KR102618632B1 - 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 - Google Patents

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 Download PDF

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Abstract

(A) 아크릴계 바인더 수지 함유 바인더 수지; (B) 광중합성 단량체; (C) 광중합 개시제; (D) 프탈로시아닌계 염료 함유 착색제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 1 및 화학식 3으로 표시되는 구조단위로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상을 더 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 5 중량% 내지 25 중량%로 포함하는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터가 제공된다.
[화학식 1]

[화학식 2]

[화학식 3]

(상기 화학식 1 내지 화학식 3에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)

Description

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER USING THE SAME AND COLOR FILTER}
본 기재는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터에 관한 것이다.
디스플레이 장치 중의 하나인 액정디스플레이 장치는 경량화, 박형화, 저가, 저소비 전력 구동화 및 우수한 집적 회로와의 접합성 등의 장점을 가지고 있어 노트북 컴퓨터, 모니터 및 TV화상용으로 그 사용범위가 확대되고 있다. 이와 같은 액정 디스플레이 장치는 블랙 매트릭스, 컬러필터 및 ITO 화소 전극이 형성된 하부 기판과, 액정층, 박막트랜지스터, 축전 캐패시터층으로 구성된 능동 회로부와 ITO화소 전극이 형성된 상부의 기판을 포함하여 구성된다.　
컬러 필터는 화소 사이의 경계부를 차광하기 위해서 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스층 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로, 적(R), 녹(G), 청(B)의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다.
컬러 필터를 구현하는 방법 중의 하나인 안료 분산법은 흑색 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 코팅하고, 형성하고자 하는 형태의 패턴을 노광한 후, 비노광 부위를 용제로 제거하여 열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색 박막이 형성되는 방법이다.
안료 분산법에 따른 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물은 일반적으로 바인더 수지, 광중합성 단량체, 광중합 개시제, 착색제, 용매와 기타 첨가제 등으로 이루어진다. 상기의 특징을 가지는 안료 분산법은 휴대폰, 노트북, 모니터, TV 등의 LCD를 제조하는 데 활발하게 응용되고 있다.
그러나, 근래에는 여러 가지 장점을 가지는 안료 분산법을 이용한 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 있어서도 분말의 미세화 공정 요구, 안정한 분산을 위한 첨가제 필요 및 안료분산액의 보관, 운송이 어려운 단점이 있다. 즉, 안료는 공정성이 우수하나, 휘도 향상에 영향을 주는 안료입자를 미세하게 분산하는 데에 한계가 있으며, 최근에는 LCD 디스플레이에서 문제가 되는 ACC 불량의 한 원인으로도 작용하고 있다.
이에 따라 안료를 대신해, 별도의 미세화 및 분산 공정이 요구되지 않는 염료 개발의 필요성이 대두되었다.
염료는 단분자 상태로 용해도가 높고, 안료에 비해 고휘도, 고명암비 특성을 가지고 있으나, 안료보다 내열성, 내구성이 약하기 때문에 LCD 패널제조 공정에서 사용되는 공정처리 용매에 취약하다는 단점이 있다. 이에 따라 안료를 염료로 완전 대체하기에는 한계가 있었으며, 이를 해결하기 위해 염료의 함량을 제한하거나, 내화학 특성이 좋은 에폭시계 바인더 수지를 적용하는 등의 방법이 사용되었으나, 조성물 내 염료 함량이 높을 경우 현상성이 떨어져 미현상 되거나, 현상 후 유기막 위 잔사가 생기는 문제점을 여전히 해결하지 못하고 있다.
일 구현예는 높은 휘도 및 우수한 내화학성을 구현하며, 현상 후 유기막 위 잔사 특성을 개선되고, 패턴 뜯김이 발생하지 않는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.
다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공하기 위한 것이다.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.
일 구현예는 (A) 아크릴계 바인더 수지 함유 바인더 수지; (B) 광중합성 단량체; (C) 광중합 개시제; (D) 프탈로시아닌계 염료 함유 착색제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 1 및 화학식 3으로 표시되는 구조단위로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상을 더 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 5 중량% 내지 25 중량%로 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
상기 화학식 1 내지 화학식 3에서,
R0 및 R1은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R2는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 2 이상의 C3 내지 C20 사이클로알칸고리가 서로 융합된 융합고리이고,
L1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.
상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 30 중량% 이상으로 포함될 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-3으로 표시되는 구조단위로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상일 수 있다.
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
상기 화학식 3으로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 3-1 또는 화학식 3-2로 표시되는 구조단위일 수 있다.
[화학식 3-1]
[화학식 3-2]
상기 화학식 3-1 및 화학식 3-2에서,
R1은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 더 포함할 수 있다.
[화학식 4]
상기 화학식 4에서,
R1은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
L2는 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 5로 표시되는 구조단위를 더 포함할 수 있다.
[화학식 5]
상기 화학식 5에서,
R3은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로고리기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
n은 0 내지 5의 정수이다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 화학식 1-2로 표시되는 구조단위, 상기 화학식 1-3으로 표시되는 구조단위, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위, 및 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위보다 적은 함량으로 포함될 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해, 상기 화학식 1-2로 표시되는 구조단위 1 내지 10 중량%; 상기 화학식 1-3으로 표시되는 구조단위 20 내지 50 중량%; 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위 15 내지 25 중량%; 및 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위 30 내지 50 중량%를 포함할 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해, 상기 화학식 1-1로 표시되는 구조단위 15 내지 25 중량%; 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위 5 내지 15 중량%; 상기 화학식 3-1로 표시되는 구조단위 25 내지 35 중량%; 상기 화학식 3-2로 표시되는 구조단위 15 중량% 내지 30 중량%; 및 상기 화학식 5로 표시되는 구조단위 15 중량% 내지 25 중량%를 포함할 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 10000 g/mol 내지 20000 g/mol의 중량평균분자량을 가질 수 있다.
상기 프탈로시아닌계 염료는 하기 화학식 6으로 표시될 수 있다.
[화학식 6]
상기 화학식 6에서,
R4 내지 R11은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,
R12 내지 R19는 각각 독립적으로 수소 원자이고,
R4 내지 R7 중 적어도 하나 및 R8 내지 R11 중 적어도 하나는 각각 독립적으로 하기 화학식 7로 표시되고,
[화학식 7]
상기 화학식 7에서,
R20 및 R21은 각각 독립적으로 C1 내지 C5 알킬기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
o 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 단, 1 ≤ o+p ≤ 5 이다.
상기 화학식 6에서, R6 및 R9는 각각 독립적으로 상기 화학식 7로 표시되고, R4, R5, R7, R8, R10 및 R11은 각각 독립적으로 할로겐 원자일 수 있다.
상기 착색제는 녹색 안료 및 황색 안료를 더 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%; 상기 (B) 광중합성 단량체 1 중량% 내지 10 중량%; 상기 (C) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 상기 (D) 착색제 30 중량% 내지 65 중량%; 및 상기 (E) 용매 20 중량% 내지 60 중량%을 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 라디칼 중합 개시제; 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.
기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 종래의 공정을 그대로 사용하면서도 컬러필터 패턴 제조시 우수한 휘도와 내화학성을 구현할 수 있으며, 현상 후 유기막(SiNx) 위 잔사 특성을 개선하고, 패턴뜯김이 발생하지 않을 수 있다.
도 1은 실시예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 현상 후 유기막(SiNx) 위 잔사 특성을 확인하기 위한 광학현미경 사진이다.
도 2는 비교예 3에 따른 감광성 수지 조성물을 현상 후 유기막(SiNx) 위 잔사 특성을 확인하기 위한 광학현미경 사진이다.
도 3은 비교예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 현상 후 유기막(SiNx) 위 잔사 특성을 확인하기 위한 광학현미경 사진이다.
도 4 및 도 5는 실시예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 수득한 패턴의 광학현미경 사진이다.
도 6 및 도 7은 비교예 2에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 수득한 패턴의 광학현미경 사진이다.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 　다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.　
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH2, NH(R200) 또는 N(R201)(R202)이고, 여기서 R200, R201 및 R202는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.
본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.
본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, “에틸렌성 불포화 이중결합”이란 “탄소-탄소 이중결합”을 의미하고, 에틸렌성 불포화 단량체란 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 포함하는 단량체를 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 (A) 아크릴계 바인더 수지 함유 바인더 수지; (B) 광중합성 단량체; (C) 광중합 개시제; (D) 프탈로시아닌계 염료 함유 착색제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 1 및 화학식 3으로 표시되는 구조단위로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상을 더 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 5 중량% 내지 25 중량%로 포함한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
상기 화학식 1 내지 화학식 3에서,
R0 및 R1은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R2는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 2 이상의 C3 내지 C20 사이클로알칸고리가 서로 융합된 융합고리이고,
L1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.
전술한 바와 같이, 안료형 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에서는 안료 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재한다. 또한 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도를 요구하게 된다. 이와 같은 요구에 부응하고자 안료 대신 입자를 이루지 않는 염료를 도입하여 염료에 적합한 감광성 수지 조성물을 제조하여 휘도와 명암비가 개선된 컬러필터를 구현하려는 시도가 계속되고 있다.
따라서, 녹색 컬러필터용 감광성 수지 조성물의 경우, 일반적인 휘도 개선 방향은 녹색 염료의 색특성을 향상시키는 것이나, 그렇다고 하여 휘도가 아닌, 내열 특성, 내화학 특성, 잔사 특성 및 패턴성 등도 함께 개선되는 것은 아니기에, 지속적으로 안정적인 패턴 공정성 및 고휘도 특성을 유지시킬 수 있는 (녹색) 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 대한 요구가 있어왔다. 더구나 염료의 함량이 많아질수록 현상 후 유기막 위 잔사가 생기는 문제점은 더욱 심해지는 경향이 있다.
이에 본 발명자들은 휘도 특성 및 패턴성이 개선된 안료를 찾기 위해 많은 시도를 하였으나, 어떠한 신규 안료를 통하여도 휘도 및 패턴성이 모두 개선된 효과를 확보할 수가 없었다. 이에 녹색 프탈로시아닌계 염료를 고함량으로 사용하면서도, 이를 특정 구조의 바인더 수지와 혼용하여 고휘도 녹색 포토레지스트를 구현하고, 동시에 현상 후 유기막(SiNx) 위 잔사 공정 마진 확보를 통하여, 유기막 위 잔사 특성 및 패턴성 또한 매우 우수한 감광성 수지 조성물을 개발하기에 이르렀다.
이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.
(A) 바인더 수지
구체적으로, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 아크릴계 바인더 수지를 포함하며, 상기 아크릴계 바인더 수지가 "상기 화학식 2로 표시되는 구조단위"를 포함하고, 동시에 "상기 화학식 1로 표시되는 구조단위" 및/또는 "상기 화학식 3으로 표시되는 구조단위"를 포함하고, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위가 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해 5 중량% 내지 25 중량%로 포함됨으로써, 조성물 내 염료가 고함량으로 포함되더라도 현상 후 유기막 위에 잔사가 발생되는 현상을 매우 깔끔하게 해결할 수 있다.
예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-3으로 표시되는 구조단위로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상일 수 있다.
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
[화학식 1-3]
예컨대, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 감광성 수지 조성물의 산가를 높이는 역할을 수행할 수 있는데, 상기 조성으로 아크릴계 바인더 수지를 구성할 경우, 상기 아크릴계 바인더 수지에 산가를 부여하면서 동시에 현상성 개선 효과를 꾀할 수 있어, 조성물 내 높은 염료 함량에도 불구하고 유기막 위 잔사 특성을 우수하게 유지하면서, 패턴 뜯김이 발생하지 않는 것으로 생각된다. 상기와 같은 아크릴계 바인더 수지의 조성에서, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위가 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해 5 중량% 미만으로 포함될 경우 유기막 위 잔사 특성 개선을 꾀할 수가 없으며, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위가 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해 25 중량% 초과로 포함될 경우 패턴 뜯김 현상이 심하게 발생하게 되어 바람직하지 않다.
예컨대, 상기 화학식 3으로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 3-1 또는 화학식 3-2로 표시되는 구조단위일 수 있다.
[화학식 3-1]
[화학식 3-2]
상기 화학식 3-1 및 화학식 3-2에서,
R1은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
예컨대, 상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 5로 표시되는 구조단위를 더 포함할 수 있다.
[화학식 5]
상기 화학식 5에서,
R3은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로고리기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
n은 0 내지 5의 정수이다.
예컨대, 상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해, 상기 화학식 1-1로 표시되는 구조단위 15 내지 25 중량%; 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위 5 내지 15 중량%; 상기 화학식 3-1로 표시되는 구조단위 25 내지 35 중량%; 상기 화학식 3-2로 표시되는 구조단위 15 중량% 내지 30 중량%; 및 상기 화학식 5로 표시되는 구조단위 15 중량% 내지 25 중량%를 포함할 수 있다.
예컨대, 상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 더 포함할 수 있다.
[화학식 4]
상기 화학식 4에서,
R1은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
L2는 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.
상기 화학식 4로 표시되는 구조단위는 상기 아크릴계 바인더 수지에 열경화 특성을 부여하여 염료 함량이 높은 경우에도 휘도가 높고 내화학성이 우수한 감광성 수지 조성물을 구현할 수 있다.
예컨대, 상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 화학식 1-2로 표시되는 구조단위, 상기 화학식 1-3으로 표시되는 구조단위, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위, 및 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 포함하고, 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위보다 적은 함량으로 포함될 수 있다.
예컨대, 상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해, 상기 화학식 1-2로 표시되는 구조단위 1 중량% 내지 10 중량%; 상기 화학식 1-3으로 표시되는 구조단위 20 중량% 내지 50 중량%; 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위 15 중량% 내지 25 중량%; 및 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위 30 중량% 내지 50 중량%를 포함할 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지의 조성이 상기와 같을 경우, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물은 휘도와 내화학성이 우수할 뿐만 아니라, 높은 염료 함량에도 불구하고 현상 후 유기막 위 잔사 특성을 매우 우수하게 유지할 수 있으며, 나아가 패턴 뜯김 현상의 발생을 최대한 억제할 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 10000 g/mol 내지 20000 g/mol의 중량평균분자량을 가질 수 있다. 예컨대, 상기 아크릴계 바인더 수지가 상기 화학식 1 내지 화학식 3 및 화학식 5로 표시되는 구조단위를 포함할 경우에는 10000 g/mol 내지 13000 g/mol의 중량평균분자량을 가질 수 있고, 상기 아크릴계 바인더 수지가 상기 화학식 1, 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 구조단위를 포함할 경우에는 14000 g/mol 내지 20000 g/mol의 중량평균분자량을 가질 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 감광성 수지 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 컬러필터 제조시 기판과의 밀착성이 우수할 수 있다. 　
상기 아크릴계 바인더 수지는 110 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g의 산가(acid value)를 가질 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수할 수 있다.
예컨대, 상기 아크릴계 바인더 수지가 상기 화학식 1 내지 화학식 3 및 화학식 5로 표시되는 구조단위로 구성되는 경우에, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 바인더 수지로 상기 아크릴계 바인더 수지 외에, 에폭시계 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.
상기 에폭시계 바인더 수지는 후술할 염료 및 안료 등의 분산 안정성을 확보함과 동시에, 현상 과정에서 원하는 해상도의 픽셀이 형성되도록 도울 수 있다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물이 에폭시 바인더 수지를 더 포함함으로써, 내열성을 향상시킬 수 있다. 상기 에폭시 바인더 수지는 예컨대, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 테트라메틸 비페닐 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 지환족 에폭시 수지, 또는 이들의 조합 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
예컨대, 상기 에폭시계 바인더 수지는 하기 화학식 X로 표시될 수 있다.
[화학식 X]
상기 에폭시계 바인더 수지의 에폭시당량(epoxy equivalent weight)은 200 g/eq 내지 150 g/eq 일 수 있다. 상기 범위 내의 에폭시당량을 가지는 에폭시계 바인더 수지를 사용할 경우, 형성된 패턴의 경화도 향상 및 패턴이 형성된 구조 내에서의 염료 고착에 유리한 효과가 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 에폭시계 바인더 수지보다 많은 함량으로 포함될 수 있다.
상기 에폭시계 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 1 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 0.7 중량%로 포함될 수 있다.
예컨대, 상기 아크릴계 바인더 수지가 상기 화학식 1, 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 구조단위로 구성되는 경우에, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 바인더 수지로 상기 아크릴계 바인더 수지 외에, 또다른 구조의 아크릴계 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.
상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조 시 휘도, 내열성 및 현상성이 우수하며, 가교성이 개선되어 우수한 표면 평활도를 얻을 수 있다.　
(D) 착색제
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 착색제로 프탈로시아닌계 염료를 포함하는데, 상기 프탈로시아닌계 염료는 녹색 염료로서 하기 화학식 6으로 표시될 수 있다.
[화학식 6]
상기 화학식 6에서,
R4 내지 R11은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,
R12 내지 R19는 각각 독립적으로 수소 원자이고,
R4 내지 R7 중 적어도 하나 및 R8 내지 R11 중 적어도 하나는 각각 독립적으로 하기 화학식 7로 표시되고,
[화학식 7]
상기 화학식 7에서,
R20 및 R21은 각각 독립적으로 C1 내지 C5 알킬기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
o 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 단, 1 ≤ o+p ≤ 5 이다.
상기 화학식 6으로 표시되는 화합물은 우수한 녹색 분광 특성과 높은 휘도를 가진다. 나아가, 상기 화학식 6으로 표시되는 화합물은 상기 화학식 7로 표시되는 아릴옥시기를 포함하고, 상기 아릴옥시기는 알킬기를 치환기로 포함하며, 상기 알킬기는 비치환되거나 알킬기만으로 치환되어 있어, 유기용매에 대해 우수한 용해도를 가질 수 있다.
상기 R20 및 R21은 중 어느 하나는 비치환된 알킬기일 수 있고, 나머지 하나는 말단에 이소프로필기 또는 t-부틸기, 예컨대 t-부틸기를 포함하는 치환기일 수 있다. 이로써, 유기용매에 대한 용해도가 증가하고, 휘도가 우수해질 수 있다.
상기 o 및 p는 각각 독립적으로 1의 정수일 수 있다. 상기 화학식 7로 표시되는 아릴옥시기는 알킬기로 치환 또는 비치환된 알킬기 2개(구체적으로는 비치환된 알킬기 1개 및 알킬기로 치환된 알킬기 1개)를 치환기로 포함함으로써, 1개를 치환기로 포함하는 경우보다 유기용매에 대해 우수한 용해도를 가질 수 있다.
예컨대, 상기 화학식 7은 하기 화학식 7-1로 표시될 수 있다.
[화학식 7-1]
상기 화학식 7-1에서,
R20은 알킬기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R21은 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다.
상기 R20은 아릴옥시기를 구성하는 산소 원자에 대해 오르쏘(ortho) 위치에 존재하며, 상기 R21은 상기 아릴옥시기를 구성하는 산소 원자에 대해 파라(para) 위치에 존재할 수 있다. 아릴옥시기를 구성하는 산소 원자에 대해 알킬 치환기가 각각 오르쏘(ortho) 및 파라(para) 위치에 존재할 경우, 그렇지 않은 경우보다 용해도 및 휘도에 유리한 효과가 있다.
또한, 상기 화학식 6에서, R4 내지 R11은 수소 원자가 아니고, R12 내지 R19는 각각 독립적으로 수소 원자이기에, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 다른 구조의 프탈로시아닌계 염료를 단독으로 사용하는 경우에 비해 보다 우수한 휘도와 내화학성을 가질 수 있다.
예컨대, 상기 화학식 6에서, R6 및 R9는 각각 독립적으로 상기 화학식 7로 표시되고, R4, R5, R7, R8, R10 및 R11은 각각 독립적으로 할로겐 원자일 수 있다.
예컨대, 상기 녹색 프탈로시아닌계 염료는 조색 염료와 혼합하여 사용될 수도 있다.
상기 조색 염료로는 트리아릴메탄계 염료, 안트라퀴논계 염료, 벤질리덴계 염료, 시아닌계 염료, (또다른 구조의) 프탈로시아닌계 염료, 아자포피린계 염료, 인디고계 염료, 크산텐계 염료 등을 들 수 있다.
상기 착색제는 녹색 안료(분산액) 및 황색 안료(분산액)를 더 포함할 수 있다.
상기 황색 안료 분산액으로 상기 녹색 염료, 예컨대 프탈로시아닌계 녹색 염료와의 상용성이 우수한 것을 사용할 수 있다. 예컨대, 상기 황색 안료 분산액은 20 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g의 아민가(amine value)를 가질 수 있다. 일반적으로 황색 안료분산액은 약 100 mgKOH/g 내지 약 120 mgKOH/g의 아민가(amine value)를 가지는데, 황색 안료분산액의 아민가를 상기와 같이 한정(종래 아민가보다 낮은 아민가를 가지도록 한정)할 경우, 전술한 녹색 염료와의 상용성이 극대화되어, 휘도를 크게 개선시킬 수 있다.
상기 착색제가 상기 조성을 가짐으로써, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 높은 휘도를 구현할 수 있다.
상기 황색 안료의 예로는 C.I. 안료 황색 11, C.I. 안료 황색 24, C.I. 안료 황색 31, C.I. 안료 황색 53, C.I. 안료 황색 83, C.I. 안료 황색 93, C.I. 안료 황색 99, C.I. 안료 황색 108, C.I. 안료 황색 109, C.I. 안료 황색 110, C.I. 안료 황색 138, C.I. 안료 황색 139, C.I. 안료 황색 147, C.I. 안료 황색 150, C.I. 안료 황색 151, C.I. 안료 황색 154, C.I. 안료 황색 155, C.I. 안료 황색 167, C.I. 안료 황색 180, C.I. 안료 황색 185, C.I. 안료 황색 199, C.I. 안료 황색 215, C.I. 안료 황색 231 등을 들 수 있다.
상기 녹색 안료의 예로는 녹색 안료 C.I. 안료 녹색 7, C.I. 안료 녹색 36, C.I. 안료 녹색 37, C.I. 안료 녹색 58, C.I. 안료 녹색 59, C.I. 안료 녹색 62 등을 들 수 있다.
상기 안료는 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 이들의 예에 한정되는 것은 아니다.
상기 안료분산액은 안료, 분산제 및 분산수지를 포함할 수 있다. 예컨대 상기 안료분산액은 용매를 더 포함할 수 있다.
상기 안료분산액을 구성하는 용매로는 에틸렌 글리콜 아세테이트, 에틸 셀로솔브, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 에틸 락테이트, 폴리에틸렌 글리콜, 사이클로헥사논, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 등을 사용할 수 있으며, 이들 중에서 좋게는 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트를 사용할 수 있다.
상기 분산제는 상기 안료가 분산액 내에 균일하게 분산되도록 도와주며, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성의 분산제 모두 사용할 수 있다. 구체적으로는 폴리알킬렌 글리콜 또는 이의 에스테르, 폴리옥시 알킬렌, 다가 알콜 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복시산 에스테르, 카르복시산 염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 분산수지는 카르복시기를 포함한 아크릴계 수지를 사용할 수 있으며, 이는 안료 분산액의 안정성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 픽셀의 패턴성도 개선시킬 수 있다.
상기 안료는 수용성 무기염 및 습윤제를 이용하여 전처리하여 사용할 수도 있다. 상기 안료를 상기 전처리하여 사용할 경우 황색 안료의 1차 입도를 미세화할 수 있다.
상기 전처리는 상기 안료를 수용성 무기염 및 습윤제와 함께 니딩(kneading)하는 단계, 그리고 상기 니딩 단계에서 얻어진 안료를 여과 및 수세하는 단계를 거쳐 수행될 수 있다.
상기 니딩은 40℃내지 100℃의 온도에서 수행될 수 있고, 상기 여과 및 수세는 물 등을 사용하여 무기염을 수세한 후 여과하여 수행될 수 있다.
상기 수용성 무기염의 예로는 염화나트륨, 염화칼륨 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 습윤제는 상기 안료 및 상기 수용성 무기염이 균일하게 섞여 안료가 용이하게 분쇄될 수 있는 매개체 역할을 하며, 그 예로는 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등과 같은 알킬렌 글리콜 모노알킬에테르; 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 글리세린 폴리에틸렌글리콜 등과 같은 알코올 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 니딩 단계를 거친 안료는 30 nm 내지 100 nm의 평균 입경을 가질 수 있다. 안료의 평균 입경이 상기 범위 내인 경우, 내열성 및 내광성이 우수하면서도 미세한 패턴을 효과적으로 형성할 수 있다.
상기 착색제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 30 중량% 내지 65 중량로 포함될 수 있다. 상기 착색제를 상기 범위 내로 사용할 경우, 원하는 색좌표에서 높은 휘도를 발현할 수 있다. 예컨대, 상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 30 중량% 이상으로 포함될 수 있는데, 일반적으로 염료 함량이 매우 높은 감광성 수지 조성물의 경우, 현상성이 떨어져 미현상되거나, 현상 후 유기막 위에 잔사가 발생하는 문제점이 생기기 쉬우나, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 염료 함량이 조성물 총량 대비 30 중량% 이상으로 포함되더라도 종래 문제점 중 하나인 잔사 발생이 일어나지 않는다. 이는 아크릴계 바인더 수지가 전술한 것과 같은 조성을 가지기 때문이다.
(B) 광중합성 단량체
상기 광중합성 단량체는 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.
광중합성 단량체는 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써,　패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.
광중합성 단량체의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트,　비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트　등을 들 수 있다.
광중합성 단량체의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 　상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158®, V-2311® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다. 　상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-710®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 　상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.
상기 광중합성 단량체는 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.
상기 광중합성 단량체는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함될 경우,　패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 알칼리 현상액에의 현상성이 우수하다.
(C) 광중합 개시제
상기 광중합 개시제는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시아세토페논, 2,2'-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, p-t-부틸디클로로아세토페논, 4-클로로아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일안식향산, 벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.
상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.
상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온등을사용할수있다. 상기 O-아실옥심계화합물의구체적인예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트,1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트　등을 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광증감제와 함께 사용될 수도 있다.
상기 광증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜비스-3-머캡토프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캡토프로피오네이트, 디펜타에리트리톨테트라키스-3-머캡토프로피오네이트 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 광중합이 충분히 일어나고, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.
(E) 용매
상기 용매는 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체, 상기 광중합 개시제 및 상기 착색제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.
상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 메틸에테르, 에틸렌 글리콜 에틸에테르, 프로필렌 글리콜 메틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케논, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 메틸 락테이트, 에틸 락테이트 등의 락트산 알킬 에스테르류; 메틸 히드록시아세테이트, 에틸 히드록시아세테이트, 부틸 히드록시아세테이트 등의 히드록시아세트산 알킬 에스테르류; 메톡시메틸 아세테이트, 메톡시에틸 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트, 에톡시메틸 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트 등의 아세트산 알콕시알킬 에스테르류; 메틸 3-히드록시프로피오네이트, 에틸 3-히드록시프로피오네이트 등의 3-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-에톡시프로피오네이트 등의 3-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시프로피오네이트, 에틸 2-히드록시프로피오네이트, 프로필 2-히드록시프로피오네이트 등의 2-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-에톡시프로피오네이트, 메틸 2-에톡시프로피오네이트 등의 2-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-히드록시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-에톡시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트, 2-히드록시-2-메틸에틸 프로피오네이트, 히드록시에틸 아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트 등의 에스테르류; 또는 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류의 화합물이 있으며, 또한 N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세트닐아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ부티로락톤, 에틸렌 카보네이트, 프로필렌 카보네이트, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등이 있으며, 이들 단독으로 사용되거나 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 용매 중 혼화성(miscibility) 및 반응성 등을 고려한다면, 좋게는 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 등의 디에틸렌 글리콜류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다.
상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 20 중량% 내지 60 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 감광성 수지 조성물의 도포성이 우수하고, 평탄성이 우수한 도막을 얻을 수 있다.
(F) 기타 첨가제
상기 감광성 수지 조성물은 도포 시 얼룩이나 반점을 방지하고, 레벨링 성능을 개선하기 위해, 또한 미현상에 의한 잔사의 생성을 방지하기 위하여, 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 라디칼 중합 개시제; 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ이소 시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 불소계 계면활성제의 예로는, BM Chemie사의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)사의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® 등; 스미토모 스리엠(주)사의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)사의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)사의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 시판품을 들 수 있다.
상기 첨가제의 함량은 원하는 물성에 따라 용이하게 조절될 수 있다.
다른 일 구현예는 전술한 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.
상기 컬러필터의 제조 방법은 다음과 같다.
유리기판 위에 스핀 도포, 롤러 도포, 스프레이 도포 등의 적당한 방법을 사용하여, 예를 들면, 0.5 ㎛ 내지 10 ㎛의 두께로 전술한 감광성 수지　조성물을 도포하여 수지 조성물 층을 형성한다.
이어서, 상기 수지 조성물 층이 형성된 기판에 컬러필터에 필요한 패턴을 형성하도록 광을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 UV, 전자선 또는 X선을 사용할 수 있고, 예를 들면, 190nm 내지　450nm, 구체적으로는 200nm 내지 400nm 영역의 UV를 조사할 수 있다. 상기 조사하는 공정에서 포토레지스트 마스크를 더욱 사용하여 실시할 수도 있다. 이와 같이 조사하는 공정을 실시한 후, 상기 광원이 조사된수지 조성물 층을 현상액으로 처리한다. 이때 수지 조성물 층에서 비노광 부분은 용해됨으로써 컬러필터에 필요한 패턴이 형성된다. 이러한 공정을 필요한 색의 수에 따라 반복함으로써 원하는 패턴을 갖는 컬러필터를 수득할 수 있다. 또한 상기 공정에서 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 다시 가열하거나 활성선 조사 등에 의해 경화시키면 내크랙성, 내용제성 등을 향상시킬 수 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다.　　다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
(아크릴계 바인더 수지의 제조)
합성예 1 내지 합성예 5 및 비교합성예 1 내지 비교합성예 3
냉각기와 교반기를 구비한 플라스크에 개시제인 AIBN을 7 중량부(AIBN을 제외한 나머지 중합용 단량체 총량(100 중량부) 기준)를 첨가한 뒤, 중합용 단량체를 하기 표 1에 명시된 중량%의 비율로 차례로 투입하고, 프로필렌글라이콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA, 용매)를 상기 개시제와 모노머의 총량 100 중량부에 대하여 200 중량부를 투입한 후 질소 분위기 하에서 서서히 교반시켰다. 반응용액을 85℃까지 승온시켜 6시간 동안 교반하여, 아크릴계 바인더 수지를 중합하였다. 상기와 같은 방법으로 얻어진 아크릴계 바인더 수지 용액의 고형분 농도는 30 중량%이고, 이때, 중량평균분자량은 GPC(Gel Permeation Chromatography)를 사용하여 측정한 폴리스타이렌 환산평균분자량이다.
(단위: 중량%, 고형분 기준)
합성예 1 합성예
2		 합성예
3		 합성예
4		 합성예
5		 비교합성예 1 비교합성예 2 비교합성예 3
Methacrylic acid
(화학식 1)		 20 20 20 20 20 20 15 22
Dicyclopentanyl methacrylate(화학식 3) 30 30 33 29 25 35 25 35
Phenyl maleimide
(화학식 5)		 15 15 17 15 15 20 15 23
Cyclohexyl methacrylate (화학식 3) 25 20 25 20 15 25 19 16
4-hydroxybutyl acrylate
(화학식 2)		 10 15 5 16 25 - 26 4
중량평균분자량 (g/mol) 11400 12200 12500 12000 11800 8530 9200 10280
합성예 6 내지 합성예 10, 비교합성예 4 및 비교합성예 5
냉각기와 교반기를 구비한 플라스크에 개시제인 AIBN을 10 중량부(AIBN을 제외한 나머지 중합용 단량체 총량(100 중량부) 기준)를 첨가한 뒤, 중합용 단량체를 하기 표 2에 명시된 중량%의 비율로 차례로 투입하고, 프로필렌글라이콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA, 용매)를 상기 개시제와 모노머의 총량 100 중량부에 대하여 200 중량부를 투입한 후 질소 분위기 하에서 서서히 교반시켰다. 반응용액을 85℃까지 승온시켜 6시간 동안 교반하여, 아크릴계 바인더 수지를 중합하였다. 상기와 같은 방법으로 얻어진 아크릴계 바인더 수지 용액의 고형분 농도는 30 중량%이고, 이때, 중량평균분자량은 GPC(Gel Permeation Chromatography)를 사용하여 측정한 폴리스타이렌 환산평균분자량이다.
(단위: 중량%, 고형분 기준)
합성예 6 합성예
7		 합성예
8		 합성예
9		 합성예
10		 비교합성예 4 비교합성예 5
Acrylic acid
(화학식 1)		 5 5 5 10 5 10 5
4-hydroxybutyl acrylate(화학식 2) 15 15 25 5 25 4 26
Cyclohexyl methacrylate (화학식 3) 50
Methyl Methacrylic acid
(화학식 1)		 50 30 20 50 20 50 20
Glycidyl Methacrylic acid
(화학식 4)		 30 50 50 35 36 49
중량평균분자량 (g/mol) 14800 15000 15200 15000 17000 14500 15000
(감광성 수지 조성물 제조)
실시예 1 내지 실시예 10 및 비교예 1 내지 비교예 6
하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 3 및 표 4에 나타낸 조성으로 실시예 1 내지 실시예 10 및 비교예 1 내지 비교예 6에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
구체적으로, 광중합 개시제의 함량을 정확히 측정한 뒤 용매를 투입하고, 광중합 개시제가 다 녹을 때까지 충분히 교반하였다(30분 이상). 여기에 아크릴계 바인더 수지, 광중합성 단량체를 순차적으로 첨가한 뒤, 다시 1시간 가량 교반하였다. 이어서, 착색제를 투입하고, 항산화제와 기타 첨가제를 넣은 후 최종적으로 조성물 전체를 2시간 이상 교반하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
감광성 수지 조성물 제조에 사용되는 각 성분의 사양은 다음과 같다.
(A) 바인더 수지
(A-1) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 1)
(A-2) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 2)
(A-3) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 3)
(A-4) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 4)
(A-5) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 5)
(A-6) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 6)
(A-7) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 7)
(A-8) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 8)
(A-9) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 9)
(A-10) 아크릴계 바인더 수지 (합성예 10)
(A-11) 아크릴계 바인더 수지 (비교합성예 1)
(A-12) 아크릴계 바인더 수지 (비교합성예 2)
(A-13) 아크릴계 바인더 수지 (비교합성예 3)
(A-14) 아크릴계 바인더 수지 (비교합성예 4)
(A-15) 아크릴계 바인더 수지 (비교합성예 5)
(A-16) 에폭시계 바인더 수지 (에폭시당량: 177g/eq)(EHPE-3150, DAICEL CHEMICAL社)
(A-17) 아크릴계 바인더 수지 (NPR-5216, 미원)
(B) 광중합성 단량체
(B-1) DPHA(Nippon KAYAKU)
(B-2) ABPE-20 (Shin-nakamura社)
(C) 광중합 개시제
(C-1) SPI-03 (삼양社)
(C-2) IRG369 (BASF社)
(D) 착색제
(D-1) C.I. pigment green 58 (SANYO社)
(D-2) C.I. pigment yellow 138 (SANYO社) (20 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g의 아민가)
(D-3) 하기 화학식 P로 표시되는 프탈로시아닌계 녹색 염료 (경인양행)
[화학식 P]
(E) 용매
프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트 (PGMEA, sigma-aldrich社)
(F) 기타 첨가제
불소계 계면활성제(F-554, DIC社)
(단위: 중량%)
종류 실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 비교예 1 비교예 2 비교예 3
(A) 바인더 수지 A-1 7.91
A-2 7.91
A-3 7.91
A-4 7.91
A-5 7.91
A-11 7.91
A-12 7.91
A-13 7.91
A-16 0.27 0.27 0.27 0.27 0.27 0.27 0.27 0.27
(B) 광중합성 단량체 B-1 4.92 4.92 4.92 4.92 4.92 4.92 4.92 4.92
B-2 0.37 0.37 0.37 0.37 0.37 0.37 0.37 0.37
(C) 광중합 개시제 C-1 0.78 0.78 0.78 0.78 0.78 0.78 0.78 0.78
C-2 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03
(D) 착색제 D-1 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00
D-2 17.79 17.79 17.79 17.79 17.79 17.79 17.79 17.79
D-3 30.22 30.22 30.22 30.22 30.22 30.22 30.22 30.22
(E) 용매 34.50 34.50 34.50 34.50 34.50 34.50 34.50 34.50
(F) 기타 첨가제 0.20 0.20 0.20 0.20 0.20 0.20 0.20 0.20
(단위: 중량%)
종류 실시예 6 실시예 7 실시예 8 실시예 9 실시예 10 비교예 4 비교예 5 비교예 6
(A) 바인더 수지 A-6 5.20
A-7 5.20
A-8 5.20
A-9 5.20
A-10 5.20
A-14 5.20
A-15 5.20
A-16 5.20
A-17 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00
(B) 광중합성 단량체 B-1 4.90 4.90 4.90 4.90 4.90 4.90 4.90 4.90
B-2 0.40 0.40 0.40 0.40 0.40 0.40 0.40 0.40
(C) 광중합 개시제 C-1 0.79 0.79 0.79 0.79 0.79 0.79 0.79 0.79
C-2 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.01
(D) 착색제 D-1 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00 3.00
D-2 17.80 17.80 17.80 17.80 17.80 17.80 17.80 17.80
D-3 30.20 30.20 30.20 30.20 30.20 30.20 30.20 30.20
(E) 용매 34.50 34.50 34.50 34.50 34.50 34.50 34.50 34.50
(F) 기타 첨가제 0.20 0.20 0.20 0.20 0.20 0.20 0.20 0.20
평가 1: 색특성
코팅기기(Mikasa社, Opticoat MS-A150)를 사용하여 실시예 1 내지 실시예 10 및 비교예 1 내지 비교예 6에서 얻어진 감광성 수지 조성물마다 일정 두께를 나타낼 수 있는 rpm으로 코팅을 진행한 이후 90℃ 열판(hot-plate)에서 2분 동안 사전 굽기를 진행하였다. 이후, 365nm의 주파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 40mj/cm2의 노광 조건으로 전면노광을 진행하고, 오븐조건으로 230℃에서 20분간 굽기를 진행하여, 시편 제작을 완료하였다. 오븐굽기 전후로 MCPD 3000장비를 이용하여 휘도를 측정하여 그 결과를 하기 표 5에 나타내었다.
평가 2: 내화학성
평가 1과 같은 조건으로 얻어진 시편을 상온에서 NMP(N-메틸피롤리돈) 용액에 10분 동안 침지시킨 후, 침지 전후의 투과율 스펙트럼을 얻고, 분광광도계(MCPD3000, Otsuka electronic社)를 이용하여 하기 수학식 1에 따른 ΔEab*값을 계산하였고, 그 결과를 하기 표 5에 나타내었다.
[수학식 1]
ΔEab* =√{(ΔL*)2＋(Δa*)2＋(Δb*)2}
(ΔEab* 값이 작을수록 내화학성이 우수)
평가 3: 잔사 특성
잔사 평가는 하부 SiNx 1000Å 도포 Glass 위에 Red 패턴 기판을 준비하여 Eximer UV asher를 사용하여 EUV 세정을 진행한 후 실시예 1 내지 실시예 10 및 비교예 1 내지 비교예 6에서 얻어진 녹색 감광성 수지 조성물을 코팅하여 현상한 후 SiNx 기판 위 잔사를 광학 현미경으로 관찰하여, 그 결과를 하기 표 5 및 도 1 내지 도 3에 나타내었다.
<유기막 위 잔사 특성 평가 기준>
○: 유기막 위 잔사가 광학현미경 상 관찰되지 않음
×: 유기막 위 잔사가 광학현미경 상 관찰됨
평가 4: 패턴성
평가 1과 같은 조건으로 얻어진 시편에 형성된 패턴을 광학 현미경을 통해 500배 zoom하여 패턴의 뜯김 여부를 측정하였고, 그 결과를 하기 표 5 및 도 4 내지 도 7에 나타내었다.
<패턴성 평가기준>
○: 패턴이 단일 프로파일로 생성 및 패턴 뜯김 없음
×: 패턴이 2단 프로파일로 생성 및 패턴 뜯김 발생
휘도(%) 내화학성(ΔEab*) 잔사 특성 패턴성
실시예 1 99.9 1.5 ○ ○
실시예 2 99.7 1.4 ○ ○
실시예 3 99.9 1.3 ○ ○
실시예 4 99.8 1.4 ○ ○
실시예 5 99.8 1.4 ○ ○
실시예 6 100.0 1.3 ○ ○
실시예 7 100.2 1.5 ○ ○
실시예 8 100.2 1.6 ○ ○
실시예 9 100.3 1.5 ○ ○
실시예 10 99.7 2.2 ○ ○
비교예 1 98.7 2.3 × ○
비교예 2 98.9 2.3 × ×
비교예 3 99.2 2.2 × ○
비교예 4 99.3 2.4 × ×
비교예 5 99.2 2.4 × ×
비교예 6 99.5 2.6 × ×
상기 표 5 및 도 1 내지 도 7을 통하여, 실시예 1 내지 실시예 10의 감광성 수지 조성물의 경우, 비교예 1 내지 비교예 6의 감광성 수지 조성물과 비교하여, 높은 휘도와 우수한 내화학성을 가지면서 동시에 유기막 위 잔사 특성과 패턴 특성이 매우 우수함을 확인할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.　　그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims (17)

  1. (A) 아크릴계 바인더 수지 함유 바인더 수지;
    (B) 광중합성 단량체;
    (C) 광중합 개시제;
    (D) 하기 화학식 6으로 표시되는 프탈로시아닌계 염료; 및
    (E) 용매
    를 포함하고,
    상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함하고,
    상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 1 및 화학식 3으로 표시되는 구조단위로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상을 더 포함하고,
    상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 5 중량% 내지 25 중량%로 포함하고,
    상기 프탈로시아닌계 염료는 감광성 수지 조성물 총량에 대해 30 중량% 내지 65 중량%로 포함되는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 1]

    [화학식 2]

    [화학식 3]

    상기 화학식 1 내지 화학식 3에서,
    R0 및 R1은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
    R2는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기 또는 2 이상의 C3 내지 C20 사이클로알칸고리가 서로 융합된 융합고리이고,
    L1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
    [화학식 6]

    상기 화학식 6에서,
    R4 내지 R11은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,
    R12 내지 R19는 각각 독립적으로 수소 원자이고,
    R4 내지 R7 중 적어도 하나 및 R8 내지 R11 중 적어도 하나는 각각 독립적으로 하기 화학식 7로 표시되고,
    [화학식 7]

    상기 화학식 7에서,
    R20 및 R21은 각각 독립적으로 C1 내지 C5 알킬기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
    o 및 p는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 단, 1 ≤ o+p ≤ 5 이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 30 중량% 이상으로 포함되는 감광성 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-3으로 표시되는 구조단위로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상인 감광성 수지 조성물.
    [화학식 1-1]

    [화학식 1-2]

    [화학식 1-3]

  4. 제3항에 있어서,
    상기 화학식 3으로 표시되는 구조단위는 하기 화학식 3-1 또는 화학식 3-2로 표시되는 구조단위인 감광성 수지 조성물:
    [화학식 3-1]

    [화학식 3-2]

    상기 화학식 3-1 및 화학식 3-2에서,
    R1은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 더 포함하는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 4]

    상기 화학식 4에서,
    R1은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
    L2는 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 5로 표시되는 구조단위를 더 포함하는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 5]

    상기 화학식 5에서,
    R3은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로고리기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
    n은 0 내지 5의 정수이다.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 화학식 1-2로 표시되는 구조단위, 상기 화학식 1-3으로 표시되는 구조단위, 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위, 및 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 포함하고,
    상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해 상기 화학식 2로 표시되는 구조단위는 상기 화학식 4로 표시되는 구조단위보다 적은 함량으로 포함되는 감광성 수지 조성물.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해,
    상기 화학식 1-2로 표시되는 구조단위 1 내지 10 중량%;
    상기 화학식 1-3으로 표시되는 구조단위 20 내지 50 중량%;
    상기 화학식 2로 표시되는 구조단위 15 내지 25 중량%; 및
    상기 화학식 4로 표시되는 구조단위 30 내지 50 중량%를 포함하는 감광성 수지 조성물.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 아크릴계 바인더 수지는 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 고형분 총량에 대해,
    상기 화학식 1-1로 표시되는 구조단위 15 내지 25 중량%;
    상기 화학식 2로 표시되는 구조단위 5 내지 15 중량%;
    상기 화학식 3-1로 표시되는 구조단위 25 내지 35 중량%;
    상기 화학식 3-2로 표시되는 구조단위 15 중량% 내지 30 중량%; 및
    상기 화학식 5로 표시되는 구조단위 15 중량% 내지 25 중량%를 포함하는 감광성 수지 조성물.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 아크릴계 바인더 수지는 10000 g/mol 내지 20000 g/mol의 중량평균분자량을 가지는 감광성 수지 조성물.
  11. 삭제
  12. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 6에서,
    R6 및 R9는 각각 독립적으로 상기 화학식 7로 표시되고,
    R4, R5, R7, R8, R10 및 R11은 각각 독립적으로 할로겐 원자인 감광성 수지 조성물.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은 녹색 안료 및 황색 안료를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해
    상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%;
    상기 (B) 광중합성 단량체 1 중량% 내지 10 중량%;
    상기 (C) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%;
    상기 (D) 프탈로사이난계 염료 30 중량% 내지 65 중량%; 및
    상기 (E) 용매 20 중량% 내지 60 중량%
    을 포함하는 감광성 수지 조성물.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 라디칼 중합 개시제; 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
  16. 제1항 내지 제10항 및 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막.
  17. 제16항의 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4947294B2 (ja) * 2007-02-23 2012-06-06 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
WO2016015208A1 (en) * 2014-07-28 2016-02-04 Dow Global Technologies Llc Phthalocyanine compound used for color filter of lcd
KR102491715B1 (ko) * 2015-03-27 2023-01-25 미쯔비시 케미컬 주식회사 착색 수지 조성물, 컬러 필터, 및 화상 표시 장치
TWI696889B (zh) * 2015-06-30 2020-06-21 南韓商東友精細化工有限公司 著色固化性樹脂組合物、濾色器和液晶顯示裝置
KR101895310B1 (ko) * 2016-01-25 2018-09-05 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 이용한 컬러필터
JP2017173741A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ 感光性シロキサン組成物
KR102067083B1 (ko) * 2016-11-25 2020-01-16 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
JP7283300B2 (ja) * 2018-09-14 2023-05-30 Jsr株式会社 感光性着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
KR102325836B1 (ko) * 2018-11-06 2021-11-11 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터

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