KR102138955B1 - 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 타임피스의 외부 부분의 전부 또는 일부를 형성하기 위해 파세팅 및/또는 챔퍼링의 착각을 제공하는 단순한 형상의 일체형, 금속-기반 부품의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법{METHOD FOR FABRICATION OF A METAL-BASED COMPONENT WITH AT LEAST ONE OPTICAL ILLUSION PATTERN}
본 발명은, 적어도 하나의 광학적 착각 패턴, 보다 구체적으로는, 평탄한 표면이 평탄하지 않게 보이게 하는 적어도 하나의 패턴을 포함하는 평탄한 표면을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법에 관한 것이다.
타임피스의 미적 외관을 개선하기 위해 상부 표면을 파세팅 (faceting) 및/또는 챔퍼링 (chamfering) 하는 외부 부품을 형성하는 것이 알려져 있다. EP 특허 1557729 는, 특히, 피니싱 (finishing) 단계를 필요로 하지 않는 파세팅된 부품의 제조 방법의 개발에 있어서 아주 큰 어려움을 개시하고 있다.
본 발명의 목적은, 파세팅 및/또는 챔퍼링의 착각을 제공하는 간단한 금속-기반 부품을 얻기 위해 파세팅이나 피니싱을 필요로 하지 않는 제조 방법을 제안함으로써 전술한 단점들의 전부 또는 일부를 극복하는 것이다.
이를 위해, 본 발명은 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 적어도 하나의 금속-기반 부품의 제조 방법에 관한 것으로, 상기 방법은 이하의 단계들:
a) 기재를 형성하는 단계로서, 상기 기재의 평탄한 상부 표면은 도전성이고, 또한 상기 기재의 평탄한 상부 표면은 제조되는 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품의 상기 적어도 하나의 광학적 착각 패턴의 네거티브 리브들 (negative ribs) 을 포함하는, 상기 기재를 형성하는 단계;
b) 상기 기재에 몰드를 형성하는 단계로서, 상기 몰드는 적어도 하나의 캐비티를 포함하고, 상기 캐비티의 베이스는 상기 기재의 상기 상부 표면에 의해 형성되는, 상기 몰드를 형성하는 단계;
c) 평탄한 표면이 평탄하지 않게 보이게 하는 상기 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 포함하는 상기 평탄한 표면을 갖는 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품을 형성하도록 전착 또는 전기주조에 의해 적어도 하나의 몰드 캐비티를 충전하는 단계; 및
d) 그럼으로써 형성된 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품을 상기 기재로부터 그리고 상기 몰드로부터 릴리싱하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 기재의 평탄성의 결과로서, 이 제조 방법은, 후속하여 파세팅, 보다 일반적으로는 후속하여 피니싱을 더 이상 필요로 하지 않는 평탄한 표면을 갖는 부품을 얻게할 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
또한, 이 제조 방법은, 동일 기재에 대하여, 동일한 타입의 일편형 금속-기반 부품, 또는 수개의 상이한 일편형 금속-기반 부품의 크기의 매우 높은 정밀도 및 매우 높은 재현성을 제공한다.
마지막으로, 유리하게는 본 발명에 따르면, 제조 방법의 매우 높은 정밀도 및 매우 높은 재현성에 의하면, 예컨대 베벨링 (bevelling) 또는 챔퍼링에 의해 기계가공된 것과 같이, 평탄한 표면을 평탄하지 않게 보이게 하는 적어도 하나의 매우 정교한 그리고 용이하게 재현가능한 패턴을 갖는 매우 간단한 부품을 얻는 것이 가능해진다.
본 발명의 다른 유리한 변형에 따르면 다음과 같다:
- 제 1 실시형태에 따르면, 리브들은 적어도 두 개의 시리즈의 평행 세그먼트들을 형성하고, 평탄한 표면이 에지를 형성하는 두 개의 베벨링된 (bevelled) 표면들을 포함한다는 착각을 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품이 부여하도록, 제 1 시리즈의 평행 세그먼트들은 10 내지 170°의 각도를 이루고서 제 2 시리즈의 평행 세그먼트들과 접합된다;
- 제 2 실시형태에 따르면, 상기 평탄한 표면이 돔형이라는 착각을 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품이 부여하도록, 리브들은 적어도 하나의 시리즈의 만곡된 세그먼트들을 형성한다;
- 제 3 실시형태에 따르면, 리브들은 서로에 대해서 대칭적으로 배열된 적어도 하나의 시리즈의 리세스들을 형성하고, 상기 평탄한 표면이 에지를 형성하는 두 개의 베벨링된 표면들을 포함한다는 착각을 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품이 부여하도록, 상기 적어도 하나의 시리즈의 리세스들은 상기 기재의 상기 상부 표면이 네거티브 리브를 갖지 않는 부분에 인접하여 형성된다;
- 제 4 실시형태에 따르면, 리브들은 적어도 하나의 몰드 캐비티의 주변에 배열되고 적어도 두 개의 시리즈의 평행 세그먼트들을 형성하고, 상기 평탄한 표면이 챔퍼링되어 있다는 착각을 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품이 부여하도록, 제 1 시리즈의 평행 세그먼트들은 제 2 시리즈의 평행 세그먼트들에 대해 수직하고 각도를 이루고서 접합된다;
- 실시형태와 무관하게, 리브들의 높이는 2 내지 100 마이크로미터이다;
- 상기 방법은, 단계 c) 와 단계 d) 사이에, e) 고정 수단을 갖는 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품을 형성하도록 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품의 일 부분을 선택적으로 기계가공하는 단계를 추가로 포함한다;
- 기재의 상부 표면은 규소 기재의 도핑 (doping) 에 의해 그리고/또는 규소 기재상에서의 도전층의 디포지션 (deposition) 에 의해 도전성이 된다;
- 기재는 0.3 내지 1 mm 의 두께를 갖는다;
- 단계 b) 는, f) 기재의 도전성 상부 표면상에 감광성 수지의 층을 디포짓팅하는 페이즈; g) 감광성 수지의 일 부분을 선택적으로 조명하는 페이즈; h) 몰드의 적어도 하나의 캐비티를 형성하도록 감광성 수지를 현상 (developing) 하는 페이즈를 포함한다;
- 적어도 하나의 금속-기반 부품은 니켈 또는 니켈-인 베이스로부터 형성된다;
- 여러 개의 금속-기반 부품들이 동일 기재상에 형성된다;
- 적어도 하나의 금속-기반 부품은 다이얼, 개구 장식, 플랜지, 베젤, 푸시-피이스, 크라운, 케이스 백 커버, 핸드, 팔찌 또는 스트랩, 링크, 클래스프 (clasp), 장식, 진동 웨이트 또는 아플리케 (applique) 의 전부 또는 일부를 형성한다.
또한, 본 발명은 전술한 변형예들 중의 임의의 변형예에 따른 방법에 의해 얻어진 금속-기반 부품을 포함하는 타임피스의 외부 부분에 관한 것으로, 상기 부품은 평탄한 표면이 평탄하지 않게 보이게 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 실질적으로 평탄한 표면을 갖는 것을 특징으로 한다.
다른 특징 및 장점은 첨부한 도면을 참조하여 비제한적인 예시로서 주어진 다음의 설명으로부터 명확하게 나타날 것이다.
도 1 내지 5 는 본 발명에 따른 방법의 단계들을 개략적으로 나타낸다.
도 6 내지 9 는 본 발명에 따라 얻어진 핸드들의 예들을 나타낸다.
도 10 내지 15 는 본 발명에 따라 얻어진 시간-심볼의 예들을 나타낸다.
도 16 은 본 발명에 따라 얻어진 개구 장식의 예를 나타낸다.
본 발명은 타임피스의 외부의 전부 또는 일부를 형성하기 위한 파세팅 및/또는 챔퍼링의 착각을 제공하는 단순한 형상의 일편형 금속-기반 부품의 제조 방법에 관한 것이다. 비제한적인 예로서, 따라서 부품은 다이얼, 개구 장식, 플랜지, 베젤, 푸시-피이스, 크라운, 케이스 백 커버, 진동 웨이트, 핸드, 팔찌 또는 스트랩, 링크, 클래스프 (clasp), 장식 또는 아플리케 (applique) 의 전부 또는 일부를 형성할 수도 있다.
당연히, 이러한 부품은 시계학 분야에 한정되지 않는다. 비제한적인 예로서, 이러한 부품은 대안적으로 보석의 조각의 일부 또는 전부를 형성할 수 있다.
상기 방법은 적어도 하나의 금속-기반 부품을 제조하기 위한 것이다. 용어 "금속-기반" 은 하나 이상의 금속이 부품의 조성에 존재할 수 있다는 것을 의미한다. 따라서, 비제한적인 예로서, 부품(들)은, 예를 들면, 니켈, 니켈-인 베이스로부터 형성될 수 있다.
유리하게, 본 발명에 따르면, 상기 방법에 의해 얻어진 각 금속-기반 부품은 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 포함한다. 더 구체적으로는, 유리하게는, 각 부품은 평탄한 표면이 평탄하지 않게 보이게 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 실질적으로 평탄한 표면을 포함하며, 이는 예를 들면 파세팅 및/또는 챔퍼링의 착각을 제공하는 간단한 부품을 얻을 수 있게 한다.
단순화를 위하여, 제시된 도면들은 기재 상에서의 단지 하나의 부품의 제조를 나타낸다. 그러나, 유리하게는 본 발명에 따르면, 상기 방법은 동일한 기재 상에 여러 개의 동일하거나 상이한 부품들을 형성시키는 것을 가능하게 한다.
도 1 에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 방법은 기재 (1) 를 형성하는 제 1 단계 a) 를 포함하는데, 상기 기재의 평탄한 상부 표면 (3) 은 도전성이고, 또한 상기 기재의 평탄한 상부 표면은 제조되는 부품의 상기 적어도 하나의 광학적 착각 패턴의 네거티브 리브들 (5: negative ribs) 을 포함한다. 상기 적어도 하나의 광학적 착각 패턴의 일반적인 형상은 이하에서 추가로 설명될 것이다. 명료성을 이유로, 리브들 (5) 은 도 1 에서 기재 (1) 의 상부 표면 (3) 으로부터 돌출하는 3 개의 스터드들로 표현된다.
매우 다양한 기재들 (1) 이 가능하다. 바람직하게는, 기재 (1) 의 재료는 평탄하게 만들어질 수 있는 능력 및 매우 낮은 거칠기, 즉 평활한 표면을 갖는 자연적인 특징을 위해 선택된다. 예로서, 규소-기반 기재 (1) 는 이들 두 가지의 장점을 갖는다.
기재 (1) 가 규소로 형성되는 경우, 따라서 단계 a) 는 기재 (1) 의 상부 부분을 덮히지 않은 채로 남겨둔 채로 개구들을 갖는 마스크로 기재 (1) 를 덮는 제 1 페이즈를 포함할 수 있다. 제 2 페이즈에서, 마스크 개구들에는 에칭이 수행될 수 있다. 이러한 에칭은 습식 또는 건식 에칭일 수도 있다. 마지막으로, 도 1 에 도시된 제 3 페이즈에서, 기재 (1) 의 상부 표면 (3) 에 만들어진 리브들 (5) 만을 남겨두도록 마스크는 제거된다.
기재 (1) 가 규소로 형성되는 경우, 기재 (1) 의 상부 표면 (3) 은 규소의 도핑에 의해, 즉 에칭 이전에 이미 도핑된 기재 (1) 를 이용하여 또는 후속하여 기재를 도핑하는 것에 의해, 그리고/또는 도전층의 디포지션 (deposition) 에 의해 도전성으로 만들어질 수도 있다.
또한, 기재 (1) 는 0.3 내지 1 mm 의 두께를 가질 수 있는 반면, 리브들 (5) 은 기재 (1) 의 상부 표면 (3) 으로부터 2 내지 100 마이크로미터의 높이까지 연장할 수도 있다.
도 2 에 도시된 바와 같이, 상기 방법은, 기재 (1) 상에 몰드 (7) 를 형성하는 제 2 단계 b) 로 진행한다. 따라서, 몰드 (7) 는 적어도 하나의 캐비티 (6) 를 포함하고, 이의 베이스는 부품, 하나 이상의 캐비티들의 소망하는 형상에 따라 기재 (1) 의 상부 표면 (3) 에 의해 형성됨을 이해할 수 있다.
단계 b) 는 바람직하게는 3 개의 페이즈들 f) 내지 h) 를 포함한다. 단계 b) 는 기재 (1) 의 도전성 상부 표면 (3) 상에 감광성 수지층을 디포짓팅하기 위한 제 1 페이즈 f) 를 포함한다. 이 페이즈 f) 는 스핀 코팅 또는 스프레이 코팅에 의해 얻어질 수 있다. 제 2 페이즈 g) 는 감광성 수지의 일 부분을 선택적으로 조명하기 위한 것이다. 따라서, 감광성 수지의 성질에 따라, 즉 수지가 포지티브 타입인지 또는 네거티브 타입인지에 따라, 조명은 적어도 하나의 퓨처 캐비티 (6) 에서 소망하는 퓨처 캐비티에 또는 적어도 하나의 상기 소망하는 퓨처 캐비티 (6) 이외의 부분들에 집중될 것임은 분명하다.
마지막으로, 단계 b) 는 몰드 (7) 를 형성하기 위해, 즉 적어도 하나의 캐비티 (6) 주위에서 또는 캐비티들 (6) 사이에서 나머지 감광성 수지를 경화시키기 위해, 선택적으로 조명된 감광성 수지를 현상하는 제 3 페이즈 h) 로 종결된다. 이 제 3 페이즈 h) 는 일반적으로, 수지를 경화시키기 위한 열처리에 이어지는 적어도 하나의 캐비티 (6) 를 형성하기 위한 현상 처리에 의해 얻어진다.
도 3 에 도시된 바와 같이, 상기 방법은, 평탄한 표면이 평탄하지 않게 보이게 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴 (14) 을 포함하는 평탄한 표면을 갖는 블랭크 또는 금속-기반 부품을 형성하도록 전착 또는 전기주조에 의해 몰드 (7) 의 적어도 하나의 캐비티 (6) 를 충전하는 제 3 단계 c) 로 진행한다. 본 발명에 따르면, 금속-기반 부품은 돌출에 있어서 동일한 융기 패턴을 갖는다. 그러나, 기재 (1) 의 구조화동안, 단계 c) 에서, 리브들 (5) 은 블랭크 또는 금속-기반 부품의 일 측에서 리세스들 (15) 을 형성할 것이다. 또한, 후술하는 바와 같이, 선택적인 단계 e) 가 또한 단계 c) 후에 실행될 수 있다.
유리하게는, 본 발명에 따르면, 단계 b) 의 매우 정밀한 포토리소그래피의 결과로서, 상기 방법은 시계학의 분야에서 부품에 필요한 매우 높은 공차를 만족시킬 수 있는 높은 정밀도의 외부 및 가능하게는 내부 크기를 갖는 금속-기반 부품 (9) 을 만들어낼 수 있다. "내부 크기" 는, 적어도 하나의 캐비티 (6) 에 삽입되는 구조화된 수지 부분 (7) 으로부터, 금속-기반 부품에서의 개구 및/또는 구멍이 단계 c) 에서 직접 형성될 수 있음을 의미한다.
전술한 바와 같이, 단계 c) 에서의 각 캐비티 (6) 의 전착 또는 전기주조 충전은, 예를 들면, 니켈과 인으로 형성된 합금 (NiP), 및 특히 실질적으로 12% 의 인 비율을 갖는 동일한 타입의 합금 (NiP12) 으로 얻어질 수도 있다.
마지막으로, 상기 방법은 그럼으로써 형성된 부품을 기재 (1) 로부터 그리고 몰드 (7) 로부터 릴리싱하는 제 4 및 최종 단계 d) 로 진행한다. 따라서, 기재 (1) 가 규소로 형성되는 전술한 예에서, 단계 d) 는 규소의 선택적인 에칭 및 몰드 (7) 재료의 선택적인 에칭으로 이루어질 수도 있다. 규소 에칭은, 예를 들어, 수산화칼륨 (약칭 KOH 로 알려짐) 을 포함하는 욕을 이용하여 화학적 에칭에 의해 얻어질 수도 있다.
도 4 및 5 에 도시된 본 발명의 변형예에 따르면, 상기 방법은 추가로, 단계 c) 와 단계 d) 사이에, 적어도 하나의 고정 수단 (16) 을 갖는 부품 (11) 을 형성하도록 금속-기반 부품의 일 부분을 선택적으로 기계가공하는 선택적인 단계 e) 를 포함한다.
전술한 바와 같이, 동일한 융기 패턴을 갖는 블록 (9) 은 따라서 적어도 하나의 고정 수단 (16) 을 형성하도록 두께가 수정된다. 따라서, 일방이 타방의 위에 있는 수개의 기능적 레벨들을 형성할 필요없이 또는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴 (14) 을 포함하는 부품의 표면을 피니싱할 필요없이 부품 (11) 이 얻어진다.
