KR102538276B1 - Pe-cvd 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따르면, 다음을 포함하는 PE-CVD(plasma-enhanced chemical vapour deposition) 장치가 제공되고:
주위(circumferential) 펌핑 채널을 포함하는 챔버;
상기 챔버 내에 배치되는 기판 서포트;
상기 챔버 내부로 가스를 도입하기 위한 하나 이상의 가스 주입구;
상기 챔버 내에 플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 생성 기구; 및
상기 챔버 내에 위치하는 상부 및 하부 요소;
상기 상부 요소는 플라즈마를 국한시키고 및 제1 주위 펌핑 갭을 정의하도록 기판 서포트로부터 이격되고, 상기 상부 요소는 상기 주위 펌핑 채널의 반지름 방향 내벽으로 작용하며, 그리고
상기 상부 및 하부 요소들은 상기 주위 펌핑 채널의 입구로 작용하는 제2 주위 펌핑 갭을 정의하도록 반지름 방향으로 이격되고, 상기 제2 주위 펌핑 갭은 상기 제1 주위 펌핑 갭보다 넓다.

Description

PE-CVD 장치 및 방법 {PE-CVD APPARATUS AND METHOD}
본 발명은 PE-CVD(plasma enhanced chemical vapour deposition) 장치 및 PE-CVD를 수행하는 방법에 관한 것이다.
PE-CVD는 다양한 물질들을 증착하기 위한 잘 알려진 기술이다. 반도체 소자들의 제조에 있어 PE-CVD를 사용하는 것이 잘 알려져 있다. 반도체들을 처리하는 다른 방법들과 공통적으로, 상업적으로 유용한 공정의 현 상황에 있어서 매우 중요한 요소는 시스템의 처리량이다. 처리량을 감소시키는 주요 문제는 클리닝 공정이다. PE-CVD 공정 챔버의 내부 표면으로부터 증착된 물질을 제거하는 데에 클리닝 공정이 필수적이다. 클리닝 공정을 수행하기 위해 취해지는 시간 혹은 클리닝 공정 들 사이의 시간을 줄이는 것은 더 높은 처리량과 더 낮은 COO(cost of ownership)를 가져올 것이다. 현대적 클리닝 공정들은 챔버의 전체 표면에 걸쳐 균질한 클리닝율(cleaning rate)을 갖는다. 그렇지만, 적어도 일부의 PE-CVD 공정들은 증착 두께의 고르지 못한 분포를 가진 챔버의 내부 표면들 상의 증착을 초래한다. 특히 낮은 증착 온도에서, 실리콘 질화물의 증착은 증착된 물질의 매우 고르지 않은 두께 분포를 만들어 내는 PE-CVD 공정의 한 예를 제공한다.
PE-CVD는 흔히 실리콘 웨이퍼를 처리하기 위해 사용된다. 전형적인 PE-CVD 싱글 웨이퍼 챔버 시스템 디자인 방법론은 시스템 내에서 가스의 전도(conduction)를 제한하는 것이다. 이것은 방사상 방향으로 웨이퍼를 가로질러 시스템의 순 펌핑 흐름(net pumping flow)을 만드는 의도를 가지고 행해진다. 그 의도는 웨이퍼 전체에 걸쳐 균일한 증착을 제공하는 것이다. 가장 상업적인 싱글 웨이퍼 PE-CVD 시스템들은 시스템의 접지 평면을 조정하고, 플라즈마의 형상에 영향을 미치기 위해, 그리고 이러한 가스의 방사상의 전도도를 얻기 위해 세라믹 스페이서들을 사용한다. 도 1은 그 안에 배치된 플래튼(platen)(14)를 갖는 챔버(12)를 포함하는, 일반적으로 10으로 묘사된 종래 기술에 따른 PE-CVD 챔버의 예를 나타낸다. 챔버(12)의 탑(top)에 위치하는 "사워헤드"(16)는 가스들을 챔버(12) 내부로 도입하기 위해 사용된다. 본 기술 분야에서 잘 알려진 바와 같이, 플라즈마는 플라즈마 생성 기구(미도시)를 사용하여 형성된다. 시스템(10)은 하부 세라믹 스페이서(18)과 상부 세라믹 스페이서(20)를 추가로 포함한다. 상부 세라믹 스페이서(20)와 플래튼(14)은 상대적으로 작은 제1 갭(22)를 정의한다. 상부 세라믹(20)과 하부 세라믹(18)은 주위 펌핑 챔버(circumferential pumping chamber)(26)로 이어지는 상대적으로 작은 제2 갭(24)을 정의한다. 주위 펌핑 챔버(26)는 펌핑 포트와 가스 전도 연통 상태에 있다. 펌핑 포트는 도 1에는 도시되어 있지 않지만, 도 2는 펌핑 포트(28)와 웨이퍼 입구 슬롯(29)을 나타낸다. 도 2는 아래에 보다 상세히 설명된다. 챔버 내에서 원하는 압력을 유지하기 위해 펌핑 포트는 챔버로부터 가스를 배출하기 위해 적절한 펌프를 포함하는 배기 라인에 연결된다. 따라서 가스들은 제1 펌핑 갭(22), 제2 펌핑 갭(24) 및 주위 펌핑 챔버(26)를 포함하는 유로를 거쳐 챔버로부터 배출된다. 제1 및 제2 갭들(22, 24)은 방사상 흐름을 생성하기 위하여 시스템의 가스 전도도를 감소시키기 위해 상대적으로 작다.
본 발명은, 실시예들 중 적어도 일부에서, 상술한 문제점들을 다룬다. 특히, 본 발명은, 실시예들 중 적어도 일부에서, PE-CVD 공정들과 관련된 클리닝 시간을 감소시킨다. 이것은 결과적으로 향상된 처리량과 더 낮은 COO를 가져온다.
본 발명의 제1 양태에 따르면,
주위 펌핑 채널을 포함하는 챔버;
상기 챔버 내에 배치되는 기판 서포트;
상기 챔버 내부로 가스를 도입하기 위한 하나 이상의 가스 유입구;
상기 챔버 내에 플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 생성 기구; 및
상기 챔버 내에 위치하는 상부 및 하부 요소를 포함하고,
상기 상부 요소는 플라즈마를 국한시키도록 및 제1 주위 펌핑 갭((circumferential pumping gap)을 정의하도록 기판 서포트로부터 이격되고, 상기 상부 요소는 주위 펌핑 채널의 반지름 방향 내측벽으로 작용하며, 그리고
상기 상부 및 하부 요소들은 주위 펌핑 채널 입구로 작용하는 제2 주위 펌핑 갭을 정의하도록 반지름 방향으로 이격되어 있고, 제2 주위 펌핑 갭은 제1 주위 펌핑 갭보다 더 넓은,
PE-CVD(plasma enhanced chemical vapour deposition) 장치가 제공된다.
하부 요소는 주위 펌핑 채널 아래에 배치되고 그것과 반지름 방향으로 오버랩되는 보조 주위 펌핑 채널을 정의하기 위하여 기판 서포트로부터 반지름 방향으로 이격되어 있을 수 있다. 제1 주위 펌핑 갭은 상기 보조 주위 펌핑 채널의 입구로 작용할 수 있다. 제2 주위 펌핑 갭은 보조 주위 펌핑 채널의 출구로 작용할 수 있다.
하부 요소는 베이스부 및 베이스부로부터 위로 서있는 벽을 포함할 수 있다. 하부 요소는 단면으로 대략 L 형상일 수 있다.
하부 요소는 챔버의 내측벽의 일부분에 접하는 라이너(liner)일 수 있다. 챔버의 내측벽은 라이너가 위치하는 단차(step)를 포함할 수 있다.
상부 요소는 챔버 내부에 하부 방향으로 속해 있는 벽을 포함할 수 있다. 상부 요소의 벽은 상부 부분 및 하부 부분을 포함할 수 있다. 상부 부분은 하부 부분보다 더 두꺼울 수 있다.
하부 요소의 벽은 반지름 방향 내측면을 가질 수 있다. 상부 요소의 벽은 반지름 방향 외측면을 가질 수 있다. 하부 요소의 벽의 반지름 방향 내측면과 상부 요소의 벽의 반지름 방향 외측면은 제2 주위 펌핑 갭을 정의하기 위하여 반지름 방향으로 이격될 수 있다.
상부 요소의 벽은 주위 펌핑 채널의 반지름 방향 내측벽으로 작용할 수 있다.
상부 및 하부 요소들은 각각 유전 물질로 형성될 수 있다. 상부 및 하부 요소들은 각각 세라믹 물질로 형성될 수 있다.
상부 및 하부 요소들은 고리 모양일 수 있다. 일반적으로, 상부 및 하부 요소들은 각각 원 피스(one piece) 배열들로서 제공된다. 그렇지만, 원칙적으로 원 피스 초과로서 상부 및 하부 요소들 중 하나 혹은 둘 다를 제공하는 것이 가능하다. 상부 및 하부 요소들 각각이 단일 구조들로서 챔버 내에 위치하는 것이 바람직함에도 불구하고, 원칙적으로 상부 및 하부 요소들 중 하나 혹은 둘 다가 별개의, 서로 이격된 복수의 구조들로서 챔버 내에 위치되어 있는 멀티-피스(multi-piece) 배열들로 되는 것이 가능하다.
기판 서포트는 기판 서포트가 사용되는 위치에 있을 때 레벨을 정의하는 상부 표면을 가질 수 있다. 주위 펌핑 채널의 적어도 일부분은 상기 레벨 위에 위치할 수 있다.
제2 주위 펌핑 갭은 제2 주위 펌핑 갭보다 적어도 2배 넓을 수 있다.
가스 유입구는 샤워헤드와 같은 어떤 적절한 형태로도 제공될 수 있다. 많은 다른 구성들 능숙한 기술자들에게 쉽게 제시할 것이다.
플라즈마 생성 기구는 능숙한 기술자들에게 잘 알려진 바와 같이, 임의의 적절한 종류가 될 수 있다. 적절한 기구의 한 예는 용량 결합 플라즈마 생성 기구(capacitively coupled plasma production device)이다.
본 발명의 제2 양태에 따르면,
본 발명의 제1 양태에 따른 장치를 제공하는 단계;
기판 서포트 상에 기판을 위치시키는 단계; 및
PE-CVD를 수행하는 것에 의해 기판을 처리하는 단계를 포함하고, 하나 이상의 가스 유입구를 통하여 챔버 내부로 가스가 도입되고 제1 및 제2 주위 펌핑 갭 및 주위 펌핑 채널을 포함하는 유로를 통하여 가스가 챔버로부터 제거되는,
기판을 처리하기 위한 PE-CVD 방법이 제공된다.
가스는 3000sccm보다 큰, 바람직하게는 5000sccm보다 큰, 가장 바람직하게는 7000sccm보다 큰 유량(flow rate)으로 챔버 내부로 도입될 수 있다.
PE-CVD는 기판 상에 질화 실리콘을 증착하도록 수행될 수 있다.
대안적으로, PE-CVD는 기판 상에 이산화 실리콘, 산질화 실리콘 또는 비정질 실리콘을 증착하도록 수행될 수 있다.
본 발명에 의해 제공되는 더 높은 가스 전도(conductancy)가 챔버와 주위 펌핑 채널 사이의 감소된 압력 차이를 발생시킨다는 것이 알려졌다. PE-CVD 공정동안, 주위 펌핑 채널 내의 압력은 챔버 내의 압력의 5% 이내, 바람직하게는 4% 이내일 수 있다.
기판은 반도체 기판일 수 있다. 기판은 실리콘 기판일 수 있다. 전형적으로, 실리콘 기판은 실리콘 웨이퍼이다.
본 발명이 위에 설명되어 있지만, 위에서 제시된 특징들의 발명적인 결합으로 확장되거나 혹은 이어지는 설명, 도면들 혹은 청구항들 내에서 확장된다. 예를 들어, 본 발명의 제1 양태와 관련되어 설명된 어느 특징은 본 발명의 제2 양태와 관련되어 혹은 그 반대로 개시되는 것으로 고려된다.
본 발명에 따른 장치들 및 방법들의 실시예들이 이제 첨부된 도면들을 참조해서 설명될 것이다.
