KR102217468B1 - 약액 토출 장치 - Google Patents

약액 토출 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102217468B1
KR102217468B1 KR1020190068428A KR20190068428A KR102217468B1 KR 102217468 B1 KR102217468 B1 KR 102217468B1 KR 1020190068428 A KR1020190068428 A KR 1020190068428A KR 20190068428 A KR20190068428 A KR 20190068428A KR 102217468 B1 KR102217468 B1 KR 102217468B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnetic force
reservoir
chemical liquid
chemical solution
unit
Prior art date
Application number
KR1020190068428A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200141646A (ko
Inventor
이동화
윤대건
최재용
손상욱
김대성
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020190068428A priority Critical patent/KR102217468B1/ko
Publication of KR20200141646A publication Critical patent/KR20200141646A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102217468B1 publication Critical patent/KR102217468B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • B01F13/08
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F33/00Other mixers; Mixing plants; Combinations of mixers
    • B01F33/45Magnetic mixers; Mixers with magnetically driven stirrers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/06Silver salts
    • G03F7/063Additives or means to improve the lithographic properties; Processing solutions characterised by such additives; Treatment after development or transfer, e.g. finishing, washing; Correction or deletion fluids
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68764Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a movable susceptor, stage or support, others than those only rotating on their own vertical axis, e.g. susceptors on a rotating caroussel

Abstract

약액 토출 장치는 잉크젯 헤드, 레저버, 약액 교반부를 포함할 수 있다. 상기 잉크젯 헤드는 기판을 향하여 약액을 토출하도록 구비될 수 있다. 상기 레저버는 상기 잉크젯 헤드로 공급하기 위한 약액을 수용하도록 구비될 수 있다. 상기 약액 교반부는 상기 레저버에 수용되는 약액을 교반시키도록 구비될 수 있다. 특히, 상기 약액 교반부는 상기 레저버에 수용되는 약액 내에서 자기력에 의해 회전하도록 구비되는 자기력 회전부와, 상기 레저버의 외부에서 상기 자기력 회전부로 상기 자기력을 제공하도록 구비되는 자기력 제공부로 이루어질 수 있다.