기재 (1) 상에서의 각 블록 (9) 의 정확한 위치결정 때문에, 단계 e) 에서, 정확한 치수로 프로그래밍될 수 있는 자동화된 기계로 기재 (1) 상에서 각 블록 (9) 을 기계가공하는 것이 가능하다. 단계 e) 가 하나 이상의 블록 (9) 을 기계가공하기 위한 것일지라도, 도 4 에서 볼 수 있는 명백한 공간에 의해 도시된 바와 같이, 수지 (7) 의 부분이 제거되어지는 볼륨 또는 사용된 공구들의 크기에 기인한 응력들에 의해 또한 기계가공될 수 있음에 유의해야 한다. 물론, 이 단계 e) 는 또한, 다른 기능적 레벨들을 형성하고 그리고/또는 랩핑 (lapping) 에 의해 몰드 (7) 및 블록 (9) 을 레벨링하는 것을 가능하게 한다.
그러므로, 적어도 하나의 광학적 착각 패턴 (14) 을 형성하는 리세스들 (15) 및 평탄한 표면 (13) 에 부가하여, 부품 (11) 이 또한 금속-기반 부품 (11) 을 부착하기 위한 적어도 하나의 고정 수단 (16) 을 포함하는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 고정 수단 (16) 은 풋 (foot) 또는 파이프의 형태를 취할 수도 있다.
도 6 내지 16 은 본 발명에 따른 광학적 착각 패턴을 더 잘 설명하기 위해 상기 방법에 의해 얻어지는 부품들의 예를 나타낸다. 비제한적인 예로서, 광학적 착각 패턴의 4 개의 실시형태를 설명한다.
제 1 실시형태에 따르면, 기재 (1) 는 도 6, 7, 10 및 12 의 예들을 얻기 위한 리브들을 포함한다. 따라서, 도 6, 7, 10 및 12 의 광학적 착각 패턴 (114, 214, 514 및 714) 은 적어도 두 개의 시리즈 (118, 120, 218, 220, 518, 520, 718, 720) 의 평행 세그먼트들 (119, 121, 219, 221, 519 720, 521, 719, 721) 을 형성한다. 바람직하게는, 제 1 실시형태에 따르면, 평탄할 때에 에지를 형성하는 두 개의 베벨링된 (bevelled) 표면들을 갖는 가시성 표면의 착각을 부품 (111, 211, 511, 711) 이 부여하도록, 제 1 시리즈 (118, 218, 518, 718) 의 평행 세그먼트들 (119, 219, 519, 719) 은 10 내지 170°의 각도를 이루고서 제 2 시리즈 (120, 220, 520, 720) 의 평행 세그먼트들 (121, 221, 521, 721) 과 접합된다.
제 2 실시형태에 따르면, 기재 (1) 는 도 8, 13 및 15 의 예들을 얻기 위한 리브들을 포함한다. 따라서, 도 8, 13 및 15 의 광학적 착각 패턴 (314, 814 및 1114) 은, 평탄할 때에 돔형 가시성 표면의 착각을 부품이 부여하도록, 적어도 하나의 시리즈 (318, 320, 818, 820, 1118) 의 만곡된 세그먼트들 (319, 321, 819, 821, 1119) 을 형성한다. 도 8 및 13 에서 볼 수 있는 제 2 실시형태의 변형예에 따르면, 가시성 표면이 평탄할 때에, 그루브를 형성하도록 접합된 두 개의 돔형 표면들을 갖는 가시성 표면의 착각을 부품이 부여하도록, 제 1 시리즈 (318, 818) 의 만곡된 세그먼트들 (319, 819) 은 10 내지 170 도의 각도를 이루고서 제 2 시리즈 (320, 820) 의 만곡된 세그먼트들 (321, 821) 과 접합된다.
제 3 실시형태에 따르면, 기재 (1) 는 도 9 및 11 의 예들을 얻기 위한 스터드 형태의 리브들을 포함한다. 따라서, 도 9 및 11 의 광학적 착각 패턴 (414 및 614) 은 서로에 대해 대칭적으로 배열된 적어도 하나의 시리즈 (418, 618) 의 리세스들 (419, 619) 을 형성한다. 바람직하게는, 제 3 실시형태에 따르면, 평탄할 때에 에지를 형성하는 두 개의 베벨링된 표면들을 갖는 가시성 표면의 착각을 부품이 부여하도록, 적어도 하나의 시리즈 (418, 618) 의 리세스들은 부품 (411, 611) 의 표면이 광학적 착각 패턴을 갖지 않는 부분 (432, 632) 에 인접하여 형성된다.
도 9 및 11 에 도시된 바와 같이, 리세스들 (419, 619) 은 원형 단면을 갖고 서로 일정한 거리에 있다. 물론, 리세스들 (419, 619) 의 지오메트리 및 배치는 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 원하는 효과에 따라 다를 수 있다.
제 4 실시형태에 따르면, 기재 (1) 는 도 14 및 16 의 예들을 얻기 위해 몰드 캐비티의 주변에 배열된 리브들을 포함한다. 따라서, 도 14 및 16 의 광학적 착각 패턴 (914 및 1014) 은 적어도 두 개의 시리즈 (918, 920, 922, 1018, 1020, 1022, 1024) 의 평행 세그먼트들 (919, 921, 923, 1019, 1021, 1023, 1025) 을 형성하고, 부품 (911, 1011) 의 표면이 광학적 착각 패턴을 갖지 않는 부분 (932, 1032) 을 에워싸는 챔퍼링된 가시성 표면의 착각을 부품이 부여하도록, 제 1 시리즈 (918, 922, 1018, 1022) 의 평행 세그먼트들 (919, 923, 1019, 1023) 은 제 2 시리즈 (920, 1020, 1024) 의 평행 세그먼트들 (921, 1021, 1025) 에 대해 수직하고 90 도의 각도를 이루고서 접합된다.
물론, 본 발명은 도시된 예에 한정되지 않고, 당업자에게 명백한 여러 가지의 변형 및 수정이 가능하다. 특히, 부품들 (1, 111, 211, 311, 411, 511, 611, 711, 811, 911, 1011, 1111) 은, 예를 들어 본원에 참고로 인용된 EP 특허 3009896 에 개시된 바와 같이, 최종 경화 단계를 거칠 수 있다.
또한, 기재의 평탄한 상부 표면에서의 감광성 수지의 포토리소그래피에 의해 대안적으로 리브들 (5) 을 형성하는 것을 상정하는 것이 가능하다.
특정 대안예에서, 또한 기재 (1) 는 도 1 내지 4 에 나타낸 것과는 상이한 지오메트리를 갖는 리브들 (5) 을 형성하도록 선택될 수 있다. 따라서, 비제한적인 예로서, 기재 (1) 는 (100)-배향 단결정 규소로 만들어질 수 있고, 측부들이 경사져 있고 도 1 내지 4 에 도시된 바와 같이 수직하지 않은 에칭 요소들을 형성하도록 수산화칼륨 (KOH) 습식 에칭을 거칠 수 있다.
마지막으로, 광학적 착각 패턴들은 전술한 것에 한정되지 않는다. 따라서, 본 발명의 범위를 벗어나지 않고서 다른 실시형태들이 가능하다. 또한, 앞서 제시된 4 개의 실시형태들은 서로 조합될 수 있다; 즉 수개의 상이한 패턴들이 동일한 부품에 나타날 수 있다.

Claims (13)

  1. 적어도 하나의 광학적 착각 패턴 (14, 114, 214, 314, 414, 514, 614, 714, 814, 914, 1014, 1114) 을 갖는, 타임피스의 외부 부분의 전부 또는 일부를 형성하기 위한 적어도 하나의 금속-기반 부품 (11, 111, 211, 311, 411, 511, 611, 711, 811, 911, 1011, 1111) 의 제조 방법으로서,
    상기 방법은 이하의 단계들:
    a) 기재 (1) 를 형성하는 단계로서, 상기 기재의 평탄한 상부 표면 (3) 은 도전성이고, 또한 상기 기재의 평탄한 상부 표면은 제조되는 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품의 상기 적어도 하나의 광학적 착각 패턴의 네거티브 리브들 (5: negative ribs) 을 포함하고, 상기 리브들 (5) 은 적어도 두 개의 시리즈의 평행 세그먼트들을 형성하고, 평탄한 표면이 에지를 형성하는 두 개의 베벨링된 (bevelled) 표면들을 포함한다는 착각을 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품이 부여하도록, 제 1 시리즈의 평행 세그먼트들은 10 내지 170°의 각도를 이루고서 제 2 시리즈의 평행 세그먼트들과 접합되는, 상기 기재를 형성하는 단계;
    b) 상기 기재 (1) 에 몰드 (7) 를 형성하는 단계로서, 상기 몰드 (7) 는 적어도 하나의 캐비티 (6) 를 포함하고, 상기 캐비티의 베이스는 상기 기재 (1) 의 상기 상부 표면 (3) 에 의해 형성되는, 상기 몰드를 형성하는 단계;
    c) 평탄한 표면이 평탄하지 않게 보이게 하는 상기 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 포함하는 상기 평탄한 표면을 갖는 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품을 형성하도록 전착에 의해 상기 몰드 (7) 의 상기 적어도 하나의 캐비티 (6) 를 충전하는 단계; 및
    d) 그럼으로써 형성된 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품 (11, 111, 211, 311, 411, 511, 611, 711, 811, 911, 1011, 1111) 을 상기 기재 (1) 로부터 그리고 상기 몰드 (7) 로부터 릴리싱하는 단계
    를 포함하고,
    상기 기재 (1) 의 상기 상부 표면 (3) 은 규소 기재의 도핑 (doping) 에 의해 그리고/또는 규소 기재상에서의 도전층의 디포지션 (deposition) 에 의해 도전성이 되는 것을 특징으로 하는, 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 평탄한 표면이 돔형이라는 착각을 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품이 부여하도록, 상기 리브들 (5) 은 적어도 하나의 추가 시리즈의 만곡된 세그먼트들을 형성하는 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 리브들 (5) 은 서로에 대해서 대칭적으로 배열된 적어도 하나의 추가 시리즈의 리세스들을 형성하고,
    상기 평탄한 표면이 에지를 형성하는 두 개의 베벨링된 표면들을 포함한다는 착각을 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품이 부여하도록, 상기 적어도 하나의 추가 시리즈의 리세스들은 상기 기재의 상기 상부 표면이 네거티브 리브를 갖지 않는 부분에 인접하여 형성되는 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 리브들 (5) 은 적어도 하나의 몰드 캐비티의 주변에 배열되고 적어도 두 개의 추가 시리즈의 평행 세그먼트들을 형성하고,
    상기 평탄한 표면이 챔퍼링되어 있다는 착각을 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품이 부여하도록, 제 1 추가 시리즈의 평행 세그먼트들은 제 2 추가 시리즈의 평행 세그먼트들에 대해 수직하고 각도를 이루고서 접합되는 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 리브들 (5) 의 높이는 2 내지 100 마이크로미터인 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 방법은, 단계 c) 와 단계 d) 사이에, 이하의 단계:
    e) 고정 수단 (16) 을 갖는 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품 (11, 111, 211, 311, 411, 511, 611, 711, 811, 911, 1011, 1111) 을 형성하도록 상기 적어도 하나의 금속-기반 부품 (11, 111, 211, 311, 411, 511, 611, 711, 811, 911, 1011, 1111) 의 일 부분을 선택적으로 기계가공하는 단계
    를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  8. 삭제
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재 (1) 는 0.3 내지 1 mm 의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    단계 b) 는 이하의 페이즈들 (phases):
    f) 상기 기재 (1) 의 도전성 상부 표면 (3) 상에 감광성 수지의 층을 디포짓팅하는 페이즈;
    g) 상기 감광성 수지의 일 부분을 선택적으로 조명하는 페이즈;
    h) 상기 몰드 (7) 의 상기 적어도 하나의 캐비티 (6) 를 형성하도록 상기 감광성 수지를 현상 (developing) 하는 페이즈
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 금속-기반 부품 (11, 111, 211, 311, 411, 511, 611, 711, 811, 911, 1011, 1111) 은 니켈 또는 니켈-인 베이스로부터 형성되는 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  12. 제 1 항에 있어서,
    여러 개의 금속-기반 부품들이 동일 기재상에 형성되는 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 금속-기반 부품 (11, 111, 211, 311, 411, 511, 611, 711, 811, 911, 1011, 1111) 은 다이얼, 개구 장식, 플랜지, 베젤, 푸시-피이스, 크라운, 케이스 백 커버, 핸드, 팔찌 또는 스트랩, 링크, 클래스프 (clasp), 장식, 진동 웨이트 또는 아플리케 (applique) 의 전부 또는 일부를 형성하는 것을 특징으로 하는 적어도 하나의 광학적 착각 패턴을 갖는 금속-기반 부품의 제조 방법.
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