 디지털화된 형광 신호의 몇 개의 사본이 생성되며(단계 2), 여기서 디지털화된 사본의 수(N)는 RF 콤 빔과 관련된 주파수의 수에 대응한다. 신호의 각각의 디지털화된 사본은 RF 콤 빔 중 하나와 LO 빔의 주파수들 사이의 차이와 동일한 비트 주파수에 대응하는 주파수를 갖는 사인파 및 코사인파와 곱해져서 복수의 중간 신호를 생성한다(단계 2). 각각의 중간 신호는 RF 콤 주파수들 사이의 주파수 간격의 절반과 동일한 대역폭을 갖는 저역 통과 필터를 통과한다(단계 3).
RF 콤 주파수 중 하나에 대응하는 각각의 비트 주파수(다시 말해서, 조명된 샘플의 공간 위치에 대응하는 각각의 주파수)에 대하여, 그와 같은 주파수에 대응하는 2개의 필터링된 중간 신호의 제곱의 합의 제곱근은 그와 같은 주파수를 갖는 RF 콤 빔 및 LO 빔에 의해 조명된 샘플 위치에 대응하는 이미지 픽셀의 진폭의 크기로서 얻어진다(단계 4). 일부의 구현예에서, 동일한 비트 주파수에 대응하는(즉, 동일한 샘플 위치에 대응하는) 다수의 형광 데이터 신호는 전술한 방식으로 처리될 수 있고, 픽셀 값이 평균되어 평균 픽셀 수치를 얻을 수 있다.
샘플이 수직 방향으로 유동 세포를 통해 흐를 때 샘플의 각 수평 열에 대해 얻어진 형광 데이터에 대하여 상기 단계가 반복될 수 있다. 픽셀 값은 형광 이미지를 구성하는 데 사용될 수 있다(단계 5).
상기 록인 검출 방법은 소프트웨어, 펌웨어 및/또는 하드웨어로 구현될 수 있다. 예로서, 일 구현예에서, 상기 록인 검출 방법은, 특히 6개 초과의 주파수가 사용되는 경우, 필드 프로그래머블 게이트 어레이(field programmable gate array; FPGA)를 사용하여 구현될 수 있다. 일부의 구현예에서, 취리히 인스트루먼츠(Zurich Instruments)(Zurich, Switzerland)에 의해 시판되는 HF2L-MF 다중 주파수 증폭기와 같은 다중 주파수 록인 증폭기가 이용될 수 있다.
다른 예로서, 일부의 구현예에서, 검출된 형광 신호의 주파수 복조는 대역 통과 필터-기반 이미지 복조 기술을 이용함으로써 달성될 수 있다. 도 14a 및 도 14b를 참조하면, 이와 같은 주파수 복조 방법의 일 구현예에서, 광 검출기(64) 및 증폭기(70)에 의해 제공된 형광 신호는 디지털화되고(단계 1), 디지털화된 신호의 몇 개의 사본이 생성되며(단계 2), 여기서 디지털화된 사본의 수(N)는 RF 콤 빔과 관련된 주파수의 수에 대응한다. 디지털화된 형광 신호의 각각의 사본은 RF 콤 빔 중 하나와 관련된 비트 주파수(즉, 샘플의 특정 위치와 관련된 비트 주파수)에 중심설정된 대역 통과 필터를 통해 그와 같은 신호를 통과시킴으로써 필터링된다(단계 3). 더욱 상세하게, 각각의 대역 통과 필터는 N개의 비트 주파수 중 하나에 중심설정되고, 인접한 비트 주파수들 사이의 주파수 간격의 절반과 동일한 대역폭을 갖는다.
각각의 비트 주파수에서의 포락선 검출기는, 각각의 수평 라인에 대해, 그와 같은 주파수에 대응하는 각 픽셀의 진폭을 추정하는 데 이용된다(단계 4). 일부 경우에, 픽셀에 대응하는 것으로서, 그와 같은 픽셀과 관련된 샘플 위치에 대응하는 다수의 형광 신호를 처리함으로써 얻어진 복수의 픽셀 값이 평균되어 평균 픽셀 수치를 얻는다. 샘플이 수직 방향으로 유동 세포를 통해 흐를 때 샘플의 각 수평 열에 대해 얻어진 형광 데이터에 대하여 상기 단계가 반복될 수 있다. 픽셀 값은 샘플의 1차원 또는 2차원 형광 이미지를 구성하는 데 사용될 수 있다(단계 5).
분석 모듈은 또한 명시야 및 암시야 이미지 데이터를 수신 및 처리하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 도 9c 및 도 10을 참조하면, 분석 모듈(72)은 암시야 및 명시야 이미지를 생성하기 위해 광검출기(208 및 218)로부터 암시야 및 명시야 이미지 데이터를 수신하도록 추가로 구성될 수 있다. 예를 들면, 도 12를 참조하면, 예를 들어 당업계에 알려진 방식으로 암시야 및 명시야 이미지를 생성하기 위한 명령이 영구 메모리(82)에 저장될 수 있다. 프로세서(76)는 이와 같은 명령을 이용하여 수신된 암시야 및 명시야 이미지 데이터를 처리하여 이미지를 생성할 수 있다. 분석 모듈은 또한, 예를 들어 명시야 및 암시야 이미지 중 하나 또는 둘 모두 및 형광 이미지를 오버레이함으로써 합성 이미지를 생성하도록 구성될 수 있다.
상기 시스템(10)과 같은 본 교시에 따른 시스템에 의해 생성된 명시야 및 암시야 이미지뿐만 아니라 형광 이미지가 다양한 상이한 방식으로 사용될 수 있다. 예를 들면, 형광 이미지는 종래의 유동 세포 계측기에 의해 생성된 데이터와 필적하는 수치를 생성하도록 적분될 수 있다. 형광 이미지는 또한 그와 같은 이미지를 유발하는 형광 프로브의 위치를 결정하도록 분석될 수 있다(예를 들면, 프로브가 세포핵에 있는지, 세포질에 있는지, 세포 기관에 국소화되어 있는지 또는 세포막 외부에 있는지가 결정될 수 있음). 또한, 일부 응용에서, 모두가 동일한 세포로부터 취해진 상이한 형광 대역을 검출함으로써 얻어진 다수의 형광 이미지는 세포 내의 다수의 형광 프로브의 공-편재화 정도를 결정하는 데 사용될 수 있다. 추가적으로, 그 중에서도, 세포 형태, 세포 신호전달, 내재화(internalization), 세포-세포 상호작용, 세포 사멸, 세포 주기 및 스폿 계수(예를 들면, FISH)의 분석이 다색 형광, 명시야 및 암시야 이미지를 사용하여 가능하다.
전술한 바와 같이, 상기 시스템(10)은 적어도 3개의 상이한 모드로 작동될 수 있다. 전술한 하나의 모드에서, LO 빔 및 복수의 RF 콤 빔은 샘플의 일부분(예를 들면, 수평 범위를 따라 배치된 위치)을 동시에 조명하고, 조명된 위치로부터 방출된 형광 방사선이 검출 및 분석되어 샘플의 형광 이미지를 구성한다. 다른 작동 모드에서, 복수의 RF 구동 신호를 AOD에 동시에 인가하기보다는, 레이저 빔의 주파수가 시작 주파수(f1)로부터 종료 주파수(f2)까지 시간에 따라 변화되도록 구동 신호를 포함하는 주파수 램프가 AOD에 인가된다. 주파수 램프에서의 각 구동 주파수에 대하여, 레이저 빔의 주파수는 그와 같은 구동 주파수에 의해 편이되고, 샘플은 주파수 편이된 레이저 빔에 의해 조명되어 샘플로부터 형광 방사선을 유도한다. 다시 말해서, 이와 같은 모드에서, 상기 시스템은 중심 레이저 주파수로부터 편이되는 복수의 주파수로 소정 시간 간격에 걸쳐 샘플을 연속적으로 조명함으로써 샘플로부터 형광 방사선을 얻도록 작동된다. AOD에 의해 생성된 주파수 편이는 각도 편향을 수반하여, 동일한 광학 경로를 사용하여 빔이 샘플을 가로질러 고속으로 스캐닝되게 한다.
더욱 상세하게, 이와 같은 작동 모드에서, RF 주파수 합성기(10)는 AOD(18)에 인가된 구동 신호를 시작 주파수(f1)로부터 종료 주파수(f2)까지 램핑(ramping)하는 데 이용된다. 예로서, 구동 신호가 램핑되는 주파수 범위는 약 50 MHz 내지 약 250 MHz일 수 있다. 일부의 구현예에서, 구동 신호는 약 100 MHz 내지 약 150 MHz로 램핑된다. 본 구현예에서, 구동 주파수는, 예를 들어 고속을 달성하기 위해, 시간에 따라 연속적으로 변화된다. 다른 구현예에서, 구동 주파수는 시작 주파수(f1)로부터 종료 주파수(f2)까지 별개 스텝으로 변화될 수 있다.
주파수 편이된 빔이 미러(28)를 지나치고, 렌즈(26), 렌즈(30), 미러(40/42), 빔 스플리터(44), 렌즈(46), 미러(56), 렌즈(50), 미러(58) 및 대물 렌즈(52)에 의해 규정된 광학 경로를 따라 전파하여 샘플 홀더를 통해 유동하는 샘플의 일부분을 조명하도록, 구동 주파수가 선택된다. 램프 속도는, 샘플이 빔을 가로질러 흐를 때 방출된 형광 방사선에 기초하여 생성될 형광 이미지의 수직 방향에서의 임의의 흐림(blur)을 개선하고 바람직하게는 방지하기에 충분하게 빠른 것이 바람직하다. 이것은 예를 들어 램프 속도를 샘플의 유동 속도와 정합시킴으로써 얻어질 수 있다. 샘플에서의 레이저 스폿 크기는 적절한 속도를 추정하는 데 사용될 수 있다. 예로서, 1 마이크로미터의 레이저 스폿 크기에 대하여, 1 라인을 가로지르는 스캔 시간은 이미지 흐림을 회피하기 위해 초당 0.1 미터의 샘플 유동 속도에 대해 10 마이크로초 이하이어야 한다.
여기 방사선에 의한 조사에 반응하여 샘플로부터 방출된 형광 방사선은 전술한 방식으로 수집 및 검출된다. 구체적으로는, 도 10을 참조하면, 형광 방사선은 광검출기(64)에 의해 검출된다. 검출된 형광은 증폭기(70)에 의해 증폭되고, 증폭된 신호는 분석 모듈(72)에 의해 분석되어 샘플의 형광 이미지를 재구성한다. 이미지의 재구성은 시작 주파수(f1)로부터 종료 주파수(f2)까지의 스캔 기간 내의 특정 시간에 대해 수평 픽셀 위치를 할당함으로써 수행된다. 상기 작동 모드에서와 같이 픽셀 수치를 얻기 위해 주파수 성분의 진폭을 분석하는 것과는 대조적으로, 본 작동 모드에서 사용되는 복조 접근법은 검출된 형광 신호의 시간 영역 값만을 사용하여 이미지의 픽셀에 대해 수치를 할당한다. 샘플이 수직 방향으로 흐를 때 샘플의 2차원 형광 이미지를 얻기 위해 프로세스가 반복될 수 있다.
샘플에 의해 방출된 형광 방사선은, 만약 있다면, 광검출기(64)에 의해 수집된다. 도 10을 참조하면, 검출된 형광 방사선은 증폭기(70)에 의해 증폭된다. 분석 모듈(72)은 증폭된 신호를 수신한다. 본 작동 모드에서, 분석 모듈은 형광 신호를 분석하여 샘플, 예를 들어 세포/입자의 형광 성분을 결정한다. 본 작동 모드에서 샘플을 여기시키는 빔이 하나뿐이기 때문에, 샘플을 여기하는 것에 반응하여 비트 주파수가 생성되지 않는다. 따라서, 형광 신호의 주파수 영역에서는 이미지 정보가 없다. 오히려, 검출된 형광 신호는 시간 영역에서 인코딩된 이미지 정보를 갖는다. 본 작동 모드에서, 이미지는 검출된 형광 신호의 시간 수치를 수평 픽셀 좌표로서 사용하고 형광 신호의 디지털화된 전압 수치를 픽셀 값(밝기)으로서 사용하여 디지털적으로 재구성될 수 있다. AOD에 인가된 구동 주파수의 각 스캔은 이미지의 하나의 수평 라인(열)을 생성한다. 이미지 재구성은 샘플이 조명 영역(지점)을 통해 흐를 때 연속 스캔을 통해 달성된다.
또 다른 작동 모드에서, 상기 시스템(10)은 예를 들어 무선주파수에 의해 레이저 빔의 중심 주파수를 편이시킴으로써 생성될 수 있는 단일 여기 주파수에 의해 동시에 샘플의 복수의 위치를 조명하도록 작동될 수 있다. 더욱 상세하게, 도 1을 다시 참조하면, 이와 같은 작동 모드에서, 단일 구동 무선주파수는 AOD(18)에 진입하는 레이저 빔에 대해 편이되는 주파수를 갖는 레이저 빔을 생성하도록 AOD(18)에 인가될 수 있다. 또한, 주파수 편이된 레이저 빔은 AOD에 진입하는 레이저 빔에 대해 각도 편이를 나타내어, 무선주파수 레이저 빔이 미러(28)에 의해 차단되고 렌즈(32) 및 미러(33 및 35)를 통해 톱햇 빔 셰이퍼(34)를 향해 반사된다. 톱햇 빔 셰이퍼를 빠져나가는 빔은 빔 스플리터(44)에 의해 반사되고, 렌즈(46)에 의해 중간 이미지 평면(48) 상에 포커싱된다. 이와 같은 평면에서, 도 15a에 개략적으로 도시된 바와 같이, 레이저 빔(1000)은 수평 방향을 따라 신장된 프로파일을 나타낸다.
수평으로 신장된 레이저 빔은 미러(56)에 의해 포지티브 렌즈(50)로 반사된다. 렌즈(50)를 통과한 후에, 레이저 빔은 미러(58)에 의해 대물 렌즈(52)로 반사된다. 전술한 바와 같이, 포지티브 렌즈(50) 및 대물 렌즈(52)는 톱햇 프로파일형 레이저 빔을 중간 이미지 평면(48)으로부터 유동 세포(54)를 통해 유동하는 샘플 상으로 중계하기 위한 망원경을 형성한다.
수평으로 신장된 레이저 빔은 샘플의 수평 범위를 조명하여, 샘플에 존재한다면, 고려되는 형광단을 수평 범위를 따라 여기시킨다. 따라서, 본 작동 모드에서, 샘플의 복수의 수평 위치가 상이한 여기 주파수로 조명되는 제1 작동 모드와는 달리, 샘플의 복수의 수평 위치가 동일한 여기 주파수로 조명된다. 본 작동 모드는 사용자가 유동하는 세포 또는 입자의 이미지를 얻을 수 없게 한다. 그러나, 본 작동 모드에서는, 전형적으로 다른 2개의 작동 모드에서보다 높은 광 파워가 샘플에 인가될 수 있으며, 이는 이미지가 필요하지 않은 경우에 보다 높은 신호대 잡음비 데이터를 얻는 데 유용할 수 있다. 본 작동 모드는, 시스템에 어떠한 기계적인 변화도 가할 필요 없이, 음향-광학 디플렉터를 구동하는 전자 신호를 단지 변경함으로써 액세스할 수 있다.
이에 따라, 상기 시스템(10)은 샘플로부터 형광 방사선을 유도하기 위해 3개의 별개 작동 모드로 작동될 수 있다.
일부의 구현예에 있어서, 형광 수명 측정은, 예를 들어 무선주파수 편이된 국부 발진기 빔 각각의 비트의 위상을 검출된 형광 신호 내의 각각의 무선주파수 성분의 위상과 비교함으로써, 샘플 상의 각각의 공간 위치에서 수행될 수 있다. 예로서, 도 15b는 이와 같은 형광 수명 측정(도 1에 도시된 특정 구성요소는 간략화를 위해 이 도면에 도시되어 있지 않음)을 허용하는, 전술한 시스템(10)의 변형된 버전인 시스템(10')을 도시하고 있다. 구체적으로는, 빔 스플리터(44)에 입사하는 RF 콤 빔의 일부분은 빔 스플리터에 의해 수렴 렌즈(400) 상으로 반사된다(예시로서, 본 구현예에서는, 렌즈(400)가 200 ㎜의 초점 거리를 갖지만, 다른 초점 거리가 또한 사용될 수 있음). 렌즈(400)는 여기 빔을 검출하는 포토다이오드(402) 상으로 RF 콤 빔의 그와 같은 부분을 포커싱시킨다. 포토다이오드(402)의 출력은 분석 모듈(72)에 의해 수신될 수 있다(도 10 참조). 분석 모듈은, 예를 들어 전술한 복조기술 중 하나를 사용하여, 여기 빔의 주파수 역다중화를 제공하고, 여기 빔 내의 각각의 무선주파수 성분의 위상을 결정할 수 있다. 이것은, 검출된 형광 신호의 각각의 무선주파수 성분에 대하여, 그와 같은 무선주파수 성분의 위상을 비교할 수 있는 기준 위상을 제공할 수 있다. 예를 들면, 여기 신호의 FFT의 실수 및 허수 성분, 또는 록인형 복조의 I 및 Q 성분이 이용될 수 있다. 대안적으로, 샘플/유동 세포의 명시야 이미지를 검출하는 검출기의 출력은 형광 비트 주파수의 위상을 비교할 수 있는 기준 위상을 얻는 데 사용될 수 있다.
더욱 상세하게, 분석 모듈(72)은, 예를 들어 전술한 방식으로, 검출된 형광 신호의 주파수 역다중화를 제공할 수 있다. 당업자에게 이해되는 바와 같이, 형광 신호의 각각의 비트 주파수에 대하여, 무선주파수 성분의 위상은 여기 빔의 각각의 기준 위상과 비교되어 공간적으로 분해된 형광 수명 측정치 및 형광 수명 이미지를 얻을 수 있다.
특정 구현예에 있어서, 본 시스템은 전술한 광학적 구성을 이용하여 유동 스트림 내의 샘플에 의해 방출된 광을 검출하는 유동 세포 계측기 시스템을 포함한다. 특정 구현예에서, 본 시스템은, 미국 특허 제3,960,449호; 제4,347,935호; 제4,667,830호; 제4,704,891호; 제4,770,992호; 제5,030,002호; 제5,040,890호; 제5,047,321호; 제5,245,318호; 제5,317,162호; 제5,464,581호; 제5,483,469호; 제5,602,039호; 제5,620,842호; 제5,627,040호; 제5,643,796호; 제5,700,692호; 제6,372,506호; 제6,809,804호; 제6,813,017호; 제6,821,740호; 제7,129,505호; 제7,201,875호; 제7,544,326호; 제8,140,300호; 제8,233,146호; 제8,753,573호; 제8,975,595호; 제9,092,034호; 제9,095,494호 및 제9,097,640호에 개시된 유동 세포 계측기의 하나 이상의 구성요소를 포함하는 유동 세포 계측기 시스템이며; 이들 특허 문헌의 개시내용은 본 명세서에 참조로 포함된다.
전술한 바와 같이, 일부의 구현예에서, 본 시스템은 유동 세포 계측기의 유동 스트림과 같은 유동 스트림을 유동하는 샘플 내의 입자(예를 들면, 세포)를 이미징하도록 구성된다. 유동 스트림 내의 입자의 유속은, 25 m/s 이상을 포함하여, 0.00001 m/s 이상, 예를 들어 0.00005 m/s 이상, 예를 들어 0.0001 m/s 이상, 예를 들어 0.0005 m/s 이상, 예를 들어 0.001 m/s 이상, 예를 들어 0.005 m/s 이상, 예를 들어 0.01 m/s 이상, 예를 들어 0.05 m/s 이상, 예를 들어 0.1 m/s 이상, 예를 들어 0.5 m/s 이상, 예를 들어 1 m/s 이상, 예를 들어 2 m/s 이상, 예를 들어 3 m/s 이상, 예를 들어 4 m/s 이상, 예를 들어 5 m/s 이상, 예를 들어 6 m/s 이상, 예를 들어 7 m/s 이상, 예를 들어 8 m/s 이상, 예를 들어 9 m/s 이상, 예를 들어 10 m/s 이상, 예를 들어 15 m/s 이상일 수 있다. 예를 들면, 유동 스트림(예를 들어, 유동 노즐 오리피스)의 크기에 따라, 본 시스템에서, 유동 스트림은, 500 ㎕/분 이상을 포함하여, 0.001 ㎕/분 이상, 예를 들어 0.005 ㎕/분 이상, 예를 들어 0.01 ㎕/분 이상, 예를 들어 0.05 ㎕/분 이상, 예를 들어 0.1 ㎕/분 이상, 예를 들어 0.5 ㎕/분 이상, 예를 들어 1 ㎕/분 이상, 예를 들어 5 ㎕/분 이상, 예를 들어 10 ㎕/분 이상, 예를 들어 25 ㎕/분 이상, 예를 들어 50 ㎕/분 이상, 예를 들어 100 ㎕/분 이상, 예를 들어 250 ㎕/분 이상의 유량을 가질 수 있다.
일부 측면에서, 입자, 예를 들어, 세포의 하나 이상의 특징의 추정치를 제공하기 위한 방법 및 시스템이 개시된다. 일 예로서, 도 16a는 입자의 하나 이상의 특징을 결정하기 위한 본 교시의 구현예에 따른 하나의 예시적인 방법에서 다양한 단계를 도시한 순서도를 나타낸 것이다. 입자는 입자로부터 적어도 하나의 방사성 반응을 유발시키기 위해 입자가 유세포 분석 시스템을 통해 흐를 때 무선주파수-변조 광학 빔으로 조명된다(단계 1). 일 예로서, 무선주파수-변조 광학 빔은 무선주파수에 의해 서로 편이된 광 주파수를 갖는 적어도 2개의 빔렛을 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 무선주파수 편이는 약 10 MHz 내지 약 250 MHz의 범위일 수 있다. 예를 들어, 무선주파수 편이는 약 55 MHz 내지 약 225 MHz, 예를 들어, 약 60 MHz 내지 약 200 MHz, 예를 들어, 약 65 MHz 내지 약 175 MHz, 예를 들어, 70 MHz 내지 약 150 MHz 및 약 75 MHz 내지 약 125 MHz의 범위일 수 있다. 일 예로서, 일부 구현예에서, 무선주파수-변조 광학 빔은 음향 광학 디플렉터(AOD)에 레이저 빔을 도입하고, 예를 들어, 상기에 논의된 방식으로 상기 무선주파수에 의해 서로에 대해 편이된 광 주파수를 갖는 복수의 각 분리된 빔렛을 생성시키기 위해 AOD에 하나 이상의 무선주파수의 하나 이상의 구동 신호를 인가함으로써 생성될 수 있다.
일부 구현예에서, 무선주파수 변조 광학 빔에 의한 입자의 조명에 반응하여 입자로부터 유발된 방사성 반응은 임의의 형광 및/또는 산란된 방사선일 수 있다.
도 16a의 순서도를 계속 참조하면, 입자로부터 방출된 방사성 반응이 검출될 수 있으며(도 2), 방사성 반응과 관련된 시간적 파형 데이터가 생성될 수 있다(단계 3). 다양한 방사선 검출 방식 및 검출기, 예를 들어, 상기에 논의된 것들은 유발된 방사선 반응을 검출하기 위해 사용될 수 있다. 일부 구현예에서, 생성된 파형은 형광 및/또는 산란 파형 데이터일 수 있다. 파형 데이터는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하기 위해 처리될 수 있다. 여러 구현예에서, 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하기 위한 파형 데이터의 이러한 처리는 파형 데이터를 기초로 하여 입자의 이미지를 생성시키지 않으면서 수행될 수 있다. 일부 구현예에서, 처리 단계는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하기 위해 하나 이상의 비트 주파수 변조 시간적 파형 데이터를 분석하는 것을 포함한다. 일부 구현예에서, 처리 단계는 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하는 것과 관련된 지연시간이 약 100 마이크로초 미만이도록 충분히 빠르게 수행된다.
일부 구현예에서, 상기 방법은 다른 것들 중에서, 임의의 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 방사성 반응의 점상화도(예를 들어, 입자에 의해 방출된 형광 방사선의 점상화도)의 추정치를 획득하기 위해 사용될 수 있다.
상기 방법은 다양한 상이한 입자의 하나 이상의 특징의 추정치를 획득하기 위해 사용될 수 있다. 일 예로서, 입자는 임의의 세포, 작은 유기체(예를 들어, 선충류 c. 엘레건), 비드, 마이크로입자, 나노입자, 바이러스 입자, 박테리아, 엑소좀, 또는 약제품일 수 있다.
도 16b는 입자, 예를 들어, 세포의 적어도 하나의 특징을 추정하기 위한 일 구현예에 따른 시스템(3000)을 개략적으로 도시한 것이다. 예시적인 시스템(3000)은 무선주파수-변조 광학 레이저 빔으로 유세포 분석 시스템의 셀을 통해 흐르는 하나 이상의 입자를 조명하기 위한 조명 시스템(3002)을 포함한다. 검출기(3004)는 이의 조명에 반응하여, 입자의 방사성 반응, 예를 들어, 형광 및/또는 산란된 방사선을 검출하고, 방사성 반응을 지시하는 하나 이상의 신호를 생성시킬 수 있다. 분석기(3006)는 검출기로부터 신호(들)를 수용하고 시간적 파형 데이터를 생성시키고, 입자의 하나 이상의 특징의 추정치를 유발시키기 위해 그러한 파형 데이터에 대해 작동한다.
분석기(3006)는 입자, 예를 들어, 세포의 하나 이상의 측징의 추정치를 획득하기 위해 파형 데이터를 분석하기 위한 다양한 상이한 방법을 이용할 수 있다. 일 예로서, 일부 구현예에서, 입자는 적어도 2개의 형광 마커로 염색될 수 있으며,여기서, 각 마커는 무선주파수-변조 광학 방사선에 의한 조명에 반응하여 형광 방사선을 방출시키도록 구성된다. 형광 방사선은 각각이 마커들 중 하나에 해당하는 형광 파형을 생성시키기 위해 검출 및 디지털화될 수 있다. 분석기는 마커로부터 방출하는 형광 방사선의 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 형광 파형에 대해 작동할 수 있다. 상세하게, 분석기는 적어도 하나의 적분된 파형을 생성시키기 위해 파형 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 배수 파형을 적분하고, 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 사전규정된 문턱값과 적분된 수치를 비교할 수 있다. 다른 예로서, 일부 구현예에서, 유세포 분석 시스템에서 입자 흐름 방향에 대해 수직 또는 평형한 방향을 따르는 입자 크기의 추정치가 획득될 수 있다. 예를 들어, 이러한 일부 구현예에서, 입자 흐름 방향에 대해 수직 방향에서의 입자 크기의 추정치는 무선주파수-변조 광학 빔에 의한 조명에 반응하여 입자에 의해 방출된 형광 방사선에 해당하는 형광 파형을 제곱하고, 제곱된 파형에 대역 통과 필터를 적용하고, 사전규정된 문턱값과 적분된 수치를 비교함으로써 획득될 수 있다. 또한, 일부 구현예에서, 분석기는 입자 흐름 방향과 평행한 방향에서 입자 크기의 추정치를 획득하기 위해 산란 데이터를 사용할 수 있다.
하기에 논의되는 바와 같이, 유세포 분석 시스템을 통해 흐르는 입자의 하나 이상의 추정된 특징은 즉, 그러한 입자를 분류하는 지의 여부에 따라, 그러한 입자와 관련항 분류 결정에 도달하기 위해 사용될 수 있다. 적어도 하나의 입자의 특징의 추정치를 획득하기 위해 파형 데이터에 대해 작동하도록 사용될 수 있는 처리 방법의 일부 예는 그러한 세포에 관한 분류 결정에 도달하기 위해 유세포 분석기를 통해 흐르는 세포의 특징의 추정치를 이용하는 맥락에서 하기에 논의된다. 이러한 처리 방법이 세포와는 다른 입자의 특징의 추정치를 획득하기 위해 사용될 수 있으며, 추가로 추정된 특징이 분류 목적을 위해 사용되지 않을 수 있는 것으로 이해되어야 한다.
관련된 측면에서, 입자의 하나 이상의 특징으로 기초로 하여, 유세포 분석기를 통해 흐르는 입자, 예를 들어, 세포의 집단의 자동 게이팅(예를 들어, 컴퓨터-보조 게이팅)을 위한 방법이 개시된다. 일 예로서, 이러한 방법은 사전규정된 범위 내의 입자의 크기를 기초로 하여 유세포 분석기를 통해 흐르는 복수의 입자의 서브세트를 게이팅할 수 있다. 예를 들어, 도 16aa의 순서도를 참조하면, 이러한 방법은 유세포 분석기 내에 복수의 입자를 함유한 샘플을 도입하고(단계 1), 하나 이상의 유세포 분석기 측정으로부터, 복수의 입자에 대한 적어도 하나의 입자 특징의 추정치를 획득하는(단계 2) 것을 포함할 수 있다. 적어도 하나의 입자 특징을 획득하는 단계는 입자로부터 방사성 반응을 유발시키기 위해 입자가 유세포 분석기를 통해 흐를 때 입자를 무선주파수에 의해 서로 편이된 적어도 2개의 광 주파수를 갖는 방사선으로 조명하고, 반응과 관련된 시간적 파형 데이터를 생성시키기 위해 입자로부터 방사성 반응을 검출하고, 상기 시간적 파형 데이터를 변조시키는 하나 이상의 비트 주파수를 분석함으로써 상기 적어도 하나의 입자 특징의 수치를 획득하기 위해 상기 시간적 파형 데이터를 처리하는 것을 포함할 수 있다. 본 방법은 컴퓨터 프로세서를 통해, 사전규정된 범위 내에 있는 입자 특징의 수치를 갖는 하나 이상의 입자를 지시하는 게이트를 식별하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 일 예로서, 사전규정된 범위 내의 치수 크기(예를 들어, 측면 크기)를 갖는 입자가 게이팅될 수 있다.
시스템, 예를 들어, 도 16b에 도시된 시스템은 상기 게이팅 방법을 수행하기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, 분석기(3006)는 예를 들어, 무선주파수-변조 광학 빔에 의한 조명에 반응하여 입자에 의해 방출된 형광 방사선에서 하나 이상의 비트 주파수의 분석을 기초로 하여 복수의 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 결정하고 입자의 특징의 추정치가 그러한 입자에 대해 게이팅 결정에 도달하기 위해 사전규정된 범위 내에 있는 지의 여부를 결정(예를 들어, 결정된 특징이 사전규정된 범위 내에 있는 경우에, 입자가 게이팅될 것임)하기 위해 프로그래밍될 수 있다. 일부 구현예에서, 본 교시를 기초로 하여 변형된 바와 같은, 미국특허번호 제8,990,047호(발명의 명칭 "Neighborhood Thresholding in Mixed Model Density Gating")의 교시는 유세포 분석기를 통해 흐르는 입자를 게이팅하기 위해 사용될 수 있다. 미국특허번호 제8,990,047호는 전문이 본원에 참고로 포함된다.
일부 측면에서, 무선주파수 변조 광학 방사선, 예를 들어, 하나 이상의 무선주파수에 의해 서로 분리된 둘 이상의 광 주파수를 포함하는 광학 방사선 빔을 통해 세포의 조사를 기초로 하여 그러한 세포를 분류하기 위한 방법 및 시스템이 개시되어 있다. 일부 구현예에서, 광학 빔은 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛을 포함할 수 있으며, 이들 각각은 다른 것에 대해 편이된 무선주파수를 갖는다. 일부 경우에, 이러한 빔의 사용은 상이한 무선주파수-편이된 광 주파수에서 입자(예를 들어, 세포) 내의 상이한 위치를 조명할 수 있다. 하기에서 보다 상세히 논의되는 바와 같이, 이러한 방법은 검출된 신호(들)를 기초로 하여 형광 이미지를 계산할 필요 없이 광학 빔에 의한 조명에 반응하여 세포에 의해 생성된 시변 신호를 사용함으로써 분류 결정을 제공할 수 있다. 본 교시에 따른 방법의 다양한 구현예가 세포 분류의 맥락에서(예를 들어, 유세포 분석 시스템에서) 하기에 논의되어 있지만, 본원에 기술된 방법은 또한, 다른 타입의 입자, 예를 들어, 작은 유기체(예를 들어, 선충류 c. 엘레건), 비드, 마이크로입자, 나노입자, 바이러스 입자, 박테리아, 엑소좀, 또는 약제품을 분류하기 위해 사용될 수 있다. 일부 구현예에서, 본 교시를 이용하여 분류될 수 있는 입자는 약 50 나노미터 내지 약 1 밀리미터의 범위, 예를 들어, 약 100 나노미터 내지 약 1 마이크로미터 범위의 크기(예를 들어, 최대 크기)를 가질 수 있다.
또한, 여러 구현예에서, 본원에 논의된 분류 방법은 예를 들어, 세포 또는 다른 입자가 높은 입자 처리량(초당 1000 초과의 분류 작업이 수행될 수 있음)으로 작동하는 분류 장비를 이용하여 분류될 수 있도록, 낮은 지연시간으로 분류 결정을 제공하기 위해 사용될 수 있다. 일 예로서, 본원에 기술된 방법은 약 100 마이크로초 이하, 예를 들어, 약 10 마이크로초 내지 약 100 마이크로초 범위, 또는 약 20 마이크로초 내지 약 80 마이크로초 범위, 또는 약 30 마이크로초 내지 약 70, 또는 50 마이크로초 범위의 지연시간으로 분류 결정을 만들기 위해 사용될 수 있다. 본원에서 사용되는 용어 "지연시간(latency)"은 입자, 예를 들어, 세포를 조명하고, 방사선을 조사하고 입자의 특징 및/또는 그러한 입자와 관련한 분류 결정하는 것 사이에 시간 지연을 나타내는 것이다.
일 예로서, 도 16c의 순서도는 입자로부터 방출되는 둘 이상의 형광단(예를 들어, 외인성 및/또는 내인성 형광단)에 해당하는 형광 신호의 공-편재화도를 기초로 하여 입자(예를 들어, 세포)를 분류하기 위한 일 구현예에 따른 방법을 도시한 것이다. 보편성을 잃지 않으면서, 입자는 하기 논의에서 세포인 것으로 가정된다. 단계 (1)에서, 세포는 하나 이상의 무선주파수에 의해 서로 분리된 둘 이상의 광 주파수를 포함하는 광학 방사선 빔으로의 조명을 통해 광학적으로 조사된다. 일부 경우에, 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛을 포함할 수 있으며, 이들 각각은 다른 것에 비해 편이된 무선주파수를 갖는다. 이러한 빔의 사용은 하나 이상의 무선주파수에 의해 서로 편이된, 상이한 광 주파수에서 세포 내의 상이한 위치를 조명할 수 있다. 광 주파수는 세포와 관련되는 것으로 예상되는 둘 이상의 형광단을 여기시키기 위해 선택될 수 있다. 예를 들어, 형광단은 세포를 예를 들어, 염색을 통해 태그화시키는 형광 염료 분자일 수 있다. 일 예로서, 일부 구현예에서, 방사선 빔의 광 자푸사는 약 300 THz 내지 약 1000 THZ의 범위일 수 있으며, 광 주파수 간의 무선주파수 분리는 예를 들어, 약 50 MHz 내지 약 250 MHz의 범위일 수 있다.
여기된 세포로부터 방출하는 형광 방사선은 이후에, 두 개(또는 그 이상)의 별도의 형광 채널에서 수집될 수 있으며, 이들 각각은 형광단 중 하나에 의해 방출된 형광 방사선에 해당한다(단계 2). 이는 예를 들어, 도 9a와 관련하여 상기에 논의된 검출기 배열을 이용함으로써 달성될 수 있다. 각 채널에서 수집된 형광 방사선은 신호 수치의 시간 시퀀스로서 디지털화되고(단계 3) 표현될 수 있다. 이러한 및 다른 구현예에서, 형광 방사선에 존재하는 비트 주파수를 인코딩할 수 있는, 신호 수치의 이러한 시간 시퀀스는 시간-주파수 파형으로서 지칭된다. 둘 이상의 형광 채널에 해당하는 디지털화된 시간-주파수 파형은 시간적으로 동기화되고(단계 4) 및 정규화된다(단계 5). 정규화는 예를 들어, 각 파형을 이의 최대 수치로 나누고 파형을 스케일링 인자와 곱함으로써 달성될 수 있다.
고역 통과 및 대역 통과 필터는 적어도 하나의 적분된 파형을 생성시키기 위해 파형의 적어도 하나에 적용될 수 있다(단계 6). 일부 구현예에서, 약 1 MHz 미만의 주파수를 통과시킬 수 있고 보다 높은 주파수를 실질적으로 차단하는 저역 통과 필터가 적용된다. 적합한 저역 통과 필터의 일부 예는, 비제한적으로, 시간-도메인 유한 임펄스 반응(FIR) 필터 또는 푸리에-도메인 필터를 포함한다.
이후에, 파형은 배수 파형을 획득하기 위해 포인트별 곱하여 질 수 있으며, 배수 파형은 적분된 수치를 획득하기 위해 적분될 수 있다(단계 7). 예시로서, 도 17은 하나의 형광 채널에서 검출된 필터링된 시간-시퀀싱된 디지털화된 형광 신호를 나타내는 어레이(1700), 및 다른 형광 채널에서 검출된 필터링된 시간-시퀀싱된 디지털화된 형광 신호를 나타내는 어레이(1701)를 도시한 것이며, 이는 어레이(1700)과 시간적으로 동기화된다(단순화하기 위해, 이러한 예시적인 예에서, 형광 채널의 수는 2이도록 선택되며, 어레이 구성요소의 수는 10이도록 선택되며, 형광 채널의 수가 2 초과일 수 있으며, 어레이 구성요소의 수가 10을 초과하는 것으로 이해되어야 함). 이러한 데이터는 본원에서 시간-주파수 파형으로서 지칭된다. 얻어진 어레이(1702)는 어레이(1700 및 1701)에서 데이터의 포인트별 곱을 통해 획득된다.
각 채널로부터의 시간적 형광 신호는 광학 방사선 빔의 무선주파수-분리된 광 주파수의 간섭에 해당하는 비트 주파수를 포함한다. 이와 같이, 이의 개개 디지털화된 데이터의 곱은 그러한 주파수의 합 및 차를 나타낼 것이다. 둘 이상의 형광 채널에서의 신호가 여기된 세포 내에서 실질적으로 유사한 공간적 위치로부터 비롯되는 경우에, 그러한 신호의 곱을 통해 획득된 얻어진 시간-도메인 데이터는 여기된 세포로부터 방출하는 상이한 형광 채널에서 신호의 공-편재화도를 기초로 하여 DC에서 또는 DC와 가깝게 주파수 성분을 포함할 것이다.
단계 (8)에서, 적분된 결과는 분류를 위한 기준을 충족시키는 세포로서 한정되도록 조사된 세포가 형광 신호의 충분한 공-편재화를 나타내는 지의 여부를 결정하기 위해 사전규정된 문턱값과 비교된다. 예를 들어, 적분된 결과가 사전규정된 문턱값을 초과하는 경우에, 세포는 분류를 위해 선택될 것이다. 그렇지 않으면, 세포는 분류를 위해 선택되지 않을 것이다.
상기 공-편재화 방법의 추가 예시로서, 도 18a는 A, B, C, 및 D로서 표지된 4개의 세포의 형광 이미지를 도시한 것으로서, 여기서, A 및 B 세포는 항-CD45-FITC 및 프로피듐 요오다이드(PI)로 염색된 인간 백혈구이며, 세포 C 및 D는 Calcein AM으로 염색된 HeLa 세포이다. 이러한 이미지 세트는 명시야 및 암시야 이미지뿐만 아니라, 상술된 염색으로 염색된 세포로부터 형광을 검출함으로써 획득된 2-칼라 형광 이미지를 포함한다. 도 18b는 측정된 녹색(FITC) 형광 시간-도메인 신호를 도시한 것이며, 도 18c는 20 MHz 내지 60 MHz 범위의 주파수에서 비팅하는 광학 방사선으로 이러한 세포의 조명에 반응하여 세포 A, B, C, 및 D로부터 획득된, 측정된 적색(프로피듐 요오다이드) 형광 시간-도메인 신호를 도시한 것이다. 도 18d는 각 세포에 대하여, 공-편재화 시간-도메인 파형이 정규화된 적색 및 녹색 형광 파형을 곱하고 필터링된 신호를 생성시키기 위해 저역 통과 필터(푸리에-도메인 저역 통과 필터)를 통해 얻어진 파형을 진행시킴으로써 획득된다.
도 19는 세포 A, B, C, 및 D 각각에 대한 적분된 필터링된 신호의 수치를 도시한 것이다. 이러한 도면에서 파선은 분류 문턱값을 나타낸다. 세포 A 및 B에 대한 적분된 신호가 분류 문턱값 미만이지만, 세포 C 및 D에 대한 적분된 신호는 분류 문턱값을 초과한다. 이에 따라, 포지티브 분류 결정은 세포 C 및 D에 대해 채택되며(즉, 세포 C 및 D는 분류를 위해 선택됨), 네가티브 분류 결정은 세포 A 및 B에 대해 채택된다.
형광 공-편재화를 기초로 한 상기 분류 방법은 예를 들어, 전위 분석을 위한 다양한 적용에서 사용될 수 있다.
다른 측면에서, 세포 크기의 추정치를 기초로 한 유세포 분석 시스템에서 세포를 분류하는 방법이 제공되며, 여기서, 세포 크기의 추정치는 세포에 의해 방출된 형광 방사선의 분석을 통해 획득된다. 예를 들어, 본 방법은 흐름 방향을 따라 세포의 치수를 추정하기 위해 세포로부터 방출하는 형광 펄스의 지속시간을 사용하고, 세포의 측면 치수(예를 들어, 세포 흐름 방향에 대해 직교에서의 세포 치수)의 추정치를 기초로 하여 분류 결정을 수행하기 위해 저역 통과 필터를 통해 형광 신호의 제곱을 진행시킴으로써 획득된 저역 통과 필터링된 신호에 포함된 파워(power)를 분석한다.
더욱 상세하게, 도 19를 참조하면, 일 구현예에서, 세포는 하나 이상의 무선 주파수에 의해 서로 분리된 둘 이상의 광 주파수를 포함하는 광학 방사선 빔으로의 조명을 통해 광학적으로 조사된다(단계 1). 이전 구현예와 유사하게, 광학 빔은 예를 들어, 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛을 포함할 수 있으며, 이들 각각은 다른 것에 대해 편이된 무선주파수를 갖는다. 광 주파수는 세포와 관련된 하나 이상의 외인성 및/또는 내인성 형광단을 여기시키기 위해 선택될 수 있다. 세포는 광학 방사선 빔을 통해 진행하고, 빔에 의한 여기에 반응하여 형광을 방출한다. 보편성을 손실시키지 않으면서, 이러한 구현예에서, 세포는 조명 빔을 통해 수직 방향으로 흐르는 것으로 가정되며, 방출된 형광은 세포의 흐름 방향에 대해 실질적으로 직교하는 측면(수평) 방향으로 검출된다.
세포로부터 방출된 형광 신호는 이후에, 시간-주파수 파형을 생성시키기 위해 검출되고 디지털화된다(단계 2). 이후에, 검출된 형광 방사선은 하기에 논의되는 바와 같이, 세포 크기를 추정하기 위해 분석될 수 있다. 일부 구현예에서, 세포로부터 방출된 광 산란기 펄스의 지속시간은 흐름 방향을 따라 세포 크기를 추정하기 위해 사용될 수 있다.
세포로부터 방출하는 형광 펄스 지속시간은 조사하는 광학 방사선 빔 내에서 세포의 체류 시간에 관한 것으로서, 이는 또한, 흐름 방향과 평행한 방향에서 빔의 치수, 흐름 방향에서 세포 크기 및 세포의 흐름 속도와 관련이 있다. 세포를 조명하는 빔이 직경(H)을 가지고 세포의 흐름 속도가 V이고 세포가 흐름 방향에서 크기 D(예를 들어, 직경)를 갖는 경우에, 크기 D는 하기 관계식에 의해 근사될 수 있다:
수학식 (2)
상기 식에서, T는 검출된 광학 펄스 폭이다. 이에 따라, 단계 (3)에서, 흐름 방향에서 세포 크기는 예를 들어, 상기 수학식을 이용하여, 세포로부터 방출된 형광 또는 광 산란기 펄스기의 일시적 지속시간을 기초로 하여 추정된다.
도 20의 순서도를 계속 참조하면, 세포의 측면 크기를 추정하기 위하여, 디지털화된 형광 데이터는 제곱되고(단계 4), 대역 통과 필터는 제곱된 형광 데이터에 적용된다(단계 5). 필터링된 데이터는 이후에, 적분된 펄스 파워의 측정치를 획득하기 위해 적분된다(단계 6). 적분된 펄스 파워는 세포의 측면 크기의 측정치를 제공할 수 있다. 더욱 상세하게, 대역 통과 필터의 대역 내에 속하는 차주파수(difference frequency)(제곱 작업의 결과로서 나타남)에 존재하는 파워를 기초로 하여, 적분된 펄스 파워는 세포의 측면 크기의 측정치를 제공할 수 있다.
단계 (7)에서, 흐름 방향에서의 세포 크기의 추정치 및/또는 필터링된 데이터와 관련된 적분된 펄스 파워는 세포와 관련하여 분류 결정을 만들기 위해 이용될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 흐름 방향에서 추정된 세포 크기는 제1 문턱값과 비교될 수 있으며, 적분된 펄스 파워는 분류 결정을 만들기 위해 제2 문턱값과 비교될 수 있다. 일 예로서, 일부 경우에, 흐름 방향에서 추정된 세포 크기 및 적분된 펄스 파워 둘 모두가 개개 문턱값을 초과하는 경우에, 포지티브 분류 결정이 이루어진다(즉, 세포가 선택된다). 대안적으로, 분류 결정은 흐름 방향에서 세포 크기의 추정치 또는 적분된 펄스 파워에만 의존적일 수 있다. 하기에서 추가로 논의되는 바와 같이, 추정된 수직 및 수평 세포 크기는 분류 결정을 만들기 위해 사용될 수 있다.
세포의 측면 크기의 추정치를 기초로 하여 분류 결정을 만드는 추가 예시로서, 도 21a는 1 MHz로 서로 이격된 15 MHz 내지 25 MHz로 연장하는 무선주파수 변조를 갖는 복수의 무선주파수-변조된 빔렛을 포함하는 가상 빔에 의해 조명된 가상 세포를 개략적으로 도시한 것이다. 파선은 조명 방향에 대해 직교인 면에 조명된 세포의 단면도를 개략적으로 도시한 것이다. 세포로부터 수집되고 디지털화된 형광 방사선은 도 21b에 개략적으로 도시된 바와 같이, 디지털화된 형광 수치의 시간-시퀀싱된 어레이(2100)의 형태를 가질 수 있다(어레이는 본원에서 단지 예시 목적을 위해 도시된 것이고, 실제 형광 파형에 존재할 수 있는 에러이 구성요소의 수를 제한하지 않는다). 파형(2100)은 파형(2101)을 획득하기 위해 제곱된다. 이후에, 대역 통과 필터는 제곱된 형광 파형(2101)에 적용되며, 여기서, 필터는 두 개의 주파수 f 1 및 f 2 (여기서, f 2 > f 1 ) 사이의 선택된 변조 주파수를 통과시킬 수 있으며, f 1 보다 낮거나 f 2 보다 큰 그러한 변조 주파수를 실질적으로 차단할 수 있다. 일 예로서, 대역 통과 필터는 FIR 대역 통과 필터일 수 있으며, 당해 분야에 공지된 다른 적합한 필터가 또한 사용될 수 있다. 필터링된 데이터는 f 1 및 f 2 사이의 변조 주파수에서 검출된 형광 펄스에 존재하는 파워를 지시한다. 이후에, 필터링된 데이터는 f 1 및 f 2 사이의 주파수에서 전체 펄스 파워의 측정치를 획득하기 위해 적분된다. 이후에, 이러한 적분된 결과는 분류 결정을 만들기 위해 문턱값 수치와 비교될 수 있다. 예를 들어, 세포의 측면 크기는 적분된 것이 사전규정된 문턱값 미만을 초래한다는 사실을 기초로 한 특정 수치 미만인 것으로 추정될 수 있다.
이러한 예에서, 세포 크기는 약 18 MHz 내지 약 21 MHz 범위의 무선주파수 변조를 갖는 광학 방사선에 의한 세포의 조명을 야기시킨다. 이에 따라, 형광 데이터의 제곱에서 최대 변조 주파수와 최소 변조 주파수 간의 차이는 약 6 MHz일 것이다. 약 10 MHz 내지 약 15 MHz 범위의 형광 데이터의 제곱에서 차주파수를 야기시키는 큰 크기를 갖는 세포의 검출이 요망되는 경우에, 10 MHz 미만 및 15 MHz 초과의 주파수에 대해 차별되는 대역 통과 필터는 형광 데이터의 제곱에 적용될 수 있다. 이러한 예에서, 형광 데이터의 제곱에 이러한 대역 통과 필터의 적용은 형광 데이터의 제곱에서 차이 변조 주파수가 10 MHz 미만이기 때문에, 요망되는 측면 크기를 갖는 세포의 존재를 지시하기 위해 충분히 큰 신호를 야기시키지 못할 것이다.
세포 크기를 기초로 한 상기 분류 방법은 다양한 상이한 적용, 예를 들어, 순환하는 종양 세포(CTC)의 크기에 의한 단리를 가질 수 있다.
다른 측면에서, 세포의 종횡비를 기초로 한 세포를 분류하는 방법이 개시된다. 예를 들어, 도 22의 순서도를 참고하여, 광학 조사 영역을 통과하는 세포는 방사선으로 여기되며, 세포에 의해 방출된 형광 방사선이 디지털화된 시간-주파수 파형을 생성시키기 위해 수집되고 디지털화된다(단계 1). 이후에, 디지털화된 형광 데이터는 수직(흐름 방향을 따라) 세포 크기(단계 2) 및 수평(흐름 방향에 대해 직교 방향을 따라) 세포 크기(단계 3)를 추정하기 위해 상기에 논의된 방식으로 분석된다. 더욱 상세하게, 세포의 수직 크기는 세포(단계 2)에 의해 방출된 형광 또는 광 산란기(또는 광 투과된) 펄스의 시간 폭을 이용하여 추정될 수 있으며, 세포의 수평 크기는 예를 들어, 형광 데이터의 제곱에 대역 통과 필터를 적용하는 것을 기초로 하여 상기에 논의된 방법을 이용하여 추정될 수 있다(단계 3). 단계 (4)에서, 세포의 수직 및 수평 크기의 추정치의 비율은 결정되고 그러한 세포와 관련하여 분류 결정을 만들기 위해 사전규정된 문턱값과 비교된다. 예를 들어, 일부 경우에, 비율이 문턱값을 초과하는 경우에, 포지티브 분류 결정은 그러한 세포에 대해 만들어질 수 있다.
세포의 종횡비를 기초로 한 상기 분류 방법은, 예를 들어, 세포 주기 분석, DNA 분석, 등에서 사용될 수 있다.
다른 측면에서, 세포의 세포질의 크기에 대한 세포의 핵의 크기의 비율을 결정하는 방법이 개시된다. 일부 구현예에서, 이러한 비율은 분류 결정을 만들기 위해 사용될 수 있다. 도 23a의 순서도를 참고하면, 이러한 일 구현예에서, 세포는 2개의 형광 마커로 표지되며(예를 들어, 염색되며), 이들 중 하나는 세포의 막(세포질의 경계) 상에 잔류할 것이며, 나머지 하나는 세포질에 들어가고 세포의 핵을 염색하기 위해(예를 들어, 세포의 내부 기계를 통해), 세포막을 침투할 수 있다(단계 1). 세포막에 결합하는 형광 마커의 일부 예는 항-CD45-FITC, 또는 항-EpCAM-PE와 같은, 막 단백질에 결합하는 형광단으로 태그된 임의의 항체를 포함한다. 세포막에 형광 마커를 결합하기 위해 이용될 수 있는 다른 일반적인 표면 단백질은 예를 들어, CD3, CD4, CD8, 등을 포함한다. 적합한 핵 형광 착색제의 일부 예는 비제한적으로 프로피듐 요오다이드, SYT016, 7-AAD, 및 DAPI를 포함한다.
세포는 이후에, 두 타입의 형광 마커 모두를 여기시키기 위해 방사선으로 조명되며(단계 2), 방출된 형광은 세포막으로부터 및 이의 핵으로부터의 형광 방출에 해당하는 2개의 채널에서 검출되고 디지털화된다(단계 3). 세포막에 해당하는 형광 데이터는 세포질의 크기의 추정치를 획득하기 위해, 예를 들어, 상기에 논의된 방식으로 사용되며, 핵에 해당하는 형광 데이터는 핵 크기의 추정치를 획득하기 위해 사용된다(단계 4). 예를 들어, 각 채널에서 형광 또는 광 산란기 펄스의 폭은 하나의 치수를 따라(즉, 흐름 방향을 따라) 세포 크기를 추정하기 위해, 예를 들어, 상기에 논의된 방식으로 이용될 수 있다. 또한, 세포질 또는 핵의 측면 크기는 상기에 논의된 방식으로 개개 채널에서 형광 데이터의 제곱에 대역 통과 필터를 적용함으로써 추정될 수 있다. 이러한 대역 통과 필터링된 데이터를 적분한 결과는 문턱값보다 더 크거나 작은 세포를 분류하기 위해 사전규정된 문턱값과 비교하기 위한 수치를 제공한다. 또한, 2개의 치수에서 세포의 크기 추정치는 예를 들어, 전체 세포 크기의 추정치를 기초로 하여 분류 결정에 도달하기 위해, 수직 및 수평 크기 추정치의 제곱의 총합의 제곱근을 얻음으로써, 조합될 수 있다.
단계 (5)에서, 세포질 및 핵에 대한 크기 추정치의 비율, 예를 들어, 수직 또는 수평 방향에서의 크기의 비율, 또는 조합된 크기의 비율이 획득된다.
도 23b의 순서도를 참고하면, 일부 구현예에서, 예를 들어, 상기에서 논의되고 도 23b의 순서도의 단계 (1) 내지 단계 (5)에 나타낸 방식으로 결정될 수 있는, 세포의 세포질의 크기에 대한 세포의 핵의 크기의 비율은 분류 결정을 만들기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, 이러한 비율은 분류 결정을 만들기 위해 사전규정된 문턱값과 비교될 수 있다(단계 6). 일 예로서, 이러한 비율이 문턱값을 초과하는 경우에, 포지티브 분류 결정이 이루어진다(즉, 세포가 선택됨).
일 예로서, 핵-대-세포질 크기 비율을 기초로 한 상기 분류 방법은 순환하는 종양 세포의 분류에서 사용될 수 있다.
다른 측면에서, 일부 구현예에서, 세포를 분류하기 위해 사용될 수 있는, 세포로부터 방출된 형광 방사선의 세포 입상도(형광 점상화(fluorescence punctateness)를 추정하는 방법이 개시된다. 다시 말해서, 분류 결정은 세포로부터의 방출된 형광 방사선이 방출 중심의 확산 세포내 분포로부터 방출하는 것으로 특징될 수 있거나,
다른 측면에서, 일부 구현예에서, 세포를 분류하기 위해 사용될 수 있는 세포로부터 방출된 형광 방사선의 세포 입상도(형광 점상화)를 추정하는 방법이 개시되어 있다. 다시 말해서, 분류 결정은 세포로부터의 방출된 형광 방사선이 방출 중심의 확산 세포내 분포로부터 방출하는 것으로 특징될 수 있거나 세포 내에서 확산되게 분포되지 않은 방출 중심으로부터 방출하는 것으로서 특징될 수 있는 지의 여부를 기초로 하여 이루어질 수 있다.
더욱 상세하게, 도 24a에 도시된 순서도를 참조하여, 일 구현예에서, 하나 이상의 외인성 및/또는 내인성 형광 마커를 갖는 세포는 마커(들)로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해 하나 이상의 무선주파수에 의해 서로 분리된 둘 이상의 광 주파수를 갖는 광학 방사선으로 조명된다(단계 1). 이전 구현예와 유사하게, 일부 경우에, 광학 빔은 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛을 포함할 수 있으며, 이들 각각은 다른 것에 대해 편이된 무선주파수를 갖는다. 일 예로서, 도 25를 참조하면, 예시적인 대표적인 구현예에서, 광학 방사선 빔은 변조 주파수 f 1 ,f 2 ,f 3 ,f 4 ,f 5 를 포함할 수 있으며, 이는 예를 들어, 0.5 MHz의 분리를 갖는 10 MHz(f 1 ) 내지 15 MHz(f 5 )의 범위일 수 있다. 하기에서 더욱 상세히 논의되는 바와 같이, 방출된 형광 방사선의 점상화는 방출된 형광 방사선이 광학 빔을 변조하기 위해 사용되는 것과는 다른 변조 주파수를 나타내는 범위에 의해 추정될 수 있다(예를 들어, 이러한 구현예에서, 다른 그러한 f 1 ,f 2 ,f 3 ,f 4 ,f 5 ). 광학 빔을 변조하기 위해 사용된 주파수들 사이의 주파수일 수 있는 다른 주파수는 본원에서 "오프-픽셀 주파수"로서 지칭된다. 다시 말해서, 오프-픽섹 주파수로의 형광 파워의 "누출"은 방출된 형광의 점상화도를 지시하며, 누출이 클수록, 방출된 형광의 점상화가 더욱 크다.
도 24a의 순서도를 다시 참조하면, 형광 방사선은 시간-주파수 파형을 생성하기 위해 수집되고 디지털화될 수 있다(단계 2). 단계 (3)에서, 전체 파형의 푸리에 변환, 예를 들어, 고속 푸리에 변환(FFT)을 얻는다. 발생한 FFT는 예를 들어, 시간-도메인 파형을 이의 최대 수치로 나누고 이후에, 파형을 요망되는 상수에 의해 재-스케일링함으로써, 세포간 비교를 위한 고정된 수치로 정규화된다(단계 4). FFT의 "오프-픽셀" 빈의 합(즉, 빈은 조명 광학 방사선에 존재하는 변조 주파수들 사이의 주파수에 해당함)이 결정된다(단계 5). 합은 오프-픽셀 주파숭 대한 형광 파워의 "누출"도, 및 이에 따라, 방출된 형광 방사선의 점상화도의 측정치를 나타낸다.
도 24b를 참조하면, 일부 구현예에서, 상기에 논의된 및 도 24b의 순서도의 단계 (1) 내지 (5)에서 나타낸 방식에서 결정될 수 있는, 방출된 형광 방사선의 점상화도의 측정치는 세포를 분류하기 위해 사용될 수 있다. 특히, 단계 (6)에서, 오프-픽셀 주파수에 대한 형광 파워의 "누출"도를 나타내는, FFT의 "오프-픽셀" 빈(bin)의 합은 분류 결정을 만들기 위해 사전규정된 문턱값과 비교될 수 있다. 예를 들어, 비교적 높은 형광 점상화도를 나타내는 세포를 분류하는 것이 요망될 때, 세포가 합이 문턱값보다 높은 경우로 분류된다(선택된다). 대안적으로, 확산 형광을 나타내는 세포를 분류하는 것이 요망될 때, 세포는 합이 문턱값보다 낮은 경우로 분류된다.
방출된 형광 방사선의 분석을 기초로 한 세포의 이러한 분류는 다양한 적용, 스폿 카운팅, 형광 인시튜 혼성화(FISH), 세포내 이동 및 위치화, 및 점적-기반 단일 세포 분석에서 이용될 수 있다.
입자(예를 들어, 유세포 분석 시스템에서 흐르는 세포)에 대한 분류 결정을 만들기 위한 상기 방법은 다양한 방식으로 실행될 수 있다. 일 예로서, 도 26은 분류 결정을 만들기 위한 본 교시를 이용할 수 있는, 세포를 분류하기 위한 예시적인 시스템(2600)을 개략적으로 도시한 것이다. 시스템(2600)은 복수의 세포가 현탁된 현탁액 유체를 저장하기 위한 용기(2601)를 포함할 수 있다. 세포 현탁액 용기(2601)는 예를 들어, 스테인레스강과 같은 강성 금속으로 형성될 수 있는 샘플 도관(2603)에 유입구(2602)를 통해 유체적으로 결합된다. 샘플 도관(2603)은 이의 원위 단부에 노즐(2605)을 포함하는, 작은 직경을 갖는 하부 실린더 부분(2604c)에, 테이퍼링된 부분(2604b)을 통해 연장하는 상부 실린더 부분(2604a)을 포함하는 용기(2604) 내에 배치된다. 용기(2604)는 피복 유체 소스(2606)에 유체적으로 결합된다. 음향 진동기(2608)(예를 들어, 압전 구동기)는 노즐에 결합되고, 생성기(2610)에 의해 에너지 공급될 때 노즐의 진동을 야기시키도록 구성된다. 일 예로서, 진동 주파수는 약 60 kHz일 수 있으며, 다른 진동 주파수가 또한 사용될 수 있다.
사용 시에, 용기(2601)에 저장된 현탁액 유체는 유입구(2602)를 통해 도관(2603)내에 도입된다. 용기(2603)에서 배출되는 세포를 함유한 유체의 얇은 흐름은 피복 유체에 의해 둘러싸여지고, 노즐(2605)로 운반된다. 노즐의 진동 모션은 각각이 단일 세포입자를 함유한 복수의 점적 D내로 노즐을 통해 흐름을 분할시키기 위해 당해 분야에 공지된 방식으로 구성될 수 있다. 세포의 적어도 일부는 하나 이상의 내인성 및/또는 외인성 형광단과 관련되며, 이는 여기 방사선에 의한 조명에 반응하여 형광 방사선을 방출할 수 있다. 광범위한 형광단이 사용될 수 있다. 일부 경우에, 형광단은 세포 상에서 타겟(예를 들어, 수용체)를 인지하는 항체에 부착될 수 있다. 일부 경우에, 형광단은 세포막 또는 다른 세포 구조, 예를 들어, 세포 핵에 대한 친화력을 갖는 화학 독립체에 부착될 수 있다. 또한, 일부 경우에, 세포는 상이한 형광단들의 조합으로 표지될 수 있다.
도 26을 계속 참조하면, 각 세포가 조사 영역(2612)을 통해 진행할 때, 이는 세포와 관련된 하나 이상의 형광단으로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해 조명 시스템(2616)에 의해 생성된 레이저 빔(2614)에 의해 조명된다. 상기에 논의된 바와 같이, 레이저 빔은 하나 이상의 무선주파수에 의해 서로 편이된 복수의 광 주파수를 포함할 수 있다. 일 예로서, 광학 빔은 서로에 대해 편이된 무선주파수를 갖는 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛의 형태를 가질 수 있다. 세포로부터 방출된 형광 방사선은 하나 이상의 검출기를 포함할 수 있는, 검출 시스템(2618)에 의해 검출될 수 있다. 검출된 형광은 그러한 세포에 관한 분류 결정을 만들기 위해, 상기에 논의된 방식에서, 분석 모듈(2620)에 의해 분석될 수 있다.
일 예로서, 검출 시스템의 조명은 예를 들어, 도 1 내지 도 12와 관련하여, 상기에 논의된 것일 수 있다. 그러나, 입자를 분류하기 위한 본 교시의 실행이 임의의 특정 조명 및 검출 시스템의 사용으로 제한되지 않는 것으로 이해되어야 한다. 오히려, 시스템이 분류 결정을 만들기 위한 상기 방법에서 사용하기 위한 필수 데이터(예를 들어, 형광 및/또는 산란기 데이터)를 제공하는 한, 다양한 상이한 시스템이 이용될 수 있다.
도 26을 다시 참조하면, 시스템(2600)은 분석 모듈(2620)의 제어 하에 있는, 충전 회로(2623)에 의해 에너지 공급되는, 충전 칼라(2622)를 추가로 포함한다. 충전 칼라는 세포 점적이 칼라를 통해 진행할 때 포지티브 또는 네가티브 전하를 세포 점적에 부여할 수 있다. 대안적으로, 칼라는 세포에 전하를 부여하지 않으면서 세포 점적을 통과시킬 수 있다.
더욱 상세하게, 분석 모듈(2620)은 세포에 관한 분류 결정을 만들기 위해 상기 교시를 이용할 수 있다. 그러한 결정을 기초로 하여, 분석 모듈은 세포 점적이 충전될 필요가 있는 지의 여부, 및 그러한 경우에, 전하 극성이 세포에 부여되어야 하는 것을 결정할 수 있다. 이후에, 분석 모듈은 칼라(2622)를 통해, 세포 점적에 필수 전하를 부여하기 위해 충전 회로(2623)를 제어할 수 있다. 이후에, 세포는 한 쌍의 편향 플레이트(2624) 사이의 갭을 통해 진행하며, 이는 칼라(2622)의 다운스트림에 배치된다. 전압 소스(2625)는 플레이트 사이에 전기장을 설정하기 위해 플레이트(2624) 중 적어도 하나에 전압을 인가한다. 전기장은, 이러한 것이 세포 수집기(2626)의 튜브(2626b 및 2626c)에 의해 수집될 수 있도록, 상이한 방향을 따라 네가티브 및 포지티브 세포 점적의 경로를 편향시킬 수 있다. 칼라(collar, 2622)에 의해 전기적으로 충전되지 않은 세포는 편향되지 않고, 세포 수집기의 튜브(2626a)에 의해 포착된다.
본원에서 논의된 분석/제어 모듈, 예를 들어, 분석/제어 모듈(2620)은 당해 분야에 공지되고 본 교시에 따른 기술을 이용하여 하드웨어, 펌웨어, 및/또는 소프트웨어에서 다양한 상이한 방식으로 실행될 수 있다. 일 예로서, 도 27은 검출 시스템(2618)으로부터 형광 신호(들)를 수용하고 디지털화된 형광 데이터를 생성시키기 위해 신호(들)를 디지털화하기 위한 아놀로그-대-디지털 변환기(2702)를 포함하는, 분석/제어 모듈(2620)의 예시적인 실행(2700)을 개략적으로 도시한 것이다. 분석/제어 모듈(2700)은 조사 중인 세포에 관한 분류 결정에 도달하기 위해 본 교시에 따른 형광 데이터를 처리하기 위한 프로세서(2704)를 추가로 포함할 수 있다. 분석/제어 모듈(2700)은 또한 ROM(판독 전용 메모리)(2706), RAM(랜덤 액세스 메모리)() 및 영구 메모리(2710)를 포함할 수 있다. 통신 버스(2712)는 분석 모듈의 다양한 부품들 간의 통신을 촉진시킨다. 메모리 모듈은 형광 신호(들)를 분석하기 위한 명령 및 분석 결과를 저장하기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 본 교시에 따른 분류 결정에 도달하기 위해 형광 데이터를 분석하는 명령은 ROM 2706에 저장될 수 있다. 프로세서(2704)는 분류 결정을 결정하기 위해 RAM 2708에 저장된 디지털화된 형광 데이터를 조작하기 위한 이러한 명령을 이용할 수 있다. 일부 구현예에서, 프로세서는 분류 결정에 도달하기 위해 형광 데이터를 조작하기 위한 본 교시에 따른 명령을 수행하도록 구성된 ASIC(애플리케이션 특정 집적회로(application specific integrated circuit))로서 실행될 수 있다. 이러한 구현예에서, 분석/제어 모듈(2700)은 조사 중인 세포에 적합한 전하를 부여하기 위해 분류 결정을 기초로 하여 충전 회로에 적절한 신호를 전송하기 위한 통신/제어 모듈(2714)을 추가로 포함할 수 있다.
상기에 논의된 바와 같이, 본 교시에 따른 방법은 세포의 픽셀-대-픽셀 형광 이미지를 형성할 필요 없이, 입자(예를 들어, 세포)에 대한 분류 결정에 도달하기 위해 시간적 형광 데이터에 대해 작동한다. 이는 또한, 약 100 마이크로초 미만의 낮은 지여니가느로 세포를 분류할 수 있으며, 이는 또한, 고속으로 세포를 분류할 수 있다. 예를 들어, 본 교시에 따른 분류 방법은 초당 1000개 이상의 세포, 예를 들어, 초당 약 1000 내지 약 100,000개의 세포 범위의속도에서 세포를 분류할 수 있다.
상기에 주지된 바와 같이, 임의의 특정 조명 또는 검출 기술로 제한하지 않으면서, 일부 구현예에서, 본 교시에 따른 세포 분류 방법은 픽셀의 열을 여기시키기 위해 주파수 도메인 다중화를 이용하는 유세포 분석 시스템에서 효과적으로 사용될 수 있으며, 각각은 예를 들어, 2개의 주파수-오프셋 레이저 빔의 비팅에 의해 생성된 독특한 무선주파수에서 "태그"된다. 주파수-도메인 다중화를 이용하여, 이미지의 단일 열에서 수백 픽셀로부터의 형광(또는 산란된) 방사선은 각 형광 칼라 또는 산란된 방향에 대해 예를 들어, 단일 광전자 증배관(PMT)을 이용하여 검출되고 판독될 수 있다. 이미지의 열에서 각 픽셀의 여기가 독특한 비트 주파수에서 변조되기 때문에, 픽셀 속도는 시스템의 전체 RF 대역폭으로 조정되며, 이는 100 MHz 초과의 픽셀 속도에서 짧은 노이즈-제한 감도를 제공할 수 있다. 상기에 논의된 바와 같이, 본 교시에 따른 분류 방법은 이미지를 실제로 계산하지 않으면서 분류 결정을 수행하기 위해, 시간-주파수 포맷에서 인코팅된, 이미지 데이터를 이용할 수 있다.
또한, 상기 시스템은 조명에 반응하여 입자로부터 방출하는 산란된 방사선을 기초로 하여 입자(예를 들어, 세포)를 분류하기 위해 이용될 수 있다. 산란된 방사선은 분류 결정에 도달하기 위해, 예를 들어, 상기에 논의된 방식으로, 검출되고 분석될 수 있다.
추가 예로서, 하기 미국특허는 본원에 개시된 분류 방법 및 시스템을 실행하기 위해 본 교시에 따라 변형될 수 있는 분류 시스템에 관한 정보를 제공한다: 미국특허번호 제3,380,584호(발명의 명칭: Particle Separator), 미국특허번호 제9,034,259호(발명의 명칭: Flow Cytometer and Flow Cytometry) 및 미국특허번호 제7,417,734호(발명의 명칭: System and Process for Sorting Biological Particles). 이들 각각은 전문이 본원에 참고로 포함된다.
추가 설명으로서, 부록 A는 본 교시의 다양한 양태에 관한 추가적인 정보를 제공한다.
당업자는 본 교시의 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 변경이 이루어질 수 있다는 것을 이해할 것이다. 특히, 전술한 구현예의 다양한 특징, 구조 또는 특성이 적절한 방식으로 조합될 수 있다. 예를 들어, 하나의 구현예와 관련하여 논의된 검출 시스템이 다른 구현예에서 사용될 수 있다.
부록 A
상기에 논의된 바와 같이, 일부 구현예에서, 무선주파수 진폭 변조를 갖는 둘 이상의 빔렛은 공간적으로 별도의 위치에서 샘플을 조명한다. 샘플과 각 빔렛 간의 상호작용은 산란된, 투과, 및 형광 방출 신호 중 광학적 적어도 하나를 생성시킬 수 있으며, 이들 각각은 빔렛의 상응하는 무선주파수로 진폭-변조된다. 수집된 신호는 각 변조된 빔렛으로부터의 기여의 합으로서 표현될 수 있다:
수학식 (3)
상기 식에서, S(t)는 수집된 신호를 나타내며, P(t)는 i차 빔렛과 관련된 시간-의존 산란된, 투과된, 또는 형광 방출 신호를 나타낸다. Am은 빔렛의 변조 깊이를 나타내며, 및 는 각각 빔렛의 무선주파수 변조의 각 주파수 및 위상을 나타낸다. 입자의 이미지 표현은 각 빔렛을 이미지의 상이한 컬럼에 할당함으로써 유도될 수 있으며, 각 모멘트를 시간에 따라 이미지의 상이한 열에 할당함으로써 유도될 수 있다. 이러한 이미지 표현은 푸리에 변환을 통해 수집된 신호에 연결된다:
수학식 (4)
상기 식에서 F는 짧은 시간 푸리에 변환을 실행하는 행렬이며, W는 이미지 픽셀에 푸리에 성분을 맵핑하는 행렬이며, R은 필터링, 백그라운드 차감, 및 비네트 보정(vignette correction)과 같은 임의의 요망되는 선형 이미지-도메인 후처리를 수행하는 행렬이다. 입자의 임의의 선형 특징은 이미지 상의 행렬 곱셈에 의해 나타낼 수 있다. 이에 따라, 임의의 요망되는 특징을 계산하는 행렬 M에 대하여, 특징은 하기 수학식 (5)를 통해, 수집된 신호로부터, 직접적으로, 즉, 이미지를 1차 게산할 필요 없이 계산될 수 있다:
수학식 (5)
수학식 (6)
상기 식에서 Q는 본 입자 표현에서 요망되는 선형 특징으로의 변환을 나타내는 행렬이다. 이에 따라, 임의의 선형 특징은 행렬 Q를 초기에 계산하고, 예를 들어, 사전-처리 단계에서 오프라인을 계산하고, 이후에 수학식 (5)에 명시된 바와 같은 내적(dot product), 예를 들어, 온라인으로 수행하여 요망되는 특징을 추출함으로써 계산될 수 있다. 여러 구현예에서, 모든 특징에 대하여, 백그라운드 신호의 기여를 특징으로 차감하는 것이 또한 요망된다. 이러한 공정은 하기와 같이 요약될 수 있다:
상기에 논의된 바와 같이, 일부 구현예에서, 입자의 하나 이상의 계산된 특징은 그러한 입자에 관한 분류 결정을 만들기 위해 사용될 수 있다. 추가 예로서, 도 28은 이러한 분류 방법에서 다양한 단계를 도시한 순서도를 도시한 것이다. 초기 단계 (1)에서, 상기 Q, 및 Q_bkg 매트릭스는 요망되는 입자 특성(특징)을 기초로 하여 계산될 수 있다. 후속하여, 예를 들어, 무선주파수-변조 광학 방사선으로 조명된 유세포 분석기의 유동 세포로부터의 산란된, 투과된, 또는 방출된 광학 신호는 수집되고 디지털화될 수 있다(단계 2). 신호는 신호가 입자로부터인 지의 여부, 즉, 입자가 존재하는 지의 여부를 결정하기 위해 문턱값 교차점과 비교될 수 있다(단계 3). 입자가 존재한 것으로 결정된 경우에, 각 디지털화된 샘플 신호는 Q로 곱하고(단계 4), 이후에, 결과를 단일 수치에 적분한다(단계 5). 백그라운드 신호는 적분된 수치로부터 차감되어(단계 6) 입자의 요망되는 특성(특징)의 추정치를 획득한다. 분류 결정은 문턱값과 특성의 추정치의 비교를 통해 이루어질 수 있다(단계 7). 도 28의 흐름도를 계속 참조하면, 입자 부재 하에서 얻어진 하나 이상의 디지털화된 신호는 Q_bkg로 곱해질 수 있으며(단계 8), 수 회의 백그라운드 측정은 단계 (6)에서 사용된 백그라운드 추정치를 획득하기 위해 평균화될 수 있다.
일부 구현예에서, 수신된 신호의 다양한 모멘트는 산란된, 투과된, 또는 방출된 방사선의 공간 분포에 대한 정보를 획득하기 위해 사용될 수 있다. 이미지 모멘트는 일부 임의 파워로 취해진, 임의의 원점으로부터의 이의 거리에 따라 픽셀의 가중 합을 나타내는 클래스 선형 이미지 특징이다:
수학식 (7)
각 이미지 모멘트는 산란되거나, 투과되거나, 방출된 광의 공간 분포에 대한 상이한 정보를 인코딩한다. 고차 모멘트는 원점으로부터 이의 거리에 따라 픽셀을 더욱 계량하며, 각 모멘트는 신호의 분포에 대한 상이한 정보를 제공한다. 다양한 구현예에서, 이러한 특징 모두는 근사치 A를 사전-계산함으로써 측정된 신호 S(t)로부터 직접적으로 계산될 수 있다.
공간 푸리에 성분은 동일한 방식으로 계산될 수 있으며, M은 하기와 같이 규정된다:
수학식 (8)
요망되는 성분은 실험 전에 선택될 수 있으며, 별도의 Q는 각각에 대해 사전-계산될 수 있다. 일 예로서, 푸리에 성분은 입자가 조명 방사선의 초점인 경우인지를 결정하기 위해 사용될 수 있다.
일부 이미지 특징은 특징 추출 이전에 데이터에 대한 비선형 변환을 포함한다. 이러한 특징의 서브세트에 대하여, 이를 선형 특징의 비선형 조합으로서 나타내는 것이 가능하다. 이러한 특징을 계산하는 것은 이전 섹션에서와 같이 병렬로 여러 특징을 먼저 계산하고, 이후에 비선형 방식으로 결과들을 결합하는 것을 포함할 수 있다. 이미지 모멘트의 비선형 조합에 의해 표현될 수 있는 다수의 유용한 이미지 특징이 존재한다. 예를 들어, 픽셀의 질량의 중심은 1차 및 0차 모멘트의 비율에 의해 계산될 수 있다:
수학식 (9)
여러 다른 입자 특징은 이러한 방식을 나타낼 수 있다. 비-한정적인 목록은 하기 표 1에 나타낸다.
표 1.
일부 구현예에서, 중심 2차 모멘트는 더블렛을 구별하기 위해 이용될 수 있다. 산란된 또는 투과된 광에서 높은 2차 모멘트를 갖는 입자는 신호의 큰 분포를 지시한다. 일 예로서, 도 29는 복수의 혈액 세포의 수평 및 수직 중심 모멘트에 해당하는 산점도를 도시한 것이다.
공-편재화 및 유사성
일부 구현예에서, 입자와 기준물 간의 유사성은 공-편재화와 동일한 방식으로 계산될 수 있다. 공-편재화 경우에, 두 개의 파형은 동일한 입자를 검토하는 상이한 검출기에 해당하며, 유사한 경우에, 두 개의 파형은 두 개의 상이한 입자를 검토하는 동일한 검출기에 해당한다. 입자와 기준물 간의 유사성을 검출하기 위한 예시적인 알고리즘은 하기와 같이 요약된다:
Let R은 기준 입자에 해당하는 파형을 나타내며, Filt는 단지 변조된 주파수를 진행하는 고역 통과 및 대역 통과 필터이며, N은 기준 입자의 이미지 표현에서 픽셀의 수이다. 알고리즘은 이후에 하기를 포함할 것이다:
.
연구 중인 입자에 해당하는 각 유입 파형 S에 대해:
.
입자와 기준 입자의 유사성의 measure로서 를 전환시킨다.
Claims (90)
- 입자의 하나 이상의 특징을 결정하는 방법으로서,
입자로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해, 입자가 유세포 분석 시스템을 통해 흐를 때, 입자를 조명하는 단계,
시간적 형광 데이터(temporal fluorescence data)를 생성시키기 위해 입자로부터의 형광 방사선을 검출하는 단계, 및
상기 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하기 위해 상기 시간적 형광 데이터를 처리하는 단계를 포함하며, 상기 시간적 형광 데이터를 처리하는 단계는:
상기 시간적 형광 데이터와 관련된 비트 주파수를 분석하는 단계;
시간적 형광 파형을 생성하고 상기 시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하는 단계; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
c) 상기 시간적 형광 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계;
중 하나 이상을 포함하며,
상기 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치에 기초하여 상기 입자에 관한 분류 결정을 생성하는 단계를 포함하는,
방법. - 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 처리 단계가 상기 시간적 형광 데이터를 기초로 하여 형광 이미지를 생성시키지 않으면서 수행되는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징이 상기 입자의 내부 성분과 관련된 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징이 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기들의 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화(co-localization), 형광 방사선의 점상화도(degree of punctateness), 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 입자의 위치 또는 배향의 측정치, 입자의 편심(eccentricity)의 측정치, 기준 입자에 대한 입자의 유사성의 측정치, 입자의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 입자가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 처리 단계가, 입자의 적어도 하나의 특징의 상기 추정치를 획득하는 것과 관련된 지연시간(latency)이 100 마이크로초 미만이도록 충분히 빠른 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 지연시간이 20 마이크로초 미만인 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 입자를 조명하는 단계가 적어도 2개의 빔렛(beamlet)을 포함하는 광학 방사선 빔에 입자를 노출시키는 것을 포함하며, 각각은 상기 빔렛이 입자 내에서 적어도 2개의 공간적 위치를 조명하도록 상기 적어도 2개의 광 주파수 중 하나를 갖는 방법.
- 제8항에 있어서, 상기 적어도 2개의 공간적 위치가 일부 중첩되어 있는 방법.
- 제8항에 있어서, 상기 입자를 적어도 2개의 형광 마커로 염색하는 것을 추가로 포함하며, 각 마커는 상기 광 주파수 중 하나를 갖는 방사선에 의한 조명에 반응하여 형광 방사선을 방출하도록 구성된 방법.
- 제10항에 있어서, 각각이 상기 마커 중 하나에 해당하는 시간적 형광 파형을 생성시키기 위해 상기 마커로부터 방출된 형광 신호를 수집하고 디지털화하는 것을 추가로 포함하는 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서, 처리 단계가 유세포 분석 시스템에서 입자 흐름 방향에 대해 실질적으로 수직인 방향을 따르는 입자의 측면 크기의 추정치를 획득하는 것을 포함하는 방법.
- 제15항에 있어서, 유세포 분석 시스템에서 입자 흐름 방향과 평행한 방향을 따르는 입자 크기의 추정치를 획득하는 것을 추가로 포함하는 방법.
- 제16항에 있어서, 입자의 측면 크기의 추정치가, 검출된 시간적 형광 데이터를 제곱하고, 제곱된 형광 데이터에 대역 통과 필터를 적용하고, 필터링된 데이터를 적분하고, 필터링된 데이터를 사전규정된 문턱값과 비교함으로써, 획득되는 방법.
- 제17항에 있어서, 입자 흐름 방향과 평행한 방향을 따르는 입자 크기의 추정치가 상기 조명 단계에 반응하여 입자로부터 방출하는 형광 방사선의 펄스의 시간적 기간(temporal duration)을 기초로 하여 획득된 방법.
- 제18항에 있어서, 입자의 종횡비를 획득하기 위해 입자 흐름의 방향과 평행하고 입자 흐름의 방향에 대해 수직인 방향을 따르는 입자 크기의 상기 추정치를 추가로 사용하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 입자가 임의의 세포, 미세-소낭, 세포 단편, 리포솜, 비드, 및 작은 유기체를 포함하는 방법.
- 제20항에 있어서, 상기 세포가 포유류 세포를 포함하는 방법.
- 제20항에 있어서, 상기 세포가 질병에 걸린 세포를 포함하는 방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 처리 단계가 컴퓨터 프로세서에 의해 수행되는 방법.
- 입자의 특징을 결정하는 방법으로서,
입자로부터 임의의 형광 및 산란된 방사선을 유발시키기 위해 입자를 조명하는 단계,
시간적 형광 또는 산란 파형 데이터를 생성시키기 위해 입자로부터 방출하는 형광 또는 산란된 방사선을 검출하는 단계, 및
입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하기 위해 임의의 상기 형광 또는 산란 파형 데이터를 기초로 하여 입자의 이미지를 생성시키지 않으면서 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하기 위해 임의의 상기 형광 및 산란 파형 데이터를 처리하는 단계를 포함하며, 시간적 형광 데이터를 처리하는 단계는:
상기 시간적 형광 데이터와 관련된 비트 주파수를 분석하는 단계;
시간적 형광 파형을 생성하고 상기 시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하는 단계; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
c) 상기 시간적 형광 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계;
중 하나 이상을 포함하며,
상기 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치에 기초하여 상기 입자에 관한 분류 결정을 생성하는 단계를 포함하는,
방법. - 삭제
- 제25항에 있어서, 상기 입자의 특징이 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기들의 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 형광 방사선의 점상화도, 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 입자의 위치 또는 배향의 측정치, 입자의 편심의 측정치, 기준 입자에 대한 입자의 유사성의 측정치, 입자의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 입자가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
- 제25항에 있어서, 상기 처리 단계가, 입자의 적어도 하나의 특징의 상기 추정치가 100 마이크로초 미만이도록 충분히 빠른 방법.
- 제25항에 있어서, 형광 및 산란 파형 데이터를 생성시키기 위해 상기 형광 방사선 및 상기 산란된 방사선 둘 모두를 검출하고, 입자 흐름 방향에 대해 실질적으로 수직 방향으로 입자의 측면 크기의 추정치를 획득시키기 위해 형광 파형 데이터를 사용하고, 입자 흐름 방향과 평행한 방향의 입자 크기의 추정치를 획득하기 위해 산란 파형 데이터를 사용하는 것을 추가로 포함하는 방법.
- 제25항에 있어서, 상기 입자가 임의의 세포, 미세-소낭, 세포 단편, 리포솜, 비드, 및 작은 유기체를 포함하는 방법.
- 입자의 특징을 결정하는 방법으로서,
입자로부터 적어도 하나의 방사성 반응을 유발시키기 위해 입자가 유세포 분석 시스템을 통해 흐를 때, 입자를 조명하는 단계,
상기 방사성 반응과 관련된 시간적 형광 파형 데이터를 생성시키기 위해 입자로부터 방출하는 상기 방사성 반응을 검출하는 단계, 및
상기 파형 데이터를 기초로 하여 입자의 이미지를 생성시키지 않으면서 상기 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 획득하기 위해 상기 파형을 처리하는 단계를 포함하며, 시간적 형광 파형 데이터를 처리하는 단계는:
상기 시간적 형광 파형 데이터와 관련된 비트 주파수를 분석하는 단계;
시간적 형광 파형을 생성하고 상기 시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하는 단계; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
c) 상기 시간적 형광 파형 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계;
중 하나 이상을 포함하며,
상기 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치에 기초하여 상기 입자에 관한 분류 결정을 생성하는 단계를 포함하는,
방법. - 제31항에 있어서, 상기 방사성 반응이 상기 조명에 반응하여 입자로부터 방출된 임의의 형광 방사선 및 산란된 방사선을 포함하는 방법.
- 제31항에 있어서, 상기 조명은 적어도 하나의 무선주파수에 의해 서로 분리된 적어도 2개의 광 주파수를 포함하는 방법.
- 삭제
- 제31항에 있어서, 상기 적어도 하나의 특징이 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기들의 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 형광 방사선의 점상화도, 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 입자의 위치 또는 배향의 측정치, 입자의 편심의 측정치, 기준 입자에 대한 입자의 유사성의 측정치, 입자의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 입자가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
- 삭제
- 컴퓨터-보조 유세포 분석을 수행하는 방법으로서,
유세포 분석기 내에 복수의 입자를 함유한 샘플을 도입하는 단계,
하나 이상의 유세포 분석기 측정으로부터, 상기 복수의 입자에 대한 적어도 하나의 입자 특징의 추정치를 획득하는 단계를 포함하며,
상기 획득 단계는, 입자가 유세포 분석기를 통해 흐를 때, 입자로부터 방사성 반응을 유발시키도록, 입자를 조명하고, 상기 반응에 연관된 시간적 형광 파형 데이터를 생성하기 위해 상기 입자로부터 방사성 반응을 검출하며, 상기 시간적 형광 파형 데이터를 변조시키는 하나 이상의 비트 주파수를 분석함으로써 상기 적어도 하나의 입자 특징의 수치를 획득하기 위해 상기 시간적 형광 파형 데이터를 처리하는 것을 포함하며, 상기 시간적 형광 파형 데이터를 처리하는 단계는:
시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하는 단계; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
c) 시간적 형광 파형 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계;
중 하나 이상을 포함하며,
컴퓨터 프로세서를 통해, 사전규정된 범위 내에 상기 입자 특징의 수치를 갖는 상기 입자 중 하나 이상에 나타내는 게이트(gate)를 식별하고, 상기 식별된 게이트에 기초하여 상기 하나 이상의 입자에 관한 분류 결정을 생성하는 단계를 포함하는,
방법. - 제37항에 있어서, 상기 방사성 반응이 임의의 형광 및 산란된 방사선을 포함하는 방법.
- 삭제
- 제37항에 있어서, 상기 입자 특징이 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기들의 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 형광 방사선의 점상화도, 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 입자의 위치 또는 배향의 측정치, 입자의 편심의 측정치, 기준 입자에 대한 입자의 유사성의 측정치, 입자의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 입자가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치 중 적어도 하나인 방법.
- 유세포 분석 시스템에서 세포를 분류하는 방법으로서,
세포로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해 세포를 조명하는 단계,
시간적 형광 데이터를 생성시키기 위해 형광 방사선을 검출하는 단계, 및
상기 세포와 관련한 분류 결정에 도달하기 위해 상기 시간적 형광 데이터를 처리하는 단계를 포함하며, 상기 시간적 형광 데이터를 처리하는 단계는:
상기 시간적 형광 데이터와 관련된 비트 주파수를 분석하는 단계;
시간적 형광 파형을 생성하고 상기 시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하는 단계; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
c) 시간적 형광 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계;
중 하나 이상을 포함하는,
방법. - 삭제
- 제41항에 있어서, 상기 처리 단계가 세포의 특징의 추정치를 획득하기 위해 상기 시간적 형광 데이터에서 무선주파수와 관련된 적어도 하나의 비트 주파수를 분석하는 것을 포함하는 방법.
- 제41항에 있어서, 상기 처리 단계가 상기 시간적 형광 데이터를 기초로 하여 형광 이미지를 생성시키지 않으면서 상기 분류 결정에 도달하는 방법.
- 제43항에 있어서, 상기 세포 특징이 세포의 내부 세포기관과 관련이 있는 방법.
- 제41항에 있어서, 상기 세포의 특징이 임의의 세포의 치수 크기, 2개의 상이한 치수에 따라 세포의 크기의 비율, 세포와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 세포의 세포질 및 핵의 크기의 비율, 세포로부터 방출된 형광 방사선의 점상화도, 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 세포의 위치 또는 배향의 측정치, 세포의 편심의 측정치, 기준 세포에 대한 세포의 유사성의 측정치, 세포의 하나 이상의 공간 푸리에 성분의 조합, 세포가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치를 포함하는 방법.
- 제41항에 있어서, 상기 처리 단계가 상기 분류 결정에 도달하는 것과 관련된 지연시간이 100 마이크로초 미만이도록 충분히 빠른 방법.
- 제47항에 있어서, 상기 지연시간이 20 마이크로초 미만인 방법.
- 제41항에 있어서, 상기 조명은 광학 빔을 포함하며, 광학 빔은 세포 내의 복수의 공간적 위치 각각에서 광학 주파수가 상이하게 무선주파수 편이된 광학 주파수로 조명되도록 구성되는, 방법.
- 제41항에 있어서, 상기 세포가 적어도 2개의 형광 마커로 염색되며, 상기 조명이 상기 마커로부터 형광 방사선을 유발시키도록 구성된 방법.
- 제50항에 있어서, 각각이 상기 마커들 중 하나에 해당하는 시간적 형광 파형을 생성시키기 위해 상기 마커로부터 방출된 형광 방사선을 수집하고 디지털화하는 것을 추가로 포함하는 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제41항에 있어서, 상기 처리 단계가 세포의 크기의 추정치를 획득하기 위해 상기 시간적 형광 데이터를 처리하고, 상기 추정된 세포 크기를 기초로 하여 상기 분류 결정을 만드는 것을 포함하는 방법.
- 제55항에 있어서, 상기 세포 크기의 추정치가 유세포 분석 시스템에서 세포 흐름 방향의 세포 크기 및 세포의 측면 크기의 임의의 추정치일 수 있는 방법.
- 제56항에 있어서, 세포로부터 방출된 형광 방사선의 펄스의 시간적 기간을 기초로 하여 세포 흐름 방향에서 상기 세포 크기를 추정하는 것을 추가로 포함하는 방법.
- 제56항에 있어서, 세포의 측면 크기의 추정치가 검출된 시간적 형광 데이터를 제곱하고, 제곱된 형광 데이터에 대역 통과 필터를 적용하고, 필터링된 데이터를 적분하고, 필터링된 데이터를 사전규정된 문턱값과 비교함으로써 획득된 방법.
- 제41항에 있어서, 상기 처리 단계가 2개의 상이한 치수를 따르는 세포 크기의 비율을 획득하기 위해 상기 시간적 형광 데이터에 대해 조작하고, 분류 결정을 만들기 위해 상기 비율을 사용하는 것을 포함하는 방법.
- 제41항에 있어서,
세포를 2개의 형광 마커로 표지하는 것을 추가로 포함하며, 이들 중 하나는 세포의 막에 결합되며, 다른 하나는 세포의 핵에 결합되는 방법. - 제60항에 있어서, 광학 방사선이 상기 마커 둘 모두로부터 형광 방사선을 유발시키도록 구성되며, 상기 검출 단계가 2개의 상이한 채널에서 두 마커 모두로부터 방출된 형광 방사선을 검출하는 것을 포함하는 방법.
- 제61항에 있어서, 상기 처리 단계가 세포의 세포질 및 세포의 핵의 치수 크기의 추정치를 획득하기 위해 상기 채널에서 검출된 형광 방사선을 분석하고 세포의 핵 및 세포질의 상기 치수 크기 추정치의 비율을 기초로 하여 분류 결정을 만드는 것을 포함하는 방법.
- 삭제
- 유세포 분석 시스템에서 세포를 분류하는 방법으로서,
세포로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해 세포를 조명하는 단계,
시간적 형광 데이터를 생성시키기 위해 형광 방사선을 검출하는 단계, 및
100 마이크로초 이하의 지연시간으로 상기 세포와 관련한 분류 결정에 도달하기 위해 상기 시간적 형광 데이터를 처리하는 단계를 포함하며, 상기 시간적 형광 데이터를 처리하는 단계는:
상기 시간적 형광 데이터와 관련된 비트 주파수를 분석하는 단계;
시간적 형광 파형을 생성하고 상기 시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하는 단계; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
c) 상기 시간적 형광 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계;
중 하나 이상을 포함하는,
방법. - 제64항에 있어서, 상기 처리 단계가 세포의 특징의 추정치를 획득하기 위해 상기 시간적 형광 데이터에 대해 조작하고 상기 추정치를 기초로 하여 상기 분류 결정에 도달하는 것을 포함하는 방법.
- 제64항에 있어서, 상기 처리 단계가 분류 결정에 도달하기 위해 하나 이상의 비트 주파수에서 형광 데이터의 변조를 분석하는 것을 포함하는 방법.
- 유세포 분석 시스템에서 세포를 분류하는 방법으로서,
각각이 적어도 하나의 형광단과 관련이 있는 복수의 세포를, 그러한 세포와 관련된 형광단으로부터 형광 방사선을 유발시키기 위해, 광학 조사 영역(optical interrogating region) 내에 한 번에 하나씩 초당 100개 세포 초과의 속도로 도입하여 세포 각각을 조명하는 단계,
각 세포에 대하여,
시간적 형광 파형을 생성시키기 위해 세포로부터 방출된 상기 형광 방사선을 검출하는 단계, 및
상기 세포에 관한 분류 결정에 도달하기 위해 상기 시간적 형광 파형을 처리하는 단계,
를 수행하는 단계를 포함하며, 상기 시간적 형광 파형을 처리하는 단계는:
상기 시간적 형광 파형와 관련된 비트 주파수를 분석하는 단계;
시간적 형광 파형을 생성하고 상기 시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하는 단계; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
c) 상기 시간적 형광 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계;
중 하나 이상을 포함하는,
방법. - 제67항에 있어서, 상기 세포가 광학적 조사 영역내에 한 번에 하나씩 초당 500개 초과 세포의 속도로 도입되는 방법.
- 제67항에 있어서, 상기 세포가 광학적 조사 영역내에 한 번에 하나씩 초당 1000개 초과 세포의 속도로 도입되는 방법.
- 제67항에 있어서, 상기 분류 결정을 기초로 하여 복수의 용기들 중 하나 내로 상기 세포를 가이딩하는 것을 포함하는 방법.
- 입자를 분류하는 방법으로서,
세포로부터 임의의 형광 및 산란된 방사선을 유발시키기 위해 입자를 조명하는 단계,
시간적 형광, 산란, 또는 투과 파형 데이터를 생성시키기 위해 세포로부터 방출하는 형광, 산란된, 또는 투과된 방사선을 검출하는 단계,
데이터를 기초로 하여 입자의 이미지를 계산하지 않고 상기 입자와 관련한 분류 결정을 만들기 위해 임의의 상기 형광 및 산란 데이터를 처리하는 단계를 포함하며, 시간적 형광 데이터를 처리하는 단계는:
상기 시간적 형광 데이터와 관련된 비트 주파수를 분석하는 단계;
시간적 형광 파형을 생성하고 상기 시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득하는 단계; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계; 또는
c) 상기 시간적 형광 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교하는 단계;
중 하나 이상을 포함하는,
방법. - 제71항에 있어서, 상기 조명은 광학 빔을 포함하며, 광학 빔은 레이저 빔인 방법.
- 제72항에 있어서, 상기 광학 빔이 300 THz 내지 1000 THz 범위의 광 주파수를 갖는 방법.
- 제72항에 있어서, 상기 광학 빔이 50 MHz 내지 250 MHz 범위의 하나 이상의 무선주파수에 의해 편이된 복수의 광학 주파수를 포함하는 방법.
- 제72항에 있어서, 상기 처리 단계가 분류 결정에 도달하기 위해 임의의 형광, 산란된 또는 투과된 방사선에서 검출된 하나 이상의 비트 주파수를 분석하는 것을 포함하는 방법.
- 제72항에 있어서, 상기 광학 빔이 복수의 각도로 또는 공간적으로 분리된 빔렛을 포함하며, 이들 중 각각은 다른 것에 대해 편이된 무선주파수를 갖는 방법.
- 제72항에 있어서, 상기 입자가 생물학적 입자 중 적어도 하나인 방법.
- 제72항에 있어서, 상기 입자가 임의의 세포, 미세소포, 세포 단편, 리포솜, 비드, 및 작은 유기체인 방법.
- 삭제
- 입자의 특징을 결정하기 위한 시스템으로서,
입자를 조명하기 위한 조명 시스템,
형광 또는 산란 데이터를 생성시키기 위해 상기 조명에 반응하여 입자로부터 방출하는 임의의 형광 및 산란된 방사선을 검출하기 위한 검출 시스템,
상기 형광 및 산란 데이터를 수용하고 적어도 하나의 특징의 추정치를 계산하기 위해 그리고 상기 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치에 기초하여 상기 입자에 관한 분류 결정을 생성하기 위해 상기 데이터를 처리하기 위한 상기 검출 시스템과 소통하는 분석 모듈을 포함하며, 시간적 형광 데이터를 처리하는 것은:
상기 시간적 형광 데이터와 관련된 비트 주파수를 분석;
시간적 형광 파형을 생성하고 상기 시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교; 또는
c) 상기 시간적 형광 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교;
중 하나 이상을 포함하며,
상기 분류 결정에 기초하여 용기를 분리하기 위해 상기 입자를 분류할 수 있는 구동기를 포함하는,
시스템. - 제80항에 있어서, 상기 분석 모듈이 상기 형광 또는 산란 데이터를 기초로 하여 입자의 이미지를 형성하지 않으면서 입자의 적어도 하나의 특징의 추정치를 계산하는 시스템.
- 제80항에 있어서, 입자의 상기 적어도 하나의 특징이 입자의 치수 크기, 2개의 상이한 치수를 따르는 입자의 크기들의 비율, 입자와 관련된 둘 이상의 마커에 의해 방출된 형광 방사선의 공-편재화, 입자로부터 방출된 형광 방사선의 점상화도, 형광 방사선의 공간 분포의 측정치, 입자의 위치 또는 배향의 측정치, 입자의 편심의 측정치, 기준 입자에 대한 입자의 유사성의 측정치, 입자의 하나 이상의 공간 푸리에 성분들의 조합, 입자가 조명 방사선의 초점에 놓여 있는 정도의 측정치 중 적어도 하나를 포함하는 시스템.
- 제80항에 있어서, 상기 입자가 임의의 세포, 미세소포, 세포 단편, 리포솜, 비드, 및 작은 유기체를 포함하는 시스템.
- 제80항에 있어서, 상기 입자가 세포를 포함하며, 상기 적어도 하나의 특징이 세포의 세포질 및 핵의 크기의 비율인 시스템.
- 제80항에 있어서, 상기 조명 시스템이 적어도 하나의 무선주파수에 의해 서로 분리된 광 주파수를 갖는 복수의 각도로 분리된 빔렛을 포함하는 광학 빔을 생성시키는 시스템.
- 제80항에 있어서, 상기 조명 시스템이
레이저 빔을 생성시키기 위한 소스,
상기 레이저 빔을 수용하는 단일 음향 광학 디플렉터(acousto-optic deflector: AOD), 및
복수의 RF 구동 신호를 상기 AOD에 적용하여 상기 레이저 빔을 상기 복수의 각도로 분리된 빔렛 내로 회절시키기 위한 무선주파수(RF) 콤 발생기를 포함하는 시스템. - 입자를 분류하기 위한 시스템으로서,
입자를 조명하기 위한 조명 시스템,
형광 또는 산란 데이터를 생성시키기 위해 상기 조명에 반응하여 입자로부터 방출하는 임의의 형광 및 산란된 방사선을 검출하기 위한 검출 시스템,
임의의 상기 형광 및 산란 데이터를 수용하고 상기 입자와 관련한 분류 결정에 도달하기 위해 상기 데이터를 처리하기 위한 상기 검출 시스템과 소통하는 분석 모듈을 포함하며, 시간적 형광 데이터를 처리하는 것은:
상기 시간적 형광 데이터와 관련된 비트 주파수를 분석;
시간적 형광 파형을 생성하고 상기 시간적 형광 파형에 대응하는 형광 신호의 공-편재화의 측정치를 획득; 및
a) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 필터링된 파형을 적분하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 적분된 수치를 사전규정된 문턱값과 비교; 또는
b) 적어도 하나의 필터링된 파형을 생성시키기 위해 상기 파형들 중 적어도 하나에 고역 통과 또는 대역 통과 필터를 적용한 후에, 얻어진 배수 파형을 생성시키기 위해 상기 파형의 포인트별 곱을 수행하고, 적분된 수치를 획득하기 위해 상기 배수 파형을 적분하고, 적분된 수치로부터 백그라운드 수치를 차감하고, 최종 수치를 생성시키기 위해 얻어진 수치를 강도로 스케일링하고, 상기 공-편재화의 측정치를 획득하기 위해 최종 수치를 사전규정된 문턱값과 비교; 또는
c) 상기 시간적 형광 데이터의 푸리에 변환을 획득하고, 변환에서의 주파수를 결정하고, 상기 결정된 주파수에서 푸리에 변환 수치들의 합을 획득하고, 상기 합을 사전규정된 문턱값과 비교;
중 하나 이상을 포함하며,
상기 분류 결정을 기초로 하여 입자를 이의 흐름 경로로부터 별도의 용기로 전환시킬 수 있는 구동기를 포함하는 시스템. - 제87항에 있어서, 상기 분석 모듈이 상기 형광 또는 산란 데이터를 기초로 하여 입자의 이미지를 형성하지 않으면서 분류 결정에 도달하는 시스템.
- 제87항에 있어서, 상기 조명 시스템이 적어도 하나의 무선주파수에 의해 서로 분리된 광 주파수를 갖는 복수의 각도로 분리된 빔렛을 포함하는 광학 빔을 생성시키는 시스템.
- 제89항에 있어서, 상기 조명 시스템이
레이저 빔을 생성시키기 위한 소스,
상기 레이저 빔을 수용하기 위한 단일 음향 광학 디플렉터(AOD), 및
상기 AOD에 복수의 RF 구동 신호를 적용하여 상기 레이저 빔을 상기 복수의 각도로 분리된 빔렛 내로 회절시키기 위한 무선주파수(RF) 콤 발생기를 포함하는 시스템.
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