도 1은 종래 기술의 PE-CVD 장치의 단면도이다;
도 2는 도 1의 장치 내에서의 질화 실리콘 증착을 나타낸다;
도 3은 본 발명의 PE-CVD 장치의 단면도이다;
도 4는 도 3의 장치 내에서의 질화 실리콘 증착을 나타낸다;
도 5는 처리된 웨이퍼들의 수에 대한 증착 두께와 두께 비균일도의 그래프이다.
도 3은 대체로 30으로 묘사되며, 내부에 위치한 기판 서포트(34)를 갖는 챔버(32)를 포함하는 PE-CVD 장치를 나타낸다. 기판 서포트(34)는 위에 반도체 웨이퍼가 위치할 수 있는 플래턴(platen)일 수 있다. 전형적으로, 플래턴은 웨이퍼를 받기 위한 낮아진 위치와 사용에 있어 PE-CVD에 의해 웨이퍼를 처리하기 위한 상승된 위치 사이에서 이동될 수 있다. 도 3은 사용에 있어, 상승된 위치에 있는 플래턴(34)을 나타낸다. 장치(30)는 챔버(32)의 탑(top)에 위치하는 샤워헤드(36)을 추가로 포함한다. 샤워헤드(36)는 요구되는 가스나 가스 혼합물이 가스 공급 시스템(미도시)으로부터 챔버(32) 내부로 도입되는 것을 가능하게 하는 복수의 가스 유입구를 포함한다. 전형적으로, 하나 이상의 캐리어 가스와 조합으로 하나 이상의 공정 가스를 포함하는 가스 혼합물이 챔버(32)로 공급된다. 플라즈마는 플라즈마 생성 기구(미도시)를 이용하여 메인 챔버(32) 내에서 생성된다. 이것은 원하는 공정에 의해 반도체 웨이퍼 상에 물질의 증착으로 이어진다. PE-CVD 공정들 및 관련된 플라즈마 생성 기구들은 능숙한 자들에게 잘 알려져 있다. 일실시예에서, 도 3에 도시된 장치(30)는 용량 결합 플라즈마 생성 기구를 이용하여 수행될 수 있다. 장치(30)는 상부 요소(38) 및 하부 요소(40)를 추가로 포함한다. 상부 및 하부 요소들(38, 40)은 각각 세라믹 스페이서의 형태이다.
챔버(32)는 제1 및 제2 단차 섹션(step section)(32(a), 32(b))을 포함한다. 제1 단차 섹션(32(a))은 하부 요소(40)를 받아들이는데, 이것은 L자 형상의 단면을 가지고 있는 고리 모양의 링 구조이다. 상부 요소(38)와 결합되는 제2 단차 섹션(32(a))은 메인 주위 펌핑 채널(42)을 정의한다.
세라믹 상부 및 하부 요소들(38, 40)은 플라즈마의 형상에 영향을 미치는 것, 플라즈마로부터 장치를 보호하는 것 그리고 장치의 접지 평면을 바꾸는 것과 같은 하나 이상의 알려진 목적들을 위해 사용될 수 있다. 특히, 상부 요소(38)는 고리 모양이고 웨이퍼와 기판 서포트(34)의 최상부 부분을 둘러싸도록 위치한다. 이것은 플라즈마를 국한시키는 역할을 한다. 하부요소(40)는 플라즈마로부터 챔버(35) 벽들을 보호하는 역할을 한다. 추가로, 상부 및 하부 요소들(38, 40)은 챔버(32)로부터 가스들이 배출될 때 가스들이 따라 흘러가는 유로 부분을 정의한다. 상부 요소(38)는 제1 펌핑 갭을 정의하도록 기판 서포트(34)로부터 이격되어 있다. 제1 펌핑 갭을 통해 흐르는 가스들은 그러면 보조 펌핑 채널로서 설명될 수 있는 영역(44)으로 들어간다. 보조 펌핑 채널은 웨이퍼 서포트(34)의 측면 영역과 하부 요소(40)에 의해 정의된다. 하부 요소(38)의 최상부 부분과 상부 요소(40)의 최하부 부분은 메인 주위 펌핑 채널(42)로 이어지는 제2 펌핑 채널을 정의한다. 메인 주위 펌핑 채널(42)은 펌핑 포트(46)와 가스 전도 연통한다. 펌핑 포트(46)는 도 4에 도시되어 있고, 이것은 또한 웨이퍼 입구 포트(48)를 나타낸다. 펌핑 포트(46)는 적절한 펌프를 포함하는 진공 라인(미도시)에 연결된다. 진공 라인은 본질적으로 관습적인 구조일 수 있다.
도 1의 종래 기술의 장치와 도 3에 도시된 본 발명의 장치를 사용하여 실험이 수행되었다. 양 챔버들에 질화 실리콘이 증착되었다. 도 2는 종래 기술의 장치를 사용하여 심볼 X에 의해 나타내어지는 영역(27)에 질화 실리콘이 증착되는 것을 나타낸다. 도 4는 본 발명의 장치를 사용하여 심볼 X에 의해 나타내어지는 위치들(50)에 질화 실리콘이 증착되는 것을 보여준다. 종래 기술의 장치는 질화 실리콘의 매우 비대칭적인 증착을 일으킨다는 것이 보여질 수 있다. 반대로, 도 3의 장치에 있어서는, 질화 실리콘의 증착이 챔버 전체에 훨씬 더 고르다. 이것은 본 발명의 챔버 상의 질화 실리콘 증착의 두께가 감소된 결과이다. 비교해 보면, 종래 기술의 장치는 증착된 질화 실리콘의 상대적으로 높은 두께의 영역들을 발생시킨다. 종래 기술의 장치로 얻어진 더 두꺼운 증착의 결과는 증착된 물질을 제거하는 더 긴 클리닝 시간이 요구된다는 것이다. SiN/SiN/SiO 스택을 생성하기 위해 저온 "비아 리빌(via reveal)" 적용을 실행하면서 실험들이 수행되었다. 종래 기술의 장치에 비해, 본 발명의 장치는 클리닝 시간에 있어서 720초에서 130초로 감소를 가져오는 것으로 발견되었다. 이것은 처리량에 있어서 결과적이고 실질적인 향상을 가져올 것이다. 도 2에 도시된 비대칭 증착 패턴의 추가적인 결과는 더 얇은 증착 층을 갖는 영역들은 오버 클리닝될 것이라는 것이 또한 주목되었다.
공정 레시피의 범위를 사용하여 질화 실리콘과 산화 실리콘의 PE-CVD 증착을 위한 막 특성들 및 공정 변수들에 대한 본 발명의 영향을 조사하기 위해 실험들이 또한 수행되었다. 많은 300mm 직경의 실리콘 웨이퍼 기판들을 사용하여 실험들이 수행되었다. 표 1은 중요한 유전막 특성들을 나타낸다. 본 발명을 사용하여 얻어진 막들의 특성들은 종래 기술의 장치를 사용하여 얻어진 상응하는 막들과 비교해서 매우 우위라는 것이 보여질 수 있다. 사실, 종래 기술의 장치와 본 발명의 장치를 사용하여 얻어지는 측정된 특성들은 측정에 대한 관련 에러 밴드들 내에 있다는 점에서는 일치한다. 또한, 두 종류의 장치에 있어서 동일한 NF3 클리닝 레시피를 사용하여 엔드 포인트 신호(플라즈마 내의 여기된 자유 라디칼 불소종들의 광학적 측정)와 DC 바이어스 신호 프로파일들이 매우 유사하는 것이 발견되었다. 게다가, 본 발명의 장치는 또한 C3F8/O2 클리닝의 전기적 및 광학적 특성들에 영향을 미치지 않는 것으로 발견되었다.
Figure 112016034049089-pat00001
표 1. 종래 기술의 장치와 본 발명의 장치의 본질적 유전 테스트 막 특성들의 비교.
표 2는 도 1의 종래 기술의 장치 및 도 3의 본 발명의 장치의 메인 챔버와 주위 펌핑 챔버에서 측정된 압력을 나타낸다. 종래 기술의 장치는 메인 챔버와 주위 펌핑 챔버 간의 큰 압력 차이를 가져오는 것이 보여질 수 있다. 이것은 주위 펌핑 채널(26)로 이어지는 제한된 펌핑 갭들(22, 24)의 측면에서 쉽게 합리화된다. 위에서 설명된 바와 같이, 이것은 웨이퍼를 가로지르는 방사상의 흐름을 얻기하기 위해 가스 전도를 줄이도록 의도된 의도적인 설계 특징이다. 대조적으로, 본 발명은 챔버와 주위 펌핑 채널 간의 훨씬 감소된 압력 차이를 제공한다. 웨이퍼를 가로지른 흐름이 방사상인지 아닌지는 현재는 확인되지 않았다. 임의의 특정 이론이나 추측에 구속시키고자 하는 것은 아니지만, 서로 이격된 상부 및 하부 요소들(38, 40)에 의해 정의되는 더 큰 제2 펌핑 갭의 측면에서 그것이 합리화될 수 있을 것으로 믿어진다. 보조 주위 펌핑 챔버(44)의 유로 및/또는 부피가 역할을 했을 가능성도 있다. 비록 본 발명의 경우에 가스 전도도가 더 높을지라도, 종래 기술의 장치와 본 발명의 장치 모두 PE-CVD 공정동안 메인 챔버에서의 절대적인 압력은 같다는 것이 주목되었다. 이것은 배기 라인의 스로틀 밸브(throttle valve)를 조절함으로써 얻어진다.
Figure 112016034049089-pat00002
표 2. 4가지 다른 유전 레시피들에 대한 ( 스로틀 밸브에 의해 제어되는) 챔 버 압력과 펌핑 채널 압력 간의 차이
도 5는 도 3의 장치를 사용하여 얻어진 전형적인 비아 리빌 SiN/SiO2 스택에 대한 웨이퍼 대 웨이퍼 막 두께를 나타낸다. 연속적인 웨이퍼들의 처리 사이에 클리닝이 수행되었다. 도 5에서, 다이아몬드 심볼(52)은 SiO2막에 대한 것이고, 사각형 심볼(54)은 질화 실리콘이 증착된 막에 관한 것이고, 그리고 삼각 심블(56)은 전체 스택의 두께에 관한 것이다. 도 5는 또한 전체 스택의 비균일도(non-uniformity)를 나타낸다. X 심볼(58)은 스택 비균일도 데이터를 표시한다. 본 발명의 장치가 우수한 막 특성을 가져온다는 것으로 보여질 수 있다.
높은 가스 흐름 비율을 가진 PE-CVD 공정들과 함께 사용할 때 본 발명이 특히 좋은 결과를 제공한다고 믿어진다. 그렇지만, 본 발명은 높은 유량 공정들에 제한되는 것은 아니다. 본 발명에 의해 제공되는 유리한 효과들은 사용된 정확한 공정 레시피에만 제한되는 것으로 생각되지 않는다. 반대로, 본 발명은 산화 실리콘, 산질화 실리콘 및 비정질 실리콘과 같은 넓은 범위의 증착된 물질들을 제공하기 위한 넓은 범위의 증착 레시피들에 적용될 수 있는 것으로 믿어진다.

Claims (18)

  1. PE-CVD(plasma-enhanced chemical vapour deposition) 장치로서,
    챔버;
    상기 챔버 내에 배치되는 기판 서포트;
    상기 챔버 내부로 가스를 도입하기 위한 하나 이상의 가스 유입구;
    상기 챔버 내에 플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 생성 기구; 및
    상기 챔버 내에 위치하는 상부 및 하부 요소를 포함하고,
    상기 상부 요소의 반지름 방향 내측면과 상기 기판 서포트의 측면은 상기 챔버의 반지름 방향으로 제1 거리만큼 서로 이격되고, 상기 제1 거리는 제1 주위 펌핑 갭(circumferential pumping gap)을 정의하고,
    상기 상부 요소는, 메인 주위 펌핑 채널(circumferential pumping channel)의 반지름 방향 내측을 규정(delimit)하는, 반지름 방향 외측을 향한 표면을 갖고,
    상기 하부 요소는, 보조 주위 펌핑 채널을 규정하도록, 상기 반지름 방향에서 상기 기판 서포트의 측면을 향하되 상기 기판 서포트의 상기 측면과 이격되어 있고, 상기 보조 주위 펌핑 채널은 상기 메인 주위 펌핑 채널의 아래에 배치되되, 상기 반지름 방향에서 상기 하부 요소와 오버랩되고, 상기 제1 주위 펌핑 갭은 상기 보조 주위 펌핑 채널로의 입구로 작용하고,
    상기 상부 요소의 최하부 및 상기 하부 요소의 최상부는, 상기 메인 주위 펌핑 채널로의 입구 및 상기 보조 주위 펌핑 채널의 출구 둘 다로서 작용하는 제2 주위 펌핑 갭을 정의하도록, 상기 반지름 방향으로 제2 거리만큼 서로 오프셋되고,
    상기 제2 거리는 상기 제1 거리보다 크고,
    상기 기판 서포트는 상기 기판 서포트 상에 기판이 위치하도록 구성되고,
    상기 하나 이상의 가스 유입구는 상기 메인 주위 펌핑 채널의 상기 반지름 방향 안쪽에 위치하는, 상기 챔버의 처리 영역 내부로 상기 가스를 도입하도록 구성되고,
    상기 플라즈마는 상기 가스가 여기되어 형성되고,
    상기 플라즈마를 이용하여 상기 기판 상에 재료가 증착되고,
    상기 제1 주위 펌핑 갭과, 상기 보조 주위 펌핑 채널과, 상기 제2 주위 펌핑 갭, 및 상기 메인 주위 펌핑 채널을 통해, 상기 챔버의 상기 처리 영역 내의 가스가 상기 장치로부터 제거되는, PE-CVD 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 하부 요소는 베이스부 및 상기 베이스부로부터 위로 서있는 벽을 포함하는, PE-CVD 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 하부 요소는 단면으로 L 형상인, PE-CVD 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 한 항에 있어서,
    상기 하부 요소는 챔버의 내측벽의 일부에 접하는 라이너(liner)인, PE-CVD 장치.
  5. 제1항 내지 제3항 중 한 항에 있어서,
    상기 상부 요소는 챔버 내부에 하부 방향으로 속해 있는 벽을 포함하는, PE-CVD 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 상부 요소의 벽은 상부 부분 및 하부 부분을 포함하고, 상기 상부 부분이 하부 부분보다 더 두꺼운, PE-CVD 장치.
  7. 제1항 내지 제3항 중 한 항에 있어서,
    상기 상부 및 하부 요소들은 각각 유전 물질로 형성되는, PE-CVD 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 상부 및 하부 요소들은 각각 세라믹 물질로 형성되는, PE-CVD 장치.
  9. 제1항 내지 제3항 중 한 항에 있어서,
    상부 및 하부 요소들은 고리 모양인, PE-CVD 장치.
  10. 제1항 내지 제3항 중 한 항에 있어서,
    상기 기판 서포트는 기판 서포트가 그것의 사용 위치에 있을 때 레벨을 정의하는 상부 표면을 갖고, 상기 메인 주위 펌핑 채널의 적어도 일부분이 상기 레벨 위에 위치하는, PE-CVD 장치.
  11. 제1항 내지 제3항 중 한 항에 있어서,
    상기 제2 주위 펌핑 갭은 제1 주위 펌핑 갭보다 적어도 2배 넓은, PE-CVD 장치.
  12. 기판을 처리하기 위해 PE-CVD를 수행하는 방법으로서,
    제1항에 따른 장치를 제공하는 단계;
    적어도 하나의 기판 서포트 상에 기판을 위치시키는 단계; 및
    PE-CVD를 수행하는 것에 의해 기판을 처리하는 단계를 포함하고, 하나 이상의 가스 유입구를 통하여 챔버 내부에 가스가 도입되고 제1 및 제2 주위 펌핑 갭 및 주위 펌핑 채널을 포함하는 유로를 통하여 가스가 챔버로부터 제거되는, 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    가스가 3000sccm보다 크거나, 5000sccm보다 크거나, 7000sccm보다 큰 유량으로 챔버 내부로 도입되는, 방법.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    PE-CVD는 기판 상에 질화 실리콘을 증착하도록 수행되는, 방법.
  15. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    PE-CVD는 기판 상에 이산화 실리콘, 산질화 실리콘 또는 비정질 실리콘을 증착하도록 수행되는, 방법.
  16. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    PE-CVD 공정동안, 상기 주위 펌핑 채널 내의 압력은 챔버 내의 압력의 5% 이내, 또는 4% 이내인, 방법.
  17. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 기판은 실리콘 기판과 같은 반도체 기판인, 방법.
  18. 삭제
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