Description

약액 토출 장치{APPARATUS FOR DISPENSING DROPLET}
본 발명은 약액 토출 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 잉크젯 헤드로 공급하기 위한 약액을 수용하도록 구비되는 레저버를 포함하는 약액 토출 장치에 관한 것이다.
유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에서는 기판을 향하여 잉크젯 방식으로 약액을 토출하는 약액 토출 장치를 사용하여 기판 상에 약액을 토출하는 공정을 수행할 수 있다.
언급한 약액 토출 장치는 주로 기판을 향하여 약액을 토출하도록 구비되는 잉크젯 헤드, 잉크젯 헤드로 약액을 공급하기 위한 약액을 수용하도록 구비되는 레저버(reservoir) 등을 포함할 수 있다.
그리고 최근의 디스플레이 소자의 제조에서는 나노 입자를 포함하는 약액을 취급하고 있는데, 나노 입자가 레저버에 침전될 경우 불량으로 작용할 수 있기 때문에 교반 장치를 사용하여 나노 입자가 레저버에 침전되는 상황을 방지하고 있다.
종래의 교반 장치는 주로 모터 등을 포함하는 구성을 갖기 때문에 모터 진동으로 인하여 레저버까지 진동되는 상황이 발생할 수 있을 것이고, 그 결과 레저버에 형성되는 음압이 깨지는 상황까지 발생할 수 있을 것이다.
본 발명의 일 과제는 레저버에 형성되는 음압에 영향을 끼치지 않으면서도 레저버에 나노 입자가 침전되지 않도록 약액을 교반할 수 있는 약액 토출 장치를 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치는 잉크젯 헤드, 레저버, 약액 교반부를 포함할 수 있다. 상기 잉크젯 헤드는 기판을 향하여 약액을 토출하도록 구비될 수 있다. 상기 레저버는 상기 잉크젯 헤드로 공급하기 위한 약액을 수용하도록 구비될 수 있다. 상기 약액 교반부는 상기 레저버에 수용되는 약액을 교반시키도록 구비될 수 있다. 특히, 상기 약액 교반부는 상기 레저버에 수용되는 약액 내에서 자기력에 의해 회전하도록 구비되는 자기력 회전부와, 상기 레저버의 외부에서 상기 자기력 회전부로 상기 자기력을 제공하도록 구비되는 자기력 제공부로 이루어질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 자기력 회전부는 상기 자기력에 의해 회전하도록 구비되는 회전 날개와, 상기 회전 날개를 지지함과 아울러 상기 레저버 내에 고정되도록 구비되는 고정 지지부로 이루어질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 회전 날개는 막대 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 자기력 제공부가 전압 조절이 가능하도록 구비될 때, 상기 자기력 회전부의 회전수는 상기 자기력 제공부의 전압 조절에 따른 자기력의 크기에 의해 조절될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액은 나노 입자를 포함하는 약액일 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 레저버가 음압이 형성되도록 구비되는 음압 형성부를 더 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치는 레저버에 수용되는 약액을 교반시킬 때 자기력을 이용할 수 있다. 이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치는 레저버에 형성되는 음압에 영향을 끼치지 않으면서도 레저버에 나노 입자가 침전되지 않도록 약액을 교반할 수 있을 것이다.
따라서 본 발명의 약액 토출 장치는 잉크젯 헤드로 나노 입자를 갖는 약액을 안정적으로 공급하여 기판 상에 약액을 토출할 수 있기 때문에 공정 신뢰도의 향상을 기대할 수 있을 것이다.
다만, 본 발명의 효과는 상기 언급한 효과에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 2는 도 1에 구비되는 자기력 회전부의 일예를 나타내는 도면이다.
도 3은 도 1에 구비되는 자기력 회전부의 다른예를 나타내는 도면이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 1을 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조시 기판 상에 약액을 토출하기 위한 것으로써, 특히 기판 상에 나노 입자를 포함하는 약액을 토출하기 위한 것이다.
일예로, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 컬러 필터 등의 형성을 위한 약액 토출에 적용할 수 있을 것이다.
예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 잉크젯 헤드(11), 레저버(13), 약액 교반부(15) 등을 포함할 수 있다.
잉크젯 헤드(11)는 약액의 토출을 위한 다수개의 노즐이 배치되도록 구비될 수 있다. 잉크젯 헤드(11)에 배치되는 다수개의 노즐은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 노즐들에는 노즐들에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 구비될 수 있고, 압전 소자의 동작에 의해 노즐들을 통하여 기판 상으로 약액을 토출시킬 수 있다. 즉, 노즐들 각각에 구비되는 압전 소자 각각의 동작에 의해 노즐들 각각을 통하여 기판 상으로 약액을 토출시킬 수 있는 것이다. 특히, 노즐들로부터 토출되는 약액은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.
이에, 본 발명의 약액 토출 장치(100)를 사용하는 컬러 필터 등의 형성을 위한 공정에서는 잉크젯 헤드(11)의 다수개의 노즐 각각으로부터 기판에 형성하는 R/G/B 픽셀들 각각에 약액을 토출시킬 수 있을 것이다.
레저버(13)는 잉크젯 헤드(11)로 공급하기 위한 약액을 저장, 즉 수용하도록 구비될 수 있다. 특히, 레저버(13)는 잉크젯 헤드(11)로 공급하기 위한 약액에 대한 버퍼 탱크 역할을 하도록 구비될 수 있다. 또한, 레저버(13)는 잉크젯 헤드(11)와 이웃하게 위치하도록 구비될 수 있다.
도시하지는 않았지만 본 발명에서의 약액 토출 장치(100)는 레저버(13)로 약액을 공급하도록 구비되는 캐니스터(canister)를 포함할 수 있다. 여기서, 캐니스터는 약액을 저장하는 저장 탱크 역할을 하도록 구비될 수 있다.
그리고 잉크젯 헤드(11)로부터 약액을 토출하지 않을 시에는 레저버(13)에는 음압이 형성되도록 해야 한다. 만약 레저버(13)의 음압이 파괴될 경우 잉크젯 헤드(11)의 노즐들 단부에 잔류하는 약액에 대한 메니스커스(meniscus)가 유지되지 못하고 약액이 잉크젯 헤드(11)의 노즐들을 타고 흘러내리거나 도는 유막을 형성하는 상황이 발생할 수 있다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 음압 형성부(14)를 구비함으로써 잉크젯 헤드(11)로부터 약액을 토출하지 않고 있을 때 레저버(13)를 음압으로 형성할 수 있다. 즉, 본 발명의 약액 토출 장치(100)는 레저버(13)가 음압이 형성되도록 구비되는 음압 형성부(14)를 더 포함할 수 있는 것이다.
그리고 레저버(13)에 수용되는 약액이 레저버(13)에 침전될 경우 잉크젯 헤드(11)로의 제공에 따른 불량을 야기시킬 수 있을 것이다. 특히, 나노 입자를 포함하는 약액일 경우 레저버(13)에서의 침전이 발생할 경우 나노 입자로 인하여 더욱더 심각한 불량이 야기될 수 있을 것이다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 언급한 약액 교반부(15)를 구비하여 레저버(13)에 수용되는 약액으로부터 나노 입자가 침전되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 약액 교반부(15)를 사용하여 레저버(13)에 수용되는 약액을 교반시킴으로써 레저버(13)에 수용되는 약액으로부터 나노 입자가 침전되는 것을 방지할 수 있는 것이다.
그러나 약액 교반부(15)를 사용하는 약액의 교반시 레저버(13)에 교반에 따른 진동이 전달될 경우 레저버(13)에 형성하는 음압이 파괴될 수 있을 것이고, 언급한 바와 같이 잉크젯 헤드(11)의 노즐들 단부에 잔류하는 약액에 대한 메니스커스(meniscus)가 유지되지 못하고 약액이 잉크젯 헤드(11)의 노즐들을 타고 흘러내리거나 도는 유막을 형성하는 상황이 발생할 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)에서의 약액 교반부(15)는 레저버(13)에 수용되는 약액의 교반에 따른 진동 발생을 최소화할 수 있도록 구비되어야 한다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 교반부(15)는 레저버(13)에 수용되는 약액을 자기력을 이용하여 교반시키도록 구비될 수 있다.
약액 교반부(15)는 자기력 회전부(17), 자기력 제공부(19)로 이루어질 수 있다. 자기력 회전부(17)는 레저버(13)에 수용되는 약액 내에서 자기력에 의해 회전하도록 구비될 수 있고, 자기력 제공부(19)는 레저버(13)의 외부에서 자기력 회전부(17)로 자기력을 제공하도록 구비될 수 있다.
약액 교반부(15)는 레저버(13)의 내부에 자기력 회전부(17)를 구비하고, 레저버(13)의 외부에 자기력 제공부(19)를 구비하여 레저버(13)의 외부에서 레저버(13)의 내부로 자기력을 제공함에 의해 약액을 교반시킬 수 있을 것이다.
그리고 자기력 회전부(17)는 레저버(13)에 수용되는 약액에 딥핑되게 위치하도록 구비될 경우 그 위치에 제한되지 않을 것이고, 레저버(13)에 수용되는 약액을 충분하게 교반시킬 수 있을 경우 그 개수에 제한되지 않을 것이다.
따라서 도 1에서와 같이, 자기력 회전부(17)는 레저버(13)의 저면 쪽에 구비될 수도 있을 것이고, 레저버(13)의 측면 쪽에 구비될 수 있을 것이다. 또한 도 1에서와 같이, 자기력 회전부(17)는 한 개 또는 그 이상의 개수로 구비될 수 있을 것이다.
더불어 자기력 제공부(19)는 자기력 회전부(17)에 자기력을 제공할 수 있을 경우 그 설치 위치에 한정되지 않을 것이다.
도 2는 도 1에 구비되는 자기력 회전부의 일예를 나타내는 도면이고, 도 3은 도 1에 구비되는 자기력 회전부의 다른예를 나타내는 도면이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 자기력 회전부(17)는 회전 날개(21) 및 고정 지지부(23)로 이루어지도록 구비될 수 있다.
회전 날개(21)는 자기력에 의해 회전하도록 구비될 수 있고, 고정 지지부(23)는 회전 날개(21)를 지지함과 아울러 레저버(13) 내에 고정되도록 구비될 수 있다.
즉, 약액에 대한 교반 정도가 높아질수록 그리고 레저버(13)가 사각형과 같은 형태일 경우 약액의 교반시 약액의 유동 변화가 심해질 수 있기에 본 발명의 약액 토출 장치(100)는 고정 지지부(23)를 구비하여 회전 날개(21)를 지지하도록 함에 의해 약액의 교반시 회전 날개(21)가 이탈되는 것을 방지할 수 있을 것이다.
회전 날개(21)는 회전에 지장이 없을 경우 그 구조에 제한되지 않는다. 이에, 예시적인 실시예들에 따른 자기력 회전부(17)에 적용하기 위한 회전 날개(21)는 막대 구조를 갖도록 구비할 수 있다.
특히, 회전 날개(21)가 막대 구조를 가질 경우 막대 구조의 중심 영역에 고정 지지부(23)에 지지되는 구조를 갖도록 구비될 수 있을 것이다.
그리고 막대 구조를 갖는 회전 날개(21)는 도 2에서와 같이 일자형 막대 구조를 갖도록 구비될 수 있거나, 도 3에서와 같이 십자형 막대 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
아울러, 막대 구조를 갖는 회전 날개(21)는 도 2 및 도 3과 달리 다양한 구조를 갖도록 구비될 수 있을 것이다.
또한, 자기력 회전부(17)의 예로서는 마그네틱바 등을 들 수 있을 것이다.
그리고 자기력 제공부(19)는 전압 조절이 가능하도록 구비될 수 있을 것이다. 이에, 자기력 회전부(17)의 회전수는 자기력 제공부(19)의 전압 조절에 따른 자기력의 크기에 의해 조절될 수 있을 것이다.
따라서 본 발명의 약액 토출 장치(100)는 자기력 제공부(19)의 전압 조절을 통하여 약액 교반에 대한 교반 정도를 달리할 수 있을 것이다.
언급한 바에 따르면, 본 발명의 액악 토출 장치는 레저버(13)에서의 음압 제어에 영향을 미치지 않으면서도 약액을 충분히 교반시켜 레저버(13)에 나노 입자의 침전을 방지할 수 있기 때문에 일정한 프린팅 품질을 유지할 수 있을 것이다.
또한, 약액의 충분한 교반을 통하여 균질한 나노 입자 분포를 유지할 수 있기 때문에 나노 입자가 잉크젯 헤드(11)의 노즐들로 로딩을 방지하여 이로 인한 약액의 미토출까지도 방지할 수 있을 것이다.
특히, 본 발명의 약액 토출 장치(100)는 약액 교반을 위한 회전 구동이 모터가 아닌 자기력을 이용하기 때문에 레저버(13)로의 진동을 유발하지 않으므로 레저버(13)의 음압을 일정하게 유지할 수 있기에 장치적 측면에서도 안정화를 구축할 수 있을 것이고, 나아가 자기력 제공부(19)가 레저버(13) 외부에 구비되기 때문에 유지 보수 또한 용이하게 실시할 수 있을 것이다.
예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치는 나노 입자를 갖는 약액을 취급하는 약액 토출 장치로써 최근의 OLED/QLED 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에 보다 적극적으로 적용할 수 있을 것이다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11 : 잉크젯 헤드 13 : 레저버
14 : 음압 형성부 15 : 약액 교반부
17 : 자기력 회전부 19 : 자기력 제공부
21 : 회전 날개 23 : 고정 지지부
100 : 약액 토출 장치

Claims (6)

  1. 기판을 향하여 나노 입자를 포함하는 약액을 토출하도록 구비되는 잉크젯 헤드;
    상기 잉크젯 헤드로 공급하기 위한 상기 약액을 수용하도록 구비되는 레저버;
    상기 레저버에 수용되는 상기 약액을 교반시키도록 구비되는 약액 교반부; 및
    상기 레저버가 음압이 형성되도록 구비되는 음압 형성부를 포함하고,
    상기 약액 교반부는 상기 레저버에 수용되는 상기 약액 내에서 자기력에 의해 회전하도록 구비되는 자기력 회전부와, 상기 레저버의 외부에서 상기 자기력 회전부로 상기 자기력을 제공하도록 구비되는 자기력 제공부로 이루어지되,
    상기 잉크젯 헤드로부터 상기 약액의 토출이 이루어지지 않을 때 상기 음압 형성부에 의해 형성되는 상기 레저버의 음압이 깨지는 것을 방지할 수 있게 상기 자기력 제공부는 전압 조절이 가능하도록 구비됨과 아울러 상기 전압 조절에 따른 자기력의 크기에 의해 상기 자기력 회전부의 회전수가 조절되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 자기력 회전부는 상기 자기력에 의해 회전하도록 구비되는 회전 날개와, 상기 회전 날개를 지지함과 아울러 상기 레저버 내에 고정되도록 구비되는 고정 지지부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 회전 날개는 막대 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
KR1020190068428A 2019-06-11 2019-06-11 약액 토출 장치 KR102217468B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190068428A KR102217468B1 (ko) 2019-06-11 2019-06-11 약액 토출 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190068428A KR102217468B1 (ko) 2019-06-11 2019-06-11 약액 토출 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200141646A KR20200141646A (ko) 2020-12-21
KR102217468B1 true KR102217468B1 (ko) 2021-02-19

Family

ID=74090678

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190068428A KR102217468B1 (ko) 2019-06-11 2019-06-11 약액 토출 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102217468B1 (ko)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200223134Y1 (ko) 2000-12-09 2001-05-15 범아정밀주식회사 회전자계 교반기
JP2005519201A (ja) 2001-11-30 2005-06-30 ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒル ナノ構造材料のための堆積方法
JP2009125656A (ja) 2007-11-22 2009-06-11 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置
JP2010149028A (ja) 2008-12-24 2010-07-08 Toray Eng Co Ltd 塗布方法および塗布装置
JP2011062592A (ja) * 2009-09-15 2011-03-31 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置及び吐出方法
KR101156182B1 (ko) 2010-12-20 2012-06-18 주식회사 나래나노텍 비접촉 방식의 액 교반 장치 및 방법
JP2018176024A (ja) * 2017-04-05 2018-11-15 株式会社石井表記 インクジェット塗布装置及び電池製造用装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101090013B1 (ko) * 2009-03-11 2011-12-05 한국수력원자력 주식회사 교반장치
KR20130043461A (ko) * 2011-10-20 2013-04-30 주식회사 지승개발 플럭의 응집장치 및 이를 이용한 응집방법
KR102573222B1 (ko) * 2016-11-09 2023-08-31 세메스 주식회사 약액 공급 장치 및 방법, 그리고 이를 포함하는 약액 토출 장치

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200223134Y1 (ko) 2000-12-09 2001-05-15 범아정밀주식회사 회전자계 교반기
JP2005519201A (ja) 2001-11-30 2005-06-30 ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒル ナノ構造材料のための堆積方法
JP2009125656A (ja) 2007-11-22 2009-06-11 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置
JP2010149028A (ja) 2008-12-24 2010-07-08 Toray Eng Co Ltd 塗布方法および塗布装置
JP2011062592A (ja) * 2009-09-15 2011-03-31 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置及び吐出方法
KR101156182B1 (ko) 2010-12-20 2012-06-18 주식회사 나래나노텍 비접촉 방식의 액 교반 장치 및 방법
JP2018176024A (ja) * 2017-04-05 2018-11-15 株式会社石井表記 インクジェット塗布装置及び電池製造用装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200141646A (ko) 2020-12-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4869155B2 (ja) 物品の製造方法
KR20120022457A (ko) 용액 저장 탱크 및 이를 구비하는 잉크젯 프린터 헤드 어셈블리
JP2010184363A (ja) 画像形成装置
JP4746456B2 (ja) 液滴噴射塗布ヘッドモジュール、液滴噴射塗布装置及び塗布体の製造方法
JP2002067354A (ja) インクジェットプリンタ
JP5516252B2 (ja) 液体消費装置
JP2010247373A (ja) 液体噴射装置及び液体循環方法
KR102217468B1 (ko) 약액 토출 장치
JP2007229609A (ja) 液滴噴射装置及び塗布体の製造方法
JP2012183802A (ja) 記録装置及び記録方法
JP2016059863A (ja) 塗布装置及び塗布ヘッドの気泡除去方法
JP5813069B2 (ja) 画像形成装置
JP2018165005A (ja) 液体吐出装置および液体吐出方法
JP2011156857A (ja) 流体噴射装置
JP2007055247A (ja) プリント装置
JP6112125B2 (ja) 液体噴射装置
JP4098328B2 (ja) インク吐出装置及びインク吐出方法
KR20190084922A (ko) 액적 토출 장치
JP5817132B2 (ja) 液体噴射装置及びメンテナンス方法
JP2004314418A (ja) 液体噴射装置
KR101657530B1 (ko) 액적 토출 장치 및 방법
JP2002326370A (ja) 着色剤リザーバ、その制御装置および画像形成装置
JP7459518B2 (ja) 記録液供給装置および画像形成装置
KR102292371B1 (ko) 약액 저장 장치 및 약액 토출 시스템
JP2023099324A (ja) 基板処理液提供装置およびそれを含む基板処理システム

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant