KR102404069B1 - 광학 이방성 필름 - Google Patents

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Abstract

(과제) 흑표시시의 누광 억제가 우수한 광학 이방성 필름을 제공한다.
(해결 수단) nx>nz>ny의 굴절률 관계를 갖고, nx-nz가 0.005 미만이고, nz-ny가 0.004 미만인 광학 이방성 필름의 제공.
(식 중, nz는, 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. nx는, 면 내에서 최대의 굴절률을 발생시키는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 면 내에서 nx의 방향에 대하여 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다.)

Description

광학 이방성 필름{OPTICALLY ANISOTROPIC FILM}
본 발명은 광학 이방성 필름에 관한 것이다.
플랫 패널 표시 장치(FPD)에는, 편광판, 위상차판 등의, 광학 이방성 필름을 포함하는 부재가 이용되고 있다. 이러한 광학 이방성 필름으로서, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 기재에 도포함으로써 제조된 광학 이방성 필름이 알려져 있다. 예컨대, 특허문헌 1에는, 배향 처리를 실시한 기재에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고, 상기 도포막 중의 중합성 액정 화합물을 중합시킴으로써 형성된 광학 이방성 필름이 기재되어 있다.
특허문헌 1 : 일본 특허 공개 제2007-148098호 공보
그러나, 종래의 광학 이방성 필름은, 흑표시시의 누광을 억제한다는 광학 보상 특성에 있어서 충분하지 않았다.
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.
[1] nx>nz>ny의 굴절률 관계를 갖고, nx-nz가 0.005 미만이고, nz-ny가 0.004 미만인 광학 이방성 필름.
(식 중, nz는, 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. nx는, 면 내에서 최대의 굴절률을 발생시키는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 면 내에서 nx의 방향에 대하여 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다.)
[2] R0(450)/R0(550)이, 0.8∼1.2인 [1]에 기재된 광학 이방성 필름.
(R0(550)은, 550 nm의 광에 대한 정면 위상차 값을 나타내고, R0(450)은, 450 nm의 광에 대한 정면 위상차 값을 나타낸다.)
[3] R0(550)이 90∼160 nm이고, R40(550)이 91∼170 nm이고, R40(550)-R0(550)이 10 nm 이하인 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 이방성 필름.
(R0(550)은 상기와 동일한 의미를 나타낸다. R40(550)은, ny의 방향의 축을 경사축으로 하여, 두께 방향으로부터 40° 경사진 방향에서 입사된 550 nm의 광에 대한 위상차 값을 나타낸다.)
[4] 광학 이방성 필름이, 두께 방향으로 광축을 갖는 광학 이방성 막과, 기재를 포함하는 적층체인 [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 필름.
[5] 기재가, 면 내 방향으로 광축을 갖는 [4]에 기재된 광학 이방성 필름.
[6] 기재의 ny와 nz의 차가 0 이상 0.01 이하인 [4] 또는 [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 필름.
(ny 및 nz는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)
[7] 기재와 광학 이방성 막 사이에, 두께 1∼300 nm의 고분자 수지막을 갖는 [4]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 필름.
[8] 고분자 수지막의 R0(550)이 0∼10 nm인 [7]에 기재된 광학 이방성 필름.
(R0(550)은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)
[9] [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 필름과, 편광 소자를 갖는 편광판.
[10] [4]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 필름의 광학 이방성 막의 면과, 편광 소자가, 접착제층을 통해 적층된 편광판.
[11] [4]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 필름의 기재의 nx의 방향과, 편광 소자의 투과축의 방향이 직교하고 있는 [10]에 기재된 편광판.
(nx는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)
[12] [1]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 광학 이방성 필름을 갖는 표시 장치.
[13] [9]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 편광판을 갖는 표시 장치.
본 발명에 의하면, 흑표시시의 누광 억제가 우수한 광학 이방성 필름을 제공할 수 있다.
도 1은, 본 발명에 따른 편광판의 일례를 도시한 모식도이다.
도 2는, 본 발명에 따른 편광 소자의 일례를 도시한 모식도이다.
도 3은, 본 발명에 따른 편광판의 일례를 도시한 모식도이다.
도 4는, 본 발명에 따른 광학 이방성 필름의 적층 양태의 일례를 도시한 모식도이다.
도 5는, 본 발명에 따른 편광판의 일례를 도시한 모식도이다.
도 6은, 본 발명에 따른 편광판을 갖는 표시 장치의 일례를 도시한 모식도이다.
본 발명의 광학 이방성 필름(이하, 본 광학 이방성 필름이라고 하는 경우가 있음)은, nx>nz>ny의 굴절률 관계를 갖고, nx-nz가 0.005 미만이고, nz-ny가 0.004 미만이다. nx-nz는 바람직하게는 0.002 미만이고, nz-ny는 바람직하게는 0.003 미만이다. 또, nx>nz>ny의 관계를 만족하는 점에서, nx-nz 및 nz-ny는, 각각 0보다 크다.
식 중, nz는, 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. nx는, 면 내에서 최대의 굴절률을 발생시키는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 면 내에서 nx의 방향에 대하여 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다.
즉, nz는, 광학 이방성 필름이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 광학 이방성 필름 평면에 대하여 수직인 방향의 굴절률을 나타낸다. nx는, 광학 이방성 필름이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 광학 이방성 필름 평면에 대하여 평행한 방향의 주굴절률을 나타낸다. ny는, 광학 이방성 필름이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서, 광학 이방성 필름 평면에 대하여 평행이며, 또한, nx의 방향에 대하여 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다.
본 광학 이방성 필름은, 550 nm의 광에 대한 정면 위상차 값 R0(550)과, 450 nm의 광에 대한 정면 위상차 값 R0(450)의 비 R0(450)/R0(550)이, 바람직하게는 0.8∼1.2이고, 보다 바람직하게는 0.9∼1.2이다. R0(450)/R0(550)이 0.8∼1.2이면, 액정셀 중에 포함되는 액정 분자와 광학 특성이 유사하기 때문에, 광학 보상 특성이 보다 우수하다.
본 광학 이방성 필름의 R0(550)은, 바람직하게는 90∼160 nm이고, 보다 바람직하게는 95∼155 nm이고, 더욱 바람직하게는 100∼150 nm이다.
본 광학 이방성 필름의 R40(550)은, 바람직하게는 91∼170 nm이고, 보다 바람직하게는 105∼165 nm이고, 더욱 바람직하게는 110∼160 nm이다.
R40(550)은, ny의 방향의 축을 경사축으로 하여, 두께 방향으로부터 40° 경사진 방향에서 입사된 550 nm의 광에 대한 위상차 값을 나타낸다.
다만, R0(550)과 R40(550)은, R0(550)<R40(550)의 관계를 만족한다.
R40(550)은, 시판되는 위상차 측정 장치를 이용하여, ny의 방향의 축을 진상축으로서 검출하고, 이 축을 경사축으로 하여, 상기 경사축에 대하여 광학 이방성 필름 평면을 기울임으로써 측정할 수 있다. ny의 방향의 축을 경사축으로 하여 광학 이방성 필름 평면을 기울이면, 광학 이방성 막의 경사로부터 본 경우의 굴절률 증가분이 더해지기 때문에, R0(550)<R40(550)이 된다.
본 광학 이방성 필름에서의, R40(550)-R0(550)은, 바람직하게는 10 nm 이하이다. 이에 따라, 흑표시시의 각 방향의 시야에서의 누광 억제 효과를 보다 효과적으로 발현할 수 있다.
본 광학 이방성 필름으로는, 예컨대, 액정성 재료를 도포함으로써 형성되는 막, 연신 필름, 및 이들을 조합한 필름을 들 수 있다.
본 광학 이방성 필름은, 위상차를 갖는 막을 복수장 적층한 것이어도 좋고, 위상차를 갖는 막과 위상차를 갖지 않는 막을 적층한 것이어도 좋다.
본 광학 이방성 필름은, 바람직하게는, 두께 방향으로 광축을 갖는 광학 이방성 막과, 기재를 포함하는 적층체이다. 또한, 바람직하게는 상기 광학 이방성 막과, 기재 사이에 고분자 수지막을 갖는 적층체이다.
본 명세서에 있어서 광축이란, 광의 입사시에 가장 작은 복굴절을 발생시키는 방향을 의미한다.
<광학 이방성 막>
본 발명에서의 광학 이방성 막(이하, 본 광학 이방성 막이라고 하는 경우가 있음)의 광축은, 바람직하게는, 본 광학 이방성 막의 평면에 대하여 수직인 방향, 즉, 본 광학 이방성 막의 두께 방향과 평행한 방향에 있다. 즉, 본 광학 이방성 막의 광축은, 바람직하게는, nz의 방향에 대응한다.
본 광학 이방성 막은, 통상, nz>nx>ny의 굴절률의 관계를 갖는다.
본 광학 이방성 막이, 상기 굴절률 관계를 가지면, 시인 방향이, 본 광학 이방성 막 평면에 대한 법선 방향으로부터 경사짐에 따라, 광학 이방성 막의 복굴절량이 커지기 때문에, 시인 방향의 변화에 수반되는 보상 효과를 얻는 것이 가능해진다.
본 광학 이방성 막의 정면 위상차 값 R0(550)은, 통상 0∼10 nm이고, 바람직하게는 0∼5 nm이다.
본 광학 이방성 막의, 550 nm의 광에 대한 두께 방향의 위상차 값 Rth(550)은, 통상 -10∼-300 nm이고, 바람직하게는 -20∼-200 nm이다.
본 광학 이방성 막으로는, 예컨대, 액정성 재료를 도포함으로써 형성되는 막 및 연신 필름을 들 수 있다. 광학 이방성 막이 액정성 재료를 도포함으로써 형성되는 막인 경우, 광학 이방성 막의 광학 특성은 액정성 재료의 배향 상태에 의해 조정할 수 있다. 광학 이방성 막이 연신 필름인 경우, 광학 이방성 막의 광학 특성은, 연신 필름을 구성하는 수지 및, 연신 필름의 연신 방법을 적절히 선택함으로써 조정할 수 있다.
액정성 재료로는, 예컨대, 막대 형상 및 원반 형상의 액정 화합물을 들 수 있다.
막대 형상의 액정 화합물이 막면에 대하여 수직인 방향으로 배향한 경우에는, 광학 이방성 막의 광축은, 상기 액정 화합물의 장축 방향과 일치한다.
원반 형상의 액정 화합물이 배향한 경우에는, 광학 이방성 막의 광축은, 상기 액정 화합물의 원반면에 대하여 직교하는 방향으로 존재한다.
연신 필름의 지상축 방향은 연신 방법에 따라 상이하고, 1축, 2축 또는 경사 연신 등, 그 연신 방법에 따라 지상축 및 광축이 결정된다.
액정성 재료를 도포함으로써 형성되는 막이 정면 위상차를 발현하기 위해서는, 액정성 재료를 알맞은 방향으로 배향시키면 된다. 액정성 재료가 막대 형상의 액정 화합물인 경우에는, 배향한 상기 액정성 재료의 광축을 광학 이방성 막 평면에 대하여 수평으로 함으로써 정면 위상차가 발현된다. 이 경우, 광축 방향과 지상축 방향은 일치한다. 액정성 재료가 원반 형상의 화합물인 경우에는, 배향한 상기 액정성 재료의 광축을 광학 이방성 막 평면에 대하여 수평으로 함으로써 정면 위상차가 발현된다. 이 경우, 광축과 지상축은 직교한다.
광학 이방성 막의 정면 위상차 값은, 광학 이방성 막의 두께에 의해 조정할 수 있다.
정면 위상차 값은 식(10)에 의해 결정되는 점에서, 원하는 정면 위상차 값 R0(λ)를 얻기 위해서는, Δn(λ)와 막두께(d)를 조정하면 된다. 액정성 재료를 도포함으로써 형성되는 광학 이방성 막이, nz>nx>ny의 굴절률의 관계를 갖기 위해서는, 액정성 재료를 알맞은 방향으로 배향시키면 된다. 본 발명에 있어서, 두께 방향의 위상차를 발현한다란, 식(20)에 있어서, Rth(두께 방향의 위상차 값)가 마이너스가 되는 특성을 나타내는 것으로 정의한다. Rth는, 면 내의 진상축을 경사축으로 하여, 상기 진상축에 대하여 광학 이방성 막 평면을 40도 경사시켜 측정되는 위상차 값(R40)과, 정면 위상차 값(R0)으로부터 산출할 수 있다. 즉, Rth는, R0, R40, d(광학 이방성 막의 두께), 및 n0(광학 이방성 막의 평균 굴절률)으로부터, 이하의 식(21)∼(23)에 의해 nx, ny 및 nz를 구하고, 이들을 식(20)에 대입함으로써 산출할 수 있다.
R0(λ)=d×Δn(λ) (10)
식 중, R0(λ)는, 파장 λ nm의 광에 대한 정면 위상차 값을 나타내고, d는 막두께를 나타내고, Δn(λ)는 파장 λ nm의 광에 대한 복굴절률을 나타낸다.
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (20)
R0=(nx-ny)×d (21)
R40=(nx-ny')×d/cos(φ) (22)
(nx+ny+nz)/3=n0 (23)
여기서,
φ=sin-1[sin(40°)/n0]
ny'=ny×nz/[ny2×sin2(φ)+nz2×cos2(φ)]1/2
복굴절률 Δn(λ)는, 정면 위상차 값을 측정하여, 광학 이방성 막의 두께로 나눔으로써 얻어진다. 구체적인 측정 방법은 실시예에 나타내지만, 이 때, 유리 기판과 같이 기재 자체에 정면 위상차가 없는 기재 상에 제막한 것을 측정함으로써, 실질적인 광학 이방성 막의 특성을 측정할 수 있다.
액정성 재료가 막대 형상의 액정 화합물인 경우에는, 배향한 상기 액정성 재료의 광축을 광학 이방성 막 평면에 대하여 수직으로 함으로써 두께 방향의 위상차가 발현된다. 액정성 재료가 원반 형상의 액정 화합물인 경우에는, 배향한 상기 액정성 재료의 광축을 광학 이방성 막 평면에 대하여 수평으로 함으로써 두께 방향의 위상차가 발현된다. 원반 형상의 액정 화합물의 경우에는, 배향한 액정 화합물의 광축이 광학 이방성 막 평면에 대하여 평행하기 때문에, R0을 결정하면, 두께가 고정되어, 일률적으로 Rth가 결정된다. 막대 형상의 액정 화합물의 경우에는, 배향한 액정 화합물의 광축이 광학 이방성 막 평면에 대하여 수직이기 때문에, 광학 이방성 막의 두께를 조정함으로써 R0을 변화시키지 않고 Rth를 조정할 수 있다.
배향한 막대 형상의 액정 화합물의 광축이, 광학 이방성 막 평면에 대하여 수직으로 있는 경우, 얻어지는 광학 이방성 막의 굴절률 관계는, nz>nx>ny가 되고, nz와 지상축 방향이 일치한다.
배향한 원반 형상의 액정 화합물의 광축이, 광학 이방성 막 평면에 대하여 평행하게 있는 경우, 얻어지는 광학 이방성 막의 굴절률 관계는, nz>nx>ny가 되고 ny와 지상축 방향이 일치한다.
광학 이방성 막이 연신 필름인 경우, 그 두께는, 통상 300 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 5 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하이다.
광학 이방성 막이 액정성 재료를 도포함으로써 형성되는 막인 경우, 그 두께는, 통상 20 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 5 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상 3 ㎛ 이하이다.
광학 이방성 막의 두께는, 간섭 막후계, 레이저 현미경 또는 촉침식 막후계에 의한 측정에 의해 구할 수 있다.
본 광학 이방성 필름은, 예컨대, 하기 공정을 행함으로써 제조할 수 있다.
(1) 기재의 표면에, 고분자 수지막을 형성하는 공정
(2) 얻어진 고분자 수지막의 표면에, 액정성 재료를 포함하는 광학 이방성 막 형성용 조성물을 도포하는 공정
(3) 도포된 광학 이방성 막 형성용 조성물을 건조시켜 광학 이방성 막을 형성하는 공정
또, 이와 같이 하여 얻어진 광학 이방성 막을 기재로부터 박리하여 취하고, 별도의 기재에 접합시켜 본 광학 이방성 필름을 얻을 수도 있다.
액정성 재료로는, 고분자 액정 및 액정 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 액정 화합물이고, 보다 바람직하게는 중합성 기를 갖는 액정 화합물이다(이하, 중합성 액정 화합물이라고 하는 경우가 있음). 액정성 재료가 중합성 액정 화합물인 경우, 광학 이방성 막 형성용 조성물에는 또한 중합 개시제가 포함되면 바람직하다.
고분자 액정으로는, 예컨대, 일본 특허 공개 평7-261023호 공보에 기재된 고분자 액정을 들 수 있다.
<기재>
기재는, 수지 기재이면 바람직하다.
수지 기재는, 통상, 투명 수지 기재이다. 투명 수지 기재란, 광, 특히 가시광을 투과할 수 있는 투광성을 갖는 기재를 의미하고, 투광성이란, 파장 380∼780 nm에 걸친 광선에 대한 투과율이 80% 이상이 되는 특성을 말한다. 수지 기재는, 통상, 필름형이고, 바람직하게는 장척 필름 기재이다. 또 본 명세서에 있어서 「장척 필름 기재」란, 「롤형의 장척 필름」 및 「롤형의 장척 필름으로부터 풀어낸 장척 필름」을 총칭한다.
기재는, 바람직하게는 기재 평면에 대하여 평행 방향으로 광축을 갖고 있고, 위상차를 나타내는 것이다. 위상차를 갖는 기재와, 광학 이방성 막을 조합하면, 본 광학 이방성 필름의 광학 특성을 제어하는 것이 용이해진다.
기재의 광축은, 바람직하게는 기재의 nx의 방향에 일치한다. 기재의 광축을 기재 평면에 대하여 평행으로 함으로써, 흑표시시의 각 방향의 시야에서의 누광 억제 효과가 보다 우수하다.
본 광학 이방성 필름에 포함되는 기재의 nx는, 기재의 ny 및 nz보다 큰 것이 바람직하다. 기재 평면에 평행하게 존재하는 nx가, 그것에 직교하는 ny보다 크고, 또한 기재 평면에 수직인 nz보다 크면, 면 내의 복굴절이 커지기 때문에, 보다 얇은 기재로 충분한 광학 특성을 얻을 수 있다. 또, 이 경우, 기재의 광축은 nx의 방향에 일치한다.
기재가 갖는 굴절률 ny와 nz의 차인 ny-nz는, 기재 평면에서의 복굴절이 커짐과 동시에, 기재 평면에 대하여 수직인 방향의 복굴절이 보다 작아지도록 제어하기 위해, 바람직하게는 0 이상 0.01 이하이고, 보다 바람직하게는 0 이상 0.005 이하이고, 더욱 바람직하게는 0 이상 0.001 이하이다.
이러한 기재는, 광학 이방성 막과의 광학 특성의 조정이 용이하고, 광학 이방성 필름으로서의 광학 특성을 제어하기 쉽다.
이러한 굴절률을 갖는 기재를 얻는 방법으로는, nx 방향으로만 연신하고 ny 방향으로 연신하지 않는 것, 용융 압출 형성하는 것, 기재 평면에 대하여 수평 방향으로 배향하는 액정 화합물을 도포하여 도포막을 형성하는 것 등을 들 수 있다.
기재를 구성하는 수지로는, 예컨대, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 ; 환형 올레핀계 수지 ; 폴리비닐알콜 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트 ; 폴리메타크릴산에스테르 ; 폴리아크릴산에스테르 ; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르 ; 폴리에틸렌나프탈레이트 ; 폴리카보네이트 ; 폴리술폰 ; 폴리에테르술폰 ; 폴리에테르케톤 ; 폴리페닐렌술피드 ; 및 폴리페닐렌옥사이드 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 셀룰로오스에스테르, 환형 올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리메타크릴산에스테르이다.
셀룰로오스에스테르는, 셀룰로오스에 포함되는 수산기의 적어도 일부가, 에스테르화된 것이고, 시장에서 입수할 수 있다. 또한, 셀룰로오스에스테르를 포함하는 기재도 시장에서 입수할 수 있다. 시판되는 셀룰로오스에스테르를 포함하는 기재로는, 후지타크(등록 상표) 필름(후지 사진 필름(주)), KC8UX2M(코니카미놀타옵토(주)), KC8UY(코니카미놀타옵토(주)) 및, KC4UY(코니카미놀타옵토(주)) 등을 들 수 있다.
환형 올레핀계 수지란, 노르보넨 또는 다환 노르보넨계 모노머 등의 환형 올레핀의 중합체, 혹은 이들의 공중합체를 포함하는 것이다. 상기 환형 올레핀계 수지는, 개환 구조를 포함해도 좋고, 또한, 개환 구조를 포함하는 환형 올레핀계 수지를 수소 첨가한 것이어도 좋다. 또한, 상기 환형 올레핀계 수지는, 투명성을 현저히 손상시키지 않고, 현저히 흡습성을 증대시키지 않는 범위에서, 쇄형 올레핀 및 비닐화 방향족 화합물에서 유래되는 구조 단위를 포함하고 있어도 좋다. 또한, 상기 환형 올레핀계 수지는, 그 분자 내에 극성기가 도입되어 있어도 좋다.
쇄형 올레핀으로는, 에틸렌 및 프로필렌 등을 들 수 있고, 비닐화 방향족 화합물로는, 스티렌, α-메틸스티렌 및 알킬 치환 스티렌 등을 들 수 있다.
환형 올레핀계 수지가, 환형 올레핀과, 쇄형 올레핀 또는 비닐화 방향족 화합물의 공중합체인 경우, 환형 올레핀에서 유래되는 구조 단위의 함유량은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여, 통상 50 몰% 이하이고, 바람직하게는 15∼50 몰%이다.
환형 올레핀계 수지가, 환형 올레핀과, 쇄형 올레핀과, 비닐화 방향족 화합물의 3원 공중합체인 경우, 쇄형 올레핀에서 유래되는 구조 단위의 함유량은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여, 통상 5∼80 몰%이고, 비닐화 방향족 화합물에서 유래되는 구조 단위의 함유 비율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여, 통상 5∼80 몰%이다. 이러한 3원 공중합체는, 고가의 환형 올레핀의 사용량을 비교적 적게 할 수 있다는 이점이 있다.
환형 올레핀계 수지는, 시장에서 입수할 수 있다. 시판되는 환형 올레핀계 수지로는, Topas(등록 상표)(Ticona사(독)), 아톤(등록 상표)(JSR(주)), 제오노아(ZEONOR)(등록 상표)(닛폰 제온(주)), 제오넥스(ZEONEX)(등록 상표)(닛폰 제온(주)) 및, 아페르(등록 상표)(미츠이 화학(주)) 등을 들 수 있다. 이러한 환형 올레핀계 수지를, 예컨대, 용제 캐스트법, 용융 압출법 등의 공지된 수단에 의해 제막하여, 기재로 할 수 있다. 시판되는 환형 올레핀계 수지를 포함하는 기재로는, 에스시나(등록 상표)(세키스이 화학 공업(주)), SCA40(등록 상표)(세키스이 화학 공업(주)), 제오노아 필름(등록 상표)(오프테스(주)) 및, 아톤 필름(등록 상표)(JSR(주)) 등을 들 수 있다.
기재에는, 표면 처리를 실시해도 좋다. 표면 처리의 방법으로는, 예컨대, 진공으로부터 대기압의 분위기하에서, 코로나 또는 플라즈마로 기재의 표면을 처리하는 방법, 기재 표면을 레이저 처리하는 방법, 기재 표면을 오존 처리하는 방법, 기재 표면을 비누화 처리하는 방법, 기재 표면을 화염 처리하는 방법, 기재 표면에 커플링제를 도포하는 방법, 기재 표면을 프라이머 처리하는 방법, 및 반응성 모노머나 반응성을 갖는 폴리머를 기재 표면에 부착시킨 후에 방사선, 플라즈마 또는 자외선을 조사하여 반응시키는 그래프트 중합시켜 처리하는 방법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 진공으로부터 대기압의 분위기하에서, 기재 표면을 코로나 또는 플라즈마 처리하는 방법이 바람직하다.
코로나 또는 플라즈마로 기재의 표면 처리를 행하는 방법으로는, 대기압 근방의 압력하에서, 대향한 전극 사이에 기재를 설치하고, 코로나 또는 플라즈마를 발생시켜, 기재의 표면 처리를 행하는 방법, 대향한 전극 사이에 가스를 흘리고, 전극 사이에서 가스를 플라즈마화하고, 플라즈마화한 가스를 기재에 분사하는 방법, 및 저압 조건하에서, 글로우 방전 플라즈마를 발생시켜, 기재의 표면 처리를 행하는 방법을 들 수 있다.
그 중에서도, 대기압 근방의 압력하에서, 대향한 전극 사이에 기재를 설치하고, 코로나 또는 플라즈마를 발생시켜, 기재의 표면 처리를 행하는 방법, 또는, 대향한 전극 사이에 가스를 흘리고, 전극 사이에서 가스를 플라즈마화하고, 플라즈마화한 가스를 기재에 분사하는 방법이 바람직하다. 이러한 코로나 또는 플라즈마에 의한 표면 처리는, 통상, 시판되는 표면 처리 장치에 의해 행해진다.
기재는, 광학 이방성 막 형성용 조성물을 도포하는 면과는 반대의 면에 보호 필름을 갖고 있어도 좋다. 보호 필름으로는, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트 및 폴리올레핀 등의 필름, 및 상기 필름에 더욱 접착층을 갖는 필름 등을 들 수 있다. 광학 이방성 막 형성용 조성물을 도포하는 면과는 반대의 면에 접착층을 갖고, 또한 그 위에 보호 필름을 갖는 것이 바람직하다. 그 중에서도, 건조시의 열변형이 작은 점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트가 바람직하다. 보호 필름을, 기재의, 광학 이방성 막 형성용 조성물을 도포하는 면과는 반대의 면에 가짐으로써, 기재 반송시의 필름의 흔들림이나 도포면의 근소한 진동을 억제할 수 있어, 도포막의 균일성을 향상시킬 수 있다.
기재의 두께는, 실용적인 취급이 가능한 정도의 중량인 점에서는, 얇은 쪽이 바람직하지만, 지나치게 얇으면 강도가 저하되고, 가공성이 뒤떨어지는 경향이 있다. 기재의 두께는, 통상 5∼300 ㎛이고, 바람직하게는 20∼200 ㎛이다.
장척 필름 기재의 긴 방향의 길이는, 통상 10∼3000 m이고, 바람직하게는 100∼2000 m이다. 기재의 짧은 방향의 길이는, 통상 0.1∼5 m이고, 바람직하게는 0.2∼2 m이다.
<고분자 수지막>
본 광학 이방성 필름은, 바람직하게는, 본 광학 이방성 막과 기재 사이에 고분자 수지막을 갖는다. 고분자 수지막의 두께는, 바람직하게는 1 nm∼300 nm이고, 보다 바람직하게는 10 nm∼300 nm이고, 더욱 바람직하게는 10 nm∼200 nm이다.
고분자 수지막의 550 nm의 광에 대한 정면 위상차 값 R0(550)은, 기재 및 광학 이방성 막의 광학 특성에 대한 영향을 작게 하기 위해, 바람직하게는 0∼10 nm이고, 보다 바람직하게는 0∼8 nm이고, 더욱 바람직하게는 0∼6 nm이다.
고분자 수지막은, 액정성 재료를 배향시킬 수 있는, 배향 규제력을 갖는 배향막이면 바람직하다.
배향막으로는, 광학 이방성 막 형성용 조성물의 도포 등에 의해 용해되지 않는 용제 내성을 갖고, 또한, 용제의 제거나 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향막으로는, 배향성 폴리머를 포함하는 배향막, 광 배향막 및, 표면에 요철 패턴이나 복수의 홈을 갖는 그루브 배향막 등을 들 수 있다.
이러한 배향막은, 액정성 재료의 배향을 쉽게 하고, 또한, 배향막의 종류나 러빙 조건에 의해, 수평 배향, 수직 배향, 하이브리드 배향, 경사 배향 등의 여러가지 배향의 제어가 가능하다.
<배향성 폴리머를 포함하는 배향막>
배향성 폴리머로는, 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수 분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알콜, 알킬 변성 폴리비닐알콜, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 및 폴리아크릴산에스테르류를 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리비닐알콜이 바람직하다. 2종 이상의 배향성 폴리머를 조합해도 좋다.
배향성 폴리머를 포함하는 배향막은, 통상, 배향성 폴리머가 용제에 용해된 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하거나, 또는, 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고, 용제를 제거하여 도포막을 형성하고, 상기 도포막을 러빙함으로써 얻어진다.
상기 용제로는, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알콜, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알콜 용제, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산에틸 등의 에스테르 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제, 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용제, 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제, 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제를 들 수 있다. 용제는, 2종 이상을 조합해도 좋다.
배향성 폴리머 조성물 중의 배향성 폴리머의 농도는, 배향성 폴리머가 용제에 완전 용해되는 범위이면 된다. 배향성 폴리머 조성물에 대한 배향성 폴리머의 함유량은, 바람직하게는 0.1∼20 질량%이고, 보다 바람직하게는 0.1∼10 질량%이다.
배향성 폴리머 조성물은, 시장에서 입수할 수 있다. 시판되는 배향성 폴리머 조성물로는, 산에바(등록 상표, 닛산 화학 공업(주) 제조), 옵토마(등록 상표, JSR(주) 제조) 등을 들 수 있다.
배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 스핀 코팅법, 익스트루전법, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법, 슬릿 코팅법, 바 코팅법, 애플리케이터법 등의 도포법, 플렉소법 등의 인쇄법 등의 공지된 방법을 들 수 있다. 광학 이방성 막을, 후술하는 롤투롤 형식의 연속적 제조방법에 의해 제조하는 경우, 상기 도포 방법으로는 통상, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법 또는 플렉소법 등의 인쇄법이 채용된다.
배향성 폴리머 조성물에 포함되는 용제를 제거하는 방법으로는, 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조, 감압 건조 및 이들을 조합한 방법을 들 수 있다. 건조 온도는, 10∼250℃가 바람직하고, 25∼200℃가 보다 바람직하다. 건조 시간은, 용제의 종류에 따라서도 다르지만, 5초간∼60분간이 바람직하고, 10초간∼30분간이 보다 바람직하다.
배향성 폴리머 조성물로부터 형성된 도포막에는, 러빙 처리를 실시해도 좋다. 러빙 처리를 실시함으로써, 상기 도포막에 배향 규제력을 부여할 수 있다.
러빙 처리의 방법으로는, 러빙천이 감겨져, 회전하고 있는 러빙롤에, 상기 도포막을 접촉시키는 방법을 들 수 있다.
러빙 처리를 행할 때에, 마스킹을 행하면, 배향의 방향이 상이한 복수의 영역(패턴)을 배향막에 형성할 수도 있다.
<광배향막>
광배향막은, 통상, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 광배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하고, 편광(바람직하게는, 편광 UV)을 조사함으로써 얻어진다. 광배향막은, 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써, 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있다.
광반응성 기란, 광조사함으로써 배향능을 발생시키는 기를 말한다. 구체적으로는, 광조사에 의해 생기는 분자의 배향 유기(誘起) 반응, 이성화 반응, 광이량화 반응, 광가교 반응 혹은 광분해 반응 등의 배향능의 기원이 되는 광반응에 관여하는 기를 들 수 있다. 광반응성 기로는, 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 기가 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합(C=C 결합), 탄소-질소 이중 결합(C=N 결합), 질소-질소 이중 결합(N=N 결합) 및 탄소-산소 이중 결합(C=O 결합)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 갖는 기가 특히 바람직하다.
C=C 결합을 갖는 광반응성 기로는, 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바졸륨기, 칼콘기 및 신나모일기를 들 수 있다. C=N 결합을 갖는 광반응성 기로는, 방향족 시프염기, 방향족 히드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N=N 결합을 갖는 광반응성 기로는, 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소환 아조기, 비스아조기, 포르마잔기, 및 아조옥시벤젠 구조를 갖는 기를 들 수 있다. C=O 결합을 갖는 광반응성 기로는, 벤조페논기, 쿠마린기, 안트라퀴논기 및 말레이미드기를 들 수 있다. 이들 기는, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 알릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 히드록실기, 술폰산기, 할로겐화알킬기 등의 치환기를 갖고 있어도 좋다.
광반응성 기로는, 광이량화 반응 또는 광가교 반응에 관여하는 기가, 배향성이 우수한 점에서 바람직하다. 그 중에서도, 광이량화 반응에 관여하는 광반응성 기가 바람직하고, 배향에 필요한 편광 조사량이 비교적 적으며, 또한, 열안정성이나 경시 안정성이 우수한 광배향막이 얻어지기 쉽다는 점에서, 신나모일기 및 칼콘기가 바람직하다. 광반응성 기를 갖는 폴리머로서는, 상기 폴리머 측쇄의 말단부가 계피산 구조로 되는 것과 같은 신나모일기를 갖는 것이 특히 바람직하다.
광배향막 형성용 조성물을 기재 상에 도포함으로써, 기재 상에 광배향 유기층을 형성할 수 있다. 상기 조성물에 포함되는 용제로는, 상술한 배향성 폴리머 조성물에 포함되는 용제와 동일한 것을 들 수 있고, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 용해성에 따라 선택할 수 있다.
광배향막 형성용 조성물 중의 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 함유량은, 폴리머 또는 모노머의 종류나 목적으로 하는 광배향막의 두께에 의해 조절할 수 있고, 적어도 0.2 질량%로 하는 것이 바람직하고, 0.3∼10 질량%의 범위가 보다 바람직하다. 광배향막의 특성이 현저히 손상되지 않는 범위에서, 광배향막 형성용 조성물은, 폴리비닐알콜이나 폴리이미드 등의 고분자 재료나 광증감제를 포함하고 있어도 좋다.
광배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다. 도포된 광배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거하는 방법으로는, 배향성 폴리머 조성물로부터 용제를 제거하는 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.
편광을 조사하기 위해서는, 기재 상에 도포된 광배향막 형성용 조성물로부터 용제를 제거한 것에 직접 편광을 조사하는 형식이어도 좋고, 기재측으로부터 편광을 조사하여, 편광을 기재를 투과시켜 조사하는 형식이어도 좋다. 또한, 상기 편광은, 실질적으로 평행광이면 바람직하다. 조사하는 편광의 파장은, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 광반응성 기가, 광에너지를 흡수할 수 있는 파장 영역의 것이 좋다. 구체적으로는, 파장 250∼400 nm 범위의 UV(자외선)가 특히 바람직하다. 상기 편광을 조사하는 광원으로는, 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가, 파장 313 nm의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다. 상기 광원으로부터의 광을, 적당한 편광층을 통과하여 조사함으로써, 편광 UV를 조사할 수 있다. 편광층으로는, 편광 필터, 글랜 톰슨 및, 글랜 테일러 등의 편광 프리즘, 및 와이어 그리드 타입의 편광층을 들 수 있다.
편광 조사는, 편광 조사를 행할 때에, 마스킹을 행하면, 배향의 방향이 상이한 복수의 영역(패턴)을, 배향막에 형성할 수 있다.
<그루브 배향막>
그루브(groove) 배향막은, 막표면에 요철 패턴 또는 복수의 그루브(홈)를 갖는 막이다. 등간격으로 늘어선 복수의 직선형 그루브를 갖는 막에 액정 분자를 놓은 경우, 그 홈을 따른 방향으로 액정 분자가 배향한다.
그루브 배향막을 얻는 방법으로는, 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통해 노광 후, 현상 및 린스 처리를 행하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판형의 원반에, 경화 전의 UV 경화 수지층을 형성하고, 수지층을 기재에 옮기고 나서 경화하는 방법, 및 기재 상에 형성한 경화 전의 UV 경화 수지의 막에, 복수의 홈을 갖는 롤형의 원반을 눌러 대어 요철을 형성하고, 그 후 경화하는 방법 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 일본 특허 공개 평6-34976호 공보 및, 일본 특허 공개 제2011-242743호 공보에 기재된 방법 등을 들 수 있다.
상기 방법 중에서도, 기재 상에 형성한 경화 전의 UV 경화 수지의 막에, 복수의 홈을 갖는 롤형의 원반을 눌러 대어 요철을 형성하고, 그 후 경화하는 방법이 바람직하다. 롤형 원반으로는, 내구성의 관점에서 스테인리스(SUS)강이 바람직하다.
UV 경화 수지로는, 단작용 아크릴레이트, 다작용 아크릴레이트 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다.
단작용 아크릴레이트란, 아크릴로일옥시기(CH2=CH-COO-) 및 메타크릴로일옥시기(CH2=C(CH3)-COO-)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기(이하, (메트)아크릴로일옥시기라고 기재하는 경우도 있음)를 1개 갖는 화합물이다. 또한, (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미한다.
(메트)아크릴로일옥시기를 1개 갖는 단작용 아크릴레이트로는, 탄소수 4 내지 16의 알킬(메트)아크릴레이트, 탄소수 2 내지 14의 β카르복시알킬(메트)아크릴레이트, 탄소수 2 내지 14의 알킬화페닐(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트 및 이소보닐(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
다작용 아크릴레이트란, 2 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물이고, (메트)아크릴로일옥시기를 2 내지 6개 갖는 화합물이 바람직하다.
(메트)아크릴로일옥시기를 2개 갖는 다작용 아크릴레이트로는, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트 ; 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트 ; 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트 ; 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르 ; 에톡시화비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트 ; 프로폭시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 ; 에톡시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 및 3-메틸펜탄디올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴로일옥시기를 3∼6개 갖는 다작용 아크릴레이트로는,
트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 ; 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트 ; 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트 ; 에톡시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 ; 프로폭시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 ; 펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트 ; 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트 ; 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리스리톨헵타(메트)아크릴레이트 ; 트리펜타에리스리톨옥타(메트)아크릴레이트 ;
펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 ; 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 ; 트리펜타에리스리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 ;
카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리스리톨헵타(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 트리펜타에리스리톨옥타(메트)아크릴레이트 ; 카프로락톤 변성 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 ; 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 및 카프로락톤 변성 트리펜타에리스리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물 등을 들 수 있다.
카프로락톤 변성이란, (메트)아크릴레이트 화합물의 알콜 유래 부위와 (메트)아크릴로일옥시기 사이에, 카프로락톤의 개환체, 또는, 개환 중합체가 도입되어 있는 것을 의미한다.
다작용 아크릴레이트는 시장에서 입수할 수 있다. 시판품으로는, A-DOD-N, A-HD-N, A-NOD-N, APG-100, APG-200, APG-400, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMPT, AD-TMP, ATM-35E, A-TMMT, A-9550, A-DPH, HD-N, NOD-N, NPG, TMPT[신나카무라 화학(주)], “ARONIX M-220”, 동 “M-325”, 동 “M-240”, 동 “M-270”, 동 “M-309”, 동 “M-310”, 동 “M-321”, 동 “M-350”, 동 “M-360”, 동 “M-305”, 동 “M-306”, 동 “M-450”, 동 “M-451”, 동 “M-408”, 동 “M-400”, 동 “M-402”, 동 “M-403”, 동 “M-404”, 동 “M-405”, 동 “M-406”[토아 합성(주)], “EBECRYL11”, 동 “145”, 동 “150”, 동 “40”, 동 “140”, 동 “180”, DPGDA, HDDA, TPGDA, HPNDA, PETIA, PETRA, TMPTA, TMPEOTA, DPHA, EBECRYL 시리즈[다이셀·사이테크(주)] 등을 들 수 있다.
그루브 배향막의 볼록부의 폭은, 배향 흐트러짐이 작은 배향을 얻기 위해, 0.05∼5 ㎛인 것이 바람직하고, 오목부의 폭은 0.1∼5 ㎛인 것이 바람직하고, 요철의 단차의 깊이는 2 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.01∼1 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
<광학 이방성 막 형성용 조성물>
광학 이방성 막 형성용 조성물은 액정성 재료를 포함한다. 또한, 용제, 레벨링제, 카이럴제, 중합 개시제, 중합 금지제, 광증감제 및 반응성 첨가제가 포함되어 있어도 좋다.
액정성 재료가 고분자 액정인 경우, 광학 이방성 막 형성용 조성물에는, 바람직하게는, 용제 및, 레벨링제가 포함된다.
액정성 재료가 액정 화합물인 경우, 광학 이방성 막 형성용 조성물에는, 바람직하게는, 용제, 레벨링제 및, 카이럴제 등이 포함된다. 액정성 화합물이 중합성 액정 화합물인 경우, 추가로, 중합 개시제가 포함되면 바람직하고, 추가로, 중합 금지제, 광증감제 및 반응성 첨가제가 포함되면 바람직하다.
<액정성 화합물>
액정성 화합물로는, 예컨대, 식(X)로 표시되는 기를 포함하는 화합물(이하 「화합물(X)」라고 하는 경우가 있음)을 들 수 있다. 중합성 액정 화합물로는, 예컨대, 화합물(X) 중, 중합성 기를 갖는 것을 들 수 있다. 액정성 화합물은 1종류여도 좋고, 상이한 구조의 화합물을 복수 조합해도 좋다.
P11-B11-E11-B12-A11-B13- (X)
[식(X) 중, P11은, 수소원자 또는 중합성 기를 나타낸다.
A11은, 2가의 지환식 탄화수소기 또는 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 상기 2가의 지환식 탄화수소기 및 2가의 방향족 탄화수소기의 수소원자는, 할로겐원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 탄소수 1∼6의 알킬기 및 상기 탄소수 1∼6 알콕시기의 수소원자는, 불소원자로 치환되어 있어도 좋다.
B11은, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR16-, -NR16-CO-, -CO-, -CS- 또는 단결합을 나타낸다. R16은, 수소원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
B12 및 B13은, 각각 독립적으로, -C≡C-, -CH=CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR16-, -NR16-C(=O)-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH- 또는 단결합을 나타낸다.
E11은, 탄소수 1∼12의 알칸디일기를 나타내고, 상기 알칸디일기의 수소원자는, 탄소수 1∼5의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 알콕시기의 수소원자는, 할로겐원자로 치환되어 있어도 좋다. 또한, 상기 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 좋다.]
A11로 표시되는 2가의 방향족 탄화수소기 및 2가의 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 3∼18의 범위인 것이 바람직하고, 5∼12의 범위인 것이 보다 바람직하고, 5 또는 6인 것이 특히 바람직하다. A11로는, 시클로헥산-1,4-디일기, 1,4-페닐렌기가 바람직하다.
E11로 표시되는 탄소수 1∼12의 알칸디일기로서는, 직쇄형의 탄소수 1∼12의 알칸디일기가 바람직하다. 탄소수 1∼12의 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 좋다.
구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기 및 도데칸-1,12-디일기 등의 탄소수 1∼12의 직쇄형 알칸디일기 ; -CH2-CH2-O-CH2-CH2-, -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 및 -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 등을 들 수 있다.
B11로서는, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-가 바람직하고, 그 중에서도, -CO-O-가 보다 바람직하다.
B12 및 B13으로는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-가 바람직하고, 그 중에서도, -O- 또는 -O-C(=O)-O-가 보다 바람직하다.
P11로 표시되는 중합성 기로서는, 광중합 반응을 하기 쉽다는 점에서, 라디칼 중합성 기 또는 양이온 중합성 기가 바람직하고, 취급이 용이한 데다가, 중합성 액정 화합물의 제조 자체도 용이한 점에서, 중합성 기는, 하기 식(P-11)∼식(P-15)로 표시되는 기 또는 스틸벤기인 것이 바람직하다.
Figure 112015006426626-pat00001
R17∼R21은 각각 독립적으로, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 수소원자를 나타낸다.]
식(P-11)∼식(P-13)으로 표시되는 기의 구체예로는, 하기 식(P-16)∼식(P-20)으로 표시되는 기 또는 p-스틸벤기를 들 수 있다.
Figure 112015006426626-pat00002
P11은, 식(P-14)∼식(P-20)으로 표시되는 기인 것이 바람직하고, 비닐기, 에폭시기 또는 옥세타닐기가 보다 바람직하다.
P11-B11-로 표시되는 기가, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기인 것이 더욱 바람직하다.
화합물(X)로는, 식(I), 식(II), 식(III), 식(IV), 식(V) 또는 식(VI)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (II)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (III)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (IV)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VI)
(식 중,
A12∼A14는 각각 독립적으로, A11과 동일한 의미이고, B14∼B16은 각각 독립적으로, B12와 동일한 의미이고, B17은, B11과 동일한 의미이고, E12는, E11과 동일한 의미이다.
F11은, 수소원자, 탄소수 1∼13의 알킬기, 탄소수 1∼13의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기, 디메틸아미노기, 히드록시기, 메틸올기, 포르밀기, 술포기(-SO3H), 카르복시기, 탄소수 1∼10의 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 알콕시기를 구성하는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 좋다.
P12는, 수소원자 또는 중합성 기를 나타내고, 바람직하게는 중합성 기이다. 중합성 기로는, 상기 P11과 동일한 중합성 기를 들 수 있다. P11 및 P12는, 적어도 한쪽이 중합성 기이다.)
액정 화합물의 구체예로는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물, 일본 특허 공개 제2010-31223호 공보, 일본 특허 공개 제2010-270108호 공보, 일본 특허 공개 제2011-6360호 공보 및 일본 특허 공개 제2011-207765호 공보에 기재된 화합물을 들 수 있다.
화합물(X)의 구체예로는, 하기 식(I-1)∼식(I-4), 식(II-1)∼식(II-4), 식(III-1)∼식(III-26), 식(IV-1)∼식(IV-26), 식(V-1)∼식(V-2) 및 식(VI-1)∼식(VI-6)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 또, 하기 식 중, k1 및 k2는, 각각 독립적으로, 2∼12의 정수를 나타낸다. 하기 식(I-1)∼식(I-4), 식(II-1)∼식(II-4), 식(III-1)∼식(III-26), 식(IV-1)∼식(IV-26), 식(V-1)∼식(V-2) 및 식(VI-1)∼식(VI-6)으로 표시되는 화합물(X)는, 그 합성 용이성 또는 입수 용이성의 면에서 바람직하다.
Figure 112015006426626-pat00003
Figure 112015006426626-pat00004
Figure 112015006426626-pat00005
Figure 112015006426626-pat00006
Figure 112015006426626-pat00007
Figure 112015006426626-pat00008
Figure 112015006426626-pat00009
Figure 112015006426626-pat00010
Figure 112015006426626-pat00011
광학 이방성 막 형성용 조성물에서의 액정성 재료의 함유량은, 광학 이방성 막 형성용 조성물 100 질량부에 대하여, 통상 5 질량부∼50 질량부이고, 바람직하게는 10 질량부∼30 질량부이다.
<용제>
용제로서는, 액정성 재료 등의 광학 이방성 막 형성용 조성물의 구성 성분을 용해시킬 수 있는 유기 용제가 바람직하고, 액정성 재료 등의 광학 이방성 막 형성용 조성물의 구성 성분을 용해시킬 수 있는 용제로서, 또한, 액정성 재료가 중합성 기를 갖는 경우에는, 액정성 재료의 중합 반응에 불활성인 용제가 보다 바람직하다.
구체적으로는, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알콜, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 페놀 등의 알콜 용제 ; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산에틸, 프로피온산부틸, 아세트산2-메톡시에틸, 아세트산2-에톡시에틸, 아세트산이소아밀, 아세토아세트산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸 등의 에스테르 용제 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, N-메틸-2-피롤리디논 등의 케톤 용제 ; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 비염소화 지방족 탄화수소 용제 ; 톨루엔, 크실렌 등의 비염소화 방향족 탄화수소 용제 ; 아세토니트릴 등의 니트릴 용제 ; 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제 ; 및 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제를 들 수 있다. 2종 이상의 유기 용제를 조합하여 이용해도 좋다.
바람직하게는, 알콜 용제, 에스테르 용제, 케톤 용제, 비염소화 지방족 탄화수소 용제 및 비염소화 방향족 탄화수소 용제이다.
용제의 함유량은, 고형분 100 질량부에 대하여, 10∼10000 질량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100∼5000 질량부이다. 광학 이방성 막 형성용 조성물 중의 고형분 농도는, 통상 1∼90 질량%이고, 바람직하게는 2∼50 질량%이고, 보다 바람직하게는 5∼50 질량%이다. “고형분”이란, 광학 이방성 막 형성용 조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계를 의미한다.
<레벨링제>
레벨링제로는, 유기 변성 실리콘오일계, 폴리아크릴레이트계 및 퍼플루오로알킬계의 레벨링제를 들 수 있다. 구체적으로는, DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, ST80PA, ST86PA, SH8400, SH8700, FZ2123(이상, 전부 도오레·다우코닝(주) 제조), KP321, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341, X22-161A, KF6001(이상, 전부 신에츠 화학 공업(주) 제조), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460(이상, 전부 모멘티브 퍼포먼스 머트리얼즈 재팬 합동회사 제조), 플로리너트(fluorinert)(등록 상표) FC-72, 동 FC-40, 동 FC-43, 동 FC-3283(이상, 전부 스미토모 스리엠(주) 제조), 메가팍(등록 상표) R-08, 동 R-30, 동 R-90, 동 F-410, 동 F-411, 동 F-443, 동 F-445, 동 F-470, 동 F-477, 동 F-479, 동 F-482, 동 F-483(이상, 전부 DIC(주) 제조), 에프톱(상품명) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352(이상, 전부 미츠비시 머트리얼 전자 화성(주) 제조), 사프론(등록 상표) S-381, 동 S-382, 동 S-383, 동 S-393, 동 SC-101, 동 SC-105, KH-40, SA-100(이상, 전부 AGC 세이미 케미컬(주) 제조), 상품명 E1830, 동 E5844((주)다이킨 파인케미컬 연구소 제조), BM-1000, BM-1100, BYK-352, BYK-353 및 BYK-361N(전부 상품명 : BM Chemie사 제조)을 들 수 있다. 2종 이상의 레벨링제를 조합해도 좋다.
레벨링제에 의해, 보다 평활한 광학 이방성 막이 얻어진다. 레벨링제는, 광학 이방성 막 형성용 조성물의 유동성을 제어하거나, 중합성 액정 화합물의 가교 밀도를 조정하거나 할 수 있다. 레벨링제의 함유량은, 액정성 재료 100 질량부에 대하여, 통상 0.1 질량부∼30 질량부이고, 바람직하게는 0.1 질량부∼10 질량부이다.
<카이럴제>
카이럴제로는, 공지된 카이럴제(예컨대, 액정 디바이스 핸드북, 제3장 4-3항, TN, STN용 카이럴제, 199페이지, 일본 학술 진흥회 제142 위원회편, 1989에 기재)를 들 수 있다.
카이럴제는, 일반적으로 비대칭 탄소원자를 포함하지만, 비대칭 탄소원자를 포함하지 않는 축성 비대칭 화합물 혹은 면성 비대칭 화합물도 카이럴제로서 이용할 수 있다. 축성 비대칭 화합물 또는 면성 비대칭 화합물로는, 비나프틸, 헬리센, 파라시클로판 및 이들의 유도체를 들 수 있다.
구체적으로는, 일본 특허 공개 제2007-269640호 공보, 일본 특허 공개 제2007-269639호 공보, 일본 특허 공개 제2007-176870호 공보, 일본 특허 공개 제2003-137887호 공보, 일본 특허 공표 제2000-515496호 공보, 일본 특허 공개 제2007-169178호 공보 및 일본 특허 공표 평9-506088호 공보에 기재되어 있는 것과 같은 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 BASF 재팬(주) 제조의 paliocolor(등록 상표) LC756이다.
카이럴제의 함유량은, 액정성 재료 100 질량부에 대하여, 통상 0.1 질량부∼30 질량부이고, 바람직하게는 1.0 질량부∼25 질량부이다.
<중합 개시제>
중합 개시제로서는, 광중합 개시제가 바람직하고, 광조사에 의해 라디칼을 발생하는 광중합 개시제가 바람직하다.
광중합 개시제로는, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 벤질케탈 화합물, α-히드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, α-아세토페논 화합물, 트리아진 화합물, 요오드늄염 및 술포늄염을 들 수 있다. 구체적으로는, 이르가큐어(Irgacure)(등록 상표) 907, 이르가큐어 184, 이르가큐어 651, 이르가큐어 819, 이르가큐어 250, 이르가큐어 369(이상, 전부 치바·재팬 주식회사 제조), 세이크올(등록 상표) BZ, 세이크올 Z, 세이크올 BEE(이상, 전부 세이코 화학 주식회사 제조), 카야큐어(kayacure) BP100(닛폰 카야쿠 주식회사 제조), 카야큐어(등록 상표) UVI-6992(다우사 제조), 아데카옵토마(등록 상표) SP-152, 아데카옵토마 SP-170(이상, 전부 주식회사 ADEKA 제조), TAZ-A, TAZ-PP(이상, 니혼 시이베르 헤그너사 제조) 및 TAZ-104(산와 케미컬사 제조) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, α-아세토페논 화합물이 바람직하고, α-아세토페논 화합물로는, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온 및 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온을 들 수 있다. α-아세토페논 화합물의 시판품으로는, 이르가큐어 369, 379EG, 907(이상, BASF 재팬(주) 제조) 및 세이크올 BEE(세이코 화학사 제조) 등을 들 수 있다.
중합 개시제의 함유량은, 액정성 재료 100 질량부에 대하여, 통상 0.1 질량부∼30 질량부이고, 바람직하게는 0.5 질량부∼10 질량부이다. 상기 범위 내이면, 액정성 재료의 액정 배향을 잘 흐트러지게 하지 않는다.
<중합 금지제>
중합 금지제로는, 히드로퀴논 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 히드로퀴논류 ; 부틸카테콜 등의 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 카테콜류 ; 피로갈롤류, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시라디칼 등의 라디칼 보충제 ; 티오페놀류 ; β-나프틸아민류 및 β-나프톨류를 들 수 있다.
광학 이방성 막 형성용 조성물에서의 중합 금지제의 함유량은, 액정성 재료 100 질량부에 대하여, 통상 0.1 질량부∼30 질량부이고, 바람직하게는 0.5 질량부∼10 질량부이다. 상기 범위 내이면 액정성 재료의 액정 배향을 잘 혼란시키지 않는다.
<광증감제>
광증감제로는, 크산톤, 티오크산톤 등의 크산톤류 ; 안트라센 및 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 안트라센류 ; 페노티아진 ; 루브렌을 들 수 있다.
광증감제의 함유량은, 액정성 재료 100 질량부에 대하여, 통상 0.1 질량부∼30 질량부이고, 바람직하게는 0.5 질량부∼10 질량부이다.
<반응성 첨가제>
반응성 첨가제로서는, 그 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합과 활성수소 반응성 기를 갖는 것이 바람직하다. 또, 여기서 말하는 「활성수소 반응성 기」란, 카르복실기(-COOH), 수산기(-OH), 아미노기(-NH2) 등의 활성수소를 갖는 기에 대하여 반응성을 갖는 기를 의미하고, 에폭시기, 옥사졸린기, 카르보디이미드기, 아지리딘기, 이미드기, 이소시아네이트기, 티오이소시아네이트기, 무수말레산기 등이 그 대표예이다.
반응성 첨가제에 있어서, 활성수소 반응성 기는 적어도 2개 존재하면 바람직하고, 이 경우, 복수 존재하는 활성수소 반응성 기는, 서로 독립적으로 동일해도 좋고, 상이한 것이어도 좋다.
반응성 첨가제가 갖는 탄소-탄소 불포화 결합은, 탄소-탄소 이중 결합, 탄소-탄소 삼중 결합 또는, 이들의 조합이어도 좋고, 바람직하게는 탄소-탄소 이중 결합이다. 그 중에서도, 반응성 첨가제가, 비닐기 및/또는 (메트)아크릴기를 포함하면 바람직하다. 또한, 활성수소 반응성 기가, 에폭시기, 글리시딜기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 아크릴기와, 이소시아네이트기를 갖는 반응성 첨가제가 특히 바람직하다.
반응성 첨가제의 구체예로는, 메타크릴옥시글리시딜에테르나 아크릴옥시글리시딜에테르 등의, (메트)아크릴기와 에폭시기를 갖는 화합물 ; 옥세탄아크릴레이트나 옥세탄메타크릴레이트 등의, (메트)아크릴기와 옥세탄기를 갖는 화합물 ; 락톤아크릴레이트나 락톤메타크릴레이트 등의, (메트)아크릴기와 락톤기를 갖는 화합물 ; 비닐옥사졸린이나 이소프로페닐옥사졸린 등의, 비닐기와 옥사졸린기를 갖는 화합물 ; 이소시아네이트메틸아크릴레이트, 이소시아네이트메틸메타크릴레이트, 2-이소시아네이트에틸아크릴레이트 및 2-이소시아네이트에틸메타크릴레이트 등의, (메트)아크릴기와 이소시아네이트기를 갖는 화합물의 올리고머 등을 들 수 있다. 또한, 메타크릴산무수물, 아크릴산무수물, 무수말레산 및 비닐무수말레산 등의, 비닐기나 비닐렌기와 산무수물을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 메타크릴옥시글리시딜에테르, 아크릴옥시글리시딜에테르, 이소시아네이트메틸아크릴레이트, 이소시아네이트메틸메타크릴레이트, 비닐옥사졸린, 2-이소시아네이트에틸아크릴레이트, 2-이소시아네이트에틸메타크릴레이트 및 상기한 올리고머가 바람직하고, 이소시아네이트메틸아크릴레이트, 2-이소시아네이트에틸아크릴레이트 및 상기한 올리고머가 특히 바람직하다.
이 바람직한 반응성 첨가제는, 하기 식(Y)로 표시된다.
Figure 112015006426626-pat00012
[식(Y) 중,
n은 1∼10까지의 정수를 나타내고, R1'는, 탄소수 2∼20의 2가의 지방족 또는 지환식 탄화수소기, 혹은 탄소수 5∼20의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 각 반복 단위에 있는 2개의 R2'는, 한쪽이 -NH-이고, 다른쪽이 >N-C(=O)-R3'로 표시되는 기이다. R3'는, 수산기 또는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기를 나타낸다.
n이 2 이상인 경우에는, 복수개 존재하는 >N-C(=O)-R3'기 중, 적어도 하나의 R3'는 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 기이다.]
상기 식(Y)로 표시되는 반응성 첨가제 중에서도, 하기 식(YY)로 표시되는 화합물(이하, 경우에 따라 「화합물(YY)」라고 함)이 특히 바람직하다(또, n은 상기와 동일한 의미임).
Figure 112015006426626-pat00013
화합물(YY)에는, 시판품을 그대로 또는 필요에 따라 정제하여 이용할 수 있다. 시판품으로는, 예컨대, Laromer(등록 상표) LR-9000(BASF사 제조) 등을 들 수 있다.
반응성 첨가제의 함유량은, 액정성 재료 100 질량부에 대하여, 통상 0.1 질량부∼30 질량부이고, 바람직하게는 0.1 질량부∼5 질량부이다.
액정성 재료의 액정 배향의 상태는, 바람직하게는, 수직 배향이다. 수직 배향이란, 기재면을 기준으로 한 액정성 재료의 장축의 배향 방향을 나타낸다. 수직이란 기재면에 대하여 수직인 방향으로 액정성 재료의 장축을 갖는 것이고, 여기서 수직이란, 90°±20°를 말한다.
광학 이방성 막에 포함되는 액정성 재료가 네마틱상 등의 액정상을 나타내는 경우에는, 광학 이방성 막은 모노도메인 배향에 의한 복굴절성을 갖는다.
<도포>
광학 이방성 막 형성용 조성물을 기재 또는, 기재의 표면에 형성된 고분자 수지막에 도포하는 방법으로는, 압출 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, CAP 코팅법, 잉크젯법, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 등을 들 수 있다. 또한, 딥 코터, 바 코터, 스핀 코터 등의 코터를 이용하여 도포하는 방법 등도 들 수 있다. 그 중에서도, 롤투롤 형식으로 연속적으로 도포할 수 있는 점에서, CAP 코팅법, 잉크젯법, 딥 코팅법, 슬릿 코팅법, 다이 코팅법 및 바 코터에 의한 도포 방법이 바람직하다. 롤투롤 형식으로 도포하는 경우, 기재에 고분자 수지막을 형성하고, 또한 얻어진 고분자 수지막 상에 광학 이방성 막을 연속적으로 형성할 수도 있다.
광학 이방성 막 형성용 조성물에 용제가 포함되는 경우에는, 계속해서 건조시켜, 용제를 제거한다. 건조 방법으로는, 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조, 감압 건조 및 이들을 조합한 방법을 들 수 있다. 그 중에서도, 자연 건조 또는 가열 건조가 바람직하다. 건조 온도는, 0℃∼250℃의 범위가 바람직하고, 50℃∼220℃의 범위가 보다 바람직하고, 60℃∼170℃의 범위가 더욱 바람직하다. 건조 시간은, 10초간∼60분간이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30초간∼30분간이다.
도포된 광학 이방성 막 형성용 조성물을 건조시켜, 용제를 제거하고, 액정상에 전이시킴으로써, 상기 광학 이방성 막 형성용 조성물에 포함되는 액정성 재료는, 통상, 배향한다.
배향한 액정성 재료를 그대로 광학 이방성 막으로서 이용해도 좋지만, 중합성 액정 화합물 등과 같이 액정성 재료가 중합성 기를 갖는 경우에는, 액정성 재료를 중합하여 경화시키는 것이 바람직하다. 액정성 재료가 중합된 광학 이방성 막은, 액정성 재료의 배향이 고정화되기 때문에, 열에 의한 복굴절 변화의 영향을 잘 받지 않는다.
중합성 기를 갖는 액정성 재료를 중합하는 방법으로는, 광중합법이 바람직하다. 광중합법에 의하면, 저온에서 중합을 실시할 수 있기 때문에, 내열성의 관점에서, 이용하는 수지 장척 필름 기재의 선택폭이 넓어진다. 광중합 반응은, 통상, 가시광, 자외광 또는 레이저광을 조사함으로써 행해지고, 바람직하게는 자외광을 조사함으로써 행해진다.
광조사는, 도포된 광학 이방성 막 형성용 조성물이 용제를 포함하는 경우에는, 상기 용제를 건조시켜 제거한 후에 행하는 것이 바람직하다. 건조는, 광조사와 병행하여 행해도 좋지만, 광조사를 행하기 전에, 대부분의 용제를 제거해 두는 것이 바람직하다.
광을 조사하는 시간은, 통상 5초∼10분이고, 바람직하게는 5초∼2분이고, 보다 바람직하게는 5초∼1분이고, 더욱 바람직하게는 5초∼30초이다. 상기 범위이면, 투명성이 우수한 광학 이방성 막을 얻을 수 있다.
상기 광학 이방성 필름의 제조방법은, 롤투롤 등의 연속 공정에 적용할 수 있고, 상기 제조 방법은 다른 부재와의 접합도 용이해지기 때문에, 생산성이 우수하다. 또한, 이렇게 하여 얻어지는 광학 이방성 필름은, 광학 이방성 막이 얇기 때문에, 특히, 중소형의 표시 장치에 알맞은 것이다.
본 광학 이방성 필름은, 편광판을 구성하는 부재로서 유용하다. 상기 편광판은 바람직하게는, 본 광학 이방성 필름과 편광 소자를 갖는다. 상기 편광판에 포함되는, 본 광학 이방성 필름의 기재의 nx의 방향과, 편광자의 투과축의 방향은, 바람직하게는 직교하고 있다.
본 광학 이방성 필름과 편광 소자를 갖는 편광판(이하, 본 편광판이라고 하는 경우가 있음)의 구체예로는, 도 1의 (a) 및 도 1의 (b)에 도시된 구성을 들 수 있다. 도 1의 (a)에 도시된 본 편광판(4a)은, 본 광학 이방성 필름(1)과, 편광 소자(2)가, 직접 적층된 편광판이고, 도 1의 (b)에 도시된 본 편광판(4b)은, 본 광학 이방성 필름(1)과 편광 소자(2)가, 접착층(3)을 통해 접합된 편광판이다. 접착층(3)에서의 “접착”이란, 접착제 및/또는 점착제를 이용한 접착의 총칭을 의미한다.
편광 소자(2)의 구체예로는, 도 2의 (a) 및 도 2의 (b)에 도시된 구성을 들 수 있다. 도 2의 (a)에 도시된 편광 소자(2a)는, 보호 필름(5), 접착제층(6), 편광자(7), 접착제층(6') 및 보호 필름(5')을 이 순서로 접합한 편광 소자이고, 도 2의 (b)에 도시된 편광 소자(2b)는, 보호 필름(5), 접착제층(6) 및 편광자(7)를 이 순서로 접합한 편광 소자이다.
편광자(7)는, 편광 기능을 갖는 것이면 된다. 편광자(7)로는, 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름, 및 흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 형성된 필름 등을 들 수 있다. 흡수 이방성을 갖는 색소로는, 요오드 및 아조 화합물 등의 2색성 색소를 들 수 있다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름으로는, 폴리비닐알콜계 필름에 2색성 색소를 흡착시키고 연신한 필름 및, 폴리비닐알콜계 필름을 연신하고 2색성 색소를 흡착시킨 필름 등을 들 수 있다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 형성된 필름으로는, 액정성을 갖는 2색성 색소를 포함하는 조성물 또는, 2색성 색소와 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 도포하여 얻어지는 필름 등을 들 수 있다.
상기 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름으로는, 구체적으로는, 일본 특허 제3708062호, 일본 특허 제4432487호 등에 기재된 편광판을 들 수 있다.
상기 흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 형성된 필름으로는, 구체적으로는, 일본 특허 공개 제2012-33249호 공보 등에 기재된 편광 필름을 들 수 있다.
보호 필름(5 및 5')은, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리메타크릴산에스테르 필름, 폴리아크릴산에스테르 필름, 셀룰로오스에스테르 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리술폰 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리에테르케톤 필름, 폴리페닐렌술피드 필름 및 폴리페닐렌옥사이드 필름을 들 수 있다.
접착제층(6) 및 접착제층(6')을 형성하는 접착제는, 투명성이 높고, 내열성이 우수한 접착제인 것이 바람직하다. 그와 같은 접착제로는, 아크릴계 접착제, 에폭시계 접착제 및 우레탄계 접착제를 들 수 있다.
상기 편광 소자(2)를 이용한 본 편광판으로는, 도 3의 (a)∼도 3의 (c)에 도시된 편광판을 들 수 있다. 도 3의 (a)에 도시된 편광판(4c)은, 보호 필름(5), 접착제층(6), 편광자(7), 접착제층(6'), 보호 필름(5'), 접착층(3) 및 본 광학 이방성 필름(1)을 이 순서로 적층한 편광판이고, 도 3의 (b)에 도시된 편광판(4d)은, 보호 필름(5), 접착제층(6), 편광자(7), 접착층(3) 및 본 광학 이방성 필름(1)을 이 순서로 적층한 편광판이다. 본 편광판은, 편광판(4c) 또는 편광판(4d)의 구성이어도 좋지만, 도 3의 (c)에 도시된 편광판(4e)과 같이, 보호 필름(5), 접착제층(6), 편광자(7), 접착제층(6') 및 본 광학 이방성 필름(1)의 순서로 적층한 편광판인 것이, 광학 이방성 필름(1)과 편광자(7)가 접착제층(6')에 의해 강고히 접착되고, 적층체의 내구성이 향상되는 점에서 바람직하다.
본 광학 이방성 필름을 갖는 편광판의 편광도는, 바람직하게는 99.9% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.97% 이상이다.
다음으로, 본 광학 이방성 필름(1)의 적층 양태에 관해 설명한다. 본 광학 이방성 필름(1)의 구성으로는, 구체적으로는 도 4의 (a) 및 도 4의 (b)에 도시된 구성을 들 수 있다. 도 4의 (a)에 도시된 본 광학 이방성 필름(1a)은, 기재(8)와 본 광학 이방성 막(9)을 직접 적층한 구성으로 이루어지고, 도 4의 (b)에 도시된 본 광학 이방성 필름(1b)은, 기재(8), 고분자 수지막(10) 및 본 광학 이방성 막(9)을 이 순서로 적층한 광학 이방성 필름이다.
본 광학 이방성 필름(1)의 적층 양태의 상세를 근거로 하여, 본 편광판의 구성을 더욱 설명한다. 구체예로는, 도 5의 (a)∼도 5의 (d)에 도시된 편광판을 들 수 있다. 도 5의 (a)에 도시된 편광판(4f)은, 편광 소자(2a), 접착층(3), 본 광학 이방성 막(9) 및 기재(8)를 이 순서로 적층한 구성으로 이루어지고, 도 5의 (b)에 도시된 편광판(4g)은, 편광 소자(2a), 접착층(3), 본 광학 이방성 막(9), 고분자 수지막(10) 및 기재(8)를 이 순서로 적층한 편광판이다. 도 5의 (c)에 도시된 편광판(4h)은, 편광 소자(2a), 접착층(3), 기재(8) 및 본 광학 이방성 막(9)을 이 순서로 적층한 구성으로 이루어지고, 도 5의 (d)에 도시된 편광판(4i)은, 편광 소자(2a), 접착층(3), 기재(8), 고분자 수지막(10) 및 본 광학 이방성 막(9)을 이 순서로 적층한 편광판이다.
또한, 본 편광판의 구체예로는, 도 5의 (e)∼도 5의 (h)에 도시된 편광판을 들 수 있다. 도 5의 (e)에 도시된 편광판(4j)은, 편광 소자(2b), 접착층(3), 본 광학 이방성 막(9) 및 기재(8)를 이 순서로 적층한 구성으로 이루어지고, 도 5의 (f)에 도시된 편광판(4k)은, 편광 소자(2b), 접착층(3), 본 광학 이방성 막(9), 고분자 수지막(10) 및 기재(8)를 이 순서로 적층한 편광판이다. 도 5의 (g)에 도시된 편광판(4l)은, 편광 소자(2b), 접착층(3), 기재(8) 및 본 광학 이방성 막(9)을 이 순서로 적층한 구성으로 이루어지고, 도 5의 (h)에 도시된 편광판(4m)은, 편광 소자(2b), 접착층(3), 기재(8), 고분자 수지막(10) 및 본 광학 이방성 막(9)을 이 순서로 적층한 편광판이다. 다만 여기서는, 편광 소자(2b)가 갖는 편광자(7)와, 접착층(3)이 접한다.
본 편광판의 구성에 있어서, 바람직한 구성으로서는, 도 5의 (i)에 도시된 편광판(4n)과 같이, 편광 소자(2b), 접착제층(6), 본 광학 이방성 막(9) 및 기재(8)를 이 순서로 적층한 구성, 혹은 도 5의 (j)에 도시된 편광판(4o)과 같이, 편광 소자(2b), 접착제층(6), 본 광학 이방성 막(9), 고분자 수지막(10) 및 기재(8)를 이 순서로 적층한 구성을 들 수 있다. 다만 여기서는, 편광 소자(2b)가 갖는 편광자(7)와, 접착제층(6)이 접한다. 편광 소자(2b)와 본 광학 이방성 막(9)을, 접착제층(6)을 통해 접착함으로써, 광학 이방성 막을 구비한 편광판의 내구성이 향상되는 경향이 있는 점에서 바람직하다.
본 편광판은 표시 장치에 이용할 수 있다. 상기 표시 장치로는, 본 편광판과 액정 패널이 접합된 액정 패널을 구비하는 액정 표시 장치 등을 들 수 있다. 본 편광판을 구비한 표시 장치의 실시형태로서, 액정 표시 장치의 구성에 관해 설명한다.
본 편광판을 갖는 표시 장치에 관해, 도 6을 이용하여 설명한다. 바람직한 구성으로서는, 예컨대, 도 6의 (a)와 같이, 도 5의 (i)의 구성으로 나타내어지는 본 편광판(4n)(편광 소자(2b), 접착제층(6), 본 광학 이방성 막(9) 및 기재(8))의 기재(8)측에 접착층(3)을 적층하고, 다음으로 액정셀의 보호막(12a)에 접합한다. 또한, 본 편광판(4n)을 접합하지 않은 쪽의 액정셀의 보호막(12b)에, 점착제(3')를 이용하여 편광 소자(2a)를 접합한다. 여기서, 편광 소자(2a)의 투과축 방향(13b)과 편광 소자(2b)의 투과축 방향(13a)은 직교의 관계이다. 이들 액정 표시 장치에서는, 도시하지 않은 전극을 이용하여, 액정 패널에 전압을 인가함으로써, 액정 분자의 액정 배향이 변화되어, 흑백 표시를 실현할 수 있다.
본 편광판을 갖는 표시 장치의 다른 예로서, 도 6의 (b)의 구성을 들 수 있다. 도 6의 (b)에 도시한 표시 장치는, 기재(8)와 본 광학 이방성 막(9) 사이에 고분자 수지막(10)을 함유한다.
도 6의 (c)는, 도 6의 (a) 및 도 6의 (b)에서의 nx, ny 및 nz의 방향을 나타내고 있다.
본 광학 이방성 필름은, 복수장 적층해도 좋고, 다른 필름과 조합해도 좋다. 본 광학 이방성 필름을 복수장 적층하거나, 또는, 본 광학 이방성 필름과 다른 필름을 조합하면, 시야각 보상 필름, 시야각 확대 필름, 반사 방지 필름, 편광판, 원 편광판, 타원 편광판 또는 휘도 향상 필름으로서 이용할 수 있다.
본 광학 이방성 필름은, 액정성 재료의 배향 상태에 의해 광학 특성을 변화시킬 수 있고, VA(vertical alignment) 모드, IPS(in-plane switching) 모드, OCB(optically compensated bend) 모드, TN(twisted nematic) 모드, STN(super twisted nematic) 모드 등의 액정 표시 장치용의 보상 필름으로서 사용할 수 있고, 그 중에서도, VA 모드, IPS 모드의 액정 표시 장치용의 보상 필름으로서 유용하고, IPS 모드의 액정 표시 장치용의 보상 필름으로서 바람직하게 이용된다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 또, 예 중의 「%」 및 「부」는, 특별한 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다.
[배향성 폴리머 조성물의 조제]
배향성 폴리머 조성물(A)의 조성을 표 1에 나타낸다. 시판되는 배향성 폴리머인 산에바 SE-610(닛산 화학 공업 주식회사 제조)에 N-메틸-2-피롤리돈, 2-부톡시에탄올 및 에틸시클로헥산을 첨가하여 배향성 폴리머 조성물(A)를 조제했다.
Figure 112015006426626-pat00014
표 1에서의 괄호 안의 값은, 조제한 조성물의 전체량에 대한 각 성분의 함유 비율을 나타낸다.
SE-610에 관해서는, 고형분량을 납품 사양서에 기재된 농도로부터 환산했다.
[광학 이방성 막 형성용 조성물의 조제]
광학 이방성 막 형성용 조성물(1)의 조성을 표 2에 나타낸다. 각 성분을 혼합하고, 얻어진 용액을 80℃에서 1시간 교반한 후, 실온까지 냉각시켜 조제했다.
Figure 112015006426626-pat00015
표 2에서의 괄호 안의 값은, 조제한 조성물의 전체량에 대한 각 성분의 함유 비율을 나타낸다.
표 2에서의 LR-9000은, BASF 재팬사 제조의 Laromer(등록 상표) LR-9000을, Irg907은, BASF 재팬사 제조의 이르가큐어 907을, BYK-361N은, 빅케미 재팬 제조의 레벨링제를, LC242는, 하기 식으로 표시되는 BASF사 제조의 액정 화합물을, PGMEA는, 프로필렌글리콜1-모노메틸에테르2-아세테이트를 나타낸다.
Figure 112015006426626-pat00016
제조예 1[본 발명의 광학 이방성 막(1)의 제조예]
파장 550 nm에서의 위상차 값이 대략 0인 시클로올레핀 폴리머 필름(COP-A)(ZF-14, 닛폰 제온 주식회사 제조)의 표면을, 코로나 처리 장치를 이용하여 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건에서 1회 처리했다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 배향성 폴리머 조성물(A)를, 바 코터를 이용하여 도포하고, 90℃에서 1분간 건조시켜, 배향막을 형성했다. 얻어진 배향막의 막두께를 레이저 현미경(올림푸스 주식회사 제조, LEXT)으로 측정한 바 70 nm였다. 또한, 얻어진 배향막의 파장 550 nm에서의 위상차 값을 측정(측정기 : 오지 계측 기기사 제조, KOBRA-WR)한 바, R0(550)=0.7 nm였다. 또, 상기 COP-A의 파장 550 nm에서의 위상차 값은 대략 0이기 때문에, 상기 위상차 값에는 영향을 주지 않는다. 계속해서, 얻어진 배향막 상에, 광학 이방성 막 형성용 조성물(1)을, 바 코터를 이용하여 도포하고, 90℃에서 1분간 건조시키고, 고압 수은 램프(우시오 전기 주식회사 제조, 유니큐아 VB-15201BY-A)를 이용하여 자외선을 조사(질소 분위기하, 파장 365 nm에서의 적산 광량 : 1000 mJ/cm2)함으로써 광학 이방성 막(1)을 형성했다. 얻어진 광학 이방성 막(1)의 막두께를 레이저 현미경으로 측정한 바 534 nm였다. 또한, 얻어진 광학 이방성 막(1)의 파장 550 nm에서의 위상차 값을, 입사각을 변화시키면서 측정한 바 R0(550)=1.3 nm, R40(550)=21.9 nm, Rth(550)=-84 nm였다. 또한, 광학 이방성 막(1)의 평균 굴절률 n0을 1.58로 하고, 하기 식(21)∼(23)을 이용하여 각 굴절률을 구한 바, nx=1.526, ny=1.523, nz=1.691이었다. 즉, 광학 이방성 막(1)은 nz>nx>ny로 표시되는 굴절률의 관계를 갖는다.
R0=(nx-ny)×d (21)
R40=(nx-ny')×d/cos(φ) (22)
(nx+ny+nz)/3=n0 (23)
실시예 1[본 발명의 광학 이방성 필름(1)의 제조예]
COP-A 대신에, COP-B(시클로올레핀 폴리머 필름, R0(550)=117.8 nm, R40(550)=101.0 nm, nx=1.583, ny=1.579, nz=1.578)를 이용한 것 이외에는, 제조예 1과 동일하게 하여 광학 이방성 막(2)를 형성하고 광학 이방성 필름(1)을 얻었다. 얻어진 광학 이방성 막(2)의 막두께를 레이저 현미경으로 측정한 바 597 nm였다. 얻어진 광학 이방성 필름(1)의 위상차 값을 측정하고, 또한, 광학 이방성 필름(1)의 평균 굴절률을 1.58로 했을 때의 각 굴절률을 산출했다. 결과를 표 3 및 표 4에 나타낸다.
실시예 2[본 발명의 광학 이방성 필름(2)의 제조예]
COP-A 대신에, COP-C(시클로올레핀 폴리머 필름, R0(550)=116.0 nm, R40(550)=99.5 nm, nx=1.583, ny=1.579, nz=1.578))를 이용한 것 이외에는, 제조예 1과 동일하게 하여 광학 이방성 막(3)을 형성하고 광학 이방성 필름(2)를 얻었다. 얻어진 광학 이방성 막(3)의 막두께를 레이저 현미경으로 측정한 바 513 nm였다. 얻어진 광학 이방성 필름(2)의 위상차 값을 측정하고, 또한, 광학 이방성 필름(2)의 평균 굴절률을 1.58로 했을 때의 각 굴절률을 산출했다. 결과를 표 3 및 표 4에 나타낸다.
[흑표시의 확인]
실시예 3
광학 이방성 필름(1)의 광학 이방성 막 면에, 점착제와 편광 소자를 이 순서로 적층했다. 이 때, 편광 소자의 투과축과, 광학 이방성 필름(1)이 갖는 기재(COP-B)의 지상축이 대략 직교하도록 적층했다. 얻어진 광학 이방성 필름을 구비한 편광 소자(편광판)를, 시인측 편광판을 제거한 i-Pad(등록 상표)(애플사 제조, IPS 모드의 액정 표시 장치)의 시인측에 접합하고, 흑표시시켰을 때의 누광을, 상기 편광자의 투과축에 대하여 방위각 45°의 방향이며, 또한, 패널 표면에 대하여 앙각 45°의 방향으로부터 눈으로 확인했다. 결과를 표 5에 나타낸다.
실시예 4
광학 이방성 필름(1) 대신에, 광학 이방성 필름(2)를 이용한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 흑표시시켰을 때의 누광을 확인했다. 결과를 표 5에 나타낸다.
참고예 1
광학 이방성 필름(1) 대신에, COP-D(시클로올레핀 폴리머 필름, R0(450)=139 nm, R0(550)=137.8 nm, R40(550)=124.7 nm, nx=1.5833, ny=1.5784, nz=1.5782)를 이용한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여, 흑표시시켰을 때의 누광을 확인했다. 결과를 표 5에 나타낸다.
Figure 112015006426626-pat00017
Figure 112015006426626-pat00018
Figure 112015006426626-pat00019
실시예에서 제작한 광학 이방성 필름은, 흑표시시 비스듬히 보았을 때의 누광 억제가 우수한 것이 확인되었다.
본 발명에 의하면, 흑표시시의 누광 억제가 우수한 광학 이방성 필름을 얻을 수 있다.
1 : 본 광학 이방성 필름, 2a, 2b : 편광 소자, 3 : 접착층, 4a, 4b, 4c, 4d, 4e, 4f, 4g, 4h, 4i, 4j, 4k, 4l, 4m, 4n, 4o : 편광판, 5, 5' : 보호 필름, 6, 6' : 접착제층, 7 : 편광자, 8 : 기재, 9 : 본 광학 이방성 막, 10 : 고분자 수지막, 11 : 액정셀, 12a, 12b : 액정셀의 보호막, 13a, 13b : 편광 소자의 투과축, 14 : 기재의 지상축, 15 : 액정셀 중의 액정 분자의 지상축(흑표시시)

Claims (15)

  1. nx>nz>ny의 굴절률 관계를 갖고,
    nx-nz가 0.005 미만이고,
    nz-ny가 0.004 미만이고,
    R0(550)이 90∼160 nm이고,
    R40(550)이 91∼170 nm이고,
    R40(550)-R0(550)이 10 nm 이하인 광학 이방성 필름으로서,
    (식 중, nz는 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. nx는 면 내에서 최대의 굴절률을 발생시키는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는 면 내에서 nx의 방향에 대하여 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. 또한, 식 중, R0(550)은 550 nm의 광에 대한 정면 위상차 값을 나타낸다. R40(550)은, ny의 방향의 축을 경사축으로 하여, 두께 방향으로부터 40° 경사진 방향에서 입사된 550 nm의 광에 대한 위상차 값을 나타낸다.)
    상기 광학 이방성 필름이, 액정성 재료로 형성되고 두께 방향으로 광축을 갖는 광학 이방석 막과 기재를 포함하는 적층체이고,
    상기 기재와 상기 광학 이방성 막 사이에, 두께 1∼300 nm의 고분자 수지막을 갖는 광학 이방성 필름.
  2. 제1항에 있어서, R0(450)/R0(550)이 0.8∼1.2인 광학 이방성 필름.
    (R0(550)은 상기와 동일한 의미를 나타내고, R0(450)은 450 nm의 광에 대한 정면 위상차 값을 나타낸다.)
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서, 기재가 면 내 방향으로 광축을 갖는 광학 이방성 필름.
  6. 제1항에 있어서, 기재의 ny와 nz의 차가 0 이상 0.01 이하인 광학 이방성 필름.
    (ny 및 nz는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서, 고분자 수지막의 R0(550)이 0∼10 nm인 광학 이방성 필름.
    (R0(550)은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)
  9. 제1항, 제2항, 제5항, 제6항 및 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 필름과 편광 소자를 갖는 편광판.
  10. 제1항에 기재된 광학 이방성 필름의 광학 이방성 막의 면과 편광 소자가 접착제층을 통해 적층된 편광판.
  11. 제10항에 있어서, 광학 이방성 필름의 기재의 nx의 방향과 편광 소자의 투과축의 방향이 직교하고 있는 편광판.
    (nx는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)
  12. 제1항, 제2항, 제5항, 제6항 및 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 이방성 필름을 갖는 표시 장치.
  13. 제9항에 기재된 편광판을 갖는 표시 장치.
  14. 제10항에 기재된 편광판을 갖는 표시 장치.
  15. 제11항에 기재된 편광판을 갖는 표시 장치.
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