KR102003142B1 - 착색 경화성 수지 조성물 - Google Patents
착색 경화성 수지 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102003142B1 KR102003142B1 KR1020177016869A KR20177016869A KR102003142B1 KR 102003142 B1 KR102003142 B1 KR 102003142B1 KR 1020177016869 A KR1020177016869 A KR 1020177016869A KR 20177016869 A KR20177016869 A KR 20177016869A KR 102003142 B1 KR102003142 B1 KR 102003142B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- parts
- formula
- carbon atoms
- resin composition
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
- C09B11/04—Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
- C09B11/10—Amino derivatives of triarylmethanes
- C09B11/12—Amino derivatives of triarylmethanes without any OH group bound to an aryl nucleus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B1/00—Dyes with anthracene nucleus not condensed with any other ring
- C09B1/16—Amino-anthraquinones
- C09B1/20—Preparation from starting materials already containing the anthracene nucleus
- C09B1/26—Dyes with amino groups substituted by hydrocarbon radicals
- C09B1/32—Dyes with amino groups substituted by hydrocarbon radicals substituted by aryl groups
- C09B1/325—Dyes with no other substituents than the amino groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B1/00—Dyes with anthracene nucleus not condensed with any other ring
- C09B1/16—Amino-anthraquinones
- C09B1/20—Preparation from starting materials already containing the anthracene nucleus
- C09B1/26—Dyes with amino groups substituted by hydrocarbon radicals
- C09B1/32—Dyes with amino groups substituted by hydrocarbon radicals substituted by aryl groups
- C09B1/34—Dyes with amino groups substituted by hydrocarbon radicals substituted by aryl groups sulfonated
- C09B1/346—Dyes with amino groups substituted by hydrocarbon radicals substituted by aryl groups sulfonated only sulfonated in a substituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
- C09B11/04—Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
- C09B11/10—Amino derivatives of triarylmethanes
- C09B11/24—Phthaleins containing amino groups ; Phthalanes; Fluoranes; Phthalides; Rhodamine dyes; Phthaleins having heterocyclic aryl rings; Lactone or lactame forms of triarylmethane dyes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
- C09B23/0066—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain being part of a carbocyclic ring,(e.g. benzene, naphtalene, cyclohexene, cyclobutenene-quadratic acid)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
- C09B23/02—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups
- C09B23/06—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups three >CH- groups, e.g. carbocyanines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B47/00—Porphines; Azaporphines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
- C09B57/14—Benzoxanthene dyes; Benzothioxanthene dyes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
- C09B67/0034—Mixtures of two or more pigments or dyes of the same type
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
착색제(A), 수지(B), 중합성 화합물(C)및 중합 개시제(D)를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물로서,
착색제(A)가, 식(a)로 표시되는 화합물과,
크산텐 염료 및 크산텐 염료와 시아닌 염료의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물.
[식 중, k1, k2, k3 및 k4는, 각각 독립하여, 0~4의 정수를 나타내고, 1≤k1+k2+k3+k4≤16이다.
Xa -, Xb -, Xc - 및 Xd -는, 각각 독립하여, -CO3 - 또는 -SO3 -를 나타낸다.
Aa +, Ab +, Ac + 및 Ad +는, 각각 독립하여, 나트륨 이온, 칼륨 이온 또는 식(b)로 표시되는 카티온을 나타낸다.
식(b)중, R100, R101, R102 및 R103는, 각각 독립하여, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 탄화수소기를 나타낸다.]
착색제(A)가, 식(a)로 표시되는 화합물과,
크산텐 염료 및 크산텐 염료와 시아닌 염료의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물.
[식 중, k1, k2, k3 및 k4는, 각각 독립하여, 0~4의 정수를 나타내고, 1≤k1+k2+k3+k4≤16이다.
Xa -, Xb -, Xc - 및 Xd -는, 각각 독립하여, -CO3 - 또는 -SO3 -를 나타낸다.
Aa +, Ab +, Ac + 및 Ad +는, 각각 독립하여, 나트륨 이온, 칼륨 이온 또는 식(b)로 표시되는 카티온을 나타낸다.
식(b)중, R100, R101, R102 및 R103는, 각각 독립하여, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 탄화수소기를 나타낸다.]
Description
본 발명은 착색 경화성 수지 조성물에 관한 것이다.
착색 경화성 수지 조성물로 형성되는 컬러 필터는, 액정 표시 패널, 일렉트로루미네선스 패널 및 플라즈마 디스플레이 패널 등의 표시 장치에 사용되고, 양호한 명도, 양호한 콘트라스트, 양호한 해상도를 가지는 컬러 필터가 요구되고 있다.
양호한 명도, 양호한 콘트라스트, 양호한 해상도를 가지는 컬러 필터를 실현하기 위해서, 착색제로서 염료를 함유하는 착색 경화성 수지 조성물이 검토되고 있는데, 염료를 함유함으로써 내열성, 내약품성 등이 저하하는 것이 문제가 되었다.
특허문헌 1에는, 착색제로서 C.I.피그먼트 블루 15:6과 C.I.애시드 레드 52와 하기 식으로 표시되는 염료를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물로서, C.I.애시드 레드 52의 함유량이, C.I.피그먼트 블루 15:6 100질량부에 대하여, 14.7질량부인 착색 경화성 수지 조성물이 기재되어 있다.
상기의 착색 경화성 수지 조성물로 형성되는 컬러 필터는, 내열성과 명도의 양쪽을 반드시 충분히 만족할 수 없었다.
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.
[1]착색제(A), 수지(B), 중합성 화합물(C)및 중합 개시제(D)를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물로서,
착색제(A)가, 식(a)로 표시되는 화합물과,
크산텐 염료 및 크산텐 염료와 시아닌 염료의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물.
[식 중, k1, k2, k3 및 k4는 각각 독립하여, 0~4의 정수를 나타내고, 1k1+k2+k3+k4≤16이다.
Xa -, Xb -, Xc - 및 Xd -는 각각 독립하여, -CO3 - 또는 -SO3 -를 나타낸다.
Aa +, Ab +, Ac + 및 Ad +는 각각 독립하여, 나트륨 이온, 칼륨 이온 또는 식(b)로 표시되는 카티온을 나타낸다.
식(b)중, R100, R101, R102 및 R103은 각각 독립하여, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 탄화 수소기를 나타낸다.]
[2]크산텐 염료가 C.I.애시드 52 또는 하기 식(I)로 표시되는 화합물인[1]에 기재의 착색 경화성 수지 조성물.
[식(I)중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립하여, 치환기를 가져도 되는 탄소수 2~10의 1가의 포화 탄화 수소기 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기를 나타낸다.
R51, R52 및 R53은 각각 독립하여, 수소 원자, -SO3 -, -SO3H 또는 -SO3 -Z+를 나타낸다.
X+ 및 Z+는 각각 독립하여, +N(R13)4, Na+ 또는 K+를 나타내고, R13은 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 1가의 포화 탄화 수소기를 나타낸다. R13은 동일해도 되고 달라도 된다.
a는 1~4의 정수를 나타낸다.]
[3]착색제(A)가, 청색 또는 자색 염료(A2)를 더 포함하는[1]또는[2]에 기재의 착색 경화성 수지 조성물.
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물에 의하면, 양호한 내열성과 양호한 명도를 가지는 컬러 필터를 제조할 수 있다.
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 착색제(A), 수지(B), 중합성 화합물(C)및 중합 개시제(D)를 포함한다.
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 용제(E)및 레벨링제(F)에서 선택되는 적어도 1개를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은 중합 개시 조제(D1)를 포함해도 된다.
<착색제(A)>
착색제(A)는 식(a)로 표시되는 화합물(이하, 화합물(a)라고 하는 경우가 있다.)과,
크산텐 염료 및 크산텐 염료와 시아닌 염료의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개를 포함한다.
착색제(A)는 또한 청색 또는 자색 염료(A2)(이하, 「염료(A2)」라고 하는 경우가 있다.)를 포함해도 된다. 또한, 착색제(A)는 안료(A1), 청색 또는 자색 염료(A2)와는 상이한 염료(Ac)(이하, 「염료(Ac)」라고 하는 경우가 있다.)를 포함해도 된다.
또한, 본 출원에 있어서, 「C.I.」는 컬러 인덱스(C.I)를 의미한다.
<화합물(a)>
[식 중, k1, k2, k3 및 k4는 각각 독립하여, 0~4의 정수를 나타내고, 1k1+k2+k3+k4≤16이다.
Xa -, Xb -, Xc - 및 Xd -는 각각 독립하여, -CO3 - 또는 -SO3 -를 나타낸다.
Aa +, Ab +, Ac + 및 Ad +는 각각 독립하여, 나트륨 이온, 칼륨 이온 또는 식(b)로 표시되는 카티온을 나타낸다.
식(b)중, R100, R101, R102 및 R103은 각각 독립하여, 수소 원자, 탄소수 1~30의 탄화 수소기, 또는 탄소수 6~30의 헤테로 고리기를 나타낸다.]
k1, k2, k3 및 k4는 각각 독립하여, 0~4의 정수를 나타낸다. 다만, 1k1+k2+k3+k4≤16이고, 1≤k1+k2+k3+k4≤2인 것이 바람직하다.
R100, R101, R102 및 R103으로 표시되는 탄화 수소기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-도데실기, n-헥사데실기 및 n-이코실기 등의 탄소수 1~30의 직쇄상 알킬기;이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기 및 2-에틸헥실기 등의 탄소수 3~30의 분기쇄상(分岐鎖?) 알킬기;시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 및 트리시클로데실기 등의 탄소수 3~30의 지환식 포화 탄화 수소기를 들 수 있다. 바람직하게는 탄소수 1~8의 알킬기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~4의 알킬기이다.
화합물(a)의 구체적 예로는, 하기에 기재된 것을 들 수 있다.
화합물(a)의 함유량은, 착색제(A)전량에 대하여, 통상 0.1~99질량%이고, 0.1~20질량%인 것이 바람직하고, 0.1~10질량%인 것이 보다 바람직하다.
화합물(a)는 2종 이상 포함해도 된다.
<크산텐 염료>
크산텐 염료는, 크산텐 골격을 가지는 화합물을 포함하는 염료를 의미한다. 크산텐 염료는 치환기로서 -SO3 -기를 2개 가지고 있는 크산텐 염료가 바람직하고, C.I.애시드 레드 52 및 그 유연체(類?)가 보다 바람직하다. C.I.애시드 레드 52의 유연체란, 식(I)로 표시되는 화합물(이하, 화합물(I)이라고 하는 경우가 있다.)을 의미한다.
<화합물(I)>
[식(I)중, R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립하여, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~10의 1가의 포화 탄화 수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기를 나타낸다.
R51, R52 및 R53은, 각각 독립하여, 수소 원자, -SO3 -, -SO3H 또는 -SO3 -Z+를 나타낸다.
X+ 및 Z+는, 각각 독립하여, +N(R13)4, Na+ 또는 K+를 나타내고, R13은 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 1가의 포화 탄화 수소기를 나타낸다. R13은 동일해도 되고 달라도 된다.
a는 1~4의 정수를 나타낸다.]
R1, R2, R3 및 R4로 표시되는 탄소수 2~10의 1가의 포화 탄화 수소기로는, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 데실기, 1-메틸부틸기, 1,1,3,3-테트라메틸부틸기, 1,5-디메틸헥실기, 1,6-디메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 1,1,5,5-테트라메틸헥실기 등의 탄소수 3~10의 직쇄 또는 분기쇄상 알킬기;시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 아다만틸기 등의 탄소수 3~10의 시클로알킬기를 들 수 있고, n-프로필기, n-부틸기, 2-에틸헥실기가 바람직하다.
R1, R2, R3 및 R4로 표시되는 탄소수 2~10의 1가의 포화 탄화 수소기에 포함되는 수소 원자는 히드록시기, 알콕시기 또는 할로겐 원자로 치환되어도 된다.
할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.
알콕시기로는, 예를들면, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기 및 이코실옥시기 등의 탄소수 1~20의 알콕시기를 들 수 있다.
할로겐 원자로 치환된 탄소수 1~10의 1가의 포화 탄화 수소기로는, 헵타플루오로프로필기, 1,1-디플루오로프로필기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 노나플루오로부틸기, 2,2―디플루오로부틸기, 운데카플루오로펜틸기, 3-(트리플루오로메틸)-3,4,4,4-펜타플루오로부틸기, 6,6,6-트리플루오로헥실기, 헵타클로로프로필기, 헵타브로모프로필기, 3,3,3-트리요오드프로필기, 2,2-디클로로-3,3,3-트리플루오로프로필기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 하기 식으로 표시되는 기가 바람직하다.
(*는 결합손을 나타낸다.)
R1, R2, R3 및 R4로 표시되는 아릴기로는, 페닐기, 나프탈렌기 등의 탄소수 6~10의 방향족 탄화수소기;벤질기, 페네틸기 등의 탄소수 6~10의 아랄킬기 등을 들 수 있고 페닐기가 바람직하다.
R1, R2, R3 및 R4로 표시되는 아릴기는. 메틸기, 에틸기, n-프로필기 등의 탄소수 1~20의 알킬기;메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기 및 이코실옥시기 등의 탄소수 1~20의 알콕시기;히드록시기로 치환되어 있어도 된다.
R1, R2, R3 및 R4로 표시되는 아릴기가 가지는 치환기로는, 탄소수 1~20의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~10의 알킬기가 보다 바람직하다.
R13으로 표시되는 탄소수 1~20의 1가의 포화 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-도데실기, n-헥사데실기 및 n-이코실기 등의 탄소수 1~20의 직쇄상 알킬기;이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기 및 2-에틸헥실기 등의 탄소수 3~20의 분기쇄상 알킬기;시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 및 트리시클로데실기 등의 탄소수 3~20의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있다.
Z+는 +N(R13)4, Na+ 또는 K+를 나타내고, R13은 동일해도 되고, 달라도 된다.
-SO3 -Z+로는, -SO3 -+N(R13)4가 바람직하다.
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립하여, 탄소수 3~10의 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기인 것이 바람직하고, 탄소수 3~8의 알킬기 또는 탄소수 1~10의 알킬기로 치환되어 있어도 되는 페닐기인 것이 보다 바람직하다.
R1, R2, R3 및 R4에 있어서, R1과 R3는 동일한 기(基)인 것이 바람직하고, R2와 R4가 동일한 기인 것이 바람직하다.
a는 1~4의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1 또는 2이고, 보다 바람직하게는 1이다.
R51, R52 및 R53은 모두 동일한 것이 바람직하고, 모두 수소 원자인것이 보다 바람직하다.
화합물(I)는, 예를들면, WO2013/050431에 따라 제조할 수 있다.
크산텐 염료의 구체적 예로는, C.I.애시드 레드 52 외에, 하기에 나타내는 화합물을 들 수 있다. 하기 식 중, R26 및 R40은, 각각 독립하여, 2-에틸헥실기를 나타낸다.
크산텐 염료(A3)로는, 시판되고 있는 크산텐 염료(예를 들면, 츄가이화성(주)제의 「Chugai Aminol Fast Pink R-H/C」, 다오카화학공업(주)제의 「Rhodamin 6G」)및 하기에 기재된 화합물도 들 수 있다. 또한, 시판되고 있는 크산텐 염료를 출발 원료로 하여, 일본국 특허공개 2010-32999호 공보를 참고로 합성할 수도 있다.
크산텐 염료의 함유량은, 화합물(a)100질량부에 대하여, 통상 0.1~30질량부이고, 바람직하게는 0.1~20질량부이며, 보다 바람직하게는 0.1~10질량부이다.
크산텐 염료는 2종 이상 포함하고 있어도 된다.
<크산텐 염료와 시아닌 염료의 염>
크산텐 염료와 시아닌 염료의 염으로는, 크산텐 화합물 유래의 아니온과 시아닌 화합물 유래의 카티온으로 이루어지는 염을 의미한다.
시아닌 화합물이란, 2개의 복소환(複素環)을 홀수개의 메틴기로 공역 이중 결합(共役二重結合)시킨 구조를 분자 내에 가지는 화합물을 나타낸다.
크산텐 화합물 유래의 아니온으로는, 상술한 크산텐 염료 유래의 아니온을 들 수 있다.
시아닌 화합물로는, 식(1b)로 표시되는 화합물 또는 식(1c)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
[식(1b)중, 환 Z1및 환 Z2는, 각각 독립하여, 치환되어 있어도 되는 복소환을 나타낸다.
Y1, Y2및 Y3는, 각각 독립하여, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1~8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, Y1, Y2및 Y3에서 선택되는 2개가 서로 결합하여 환을 형성해도 된다.
u는 0 이상 3 이하의 정수를 나타낸다.
Xb1 -는 역아니온을 나타내고, b1는 1 또는 2를 나타낸다.
식(1c)중, 환 Z3, 환 Z4, 환 Z5 및 환 Z6은, 각각 독립하여, 치환되어 있어도 되는 복소환을 나타낸다.
Y4、Y5、Y6、Y7、Y8및 Y9는, 각각 독립하여, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1~8의 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, Y4、Y5、Y6、Y7、Y8및 Y9에서 선택되는 2개가 서로 결합하여 환을 형성해도 된다.
L1은 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~16의 2가의 탄화수소기를 나타낸다.
v 및 w는, 각각 독립하여, 0 이상 3이하의 정수를 나타낸다.
Xc1 -는 역아니온을 나타내고, c1는 1 또는 2를 나타낸다.
환(環) Z1, 환 Z2, 환 Z3, 환 Z4, 환 Z5 및 환 Z6로 표시되는 복소환은, 적어도 1개의 헤테로 원자를 환의 구성 요소로서 포함하고, 단환이어도 되고, 다환이어도 된다.
헤테로 원자는 주기율표에 있어서의 제15족 또는 제16족의 원소에서 선택되는 원자이면 되고, 예를 들면, 질소 원자, 산소 원자, 유황 원자, 셀렌 원자나 텔루르 원자를 들 수 있다.
복소환으로는, 인돌환, 벤조인돌환, 인돌레닌환, 벤조인돌레닌환, 옥사졸환, 벤조옥사졸환, 티아졸환, 벤조티아졸환, 이미다졸환, 벤조이미다졸환 및 퀴놀린환을 들 수 있다.
환 Z1, 환 Z2, 환 Z3, 환 Z4, 환 Z5 및 환 Z6로 표시되는 복소환을 가지고 있어도 되는 치환기로는,
메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기 등의 탄소수 1~6의 지방족 탄화수소기;
페닐기、o-트릴기, m-트릴기, p-트릴기, 크실릴기, 메시틸기, o-큐멘일기, m-큐멘일기, p-큐멘일기, 나프틸기 등의 탄소수 6~12의 아릴기;
벤질기 등의 탄소수 7~10의 아랄킬기;
메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기;
페녹시기 등의 탄소수 6~10의 아릴옥시기;
벤질옥시기 등의 탄소수 7~10의 아랄킬옥시기;
메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 아세톡시기, 벤조일옥시기 등의 에스테르 결합을 가지는 기;메틸술파모일기, 디메틸술파모일기, 에틸술파모일기, 디에틸술파모일기, n-프로필술파모일기, 디-n-프로필술파모일기, 이소프로필술파모일기, 디이소프로필술파모일기, n-부틸술파모일기, 디-n-부틸술파모일기, 2-에틸헥실술파모일기 등의 탄소수 1~8의 알킬술파모일기;
메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 프로필술포닐기, 이소프로필술포닐기, n-부틸술포닐기, 이소부틸술포닐기, sec-부틸술포닐기, tert-부틸술포닐기 등의 탄소수 1~6의 알킬술포닐기;
불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자;
비닐기, 알릴기, 프로펜-2-일기, 메타알릴기, 부타-3-엔(en)-1-일기, 부타-3-엔-2-일기, 부타-3-엔-3-일기, 펜타-4-엔-1-일기 등의 탄소수 2~6의 알케닐기;
니트로기;시아노기 등을 들 수 있다.
또한, 이러한 치환기가 수소 원자를 가지는 경우, 그 수소 원자는, 예를들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자;메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기 등의 알콕시기;페녹시기, 벤질옥시기 등의 아릴옥시기;카르복시기;시아노기;니트로기;아크릴로일옥시기;메타아크릴로일옥시기 등에 의해 치환되어 있어도 된다.
Y1~Y9로 표시되는 탄소수 1~8의 지방족 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.
Y1~Y9로 표시되는 탄소수 6~12의 아릴기로는, 페닐기, o-트릴기, m-트릴기, p-트릴기, 크실릴기, 메시틸기, o-큐멘일기, m-큐멘일기, p-큐멘일기, 나프틸기 등을 들 수 있다.
환 Z1, 환 Z2, 환 Z3, 환 Z4, 환 Z5 및 환 Z6으로 표시되는 복소환은, 인돌환, 벤조인돌환, 인돌레닌환 또는 벤조인돌레닌환이 바람직하고, 인돌환 또는 인돌레닌환이 보다 바람직하다.
환 Z1, 환 Z2, 환 Z3, 환 Z4, 환 Z5 및 환 Z6으로 표시되는 복소환은, 알킬기 또는 할로겐 원자를 치환기로서 1개 또는 2개 가지는 것이 바람직하다.
Y1~Y3는, 각각 독립하여, 수소 원자, 시아노기, 할로겐 원자 또는 탄소수1~8의 지방족 탄화수소기를 나타내거나, Y1~Y3중 2개가 함께 환을 형성하는 것이 바람직하고,
Y1~Y3는, 각각 독립하여, 수소 원자, 시아노기 또는 할로겐 원자가 보다 바람직하고, 수소 원자가 더욱 바람직하다.
Y4~Y9는, 각각 독립하여, 수소 원자, 시아노기, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~8의 지방족 탄화수소기를 나타내거나, Y4~Y9중 2개가 함께 환을 형성하는 것이 바람직하고,
Y4~Y9는, 각각 독립하여, 수소 원자, 시아노기 또는 할로겐 원자가 보다 바람직하고, 수소 원자가 더욱 바람직하다.
u、v 및 w는, 얻어지는 컬러 필터의 명도의 점에서, 1인 것이 바람직하다.
L1로 표시되는 2가의 탄화수소기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 에탄디일기, 프로판디일기, 부탄디일기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기 등의 알칸디일기;
시클로펜탄디일기, 시클로헥산디일기, 시클로헥센디일기 등의 2가의 지환식 탄화수소기;
o-페닐렌기, m-페닐렌기, p-페닐렌기, 나프틸렌기 등의 2가의 방향족 탄화수소기;등을 들 수 있다.
그 2가의 탄화수소기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 아미노기, 카르복시기, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 히드록시기 등을 들 수 있다.
L1는, 환 Z3 및 환 Z5의 어떠한 위치에 결합해도 된다.
상기 2가의 탄화수소기는, 탄소수 1~16의 알칸디일기가 바람직하고, 탄소수 1~10의 알칸디일기가 보다 바람직하고, 탄소수 3~8의 알칸디일기가 더욱 바람직하다.
Xb1 - 또는 Xc1 -를 나타내는 역아니온으로는, 할로겐화물 이온, ClO4 -, OH-, 유기 카복실산 아니온, 유기 술폰산 아니온, 루이스산 아니온, 유기 금속 착체 아니온, 색소 유래 아니온 등을 들 수 있다.
할로겐화물 이온으로는, Cl-, Br-, I- 등을 들 수 있다.
유기 카복실산 아니온으로는, 안식향산 이온, 알칸산 이온, 트리할로알칸산 이온, 니코틴산 이온 등을 들 수 있다.
유기 술폰산 아니온으로는, 벤젠술폰산 이온, 나프탈렌술폰산 이온, p-톨루엔술폰산 이온, 알칸술폰산 이온 등을 들 수 있다.
루이스산 아니온으로는, BF4 -, SbF6 -등을 들 수 있다.
색소 유래 아니온으로는, 프탈로시아닌 화합물에 유래하는 아니온, 아조 화합물에 유래하는 아니온 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 프탈로시아닌 화합물에 유래하는 아니온이다.
유기 금속 착체 아니온은, 중심 금속과 배위자(配位子)로 이루어지고, 배위자로는, 아조계 배위자, 비스페닐디티올계 배위자, 티오카테콜킬레이트계 배위자, 티오비스페놀레이트킬레이트계 배위자, 비스디올-α-디케톤계 배위자 등을 들 수 있다. 중심 금속으로는, 주기율표에 있어서의 제3족~제11족의 천이 금속, 예를 들면, 스칸듐, 이트륨, 티탄, 지르코늄, 하프늄, 바나듐, 니오브, 탄탈, 크롬, 몰리브덴, 텅스텐, 망간, 테크네튬, 레늄, 철, 루테늄, 오스뮴, 코발트, 로듐, 이리듐, 니켈, 팔라듐, 백금, 구리, 은, 금, 카드뮴, 수은 등을 들 수 있다.
상기 배위자로는, 아조계 배위자나 비스페닐디티올계 배위자가 바람직하고, 아조계 배위자가 보다 바람직하다.
상기 중심 금속으로는, 제조 비용과 취급의 용이함의 점에서, 코발트, 니켈이나 구리가 바람직하다.
상기 유기 금속 착체 아니온은, 구체적으로는, 중심 금속이 코발트, 니켈 혹은 구리인 아조 금속 착체 아니온 또는 비스페닐디티올 금속 착체 아니온인 것이 바람직하고, 중심 금속이 코발트, 니켈 또는 구리인 아조 금속 착체 아니온이 보다 바람직하다.
식(1b)로 표시되는 화합물은, 식(2c)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
[식(2c)중, 환 Z7 및 환 Z8는, 각각 독립하여, 치환기를 가지고 있어도 되는 벤젠환 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 나프탈렌환을 나타낸다.
Y1~Y5, u, Xb1- 및 b1은, 식(1b)에 있어서의 것과 동일하다.
Y10 및 Y11는, 각각 독립하여, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.
Y12 및 Y13는, 각각 독립하여, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6의 1가의 지방족 탄화수소기를 나타내거나, 1가의 Y12와 1개의 Y13가 서로 결합하여 탄소수 2~6의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.
p1 및 p2는, 각각 독립하여, 0 이상 2 이하의 정수를 나타낸다.]
1가의 지방족 탄화수소기로는, 메틸기, 에틸기, 비닐기, 에티닐기, 프로필기, 이소프로필기, 이소프로페닐기, 알릴기, 프로펜-2-일기, 프로피닐기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 부타-3-엔-2-일기, 부타-1,3-디엔-2-일기, 펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 펜타-2-엔-4-일기, 헥실기, 이소헥실기, 5-메틸헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등의 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화수소기를 들 수 있다.
1가의 지방족 탄화수소기에 있어서의 치환기로는, 예를 들면, 페닐기, o-트릴기, m-트릴기, p-트릴기, 크실릴기, 메시틸기, o-큐멘일기, m-큐멘일기, p-큐멘일기 등의 탄소수 6~12의 방향족 탄화수소기;
메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 페녹시기, 벤질옥시기 등의 탄소수 1~8의 알콕시기;
불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자;
히드록시기;카르복시기;니트로기;시아노기 등을 들 수 있다.
2가의 지방족 탄화수소기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판디일기, 부탄디일기 등을 들 수 있다.
Y10 및 Y11는, 각각 독립하여, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~8의 알킬기인 것이 바람직하고, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~5의 알킬기인 것이 보다 바람직하다.
Y12 및 Y13는, 각각 독립하여, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~3의 알킬기가 바람직하고, 메틸기 또는 트리플루오로메틸기가 보다 바람직하다. Y12 및 Y13는, 동일한 기인 것이 바람직하다.
시아닌 화합물로는, 식(2c-1)로 표시되는 화합물~식(2c-19)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
시아닌 화합물에 유래하는 카티온으로는, 식(1b)로 표시되는 화합물 또는 식(2c)로 표시되는 화합물에 있어서의 카티온을 들 수 있다.
크산텐 화합물 유래의 아니온과 시아닌 화합물 유래의 카티온의 염으로는, 하기에 기재된 염을 들 수 있다.
크산텐 염료와 시아닌 염료로 이루어지는 염의 함유량은, 화합물(a)100질량부에 대하여, 통상, 0.1~20질량부이다.
<염료(A2)>
청색 또는 자색 염료란, 클로로포름 용액 중에 있어서, 560nm 이상 650nm 이하의 범위에 극대 흡수 파장을 가지는 염료를 의미한다. 청색 또는 자색 염료는, 580nm 이상 650nm 이하의 범위에 극대 흡수 파장을 가지는 염료인 것이 바람직하고, 600nm 이상 645nm 이하의 범위에 극대 흡수 파장을 가지는 염료인 것이 보다 바람직하다.
청색 또는 자색 염료(A2)는, 트리아릴메탄 염료(A4), 테트라아자포르피린 염료(A5), 안트라퀴논 염료(A6)및 식(A7)로 표시되는 염료(이하, 염료(A7)이라고 하는 경우가 있다.)로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개인 것이 바람직하고,
트리아릴메탄 염료(A4)및 염료(A7)로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개인 것이 보다 바람직하다.
염료(A2)는 2종 이상 함유되어 있어도 된다.
트리아릴메탄 염료(A4)는, 분자 내에 트리아릴메탄 골격을 가지는 화합물을 포함하는 염료이다. 트리아릴메탄 염료(A4)로는, 예를 들면, C.I.애시드 바이올렛(이하, C.I.애시드 바이올렛의 기재를 생략하고, 번호만의 기재로 한다.)15, 16, 17, 19, 21, 23, 24, 25, 38, 49, 72,
C.I.애시드 블루 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 22, 24, 26, 34, 38, 48, 75, 83, 84, 86, 88, 90, 90:1, 91, 93, 93:1, 99, 100, 103, 104, 108, 109, 110, 119, 123, 147, 213, 269,
C.I.베이식 블루 7, 81, 83, 88, 89,
C.I.베이식 바이올렛 2,
C.I.다이렉트 블루 1, 3, 28, 29, 41, 42, 47, 52, 55,
C.I.후드 바이올렛 3,
C.I.모든트 바이올렛
1, 1:1, 3, 6, 8, 10, 11, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 23, 27, 28, 33, 36, 39, 49, 등을 들 수 있다.
트리아릴메탄 염료(A4)로는, 하기에 기재된 화합물도 들 수 있다.
테트라아자포르피린 염료(A5)는, 분자 내에 테트라아자포르피린 골격을 가지는 화합물을 포함하는 염료이다. 또한, 테트라아자포르피린 염료가 산성 염료 또는 염기성 염료인 경우, 임의의 카티온 또는 아니온과 염을 형성해도 된다.
테트라아자포르피린 염료로는, 하기에 기재된 화합물을 들 수 있다.
안트라퀴논 염료(A6)는, 분자 내에 안트라퀴논 골격을 가지는 화합물을 포함하는 염료이다.
안트라퀴논 염료(A6)로는, 예를 들면,
C.I.솔벤트 바이올렛 11, 13, 14, 26, 31, 36, 37, 38, 45, 47, 48, 51, 59, 60,
C.I.솔벤트 블루 14, 18, 35, 36, 45, 58, 59, 59:1, 63, 68, 69, 78, 79, 83, 94, 97, 98, 100, 101, 102, 104, 105, 111, 112, 122, 128, 132, 136, 139,
C.I.애시드 바이올렛 34,
C.I.애시드 블루 25, 27, 40, 45, 78, 80, 112
C.I.디스퍼스 바이올렛 26, 27,
C.I.디스퍼스 블루 1, 14, 56, 60,
C.I.다이렉트 블루 40,
C.I.모든트 블루 8 등을 들 수 있다.
안트라퀴논 염료(A6)로는, 하기에 기재된 화합물도 들 수 있다.
염료(A7)로는, 식(A7)로 표시되는 화합물 및 그 호변 이성체를 들 수 있다.
[식(A7)중,
g는 임의의 자연수를 나타낸다.
Gg -는 g가의 아니온을 나타낸다.
D는 치환기를 가지고 있어도 되는 헤테로 방향족기를 나타낸다.
R1A, R2A, R3A, R4A, R5A, R6A, R7A 및 R8A는, 각각 독립하여, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 히드록시기 또는 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어도 된다.
R21A 및 R22A는, 각각 독립하여, 치환되어 있어도 되는 아미노기를 나타낸다.]
R1A, R2A, R3A, R4A, R5A, R6A, R7A 및 R8A로 표시되는 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 2-알킬아다만탄-2-일기, 1-(아다만탄-1-일)알칸-1-일기, 노르보르닐기, 메틸노르보르닐기 및 이소보르닐기 등의 탄소수 1~20의 알킬기를 들 수 있다. 바람직하게는 탄소수 1~8의 알킬기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~6의 알킬기이고, 더욱 바람직하게는 탄소수 1~4의 알킬기이다.
R1A, R2A, R3A, R4A, R5A, R6A, R7A 및 R8A로 표시되는 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어도 된다.
R1A, R2A, R3A, R4A, R5A, R6A, R7A 및 R8A로 표시되는 알킬기에 포함되는 -CH2-가 -O-로 치환되어 있는 기로는, 구체적으로는, 하기와 같은 기를 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 1~10의 알킬기에 포함되는 -CH2-가 -O-로 치환되어 있는 기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~6의 알킬기에 포함되는 -CH2-가 -O-로 치환되어 있는 기이다.
R1A, R2A, R3A, R4A, R5A, R6A, R7A 및 R8A로 표시되는 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있고, 바람직하게는 불소 원자 또는 염소 원자이다.
R1A, R2A, R3A, R4A, R5A, R6A, R7A 및 R8A는, 각각 독립하여, 수소 원자 또는 탄소수 1~8의 알킬기인 것이 바람직하고, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 보다 바람직하고, 수소 원자인 것이 더욱 바람직하다.
R21A 및 R22A로 표시되는 아미노기에 포함되는 수소 원자는, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기, 또는, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 포함하는 기로 치환되어 있어도 된다.
치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기에 있어서, 아릴기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등의 탄소수 6~14의 아릴기를 들 수 있고, 그 아릴기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자 및 탄소수 1~8의 알킬기를 들 수 있다.
치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기에 있어서, 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 2-알킬아다만탄-2-일기, 1-(아다만탄-1-일)알칸-1-일기, 노르보르닐기, 메틸노르보르닐기 및 이소보르닐기 등의 탄소수 1~20의 알킬기를 들 수 있다. 그 알킬기에 포함되는 질소 원자에 인접하는 -CH2-이외의 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 아미노기, 치환 아미노기, 할로겐 원자 및 규소 원자를 포함하는 기를 들 수 있다.
할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.
치환 아미노기로는, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 프로필아미노기, 이소프로필아미노기, 부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디프로필아미노기, 에틸메틸아미노기 등의 탄소수 1~8의 알킬아미노기 및 탄소수 1~8의 디알킬아미노기를 들 수 있다.
아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 포함하는 기로는, 기의 구성 단위로서, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 적어도 1개 가지고 있는 기를 의미한다.
아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 포함하는 기의 탄소수는, 통상, 3~30이고. 바람직하게는 3~20이다.
아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 포함하는 기는, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 포함하는 기인 것이 바람직하다.
아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 포함하는 기는, 식(A7-1)로 표시되는 기인 것이 바람직하다.
[식(A7-1)중, R15A은 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 나타낸다.
R14A는, 탄소수 1~8의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 된다.
*는 질소 원자와의 결합손을 나타낸다.]
R14A로 표시되는 탄소수 1~8의 알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 에탄-1,1-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-2,2-디일기, 펜탄-2,4-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1~4의 알칸디일기이고, 보다 바람직하게는 메틸렌기 또는 에틸렌기이고, 더욱 바람직하게는 메틸렌기이다.
아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 포함하는 기로는, 하기에 기재된 기를 들 수 있다.(*는 질소 원자와의 결합손을 나타낸다.)
R21A 및 R22A로 표시되는 치환되어 있어도 되는 아미노기로는, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 프로필아미노기, 이소프로필아미노기, 부틸아미노기, 이소부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, 펜틸아미노기, 네오펜틸아미노기, 헥실아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디프로필아미노기, 디이소프로필아미노기, 에틸메틸아미노기, 에틸이소프로필아미노기, 에틸프로필아미노기, 이소프로필메틸아미노기, 이소프로필프로필아미노기, 메틸프로필아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 2-메틸페닐아미노기, 4-메틸페닐아미노기, 3-메틸페닐아미노기, 3,5-디메틸페닐아미노기, 4-에틸페닐아미노기, N-메틸-N-페닐아미노기, 아크릴로일옥시메틸아미노기, N-(아크릴로일옥시메틸)-N-메틸아미노기, N-(아크릴로일옥시에틸)-N-에틸아미노기, N-(메타크릴로일옥시에틸)-N-에틸아미노기, N-(아크릴로일옥시에틸)-N-페닐아미노기, N-(아크릴로일옥시에틸)-N-(메타크릴로일옥시메틸)아미노기, N-(아크릴로일옥시에틸옥시메틸)-N-에틸아미노기 및 N-(메타크릴로일옥시에틸옥시메틸)-N-에틸아미노기를 들 수 있다.
D로 표시되는 헤테로 방향족 탄화 수소기는, 적어도 1개의 헤테로 원자를 가지고 있으면 되고, 헤테로 원자로는, 질소 원자, 산소 원자 및 유황 원자를 들 수 있다.
D로 표시되는 헤테로 방향족 탄화수소기는, 단환이어도 되고, 다환이어도 된다.
D로 표시되는 헤테로 방향족 탄화수소기로는, 피리딜기, 이미디졸릴기, 피라졸릴기, 옥사졸릴기, 이소옥사졸릴기, 티아졸릴기, 이소티아졸릴기, 벤조티아졸릴기, 벤조이소티아졸릴기, 티에닐기, 벤조티에닐기 등의 탄소수 2~8의 헤테로 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, 환의 구성 요소로서 질소 원자 또는 유황 원자를 적어도 1개 포함하는 탄소수 2~8의 헤테로 방향족 탄화수소기가 바람직하다.
D로 표시되는 헤테로 방향족 탄화수소기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 치환되어 있어도 되는 아미노기, 탄소수 1~20의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기를 들 수 있고, 치환되어 있어도 되는 아미노기 및 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기가 바람직하다.
치환되어 있어도 되는 아미노기로는, R21A 및 R22A로 표시되는 치환되어 있어도 되는 아미노기와 동일한 것을 들 수 있다.
탄소수 1~20의 알킬기로는, R1A, R2A, R3A, R4A, R5A, R6A, R7A 및 R8A로 표시되는 탄소수 1~20의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기를들 수 있고, 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 및 브롬 원자 등의 할로겐 원자;탄소수 1~20의 알킬기를 들 수 있다.
D로 표시되는 헤테로 방향족 탄화수소기는, 식(III)로 표시되는 기인 것이 바람직하다.
[식(III)중, X는 산소 원자 또는 유황 원자를 나타낸다.
R55은 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기를 나타낸다.
R56은 치환되어 있어도 되는 아미노기를 나타낸다.
*는, 탄소 원자와의 결합손을 나타낸다.]
R55로 표시되는 탄소수 1~20의 알킬기로는, R1A, R2A, R3A, R4A, R5A, R6A, R7A 및 R8A로 표시되는 탄소수 1~20의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.
R55로 표시되는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기로는, 페닐기를 들 수 있다.
R56로 표시되는 치환되어 있어도 되는 아미노기로는, R21A 및 R22A로 표시되는 치환되어 있어도 되는 아미노기와 동일한 것을 들 수 있다.
R55은 무치환 또는 치환기를 가지는 아릴기인 것이 바람직하고, 무치환 또는 할로겐 원자로 치환되어 있는 아릴기인 것이 보다 바람직하다.
R56은 치환되어 있어도 되는 아미노기인 것이 바람직하다.
D로 표시되는 헤테로 방향족 탄화수소기로는, 식(III-1)로 표시되는 기~식(III-8)로 표시되는 기를 들 수 있고, 바람직하게는 식(III-1)또는 식(III-2)로 표시되는 기이다.
g는 임의의 자연수이고, 바람직하게는 1~2의 자연수이며, 보다 바람직하게는 1이다.
Gg -는 g가의 아니온을 나타내고, 카티온과 g가의 아니온으로 염을 형성하는 것이면 한정되지 않는다. 예를 들면, g가 2이상의 자연수인 경우, g가의 아니온을 1개 가지고 있어도 되고, 1가의 아니온 또는 1가의 아니온 부위를 g개 가지고 있어도 된다.
Gg -는 1가의 아니온인 것이 바람직하고, 예를들면, 불화물 이온, 염화물 이온, 브롬화물 이온 및 요오드화물 이온 등의 할로겐화물 이온, 식(y1)로 표시되는 아니온, 식(y2)로 표시되는 아니온 및 식(y3)로 표시되는 아니온을 들 수 있다.
[식(y1)에 있어서, RB1은 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄화수소기를 나타낸다.
식(y2)에 있어서, RB2 및 RB3는 각각 독립하여, 할로겐 원자 또는 할로겐화 탄화수소기를 나타내거나, 또는 RB2와 RB3가 서로 결합하여 -SO2-N--SO2-를 포함하는 환을 형성한다.
식(y3)에 있어서, M은 알루미늄 원자 또는 붕소 원자를 나타내고, RB 4 및 RB5은, 각각 독립하여, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다.]
RB1로 표시되는 탄화수소기로는, 탄소수 1~8의 알킬기 및 탄소수 6~14의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다.
탄소수 1~8의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 옥틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로헥실기를 들 수 있다.
탄소수 6~14의 방향족 탄화 수소기로는, 페닐기 및 나프틸기를 들 수 있다.
할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수있고, 바람직하게는 불소 원자이다.
탄소수 1~8의 할로겐화 알킬기로는, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 1,1-디플루오로에틸기, 2,2-디플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 퍼플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로프로필기, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로프로필기, 퍼플루오로에틸메틸기, 1-(트리플루오로메틸)-1,2,2,2-테트라플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 1,1,2,2-테트라플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로부틸기, 퍼플루오로부틸기, 디브로모메틸기, 트리브로모메틸기를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1~8의 불화알킬기이다.
탄소수 6~14의 할로겐 원자를 가지는 방향족 탄화수소기로는, 할로겐 원자를 가지는 페닐기, 할로겐 원자를 가지는 나프틸기를 들 수 있다. 구체적으로는, 플루오로페닐기, 클로로페닐기, 브로모페닐기, 디플루오로페닐기, 1-플루오로-4-클로로페닐기, 트리플루오로페닐기, 플루오로나프틸기를 들 수 있다.
RB1는 탄소수 1~8의 할로겐화 알킬기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~8의 불화알킬기인 것이 보다 바람직하다.
RB2 및 RB3로 표시되는 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있고, 바람직하게는 불소 원자 또는 염소 원자이다.
RB2 및 RB3로 표시되는 할로겐화 탄화 수소기로는, 탄소수 1~8의 할로겐화 알킬기, 할로겐 원자를 가지는 탄소수 6~14의 방향족 탄화 수소기를 들 수 있다.
탄소수 1~8의 할로겐화 알킬기로는, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 1,1-디플루오로에틸기, 2,2-디플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 퍼플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로프로필기, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로프로필기, 퍼플루오로에틸메틸기, 1-(트리플루오로메틸)-1,2,2,2-테트라플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 1,1,2,2-테트라플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로부틸기, 퍼플루오로부틸기, 디브로모메틸기, 트리브로모메틸기를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1~8의 불화알킬기이다.
탄소수 6~14의 할로겐 원자를 가지는 방향족 탄화 수소기로는, 할로겐 원자를 가지는 페닐기, 할로겐 원자를 가지는 나프틸기를 들 수 있다. 구체적으로는, 플루오로페닐기, 클로로페닐기, 브로모페닐기, 디플루오로페닐기, 1-플루오로-4-클로로페닐기, 트리플루오로페닐기, 플루오로나프틸기를 들 수 있다.
RB2 및 RB3은 동일한 기인 것이 바람직하다.
RB2 및 RB3은, 각각 독립하여, 탄소수 1~8의 불화알킬기인 것이 바람직하고, 트리플루오로메틸기인 것이 보다 바람직하다.
RB4 및 RB5로 표시되는 페닐기가 가지고 있어도 되는 치환기로는, 수산기가 바람직하다.
RB4 및 RB5은, 동일한 기인 것이 바람직하다.
식(y1)로 표시되는 아니온으로는, 메탄술폰산 아니온, 톨루엔술폰산 아니온, 도데실벤젠술폰산 아니온, 트리플루오로메탄술폰산 아니온, 퍼플루오로부탄술폰산 아니온, 페닐술폰산 아니온, 플루오로페닐술폰산 아니온 등을 들 수 있다.
식(y2)로 표시되는 아니온으로는, 하기에 기재된 아니온을 들 수 있다.
식(y3)로 표시되는 아니온으로는, 하기에 기재된 아니온을 들 수 있다.
염료(A7)로는, 식(A-I-a1)~(A-I-a15)로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 식(A-I-a5)로 표시되는 화합물~식(A-I-a12)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
염료(A7)는, 예를 들면, 한국공개특허 제2014-0026284호 공보에 기재된 방법으로 제조할 수 있다.
청색 또는 자색 염료는, 단량체여도 되고, 폴리머여도 된다. 청색 또는 자색 염료인 폴리머는, 청색 또는 자색 염료로부터 유도되는 구조 단위를 포함하는 폴리머이고, 청색 또는 자색 염료로부터 유도되는 구조 단위만으로 이루어지는 폴리머여도 되고, 청색 또는 자색 염료로부터 유도되는 구조 단위와 다른 구조 단위를 포함하는 공중합체(이하, 공중합체(a)라고 하는 경우가 있다.)여도 된다. 청색 또는 자색 염료로부터 유도되는 구조 단위는, 중합성의 청색 또는 자색 염료의 중합에 의해 발생하는 2가 이상의 기여도 되고, 청색 또는 자색 염료로부터 1개 이상의 수소 원자를 제외하고 이루어지는 1가 이상의 기여도 된다. 공중합체(a)로는, 청색 또는 자색 염료로부터 유도되는 구조 단위 외에, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체로부터 유도되는 구조 단위 및 하기에 기재된 식(1)~(3)으로 표시되는 구조 단로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개를 포함하는 공중합체를 들 수 있다.
또한, 공중합체(a)는, 후술하는 수지(B)를 인도하는 단량체로부터 유도되는 구조 단위와 청색 또는 자색 염료로부터 유도되는 구조 단위를 포함하는 공중합체여도 된다.
[식(1)중, R9 및 R10은, 각각 독립하여, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~30의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~30의 아릴기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬아릴기 또는 이들의 조합을 나타낸다.
m’은, 0~5의 정수를 나타낸다.]
[식(2)중, R11은, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~30의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~30의 아릴기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬아릴기 또는 이들의 조합을 나타낸다.
R12은, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~30의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~30의 아릴기, -CO-R17-COOH 또는 이들의 조합을 나타낸다.
R17은, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~30의 알킬렌기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~30의 알콕실렌기를 나타낸다.]
[식(3)중, R13 및 R14은, 각각 독립하여, 수소 원자, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~30의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~30의 아릴기, 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬아릴기 또는 이들의 조합을 나타낸다.
R15은 -COOH 또는 -CONHR18을 나타낸다.
R18은 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~30의 알킬기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~30의 아릴기를 나타낸다.
R16은 -COOH를 나타내고, R15 및 R16은 서로 결합하여 환을 형성한다.]
에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체로는, 1개 이상의 카르복시기를 포함하는 에틸렌성 불포화 단량체이고, 구체적으로는, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸말산을 들 수 있다.
에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체의 중량 비율은, 공중합체(a)를 형성하는 단량체의 총중량에 대하여, 통상 1~50중량%이고, 바람직하게는 3~40중량%이며, 보다 바람직하게는 5~30중량%이다.
또한, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체로부터 유도되는 구조 단위와 공중합 가능한 단량체로부터 유도되는 구조 단위를 포함해도 되고, 구체적으로는, 스틸렌, α-메틸스틸렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 알케닐 방향족 단량체;
메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트 등의 불포화 카복실산에스테르류 화합물;
2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트 등의 불포화 카복실산아미노알킬에스테르류 화합물;
아세트산비닐, 안식향산비닐 등의 카복실산비닐에스테르류 화합물;
글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카복실산글리시딜에스테르류 화합물;
아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시안화비닐 화합물;
아크릴아미드, 메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류 화합물, 및 이들의 조합을 들 수 있다.
공중합체(a)에 포함되는 청색 또는 자색 염료로부터 유도되는 구조 단위는 트리아릴메탄염료(A4)로부터 유도되는 구조 단위 및 식(A7)으로 표시되는 염료로부터 유도되는 구조 단위로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.
트리아릴메탄 염료(A4)로부터 유도되는 구조 단위로는, 상기에 기재된 식(2b-1)으로 표시되는 화합물~식(2b-13)으로 표시되는 화합물로부터 유도되는 각각의 구조 단위가 바람직하다.
식(A7)으로 표시되는 염료로부터 유도되는 구조 단위로는, 상기에 기재된 식(A-I-a15)으로 표시되는 화합물로부터 유도되는 구조 단위가 바람직하다.
또한, 청색 또는 자색 염료와 화합물(a)은 염을 형성해도 된다. 청색 또는 자색 염료와 화합물(a)로 이루어지는 염으로는, 청색 또는 자색 염료 유래의 카티온과 화합물(a)유래의 아니온으로 이루어지는 염을 들 수 있다.
청색 또는 자색 염료와 화합물(a)로 이루어지는 염으로는, 예를 들면, 하기에 기재된 것을 들 수 있다.
염료(A2)의 함유량은, 크산텐 염료 100질량부에 대하여, 통상, 80~10000질량부이고, 바람직하게는 80~7000질량부이며, 보다 바람직하게는 80~1000질량부이고, 더욱 바람직하게는 80~600질량부이다.
<염료(Ac)및 안료(A1)>
염료(Ac)로는, 특별히 한정되지 않고 공지의 염료를 사용할 수 있다.
안료(A1)로는, 특별히 한정되지 않고 공지의 안료를 사용할 수 있고, 예를 들면, 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 안료를 들 수 있다.
안료로는, C.I.피그먼트 블루 15, 15:3, 15:4, 15:6, 60 등의 청색 안료:
C.I.피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38 등의 자색 안료 등을 들 수 있다.
착색제(A)는 하기에 기재된 조합을 포함하는 착색제인 것이 바람직하다.
(1)화합물(a), C.I.애시드 레드 52 및 청색 또는 자색 염료(A2)
(2)화합물(a), C.I.애시드 레드 52, 청색 또는 자색 염료(A2)및 청색 안료
(3)화합물(a), C.I.애시드 레드 52, 청색 또는 자색 염료(A2)및 자색 안료
(4)화합물(a), C.I.애시드 레드 52, 청색 또는 자색 염료(A2), 청색 안료 및 자색 안료
착색제(A)의 함유량은, 고형분의 총량에 대하여, 바람직하게는 5~60질량%이고, 보다 바람직하게는 8~55질량%이며, 더욱 바람직하게는 10~50질량%이다.
착색제(A)의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 컬러 필터로 했을 때의 색 농도가 충분하고, 또한 조성물 중에 수지(B)나 중합성 화합물(C)을 필요량 함유시키는 것이 가능하므로, 기계적 강도가 충분한 패턴을 형성할 수 있다. 여기서, 본 명세서에 있어서의 「고형분의 총량」이란, 착색 경화성 수지 조성물의 총량으로부터 용제의 함유량을 뺀 양을 말한다. 고형분의 총량 및 이에 대한 각 성분의 함유량은, 예를 들면, 액체 크로마토그래피 또는 가스 크로마토그래피 등의 공지의 분석 수단으로 측정할 수 있다.
<수지(B)>
수지(B)는, 특별히 한정되지 않지만, 알칼리 가용성 수지인 것이 바람직하다. 수지(B)로는, 이하의 수지[K1]~[K6]등을 들 수 있다.
수지[K1]불포화 카복실산 및 불포화 카복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종(a)(이하「(a)」라고 하는 경우가 있다)과, 탄소수 2~4의 환상 에테르 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체(b)(이하「(b)」라고 하는 경우가 있다)의 공중합체;
수지[K2](a)와 (b)와, (a)와 공중합 가능한 단량체(c)(단,(a)및(b)와는 상이하다.)(이하「(c)」라고 하는 경우가 있다)의 공중합체;
수지[K3](a)와 (c)의 공중합체;
수지[K4](a)와 (c)의 공중합체에(b)를 반응시킨 수지;
수지[K5](b)와 (c)의 공중합체에 (a)를 반응시킨 수지;
수지[K6](b)와 (c)의 공중합체에 (a)를 반응시키고, 또한 카복실산 무수물을 반응시킨 수지.
(a)로는, 구체적으로, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, o-, m-, p-비닐안식향산 등의 불포화 모노카복실산류;
말레산, 푸말산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산, 3-비닐프탈산, 4-비닐프탈산, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산, 디메틸테트라히드로프탈산, 1, 4-시클로헥센디카복실산 등의 불포화 디카복실산류;
메틸-5-노보넨-2,3-디카복실산, 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-6-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등의 카르복시기를 함유하는 비시클로 불포화 화합물류;
무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산 무수물, 디메틸테트라히드로프탈산 무수물, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 무수물 등의 불포화 디카복실산류 무수물;
호박산 모노〔2-(메타)아크릴로일옥시에틸〕, 프탈산 모노〔2-(메타)아크릴로일옥시에틸〕 등의 2가 이상의 다가 카복실산의 불포화 모노〔(메타)아크릴로일옥시알킬〕에스테르류;
α-(히드록시메틸)아크릴산과 같은, 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복시기를 함유하는 불포화 아크릴레이트류 등을 들 수 있다.
이들 중, 공중합 반응성의 점이나 얻어지는 수지의 알칼리 수용액에의 용해성의 점에서, 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산 등이 바람직하다.
(b)는, 예를 들면, 탄소수 2~4의 환상 에테르 구조(예를 들면, 옥시란환. 옥세탄환 및 테트라히드로푸란환으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종)와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물을 말한다. (b)는, 탄소수 2~4의 환상 에테르와 (메타)아크릴로일옥시기를 가지는 단량체가 바람직하다.
또한, 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴산」이란, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 나타낸다. 「(메타)아크릴로일」 및 「(메타)아크릴레이트」등의 표기도, 동일한 의미를 가진다.
(b)로는, 예를 들면, 옥시라닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체(a1)(이하「(b1)」이라고 하는 경우가 있다), 옥세타닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체(b2)(이하「(b2)」이라고 하는 경우가 있다), 테트라히드로푸릴기와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 단량체(b3)(이하「(b3)」이라고 하는 경우가 있다)등을 들 수 있다.
(b1)로는, 예를 들면, 직쇄상 또는 분기쇄상의 지방족 불포화 탄화 수소가 에폭시화된 구조를 가지는 단량체(b1-1)(이하「(b1-1)」이라고 하는 경우가 있다), 지환식 불포화 탄화 수소가 에폭시화된 구조를 가지는 단량체(b1-2)(이하「(b1-2)」이라고 하는 경우가 있다)를 들 수 있다.
(b1-1)로는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, β-메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, β-에틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-o-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-m-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-p-비닐벤질글리시딜에테르, 2,3-비스(글리시딜옥시메틸)스틸렌, 2,4-비스(글리시딜옥시메틸)스틸렌, 2,5-비스(글리시딜옥시메틸)스틸렌, 2,6-비스(글리시딜옥시메틸)스틸렌, 2,3,4-트리스(글리시딜옥시메틸)스틸렌, 2,3,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스틸렌, 2,3,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스틸렌, 3,4,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스틸렌, 2,4,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스틸렌 등을 들 수 있다.
(b1-2)로는, 비닐시클로헥센모노옥사이드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산(예를 들면, 셀록사이드 2000;(주)다이셀 제), 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트(예를 들면, 사이클로머 A400;(주)다이셀 제), 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트(예를 들면, 사이클로머 M100;(주)다이셀 제), 식(I)로 표시되는 화합물 및 식(II)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
[식(I)및 식(II)중, Ra및 Rb은, 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.
Xa및 Xb는, 단결합, -Rc-, *-Rc-O-, *-Rc-S- 또는 *-Rc-NH-를 나타낸다.
Rc은, 탄소수 1~6의 알칸디일기를 나타낸다.
*는 O와의 결합손을 나타낸다.]
탄소수 1~4의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있다.
수소 원자가 히드록시로 치환된 알킬기로는, 히드록시메틸기, 1-히드록시에틸기, 2-히드록시에틸기, 1-히드록시프로필기, 2-히드록시프로필기, 3-히드록시프로필기, 1-히드록시-1-메틸에틸기, 2-히드록시-1-메틸에틸기, 1-히드록시부틸기, 2-히드록시부틸기, 3-히드록시부틸기, 4-히드록시부틸기 등을 들 수 있다.
Ra및 Rb로는, 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 히드록시메틸기, 1-히드록시에틸기, 2-히드록시에틸기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기를 들 수 있다.
알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기 등을 들 수 있다.
Xa및 Xb로는, 바람직하게는 단결합, 메틸렌기, 에틸렌기, *-CH2-O- 및 *-CH2CH2-O-를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 단결합, *-CH2CH2-O-를 들 수 있다.(*는 O와의 결합손을 나타낸다.)
식(I)로 표시되는 화합물로는, 식(I-1)로 표시되는 화합물~식(I-15)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 식(I-1)로 표시되는 화합물, 식(I-3)로 표시되는 화합물, 식(I-5)로 표시되는 화합물, 식(I-7)로 표시되는 화합물, 식(I-9)로 표시되는 화합물 또는 식(I-11)로 표시되는 화합물~식(I-15)로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 보다 바람직하게는 식(I-1)로 표시되는 화합물, 식(I-7)로 표시되는 화합물, 식(I-9)로 표시되는 화합물 또는 식(I-15)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
식(II)로 표시되는 화합물로는, 식(II-1)로 표시되는 화합물~식(II-15)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 식(II-1)로 표시되는 화합물, 식(II-3)로 표시되는 화합물, 식(II-5)로 표시되는 화합물, 식(II-7)로 표시되는 화합물, 식(II-9)로 표시되는 화합물 또는 식(II-11)로 표시되는 화합물~식(II-15)로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 보다 바람직하게는 식(II-1)로 표시되는 화합물, 식(II-7)로 표시되는 화합물, 식(II-9)또는 식(II-15)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
식(I)로 표시되는 화합물 및 식(II)로 표시되는 화합물은, 각각 단독으로 이용할 수 있다. 또한, 이들은, 임의의 비율로 혼합할 수 있다. 혼합하는 경우, 그 혼합 비율은 몰비로, 바람직하게는 식(I):식(II)이고, 5:95~95:5, 보다 바람직하게는 10:90~90:10, 더욱 바람직하게는 20:80~80:20이다.
(b2)로는, 옥세타닐기와 (메타)아크릴로일옥시기를 가지는 단량체가 보다 바람직하다. (b2)로는, 3-메틸-3-메타크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴로일옥시에틸옥세탄 등을 들 수 있다.
(b3)로는, 테트라히드로푸릴기와 (메타)아크릴로일옥시기를 가지는 단량체가 보다 바람직하다. (b3)로는, 구체적으로는, 테트라히드로푸르푸릴 아크릴레이트(예를 들면, 비스코트 V#150, 오사카유기화학공업(주)제), 테트라히드로푸르푸릴메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
(b)로는, 얻어지는 컬러 필터의 내열성, 내약품성 등의 신뢰성을 보다 높게할 수 있는 점에서, (b1)인 것이 바람직하다. 또한, 착색 경화성 수지 조성물의 보존 안정성이 얻어지는 점에서, (b1-2)가 보다 바람직하다.
(c)로는, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트(해당 기술 분야에서는, 관용명으로서「디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트」라고 불린다. 또한, 「트리시클로데실(메타)아크릴레이트」라고 하는 경우가 있다.), 트리시클로[5.2.1.02,6]데센-8-일(메타)아크릴레이트(해당 기술 분야에서는, 관용명으로서 「디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트」라고 불린다.), 디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 알릴(메타)아크릴레이트, 프로파르길(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 나프틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산에스테르류;
2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트,
2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 히드록시기 함유(메타)아크릴산에스테르류;
말레산디에틸, 푸말산디에틸, 이타콘산디에틸 등의 디카복실산디에스테르;
비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-(2’-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-메톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-에톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디히드록시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디(히드록시메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디(2’-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디메톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디에톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시메틸-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-tert-부톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-비스(tert-부톡시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-비스(시클로헥실옥시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등의 비시클로 불포화 화합물류;
N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-숙신이미딜-3-말레이미드벤조에이트, N-숙신이미딜-4-말레이미드부티라트, N-숙신이미딜-6-말레이미드카프론산, N-숙신이미딜-3-말레이미드프로피오네이트, N-(9-아크리디닐)말레이미드 등의 디카르보닐이미드 유도체류;
스틸렌, α-메틸스틸렌, m-메틸스틸렌, p-메틸스틸렌, 비닐톨루엔, p-메톡시스틸렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아세트산비닐, 1,3-부타디엔, 이소플렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등을 들 수 있다.
이들 중, 공중합 반응성 및 내열성의 점에서, 스틸렌, 비닐톨루엔, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, 비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등이 바람직하다.
수지[K1]에 있어서, 각각에 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지[K1]를 구성하는 전 구조 단위 중,
(a)에 유래하는 구조 단위;2~60몰%
(b)에 유래하는 구조 단위;40~98몰%인 것이 바람직하고,
(a)에 유래하는 구조 단위;10~50몰%
(b)에 유래하는 구조 단위;50~90몰%인 것이 보다 바람직하다.
수지[K1]의 구조 단위의 비율이, 상기의 범위에 있으면, 착색 경화성 수지 조성물의 보존 안정성, 착색 패턴을 형성할 때의 현상성, 및 얻어지는 컬러 필터의 내용제성이 뛰어난 경향이 있다.
수지[K1]는, 예를 들면, 문헌「고분자 합성의 실험법」(오오츠 다카유키 저 발생처(주)화학동인 제1판 제1쇄 1972년3월1일 발행)에 기재된 방법 및 해당 문헌에 기재된 인용문헌을 참고로 하여 제조할 수 있다.
구체적으로는, (a)및(b)의 소정량, 중합 개시제 및 용제 등을 반응 용기 중에 넣고, 예를 들면, 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 탈산소 분위기로 하여, 교반하면서, 가열 및 보온하는 방법을 들 수 있다. 또한, 여기서 이용되는 중합 개시제 및 용제 등은, 특별히 한정되지 않고, 해당 분야에서 통상 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 중합 개시제로는, 아조화합물(2,2′-아조비스이소부티로니트릴, 2,2′-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)등)이나 유기 과산화물(벤조일퍼옥시드 등)을 들 수 있고, 용제로는, 각 모노머를 용해는 것이면 되고, 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물의 용제(E)로서 후술하는 용제 등을 들 수 있다.
또한, 얻어진 공중합체는, 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 혹은 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법으로 고체(분체)로서 취출한 것을 사용해도 된다. 특히, 이 중합 시에 용제로서, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 용제를 사용함으로써, 반응 후의 용액을 그대로 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 조제에 사용할 수 있으므로, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 제조 공정을 간략화할 수 있다.
수지[K2]에 있어서, 각각에 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지[K2]를 구성하는 전 구조 단위 중,
(a)에 유래하는 구조 단위;2~45몰%
(b)에 유래하는 구조 단위;2~95몰%
(c)에 유래하는 구조 단위;1~65몰%인 것이 바람직하고,
(a)에 유래하는 구조 단위;5~40몰%
(b)에 유래하는 구조 단위;5~80몰%
(c)에 유래하는 구조 단위;5~60몰%인 것이 보다 바람직하다.
수지[K2]의 구조 단위의 비율이, 상기의 범위에 있으면, 착색 경화성 수지 조성물의 보존 안정성, 착색 패턴을 형성할 때의 현상성, 및 얻어지는 컬러 필터의 내용제성, 내열성 및 기계 강도가 뛰어난 경향이 있다.
수지[K2]는, 예를 들면, 수지[K1]의 제조 방법으로서 기재한 방법과 동일하게 제조할 수 있다.
수지[K3]에 있어서, 각각에 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지[K3]를 구성하는 전 구조 단위 중,
(a)에 유래하는 구조 단위;2~60몰%
(c)에 유래하는 구조 단위;40~98몰%인 것이 바람직하고,
(a)에 유래하는 구조 단위;10~50몰%
(c)에 유래하는 구조 단위;50~90몰%인 것이 보다 바람직하다.
수지[K3]는, 예를 들면, 수지[K1]의 제조 방법으로서 기재한 방법과 동일하게 제조할 수 있다.
수지[K4]는, (a)와(c)의 공중합체를 얻고, (b)가 가지는 탄소수 2~4의 환상 에테르를 (a)가 가지는 카복실산 및/또는 카복실산 무수물에 부가시킴으로써 제조할 수 있다.
우선 (a)와 (c)의 공중합체를, 수지[K1]의 제조 방법으로서 기재한 방법과 동일하게 제조한다. 이 경우, 각각에 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지[K3]에서 든 것과 동일한 비율인 것이 바람직하다.
다음에, 상기 공중합체 중의 (a)에 유래하는 카복실산 및/또는 카복실산 무수물의 일부에, (b)가 가지는 탄소수 2~4의 환상 에테르를 반응시킨다.
(a)와 (c)의 공중합체의 제조에 연속하여, 플라스크 내 분위기를 질소로부터 공기로 치환하고, (b), 카복실산 또는 카복실산 무수물과 환상 에테르의 반응 촉매(예를 들면 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등)및 중합 금지제(예를 들면 히드로퀴논 등)등을 플라스크 내에 넣고, 예를 들면, 60~130℃에서, 1~10시간 반응시킴으로써, 수지[K4]를 제조할 수 있다.
(b)의 사용량은, (a)100몰에 대하여, 5~80몰이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10~75몰이다. 이 범위로 함으로써, 착색 경화성 수지 조성물의 보존 안정성, 패턴을 형성할 때의 현상성, 및, 얻어지는 패턴의 내용제성, 내열성, 기계 강도 및 감도의 밸런스가 양호해지는 경향이 있다. 환상 에테르의 반응성이 높고, 미반응의 (b)가 잔존하기 힘든 이유에서, 수지[K4]에 이용하는 (b)로는 (b1)이 바람직하고, 또한 (b1-1)이 바람직하다.
상기 반응 촉매의 사용량은, (a)、(b)및(c)의 합계량 100질량부에 대하여 0.001~5질량부가 바람직하다. 상기 중합 금지제의 사용량은, (a)、(b)및(c)의 합계량 100질량부에 대하여 0.001~5질량부가 바람직하다.
투입 방법, 반응 온도 및 시간 등의 반응 조건은, 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 적절히 조정할 수 있다. 또한, 중합 조건과 마찬가지로, 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여, 투입 방법이나 반응 온도를 적절히 조정할 수 있다.
수지[K5]는, 제1 단계로서, 상술한 수지[K1]의 제조 방법과 동일하게 하여, (b)와(c)의 공중합체를 얻는다. 상기와 동일하게, 얻어진 공중합체는, 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 혹은 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법으로 고체(분체)로서 취출한 것을 사용해도 된다.
(b)및(c)에 유래하는 구조 단위의 비율은, 상기의 공중합체를 구성하는 전 구조 단위의 합계 몰수에 대하여, 각각,
(b)에 유래하는 구조 단위;5~95몰%
(c)에 유래하는 구조 단위;5~95몰%인 것이 바람직하고,
(b)에 유래하는 구조 단위;10~90몰%
(c)에 유래하는 구조 단위;10~90몰%인 것이 보다 바람직하다.
또한, 수지[K4]의 제조 방법과 동일한 조건에서, (b)와(c)의 공중합체가 가지는 (b)에 유래하는 환상 에테르에, (a)가 가지는 카복실산 또는 카복실산 무수물을 반응시킴으로써, 수지[K5]를 얻을 수 있다.
상기의 공중합체에 반응시키는(a)의 사용량은, (b)100몰에 대하여, 5~80몰이 바람직하다. 환상 에테르의 반응성이 높고, 미반응의 (b)가 잔존하기 어려운 이유에서, 수지[K5]에 이용하는 (b)로는 (b1)이 바람직하고, 또한 (b1-1)이 바람직하다.
수지[K6]는, 수지[K5]에, 또한 카복실산 무수물을 반응시킨 수지이다.
환상 에테르와 카복실산 또는 카복실산 무수물의 반응에 의해 발생하는 히드록시기에, 카복실산 무수물을 반응시킨다.
카복실산 무수물로는, 무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산 무수물, 디메틸테트라히드로프탈산 무수물, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 무수물(휴믹산 무수물)등을 들 수 있다. 카복실산 무수물의 사용량은, (a)의 사용량 1몰에 대하여, 0.5~1몰이 바람직하다.
수지(B)로는, 구체적으로, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02.6]데실아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체 등의 수지[K1];글리시딜(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 글리시딜(메타)아크릴레이트/스틸렌/(메타)아크릴산 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02.6]데실아크릴레이트/(메타)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드 공중합체, 3-메틸-3-(메타)아크릴로일옥시메틸옥세탄/(메타)아크릴산/스틸렌 공중합체 등의 수지[K2];벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산공중합체, 스틸렌/(메타)아크릴산 공중합체 등의 수지[K3];벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/스틸렌/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메타)아크릴레이트를 부가시킨 수지 등의 수지[K4];트리시클로데실(메타)아크릴레이트/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지, 트리시클로데실(메타)아크릴레이트/스틸렌/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지 등의 수지[K5];트리시클로데실(메타)아크릴레이트/글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산을 반응시킨 수지에 또한 테트라히드로프탈산 무수물을 반응시킨 수지 등의 수지[K6]등을 들 수 있다.
그 중에서도, 수지(B)로는, 수지[K1]및 수지[K2]가 바람직하다.
수지(B)의 폴리스틸렌 환산의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 3,000~100,000이고, 보다 바람직하게는 5,000~50,000이고, 더욱 바람직하게는 5,000~30,000이다. 분자량이 상기의 범위에 있으면, 도막 경도가 향상되고, 잔막율도 높고, 미노광부의 현상액에 대한 용해성이 양호하고, 착색 패턴의 해상도가 향상되는 경향이 있다.
수지(B)의 분자량 분포[중량 평균 분자량(Mw)/수 평균 분자량(Mn)]은, 바람직하게는 1.1~6이고, 보다 바람직하게는 1.2~4이다.
수지(B)의 산가는, 바람직하게는 50~170mg-KOH/g이고, 보다 바람직하게는 60~150, 더욱 바람직하게는 70~135mg-KOH/g이다. 여기서 산가는 수지(B)1g을 중화하는데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이고, 예를 들면 수산화칼륨 수용액을 이용해 적정함으로써 구할 수 있다.
수지(B)의 함유량은, 고형분의 총량에 대하여, 바람직하게는 7~65질량%이고, 보다 바람직하게는 13~60질량%이고, 더욱 바람직하게는 17~55질량%이다.
<중합성 화합물(C)>
중합성 화합물(C)은, 중합 개시제(D)로부터 발생한 활성 래디컬 및/또는 산에 의해 중합할 수 있는 화합물이고, 예를 들면, 중합성의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메타)아크릴산에스테르 화합물이다.
그 중에서도, 중합성 화합물(C)는, 에틸렌성 불포화 결합을 3개 이상 가지는 중합성 화합물인 것이 바람직하다. 이러한 중합성 화합물로는, 예를 들면, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨옥타(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨헵타(메타)아크릴레이트, 테트라펜타에리스리톨데카(메타)아크릴레이트, 테트라펜타에리스리톨노나(메타)아크릴레이트, 트리스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 에틸렌글리콜 변성 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 변성 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
그 중에서도, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트가 바람직하다.
중합성 화합물(C)의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 150 이상 2,900 이하, 보다 바람직하게는 250~1,500 이하이다.
중합성 화합물(C)의 함유량은, 고형분의 총량에 대하여, 7~65질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 13~60질량%이고, 더욱 바람직하게는 17~55질량%이다. 중합성 화합물(C)의 함유량이, 상기의 범위내에 있으면, 착색 패턴 형성 시의 잔막율 및 컬러 필터의 내약품성이 향상되는 경향이 있다.
<중합 개시제(D)>
중합 개시제(D)는, 광이나 열의 작용에 의해, 활성 래디컬, 산 등을 발생하고, 중합을 개시할 수 있는 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 공지의 중합 개시제를 이용할 수 있다.
중합 개시제(D)로는, 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, O-아실옥심 화합물 및 비이미다졸 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 중합 개시제가 바람직하고, O-아실옥심 화합물을 포함하는 중합 개시제가 보다 바람직하다.
O-아실옥심 화합물로는, 예를 들면, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-원(one)-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-원-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로펜틸프로판-1-원-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일}-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-이민, N-벤조일옥시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-원-2-이민 등을 들 수 있다. 일가큐어 OXE01, OXE02(이상, BASF사 제), N-1919(ADEKA사 제)등의 시판품을 이용해도 된다. O-아실옥심 화합물은, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-원-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-원-2-이민 및 N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이 바람직하고, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-원-2-이민이 보다 바람직하다. 이들의 O-아실옥심 화합물이면, 고명도의 컬러 필터가 얻어지는 경향이 있다.
상기 알킬페논 화합물은, 2-메틸-2-몰포리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-원, 2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-2-벤질부탄-1-원, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-몰포리닐)페닐]부탄-1-원, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-원, 2-히드록시-2-메틸-1-〔4-(2-히드록시에톡시)페닐〕프로판-1-원, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-(4-이소프로페닐페닐)프로판-1-원의 올리고머, α,α-디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다. 일가큐어 369、907、379(이상, BASF사 제)등의 시판품을 이용해도 된다.
트리아진 화합물로는, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
아실포스핀옥사이드 화합물로는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 일가큐어(등록 상표)819(BASF사 제)등의 시판품을 이용해도 된다.
비이미다졸 화합물로는, 예를 들면, 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라페닐비이미다졸, 2,2’-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라페닐비이미다졸(예를 들면, 일본국 특허공개 평6-75372호 공보, 일본국 특허공개 평 6-75373호 공보 등 참조), 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라페닐비이미다졸, 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라(디알콕시페닐)비이미다졸, 2,2’-비스(2-클로로페닐)-4,4’,5,5’-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸(예를 들면, 일본국 특허공개 소 48-38403호 공보, 일본국 특허공개 소 62-174204호 공보 등 참조.)、4,4’5,5’-위의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물(예를 들면, 일본국 특허공개 평 7-10913호 공보 등 참조)등을 들 수 있다.
또한 중합 개시제(D)로는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인 화합물;벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4’-메틸디페닐설파이드, 3,3’,4,4’-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등의 벤조페논 화합물;9,10-페난트렌퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 캄퍼퀴논 등의 퀴논 화합물;10-부틸-2-클로로아크리돈, 벤질, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다. 이들은, 후술의 중합 개시 조제(D1)(특히 아민류)와 조합하여 이용하는 것이 바람직하다.
산 발생제로는, 예를 들면, 4-히드록시페닐디메틸술포늄 p-톨루엔술포나이트, 4-히드록시페닐디메틸술포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸술포늄p-톨루엔술포나이트, 4-아세톡시페닐메틸벤질술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄p-톨루엔술포나이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오드늄p-톨루엔술포나이트, 디페닐요오드늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류 나 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다.
중합 개시제(D)의 함유량은, 수지(B)및 중합성 화합물(C)의 합계량100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1~30질량부이고, 보다 바람직하게는 1~20질량부이다. 중합 개시제(D)의 함유량이, 상기의 범위 내에 있으면, 고감도화하여 노광 시간이 단축되는 경향이 있으므로 컬러 필터의 생산성이 향상된다.
<중합 개시 조제(D1)>
중합 개시 조제(D1)는, 중합 개시제에 의해 중합이 개시된 중합성 화합물의 중합을 촉진하기 위해 이용되는 화합물, 혹은 증감제이다. 중합 개시 조제(D1)를 포함하는 경우, 통상, 중합 개시제(D)와 조합하여 이용된다.
중합 개시 조제(D1)로는, 아민 화합물, 알콕시안트라센 화합물, 티옥산톤화합물 및 카복실산 화합물 등을 들 수 있다.
아민 화합물로는, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민,4-디메틸아미노안식향산메틸, 4-디메틸아미노안식향산에틸, 4-디메틸아미노안식향산이소아밀, 안식향산 2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노안식향산 2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4’-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 미히라즈케톤), 4,4’-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4’-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 그 중에서도 4,4’-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다. EAB-F(호도가야화학공업(주)제)등의 시판품을 이용해도 된다.
알콕시안트라센 화합물로는, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디부톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센 등을 들 수 있다.
티옥산톤 화합물로는, 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다.
카복실산 화합물로는, 페닐술파닐아세트산, 메틸페닐술파닐아세트산, 에틸페닐술파닐아세트산, 메틸에틸페닐술파닐아세트산, 디메틸페닐술파닐아세트산, 메톡시페닐술파닐아세트산, 디메톡시페닐술파닐아세트산, 클로로페닐술파닐아세트산, 디클로로페닐술파닐아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.
중합 개시 조제(D1)를 이용하는 경우, 그 함유량은, 수지(B)및 중합성 화합물(C)의 합계량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1~30질량부, 보다 바람직하게는 1~20질량부이다. 중합 개시 조제(D1)의 양이 이 범위 내에 있으면, 또한 고감도로 착색 패턴을 형성할 수 있고, 컬러 필터의 생산성이 향상되는 경향이 있다.
<용제(E)>
용제(E)는, 특별히 한정되지 않고, 해당 분야에서 통상 사용되는 용제를 이용할 수 있다. 예를 들면, 에스테르 용제(분자 내에 -COO-를 포함하고, -O-를 포함하지 않는 용제), 에테르 용제(분자 내에 -O-를 포함하고, -COO-를 포함하지 않는 용제), 에테르에스테르 용제(분자 내에 -COO- 와 -O-를 포함하는 용제), 케톤 용제(분자 내에 -CO-를 포함하고, -COO-를 포함하지 않는 용제), 알코올 용제(분자 내에 OH를 포함하고, -O-, -CO- 및 -COO-를 포함하지 않는 용제), 방향족 탄화수소 용제, 아미드 용제, 디메틸술폭시드 등을 들 수 있다.
에스테르 용제로는, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산부틸, 2-히드록시이소부탄산메틸, 아세트산에틸, 아세트산 n-부틸, 아세트산이소부틸, 폼산펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산부틸, 낙산이소프로필, 낙산에틸, 낙산부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 시클로헥산올아세테이트 및 γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.
에테르 용제로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 3-메톡시-1-부탄올, 3-메톡시-3-메틸부탄올, 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 1,4-디옥산, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 아니솔, 페네톨 및 메틸아니솔 등을 들 수 있다.
에테르에스테르 용제로는, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.
케톤 용제로는, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 아세톤, 2-부타논, 2-헵타논, 3-헵타논, 4-헵타논, 4-메틸-2-펜타논, 시클로펜타논, 시클로헥사논 및 이소포론 등을 들 수 있다.
알코올 용제로는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 및 글리세린 등을 들 수 있다.
방향족 탄화수소 용제로는, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 메시틸렌 등을 들 수 있다.
아미드 용제로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드 및 N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.
상기의 용제 중, 도포성, 건조성의 점에서, 1atm에 있어서의 비점이 120℃ 이상 180℃ 이하인 유기 용제가 바람직하다. 용제로는, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 락트산에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-에톡시프로피온산에틸, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 및 N,N-디메틸포름아미드가 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 락트산에틸 및 3-에톡시프로피온산에틸이 보다 바람직하다.
용제(E)의 함유량은, 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물의 총량에 대하여, 바람직하게는 70~95질량%이고, 보다 바람직하게는 75~92질량%이다. 환언하면, 착색 경화성 수지 조성물의 고형분의 총량은, 바람직하게는 5~30질량%, 보다 바람직하게는 8~25질량%이다. 용제(E)의 함유량이 상기의 범위 내에 있으면, 도포시의 평탄성이 양호해지고, 또한 컬러 필터를 형성했을 때에 색 농도가 부족하지 않으므로 표시 특성이 양호해지는 경향이 있다.
<레벨링제(F)>
레벨링제(F)로는, 실리콘계 계면 활성제, 불소계 계면 활성제 및 불소 원자를 가지는 실리콘계 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은, 측쇄에 중합성기를 가지고 있어도 된다.
실리콘계 계면 활성제로는, 분자 내에 실록산 결합을 가지는 계면 활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 토레이 실리콘 DC3PA, 동 SH7PA, 동 DC11PA, 동 SH21PA, 동 SH28PA, 동 SH29PA, 동 SH30PA, 동 SH8400(상품명:토레이·다우닝(주)제), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341(신코화학공업(주)제), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452 및 TSF4460(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬 합동회사 제)등을 들 수 있다.
상기의 불소계 계면 활성제로는, 분자 내에 플루오로카본쇄를 가지는 계면 활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 프로라드(등록 상표)FC430, 동 FC431(스미토모 쓰리엠(주)제), 메가팍스(등록 상표)F142D, 동 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F177, 동 F183, 동 F554, 동 R30, 동 RS-718-K(DIC(주)제), 에스톱(등록 상표)EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352(미츠비시 머티리얼 전자화성(주)제), 사프론(등록 상표)S381, 동 S382, 동 SC101, 동 SC105(아사히글래스(주)제)및 E5844((주)다이킨 화인케미컬 연구소 제)등을 들 수 있다.
상기의 불소 원자를 가지는 실리콘계 계면 활성제로는, 분자 내에 실록산 결합 및 플루오로 카본쇄를 가지는 계면 활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팍스(등록 상표)R08, 동 BL20, 동 F475, 동 F477 및 동 F443(DIC(주)제)등을 들 수 있다.
레벨링제(F)의 함유량은, 착색 경화성 수지 조성물의 총량에 대하여, 바람직하게는 0.001질량% 이상 0.2질량% 이하이고, 바람직하게는 0.002질량% 이상 0.1질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01질량% 이상 0.05질량% 이하이다. 레벨링제(F)의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 컬러 필터의 평탄성을 양호하게 할 수 있다.
<그 외의 성분>
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 필요에 따라, 충전제, 다른 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 광 안정제, 연쇄 이동제 등, 해당 기술 분야에서 공지의 첨가제를 포함해도 된다.
<착색 경화성 수지 조성물의 제조 방법>
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물은, 예를 들면, 착색제(A), 수지(B), 중합성 화합물(C), 중합 개시제(D), 및 필요에 따라 이용되는 용제(E), 레벨링제(F), 중합 개시 조제(D1)및 그 외 성분을 혼합함으로써 조제할 수 있다.
염료(A2)및 필요에 따라 이용하는 염료(Ac)는, 미리 용제(E)의 일부 또는 전부에 각각 용해시켜 용액을 조제해도 된다. 그 용액을, 구멍직경 0.01~1μm 정도의 필터로 여과하는 것이 바람직하다.
청색 안료(A1)는, 미리 용제(E)의 일부 또는 전부와 혼합하여, 안료의 평균 입자 직경이 0.2μm 이하 정도가 되기까지, 비즈밀 등을 이용하여 분산시키는 것이 바람직하다. 이 때, 필요에 따라 상기 안료 분산제, 수지(B)의 일부 또는 전부를 배합해도 된다. 이와 같이 하여 얻어진 안료 분산액에, 나머지 성분을, 소정의 농도가 되도록 혼합함으로써, 목적의 착색 경화성 수지 조성물을 조제할 수 있다.
혼합 후의 착색 경화성 수지 조성물을, 구멍직경 0.01~10μm 정도의 필터로 여과하는 것이 바람직하다.
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물에 의하면, 특히 내열성이 뛰어난 컬러 필터를 제작할 수 있다. 그 컬러 필터는, 표시 장치(예를 들면, 액정 표시 장치, 유기 EL 장치, 전자신문 등)및 고체 촬상 소자에 이용되는 컬러 필터로서 유용하다.
[발명을 실시하기 위한 형태]
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물에 대하여, 보다 상세하게 설명한다.
예 중의 「%」및「부」는, 특별한 기재가 없는한, 질량% 및 질량부이다.
이하의 합성예에 있어서, 화합물은, 질량 분석(LC;Agilent제 1200형, MASS;Agilent제 LC/MSD형)또는 표시 분석(VARIO-EL;(엘레멘탈(주)제))으로 동정했다.
〔합성예 1〕
반응기에, 파라로자닐린염산염(동경 화성(주)제)32.3부를 무수에탄올 500부에 추가하고, 8시간 환류하여, 실온까지 냉각했다. 얻어진 혼합물에 식(a2-1)으로 표시되는 화합물 20.2부를 5시간 걸려, 천천히 적하했다. 적하 후, 얻어진 혼합물을 70℃에서 36시간 교반한 후, 실온까지 냉각하여, 식(a2)로 표시되는 화합물 48.8부 얻었다.
〔합성예 2〕
비스 N-에틸-N-히드록시에틸아미노벤조페논 28.52부, 트리에틸아민 17.80부에, 디클로로메탄 50mL를 첨가하여 교반 용해했다. 그 후, 메타아크릴산 무수물 13.56부를 첨가하여, 40℃로 승온시켜 유지했다. 반응 종료 후, 실온까지 냉각 후, 물을 첨가하여, 층 분류하고, 포화 식염수 20mL를 추가하여 30분간 교반했다. 층 분해 후, 유기층을 증류 증발시키고, 남은 고체를 감압 건조시켜, 식(aa2)으로 표시되는 화합물 21.4부를 얻었다.
식(aa2)으로 표시되는 화합물 21.4부를 클로로포름 500mL에 첨가하여 교반했다. 그 후, 옥시염화인 49.08부를 추가하여 15분간 교반했다. N-페닐-1-나프틸아민 14.56부를 추가한 후, 환류시켰다. 반응 종료 후, 실온까지 냉각 후, 물을 첨가하여, 교반했다. 교반 후, 정치하여, 층 분해시켜, 유기층을 증류 증발시키고, 남은 고체를 감압 건조하여, 정제하여 식(aa3)로 표시되는 화합물 20.3부를 얻었다.
〔합성예 3〕
식(aa3)으로 표시되는 화합물 10.00부를 메탄올 100mL에 추가하여 용해 후, 리튬비스트리플루오로메탄술폰이미드 2.09부를 첨가하여 염을 치환했다. 여과 후, 얻어진 화합물을 물로 세정하여, 감압 건조하여 식(aa5)로 표시되는 화합물 7.5부를 얻었다.
〔합성예 4-7〕
냉각관과 교반기를 구비한 플라스크에, 식(aa5)으로 표시되는 단량체, 벤질메타크릴레이트, 메타크릴산, 메틸메타크릴레이트 및 N-벤질말레이미드를 하기 표 1에 기재된 중량비로 투입하고, 2, 2'-아조비스(2, 4-디메틸발레로니트릴)(개시제)를 상기 단량체의 총량 100중량부에 대하여 6중량부 첨가했다. 이어서, 상기 개시제와 단량체의 총량 100중량부에 대하여 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 300중량부를 투입한 후, 질소 분위기 하, 서서히 교반을 개시했다. 반응 용액을 90℃까지 승온시키고, 10시간 교반하여, 공중합체 용액을 얻었다.
[표 1]
〔합성예 8〕
이하의 반응은, 질소 분위기 하에서 행했다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 티오시안산칼륨 36.3부 및 아세톤 160.0부를 투입한 후, 실온 하에서 30분 교반했다. 이어서, 안식향산 염화물(동경화성(주)사 제)50.0부를 10분에 걸쳐 적하했다. 적하 종료 후, 다시 실온 하에서 2시간 교반했다. 이어서, 반응 혼합물을 빙냉한 후, N-에틸-o-톨루이딘(동경화성(주)사 제)45.7부를 적하했다. 적하 종료 후, 다시 실온 하에서 30분 교반했다. 이어서, 반응 혼합물을 빙냉한 후, 30% 수산화나트륨 수용액 34.2부를 적하했다. 적하 종료 후, 다시 실온 하에서 30분 교반했다.
이어서, 실온 하 클로로아세트산 35.3부를 적하했다. 적하 종료 후, 가열 환류 하에서 7시간 교반했다. 이어서, 반응 혼합물을 실온까지 방냉한 후, 반응 용액을 수돗물 120.0부 중에 쏟아넣은 후, 톨루엔 200부를 추가하여 30분 교반했다. 이어서, 교반을 정지하고, 30분 정치한 바, 유기층과 수층으로 분리했다. 수층을 분액 조작으로 폐기한 후, 유기층을 규정 염산 200부로 세정하고, 이어서 수돗물 200부로 세정하며, 마지막에 포화 식염수 200부로 세정했다. 유기층에 적당량의 망초를 추가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 증발기로 용매 증류 증발시켜, 담황색 액체를 얻었다. 얻어진 담황색 액체를 칼럼 크로마토그래피로 정제했다. 정제한 담황색 액체를 감압 하 60℃에서 건조시켜, 식(B-I-1)로 표시되는 화합물을 52.0부 얻었다.
수율 50%
〔합성예 9〕
이하의 반응은, 질소 분위기 하에서 행했다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식(B-I-1)로 표시되는 화합물 9.3부, 4、4’-비스(디에틸아미노)벤조페논(동경화성(주)사 제)10.0부 및 톨루엔 20.0부를 투입한 후, 이어서, 옥시염화인 14.8부를 추가하여 95~100℃에서 3시간 교반했다. 이어서, 반응 혼합물을 실온에 냉각한 후, 이소프로판올 170.0부로 희석했다. 이어서, 희석한 반응 용액을 포화 식염수 300.0부 중에 쏟아넣은 후, 톨루엔 100부를 추가하여 30분 교반했다. 이어서 교반을 정지하고, 30분 정치한 바, 유기층과 수층으로 분리했다. 수층을 분액 조작으로 폐기한 후, 유기층을 포화 식염수 300부로 세정했다. 유기층에 적당량의 망초를 추가하여 30분 교반한 후, 여과하여 건조된 유기층을 얻었다. 얻어진 유기층을 증발기로 용매 증류 증발시켜, 청자색 고체를 얻었다. 또한, 청자색 고체를 감압 하 60℃에서 건조시켜, 식(A-I-a1)로 표시되는 화합물을 19.8부 얻었다.
수율 100%
식(A-I-a1)로 표시되는 화합물의 동정
(질량 분석)이온화 모드=ESI+: m/z= 601.3[M-Cl]+
Exact Mass: 636.3
〔합성예 10〕
이하의 반응은, 질소 분위기 하에서 행했다. 냉각관 및 교반 장치를 구비한 플라스크에, 식(A-I-a1)로 표시되는 화합물 10.0부, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬(동경화성(주)사 제)4.5부, 및 N,N-디메틸포름아미드 100.0부를 투입한 후, 50~60℃에서 3시간 교반했다. 이어서, 반응 혼합물을 실온에 냉각한 후, 수돗물 2000.0부에 1시간 교반하면서 적하하면, 암청색 현탁액이 얻어졌다. 얻어진 현탁액을 여과하면, 청녹색 고체가 얻어졌다. 다시 청녹색 고체를 감압 하 60℃에서 건조시켜, 식(A-I-a9)로 표시되는 화합물을 11.3부 얻었다.
수율 82%
〔합성예 11〕
환류 냉각기, 적하 로트 및 교반기를 구비한 플라스크 내에 질소를 0.02L/분으로 흐르게 하여 질소 분위기로 하고, 락트산에틸 305질량부를 넣고, 교반하면서 70℃까지 가열했다.
이어서, 아크릴산 46질량부 및 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02.6]데실아크릴레이트(식(I-1)로 표시되는 화합물 및 식(II-1)으로 표시되는 화합물을, 몰비로, 50:50으로 혼합.)240질량부를, 락트산에틸 185질량부에 용해하여 용액을 조제하고, 그 용해액을, 적하 로트를 이용하여 4시간에 걸쳐, 70℃로 보온한 플라스크 내에 적하했다.
한편, 중합 개시제 2,2’-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)30질량부를 락트산에틸 225질량부에 용해한 용액을, 별도의 적하 로트를 이용해 4시간에 걸쳐 플라스크 내에 적하했다. 중합 개시제의 용액의 적하가 종료한 후, 4시간, 70℃로 유지하고, 그 후 실온까지 냉각하며, 중량 평균 분자량 Mw는, 9.1×103, 분자량 분포는 2.1, 고형분 26질량%, 고형분 산가 120mg-KOH/g의 수지 B1용액을 얻었다. 수지 B1은 하기에 나타내는 구조 단위를 가진다.
〔합성예 12〕
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 182부를 도입하고, 플라스크 내 분위기를 공기로부터 질소로 한 후, 100℃로 승온 후, 벤질메타크릴레이트 70.5부, 메타크릴산 43.0부, 트리시클로데칸 골격의 모노메타크릴레이트(히다치화성(주)제 FA-513M) 22.0부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 136부로 이루어지는 혼합물에 2,2’-아조비스이소부티로니트릴 3.6부를 첨가한 용액을 적하하고, 다시 100℃에서 교반을 계속했다.
다음에, 플라스크 내 분위기를 질소로부터 공기로 히여, 글리시딜메타크릴레이트 35.5부[0.25몰, (본 반응에 이용한 메타크릴산의 카르복시기에 대하여 50몰%)], 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.9부 및 히드로퀴논 0.145부를 플라스크 내에 투입하고, 110℃에서 반응을 계속하여, 고형분 29%, 고형분 산가가 79mgKOH/g의 수지 B2용액을 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스틸렌 환산의 중량 평균 분자량은 30,000이었다.
합성예에서 얻어진 수지의 중량 평균 분자량(Mw)및 수평균 분자량(Mn)의 측정은, GPC법을 이용하여, 이하의 조건으로 행했다.
장치;K2479((주)시마츠 제작소)
칼럼;SHIMADZU Shim-pack GPC-80M
칼럼 온도;40℃
용매;THF(테트라히드로푸란)
유속;1.0mL/min
검출기;RI
교정용 표준 물질;TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-288, A-2500, A-500(도소(주)제)
상기에서 얻어진 폴리스틸렌 환산의 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 비(Mw/Mn)를 분자량 분포로 했다.
〔합성예 13〕
합성예 2에 있어서 N-페닐-1-나프틸아민 대신에, 식(B-I-1)로 표시되는 화합물을 이용하는 외는, 합성예 6과 동일하게 합성하여, 식(aa13)로 표시되는 화합물을 얻었다.
〔합성예 14-17〕
식(aa5)로 표시되는 단량체 대신에, 식(aa13)로 표시되는 단량체를 이용한 것을 제외하고는, 각각 상기 합성예 4-7과 동일한 방법으로 공중합체 용액을 얻었다.
[표 2]
〔합성예 18〕
4-포르밀벤젠-1,3-디술폰산2나트륨 22.14부, N,N-디부틸-3-아미노페놀 15.6부 및 파라톨루엔술폰산나트륨 2.2부를, 120도에서 12시간 교반했다. 냉각 후, 얻어진 혼합물을, 에탄올의 50% 수100부에 첨가하고, 여과하여, 식(I-2)로 표시되는 화합물을 얻었다.
〔합성예 19〕
식(aa3)로 표시되는 화합물 10.00부를 메탄올 100mL에 추가하여 용해 후, 트리플루오로메탄술폰산나트륨 2.50부를 첨가하여 염을 치환했다. 여과 후, 얻어진 화합물을, 물로 세정하고, 남은 고체를 감압 건조시켜, 식(aa4)로 표시되는 화합물 5.5부를 얻었다.
〔합성예 20〕
질소 분위기 하에서, 메틸에틸케톤 30부를 넣은 후, 70℃로 승온했다. 식(aa4)로 표시되는 화합물 2.54부와 2,2’-아조비스이소부티로니트릴 0.16부, 메틸에틸케톤 20부에 용해하여 반응기에 70℃를 유지하여 3시간 투입했다. 투입 완료 후, 8시간, 70℃로 유지하여, 메틸에틸케톤을 일부 농축한 후, 헥산에 반응액을 투입하여, 결정을 석출시킨 후, 여과하고, 남은 고체를 헥산으로 세정 후, 감압 건조시켜 폴리머 화합물(aa4)1.80부를 얻었다.
〔합성예 21〕
질소 분위기 하에서, 메틸에틸케톤 30부를 넣은 후, 70℃로 승온했다. 식(aa4)로 표시되는 화합물 2.54부와 2,2’-아조비스이소부티로니트릴 0.25부, 벤질메타아크릴레이트 0.51부, 메타아크릴산 0.51부, N-페닐말레이미드 0.42부를 메틸에틸케톤 50부에 용해하여 반응기에 70℃를 유지하여 3시간 투입했다. 투입 완료 후, 8시간, 70℃로 유지하여, 메틸에틸케톤을 일부 농축한 후, 헥산에 반응액을 투입하여, 결정을 석출시킨 후, 여과하고, 남은 고체를 헥산으로 세정 후, 감압 건조시켜 폴리머 화합물(aa4’)2.35부를 얻었다.
〔합성예 22〕
질소 분위기 하에서, 메틸에틸케톤 30부를 넣은 후, 70℃로 승온했다. 식(aa5)로 표시되는 화합물 2.54부와 2,2’-아조비스이소부티로니트릴 0.16부, 메틸에틸케톤 20부에 용해하여 반응기에 70℃를 유지하여 3시간 투입했다. 투입 완료 후, 8시간, 70℃로 유지하여, 메틸에틸케톤을 일부 농축한 후, 헥산에 반응액을 투입하여, 결정을 석출시킨 후, 여과하고, 남은 고체를 헥산으로 세정 후, 감압 건조하여 폴리머 화합물(aa5)1.63부를 얻었다.
〔합성예 23〕
질소 분위기 하에서, 메틸에틸케톤 30부를 넣은 후, 70℃로 승온한다. 식(aa5)로 표시되는 화합물 2.54부와 2,2’-아조비스이소부티로니트릴 0.25부, 벤질메타아크릴레이트 0.51부, 메타아크릴산 0.51부. N-페닐말레이미드 0.42부를 메틸에틸케톤 50부에 용해하여 반응기에 70℃를 유지하여 3시간 투입한다. 투입 완료 후, 15시간, 70℃로 유지하여, 메틸에틸케톤을 일부 농축한 후, 헥산에 반응액을 투입하고, 결정을 석출시킨 후, 여과하고, 남은 고체를 감압 건조하여 폴리머 화합물(aa5’) 3.80부를 얻었다.
〔합성예 24〕
식(aa3)로 표시되는 화합물 5.00부를 메탄올 50mL에 추가하여 용해 후, p-톨루엔술폰산나트륨염 1.46부를 첨가하여 염을 치환한다. 여과 후, 얻어진 화합물을 물로 세정하고, 감압 건조시켜, 식(aa6)로 표시되는 화합물 2.84부를 얻는다.
〔합성예 25〕
C.I.베이식 블루 26 5.00부를 메탄올 50mL를 추가하여 용해 후, p-톨루엔술폰산나트륨염 2.10부를 첨가하여 염을 치환한다. 여과 후, 얻어진 화합물을 물로 세정하고, 감압 건조하여, 식(aa7)로 표시되는 화합물 2.71부를 얻는다.
〔합성예 26-29〕
냉각관과 교반기를 구비한 플라스크에, 식(aa8)로 표시되는 단량체, 벤질메타크릴레이트, 메타크릴산, 메틸메타크릴레이트 및 N-벤질말레이미드를 각각 하기 표3에 기재된 중량으로 투입하고, 개시제로서, 2,2’-아조비스이소부티로니트릴 0.25부, 벤질메타아크릴레이트를 상기 단량체의 총량 100중량부에 대하여 6중량부로 첨가한다. 이어서, 상기 개시제 및 상기 단량체의 총량 100중량부에 대하여, 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 300중량부를 투입한 후, 질소 분위기 하에서, 서서히 교반을 개시한다. 반응 용액을 90℃까지 승온하여, 10시간 교반하여, 공중합체 용액을 얻는다.
[표 3]
〔합성예 30-33〕
식(aa8)로 표시되는 단량체 대신에, 식(aa9)로 표시되는 단량체를 이용하는 것을 제외하고는, 각각 상기 합성예 26-29와 동일한 방법으로 공중합체 용액을 얻는다.
[표 4]
〔합성예 34-37〕
식(aa8)로 표시되는 단량체 대신에, 식(aa10)로 표시되는 단량체를 이용하는 것을 제외하고는, 각각 상기 합성예 26-29와 동일한 방법으로 공중합체 용액을 얻는다.
[표 5]
〔합성예 38〕
베이식 블루 7(동경화성(주))2.1부를 메탄올 100부에 용해시킨 후, 하기 식(Pc)로 표시되는 화합물(알드리치(주)제)2.1부를 첨가하고, 12시간, 실온에서 교반했다. 그 후, 이온 교환수를 100부 첨가하여, 결정을 석출시켰다. 여과 후, 결정을 이온 교환수 50부로 세정하고, 얻어진 고체를 60℃에서 24시간, 건조시켜, 식(a-4)로 표시되는 화합물을 얻었다.
〔실시예 1〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 10부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 1.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-원-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 600부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 2〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 10부
(A)착색제:식(I-2)로 표시되는 화합물 1.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드 (등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 600부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 3〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.5부
(A)착색제:식(a2)로 표시되는 화합물 6.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF가 제)10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 600부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 4〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:식(I-2)로 표시되는 화합물 0.5부
(A)착색제:식(a2)로 표시되는 화합물 5.8부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 600부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 5〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.5부
(A)착색제(A5):식(2-29)로 표시되는 화합물 0.5부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 600부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 6〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.5부
(A)착색제(A6):식(3-11)로 표시되는 화합물 1.3부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 600부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 7〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(A)착색제(A7):식(A-I-a9)로 표시되는 화합물 5.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 8〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(A)착색제:합성예 4에서 얻어진 공중합체 용액 5.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 9〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(A)착색제:합성예 5에서 얻어진 공중합체 용액 5.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 10〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(A)착색제:합성예 6에서 얻어진 공중합체 용액 5.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 11〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(A)착색제:합성예 7에서 얻어진 공중합체 용액 5.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 12〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(A)착색제:합성예 14에서 얻어진 공중합체 용액 5.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제)10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 13〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(A)착색제:합성예 15에서 얻어진 공중합체 용액 5.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘
SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 14〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(A)착색제:합성예 16에서 얻어진 공중합체 용액 5.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 15〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 2.0부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(A)착색제:합성예 17에서 얻어진 공중합체 용액 5.0부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예16〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-4)로 표시되는 화합물 0.8부
(A)착색제:C.I.애시드 레드 52 0.3부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔실시예 17〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
크산텐 염료 대신에, 합성예 7에서 얻어지는 식(aa4)로 표시되는 화합물을 이용하는 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 착색 경화성 수지
조성물을 얻는다.
〔실시예 18〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
크산텐 염료 대신에, 합성예 8에서 얻어지는 식(aa5)로 표시되는 화합물을 이용하는 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 19〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 21에서 얻어지는 폴리머 화합물(aa4‘)을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 20〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 22에서 얻어지는 폴리머 화합물(aa5)을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 21〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 23에서 얻어지는 폴리머 화합물(aa5‘)을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 22〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 24에서 얻어지는 폴리머 화합물(aa6)을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 23〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 25에서 얻어지는 폴리머 화합물(aa7)을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 24〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 26에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 25〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 27에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 26〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 28에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 27〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 29에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 28〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 30에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 29〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 31에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 30〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 32에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 31〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 33에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 32〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 34에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 33〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 35에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 34〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 36에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 35〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 합성예 37에서 얻어지는 공중합체 분산액을 이용하는 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 38〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 식(4-9)로 표시되는 화합물을 이용하는 것, 또한 C.I.피그먼트 바이올렛 23을 함유하는 것 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔실시예 39〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
식(a2)로 표시되는 화합물 대신에, 식(1-44)로 표시되는 화합물을 이용하는 것, 또한 C.I.피그먼트 바이올렛 23을 함유하는 것 이외는, 실시예 3과 동일하게 하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻는다.
〔비교예 1〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-1)로 표시되는 화합물 10부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 600부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
〔비교예 2〕
(착색 경화성 수지 조성물의 조제)
(A)착색제:식(a-4)로 표시되는 화합물 0.8부
(B)수지:수지 B1(고형분 환산) 50부
(C)중합성 화합물:디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트
(카야라드(등록 상표)DPHA;일본화약(주)제) 50부
(D)중합 개시제:N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(일가큐어(등록 상표)OXE 01;BASF사 제) 10부
(F)레벨링제:폴리에테르 변성 실리콘 오일(토레이 실리콘 SH8400:토레이·다우코닝(주)제) 0.1부
(E)용제:락트산에틸 550부
(E)용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10부
를 혼합하여 착색 경화성 수지 조성물을 얻었다.
<착색 패턴의 제작>
5cm귀퉁이의 유리 기판(이글 2000;코닝사 제)상에, 착색 경화성 수지 조성물을 스핀코트법으로 도포한 후, 100℃에서 3분간 프리베이크하여 착색층을 얻었다.
방냉 후, 착색층이 형성된 기판과 석영 유리 제 포토마스크의 간격을 100μm로 하여, 노광기(TME-150RSK;토프콘(주)제)를 이용하여, 대기 분위기 하, 150mJ/cm2의 노광량(365nm 기준)으로 광 조사했다. 포토마스크로는, 100μm 라인 앤드 스페이스 패턴이 형성된 것을 사용했다. 광 조사후의 착색층을, 비이온계 계면 활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 포함하는 수계 현상액에 24℃에서 60초간 침지 현상하여, 수세 후, 오븐 중, 200℃에서 30분간 포스트베이크를 행하여, 착색 패턴을 얻었다.
<막 두께 측정>
얻어진 착색 패턴에 대하여, 막 두께를, 막 두께 측정 장치(DEKTAK3;일본진공기술(주)제))를 이용하여 측정했다.
<색도 평가>
얻어진 착색 패턴에 대하여, 측색기(OSP-SP-200;오리퍼스(주)제)를 이용하여 분광을 측정하고, C 광원의 특성 함수를 이용하여 CIE의 XYZ 표색계에 있어서의 xy 색도 좌표(x、y)와 3자극치 Y를 측정했다. Y의 값이 클수록 명도가 높은 것을 나타낸다.
〔내열성 평가〕
얻어진 착색 감광성 수지 조성물의 도포막을 230℃에서 20분 가열하고, 도포막의 가열 전후의 색차(ΔEab*)를 측색기(OSP-SP-200;OLYMPUS사 제)를 이용하여 측정했다. 얻어진 도포막에 대하여 이상의 내열성 평가를 실시한 결과, 색차(ΔEab*)를 표 6~표 9에 나타낸다. ΔEab*가 작을수록, 가열 전후에서의 색 변화가 작아, 내열성이 우수한 것을 나타낸다.
[표 6]
[표 7]
[표 8]
[표 9]
[산업상 이용 가능성]
본 발명의 착색 경화성 수지 조성물로 형성되는 착색 도막이나 착색 패턴은 양호한 내열성과 양호한 명도를 가진다. 본 발명의 착색 경화성 수지 조성물로 형성되는 컬러 필터는 유용하고, 그 컬러 필터를 포함하는 액정 표시 장치는 표시 특성이 뛰어난 것을 알 수 있다.
Claims (3)
- 착색제(A), 수지(B), 중합성 화합물(C)및 중합 개시제(D)를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물로서,
착색제(A)가, 식(a)로 표시되는 화합물과,
크산텐 염료 및 크산텐 염료와 시아닌 염료의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개를 포함하며,
상기 크산텐 염료가 C.I.애시드 52 또는 하기 식(I)로 표시되는 화합물인 착색 경화성 수지 조성물.
[식 중, k1, k2, k3 및 k4는, 각각 독립하여, 0~4의 정수를 나타내고, 4≤k1+k2+k3+k4≤16이다.
Xa -, Xb -, Xc - 및 Xd -는, 각각 독립하여, -CO3 - 또는 -SO3 -를 나타낸다.
Aa +, Ab +, Ac + 및 Ad +는, 각각 독립하여, 나트륨 이온, 칼륨 이온 또는 식(b)로 표시되는 카티온을 나타낸다.
식(b)중, R100, R101, R102 및 R103는, 각각 독립하여, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 탄화수소기를 나타낸다.]
[식(I)중, R1, R2, R3 및 R4은, 각각 독립하여, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~10의 1가의 포화 탄화수소기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 아릴기를 나타낸다.
R51, R52 및 R53는, 각각 독립하여, 수소 원자, -SO3 -, -SO3H 또는 -SO3 -Z+를 나타낸다.
X+는 Na+ 또는 K+를 나타내고,
Z+는 +N(R13)4, Na+ 또는 K+를 나타내고,
R13은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 1가의 포화 탄화수소기를 나타낸다. R13은, 동일해도 되고, 달라도 된다. a는, 1~4의 정수를 나타낸다.]
- 삭제
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
착색제(A)가, 청색 또는 자색 염료(A2)를 더 포함하는, 착색 경화성 수지 조성물.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014256967A JP6518436B2 (ja) | 2014-12-19 | 2014-12-19 | 着色硬化性樹脂組成物 |
JPJP-P-2014-256967 | 2014-12-19 | ||
PCT/IB2015/059761 WO2016108133A1 (ja) | 2014-12-19 | 2015-12-18 | 着色硬化性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170086605A KR20170086605A (ko) | 2017-07-26 |
KR102003142B1 true KR102003142B1 (ko) | 2019-07-23 |
Family
ID=56243848
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177016869A KR102003142B1 (ko) | 2014-12-19 | 2015-12-18 | 착색 경화성 수지 조성물 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6518436B2 (ko) |
KR (1) | KR102003142B1 (ko) |
CN (1) | CN107111230B (ko) |
TW (1) | TWI679494B (ko) |
WO (1) | WO2016108133A1 (ko) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6666746B2 (ja) * | 2016-02-24 | 2020-03-18 | 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. | 化合物および着色硬化性樹脂組成物 |
CN108663903B (zh) * | 2017-03-27 | 2023-03-10 | 东友精细化工有限公司 | 着色树脂组合物、滤色器和显示装置 |
KR20190079538A (ko) * | 2017-12-27 | 2019-07-05 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 점착제층 부착 광학 필름 및 표시 장치 |
JP7283887B2 (ja) * | 2018-01-16 | 2023-05-30 | 保土谷化学工業株式会社 | キサンテン系カチオン染料とアニオン染料からなる造塩化合物を含有する着色組成物、カラーフィルター用着色剤およびカラーフィルター |
CN111837075B (zh) | 2018-03-23 | 2024-07-05 | 默克专利股份有限公司 | 负型超厚膜光刻胶 |
KR102314483B1 (ko) * | 2018-06-22 | 2021-10-19 | 주식회사 엘지화학 | 화합물, 중합체, 색재 조성물, 수지 조성물, 컬러필터 및 디스플레이 장치 |
JP7280384B2 (ja) * | 2019-12-24 | 2023-05-23 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、光学部材及びレンズ |
CN115989286B (zh) * | 2020-09-01 | 2023-09-29 | 住友化学株式会社 | 化合物 |
JPWO2023021986A1 (ko) * | 2021-08-20 | 2023-02-23 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013144724A (ja) * | 2012-01-13 | 2013-07-25 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 着色硬化性樹脂組成物 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08327811A (ja) * | 1995-06-01 | 1996-12-13 | Canon Inc | カラーフィルタ用インク、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法および液晶パネル |
TWI454754B (zh) * | 2008-07-22 | 2014-10-01 | Toyo Ink Mfg Co | 彩色濾光片用藍色著色組成物、彩色濾光片及彩色顯示裝置 |
JP5251329B2 (ja) * | 2008-07-22 | 2013-07-31 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用青色着色組成物、カラーフィルタおよびカラー表示装置 |
TWI491982B (zh) * | 2009-10-28 | 2015-07-11 | Sumitomo Chemical Co | Coloring the photosensitive resin composition |
JP5505058B2 (ja) * | 2010-04-21 | 2014-05-28 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用青色着色組成物、およびカラーフィルタ |
JP5816555B2 (ja) * | 2010-06-15 | 2015-11-18 | 日本化薬株式会社 | 着色樹脂組成物、着色硬化膜、カラーフィルター、表示装置及び固体撮像素子 |
KR101333695B1 (ko) * | 2010-07-06 | 2013-11-27 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 청색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
JP4911256B1 (ja) * | 2011-06-30 | 2012-04-04 | 大日本印刷株式会社 | 染料分散液、カラーフィルター用感光性樹脂組成物、カラーフィルター、液晶表示装置、及び、有機発光表示装置 |
JP2013050707A (ja) * | 2011-08-02 | 2013-03-14 | Nippon Kayaku Co Ltd | 着色樹脂組成物 |
JP5646426B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2014-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示装置 |
JP6115281B2 (ja) * | 2012-06-07 | 2017-04-19 | Jsr株式会社 | 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 |
JP6103880B2 (ja) * | 2012-10-24 | 2017-03-29 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、画像表示装置、固体撮像素子、並びに、新規化合物 |
JP5644839B2 (ja) * | 2012-11-19 | 2014-12-24 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ |
JP6008760B2 (ja) * | 2013-03-05 | 2016-10-19 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 |
-
2014
- 2014-12-19 JP JP2014256967A patent/JP6518436B2/ja active Active
-
2015
- 2015-12-17 TW TW104142466A patent/TWI679494B/zh active
- 2015-12-18 WO PCT/IB2015/059761 patent/WO2016108133A1/ja active Application Filing
- 2015-12-18 KR KR1020177016869A patent/KR102003142B1/ko active IP Right Grant
- 2015-12-18 CN CN201580068367.XA patent/CN107111230B/zh active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013144724A (ja) * | 2012-01-13 | 2013-07-25 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 着色硬化性樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2016108133A1 (ja) | 2016-07-07 |
CN107111230B (zh) | 2020-09-08 |
TW201631386A (zh) | 2016-09-01 |
KR20170086605A (ko) | 2017-07-26 |
JP2016117799A (ja) | 2016-06-30 |
TWI679494B (zh) | 2019-12-11 |
JP6518436B2 (ja) | 2019-05-22 |
CN107111230A (zh) | 2017-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102003142B1 (ko) | 착색 경화성 수지 조성물 | |
JP6822512B2 (ja) | 着色硬化性樹脂組成物 | |
KR102402498B1 (ko) | 착색 경화성 수지 조성물 | |
JP6530924B2 (ja) | 着色硬化性樹脂組成物 | |
KR102403575B1 (ko) | 착색 경화성 수지 조성물, 상기 착색 경화성 수지 조성물로 형성되는 컬러 필터 및 표시 장치 | |
KR102250530B1 (ko) | 화합물 및 착색 경화성 수지 조성물 | |
JP6917950B2 (ja) | 着色硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置 | |
KR102224883B1 (ko) | 착색 경화성 수지 조성물 | |
JP6920048B2 (ja) | 化合物及び着色組成物 | |
JP6672725B2 (ja) | 着色硬化性樹脂組成物 | |
JP7075724B2 (ja) | 化合物、着色組成物、繊維材料、カラーフィルタ、及び表示装置 | |
US11988962B2 (en) | Colored photosensitive resin composition | |
TWI526781B (zh) | Coloring the photosensitive resin composition | |
KR102400064B1 (ko) | 화합물, 착색 조성물, 섬유 재료, 컬러 필터 및 표시 장치 | |
TW201615638A (zh) | 化合物及含有該化合物之著色硬化性樹脂組合物 | |
KR101542535B1 (ko) | 착색 경화성 수지 조성물 | |
TWI669572B (zh) | 著色硬化性樹脂組合物 | |
JP7402616B2 (ja) | 着色樹脂組成物、カラーフィルタ及び表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |