KR101998311B1 - Anti-Reflection Film - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반사방지 처리에 관한 것으로, 보다 상세하게는 외부 빛으로 인한 발광으로 색변이 현상을 방지하여 선명한 색상 구현과 색재현성 향상을 시키며 그리고 내부에서 발생된 빛은 외부로 더 많이 투과되는 반사방지 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection treatment, and more particularly, to an antireflection treatment which prevents color shift phenomenon by light emission caused by external light, thereby achieving a clear color reproduction and improving color reproducibility, Lt; / RTI >
OLED와 QD(Quantum Dot, 양자점) 디스플레이는 액정 디스플레이와는 다르게 색상을 발색물질로 직접 구현한다는 차이가 있는데, 특히 양자점 디스플레이의 경우는 양자점 재료의 특성상 일정 파장의 빛이 흡수되면 발색하는 특징이 있어, 화면 외부에서 빛이 흡수되면 구현하고자 하는 색 이외의 색상이 발색함에 따라 색선명도가 감소하고 색재현성 또한 감소하게 된다. 따라서 이를 방지하기 위한 기술이 필수적인데, 일반적으로 디스플레이 표면에 반사방지, 저반사, 방현저반사 등의 처리기술을 도입하는 형태의 편광판 혹은 기판처리 제품이 많이 쓰여진다. 이러한 기술은 표면에서 약 2~0.5% 정도의 반사율을 나타내는 것이 일반적이고, 특수한 제품의 경우 진공증착 기술을 도입하여 반사율을 0.1% 미만으로 제작할 수 있으나, 이 진공증착 기술은 4~6층의 세라믹 재료를 표면에 증착하는 방법으로, 매우 단가가 비싸고 완제품 상태의 제품 표면에 처리하는 방법으로, 공정 손실이 매우 큰 기술에 해당한다. OLED and QD (Quantum Dot, QD) displays are different from liquid crystal displays in that they directly implement the color as a coloring material. Particularly, in the case of QD display, due to the characteristics of QD materials, If light is absorbed from the outside of the screen, the color sharpness decreases and the color reproducibility decreases as colors other than the color to be implemented are developed. Therefore, a technique for preventing this is indispensable. In general, a polarizing plate or a substrate processing product in which a treatment technique such as reflection prevention, low reflection, and reflection of the screen is introduced on the display surface is often used. This technique is generally used to show a reflectance of about 2 to 0.5% on the surface. In the case of special products, the reflectance can be made less than 0.1% by introducing a vacuum deposition technique. However, A method of depositing a material on a surface, which is very expensive and is processed on the surface of an article in an article state, which corresponds to a very high process loss.
또한, 발색소자나 내부 광원에 의해 빛이 생성되고 외부로 구현될 때, 각 필름과 재료 계면에서 반사가 일어나게 되어 투과율이 감소되는 현상이 발생하여 디스플레이의 색재현성과 시인성이 감소하게 된다.Also, when light is generated by a coloring element or an internal light source and is implemented externally, reflection occurs at each film and material interface, and transmittance is reduced, thereby reducing the color reproducibility and visibility of the display.
따라서, 효과적으로 반사율을 낮추어 투과율을 증가시키고, 빛이 외부로부터 내부 소자로 흡수되는 것을 방지할 수 있는 기술 개발이 필요한 실정이다.Therefore, it is necessary to develop a technique that effectively reduces the reflectance to increase the transmittance and prevent light from being absorbed from the outside to the internal elements.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자, 빛의 회절 및 소멸 간섭을 유도할 수 있는 투명에 가까운 반사방지 재료를 최외곽면 혹은 편광자가 접촉하는 기판 내면에 도입한 것으로, 굴절률이 조절된 조성물로 반사방지 처리층을 만들고 이 반사방지 처리층을 포함하는 반사방지 제품 및 이의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above-described problems, the present invention provides a reflection-preventing material which is capable of inducing diffraction and extinction of light to be introduced into an outermost surface or an inner surface of a substrate which is in contact with a polarizer, And an object of the present invention is to provide an antireflective product comprising the antireflective treatment layer and a method for producing the antireflective product.
또한, 본 발명은 반사방지 처리층을 미립자를 이용하여 공기층으로 직접 만들고 이 방법을 기저필름의 일면, 최외곽면 또는 반대면에 형성시켜 반사방지 성능을 구현하여 투과율을 증가시키는 방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method for increasing the transmittance by forming an antireflective treatment layer directly on an air layer using fine particles and forming the antireflective treatment layer on one surface, outermost surface or opposite surface of the base film to realize antireflection performance.
위와 같은 목적을 달성하기 위하여, 기판 및 접착층을 포함하는 반사방지 필름에 있어서, 상기 기판과 접착층 사이에 또는 상기 기판과 접착층 사이 및 기판의 반대면에 반사방지 처리층이 형성되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an antireflection film comprising a substrate and an adhesive layer is characterized in that an antireflection treatment layer is formed between the substrate and the adhesive layer, or between the substrate and the adhesive layer and on the opposite side of the substrate.
또한, 본 발명의 반사방지 필름에서, 상기 기판위에는 하드코팅층이 형성되고, 상기 반사방지 처리층은 상기 기판의 하드코팅층에 굴절률 1.1~1.5 범위의 유기 화합물 또는 저굴절 미립자를 포함하는 저굴절층이 코팅되어 이루어지거나, 또는 고굴절층과 저굴절층을 포함하는 반사방지층이거나, 또는 고굴절층과, 굴절률 1.1~1.5 범위의 유기 화합물 또는 저굴절 미립자를 포함하는 저굴절층이 코팅되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.Further, in the antireflection film of the present invention, a hard coating layer is formed on the substrate, and the antireflection treatment layer is formed on the hard coating layer of the substrate with a low refractive index layer containing an organic compound having a refractive index of 1.1 to 1.5 or low refractive index Or an antireflection layer comprising a high refractive index layer and a low refractive index layer or a low refractive index layer comprising a high refractive index layer and an organic compound having a refractive index of 1.1 to 1.5 or a low refractive index layer coated thereon .
또한, 상기 기판으로 트리아세틸 셀룰로오즈필름이나 PET 필름이 사용되며, 상기 저굴절층은 굴절률 1.1~1.5 범위의 광경화형 불소 화합물과 광경화 또는 열경화 유기화합물 바인더를 포함하거나, 또는 저굴절 미립자를 포함하여 이루어지며, 상기 저굴절층에 사용되는 저굴절 미립자는 실리카 또는 불화마그네슘 미립자로서 크기가 1~50nm 인 일반 입자나 크기가 10~100nm 인 중공실리카 입자이며, 그리고 상기 미립자 100 중량부에 대하여 1~10중량부의 실란 화합물이 표면처리 물질로서 더 포함되며, 상기 광경화형 불소 화합물은 하나 이상의 불소가 치환된 불소 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트 화합물이며, 상기 하드코팅층에 5nm에서 50nm 크기의 실리카 입자가 포함되는 것을 특징으로 한다.In addition, a triacetyl cellulose film or a PET film is used as the substrate, and the low refraction layer includes a photo-curable fluorine compound having a refractive index of 1.1 to 1.5 and a photo-curable or thermoset organic compound binder, The low refractive fine particles to be used in the low refractive layer are silica particles or magnesium fluoride particles, which are regular particles having a size of 1 to 50 nm or hollow silica particles having a size of 10 to 100 nm and 1 to 100 parts by weight of the fine particles. To 10 parts by weight of a silane compound is further included as a surface treatment substance, and the photocurable fluorine compound is fluorine acrylate or methacrylate compound substituted with at least one fluorine, and the hard coat layer contains silica particles of 5 nm to 50 nm in size .
또한, 본 발명의 반사방지 필름에서, 상기 반사방지 처리층에는 공기층이 포함된 패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.Further, in the antireflection film of the present invention, the antireflection treatment layer is characterized in that a pattern including an air layer is formed.
또한, 기판, 반사방지 처리층, 접착층, 편광자 포함층, 및 기판 또는 보호막을 포함하는 반사방지 필름에 있어서, 상기 반사방지 처리층이 상기 기판과 접착층 사이에 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, in the antireflection film comprising a substrate, an antireflection treatment layer, an adhesive layer, a polarizer-containing layer, and a substrate or a protective film, the antireflection treatment layer is formed between the substrate and the adhesive layer.
또한, 본 발명의 반사방지 필름에서, 상기 기판의 다른면에, 상기 편광자 포함층과 하부 기판사이에, 또는 상기 하부기판의 다른 면에 상기 반사방지 처리층이 하나 이상 더 형성되는 것을 특징으로 한다.Further, in the antireflection film of the present invention, at least one of the antireflection treatment layers is formed on the other surface of the substrate, between the polarizer-containing layer and the lower substrate, or on the other surface of the lower substrate .
또한, 본 발명의 반사방지 필름에서, 상기 기판은 기저필름에 하드코팅층이 형성된 것이고, 상기 반사방지 처리층은 굴절률 1.1~1.5 범위의 유기 화합물 또는 저굴절 미립자를 포함하는 저굴절층이 코팅되어 이루어지거나, 또는 고굴절층과 저굴절층을 포함하는 반사방지층이거나, 또는 고굴절층과, 굴절률 1.1~1.5 범위의 유기 화합물 또는 저굴절 미립자를 포함하는 저굴절층이 코팅되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, in the antireflection film of the present invention, the substrate may have a hard coating layer formed on the base film, and the antireflection treatment layer may be formed by coating an organic compound having a refractive index of 1.1 to 1.5 or a low refractive index layer containing low refractive index particles Or an antireflection layer comprising a high refractive index layer and a low refractive index layer or a low refractive index layer comprising a high refractive index layer and an organic compound having a refractive index in the range of 1.1 to 1.5 or a low refractive index layer.
또한, 본 발명의 반사방지 필름에서, 상기 기저필름으로 트리아세틸 셀룰로오즈필름이나 PET 필름이 사용되며, 상기 저굴절층은 굴절률 1.1~1.5 범위의 광경화형 불소 화합물과 광경화 또는 열경화 유기화합물 바인더를 포함하거나, 또는 저굴절 미립자를 포함하여 이루어지며, 상기 저굴절층에 사용되는 저굴절 미립자는 실리카 또는 불화마그네슘 미립자로서 크기가 1~50nm 인 일반 입자나 크기가 10~100nm 인 중공실리카 입자이며, 그리고 상기 미립자 100 중량부에 대하여 1~10중량부의 실란 화합물이 표면처리 물질로서 더 포함되며, 상기 광경화형 불소 화합물은 하나 이상의 불소가 치환된 불소 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트 화합물이며, 상기 하드코팅층에 5nm에서 50nm 크기의 실리카 입자가 포함되는 것을 특징으로 한다.Further, in the antireflection film of the present invention, a triacetyl cellulose film or a PET film is used as the base film, and the low refraction layer is composed of a photocurable fluorine compound having a refractive index in the range of 1.1 to 1.5 and a photocurable or thermosetting organic compound binder Refractive index layer is silica or magnesium fluoride microparticles and is a regular particle having a size of 1 to 50 nm or a hollow silica particle having a size of 10 to 100 nm, And 1 to 10 parts by weight of a silane compound per 100 parts by weight of the fine particles is further contained as a surface treatment material, and the photocurable fluorine compound is fluorine acrylate or methacrylate compound substituted with at least one fluorine, And silica particles having a size of 5 nm to 50 nm are included.
또한, 기판, 반사방지 처리층, 접착층, 편광자 포함층, 및 기판 또는 보호막을 포함하는 반사방지 필름을 제조하는 방법에 있어서, 상기 반사방지 처리층이 상기 기판과 접착층 사이에 형성되고, 상기 반사방지 처리층은 굴절률 1.1~1.5 범위의 저굴절 미립자의 표면 처리하는 단계, 상기 미립자를 광경화 또는 열경화 유기화합물 바인더와 혼합하여 조성물을 만드는 단계, 및 상기 조성물을 기판에 코팅 및 건조하고 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the present invention also provides a method for producing an antireflection film comprising a substrate, an antireflection treatment layer, an adhesive layer, a polarizer-containing layer, and a substrate or a protective film, wherein the antireflection treatment layer is formed between the substrate and the adhesive layer, Treating the surface of the low refractive index particles having a refractive index in the range of 1.1 to 1.5, mixing the fine particles with a photocurable or thermosetting organic compound binder to form a composition, coating the composition on the substrate, drying and curing And a control unit.
또한, 반사방지 필름을 제조하는 방법에 있어서, 상기 반사방지 처리층에 사용되는 저굴절 미립자는 실리카 또는 불화마그네슘 미립자로서 크기가 1~50nm 인 일반 입자나 크기가 10~100nm 인 중공실리카 입자이며, 그리고 상기 미립자 100 중량부에 대하여 1~10중량부의 실란 화합물이 표면처리 물질로서 더 포함되며, 그리고 공기층이 포함된 패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.Also, in the method for producing an antireflection film, the low refractive fine particles used in the antireflection treatment layer may be silica particles or magnesium fluoride particles, which are ordinary particles having a size of 1 to 50 nm or hollow silica particles having a size of 10 to 100 nm, And 1 to 10 parts by weight of a silane compound per 100 parts by weight of the fine particles is further contained as a surface treatment material, and a pattern including an air layer is formed.
또한, 기판, 반사방지 처리층, 접착층, 편광자 포함층, 및 기판 또는 보호막을 포함하는 반사방지 필름을 제조하는 방법에 있어서, 상기 반사방지 처리층이 상기 기판과 접착층 사이에 형성되고, 상기 반사방지 처리층은 굴절률 1.1~1.5 범위의 저굴절 미립자 또는 광경화형 불소 화합물과 광경화 또는 열경화 유기화합물 바인더를 혼합하여 혼합용액을 만드는 단계, 패턴을 구현할 수 있는 반대모양의 몰드패턴을 준비하는 단계, 상기 기판과 준비된 몰드패턴사이에 혼합 용액이 주입되는 단계, 압착롤을 이용하여 패턴을 형성하고 경화하는 단계, 기판을 패턴롤이나 혹은 패턴필름으로부터 분리하는 단계를 거쳐 반사방지 처리층을 형성하는 단계, 반사방지 처리층에 접착 성분을 도포하여 건조하거나 경화하여 접착층을 형성하는 단계, 및 접착층에 편광자를 포함한 필름을 합지하거나 또는 편광자를 포함하는 조성물을 도포하여 편광자 포함층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the present invention also provides a method for producing an antireflection film comprising a substrate, an antireflection treatment layer, an adhesive layer, a polarizer-containing layer, and a substrate or a protective film, wherein the antireflection treatment layer is formed between the substrate and the adhesive layer, The treatment layer is formed by mixing a low refractive fine particle or a photo-curable fluorine compound having a refractive index of 1.1 to 1.5 with a photocurable or thermosetting organic compound binder to prepare a mixed solution, preparing an opposite mold pattern capable of implementing a pattern, Forming a pattern by using a press roll; curing the substrate; separating the substrate from the pattern roll or pattern film to form an anti-reflection treatment layer; A step of applying an adhesive component to the antireflection treatment layer and drying or curing the adhesive layer to form an adhesive layer, Or applying a composition containing a polarizer to form a polarizer-containing layer.
또한, 반사방지 필름을 제조하는 방법에 있어서, 상기 패턴은 음각이나 양각 또는 홈을 포함하며, 금속 패턴 몰드 또는 패턴 몰드 수지를 이용해서 만들어지며, 그리고 상기 패턴 몰드용 수지는 실리콘 변성 아크릴레이트를 사용한 조성물을 이용해서 만들어지는 것을 특징으로 한다.In addition, in the method for producing an antireflection film, the pattern may be formed using a metal pattern mold or a pattern mold resin, and the resin for the pattern mold may be formed using a silicone modified acrylate Characterized in that it is made using a composition.
또한, 본 발명은 일면에 반사방지 처리층을 추가하여 반사가 줄어들고 투과율이 증가되는 반사방지 제품을 제공한다.Further, the present invention provides an antireflective product in which reflection is reduced and transmittance is increased by adding an antireflection treatment layer on one surface.
또한, 본 발명에 따르면, 편광자를 이용하는 편광필름의 일면, 즉 편광자가 접촉하는 면에 반사방지 처리를 도입하여 외부에서 표면과 기판을 통해 흡수된 빛이 색구현 소자에 접촉되기 전에 다시 한 번 빛의 굴절, 상쇄를 일으켜 소자에 이르는 빛의 흡수를 최소화하는 방법에 관한 것이다. 또한, 내부에서 발색된 빛이 외부로 나기기 전에 반사가 감소하게 되어 투과율이 증가되는 효과를 구현한다.Further, according to the present invention, an antireflection treatment is introduced to one surface of a polarizing film using a polarizer, that is, a surface to be in contact with the polarizer, so that light absorbed from the outside through the surface and the substrate is once again reflected And to a method for minimizing the absorption of light reaching the device. Also, the reflection is reduced before the internally emitted light is emitted to the outside, thereby realizing the effect of increasing the transmittance.
본 발명에 따르면, 반사방지 필름의 일면 또는 양면에 본 발명에 따른 반사방지 처리층을 추가하면 반사가 줄어들고 투과율이 증가되는 효과가 있다.According to the present invention, when the antireflection treatment layer according to the present invention is added to one surface or both surfaces of the antireflection film, the reflection is reduced and the transmittance is increased.
또한, 반사방지 필름의 기판과 접착층 사이에 또는 상기 기판과 접착층 사이 그리고 기판의 반대면에도 반사방지 처리층이 추가되면 반사가 줄어들고 투과율이 증가되는 효과가 있다.Also, when an antireflection treatment layer is added between the substrate and the adhesive layer of the antireflection film, or between the substrate and the adhesive layer and also on the opposite side of the substrate, the reflection is reduced and the transmittance is increased.
또한, 편광자를 이용하는 편광필름의 일면, 즉 편광자가 접촉하는 면에 본 발명의 반사방지 처리방법을 도입하면 외부에서 표면과 기판을 통해 흡수된 빛이 색구현 소자에 접촉되기 전에 다시 한 번 빛의 굴절, 상쇄를 일으켜 소자에 이르는 빛의 흡수가 최소화되는 효과가 있다. 더욱이, 내부에서 발색된 빛이 외부로 나기기 전에 반사가 감소하게 되어 투과율이 증가되는 효과를 구현한다.When the antireflection treatment method of the present invention is applied to one surface of a polarizing film using a polarizer, that is, a surface on which a polarizer is brought into contact, the light absorbed from the outside through the surface and the substrate is once again irradiated with light Refraction, and offset, thereby minimizing the absorption of light to the device. Further, the reflection is reduced before the internally emitted light is emitted to the outside, thereby realizing the effect of increasing the transmittance.
도 1은 본 발명의 반사방지 처리가 도입된 필름의 일 예 이다.
도 2는 본 발명의 반사방지 처리가 도입된 필름의 다른 일 예 이다.
도 3은 본 발명의 반사방지 처리가 도입된 필름의 또 다른 일 예 이다.
도 4는 본 발명의 반사방지 처리가 도입된 필름의 또 다른 일 예 이다.1 is an example of a film into which the antireflection treatment of the present invention is introduced.
2 is another example of a film into which the antireflection treatment of the present invention is introduced.
Fig. 3 is another example of a film into which the antireflection treatment of the present invention is introduced.
4 is another example of a film into which the antireflection treatment of the present invention is introduced.
상기의 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 구체적인 구현 방법은 굴절률이 조절된 반사방지 처리층을 도입하여 반사방지 처리를 하는 것이다. 그러므로 먼저 반사방지 처리층을 형성하기 위하여 저굴절 조성물을 사용하는 것이며, 이 조성물 재료에는 굴절률이 낮은 유기 화합물이 포함된다. 본 발명의 상기 저굴절 조성물에는 바인딩 재료로서 사용되는 유기화합물 중에서 불소 원소를 함유하는 화합물의 굴절률이 낮으므로, 광형화형 아크릴레이트를 포함한 불소 아크릴레이트가 포함될 수 있고, 실란 화합물이 변형된 실퀘스트 실록산 등의 하이브리드 재료가 사용될 수 있다. 이 재료들의 경화 방법은 광경화 또는 열경화 모두 사용이 가능하다. 여기에 추가적으로 굴절률 1.1~1.5 범위의 저굴절 미립자를 분산하여 사용할 수 있다. 이때 미립자는 굴절률 저하도 기대할 수 있지만 더욱 바람직하게는 미립자의 단단함에서 기인하는 특징으로 인해 경도가 증가되는 효과가 있다. 추가적으로 미립자들의 분산을 위해 표면처리를 수행한다거나 혹은 이후 다른 기판 혹은 재료와의 접착을 위해 접착 증진제를 포함할 수 있다. 또한, 반사방지 처리층의 효과를 증진시키기 위해 미립자 중에서 공기를 함유하는 중공미립자를 혼합하여 사용하는 것도 가능하다. 상기 저굴절 조성물 제조 시, 투명도가 저하되지 않는 범위에서 굴절률이 낮은 무기질 입자, 이 무기질 입자와 유기물 재료의 하이브리드 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 불소 등의 굴절률이 낮은 원소를 포함하는 유기물 위주의 조성물을 단독으로 사용할 수 있다. In order to accomplish the above-mentioned objects, a specific embodiment of the present invention is to introduce an antireflection treatment layer having a refractive index to perform antireflection treatment. Therefore, first, a low refractive index composition is used to form the antireflection treatment layer, and the composition material includes an organic compound having a low refractive index. In the low refractive index composition of the present invention, since the refractive index of a compound containing a fluorine element is low among the organic compounds used as a binding material, fluorine acrylate including a photo-formable acrylate can be included, May be used. The curing method of these materials can be used either as photo curing or as thermosetting. In addition, low refraction fine particles having a refractive index in the range of 1.1 to 1.5 may be further dispersed and used. At this time, the refractive index of the fine particles can be expected to be lowered, but more preferably, the hardness is increased due to the characteristic attributed to the rigidity of the fine particles. In addition, the surface treatment may be performed to disperse the fine particles or may include an adhesion promoting agent for adhesion to other substrates or materials. In order to improve the effect of the antireflection treatment layer, it is also possible to use hollow fine particles containing air among the fine particles in combination. In the preparation of the low refractive index composition, inorganic particles having a low refractive index may be used, and a hybrid compound of the inorganic particles and the organic material may be used as long as the transparency does not decrease. Further, an organic-based composition including an element having a low refractive index such as fluorine may be used alone.
또한, 빛의 이동경로를 조절하는 효과적인 방법 중에서, 적절한 굴절률을 가지면서 일정한 형태의 패턴, 모양을 가지는 층을 형성시키는 방법을 이용할 수 있는데, 예를 들어 음각 또는 양각의 모양에 구애받지 않는 패턴으로, 일정한 홈을 가지고 있어 공기를 내포하는 홈을 보유하면서 면이나 점으로 형성된 부분은 편광자와 합지하기 위한 접착제에 점착 또는 접착의 형태로 부착되는 어떠한 방법이든, 공기층을 포함할 수 있도록 패턴이 형성된 것이면 모두 가능하다. 패턴의 형성은 일정 사이즈의 입자를 분산하여 코팅한 후 이 코팅필름 자체를 몰드로 사용하는 것으로, 공기층을 많이 함유하는 방법에 따라서, 코팅 후 직접 모양을 만들고 사용하면, 제작 필름에는 음각의 공기층이 형성되며, 몰드 필름면 모양을 떠내서 음각을 만들고 사용하면, 최종적으로 이 층은 양각의 모양이 형성되게 된다. 이러한 공기를 함유한 나노 공기함유층은 효과적은 반사방지 성능을 구현할 수 있다. 또한, 입자를 사용하지 않고 유기 재료를 이용하거나 금속 표면에 형상을 만드는 방법으로 일정 모양을 가지는 몰드를 만들어 사용할 수도 있다. 이하에서 좀 더 구체적으로 설명한다.Among the effective methods of controlling the light path, a method of forming a layer having a certain pattern and shape with a proper refractive index can be used. For example, a pattern that is not affected by the shape of embossed or embossed , Whichever method that has a constant groove and retains the air-bearing grooves and which is formed in the form of a face or a dot is adhered or adhered to an adhesive for interlocking with the polarizer, Everything is possible. The pattern is formed by dispersing and coating particles of a predetermined size and then using the coating film itself as a mold. If a shape is formed directly after coating according to a method containing a lot of air layers, When the mold film surface shape is formed and the engraved angle is made and used, finally, this layer forms a relief shape. Such a nano-air-containing layer containing air can realize effective antireflection performance. Alternatively, a mold having a predetermined shape may be formed by using an organic material without using particles or by making a shape on a metal surface. Hereinafter, a more detailed description will be given.
상기 설명한 외부에서 유입되는 빛의 양을 최소화하기 위한 처리 기술은, 기존 액정 디스플레이 (LCD), 유기발광 디스플레이 (OLED), 양자점 디스플레이 (QD)에 모두 공통적으로 사용되는 편광자를 포함하는 필름의 일면에 처리하는 기술에 해당하는 것으로, 종래의 기술은 트리아세틸 셀룰로오즈라고 하는 무정형(결정이 없어 빛의 왜곡이 없는) 필름만을 편광자를 보호하는 보호기재으로 사용했으나, 최근 디스플레이 기술의 발전과 재료, 공정 기술의 발달로 인해, 폴리에스터 (폴리에틸렌 테레프탈레이트, PET) 및 아크릴 (폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리아크릴레이트, PMMA, Acryl) 등이 편광자 보호역할을 하는 기판재료로 사용되고 있다. 또한, 요오딘과 같은 편광자를 지지하거나 혹은 흡수하기 위한 기저 필름으로 PVA (폴리비닐알콜) 필름이 사용되는데, 이 PVA와 편광자 표면이 트리아세틸 셀룰로오스 필름과 접착이 되도록 하기 위하여 검화(강염기를 이용하여 표면에 하이드록실 그룹을 도입하는 것) 과정을 반드시 거쳐야 했다. 그러나 보호 기판이 폴리에스터 또는 아크릴 재료로 바뀌면서 접착 방법이 변경되고 이에 따라 검화과정 없이, 접착제의 도포만으로 접착을 할 수 있게 되었다. 이때 사용되는 접착제는 열경화 혹은 광경화 등의 일반 접착제의 사용이 가능하다.The processing technique for minimizing the amount of light incident from the outside as described above is applied to one surface of a film including a polarizer commonly used for a conventional liquid crystal display (LCD), an organic light emitting display (OLED), and a quantum dot display (QD) Conventional technology uses amorphous (no crystal distortion-free) film called triacetylcellulose as a protective material for protecting a polarizer. However, recently, the development of display technology, materials, process technology (Polyethylene terephthalate, PET) and acrylics (polymethylmethacrylate, polyacrylate, PMMA, Acryl) have been used as substrate materials for polarizer protection. Also, a PVA (polyvinyl alcohol) film is used as a base film for supporting or absorbing a polarizer such as iodine. To make the surface of the PVA and the polarizer adhere to the triacetylcellulose film, saponification Introducing a hydroxyl group to the surface). However, since the protective substrate is changed into a polyester or an acrylic material, the bonding method is changed so that the bonding can be performed only by applying the adhesive without the saponification process. The adhesive used herein may be a general adhesive such as thermosetting or photo-curing.
따라서, 종전 검화과정이라고 하는 표면 처리 방법을 사용하는 경우는 접착제와 합지가 되는 보호기재필름의 일면에 추가적인 처리를 하는 것을 반드시 배제해야 하는 상황이었으나, 편광자와 상부 기판을 접착시킬 수 있는 다양한 방법이 상용화됨에 따라 편광자와 접촉하는 보호기재의 표면에도 추가적인 표면처리기술을 도입하여 제품을 제작할 수 있다.Therefore, in the case of using the surface treatment method called the pre-baking process, it is necessary to always exclude the additional treatment on the one side of the adhesive and the protective substrate film to be laminated. However, various methods for bonding the polarizer and the upper substrate As the product is commercialized, it is possible to manufacture the product by introducing additional surface treatment technology to the surface of the protective substrate in contact with the polarizer.
따라서 내부 편광자 접촉 일면에 유기, 무기 및 유무기 하이브리드 조성물을 포함한 반사방지 처리층 또는 공기를 함유한 저굴절층을 포함한 반사방지 처리층을 도입 사용하여 반사방지 성능을 효과적으로 구현할 수 있다. 이때 편광자의 도입은 종래 PVA 필름에 요오딘을 흡착시키는 방법과 편광자 자체를 면에 코팅 등의 방법으로 도입하는 것이 사용될 수 있다. 이때 강한 접착을 유도하는 접착력이 도입되면 사용상의 문제는 없다. Therefore, the antireflection performance can be effectively implemented by introducing an antireflection treatment layer including an organic, inorganic and organic hybrid composition or a low refractive layer containing air on one surface of the inner polarizer contact. In this case, introduction of the polarizer may be performed by a method of adsorbing iodine on a conventional PVA film and a method of introducing the polarizer itself by coating the surface. At this time, there is no problem in use when an adhesive force inducing strong adhesion is introduced.
구체적으로 본 발명에 따른 반사방지 처리층을 형성하는 단계를 설명하면 아래와 같다.More specifically, the step of forming the antireflection treatment layer according to the present invention will be described below.
먼저, 반사방지 처리층을 만들기 위한 저굴절 조성물에 사용되는 유기 및 유무기 하이브리드 바인딩 재료를 준비하는 단계, 미립자의 표면 처리하는 단계 및, 미립자를 바인딩 재료와 혼합하는 단계 및, 반사방지 처리층을 기판에 도입하는 단계 및, 적층된 조성물을 건조하고 경화하는 단계를 포함한다.First, an organic and inorganic hybrid binding material to be used in the low refractive index composition for making the antireflective treatment layer is prepared, a surface treatment of the fine particles, a step of mixing the fine particles with the binding material, Introducing the composition into a substrate, and drying and curing the laminated composition.
반사방지 처리층이 공기를 함유하는 등의 일정 모양을 갖는 패턴인 경우에는, 패턴을 구현할 수 있는 반대모양의 몰드패턴을 준비하는 단계, 몰드패턴과 기저보호필름 사이에 용액이 주입되는 단계, 압착롤을 이용하여 패턴을 형성하고 경화하는 단계, 기저보호필름을 패턴롤이나 혹은 패턴필름으로부터 분리하는 단계를 거쳐 반사방지 처리층을 형성하고, 이후 반사방지 처리층 일면에 접착 성분을 도포하여 건조하거나 경화하는 단계 및, 접착성분 일면에 편광자를 도입하는 단계, 즉, 편광자를 함유한 필름을 합지하거나 또는 편광자를 포함하는 조성물을 도포하거나 등의 방법으로 도입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the case where the antireflective layer is a pattern having a certain shape such as containing air, it is preferable to prepare a mold pattern of an opposite shape capable of realizing a pattern, a step of injecting a solution between the mold pattern and the base protective film, A step of forming and curing a pattern using a roll and a step of separating the base protective film from a pattern roll or a pattern film to form an antireflection treatment layer and then applying an adhesive component to one side of the antireflection treatment layer and drying And a step of introducing the polarizer to one side of the adhesive component, that is, introducing the polarizer-containing film by lapping or applying a composition including the polarizer, or the like.
본 발명에 사용되는 바인딩 조성물은 광중합 후, 내열성과 내구성 등이 좋은 우수한 도막을 형성시킬 수 있는 바인더 재료로서 주요하게는 광반응, 특히 자외선 반응성 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트계 화합물을 사용하며, 이 반응성 아크릴 또는 메타아크릴레이트계 화합물은 폴리에스터, 우레탄, 에폭시, 실리콘, 불소계 등 다양한 종류가 사용될 수 있으며 그 종류가 국한되지는 않으며, 광반응형 화합물 외에, 열 경화형 재료의 사용도 가능하다. 또한, 광경화와 열경화 방법이 동시에 적용된 화합물도 사용이 가능하다. 아크릴 또는 메타아크릴레이트 단량체는 그 종류의 제한이 없으나 더욱 바람직하게는, 굴절률 조절을 위해 선택되어 사용되어 질 수 있다. 저굴절을 가지는 플루오르화 단량체, 플루오르화 올리고머가 사용되어 질 수 있다. 본 발명에 사용되는 굴절률이 낮은 플루오르 화합물은 퍼플루오르 작용기는 가지며, 알콜과 이소시아네이트 반응에 의해 우렌탄 작용기가 형성된 화합물을 사용할 수 있다. 그 종류와 굴절률은 실시하여 구현하고자 하는 발명의 상세한 내용에 따라 선택되어 사용될 수 있다. 또한, 지지층 상면을 형성하는 주요 재료로 사용되는 이 광반응성 재료는 경도와 내구성 등의 특징을 가지면 더욱 바람직한데, 이 특징을 보완할 수 있는 재료를 선택하여 사용할 수 있다. 이를 위해 폴리실세스퀴녹산 등의 변성 실리카 화합물을 사용할 경우 경도가 증가되고 내구성이 크게 향상되는 것을 확인할 수 있다. 이러한 유기적 요소와 무기적 요소가 결합되어 반사율을 조절하고 그 층간 배열을 도우며 궁극적으로는 반사율을 낮게 조절하여 반사방지 성능이 우수한 디스플레이 재료를 만들 수 있는 방법에 재료의 종류나 크기 등은 특별히 한정되지는 않는다. 또한, 최외곽 층에는 부가적으로 정전압 방지, 오염방지 등의 기능성 재료를 혼합하여 사용할 수 있다.The binder composition used in the present invention is a binder material capable of forming an excellent coating film having excellent heat resistance and durability after photopolymerization, and mainly uses a photoreaction, particularly an ultraviolet-reactive acrylate or methacrylate compound, As the acrylic or methacrylate compound, a variety of materials such as polyester, urethane, epoxy, silicone, and fluorine may be used, and the kind thereof is not limited. In addition to the photoreactive compound, a thermosetting material may be used. In addition, it is possible to use a compound to which a photo-curing method and a thermosetting method are simultaneously applied. The acrylic or methacrylate monomers are not limited in their kind, but more preferably they can be selected and used for controlling the refractive index. A fluorinated monomer having low refractive index, a fluorinated oligomer can be used. The fluorine compound having a low refractive index used in the present invention may be a compound having a perfluorine functional group and formed with a urethane functional group by an isocyanate reaction with an alcohol. The kind and the refractive index can be selected and used according to the details of the invention to be implemented. Further, the photoreactive material used as a main material for forming the upper surface of the support layer is more preferable if it has characteristics such as hardness and durability, and a material that can complement this feature can be selected and used. For this, it is confirmed that the use of the modified silica compound such as polysilsesquinoxane increases the hardness and greatly improves the durability. The combination of such organic and inorganic elements to control the reflectance, to help the interlayer arrangement, and ultimately to control the reflectance to a low level can provide a display material having excellent antireflection performance. The kind and size of the material are not particularly limited . In addition, the outermost layer may additionally contain a mixture of functional materials such as antistatic and antifouling.
본 발명에 사용되는 미립자 중에서 반사율을 감소시키기 위해서 저굴절 미립자를 사용할 수 있는데, 미립자가 표면에 존재하고 이 미립자의 낮은 굴절률로 인해 빛의 이동경로를 조절하는 역할을 수행하는 것으로, 본 발명에서는 주요하게는 실리카 미립자를 사용하는데, 반사방지 처리층, 즉 최상층의 표면 미세 요철 주로를 만들기 때문에 반사율이 낮아지게 하는 것이며 내스크레치성을 강화하는 역할도 수행한다. 이 실리카 미립자는 표면처리된 것이나 혹은 그렇지 않은 것을 사용하면 되는데, 그 종류가 한정되지는 않는다. 미립자의 크기는 1~50nm가 사용될 수 있으며, 바람직하게는 5~10nm가 사용될 수 있다. 이 실리카 미립자를 대신하여 불화마그네슘 등의 굴절률이 낮은 미립자의 사용이 가능한데, 이 미립자의 종류와 크기가 어느 한가지로 한정되는 것은 아니며, 본 발명에서는 주요하게 실리카 나노미립자를 선택, 사용하였다.Among the fine particles used in the present invention, low refractive fine particles can be used to reduce the reflectance. The fine refractive particles exist on the surface and control the path of light due to the low refractive index of the fine particles. In the present invention, Silica fine particles are used. Since the antireflective treatment layer, that is, the surface of the uppermost layer, is made of fine irregularities, the reflectance is lowered and the scratch resistance is enhanced. The silica fine particles may be surface-treated or not, but the kind thereof is not limited. The size of the fine particles may be 1 to 50 nm, preferably 5 to 10 nm. In place of the silica fine particles, fine particles having a low refractive index such as magnesium fluoride can be used. The kind and size of the fine particles are not limited to any one. In the present invention, silica nano-particles are mainly used.
본 발명에 사용되는 공기함침 중공 미립자는, 반사방지 처리층에서 일정공간에 공기를 함유하여 굴절률이 낮은 반사방지 재료로 사용되는 중공 실리카 미립자는, 내부에 빈 공간을 가지는 실리카 미립자를 말하며, 특히 내부에 빈 공간이 있어 공기를 이용한 저굴절 구현이 가능한 특성을 가지게 되어, 반사 방지 필름에서 저 굴절률 층으로 활용될 수 있다. 상기 중공 실리카 미립자는 굴절률이 1.1 ~ 1.5의 범위를 가지며, 더욱 바람직하게는 1.2~1,4의 범위를 가지는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 이 중공실리카 입자의 크기는 10~100nm의 크기를 가지는 것을 사용할 수 이 있는데, 더욱 바람직하게는 20~60nm 크기를 가진 것을 사용하는 것이 바람직하다.The air-impregnated hollow fine particles to be used in the present invention are fine particles of silica having an empty space in the inside thereof, which is used as an antireflection material having a low refractive index and containing air in a certain space in the antireflection treatment layer, And it is possible to realize a low refractive index using air, so that it can be utilized as a low refractive index layer in an antireflection film. The hollow silica fine particles preferably have a refractive index in the range of 1.1 to 1.5, more preferably 1.2 to 1.4. The hollow silica particles may have a size of 10 to 100 nm, more preferably 20 to 60 nm.
본 발명에 사용되는 표면처리 물질은, 다양한 종류의 실란 화합물이 사용될 수 있으며, 그 함량은 사용하는 미립자 100 중량부에 대하여 1~10중량부를 사용할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 1~5중량부를 사용하는 것이 바람직하다. The surface treatment material used in the present invention may be selected from a variety of silane compounds. The amount of the surface treatment material may be 1 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the fine particles to be used. .
본 발명에 사용되는 불소 광경화 수지는, 하나 이상의 불소가 치환된 불소 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트 화합물을 사용하면 된다. 관능기의 개수 또한 한 개 이상의 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트를 포함하면 되는데, 합성을 해서 사용할 수 있다. 합성 방법으로는, 퍼플루오르 폴리에스테르 폴리올, 이소시아네이트 변성 트리 아크릴레이트, 하이드로 퀴논 및 디부틸틴 디라우레이트를 혼합하여 불소 변성 아크릴레이트를 합성할 수 있으며, 이러한 합성 외, 다이킨, 디아씨 사 등 시중에서 판매하는 불소변성 아크릴레이트를 구입하여 사용해도 된다. As the fluorine photo-curable resin to be used in the present invention, one or more fluorine-substituted fluorine acrylates or methacrylate compounds may be used. The number of functional groups may also include one or more acrylates or methacrylates, which can be used after synthesis. As a synthesizing method, a fluorine-modified acrylate can be synthesized by mixing perfluoropolyester polyol, isocyanate-modified triacrylate, hydroquinone and dibutyltin dilaurate. In addition to these syntheses, Fluorine-modified acrylate sold on the market may be purchased and used.
본 발명에 사용되는 패턴 몰드용 수지는, 주요하게는 실리콘 변성 아크릴레이트를 사용한 조성물을 사용하는 것인데, 실리콘 변성 아크릴레이트는 입자를 사용하여 형성된 모양을 기반으로 하여 틀을 만들 때 사용될 뿐만 아니라, 만들어진 모양에 반사방지 용액이 닿아 모양이 만들어지고, 경화되고 박리되는 과정에서 이형성을 부여하는 역할을 하게 된다. 이러한 실리콘 변성 아크릴레이트 외, 2~6개의 반응기를 가지는 아크릴레이트 모노머와 올리고머가 몰드 용액에 사용될 수 있다.The resin for a pattern mold used in the present invention mainly uses a composition using a silicone modified acrylate. The silicone modified acrylate is used not only in making a mold based on the shape formed using particles, The shape is formed by contacting the shape with the antireflection solution, and it plays a role of imparting releasability in the process of hardening and peeling. In addition to these silicone modified acrylates, acrylate monomers and oligomers having 2 to 6 reactors can be used in the mold solution.
반사방지 처리층의 적층에 있어, 중요한 기술적 특징이 있는데, 편광자를 함유하는 필름의 최외곽 표면에는 일반적으로 기계적 물성을 강화하기 위한 하드코팅이 실시되는데, 이때 하드코팅의 경도를 증가시키기 위해 실리카 입자를 함유한 것을 사용할 수 있다. 실리카 입자의 크기는 5nm에서 50nm사이가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 15~25nm를 사용하는 것이 광학적 물성의 저하가 없고 기계적 물성이 증진되는 특징이 있다. 실리카 입자의 함량은 광경화형 재료를 사용할 때, 이 재료의 건조 후 고체상이 되는 성분을 포함하여 전체 용액의 고체가 되는 성분을 100중량부 기준으로 할 때, 10~60 중량부 사용할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 20~50중량부가 바람직하다. 그 함량이 10 중량부 미만일 경우는 기계적 물성의 증가효과가 미비하며, 50중량부를 초과하면 너무 단단해져 깨지는 특성을 나타낼 수 있다.In the lamination of the antireflective treatment layer, there is an important technical feature. On the outermost surface of the film containing the polarizer, a hard coating is generally applied to enhance the mechanical properties. In order to increase the hardness of the hard coating, May be used. The size of the silica particles is preferably from 5 nm to 50 nm, more preferably from 15 nm to 25 nm, which is characterized in that there is no deterioration in optical properties and mechanical properties are improved. When the photocurable material is used, the content of the silica particles may be 10 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid component of the entire solution including the solid component after drying of the material. And preferably 20 to 50 parts by weight. When the content is less than 10 parts by weight, the effect of increasing the mechanical properties is insufficient. When the content is more than 50 parts by weight, the composition is too hard and cracked.
이하에서는 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 반사방지 필름에 대하여 설명한다. Hereinafter, the antireflection film of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1 내지 도 4는 본 발명의 반사방지 처리가 도입된 필름들의 예들 이다. 본 반사방지 필름들은 기본적인 구조로서 기판(1), 접착층(3), 편광자 포함층(4), 및 편광자 포함층을 보호하기 위한 기판 혹은 보호막(5)을 구비한다. 먼저, 도 1의 예는 기판(1)과 접착층(3) 사이에 본 발명의 기술에 따른 반사방지 처리를 위해서 반사방지 처리층(2)이 형성되어 있다. 통상적으로 투명 기판(1)의 굴절율이 본 발명의 반사방지 처리층(2)의 굴절률을 고려하여 본 발명의 반사방지 처리층(2)이 설계되어 도입되므로 반사방지 효과가 발휘된다. 도 2의 예는 도 1의 예에서 편광자 포함층(4)과 기판 혹은 보호막(5) 사이에 반사방지 처리층이 더 추가된 것이다. 도 3의 예는 도 1의 예에서 기판(1)의 반대면에도 추가적으로 반사방지 처리층(2)이 형성된 것이다. 그리고 도 4의 예는 도 3의 예에서 편광자 포함층(4)을 보호하는 하부의 기판 혹은 보호막(5)의 반대면에도 반사방지 처리층을 형성한 것이다.Figs. 1 to 4 are examples of films into which the antireflection treatment of the present invention is introduced. The antireflection films are provided with a
본 발명의 반사방지필름의 기술적 특징은 기판과 접착층 사이에 반사방지 효과를 위해서 반사방지 처리층을 삽입하는 것으로서, 도면에서 반사방지 처리층으로 설명되었다. 또한 이러한 반사방지 처리층이 기판과 접착층 이외에 도시된 바와 같이 추가적으로 다른 부분에도 형성되어 반사방지 효과를 더욱 증가시킬 수 있다. 이러한 본 발명의 반사방지 처리층은 고굴절층 및 저굴절층을 적층하여 형성되는 일반적인 반사방지층으로 사용이 가능할 뿐만 아니라, 위에서 저굴절 특성으로 설명한 것과 같은 코팅층을 단독으로 반사방지 처리층으로 사용할 수 있으며, 또한 통상의 반사방지층에서 사용되는 고굴절층과 함께 저굴절층으로서 사용할 수도 있다. 고굴절층을 추가하지 않고 단일 코팅층으로서 반사방지 처리층을 사용하는 경우에는 하부층보다 굴절율에서 상대적으로 더 낮은 층으로 하여야 하며 아래의 실시예와 같이 강도 보강을 위해서 하드코팅층 위에 사용할 수도 있다. The technical feature of the antireflection film of the present invention is that the antireflection treatment layer is inserted between the substrate and the adhesive layer for the antireflection effect and is described as the antireflection treatment layer in the drawing. In addition, such an antireflection treatment layer may be formed in addition to the substrate and the adhesive layer, as shown in the figure, to further enhance the antireflection effect. The antireflection treatment layer of the present invention can be used not only as a general antireflection layer formed by laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer but also can be used as an antireflection treatment layer alone, , Or may be used as a low refraction layer together with a high refraction layer used in a general antireflection layer. When the antireflection treatment layer is used as a single coating layer without adding a high refractive index layer, the refractive index should be relatively lower at the refractive index than the lower layer and may be used on the hard coating layer for strength reinforcement as in the following examples.
도면들에서 도시된 예들과 같이 본 발명의 반사방지 처리 기술은 기판과 같은 재질의 기저필름층에 어느 면에도 적용이 될 수 있는 것으로서 특히 디스플레이 제품의 필름에 특히 잘 적용될 수 있다.As in the examples shown in the drawings, the anti-reflection treatment technique of the present invention can be applied to any surface of a base film layer made of the same material as a substrate, and is particularly applicable particularly to a film of a display product.
상기 설명한 방법의 반사방지 처리 및 이를 이용한 반사방지 필름을 제작하는 구체적인 내용은 실시예 에서 좀 더 상세히 설명하기로 한다. 전체적 발명의 내용 또한 실시예로 설명하려고 한다. 그러나 본 발명의 범위는 이하 서술되는 실시예에 국한되는 것은 아니며 본 발명의 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태는 본 발명의 범위에 해당되는 것으로 해석되어야 한다.The antireflection treatment of the above-described method and the production of the antireflection film using the antireflection treatment will be described in more detail in Examples. The contents of the entire invention will also be described by way of example. It should be understood, however, that the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below, but all changes or modifications derived from the concept of the present invention should be interpreted as falling within the scope of the present invention.
[반사방지 조성물의 준비] [Preparation of antireflective composition]
1. 불소 변성 아크릴레이트를 사용한 저굴절 코팅 조성물(저굴절 코팅 조성물1)1. Low Refractive Coating Composition Using Fluorine-Modified Acrylate (Low Refractive Coating Composition 1)
저굴절 수지층 조성물을 제작하기 위해, 퍼플로오르 폴리에테르 폴리올 29.1중량부, 이소시아네이트 변성 트리 아크릴레이트 70중량부, 하이드로 퀴논 및 디부틸틴 디라우레이트 0.5 중량부를 교반하여 6관능 불소 변성 아크릴레이트를 합성하였다. 상기 불소 변성 아크릴레이트 100중량부에 대해 광개시제 히드록실 시클로헥실 페닐 케톤 및 히드록시 디메틸 아세토페논을 각 1:1의 비율로 5중량부 혼합하였고, 부탄온, 4-메틸-펜탄-2-온 1:1 비율의 용매를 이용하여 전체 고형분이 5%가 되도록 용액을 제조하였다. To prepare a low refractive resin layer composition, 29.1 parts by weight of a perfluoropolyether polyol, 70 parts by weight of isocyanate-modified triacrylate, and 0.5 parts by weight of hydroquinone and dibutyltin dilaurate were mixed to prepare hexafluoro-modified acrylate Were synthesized. To 100 parts by weight of the fluorine-modified acrylate, 5 parts by weight of photo-initiator hydroxyl cyclohexyl phenyl ketone and hydroxydimethylacetophenone were mixed at a ratio of 1: 1 in each ratio, and 4 parts of butanone, 4-methyl-pentan- : ≪ / RTI > 1 ratio of solvent to give a total solids content of 5%.
2. 중공미립자를 사용하는 저굴절 코팅 조성물 (저굴절 코팅 조성물2)2. Low refractive coating composition using hollow fine particles (low refractive coating composition 2)
디펜타트르톨 헥사아크릴레이트를 100중량부로 고정하고 이를 기준으로, 닛산화학 10nm 실리카 나노졸 (MEK-ST, 30% in Butanone) 15중량부를 혼합하였다. 여기에, 초다공성 실리카 나노 입자는 일본촉매화성의 60nm 중공미립자 막굴절률 1.25 (THRULYA 4320, 20% in 4-메틸-펜탄-2-온)를 고형분 기준으로 50중량부 사용하였다. 또한 광개시제는 히드록실 시클로헥실 페닐 케톤 및 히드록시 디메틸 아세토페논을 각 1:1의 비율로 5중량부 혼합하여 사용하였다. 이렇게 혼합된 조성물의 고형분이 전체 용액이 5%가 될 수 있도록, 부탄온, 4-메틸-펜탄-2-온 및 4-히드록시-4-메틸-2-펜탄온을 순서대로 7:2:1 비율의 용매를 미리 혼합하여 제조한 조성물을 희석하여 반사방지로 사용하기 위한 저굴절 조성물을 제조하였다. Dipentatetrhol hexaacrylate was fixed at 100 parts by weight, and 15 parts by weight of 10 nm silica nanosol (MEK-ST, 30% in Butanone) manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. were mixed. Here, the ultra-porous silica nanoparticles were prepared by using 50 parts by weight of a 60 nm hollow fine particle glass having a refractive index of 1.25 (THRULYA 4320, 20% in 4-methyl-pentan-2-one) The photoinitiator was prepared by mixing 5 parts by weight of hydroxycyclohexyl phenyl ketone and hydroxydimethyl acetophenone in a ratio of 1: 1. 4-methyl-pentan-2-one and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone were added in order to obtain a solids content of 5% 1 ratio of a solvent were mixed in advance to prepare a low refractive index composition for use as an antireflection film.
3. 고굴절 코팅 조성물의 준비3. Preparation of high refractive index coating composition
2관능을 가지며 경도 2H의 특성을 가지는 액상 굴절률 1.585 (건조 후 1.605) 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 고형분 30%가 되도록 부탄온에 용해 시킨 후, 이 용액과 동일한 무게 비율로 닛산화학 10nm 지르코니아 나노졸 (OZ-S30K, 30% in 부탄온)을, 즉 1:1로 혼합한 용액을 제조하는 과정을 수행하였다 (농도가 같아 고형이 1:1, 즉 올리고머 100중량부 기준 지르코니아 100중량부 혼합) 상온에서 250rpm으로 10분간 교반하면 충분한 분산이 이루어진다. 이렇게 준비한 분산액에 개시제는 히드록실 시클로헥실 페닐 케톤 및 히드록시 디메틸 아세토페논을 각 1:1의 비율로 5중량부, 용매는 부탄온, 4-메틸-펜탄-2-온을 각 1:1의 비율로 고형분이 5%가 되도록 조절하였다. The liquid urethane acrylate oligomer having a bifunctionality and a hardness of 2H of 1.585 (1.605 after drying) having a characteristic of hardness 2H was dissolved in butanone to have a solid content of 30%, and then a solution of 10 nm zirconia nano sol (OZ (1: 1, that is, 100 parts by weight of oligomer, 100 parts by weight of zirconia was mixed) at room temperature to prepare a solution prepared by mixing 1: 1 Stirring at 250 rpm for 10 minutes provides sufficient dispersion. To the dispersion thus prepared, 5 parts by weight of hydroxylcyclohexyl phenyl ketone and hydroxydimethyl acetophenone were added at a ratio of 1: 1, 1 part by weight of butanone and 4 parts by weight of 4-methyl-pentan- And the solids content was adjusted to 5%.
[하드코팅 조성물의 준비] [Preparation of hard coating composition]
경도가 높은 하드코팅 조성물을 제작하기 위해, 10관능기를 가지는 지방족 우레탄 아크릴레이드 (Solmer SU520, SOLTECH) 15중량부, 18관능기를 가지는 덴드리틱 아크릴레이트 (Miramer SP1106, Miwon Specialty Chemical) 15중량부, 디펜타트리톨 헥사아크릴레이트 10중량부, 히드록시 시클로헥실 페닐케톤 2.4중량부, 메틸이소부틸 케톤 17.6중량부를 혼합하고, 여기에 10nm 실리카 나노졸이 분산된 부탄온 용액 (Optisol SSK330U, 30% in 부탄온, Ranco) 40중량부를 혼합하여 상온에서 250rpm으로 60분간 교반하여 준비하였다. 15 parts by weight of an aliphatic urethane acrylate having 10 functional groups (Solmer SU520, SOLTECH), 15 parts by weight of dendritic acrylate having 18 functional groups (Miramer SP1106, Miwon Specialty Chemical) 10 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 2.4 parts by weight of hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 17.6 parts by weight of methyl isobutyl ketone were mixed. To the mixture was added a solution of 10% silica nanosol in a butanone solution (Optisol SSK330U, 30% in butane And 40 parts by weight of Ranco) were mixed and stirred at room temperature for 60 minutes at 250 rpm.
[기저 필름의 제조][Production of base film]
트리아세틸 셀룰로오즈 필름 60미크론을 준비하여, 하드코팅 용액을 건조두께 5㎛로 코팅된 필름을 반사방지 조성물의 하부 층으로 사용하였다. 이때, 경화도를 조절하기 위해 90mJ/cm2 에너지가 인가되도록 13m/min의 속도로 경화하였다. A triacetyl cellulose film 60 microns was prepared, and a hard coat solution was used as the lower layer of the antireflective composition. At this time, curing was performed at a rate of 13 m / min so as to apply 90 mJ / cm 2 energy to control the degree of curing.
그리고 선택적으로, 고굴절층을 도입하였는데, 이 고굴절층의 도입을 위해서, 앞서 제작한 고굴절 조성물을 고형 두께 기준으로 100나노미터가 되도록 코팅한 후, 60도에서 1분간 건조한 후 고압수은 램프가 장착된 1m 길이의 벨트 타입 광경화 코팅기에서 200mJ/cm2의 에너지가 인가되도록 5.9m/min속도로 경화 하였다.In order to introduce the high refractive index layer, the previously prepared high refractive index composition was coated on a solid basis to a thickness of 100 nm, dried at 60 degrees centigrade for 1 minute, and then mounted with a high pressure mercury lamp A belt type photocurable coating machine with a length of 1 m was cured at a rate of 5.9 m / min so that energy of 200 mJ / cm 2 was applied.
[몰드 형상 제조] [Mold shape production]
표면 공기 함유층 제작을 위한 몰드로 사용될 필름을 제작하기 위해, 디펜타트르톨 헥사아크릴레이트를 부탄온용액에 고형분 30%가 되도록 용해하고, 이 용액에서 디펜타트르톨 헥사아크릴레이트 고형분 100중량부에 대하여, 100nm 티타네이트 산화물 200 중량부를 혼합한 후 250rpm으로 30분간 교반한다. 여기에, 추가적으로 디펜타트르톨 헥사아크릴레이트 고형 100중량부를 기준으로 6관능 실리콘 변성 아크릴레이트 (SL800, 미원상사) 50중량부 및 개시제 히드록실 시클로헥실 페닐 케톤 5중량부 추가 및 실리콘 변성 실리콘 첨가제 (BYK3700) 5중량부를 혼합한다. 이 용액을 부탄온, 4-메틸-펜탄-2-온 1:1 비율의 용매와 혼합하여 전체 고형분이 5%가 되도록 조절하여 조성물을 제조하였다. In order to prepare a film to be used as a mold for producing a surface air-containing layer, dipentatetrile hexaacrylate was dissolved in a butanone solution so as to have a solid content of 30%. In this solution, 100 parts by weight of dipentatetrile hexaacrylate solid component, And 200 parts by weight of a 100 nm titanate oxide were mixed, followed by stirring at 250 rpm for 30 minutes. In addition, 50 parts by weight of hexafunctional silicone-modified acrylate (SL800, MI Corporation) and 5 parts by weight of initiator hydroxylcyclohexylphenylketone were added and 100 parts by weight of a silicone-modified silicone additive (BYK3700 ) Were mixed. This solution was mixed with a solvent of butanone, 4-methyl-pentan-2-one ratio of 1: 1 to adjust the total solids content to 5% to prepare a composition.
제조된 몰드 형상 조성물을 50미크론 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 일면에 두께가 100nm가 되도록 코팅하고, 60도에서 1분간 건조한 후 고압수은 램프가 장착된 1m 길이의 벨트 타입 광경화 코팅기에서 350mJ/cm2의 에너지가 인가되도록 2.9m/min속도로 경화하였다.The molded mold composition was coated on one surface of a 50-micron polyethylene terephthalate film to a thickness of 100 nm, dried at 60 ° C for 1 minute, and then developed with a 1 m long belt-type photocurable coater equipped with a high-pressure mercury lamp at an energy of 350 mJ / cm 2 Was applied at a rate of 2.9 m / min.
[몰드 필름 제조] [Molded film manufacture]
저굴절 용액에 패턴 모양을 만들어 내기 위한 소프트 몰드 역할을 할 몰드를 제작하기 위해, 6관능 실리콘 변성 아크릴레이트 25중량부, FA 9815-5 25중량부, 1, 6, 헥산디올 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 및 개시제 히드록실 시클로헥실 페닐 케톤 6중량부 및 실리콘 변성 실리콘 첨가제 10중량부를 혼합하여 용액을 제조하였다. 25 parts by weight of hexafunctional silicone modified acrylate, 25 parts by weight of FA 9815-5, 1, 6, hexanediol diacrylate, trimethyl acrylate, and trimethylol propane were used in order to prepare a mold to serve as a soft mold for producing a pattern shape in a low refractive solution. 6 parts by weight of olpropanetriacrylate and initiator hydroxylcyclohexylphenylketone, and 10 parts by weight of silicone-modified silicone additive were mixed to prepare a solution.
[평가 방법][Assessment Methods]
1. 투과율과 헤이즈 측정 1. Transmittance and haze measurement
NIPPON DENSHOKU사 SH 7000 Haze meter를 이용하여, 실시예와 비교예에서 수득한 필름에 대한 전광선 투과율 (total transmittance)과 헤이즈 (haze)를 측정하였다.The total transmittance and haze of the films obtained in Examples and Comparative Examples were measured using a SH 7000 haze meter manufactured by NIPPON DENSHOKU.
2. 반사율 측정2. Reflectance measurement
SHIMADZU Solidspec 3700 장비를 이용하여, 실시예와 비교예에서 수득한 필름에 대한 반사율을 측정하였다. 반사율 측정은 표면 sanding 처리 및 black 잉크를 사용하여 처리한 후 측정하였다.Using a SHIMADZU Solidspec 3700 instrument, the reflectance for the films obtained in the Examples and Comparative Examples was measured. Reflectance measurements were made after surface sanding and black ink treatment.
실시예 1에서는, 트리아세틸 셀루로오즈 필름상 하드코팅층과 고굴절층이 형성된 필름을 하부 필름으로 사용하였는데, 이 필름상에 반사방지 처리층으로서 앞서 위의 저굴절 코팅 조성물 1을 건조 두께 기준 100나노미터가 되도록 코팅한 후 60도에서 1분간 건조한 후 고압수은 램프가 장착된 1m 길이의 벨트 타입 광경화 코팅기에서 350mJ/cm2의 에너지가 인가되도록 2.9m/min속도로 경화하였다.In Example 1, a film in which a hard coating layer and a high refractive index layer on a triacetylcellulose film were formed was used as a lower film. On the film, the above low
실시예 2에서는 실시예 1에서 제작한 필름에서 실시예 1에서 사용한 동일한 저굴절 코팅 조성물1을 반대면에 추가 코팅하였다. 즉, 양면에 동일하게 반사방지 처리층이 형성되어 반사율 감소 효과가 극대화된 구조로 제작하였다.In Example 2, the same low
실시예 3에서는, 트리아세틸 셀루로오즈 필름상 하드코팅층과 반사방지의 강화를 위하여 고굴절층이 형성된 필름을 하부 필름으로 사용하였는데, 이 필름상에 반사방지 처리층으로 앞서 제작한 저굴절 코팅 조성물2를 건조 두께 기준 100나노미터가 되도록 코팅한 후 60도에서 1분간 건조한 후 고압수은 램프가 장착된 1m 길이의 벨트 타입 광경화 코팅기에서 350mJ/cm2의 에너지가 인가되도록 2.9m/min속도로 경화하였다.In Example 3, a hard coating layer on a triacetylcellulose film and a film having a high refractive index layer formed thereon for enhancing antireflection were used as a lower film. On this film, a low
실시예 4에서는 실시예 3에서 제작한 필름에서 실시예 3에서 사용한 동일한 저굴절 코팅 조성물2를 반대면에 추가 코팅하였다. 즉, 양면에 동일하게 반사방지 처리층이 형성되어 반사율 감소 효과가 극대화된 구조를 제작하였다. In Example 4, the same low
실시예 5에서는, 두께 50미크론의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 하부 필름으로 사용하였다. 하드코팅, 고굴절 처리 및 저굴절 처리는 실시예 3과 동일한 방법으로 수행하였다. In Example 5, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 microns was used as the lower film. The hard coating, high refractive index treatment and low refractive index treatment were carried out in the same manner as in Example 3.
실시예 6에서는 두께 50미크론의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 하부 필름으로 사용하였고, 실시예 5에서 제작한 필름의 다른 면에 실시예 5에서 사용한 동일한 저굴절 코팅 조성물을 이용하여 재차 코팅하였다. 즉, 양면에 동일하게 반사방지 처리층이 형성되어 반사율 감소 효과가 극대화된 구조를 제작하였다. In Example 6, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 microns was used as the lower film, and the other side of the film produced in Example 5 was again coated with the same low refractive coating composition as used in Example 5. That is, a structure in which an antireflection treatment layer is formed on both surfaces in the same manner to maximize the effect of reducing the reflectance is manufactured.
실시예 7에서는, 앞서 제작해 놓은 몰드 형상물을 이용하여 제작한 몰드 패턴필름을 준비하였다. 그리고 앞서 제작해 놓은 트리아세틸 셀룰로오즈위에 하드코팅, 고굴절 층이 차례로 적층된 필름을 준비하고, 저굴절 코팅 조성물1을 건조 후 두께 약 100나노미터가 되로록 코팅한 후 건조하였다. 여기에, 제조한 몰드 필름의 양각면을 접촉시켜 합지 한 후 약 200mJ/cm2의 에너지를 인가한 후 박리하여, 음각 공기층이 형성된 반사방지 필름을 제작하였다.In Example 7, a mold pattern film prepared using the mold material previously prepared was prepared. Then, a film in which a hard coating layer and a high refractive index layer were sequentially stacked on the previously prepared triacetyl cellulose was prepared, and the low refractive refracting
실시예 8에서는, 실시예 7에서 제작된 필름의 다른 면에 실시예 7에서 사용한 동일한 저굴절 코팅 조성물을 이용하여 추가로 반사방지 처리층을 형성하였다. 즉, 양면에 동일하게 반사방지 처리층이 형성되어 반사율 감소 효과가 극대화된 구조를 제작하였다.In Example 8, an antireflection treatment layer was further formed on the other side of the film produced in Example 7 by using the same low refractive index coating composition as used in Example 7. That is, a structure in which an antireflection treatment layer is formed on both surfaces in the same manner to maximize the effect of reducing the reflectance is manufactured.
실시예 9에서는, 양각의 모양이 형성된 몰드 필름을 준비하였다. 또한, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 별도로 준비하고, 이 면에 몰드 형성 용액을 도포한 후 여기에 양각 모양이 형성된 필름을 합지하고, 경화 후 박리하여 음각이 형성된 몰드 필름을 준비하였다. 여기에, 앞서 제작해 놓은 트리아세틸 셀룰로오즈위에 하드코팅, 고굴절 층이 차례로 적층된 필름을 준비하고, 저굴절 코팅 조성물1을 건조 후 두께 약 100나노미터가 되도록 코팅한 후 건조하였다. 여기에, 제조한 몰드 필름의 음각면을 접촉시켜 합지 한 후 약 200mJ/cm2의 에너지를 인가한 후 박리하여, 음각 공기층이 형성된 반사방지 필름을 제작하였다. In Example 9, a mold film having a relief shape was prepared. Further, a polyethylene terephthalate film was separately prepared, a mold forming solution was coated on this surface, a film formed with a relief was laminated on the surface, and after curing, the mold film was formed with a relief. Here, a film in which a hard coating layer and a high refractive index layer were sequentially stacked on the previously prepared triacetylcellulose was prepared, and the low
실시예 10에서는, 실시예 9에서 제작한 필름의 다른 면에 실시예 9에서 사용한 동일한 저굴절 코팅 조성물을 이용하여 추가적으로 반사방지 처리층을 형성하였다. 즉, 양면에 동일하게 반사방지 처리층이 형성되어 반사율 감소 효과가 극대화된 구조로 제작하였다. In Example 10, an antireflection treatment layer was additionally formed on the other side of the film produced in Example 9 using the same low refraction coating composition as used in Example 9. That is, an anti-reflection treatment layer is formed on both surfaces in the same manner to maximize the reflectance reduction effect.
실시예 11에서는, 트리아세틸 셀루로오즈 필름상 하드코팅층 형성된 필름을 하부 필름으로 사용하였다. 그리고 저굴절 조성물 제조를 위해, 퍼플로오르 폴리에테르 폴리올 29.1중량부, 이소시아네이트 변성 트리 아크릴레이트 70중량부, 하이드로 퀴논 및 디부틸틴 디라우레이트 0.5 중량부를 교반하여 6관능 불소 변성 아크릴레이트를 합성한 후, 여기에 상기 불소 변성 아크릴레이트 100중량부에 대해 광개시제 초다공성 실리카 나노 입자, 일본촉매화성의 60nm 중공미립자 (THRULYA 4320, 20% in 4-메틸-펜탄-2-온)를 고형분 기준으로 100중량부 사용하였다. 또한 개시제로 히드록실 시클로헥실 페닐 케톤 및 히드록시 디메틸 아세토페논을 각 1:1의 비율로 5중량부 혼합하였고, 부탄온, 4-메틸-펜탄-2-온 1:1 비율의 용매를 이용하여 전체 고형분이 5%가 되도록 용액을 제조하였다. In Example 11, a film formed with a hard coating layer on a triacetylcellulose film was used as a lower film. To prepare a low refractive index composition, 29.1 parts by weight of a perfluoropolyether polyol, 70 parts by weight of isocyanate-modified triacrylate, and 0.5 parts by weight of hydroquinone and dibutyltin dilaurate were stirred to synthesize hexafluoro-modified acrylate Subsequently, 100 parts by weight of the above fluorine-modified acrylate was mixed with 100 parts by weight of photoinitiator super porous silica nanoparticles, 100 parts by weight of a Japanese catalysed 60 nm hollow fine particle (THRULYA 4320, 20% in 4-methyl- By weight. 5 parts by weight of hydroxylcyclohexyl phenyl ketone and hydroxydimethylacetophenone as initiators were mixed at a ratio of 1: 1 in each case, and 5 parts by weight of butanone, 4-methyl-pentan- A solution was prepared so that the total solid content was 5%.
상기 저굴절 코팅 조성물을 건조 두께 기준 100나노미터가 되도록 코팅한 후 60도에서 1분간 건조한 후 고압수은 램프가 장착된 1m 길이의 벨트 타입 광경화 코팅기에서 350mJ/cm2의 에너지가 인가되도록 2.9m/min속도로 경화하였다.The low refractive index coating composition of the dry weight based on 100 after coating so that the nanometer-dried for one minute at 60 ° 2.9m that is the energy of 350mJ / cm 2 in the belt-type photocurable coating of 1m in length equipped with a high-pressure mercury lamp / min. < / RTI >
실시예 들의 실험 결과는 아래 표1과 같다.The experimental results of the examples are shown in Table 1 below.
1 : 기판
2 : 반사방지 처리층
3 : 접착층
4 : 편광자 포함층
5 : 기판 혹은 보호막1: substrate
2: Antireflection treatment layer
3: Adhesive layer
4: polarizer containing layer
5: substrate or protective film
Claims (13)
상기 기판과 접착층 사이에 또는 상기 기판과 접착층 사이 및 기판의 반대면에 반사방지 처리층이 형성되며, 그리고
상기 반사방지 처리층은
굴절률 1.1~1.5 범위의 유기 화합물 또는 저굴절 미립자를 포함하는 저굴절층이 코팅되어 이루어지거나, 또는
고굴절층과 저굴절층을 포함하는 반사방지층이거나, 또는
고굴절층과, 굴절률 1.1~1.5 범위의 유기 화합물 또는 저굴절 미립자를 포함하는 저굴절층이 코팅되어 이루어지는 것
을 특징으로 하는 반사방지 필름.An antireflection film comprising a substrate and an adhesive layer,
An antireflection treatment layer is formed between the substrate and the adhesive layer or between the substrate and the adhesive layer and on the opposite side of the substrate,
The anti-reflection treatment layer
Refractive index layer containing an organic compound having a refractive index in the range of 1.1 to 1.5 or a low refractive index particle, or
An antireflection layer comprising a high refractive index layer and a low refractive index layer, or
A high refractive index layer and a low refractive index layer containing an organic compound or a low refractive index particle having a refractive index in the range of 1.1 to 1.5
And an antireflection film.
상기 기판위에는 하드코팅층이 형성되고 그리고 상기 반사방지 처리층이 형성되며,
상기 기판으로 트리아세틸 셀룰로오즈필름이나 PET 필름이 사용되며,
상기 저굴절층은 굴절률 1.1~1.5 범위의 광경화형 불소 화합물과 광경화 또는 열경화 유기화합물 바인더를 포함하거나, 또는 저굴절 미립자를 포함하여 이루어지며,
상기 저굴절층에 사용되는 저굴절 미립자는 실리카 또는 불화마그네슘 미립자로서 크기가 1~50nm 인 일반 입자나 크기가 10~100nm 인 중공실리카 입자이며, 그리고 상기 미립자 100 중량부에 대하여 1~10중량부의 실란 화합물이 표면처리 물질로서 더 포함되며,
상기 광경화형 불소 화합물은 하나 이상의 불소가 치환된 불소 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트 화합물이며,
상기 하드코팅층에 5nm에서 50nm 크기의 실리카 입자가 포함되는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.
The method according to claim 1,
A hard coating layer is formed on the substrate and the anti-reflection treatment layer is formed,
A triacetylcellulose film or PET film is used as the substrate,
Wherein the low refraction layer comprises a photocurable fluorine compound having a refractive index in a range of 1.1 to 1.5 and a photocurable or thermosetting organic compound binder or a low refractive fine particle,
The low refractive fine particles to be used in the low refractive layer are silica particles or magnesium fluoride particles which are ordinary particles having a size of 1 to 50 nm or hollow silica particles having a size of 10 to 100 nm and 1 to 10 parts by weight A silane compound is further included as a surface treating substance,
The photocurable fluorine compound is a fluorine acrylate or methacrylate compound substituted with at least one fluorine,
Wherein the hard coat layer contains silica particles of 5 nm to 50 nm in size.
상기 저굴절층에는 공기층이 포함된 패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.
The method according to claim 1 or 3,
Wherein the low refraction layer is formed with a pattern including an air layer.
하부 기판 또는 보호막을 더 포함하고, 그리고
상기 반사방지 처리층이 상기 기판과 접착층 사이에 형성되는 것,
을 특징으로 하는 반사방지 필름.
An antireflection film comprising a substrate, an antireflection treatment layer, an adhesive layer, and a polarizer-containing layer,
Further comprising a lower substrate or a protective film, and
Wherein the antireflection treatment layer is formed between the substrate and the adhesive layer,
And an antireflection film.
상기 기판의 다른 층과 접촉되지 않는 면에, 상기 편광자 포함층과 하부 기판사이에, 또는 상기 하부 기판의 다른 층과 접촉되지 않는 면에 상기 반사방지 처리층이 하나 이상 더 형성되는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.
6. The method of claim 5,
Wherein at least one of the antireflection treatment layers is formed on the surface not in contact with the other layer of the substrate, between the polarizer-containing layer and the lower substrate, or on the surface not in contact with the other layer of the lower substrate Antireflection film.
상기 반사방지 처리층은
굴절률 1.1~1.5 범위의 유기 화합물 또는 저굴절 미립자를 포함하는 저굴절층이 코팅되어 이루어지거나, 또는
고굴절층과 저굴절층을 포함하는 반사방지층이거나, 또는
고굴절층과, 굴절률 1.1~1.5 범위의 유기 화합물 또는 저굴절 미립자를 포함하는 저굴절층이 코팅되어 이루어지는 것,
을 특징으로 하는 반사방지 필름
The method according to claim 6,
The anti-reflection treatment layer
Refractive index layer containing an organic compound having a refractive index in the range of 1.1 to 1.5 or a low refractive index particle, or
An antireflection layer comprising a high refractive index layer and a low refractive index layer, or
A high refractive index layer and a low refractive index layer containing an organic compound having a refractive index of 1.1 to 1.5 or a low refractive index layer,
Reflection film
상기 기판은 기저필름에 하드코팅층이 형성된 것이고,
상기 기저필름으로 트리아세틸 셀룰로오즈필름이나 PET 필름이 사용되며,
상기 저굴절층은 굴절률 1.1~1.5 범위의 광경화형 불소 화합물과 광경화 또는 열경화 유기화합물 바인더를 포함하거나, 또는 저굴절 미립자를 포함하여 이루어지며,
상기 저굴절층에 사용되는 저굴절 미립자는 실리카 또는 불화마그네슘 미립자로서 크기가 1~50nm 인 일반 입자나 크기가 10~100nm 인 중공실리카 입자이며, 그리고 상기 미립자 100 중량부에 대하여 1~10중량부의 실란 화합물이 표면처리 물질로서 더 포함되며,
상기 광경화형 불소 화합물은 하나 이상의 불소가 치환된 불소 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트 화합물이며,
상기 하드코팅층에 5nm에서 50nm 크기의 실리카 입자가 포함되는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.
8. The method of claim 7,
The substrate is a base film having a hard coating layer formed thereon,
A triacetylcellulose film or a PET film is used as the base film,
Wherein the low refraction layer comprises a photocurable fluorine compound having a refractive index in a range of 1.1 to 1.5 and a photocurable or thermosetting organic compound binder or a low refractive fine particle,
The low refractive fine particles to be used in the low refractive layer are silica particles or magnesium fluoride particles which are ordinary particles having a size of 1 to 50 nm or hollow silica particles having a size of 10 to 100 nm and 1 to 10 parts by weight A silane compound is further included as a surface treating substance,
The photocurable fluorine compound is a fluorine acrylate or methacrylate compound substituted with at least one fluorine,
Wherein the hard coat layer contains silica particles of 5 nm to 50 nm in size.
상기 반사방지 처리층에는 공기층이 포함된 패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.
9. The method according to any one of claims 5 to 8,
Wherein the antireflection treatment layer is formed with a pattern including an air layer.
하부 기판 또는 보호막을 더 포함하고 그리고 상기 반사방지 처리층이 상기 기판과 접착층 사이에 형성되고, 그리고
상기 반사방지 처리층은
굴절률 1.1~1.5 범위의 저굴절 미립자의 표면 처리하는 단계,
상기 미립자를 광경화 또는 열경화 유기화합물 바인더와 혼합하여 조성물을 만드는 단계, 및
상기 조성물을 기판에 코팅 및 건조하고 경화하는 단계,
를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름을 제조하는 방법.
A method for producing an antireflection film comprising a substrate, an antireflection treatment layer, an adhesive layer, and a polarizer-containing layer,
Further comprising a lower substrate or a protective film, and wherein the anti-reflection treatment layer is formed between the substrate and the adhesive layer, and
The anti-reflection treatment layer
Treating the surface of the low refractive index particles having a refractive index in the range of 1.1 to 1.5,
Mixing the fine particles with a photocurable or thermosetting organic compound binder to form a composition, and
Coating, drying and curing the composition on a substrate,
Wherein the antireflection film has a thickness of 100 nm or less.
상기 반사방지 처리층에 사용되는 저굴절 미립자는 실리카 또는 불화마그네슘 미립자로서 크기가 1~50nm 인 일반 입자나 크기가 10~100nm 인 중공실리카 입자이며, 그리고 상기 미립자 100 중량부에 대하여 1~10중량부의 실란 화합물이 표면처리 물질로서 더 포함되며, 그리고
상기 반사방지 처리층에 공기층이 포함된 패턴이 형성되어 있는 것,
을 특징으로 하는 반사방지 필름을 제조하는 방법.
11. The method of claim 10,
The low refractive fine particles to be used in the antireflection treatment layer are silica particles or magnesium fluoride particles which are ordinary particles having a size of 1 to 50 nm or hollow silica particles having a size of 10 to 100 nm and 1 to 10 weight parts A negative silane compound is further included as a surface treatment substance, and
A pattern in which an air layer is formed in the antireflection treatment layer,
≪ / RTI >
하부 기판 또는 보호막을 더 포함하고 그리고 상기 반사방지 처리층이 상기 기판과 접착층 사이에 형성되고, 그리고
상기 반사방지 처리층은
굴절률 1.1~1.5 범위의 저굴절 미립자 또는 광경화형 불소 화합물과 광경화 또는 열경화 유기화합물 바인더를 혼합하여 혼합용액을 만드는 단계,
패턴을 구현할 수 있는 반대모양의 몰드패턴을 준비하는 단계,
상기 기판과 준비된 몰드패턴사이에 혼합 용액이 주입되는 단계,
압착롤을 이용하여 패턴을 형성하고 경화하는 단계,
기판을 패턴롤이나 혹은 패턴필름으로부터 분리하는 단계를 거쳐 반사방지 처리층을 형성하는 단계,
반사방지 처리층에 접착 성분을 도포하여 건조하거나 경화하여 접착층을 형성하는 단계, 및
접착층에 편광자를 포함한 필름을 합지하거나 또는 편광자를 포함하는 조성물을 도포하여 편광자 포함층을 형성하는 단계,
를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름을 제조하는 방법.
A method for producing an antireflection film comprising a substrate, an antireflection treatment layer, an adhesive layer, and a polarizer-containing layer,
Further comprising a lower substrate or a protective film, and wherein the anti-reflection treatment layer is formed between the substrate and the adhesive layer, and
The anti-reflection treatment layer
Preparing a mixed solution by mixing a low-refractive fine particle or a photo-curable fluorine compound having a refractive index in the range of 1.1 to 1.5 with a photo-curable or thermosetting organic compound binder;
Preparing an opposite mold pattern capable of implementing a pattern,
Injecting a mixed solution between the substrate and the prepared mold pattern,
Forming and curing a pattern using a press roll,
A step of separating the substrate from the pattern roll or the pattern film to form an antireflection treatment layer,
Applying an adhesive component to the antireflective treatment layer and drying or curing to form an adhesive layer; and
Applying a film containing a polarizer to the adhesive layer or applying a composition containing a polarizer to form a polarizer-containing layer,
Wherein the antireflection film has a thickness of 100 nm or less.
상기 패턴은 음각이나 양각 또는 홈을 포함하며, 금속 패턴 몰드 또는 패턴 몰드 수지를 이용해서 만들어지며, 그리고
상기 패턴 몰드용 수지는 실리콘 변성 아크릴레이트를 사용한 조성물을 이용해서 만들어지는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름을 제조하는 방법.13. The method according to claim 11 or 12,
The pattern may be formed using a metal pattern mold or a pattern mold resin, including an engraved, embossed or grooved pattern, and
Wherein the resin for a pattern mold is made of a composition using a silicone-modified acrylate.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112649988A (en) * | 2019-10-10 | 2021-04-13 | 三星显示有限公司 | Display device |
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