KR102573222B1 - Apparatus and Method for Supplying Droplet Formation, and Apparatus for Droplet Formation having the same - Google Patents

Apparatus and Method for Supplying Droplet Formation, and Apparatus for Droplet Formation having the same Download PDF

Info

Publication number
KR102573222B1
KR102573222B1 KR1020160148729A KR20160148729A KR102573222B1 KR 102573222 B1 KR102573222 B1 KR 102573222B1 KR 1020160148729 A KR1020160148729 A KR 1020160148729A KR 20160148729 A KR20160148729 A KR 20160148729A KR 102573222 B1 KR102573222 B1 KR 102573222B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
connection line
reservoir
negative pressure
chemical solution
blocking
Prior art date
Application number
KR1020160148729A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20180051861A (en
Inventor
이병주
조천수
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020160148729A priority Critical patent/KR102573222B1/en
Publication of KR20180051861A publication Critical patent/KR20180051861A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102573222B1 publication Critical patent/KR102573222B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0225Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1026Valves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C21/00Accessories or implements for use in connection with applying liquids or other fluent materials to surfaces, not provided for in groups B05C1/00 - B05C19/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02107Forming insulating materials on a substrate
    • H01L21/02225Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
    • H01L21/0226Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
    • H01L21/02282Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process liquid deposition, e.g. spin-coating, sol-gel techniques, spray coating
    • H01L21/02288Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process liquid deposition, e.g. spin-coating, sol-gel techniques, spray coating printing, e.g. ink-jet printing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing

Abstract

약액 공급 장치에 있어서, 음압 제공부는 상기 레저버로 제공되는 음압을 형성하는 음압 형성부와, 제1 직경을 가지면서 상기 음압 형성부와 연결되는 제1 연결 라인과, 상기 제1 직경보다 큰 제2 직경을 가지면서 상기 제1 연결 라인과 상기 레저버 사이를 연결하는 제2 연결 라인과, 상기 제2 연결 라인 내부를 따라 움직이면서 상기 제2 연결 라인과 연결되는 상기 제1 연결 라인의 단부를 차단할 수 있게 상기 제1 직경보다는 크고 상기 제2 직경보다는 작은 크기를 가지면서 상기 제2 연결 라인 내부에 배치되는 차단부를 포함할 수 있다.In the chemical solution supply device, the negative pressure providing unit includes a negative pressure forming unit configured to generate negative pressure provided to the reservoir, a first connection line having a first diameter and connected to the negative pressure forming unit, and a first diameter larger than the first diameter. A second connection line having a diameter of 2 and connecting between the first connection line and the reservoir, and an end of the first connection line connected to the second connection line while moving along the inside of the second connection line. It may include a blocking portion disposed inside the second connection line while having a size larger than the first diameter and smaller than the second diameter.

Description

약액 공급 장치 및 방법, 그리고 이를 포함하는 약액 토출 장치{Apparatus and Method for Supplying Droplet Formation, and Apparatus for Droplet Formation having the same}Chemical liquid supply device and method, and chemical liquid ejection device including the same {Apparatus and Method for Supplying Droplet Formation, and Apparatus for Droplet Formation having the same}

본 발명은 약약액 공급 장치 및 방법, 그리고 이를 포함하는 약액 토출 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 레저버로부터 잉크젯 헤드로 약액이 공급되는 것을 중단시키면서 메니스커스를 유지할 수 있도록 레저버에 음압을 제공하기 위한 음압 제공부를 구비하는 약액 공급 장치 및 방법, 그리고 이를 포함하는 약액 토출 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid supply device and method, and a chemical liquid ejection device including the same, and more particularly, to a negative pressure in a reservoir to maintain a meniscus while stopping supply of a chemical liquid from a reservoir to an inkjet head. It relates to a chemical solution supply device and method having a negative pressure providing unit for providing a negative pressure, and a chemical solution ejection device including the same.

액정 표시 장치 등으로 제조하기 위한 기판(투명 기판) 상에 배향막의 형성이나 UV 잉크를 도포할 경우, 또는 유기 EL 표시 장치 등으로 제조하기 위한 기판 상에 컬러 필터를 도포할 경우 등에 대해서는 잉크젯 헤드를 구비하는 인쇄 장치, 즉 약액 토출 장치를 사용하고 있다.When forming an alignment film or applying UV ink on a substrate (transparent substrate) for production of a liquid crystal display device, etc., or when applying a color filter on a substrate for production of an organic EL display device, etc., an inkjet head is used. The provided printing device, that is, a chemical liquid ejection device is used.

상기 약액 토출 장치는 기판을 향하여 약액을 토출하는 잉크젯 헤드, 상기 잉크젯 헤드로 공급하기 위한 약액을 저장하는 레저버, 상기 레저버로부터 상기 잉크젯 헤드로 약액을 공급할 수 있도록 상기 레저버에 양압을 제공하기 위한 양압 제공부, 상기 레저버로부터 상기 잉크젯 헤드로 약액이 공급되는 것을 중단시키면서 메니스커스를 유지할 수 있도록 상기 레저버에 음압을 제공하기 위한 음압 제공부 등을 포함할 수 있다.The chemical liquid ejection device includes an inkjet head for discharging the chemical liquid toward a substrate, a reservoir for storing the chemical liquid to be supplied to the inkjet head, and providing positive pressure to the reservoir to supply the chemical liquid from the reservoir to the inkjet head. and a positive pressure providing unit for supplying negative pressure to the reservoir so as to maintain the meniscus while stopping the supply of the chemical solution from the reservoir to the inkjet head.

상기 약액 토출 장치의 사용시 상기 레저버로 약액이 과다하게 공급될 경우 상기 음압 제공부 등으로 약액이 역류하는 상황이 발생할 수 있다. 또한, 상기 레저버로 음압을 제공할 때에도 상기 음압 제공부로 약액이 역류하는 상황이 발생할 수 있다.When the chemical liquid discharge device is used, if the chemical liquid is excessively supplied to the reservoir, a situation may occur in which the chemical liquid flows backward to the negative pressure providing unit or the like. In addition, even when negative pressure is provided to the reservoir, a situation in which the chemical solution flows backward into the negative pressure providing unit may occur.

본 발명은 일 목적은 레저버로부터 음압 제공부로 약액이 역류하는 것을 방지하기 위한 약액 공급 장치 및 방법을 제공하는데 있다.One object of the present invention is to provide a chemical solution supply device and method for preventing a chemical solution from flowing backward from a reservoir to a negative pressure providing unit.

본 발명은 다른 목적은 언급한 약액 공급 장치를 포함하는 약액 토출 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a chemical liquid ejection device including the aforementioned chemical liquid supply device.

언급한 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치는 레저버(reservoir)로부터 잉크젯 헤드로 약액이 공급되는 것을 중단시키면서 메니스커스(meniscus)를 유지할 수 있도록 상기 레저버에 음압을 제공하기 위한 음압 제공부를 포함하는 약액 공급 장치에 있어서, 상기 음압 제공부는 상기 레저버로 제공되는 음압을 형성하는 음압 형성부; 제1 직경을 가지면서 상기 음압 형성부와 연결되는 제1 연결 라인; 상기 제1 직경보다 큰 제2 직경을 가지면서 상기 제1 연결 라인과 상기 레저버 사이를 연결하는 제2 연결 라인; 및 상기 제2 연결 라인 내부를 따라 움직이면서 상기 제2 연결 라인과 연결되는 상기 제1 연결 라인의 단부를 차단할 수 있게 상기 제1 직경보다는 크고 상기 제2 직경보다는 작은 크기를 가지면서 상기 제2 연결 라인 내부에 배치되는 차단부;를 포함할 수 있다.In order to achieve the above object, a chemical solution supply device according to an embodiment of the present invention is provided to the reservoir to maintain the meniscus while stopping the supply of the chemical solution from a reservoir to an inkjet head. A chemical liquid supply device comprising a negative pressure providing unit for providing negative pressure, wherein the negative pressure providing unit includes: a negative pressure forming unit configured to form a negative pressure supplied to the reservoir; a first connection line having a first diameter and connected to the negative pressure generating unit; a second connection line having a second diameter greater than the first diameter and connecting the first connection line and the reservoir; And the second connection line having a size larger than the first diameter and smaller than the second diameter so as to block the end of the first connection line connected to the second connection line while moving along the inside of the second connection line. It may include; a blocking unit disposed inside.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치에서, 상기 제1 연결 라인과 상기 제2 연결 라인은 수직하게 연결되고, 상기 차단부는 상기 약액보다 낮은 밀도를 갖는 재질로 이루어질 수 있다.In the chemical solution supply device according to an embodiment of the present invention, the first connection line and the second connection line are vertically connected, and the blocking portion may be made of a material having a density lower than that of the chemical solution.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치에서, 상기 차단부는 상기 음압의 크기가 설정 범위를 벗어날 경우 상기 설정 범위를 벗어난 음압에 의해 상기 제1 연결 라인의 단부 또는 상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부 쪽으로 이동하도록 구비될 수 있다.In the chemical solution supply device according to an embodiment of the present invention, the blocking unit is connected to the end of the first connection line or the reservoir by the negative pressure outside the set range when the level of the negative pressure is out of the set range. 2 can be provided to move towards the end of the connecting line.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치에서, 상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부는 상기 차단부의 크기보다 작은 직경을 갖도록 구비될 수 있다.In the chemical solution supply device according to an embodiment of the present invention, an end of the second connection line connected to the reservoir may have a diameter smaller than that of the blocking portion.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치에서, 상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부에는 상기 차단부가 상기 레저버로 빠지는 것을 방지하는 빠짐 방지부가 더 구비될 수 있다.In the chemical solution supply device according to an embodiment of the present invention, a drop-out preventing portion preventing the blocking portion from falling into the reservoir may be further provided at an end of the second connection line connected to the reservoir.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치에서, 상기 제1 연결 라인으로 상기 약액이 역류하는 것을 센싱하는 센서, 및 상기 센서로부터 센싱 신호를 전달받아 상기 제1 연결 라인을 폐쇄시키는 밸브로 이루어지는 역류 방지부를 더 포함할 수 있다.In the chemical solution supply device according to an embodiment of the present invention, a reverse flow comprising a sensor for sensing a backward flow of the chemical solution through the first connection line, and a valve receiving a sensing signal from the sensor and closing the first connection line. A prevention unit may be further included.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치에서, 상기 레저버로부터 상기 잉크젯 헤드로 약액을 공급할 수 있도록 상기 레저버에 양압을 제공하기 위한 양압 제공부를 더 포함할 수 있다.The chemical solution supply device according to an embodiment of the present invention may further include a positive pressure providing unit for providing a positive pressure to the reservoir so that the chemical solution can be supplied from the reservoir to the inkjet head.

언급한 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 토출 장치는 기판을 향하여 약액을 토출하기 위한 잉크젯 헤드; 상기 잉크젯 헤드로 공급하기 위한 상기 약액을 저장하는 레저버; 상기 레저버로부터 상기 잉크젯 헤드로 상기 약액을 공급할 수 있도록 상기 레저버에 양압을 제공하기 위한 양압 제공부; 및 상기 레저버로부터 상기 잉크젯 헤드로 상기 약액이 공급되는 것을 중단시키면서 메니스커스를 유지할 수 있도록 상기 레저버에 음압을 제공하기 위한 음압 제공부;를 포함하고, 상기 음압 제공부는 상기 레저버로 제공되는 음압을 형성하는 음압 형성부와, 제1 직경을 가지면서 상기 음압 형성부와 연결되는 제1 연결 라인과, 상기 제1 직경보다 큰 제2 직경을 가지면서 상기 제1 연결 라인과 상기 레저버 사이를 연결하는 제2 연결 라인과, 상기 제2 연결 라인 내부를 따라 움직이면서 상기 제2 연결 라인과 연결되는 상기 제1 연결 라인의 단부를 차단할 수 있게 상기 제1 직경보다는 크고 상기 제2 직경보다는 작은 크기를 가지면서 상기 제2 연결 라인 내부에 배치되는 차단부로 이루어질 수 있다.To achieve the above-mentioned object, a chemical liquid ejection device according to an embodiment of the present invention includes an inkjet head for discharging a chemical liquid toward a substrate; a reservoir for storing the chemical solution to be supplied to the inkjet head; a positive pressure providing unit configured to provide a positive pressure to the reservoir to supply the chemical liquid from the reservoir to the inkjet head; and a negative pressure providing unit configured to supply negative pressure to the reservoir so as to maintain the meniscus while stopping supply of the liquid chemical from the reservoir to the inkjet head, wherein the negative pressure providing unit provides the negative pressure to the reservoir. A negative pressure forming unit for forming a negative pressure, a first connection line having a first diameter and connected to the negative pressure forming unit, and having a second diameter greater than the first diameter and connecting the first connection line and the reservoir. A second connection line connecting therebetween, and an end of the first connection line connected to the second connection line while moving along the inside of the second connection line to be cut off so as to be larger than the first diameter and smaller than the second diameter. It may be made of a blocking part disposed inside the second connection line while having a size.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 토출 장치에서, 상기 제1 연결 라인과 상기 제2 연결 라인은 수직하게 연결되고, 상기 차단부는 상기 약액보다 낮은 밀도를 갖는 재질로 이루어지면서 상기 음압의 크기가 설정 범위를 벗어날 경우 상기 설정 범위를 벗어난 음압에 의해 상기 제1 연결 라인의 단부 또는 상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부 쪽으로 이동하도록 구비될 수 있다.In the chemical liquid dispensing device according to an embodiment of the present invention, the first connection line and the second connection line are vertically connected, and the blocking portion is made of a material having a density lower than that of the chemical liquid and the level of the negative pressure is set. When out of the range, it may be provided to move toward the end of the first connection line or the end of the second connection line connected to the reservoir by a negative pressure outside the set range.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 토출 장치에서, 상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부는 상기 차단부의 크기보다 작은 직경을 갖도록 구비될 수 있다.In the chemical liquid ejection device according to an embodiment of the present invention, an end of the second connection line connected to the reservoir may have a diameter smaller than that of the blocking portion.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 토출 장치에서, 상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부에는 상기 차단부가 상기 레저버로 빠지는 것을 방지하는 빠짐 방지부가 더 구비될 수 있다.In the chemical liquid dispensing device according to an embodiment of the present invention, an anti-fallout portion preventing the blocking portion from falling into the reservoir may further be provided at an end of the second connection line connected to the reservoir.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 토출 장치에서, 상기 제1 연결 라인으로 상기 약액이 역류하는 것을 센싱하는 센서, 및 상기 센서로부터 센싱 신호를 전달받아 상기 제1 연결 라인을 폐쇄시키는 밸브로 이루어지는 역류 방지부를 더 포함할 수 있다.In the chemical liquid dispensing device according to an embodiment of the present invention, a reverse flow comprising a sensor for sensing a backward flow of the chemical liquid through the first connection line, and a valve receiving a sensing signal from the sensor and closing the first connection line. A prevention unit may be further included.

본 발명의 약액 공급 장치 및 방법, 그리고 이를 포함하는 약액 토출 장치에 따르면 음압 형성부와 연결되는 제1 연결 라인과 레저버 사이를 연결하는 제2 연결 라인 내부에 차단부를 배치함으로써 음압 제공부로 약액이 역류할 경우 차단부가 제1 연결 라인의 단부를 차단할 수 있다. 이에, 본 발명의 약액 공급 장치 및 약액 토출 장치는 음압 제공부로 약액이 역류하는 것을 방지할 수 있다.According to the chemical liquid supply device and method of the present invention, and the chemical liquid discharge device including the same, the chemical liquid is discharged to the negative pressure providing unit by disposing a blocking unit inside the second connection line connecting the reservoir and the first connection line connected to the negative pressure generating unit. In the case of reverse flow, the blocking unit may block the end of the first connection line. Thus, the chemical solution supply device and the chemical solution discharge device of the present invention can prevent the chemical solution from flowing backward to the negative pressure providing unit.

따라서 본 발명의 약액 공급 장치 및 방법, 그리고 이를 포함하는 약액 토출 장치는 음압 제공부로 약액이 역류함에 따라 발생하는 불량 요인을 없앨 수 있기 때문에 안정적인 공정 수행이 가능할 것이다.Therefore, the chemical solution supply device and method of the present invention, and the chemical solution ejection device including the same, can eliminate defects caused by the back flow of the chemical solution to the negative pressure providing unit, so that stable processes can be performed.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치 및 이를 포함하는 약액 토출 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 A 부분을 확대한 도면이다.
도 3은 도 1에서의 제2 연결 라인의 단부를 설명하기 위한 도면이다.
1 is a diagram schematically illustrating a chemical solution supply device and a chemical solution ejection device including the same according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view of portion A of FIG. 1 .
FIG. 3 is a view for explaining an end of a second connection line in FIG. 1 .

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.Since the present invention can be applied with various changes and can have various forms, embodiments will be described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific form disclosed, and should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. Like reference numbers have been used for like elements in describing each figure. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. These terms are only used for the purpose of distinguishing one component from another. Terms used in this application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "consisting of" are intended to designate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features It should be understood that it does not preclude the possibility of the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and unless explicitly defined in the present application, they should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning. don't

이하, 첨부하는 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치 및 이를 포함하는 약액 토출 장치를 설명하기로 한다.Hereinafter, a chemical solution supply device and a chemical solution ejection device including the same according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치 및 이를 포함하는 약액 토출 장치를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 2는 도 1의 A 부분을 확대한 도면이다.FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a chemical solution supply device and a chemical solution ejection device including the device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of portion A of FIG. 1 .

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 토출 장치(10)는 액정 표시 장치 등으로 제조하기 위한 기판 상에 배향막의 형성이나 UV 잉크를 도포하거나, 또는 유기 EL 표시 장치 등으로 제조하기 위한 기판 상에 컬러 필터를 도포하는데 사용할 수 있다.1 and 2, the chemical liquid ejection device 10 according to an embodiment of the present invention forms an alignment layer or applies UV ink on a substrate for manufacturing a liquid crystal display or the like, or an organic EL display device. It can be used to apply a color filter on a substrate for manufacturing, etc.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 토출 장치(10)는 기판을 향하여 약액을 토출하기 위한 잉크젯 헤드(11), 상기 잉크젯 헤드(11)로 공급하기 위한 약액을 저장하는 레저버(13), 상기 레저버(13)로부터 상기 잉크젯 헤드(11)로 약액을 공급할 수 있도록 상기 레저버(13)에 양압을 제공하기 위한 양압 제공부(40), 상기 레저버(13)로부터 상기 잉크젯 헤드(11)로 약액이 공급되는 것을 중단시키면서 메니스커스를 유지할 수 있도록 상기 레저버(13)에 음압을 제공하기 위한 음압 제공부(20) 등을 포함할 수 있다.The chemical liquid ejection device 10 according to an embodiment of the present invention includes an inkjet head 11 for discharging the chemical liquid toward a substrate, a reservoir 13 for storing the chemical liquid to be supplied to the inkjet head 11, A positive pressure providing unit 40 for providing a positive pressure to the reservoir 13 so that the chemical solution can be supplied from the reservoir 13 to the inkjet head 11, and the inkjet head 11 from the reservoir 13 It may include a negative pressure providing unit 20 for providing negative pressure to the reservoir 13 so that the meniscus can be maintained while stopping the supply of the chemical solution to the negative pressure.

그리고 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치는 상기 음압 제공부(20)를 구비할 수 있고, 아울러 상기 양압 제공부(40)를 더 구비할 수 있다. 즉, 상기 약액 공급 장치는 상기 음압 제공부(20) 및 상기 양압 제공부(40)로 이루어질 수 있다.In addition, the chemical solution supply device according to an embodiment of the present invention may include the negative pressure providing unit 20 and may further include the positive pressure providing unit 40 . That is, the chemical solution supply device may include the negative pressure providing unit 20 and the positive pressure providing unit 40 .

또한 도시하지는 않았지만, 상기 약액 토출 장치(10)는 상기 레저버(13)로 약액을 공급하기 위한 캐니스터(canister)를 더 포함할 수 있다. 상기 캐니스터는 상기 약액을 저장하는 저장 탱크 등과 같은 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 상기 캐니스터가 언급한 바와 같이 저장 탱크 등과 같은 구조로 구비되기 때문에 별도 장소에 배치되도록 구비될 수 있다.Also, although not shown, the chemical liquid ejection device 10 may further include a canister for supplying the chemical liquid to the reservoir 13 . The canister may have a structure such as a storage tank for storing the liquid medicine. As mentioned above, since the canister is provided in a structure such as a storage tank, it may be provided to be disposed in a separate location.

상기 잉크젯 헤드(11)에는 기판을 향하여 약액을 토출할 수 있는 노즐이 구비될 수 있다. 특히, 상기 노즐은 상기 잉크젯 헤드(11)의 저면(노즐면)에 구비될 수 있다. 또한, 상기 잉크젯 헤드(11)에는 노즐이 복수개가 구비될 수 있는데, 본 발명에서는 128개 또는 256개의 노즐이 구비될 수 있다. 이때, 상기 노즐은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있고, ㎍ 단위의 양으로 약액을 토출할 수 있도록 구비될 수 있다. 상기 잉크젯 헤드(11)에서의 상기 노즐에는 상기 노즐에 대응하는 수만큼의 압전 소자(도시되지 않음)가 구비될 수 있고, 이에 상기 압전 소자의 동작에 의해 상기 노즐을 통하여 약액을 토출시킬 수 있다. 상기 노즐이 128개 구비될 경우에는 상기 압전 소자 또한 128개가 구비되고, 상기 노즐이 256개 구비될 경우에는 상기 압전 소자 또한 256개가 구비되는 것이다. 그리고 상기 노즐로부터 토출되는 약액량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.The inkjet head 11 may be provided with a nozzle capable of discharging a liquid chemical toward a substrate. In particular, the nozzle may be provided on a lower surface (nozzle surface) of the inkjet head 11 . In addition, a plurality of nozzles may be provided in the inkjet head 11, and in the present invention, 128 or 256 nozzles may be provided. At this time, the nozzles may be arranged in a row at regular pitch intervals, and may be provided to discharge the chemical liquid in an amount of μg units. The number of piezoelectric elements (not shown) corresponding to the number of piezoelectric elements may be provided in the nozzles of the inkjet head 11, and thus the liquid chemical may be discharged through the nozzles by the operation of the piezoelectric elements. . When 128 nozzles are provided, 128 piezoelectric elements are provided, and when 256 nozzles are provided, 256 piezoelectric elements are also provided. In addition, the amount of chemical liquid discharged from the nozzle may be independently adjusted by controlling the voltage applied to the piezoelectric elements.

그리고 상기 레저버(13)는 상기 잉크젯 헤드(11)로 공급하기 위한 상기 약액을 저장하는 것으로써, 상기 잉크젯 헤드(11)와 연결되도록 구비될 수 있다.Also, the reservoir 13 stores the chemical solution to be supplied to the inkjet head 11, and may be provided to be connected to the inkjet head 11.

상기 양압 제공부(40)는 상기 레저버(13)에 양압을 제공하도록 구비될 수 있다. 상기 양압 제공부(40)는 상기 레저버(13)로 제공되는 양압을 형성하는 양압 형성부(41)를 포함한다. 또한 상기 양압 제공부(40)는 상기 양압 형성부(41)와 상기 레저버(13) 사이를 연결하는 제3 연결 라인(43)을 포함한다. 상기 양압 제공부(40)를 사용하여 상기 레저버(13)에 양압을 제공함으로써 상기 레저버(13)로부터 상기 잉크젯 헤드(11)로 약액의 공급이 진행될 수 있다The positive pressure providing unit 40 may be provided to provide positive pressure to the reservoir 13 . The positive pressure providing unit 40 includes a positive pressure forming unit 41 that forms a positive pressure provided to the reservoir 13 . In addition, the positive pressure providing unit 40 includes a third connection line 43 connecting between the positive pressure forming unit 41 and the reservoir 13 . By supplying a positive pressure to the reservoir 13 using the positive pressure providing unit 40, the supply of the chemical liquid from the reservoir 13 to the inkjet head 11 may proceed.

상기 음압 제공부(20)는 상기 레저버(13)에 음압을 제공하도록 구비될 수 있다. 상기 음압 제공부(20)를 사용하여 상기 레저버(13)에 음압을 제공함으로써 상기 레저버(13)로부터 상기 잉크젯 헤드(11)로 약액의 공급을 중단시킬 수 있다.The negative pressure providing unit 20 may be provided to provide negative pressure to the reservoir 13 . Supply of the chemical solution from the reservoir 13 to the inkjet head 11 may be stopped by providing negative pressure to the reservoir 13 using the negative pressure providing unit 20 .

그리고 상기 잉크젯 헤드(11)로 약액의 공급을 중단할 경우 상기 잉크젯 헤드(11)의 노즐 단부에 잔류하는 약액은 메니스커스 상태를 유지해야 한다. 즉, 상기 약액을 토출하지 않는 대기 상태에서는 상기 노즐 단부에서의 약액이 메니스커스 상태를 유지해야 하는 것이다. 만약 상기 잉크젯 헤드(11)의 노즐 단부에서 약액이 메니스커스 상태를 유지하지 못할 경우에는 상기 잉크젯 헤드(11)의 노즐면으로 상기 약액이 흘러내리거나 또는 유막을 형성할 수 있고, 그 결과 상기 잉크젯 헤드(11)의 노즐을 통하여 토출되는 약액에 대한 토출 타점의 이상이 발생하거나 약액이 토출되지 않는 상황이 발생할 수도 있다.Also, when the supply of the chemical solution to the inkjet head 11 is stopped, the chemical solution remaining at the nozzle end of the inkjet head 11 must maintain a meniscus state. That is, in a standby state in which the chemical liquid is not discharged, the chemical liquid at the nozzle end should maintain a meniscus state. If the liquid chemical does not maintain a meniscus state at the nozzle end of the inkjet head 11, the liquid liquid may flow down to the nozzle surface of the inkjet head 11 or form an oil film. An abnormal discharge point for the chemical liquid discharged through the nozzle of the inkjet head 11 may occur or a situation in which the chemical liquid is not discharged may occur.

따라서 상기 잉크젯 헤드(11)로 약액의 공급을 중단할 경우 상기 레저버(13)로부터 상기 잉크젯 헤드(11)로 다시 약액을 공급하기 이전까지는 상기 음압 제공부(20)를 사용하여 상기 레저버(13)에 계속해서 음압을 제공해야 한다.Therefore, when the supply of the chemical solution to the inkjet head 11 is stopped, the negative pressure providing unit 20 is used to supply the reservoir ( 13) should continue to provide negative pressure.

아울러 상기 메니스커스 상태의 유지를 위해서는 상기 음압이 설정 압력으로 계속해서 제공되어야 한다. 이에, 도시하지는 않았지만 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치 및 약액 토출 장치(10)는 서보 밸브 등으로 이루어지는 압력 조정부를 구비하여 상기 레저버(13)로 제공되는 음압이 설정 압력을 유지하도록 조정하고 있다.In addition, in order to maintain the meniscus state, the negative pressure must be continuously provided as a set pressure. Therefore, although not shown, the chemical solution supply device and the chemical solution discharge device 10 according to an embodiment of the present invention include a pressure adjusting unit including a servo valve so that the negative pressure supplied to the reservoir 13 maintains the set pressure. are adjusting

상기 음압 제공부(20)는 음압 형성부(21), 제1 연결 라인(23), 제2 연결 라인(25), 차단부(33), 빠짐 방지부(35), 역류 방지부(27) 등으로 이루어질 수 있다.The negative pressure providing unit 20 includes a negative pressure forming unit 21, a first connection line 23, a second connection line 25, a blocking unit 33, a pull-out preventing unit 35, and a backflow preventing unit 27. etc. can be made.

상기 음압 형성부(21)는 상기 레저버(13)로 제공되는 음압을 형성한다. 상기 음압 제공부(20)의 예로서는 진공 펌프 등을 들 수 있다.The negative pressure forming unit 21 forms negative pressure provided to the reservoir 13 . Examples of the negative pressure providing unit 20 include a vacuum pump and the like.

그리고 상기 제1 연결 라인(23)은 상기 음압 형성부(21)와 연결될 수 있다. 그리고 상기 제1 연결 라인(23)은 제1 직경을 갖도록 구비될 수 있다. 특히, 상기 제2 연결 라인(25)과 연결되는 부분인 상기 제1 연결 라인(23)의 단부는 반드시 제1 직경을 갖도록 구비된다. 이에, 상기 제1 연결 라인(23)은 전체가 제1 직경을 갖도록 구비될 수도 있고, 단부 부분만 제1 직경을 갖도록 구비될 수도 있다.Also, the first connection line 23 may be connected to the negative pressure forming unit 21 . Also, the first connection line 23 may have a first diameter. In particular, the end of the first connection line 23, which is a portion connected to the second connection line 25, is necessarily provided to have a first diameter. Accordingly, the entire first connection line 23 may have a first diameter or only an end portion may have a first diameter.

상기 제2 연결 라인(25)은 상기 레저버(13)와 연결될 수 있다. 아울러 상기 제2 연결 라인(25)은 상기 제1 연결 라인(23)과도 연결된다. 이에, 상기 제1 연결 라인(23) 및 상기 제2 연결 라인(25)에 의해 상기 음압 형성부(21)와 상기 레저버(13) 사이가 연결될 수 있다. 그리고 상기 제1 연결 라인(23) 및 상기 제2 연결 라인(25)을 통하여 상기 음압 형성부(21)로부터 상기 레저버(13)로 음압이 제공될 수 있다. 또한, 상기 제2 연결 라인(25)은 상기 제1 직경보다 큰 제2 직경을 갖도록 구비된다.The second connection line 25 may be connected to the reservoir 13 . In addition, the second connection line 25 is also connected to the first connection line 23 . Accordingly, the negative pressure generator 21 and the reservoir 13 may be connected by the first connection line 23 and the second connection line 25 . Also, negative pressure may be provided from the negative pressure generator 21 to the reservoir 13 through the first connection line 23 and the second connection line 25 . In addition, the second connection line 25 is provided to have a second diameter greater than the first diameter.

상기 차단부(33)는 상기 제2 연결 라인(25) 내부를 따라 움직일 수 있도록 구비된다. 이에, 상기 차단부(33)는 상기 제2 직경보다는 작은 크기를 갖도록 구비될 수 있다. 그리고 상기 차단부(33)는 상기 제1 연결 라인(23)의 단부를 차단시킬 수 있도록 구비된다. 즉, 상기 차단부(33)는 상기 제2 연결 라인(25)과 연결되는 부분인 상기 제1 연결 라인(23)의 단부를 막아버리도록 구비될 수 있는 것이다. 따라서 상기 차단부(33)는 상기 제1 직경보다는 큰 크기를 갖도록 구비될 수 있다.The blocking part 33 is provided to be movable along the inside of the second connection line 25 . Accordingly, the blocking portion 33 may be provided to have a smaller size than the second diameter. And the blocking part 33 is provided to block the end of the first connection line 23 . That is, the blocking part 33 may be provided to block the end of the first connection line 23, which is a portion connected to the second connection line 25. Accordingly, the blocking portion 33 may be provided to have a larger size than the first diameter.

언급한 바와 같이, 상기 차단부(33)는 상기 제2 연결 라인(25) 내부를 따라 움직이면서 상기 제2 연결 라인(25)과 연결되는 상기 제1 연결 라인(23)의 단부를 차단할 수 있게 상기 제1 직경보다는 크고 상기 제2 직경보다는 작은 크기를 가지면서 상기 제2 연결 라인(25) 내부에 배치된다. 그리고 상기 차단부(33)는 상기 제2 연결 라인(25) 내부에서 움직임이 가능하고, 상기 제1 연결 라인(23)의 단부를 막을 수 있어야 하기 때문에 볼(ball) 구조로 이루어지는 것이 바람직하다.As mentioned above, the blocking part 33 can block the end of the first connection line 23 connected to the second connection line 25 while moving along the inside of the second connection line 25. It is disposed inside the second connection line 25 while having a size larger than the first diameter and smaller than the second diameter. And, since the blocking part 33 can move inside the second connection line 25 and must be able to block the end of the first connection line 23, it is preferable to have a ball structure.

상기 차단부(33)를 구비하는 것은 상기 레저버(13)로부터 상기 제1 연결 라인(23) 쪽으로 약액이 역류하는 것을 방지하기 위함이다. 즉, 상기 레저버(13)로부터 상기 제2 연결 라인(25) 쪽으로 약액이 역류할 때 부력에 의해서 상기 차단부(33)가 상기 제1 연결 라인(23)의 단부 쪽으로 떠올라서 상기 제1 연결 라인(23)의 단부를 차단함으로써 상기 제1 연결 라인(23) 쪽으로 약액이 역류하는 것을 방지할 수 있는 것이다.The blocking part 33 is provided to prevent the chemical liquid from flowing backward from the reservoir 13 toward the first connection line 23 . That is, when the chemical liquid flows backward from the reservoir 13 toward the second connection line 25, the blocking part 33 floats toward the end of the first connection line 23 due to buoyancy, thereby making the first connection. By blocking the end of the line 23, it is possible to prevent the chemical liquid from flowing backward toward the first connection line 23.

따라서 상기 차단부(33)는 약액보다 낮은 밀도를 갖는 재질로 구비될 수 있다.Accordingly, the blocking part 33 may be made of a material having a density lower than that of the chemical solution.

그리고 상기 제1 연결 라인(23)과 상기 제2 연결 라인(25)은 서로 수직하게 연결될 수 있다. 특히, 상기 제2 연결 라인(25)은 전체가 수직 구조를 가져야 한다. 아울러 상기 제2 연결 라인(25)은 상기 레저버(13)로부터 수직 방향으로 연장되도록 구비되어야 한다. 상기 제1 연결 라인(23)은 상기 제2 연결 라인(25)과 연결되는 부분은 수직 구조를 가져야 한다. 다만 상기 제1 연결 라인(23)은 상기 제2 연결 라인(25)과 연결되는 부분을 제외하고는 수직 구조로 이루어질 필요는 없다.Also, the first connection line 23 and the second connection line 25 may be connected perpendicularly to each other. In particular, the entirety of the second connection line 25 should have a vertical structure. In addition, the second connection line 25 should be provided to extend from the reservoir 13 in a vertical direction. A portion of the first connection line 23 connected to the second connection line 25 should have a vertical structure. However, the first connection line 23 need not have a vertical structure except for a portion connected to the second connection line 25 .

또한, 상기 레저버(13)로 제공되는 음압이 설정 범위를 유지할 경우 상기 차단부(33)는 상기 음압에 의해 상기 제2 연결 라인(25)의 일정 위치에 계속적으로 머물러 있을 것이다. 상기 레저버(13)로 제공되는 음압이 설정 범위를 벗어날 경우 상기 잉크젯 헤드(11)의 노즐 단부는 메니스커스 상태를 유지하지 못할 것이다. 따라서 상기 레저버(13)로 제공되는 음압이 설정 범위를 벗어날 경우 상기 잉크젯 헤드(11)로 제공되는 음압을 중단시킬 필요가 있다.In addition, when the negative pressure provided to the reservoir 13 maintains a set range, the blocking unit 33 will continuously stay at a certain position of the second connection line 25 by the negative pressure. When the negative pressure provided to the reservoir 13 is out of a set range, the nozzle end of the inkjet head 11 may not maintain a meniscus state. Therefore, when the negative pressure provided to the reservoir 13 is out of a set range, it is necessary to stop the negative pressure provided to the inkjet head 11 .

이에, 상기 레저버(13)로 제공되는 음압이 설정 범위를 벗어날 경우 상기 차단부(33)는 상기 제1 연결 라인(23)의 단부 또는 상기 레저버(13)와 연결되는 상기 제2 연결 라인(25)의 단부 쪽으로 이동하도록 구비될 수 있다. 즉, 상기 음압이 설정 범위보다 높아지면 상기 차단부(33)는 상기 제1 연결 라인(23)의 단부 쪽으로 이동할 것이고. 상기 음압이 설정 범위보다 낮아지면 상기 차단부(33)는 상기 제2 연결 라인(25)의 단부 쪽으로 이동할 것이다.Accordingly, when the negative pressure provided to the reservoir 13 is out of the set range, the blocking unit 33 is connected to the end of the first connection line 23 or the second connection line connected to the reservoir 13. It may be provided to move toward the end of (25). That is, when the negative pressure is higher than the set range, the blocking part 33 will move toward the end of the first connection line 23 . When the negative pressure is lower than the set range, the blocking part 33 will move toward the end of the second connection line 25 .

여기서 상기 차단부(33)가 상기 제2 연결 라인(25)의 단부 쪽으로 이동할 경우 상기 차단부(33)가 상기 레저버(13)로 빠지는 것을 방지해야 한다.Here, when the blocking part 33 moves toward the end of the second connection line 25, it is necessary to prevent the blocking part 33 from falling into the reservoir 13.

이에, 도 2에서와 같이 상기 제2 연결 라인(25)의 단부에 상기 차단부(33)가 상기 레저버(13)로 빠지는 것을 방지하는 빠짐 방지부(35)가 구비될 수 있다. 상기 빠짐 방지부(35)는 스토퍼(stopper) 구조를 갖도록 구비될 수 있다.Therefore, as shown in FIG. 2 , a pull-out preventing portion 35 preventing the blocking portion 33 from falling into the reservoir 13 may be provided at an end of the second connection line 25 . The fall-off preventing part 35 may be provided to have a stopper structure.

도 3은 도 1에서의 제2 연결 라인의 단부를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 3 is a view for explaining an end of a second connection line in FIG. 1 .

도 3을 참조하면, 상기 차단부(33)가 상기 제2 연결 라인(25)의 단부 쪽으로 이동할 경우 상기 차단부(33)가 상기 레저버(13)로 빠지는 것을 방지하도록 상기 빠짐 방지부(35)를 구비하는 것이 아니라 상기 레저버(13)와 연결되는 상기 제2 연결 라인(25)의 단부(37)를 상기 차단부(33)의 크기보다 작은 직경을 갖도록 구비할 수도 있다.Referring to FIG. 3 , when the blocking part 33 moves toward the end of the second connection line 25, the falling-out preventing part 35 prevents the blocking part 33 from falling into the reservoir 13. ), but the end 37 of the second connection line 25 connected to the reservoir 13 may be provided to have a diameter smaller than the size of the blocking portion 33.

이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치 및 약액 토출 장치(10)는 상기 제2 연결 라인(25)에 상기 차단부(33)를 구비함으로써 상기 레저버(13)로부터 상기 제1 연결 라인(23) 쪽으로 약액이 역류하는 것을 방지할 수 있다.As described above, the chemical solution supply device and the chemical solution discharge device 10 according to an embodiment of the present invention provide the blocking part 33 to the second connection line 25 so that the first It is possible to prevent the chemical solution from flowing backward toward the connection line 23 .

따라서 본 발명의 약액 공급 장치 및 약액 토출 장치(10)는 상기 약액의 역류로 인하여 장치 자체를 손상시키는 상황을 사전에 방지할 수 있다.Therefore, the chemical solution supply device and the chemical solution discharge device 10 of the present invention can prevent in advance a situation in which the device itself is damaged due to the reverse flow of the chemical solution.

그리고 상기 역류 방지부(27) 또한 상기 제1 연결 라인(23)으로 약액이 역류하는 것을 차단하도록 구비될 수 있다. 상기 역류 방지부(27)는 상기 제1 연결 라인(23)으로 약액이 역류하는 것을 센싱하는 센서(29), 상기 센서(29)로부터 센싱 신호를 전달받아 상기 제1 연결 라인(23)을 폐쇄시키는 밸브(31) 등을 포함할 수 있다.Also, the backflow prevention unit 27 may be provided to block the backflow of the chemical solution to the first connection line 23 . The backflow prevention unit 27 includes a sensor 29 that senses the reverse flow of the chemical liquid into the first connection line 23 and receives a sensing signal from the sensor 29 to close the first connection line 23. It may include a valve 31 and the like.

이와 같이, 본 발명의 일 실싱예에 따른 약액 공급 장치 및 약액 토출 장치(10)는 상기 차단부(33)와 함께 상기 역류 방지부(27)를 구비함으로써 상기 레저버(13)부터 상기 제1 연결 라인(23)으로 약액이 역류하는 것을 이중으로 차단할 수 있을 것이다.As described above, the chemical solution supply device and the chemical solution discharge device 10 according to one embodiment of the present invention include the backflow prevention part 27 together with the blocking part 33, so that the reservoir 13 to the first It will be possible to double-block the backflow of the chemical solution to the connection line 23.

따라서 본 발명의 약액 공급 장치 및 방법, 그리고 이를 포함하는 약액 토출 장치는 음압 제공부로 약액이 역류함에 따라 발생하는 불량 요인을 없앨 수 있기 때문에 안정적인 공정 수행이 가능할 것이고, 그 결과 공정 신뢰도의 향상을 기대할 수 있을 것이다.Therefore, the chemical solution supply device and method of the present invention, and the chemical solution discharge device including the same, can eliminate defects caused by the back flow of the chemical solution to the negative pressure providing unit, so that a stable process can be performed, and as a result, process reliability is expected to be improved. You will be able to.

또한, 본 발명의 약액 공급 장치 및 방법, 그리고 이를 포함하는 약액 토출 장치는 약액의 역류로 인하여 장치 자체를 손상시키는 상황을 사전에 방지할 수 있기 때문에 장치 자체의 보다 안정적인 관리가 가능할 것이고, 그 결과 장치 신뢰도의 향상을 기대할 수 있을 것이다.In addition, since the chemical solution supply device and method of the present invention and the chemical solution ejection device including the same can prevent in advance a situation in which the device itself is damaged due to the reverse flow of the chemical solution, more stable management of the device itself will be possible, as a result An improvement in device reliability can be expected.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art can variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. You will understand that you can.

10 : 약액 토출 장치 11 : 잉크젯 헤드
13 : 레저버 20 : 음압 제공부
21 : 음압 형성부 23 : 제1 연결 라인
25 : 제2 연결 라인 27 : 역류 방지부
29 : 센서 31 : 밸브
33 : 차단부 35 : 빠짐 방지부
40 : 양압 제공부 41 : 양압 형성부
43 : 제3 연결 라인
10: chemical liquid ejection device 11: inkjet head
13: reservoir 20: negative pressure supply unit
21: negative pressure forming unit 23: first connection line
25: second connection line 27: backflow prevention unit
29: sensor 31: valve
33: blocking unit 35: fall prevention unit
40: positive pressure providing unit 41: positive pressure forming unit
43: third connection line

Claims (15)

레저버(reservoir)로부터 잉크젯 헤드로 약액이 공급되는 것을 중단시키면서 메니스커스(meniscus)를 유지할 수 있도록 상기 레저버에 음압을 제공하기 위한 음압 제공부를 포함하는 약액 공급 장치에 있어서,
상기 음압 제공부는
상기 레저버로 제공되는 음압을 형성하는 음압 형성부;
제1 직경을 가지면서 상기 음압 형성부와 연결되는 제1 연결 라인;
상기 제1 직경보다 큰 제2 직경을 가지면서 상기 제1 연결 라인과 상기 레저버 사이를 연결하는 제2 연결 라인; 및
상기 제2 연결 라인 내부를 따라 움직이면서 상기 제2 연결 라인과 연결되는 상기 제1 연결 라인의 단부를 차단할 수 있게 상기 제1 직경보다는 크고 상기 제2 직경보다는 작은 크기를 가지면서 상기 제2 연결 라인 내부에 배치되는 차단부;를 포함하되,
상기 차단부는 상기 음압의 크기가 설정 범위를 벗어날 경우 상기 설정 범위를 벗어난 음압에 의해 상기 제1 연결 라인의 단부 또는 상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부 쪽으로 이동하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
A chemical solution supply device comprising a negative pressure providing unit for providing a negative pressure to a reservoir to maintain a meniscus while stopping supply of the chemical solution from a reservoir to an inkjet head, comprising:
The negative pressure providing unit
a negative pressure generator configured to generate negative pressure supplied to the reservoir;
a first connection line having a first diameter and connected to the negative pressure generating unit;
a second connection line having a second diameter greater than the first diameter and connecting the first connection line and the reservoir; and
While moving along the inside of the second connection line to block the end of the first connection line connected to the second connection line, while having a size larger than the first diameter and smaller than the second diameter, the inside of the second connection line A blocking unit disposed in; including,
The blocking unit is provided to move toward the end of the first connection line or the end of the second connection line connected to the reservoir by the sound pressure outside the set range when the magnitude of the sound pressure is out of the set range. A chemical solution supplying device.
제1 항에 있어서,
상기 제1 연결 라인과 상기 제2 연결 라인은 수직하게 연결되고, 상기 차단부는 상기 약액보다 낮은 밀도를 갖는 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
According to claim 1,
The first connection line and the second connection line are vertically connected, and the blocking part is made of a material having a density lower than that of the chemical solution.
삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부는 상기 차단부의 크기보다 작은 직경을 갖도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
According to claim 1,
The chemical liquid supply device, characterized in that the end of the second connection line connected to the reservoir is provided to have a smaller diameter than the size of the blocking portion.
제1 항에 있어서,
상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부에는 상기 차단부가 상기 레저버로 빠지는 것을 방지하는 빠짐 방지부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
According to claim 1,
The chemical liquid supply device of claim 1 , wherein an end portion of the second connection line connected to the reservoir is further provided with an anti-fall portion preventing the blocking portion from falling into the reservoir.
제1 항에 있어서,
상기 제1 연결 라인으로 상기 약액이 역류하는 것을 센싱하는 센서, 및 상기 센서로부터 센싱 신호를 전달받아 상기 제1 연결 라인을 폐쇄시키는 밸브로 이루어지는 역류 방지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
According to claim 1,
The chemical solution supply device of claim 1 , further comprising a backflow preventer comprising a sensor for sensing a backward flow of the chemical solution through the first connection line, and a valve that receives a sensing signal from the sensor and closes the first connection line.
제1 항에 있어서,
상기 레저버로부터 상기 잉크젯 헤드로 약액을 공급할 수 있도록 상기 레저버에 양압을 제공하기 위한 양압 제공부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
According to claim 1,
The chemical solution supply device of claim 1, further comprising a positive pressure providing unit configured to provide a positive pressure to the reservoir so that the chemical solution can be supplied from the reservoir to the inkjet head.
기판을 향하여 약액을 토출하기 위한 잉크젯 헤드;
상기 잉크젯 헤드로 공급하기 위한 상기 약액을 저장하는 레저버;
상기 레저버로부터 상기 잉크젯 헤드로 상기 약액을 공급할 수 있도록 상기 레저버에 양압을 제공하기 위한 양압 제공부; 및
상기 레저버로부터 상기 잉크젯 헤드로 상기 약액이 공급되는 것을 중단시키면서 메니스커스를 유지할 수 있도록 상기 레저버에 음압을 제공하기 위한 음압 제공부;를 포함하고,
상기 음압 제공부는 상기 레저버로 제공되는 음압을 형성하는 음압 형성부와, 제1 직경을 가지면서 상기 음압 형성부와 연결되는 제1 연결 라인과, 상기 제1 직경보다 큰 제2 직경을 가지면서 상기 제1 연결 라인과 상기 레저버 사이를 연결하는 제2 연결 라인과, 상기 제2 연결 라인 내부를 따라 움직이면서 상기 제2 연결 라인과 연결되는 상기 제1 연결 라인의 단부를 차단할 수 있게 상기 제1 직경보다는 크고 상기 제2 직경보다는 작은 크기를 가지면서 상기 제2 연결 라인 내부에 배치되는 차단부로 이루어지되,
상기 차단부는 상기 음압의 크기가 설정 범위를 벗어날 경우 상기 설정 범위를 벗어난 음압에 의해 상기 제1 연결 라인의 단부 또는 상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부 쪽으로 이동하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
an inkjet head for discharging a chemical liquid toward a substrate;
a reservoir for storing the chemical solution to be supplied to the inkjet head;
a positive pressure providing unit configured to provide a positive pressure to the reservoir to supply the chemical liquid from the reservoir to the inkjet head; and
A negative pressure providing unit configured to provide negative pressure to the reservoir to maintain the meniscus while stopping the supply of the liquid chemical from the reservoir to the inkjet head;
The negative pressure providing unit has a negative pressure forming unit for forming a negative pressure provided to the reservoir, a first connection line having a first diameter and connected to the negative pressure forming unit, and a second diameter greater than the first diameter. A second connection line connecting between the first connection line and the reservoir, and an end of the first connection line connected to the second connection line while moving along the inside of the second connection line to be blocked. It consists of a blocking portion disposed inside the second connection line while having a size larger than the diameter and smaller than the second diameter,
The blocking unit is provided to move toward the end of the first connection line or the end of the second connection line connected to the reservoir by the sound pressure outside the set range when the magnitude of the sound pressure is out of the set range. A chemical liquid ejection device.
제8 항에 있어서,
상기 제1 연결 라인과 상기 제2 연결 라인은 수직하게 연결되고, 상기 차단부는 상기 약액보다 낮은 밀도를 갖는 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
According to claim 8,
The first connection line and the second connection line are vertically connected, and the blocking part is made of a material having a density lower than that of the chemical liquid.
제8 항에 있어서,
상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부는 상기 차단부의 크기보다 작은 직경을 갖도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
According to claim 8,
An end of the second connection line connected to the reservoir is provided to have a smaller diameter than the size of the blocking portion.
제8 항에 있어서,
상기 레저버와 연결되는 상기 제2 연결 라인의 단부에는 상기 차단부가 상기 레저버로 빠지는 것을 방지하는 빠짐 방지부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
According to claim 8,
The chemical discharge device of claim 1 , wherein an end portion of the second connection line connected to the reservoir is further provided with an anti-fall portion preventing the blocking portion from falling into the reservoir.
제8 항에 있어서,
상기 제1 연결 라인으로 상기 약액이 역류하는 것을 센싱하는 센서, 및 상기 센서로부터 센싱 신호를 전달받아 상기 제1 연결 라인을 폐쇄시키는 밸브로 이루어지는 역류 방지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
According to claim 8,
The chemical discharge device of claim 1, further comprising a backflow prevention unit comprising a sensor for sensing a backward flow of the chemical liquid through the first connection line, and a valve receiving a sensing signal from the sensor and closing the first connection line.
레저버(reservoir)로부터 잉크젯 헤드로 약액이 공급되는 것을 중단시키면서 메니스커스(meniscus)를 유지할 수 있게 음압 제공부 및 상기 음압 제공부와 상기 레저버 사이를 연결하는 연결 라인을 사용하여 상기 레저버에 음압을 제공하는 단계;
상기 레저버로 음압의 제공시 상기 음압의 제공에 지장을 끼치지 않는 상기 연결 라인의 일정 위치에 차단부를 머물러 있게 하는 단계;
상기 레저버로 음압의 제공시 상기 레저버로부터 상기 음압 제공부를 향하여 상기 약액이 역류할 경우 상기 차단부가 상기 연결 라인과 상기 음압 제공부가 연결되는 연결 부분으로 이동하여 차단시키는 단계; 및
상기 레저버로 음압의 제공시 상기 레저버로 제공되는 음압이 설정 범위를 벗어날 경우 상기 차단부가 상기 연결 라인과 상기 레저버가 연결되는 연결 부분 또는 상기 연결 라인과 상기 음압 제공부가 연결되는 연결 부분으로 이동하여 차단시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.
A negative pressure providing unit and a connection line connecting the negative pressure providing unit and the reservoir can be used to maintain the meniscus while stopping the supply of the chemical solution from the reservoir to the inkjet head, and the reservoir is used. providing a negative pressure to;
keeping the blocking unit at a predetermined position of the connection line that does not interfere with the supply of the negative pressure when providing the negative pressure to the reservoir;
moving the blocking unit to a connection portion where the connection line and the negative pressure providing unit are connected when the chemical solution flows backward from the reservoir toward the negative pressure providing unit when negative pressure is supplied to the reservoir, and blocking the flow; and
When providing negative pressure to the reservoir, when the negative pressure provided to the reservoir is out of the set range, the blocking part is a connection part where the connection line and the reservoir are connected or a connection part where the connection line and the negative pressure providing part are connected. A chemical solution supply method comprising the step of moving and blocking.
제13 항에 있어서,
상기 약액이 역류할 경우 상기 차단부는 부력에 의해 상기 연결 라인과 상기 음압 제공부가 연결되는 연결 부분으로 이동하여 차단시키고,
상기 음압이 설정 범위보다 큰 음압으로 벗어날 경우 상기 차단부는 상기 연결 라인과 상기 레저버가 연결되는 연결 부분으로 이동하여 차단시키고, 상기 음압이 설정 범위보다 작은 음압으로 벗어날 경우 상기 차단부는 상기 연결 라인과 상기 음압 제공부가 연결되는 연결 부분으로 이동하여 차단시키는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.
According to claim 13,
When the chemical liquid flows backward, the blocking part moves to a connection part where the connection line and the negative pressure providing part are connected by buoyancy to block it,
When the negative pressure deviates from a negative pressure greater than the set range, the blocking unit moves to a connection portion where the connection line and the reservoir are connected and blocks it, and when the negative pressure deviates from a negative pressure smaller than the set range, the cut-off unit moves to and from the connection line and the negative pressure. A method of supplying a chemical solution, characterized in that the negative pressure providing unit is moved to a connecting portion to be blocked.
제13 항에 있어서,
상기 레저버로부터 상기 음압 제공부를 향하여 상기 약액이 역류하는 가를 센싱하는 단계; 및
상기 약액이 역류하는 센싱 신호가 전달될 경우 상기 연결 라인을 폐쇄시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.
According to claim 13,
sensing whether the chemical solution flows backward from the reservoir toward the negative pressure providing unit; and
The method of supplying the chemical solution, characterized in that it further comprises the step of closing the connection line when a sensing signal for the reverse flow of the chemical solution is transmitted.
KR1020160148729A 2016-11-09 2016-11-09 Apparatus and Method for Supplying Droplet Formation, and Apparatus for Droplet Formation having the same KR102573222B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160148729A KR102573222B1 (en) 2016-11-09 2016-11-09 Apparatus and Method for Supplying Droplet Formation, and Apparatus for Droplet Formation having the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160148729A KR102573222B1 (en) 2016-11-09 2016-11-09 Apparatus and Method for Supplying Droplet Formation, and Apparatus for Droplet Formation having the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180051861A KR20180051861A (en) 2018-05-17
KR102573222B1 true KR102573222B1 (en) 2023-08-31

Family

ID=62486104

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160148729A KR102573222B1 (en) 2016-11-09 2016-11-09 Apparatus and Method for Supplying Droplet Formation, and Apparatus for Droplet Formation having the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102573222B1 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102217468B1 (en) * 2019-06-11 2021-02-19 세메스 주식회사 Apparatus for dispensing droplet
KR102340454B1 (en) 2020-05-20 2021-12-20 주식회사 티케이씨 Apparatus For Processing Plate
CN112221841B (en) * 2020-09-11 2021-09-28 安徽华铂再生资源科技有限公司 Dispensing device for storage battery processing and working method thereof

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002086748A (en) 2000-09-13 2002-03-26 Ricoh Co Ltd Sub tank, ink supplying device, and ink-jet recording device

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3823924A1 (en) * 1988-06-14 1989-12-21 Erich Kraemer METHOD AND DEVICE FOR RECOVERY OF EXCESSIVE POWDER FROM POWDER COATING CABINS
EP2332729A4 (en) * 2008-09-30 2012-04-11 Ulvac Inc Discharge unit, and discharge apparatus
KR101584362B1 (en) * 2013-05-31 2016-01-19 세메스 주식회사 Liquid dispensing apparatus and substrate treating apparatus including the apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002086748A (en) 2000-09-13 2002-03-26 Ricoh Co Ltd Sub tank, ink supplying device, and ink-jet recording device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180051861A (en) 2018-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102573222B1 (en) Apparatus and Method for Supplying Droplet Formation, and Apparatus for Droplet Formation having the same
KR101701904B1 (en) Apparatus and Method for Inspecting Droplet, Apparatus and Method for Droplet Formation having the same
KR101937349B1 (en) Apparatus for Supplying Droplet Formation and Apparatus for Droplet Formation having the same
US20080158307A1 (en) Ink jet recording apparatus, ink supplying mechanism and ink supplying method
JP4869373B2 (en) Liquid circulation unit, liquid circulation device, droplet spray coating device, and method for forming coated body
US10479097B2 (en) Liquid ejecting apparatus
KR20100085412A (en) Ink jet head and ink supplying method thereof
JP2017047413A (en) Ink jet device and ink jet method
US9340028B2 (en) Liquid storing device, liquid storing method and inkjet recording device
JP2018165005A (en) Liquid discharge apparatus and liquid discharge method
JP2018165004A (en) Liquid discharge apparatus and liquid discharge method
KR102221258B1 (en) Apparatus for Dispensing Chemical
KR20190084922A (en) Appatratus for Droplet Formation
KR101657530B1 (en) Apparatus and Method for Droplet Formation
KR102533210B1 (en) Apparatus for Droplet Formation
JP2008178820A (en) Droplet ejection head-filling device and method for making article
KR20180051030A (en) Apparatus for Droplet Formation and Apparatus for Processing Substrate having the same
CN112172348B (en) Ink tank for chemical liquid discharge device and chemical liquid discharge device including the same
KR102581893B1 (en) Apparatus for Droplet Formation and Apparatus for Processing Substrate having the same
JP5120116B2 (en) Liquid tank connection port, liquid tank and droplet discharge device
JP6400397B2 (en) Coating liquid supply apparatus, coating apparatus and coating liquid supply method
KR101703684B1 (en) Apparatus for treating substrate and method for supplying liquid
KR102239113B1 (en) ink supply apparatus having bubble blocking part
JP5074144B2 (en) Coating liquid supply apparatus, coating liquid supply method, and color filter manufacturing method for inkjet head
JP2009166002A (en) Apparatus and method for applying solution

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant