KR101883814B1 - 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물 - Google Patents

광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물 Download PDF

Info

Publication number
KR101883814B1
KR101883814B1 KR1020160111578A KR20160111578A KR101883814B1 KR 101883814 B1 KR101883814 B1 KR 101883814B1 KR 1020160111578 A KR1020160111578 A KR 1020160111578A KR 20160111578 A KR20160111578 A KR 20160111578A KR 101883814 B1 KR101883814 B1 KR 101883814B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
formula
optical material
diisocyanate
polythiol compound
Prior art date
Application number
KR1020160111578A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20180024762A (ko
Inventor
홍승모
김상묵
명정환
신정환
Original Assignee
에스케이씨 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스케이씨 주식회사 filed Critical 에스케이씨 주식회사
Priority to KR1020160111578A priority Critical patent/KR101883814B1/ko
Priority to JP2019501460A priority patent/JP6929930B2/ja
Priority to EP17827876.8A priority patent/EP3486272B1/en
Priority to US16/317,408 priority patent/US11279673B2/en
Priority to PCT/KR2017/007249 priority patent/WO2018012803A1/ko
Priority to CN201780047612.8A priority patent/CN109563269B/zh
Priority to TW106123503A priority patent/TWI652283B/zh
Publication of KR20180024762A publication Critical patent/KR20180024762A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101883814B1 publication Critical patent/KR101883814B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/02Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/02Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols
    • C07C319/06Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols from sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C321/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C321/12Sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C321/14Sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)

Abstract

실시예는 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물에 관한 것으로, 실시예에 따른 방향족 폴리티올 화합물은 폴리티올 구조 내에 페닐기 및 다수의 황을 포함함으로써, 이로부터 얻은 폴리티오우레탄이 내열성이 우수하고 높은 굴절률과 낮은 비중을 갖는 등 광학 특성이 우수하고 경화수축률이 낮아 기계적 물성이 우수하므로, 안경렌즈, 카메라 렌즈 등 각종 플라스틱 광학렌즈의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.

Description

광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물{AROMATIC POLYTHIOL COMPOUND USED IN THE MANUFACTURE OF AN OPTICAL MATERIAL}
실시예는 폴리티오우레탄계 광학 재료의 원료로서 사용되는 방향족 폴리티올 화합물에 관한 것이다. 또한, 실시예는 상기 방향족 폴리티올 화합물을 포함하는 중합성 조성물, 이로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물 및 광학 재료에 관한 것이다.
플라스틱을 이용한 광학 재료는, 유리와 같은 무기 재료로 이루어지는 광학 재료에 비해 경량이면서 쉽게 깨지지 않고 염색성이 우수하기 때문에, 다양한 수지의 플라스틱 재료들이 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료로 널리 이용되고 있다. 최근 보다 높은 성능 및 편리함에 대한 수요가 늘어남에 따라, 고투명성, 고굴절율, 저비중, 고내열성, 고내충격성 등의 특성을 갖는 광학 재료에 대한 연구가 계속되고 있다.
폴리티오우레탄계 화합물은 그의 우수한 광학 특성 및 기계적 물성에 기인하여 광학 재료로서 널리 사용되고 있다. 폴리티오우레탄계 화합물은 폴리티올 화합물과 이소시아네이트 화합물을 반응시켜 제조할 수 있으며, 상기 폴리티올 화합물의 물성은 제조되는 폴리티오우레탄계 화합물의 물성에 큰 영향을 미친다.
일례로, 대한민국 등록특허 제 10-1594407 호 및 대한민국 등록특허 제 10-0180926 호는 다수의 황(S)을 포함하는 폴리티올 화합물을 개시하고 있지만, 이 폴리티올 화합물은 페닐기를 포함하고 있지 않아, 높은 굴절률 및 낮은 비중과 경화수축률을 갖는 폴리티오우레탄계 광학 재료의 합성을 위해, 페닐기를 포함하는 이소시아네이트를 사용해야만 하는 단점이 있다. 또한, 대한민국 등록특허 제 10-1074450 호는 페닐기를 포함하는 폴리티올 화합물을 개시하고 있지만, 황의 함량이 적어 폴리티오우레탄계 광학 재료 합성 시 충분한 굴절률을 확보하지 못한다는 단점이 있다.
이에, 본 발명자들은 상술한 바와 같은 단점들을 해결하기 위해 연구한 결과, 황 함량이 높은 4관능의 방향족 폴리티올 화합물을 합성함으로써, 굴절률, 비중, 경화수축률 등의 물성이 우수한 광학 재료용 폴리티오우레탄계 화합물을 제조할 수 있음을 발견하고 본 발명을 완성하였다.
대한민국 등록특허 제 10-1594407 호 대한민국 등록특허 제 10-0180926 호 대한민국 등록특허 제 10-1074450 호
따라서, 실시예는 황 함량이 높은 4관능의 방향족 폴리티올 화합물 및 이를 이용하여 얻은 폴리티오우레탄계 화합물을 제공하고자 한다.
실시예는 하기 화학식 1로 표시되는 방향족 폴리티올 화합물을 제공한다:
[화학식 1]
Figure 112016084849240-pat00001
.
나아가, 실시예는 상기 방향족 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트계 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 제공한다.
또한, 실시예는 상기 중합성 조성물로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물을 제공한다.
나아가, 실시예는 상기 폴리티오우레탄계 화합물로부터 성형된 광학 재료를 제공한다.
또한, 실시예는 (1) 하기 화학식 2의 화합물을 2-메르캅토에탄올과 반응시켜 하기 화학식 3의 화합물을 제조하는 단계;
(2) 화학식 3의 화합물을 금속황화물과 반응시켜 하기 화학식 4의 화합물을 제조하는 단계; 및
(3) 화학식 4의 화합물을 티오우레아와 반응 및 가수분해시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 1의 화합물의 제조방법을 제공한다:
[화학식 1]
Figure 112016084849240-pat00002
[화학식 2]
Figure 112016084849240-pat00003
[화학식 3]
Figure 112016084849240-pat00004
[화학식 4]
Figure 112016084849240-pat00005
상기 식에서,
X는 할로겐 원자이다.
실시예에 따른 방향족 폴리티올 화합물은 폴리티올 구조 내에 페닐기 및 다수의 황을 포함함으로써, 이로부터 얻은 폴리티오우레탄이 내열성이 우수하고 높은 굴절률과 낮은 비중을 갖는 등 광학 특성이 우수하고 경화수축률이 낮아 기계적 물성이 우수하므로, 안경렌즈, 카메라 렌즈 등 각종 플라스틱 광학렌즈의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
실시예는 하기 화학식 1로 표시되는 방향족 폴리티올 화합물을 제공한다:
[화학식 1]
Figure 112016084849240-pat00006
.
상기 화학식 1의 방향족 폴리티올 화합물은 페닐기를 갖는 방향족 화합물로부터 방향족 폴리올 화합물을 제조한 후, 이를 티오우레아(thiourea)와 반응 및 가수분해시켜 제조할 수 있다.
상기 화학식 1의 화합물은 (1) 하기 화학식 2의 화합물을 2-메르캅토에탄올과 반응시켜 하기 화학식 3의 화합물을 제조하는 단계; (2) 화학식 3의 화합물을 금속황화물과 반응시켜 하기 화학식 4의 화합물을 제조하는 단계; 및 (3) 화학식 4의 화합물을 티오우레아와 반응 및 가수분해시키는 단계를 포함하는 제조방법에 의해 제조될 수 있다(반응식 1 참조).
[반응식 1]
Figure 112016084849240-pat00007
상기 식에서, X는 할로겐 원자이고, 예를 들면, Cl, Br, I 등일 수 있다.
구체적으로, 상기 단계 (1)에서 화학식 2의 할로겐화 스티렌 옥사이드를 반응 촉매로서 염기 존재 하에 2-메르캅토에탄올과 반응시킴으로써 화학식 3의 디올 화합물을 제조할 수 있다. 상기 반응은 2 내지 30℃, 5 내지 20℃ 또는 5 내지 15℃의 온도에서 2 내지 10시간, 2 내지 8시간 또는 2 내지 5시간 동안 수행될 수 있다. 나아가, 2-메르캅토에탄올의 함량은 할로겐화 스티렌 옥사이드 1몰에 대하여 0.5몰 내지 3몰, 구체적으로는 0.7몰 내지 2몰, 보다 구체적으로는 0.9몰 내지 1.1몰일 수 있다. 또한, 염기는 촉매량 사용할 수 있다. 구체적으로 상기 염기의 함량은 염기가 1가인 경우 할로겐화 스티렌 옥사이드 1몰에 대하여 0.001몰 내지 0.1몰일 수 있고, 염기가 2가인 경우에는 1가 사용량의 절반일 수 있다. 이때, 반응 촉매로서의 염기는 트리에틸아민, 트리부틸아민 등일 수 있으며, 수용액 또는 알코올 용액의 형태로 사용할 수 있다. 염기를 수용액 또는 알코올 용액의 형태로 사용하는 경우 염기 용액의 농도는 적절히 선택할 수 있다.
단계 (2)에서, 화학식 3의 디올 화합물을 용매 중에서 금속황화물과 반응시킴으로써 하기 화학식 4로 표시되는 테트라올 화합물을 제조할 수 있다. 상기 반응은 10 내지 50℃, 구체적으로는 20 내지 40℃의 온도에서 1 내지 10시간, 1 내지 8시간 또는 1 내지 5시간 동안 수행될 수 있다. 상기 금속황화물은 예컨대, 황화나트륨(Na2S)일 수 있다. 상기 금속황화물은 수용액 또는 고체 형태로 사용할 수 있으며, 수화물 형태로 사용하는 것이 바람직하지만 이에 제한되지 않는다. 상기 금속황화물을 수용액의 형태로 사용하는 경우 농도를 10 내지 80%, 구체적으로는 30 내지 60%로 조절하는 것이 좋다. 상기 금속황화물은 상기 화학식 3의 디올 화합물 1몰에 대하여 0.4 내지 0.6몰, 구체적으로 0.45 내지 0.57 몰, 보다 구체적으로는 0.48 내지 0.55 몰의 양으로 사용할 수 있다.
단계 (3)에서, 상기 얻어진 화학식 4의 테트라올 화합물을 티오우레아와 반응시켜 이소티오우로늄염(isothiouronium salt)을 얻은 뒤, 이를 가수분해하여 화학식 1의 화합물을 얻을 수 있다. 먼저, 화학식 4의 화합물과 티오우레아를 혼합하고 산 조건에서 환류시켜 이소티오우로늄염을 얻을 수 있다. 상기 티오우레아는 상기 테트라올 화합물 1몰에 대하여 3몰 이상, 구체적으로 3몰 내지 6몰, 보다 구체적으로 4.6몰 내지 5몰의 양으로 사용할 수 있다. 상기 산 조건 형성을 위해서는, 염산 용액 또는 염화수소 가스 등을 사용할 수 있고, 이들은 상기 화학식 4의 테트라올 화합물 1몰에 대하여 3몰 이상, 구체적으로 3몰 내지 12몰의 양으로 사용할 수 있다. 염화수소를 사용함으로써, 충분한 반응속도가 얻어지고, 제품의 착색을 방지할 수 있다. 환류는 90 내지 120℃, 바람직하게는 100 내지 110℃에서 1 내지 10시간 동안 수행할 수 있다.
이후, 상기 얻어진 이소티오우로늄염을 염기 조건 및 유기용매 중에서 가수분해하여 화학식 1의 방향족 폴리티올 화합물을 얻을 수 있다.
구체적으로는, 이소티우로늄염을 포함하는 반응액을 20 내지 60℃, 구체적으로 25 내지 55℃, 보다 구체적으로 25 내지 50℃의 온도 범위로 유지하면서, 그 반응액에 80분 이하, 70분 이하, 20 내지 60분 또는 20 내지 30분 동안 염기성 수용액을 첨가할 수 있다. 염기성 수용액의 첨가 시간은, 짧을수록 바람직하지만 냉각 시설, 설비 시설 등을 고려하여 상기 시간 내로 설정된다. 염기성 수용액은 암모니아, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화마그네슘, 수산화알루미늄 등 물에 녹아 수산기(-OH)를 발생할 수 있는 염기성 물질이면 제한하지 않는다. 상기 염기성 수용액의 농도는 10 내지 70%, 구체적으로는 15 내지 50%일 수 있다. 이때, 염기성 수용액을 첨가하기 전에 유기용매를 첨가할 수 있다. 유기용매는 부생성물의 생성을 억제할 수 있다. 유기용매는 이소티오우로늄염 반응액에 대해 0.1 내지 3.0배량, 구체적으로는 0.2 내지 2.0배량으로 첨가할 수 있다. 유기용매의 예로는 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등을 들 수 있고, 구체적으로는 톨루엔일 수 있다. 상기 염기성 물질은 상기 염화수소 1몰에 대하여 1몰 이상, 구체적으로는 1몰 내지 3몰, 보다 구체적으로는 1.1몰 내지 2몰의 양으로 사용할 수 있다. 이때, 상기 염기성 물질은 1.25몰%/분 이상, 구체적으로는 1.25몰%/분 내지 3.75몰%/분, 보다 구체적으로는 1.38몰%/분 내지 2.5몰%/분의 속도로 첨가할 수 있다. 상기 가수분해 반응온도는 10 내지 130℃, 구체적으로는 30 내지 80℃일 수 있다. 상기 가수분해 시간은 0.1 내지 24시간일 수 있고, 구체적으로 0.5 내지 12시간, 보다 구체적으로 1 내지 8시간일 수 있다.
이상 얻어진 방향족 폴리티올 화합물은 추가로 정제를 거칠 수 있다.
예를 들면, 복수회의 알칼리 세정과 복수회의 수 세정을 실시할 수 있다. 세정 공정을 통해 폴리티올 중에 잔존하는 불순물 등을 제거할 수 있고, 이로서 폴리티올의 색상을 개선시켜 이로부터 얻어지는 광학 재료의 색상을 향상시킬 수 있다.
이후, 필요에 따라, 건조, 여과 등을 수행하여 목적하는 방향족 폴리티올 화합물을 얻을 수 있다.
실시예는 상기 방향족 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트계 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 제공한다.
상기 중합성 조성물은 상기 방향족 폴리티올 화합물을 100중량%의 양으로 포함할 수 있다. 또한, 필요에 따라 상기 중합성 화합물은 상술한 바와 같은 방향족 폴리티올 화합물 외에 상기 방향족 폴리티올 화합물과 상이한 폴리티올 화합물을 추가로 포함할 수 있고, 예컨대, 지방족 폴리티올 화합물을 포함할 수 있다. 상기 지방족 폴리티올 화합물은 메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,2,3-프로판트리티올, 펜타에리스리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 비스(메르캅토에틸)술피드, 2,5-디메르캅토메틸-1,4-디티안, 테트라키스(메르캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-메르캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-메르캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디메르캅토프로필)술피드, 2,5-디메르캅토메틸-1,4-디티안, 2,5-디메르캅토-1,4-디티안, 2,5-디메르캅토메틸-2,5-디메틸-1,4-디티안, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안 등일 수 있다.
상기 중합성 조성물이 상기 방향족 폴리티올 화합물과 상이한 폴리티올 화합물을 추가로 포함할 경우, 전체 티올 화합물 100중량%에 대하여 상기 방향족 폴리티올 화합물을 5 내지 70 중량%의 양으로 포함할 수 있다.
상기 이소시아네이트계 화합물은 폴리티오우레탄의 합성에 사용되는 통상적인 것을 사용할 수 있다.
구체적으로는 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르, 1,2-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄이소시아네이트, 비스(이소시아네이토에틸)설피드, 비스(이소시아네이토프로필)설피드, 비스(이소시아네이토헥실)설피드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디설피드, 비스(이소시아네이토프로필)디설피드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸-3-티아펜탄, 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등을 포함하는 지방족 이소시아네이트계 화합물; 및 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 페닐렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, o-크실렌디이소시아네이트, m-크실렌디이소시아네이트, p-크실렌디이소시아네이트, 자일렌디이소시아네이트, X-자일렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아네이토메틸)사이클로헥산, 디페닐설피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐설피드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)설피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트, 디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디설피드-3,3-디이소시아네이트 등을 포함하는 방향족 이소시아네이트계 화합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상을 사용할 수 있다.
구체적으로 상기 이소시아네이트계 화합물은 1,3-비스(이소시아네이토메틸)사이클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 자일렌디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트 등을 사용할 수 있다.
상기 중합성 조성물은 목적에 따라 내부 이형제, 열안정제, 반응촉매, 자외선 흡수제, 블루잉제(blueing agent) 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 자외선 흡수제로는 벤조페논계, 벤조트라이아졸계, 살리실레이트계, 시아노아크릴레이트계, 옥사닐라이드계 등이 사용될 수 있다.
상기 내부 이형제로는 퍼플루오르알킬기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 지닌 불소계 비이온 계면활성제; 디메틸폴리실록산기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 가진 실리콘계 비이온 계면활성제; 트리메틸세틸 암모늄염, 트리메틸스테아릴, 디메틸에틸세틸 암모늄염, 트리에틸도데실 암모늄염, 트리옥틸메틸 암모늄염, 디에틸시클로헥사도데실 암모늄염 등과 같은 알킬계 4급 암모늄염; 및 산성 인산에스테르 중에서 선택된 성분이 단독으로 혹은 2종 이상 함께 사용될 수 있다.
상기 반응촉매로는 폴리티오우레탄계 수지의 제조에 사용되는 공지의 반응촉매를 적절히 첨가할 수 있다. 예를 들면, 디부틸주석디클로라이드, 디메틸주석디클로라이드 등의 디알킬주석할로겐화물계; 디메틸주석디아세테이트, 디부틸주석디옥타노에이트, 디부틸주석디라우레이트 등의 디알킬주석디카르복실레이트계; 디부틸주석디부톡사이드, 디옥틸주석디부톡사이드 등의 디알킬주석디알콕사이드계; 디부틸주석디(티오부톡사이드) 등의 디알킬주석디티오알콕사이드계; 디(2-에틸헥실)주석옥사이드, 디옥틸주석옥사이드, 비스(부톡시디부틸주석)옥사이드 등의 디알킬주석산화물계; 디부틸주석술피드 등의 디알킬주석황화물계로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 구체적으로는, 디부틸주석디클로라이드, 디메틸주석디클로라이드 등의 디알킬주석할로겐화물계로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.
상기 열안정제로는 금속 지방산염계, 인계, 납계, 유기주석계 등이 1종 또는 2종 이상 사용될 수 있다.
상기 블루잉제는 가시광 영역 중 오렌지색으로부터 황색의 파장역에 흡수대를 가지며, 수지로 이루어지는 광학 재료의 색상을 조정하는 기능을 가진다. 상기 블루잉제는, 구체적으로, 청색으로부터 보라색을 나타내는 물질을 포함할 수 있으나, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 블루잉제의 예로는 염료, 형광증백제, 형광 안료, 무기 안료 등을 들 수 있으나, 제조되는 광학 부품에 요구되는 물성이나 수지 색상 등에 맞추어 적절히 선택될 수 있다. 상기 블루잉제는 각각 단독, 또는 2 종 이상의 조합을 사용할 수 있다. 중합성 조성물에 대한 용해성 및 얻어지는 광학 재료의 투명성의 측면에서, 상기 블루잉제로서 염료가 바람직하다. 흡수 파장의 관점에서, 상기 염료는 구체적으로, 극대 흡수 파장 520 내지 600nm의 염료일 수 있으며, 더욱 구체적으로, 극대 흡수 파장 540 내지 580nm의 염료일 수 있다. 또한, 화합물의 구조의 관점에서, 상기 염료로는 안트라퀴논계 염료가 바람직하다. 블루잉제의 첨가 방법은 특별히 한정되지 않으며, 미리 모노머계에 첨가할 수 있다. 구체적으로, 상기 블루잉제의 첨가 방법은 모노머에 용해시켜 두는 방법, 또는 고농도의 블루잉제를 함유하는 마스터 용액을 조제해 두고, 상기 마스터 용액을 사용하는 모노머나 다른 첨가제로 희석하여 첨가하는 방법 등 여러 가지의 방법을 사용할 수 있다.
본 발명은 상술한 바와 같은 중합성 조성물로부터 얻은 폴리티오우레탄계 화합물을 제공한다. 상기 폴리티오우레탄계 화합물은 상기 방향족 폴리티올 화합물과 이소시아네이트 화합물이 중합(및 경화)되어 제조된다. 상기 중합 반응에서 SH기/NCO기의 반응 몰비는 0.5 내지 3.0일 수 있고, 구체적으로는 0.6 내지 2.0, 보다 구체적으로는 0.8 내지 1.3일 수 있다. 또한, 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리티오우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 상기 언급된 반응 촉매가 첨가될 수 있다.
또한, 본 발명은 상술한 바와 같은 폴리티오우레탄계 화합물로부터 성형된 광학 재료를 제공한다. 상기 광학 재료는 중합성 조성물이 중합 및 성형되어 제조될 수 있다.
먼저, 상기 중합성 조성물을 감압하에 탈기(degassing)한 후, 광학 재료 성형용 몰드에 주입한다. 이와 같은 탈기 및 몰드 주입은 예를 들어 20 내지 40℃의 온도 범위에서 수행될 수 있다. 몰드에 주입한 후에는 통상 저온으로부터 고온으로 서서히 가열하여 중합을 수행한다.
상기 중합 반응의 온도는 예를 들어 20 내지 150℃일 수 있고, 구체적으로 25 내지 120℃일 수 있다. 또한, 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리티오우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 반응 촉매가 첨가될 수 있으며, 이의 구체적인 종류는 앞서 예시한 바와 같다.
이후 폴리티오우레탄계 광학 재료를 몰드로부터 분리한다.
상기 광학 재료는 제조시 사용하는 주형의 몰드를 바꾸는 것으로 여러 가지 형상일 수 있다. 구체적으로, 안경렌즈, 카메라 렌즈, 발광다이오드(LED) 등의 형태일 수 있다.
상기 광학 재료는 1.60 내지 1.75, 1.60 내지 1.70, 1.63 내지 1.75 또는1.63 내지 1.70의 굴절률을 가질 수 있다. 상기 광학 재료는 1.10 내지 1.30, 1.15 내지 1.30 또는 1.20 내지 1.30의 비중을 가질 수 있다. 상기 광학 재료는 100 내지 120℃, 110 내지 120℃ 또는 113 내지 120℃의 열변형온도(Tg)를 가질 수 있다.
상기 광학 재료는 구체적으로는 광학 렌즈, 구체적으로 플라스틱 광학 렌즈일 수 있다. 상기 광학 렌즈는 필요에 따라 반사 방지, 고경도 부여, 내마모성 향상, 내약품성 향상, 방운성 부여 또는 패션성 부여를 위해 표면연마, 대전 방지 처리, 하드 코트 처리, 무반사 코트 처리, 염색 처리, 조광(調光)처리 등의 물리적, 화학적 처리를 실시하여 개량할 수 있다.
이와 같이, 실시예에 따른 방향족 폴리티올 화합물은 폴리티올 구조 내에 페닐기 및 다수의 황을 포함함으로써, 이로부터 얻은 폴리티오우레탄이 높은 굴절률과 낮은 비중을 갖는 등 광학 특성이 우수하고 경화수축률이 낮아 기계적 물성이 우수하므로, 안경렌즈, 카메라 렌즈 등 각종 플라스틱 광학렌즈의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
이하, 하기 실시예에 의하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하고자 한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
[ 실시예 ]
방향족 폴리티올 화합물의 제조
실시예 1
Figure 112016084849240-pat00008
기계식 교반기 및 냉각관이 장착된 3구, 5리터 반응기에 4-클로로스티렌 옥사이드 154.6g(1몰), 2-메르캅토에탄올 78.13g(1몰) 및 트리에틸아민 0.1g을 투입한 후, 온도를 8℃로 유지하면서 4시간 동안 반응시켜 화학식 3-1의 화합물을 포함하는 반응액을 수득하였다. 이때, 반응액에 대하여 박층크로마토그래피(TLC)를 수행하여 2-메르캅토에탄올이 검출되지 않으면 반응을 종료하였다.
상기 반응액에 소듐 설파이드 노나하이드레이트 124.9g(0.52몰) 및 물 124.9g의 혼합액을 30℃에서 3시간 동안 천천히 적가하였다. 이후, 40℃에서 1시간 동안 숙성시켜 화학식 4의 화합물을 포함하는 반응액을 수득하였다. 이때, 반응액에 대하여 TLC를 수행하여 화학식 3-1의 화합물이 검출되지 않으면 반응을 종료하였다.
상기 반응액에 38% 진한 염산용액 576g(6몰)을 첨가하고, 그 다음 티오우레아 335g(4.4몰)을 첨가한 다음, 110℃에서 환류하면서 3시간 동안 티오우로늄염화 반응시켜 화학식 5의 화합물을 포함하는 반응액을 수득하였다.
상기 반응액을 40℃로 냉각시킨 후 반응액에 톨루엔 650g을 첨가하고, 25℃로 냉각시켰다. 이후, 반응액에 25% 암모니아수 637g(4.5몰)을 50℃에서 30분 동안 적하하고 60℃에서 1시간 동안 가수분해공정을 더 수행하여 반응액을 수득하였다.
상기 반응액의 톨루엔 부분을 분리한 다음, 상기 톨루엔에 38% 진한 염산용액 127g을 추가하여 혼합하고, 30분 후 분별 깔대기를 이용하여 물 부분을 제거하였다(산 세정 공정). 상기 산 세정 공정을 2회 반복 실시하였다. 그 다음, 산세정이 완료된 반응액에 증류수 255g을 추가하여 혼합하고, 30분 후 분별 깔대기를 이용하여 물 부분을 제거하는 증류수 세정 공정을 5회 반복 실시하였다. 이후, 가열 감압 공정을 통해 톨루엔과 미량의 물을 완전히 제거한 후, 1μm의 테프론 필터로 여과하여 4관능 방향족 폴리티올 화합물(화학식 1의 화합물)을 얻었다. 이때, 상기 얻어진 방향족 폴리티올 화합물에 대하여 FT-IR 및 C13-NMR로 원소 분석한 결과는 다음과 같다.
이론치 결과치
C 50.5% 51.0%
H 6.6% 6.8%
S 42.9% 42.2
FT-IR : IR λmax (KBr) cm-1 = 2600(SH)
Figure 112016084849240-pat00009
중합성 조성물의 제조
실시예 2
상기 실시예 1에서 제조된 방향족 폴리티올 화합물 72.8 중량부를 1,3-비스(이소시아네이토메틸)사이클로헥산(Takenate®600) 27.2 중량부와 균일하게 혼합하였다. 여기에 중합촉매로 디부틸틴 디클로라이드 0.01 중량부, 내부이형제로 Zelec®UN 0.1 중량부 및 자외선 흡수제로 CYASORB®UV-5411 0.05 중량부를 첨가하고 균일하게 혼합하여 중합성 조성물을 제조하였다.
실시예 3 및 4, 및 비교예 1 및 2
하기 표 3에 기재된 바와 같이 성분 및 함량(중량부)를 변화시킨 것을 제외하고는, 실시예 2의 방법과 동일하게 수행하여 중합성 조성물을 제조하였다.
실험예 : 물성 확인
상기 실시예 2 내지 4, 및 비교예 1 및 2에서 제조한 중합성 조성물을 대상으로 하기 기재된 바에 따라 물성을 측정하였으며, 측정 결과는 하기 표 3에 나타냈다.
(1) 굴절률
상기 실시예 2 내지 4, 및 비교예 1 및 2에서 제조한 중합성 조성물을 600Pa에서 1 시간 동안 탈기(degassing)한 후 3 ㎛의 테프론 필터에 여과하였다. 여과된 중합성 조성물을 테이프에 의해 조립된 유리 몰드 주형에 주입하였다. 상기 몰드 주형을 25℃에서 120℃까지 5℃/분의 속도로 승온하고, 120℃에서 18시간 중합을 진행하였다. 유리 몰드 주형에서 경화된 수지를 130℃에서 4시간 동안 추가 경화한 후 유리 몰드 주형으로부터 성형체를 이형시켰다. 상기 성형체는 중심 두께 1.2mm(편차 -5.00) 및 지름 72mm의 원형 렌즈(광학 재료)이었다. 상기 렌즈를 ST11TN-8H 하드코팅액(㈜ 화인코트)에 함침한 후 열경화하여 코팅하였다.
상기 렌즈에 대해 아베굴절계인 DR-M4(Atago 사)를 이용하여 20℃에서 굴절률을 측정하였다.
(2) 비중
상기 항목 (1)의 광학 렌즈에 대해, 수중치환법으로 렌즈의 중량 및 부피 비율을 측정해 이로부터 비중을 산출하였다.
(3) 내열성(열변형)
상기 항목 (1)의 광학 렌즈에 대해, TMA Q400(TA 사)를 이용하여 페네트레이션법(50g 하중, 핀 선 0.5mmф, 승온속도 10도/min)에서의 유리전이온도(Tg, 열변형온도)를 측정하였다.
(4) 내광성(광 노출 전후의 황색 지수값의 차이 ; △ YI )
실시예 2 내지 4, 및 비교예 1 및 2에서 제조한 중합성 조성물을 이용하여 상기 항목 (1)과 동일하게 성형체를 제조하되, 성형체로서 두께 9 mm 및 지름 75 mm의 원형 렌즈(광학 재료)를 제조하였다. 이때, 코팅은 수행하지 않았다. 상기 광학 재료에 대해 미놀타사의 색차계 CM-5를 사용하여 색도좌표 x 및 y를 측정한 후 측정값을 하기 수학식 1에 적용하여 황색 지수(Yellow Index, YI)를 계산하였다. 그 다음, 상기 광학 재료를 Q-Pannel lad product사의 QUV/Spray 모델(5w)에 200시간 노출시킨 후, 상술한 바와 동일한 방법으로 황색 지수를 측정하였다. 초기 YI 값과의 차이(광 노출 전후의 YI값의 차이)를 계산하여 내광성(△YI)으로 나타내었다.
[수학식 1]
YI = (234x+106y+106)/y
Figure 112016084849240-pat00010
Takenate®600 : 1,3-비스(이소시아네이토메틸)사이클로헥산, 미쯔이 화학
Takenate®500 : 자일렌 디이소시아네이트, 미쯔이 화학
IPDI : 이소포론디이소시아네이트
지방족 폴리티올 A : 5,9-디메르캅토메틸-1,13-디메르캅토-3,7,11-트리티아트리데칸
지방족 폴리티올 B : 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올
DBTDC : 디부틸틴디클로라이드
Zelec®UN : 인산에스테르 이형제, Stepan사
CYASORB®UV-5411 : 2-(2'-하이드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 사이텍사
상기 표 3에서 보는 바와 같이, 실시예 2 내지 4의 광학렌즈는 비교예 1 및 2와 비교해볼 때, 비중이 낮고 높은 굴절률과 열변형 온도를 나타내며, 색도차이가 적어 내광성이 우수한 것을 알 수 있다. 이에, 실시예에서 제조된 광학 렌즈는 가볍고 고온에서 잘 견디며 선명한 상이 맺힐 수 있어 광학 재료로서 유용하게 사용될 수 있을 것으로 예상된다.

Claims (12)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 방향족 폴리티올 화합물:
    [화학식 1]
    Figure 112016084849240-pat00011
    .
  2. 제1항의 방향족 폴리티올 화합물 및 이소시아네이트계 화합물을 포함하는, 중합성 조성물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 중합성 조성물이 상기 방향족 폴리티올 화합물과 상이한 폴리티올 화합물을 추가로 포함하는, 중합성 조성물.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 중합성 조성물이 전체 폴리티올 화합물 100중량%에 대하여 상기 방향족 폴리티올 화합물을 5 내지 70 중량%의 양으로 포함하는, 중합성 조성물.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 이소시아네이트계 화합물이 1,3-비스(이소시아네이토메틸)사이클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 자일렌디이소시아네이트 및 톨루엔디이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인, 중합성 조성물.
  6. 제2항의 중합성 조성물로부터 얻은 폴리티오우레탄계 중합체.
  7. 제6항의 폴리티오우레탄계 중합체로부터 성형된 광학 재료.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 광학 재료가 플라스틱 광학렌즈인, 광학 재료.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 광학 재료가 1.60 내지 1.75의 굴절률을 갖는, 광학 재료.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 광학 재료가 1.10 내지 1.30의 비중을 갖는, 광학 재료.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 광학 재료가 100 내지 120℃의 열변형온도(Tg)를 갖는, 광학 재료.
  12. (1) 하기 화학식 2의 화합물을 2-메르캅토에탄올과 반응시켜 하기 화학식 3의 화합물을 제조하는 단계;
    (2) 화학식 3의 화합물을 금속황화물과 반응시켜 하기 화학식 4의 화합물을 제조하는 단계; 및
    (3) 화학식 4의 화합물을 티오우레아와 반응 및 가수분해시키는 단계를 포함하는, 하기 화학식 1의 화합물의 제조방법:
    [화학식 1]
    Figure 112016084849240-pat00012

    [화학식 2]
    Figure 112016084849240-pat00013

    [화학식 3]
    Figure 112016084849240-pat00014

    [화학식 4]
    Figure 112016084849240-pat00015

    상기 식에서,
    X는 할로겐 원자이다.
KR1020160111578A 2016-07-14 2016-08-31 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물 KR101883814B1 (ko)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160111578A KR101883814B1 (ko) 2016-08-31 2016-08-31 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물
JP2019501460A JP6929930B2 (ja) 2016-07-14 2017-07-06 光学材料のための芳香族ポリチオール化合物
EP17827876.8A EP3486272B1 (en) 2016-07-14 2017-07-06 Aromatic polythiol compound for optical material
US16/317,408 US11279673B2 (en) 2016-07-14 2017-07-06 Aromatic polythiol compound for optical material
PCT/KR2017/007249 WO2018012803A1 (ko) 2016-07-14 2017-07-06 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물
CN201780047612.8A CN109563269B (zh) 2016-07-14 2017-07-06 用于光学材料的芳香族多硫醇化合物
TW106123503A TWI652283B (zh) 2016-07-14 2017-07-13 用於製造光學材料之芳香族聚硫醇化合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160111578A KR101883814B1 (ko) 2016-08-31 2016-08-31 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180024762A KR20180024762A (ko) 2018-03-08
KR101883814B1 true KR101883814B1 (ko) 2018-07-31

Family

ID=61725667

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160111578A KR101883814B1 (ko) 2016-07-14 2016-08-31 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101883814B1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030195270A1 (en) * 2002-02-07 2003-10-16 Kenji Ishii Enic compounds, sulfur-containing polyenic compound, sulfur-containing polythiol compound, high refractive index photocurable composition and cured product thereof

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030149217A1 (en) * 2001-11-16 2003-08-07 Bojkova Nina V. High impact poly (urethane urea) polysulfides
KR100515391B1 (ko) * 2002-06-27 2005-09-15 주식회사 창우정밀화학 폴리티올 화합물 및 이를 사용한 황함유 우레탄계 광학렌즈용 수지
KR20120095328A (ko) * 2011-02-18 2012-08-28 주식회사 케이오씨솔루션 신규 폴리티올화합물과 그 제조방법 및 이를 이용한 우레탄계 광학재료용 수지 조성물
TW201506083A (zh) * 2013-06-18 2015-02-16 Mitsubishi Gas Chemical Co 光學材料用組成物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030195270A1 (en) * 2002-02-07 2003-10-16 Kenji Ishii Enic compounds, sulfur-containing polyenic compound, sulfur-containing polythiol compound, high refractive index photocurable composition and cured product thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180024762A (ko) 2018-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101400358B1 (ko) 신규한 폴리티올 화합물의 제조방법 및 이를 포함하는 광학재료용 중합성 조성물
EP3486272B1 (en) Aromatic polythiol compound for optical material
KR101945883B1 (ko) 광학 재료용 폴리티올 조성물 및 이의 제조방법
KR101885879B1 (ko) 광학 재료용 폴리티올 조성물 및 이의 제조방법
TWI653220B (zh) 用於製備使用於光學材料製造之多元硫醇化合物的方法
KR101455645B1 (ko) 폴리티올 화합물의 제조 방법 및 이를 포함하는 광학재료용 중합성 조성물
EP3514187B1 (en) Polythiol composition for a plastic optical lens
KR101788168B1 (ko) 광학 재료용 내부 이형제 및 이를 포함하는 중합성 조성물
US10899867B2 (en) Polythiol composition for plastic optical lens
US10669367B2 (en) Polythiol composition for plastic lens
KR101883814B1 (ko) 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물
KR101814724B1 (ko) 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물
KR101813258B1 (ko) 광학 재료용 실록산 티올 올리고머
KR101870380B1 (ko) 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물
KR101791221B1 (ko) 광학 재료용 방향족 폴리티올 화합물
KR20160130883A (ko) 티오에폭시계 광학재료의 제조방법과 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물
KR20190079956A (ko) 광학 재료용 중합성 조성물
KR101883811B1 (ko) 광학 재료용 실록산 티올 올리고머
KR102150592B1 (ko) 광학 재료용 중합성 조성물
KR102003056B1 (ko) 플라스틱 착색 렌즈 및 이의 제조방법
KR101913739B1 (ko) 내충격성이 우수한 광학 재료용 에스터 티올 화합물
KR20190061709A (ko) 블루잉제를 포함하는 중합성 조성물
KR101859739B1 (ko) 내충격성이 우수한 광학 재료용 에스터 티올 화합물
KR20190095214A (ko) 블루잉제를 포함하는 중합성 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant