KR101816327B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR101816327B1
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가부시키가이샤 니콘
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Abstract

기판 처리 장치는, 띠 모양의 시트 기판을 제1 방향으로 반송하는 반송부와, 시트 기판 중, 제1 방향에 교차하는 제2 방향의 복수의 구간에 대해서 처리를 각각 행하는 복수의 처리부와, 복수의 처리부의 각각에 대응하여 마련되며, 시트 기판을 지지하는 스테이지 장치를 구비한다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING DEVICE}
본 발명은, 기판 처리 장치에 관한 것이다.
디스플레이 장치 등의 표시 장치를 구성하는 표시 소자로서, 예를 들면 액정 표시 소자, 유기 전계 발광(유기 EL) 소자, 전자 페이퍼(paper)에 이용되는 전기 영동(泳動) 소자 등이 알려져 있다. 현재, 이들의 표시 소자로서, 기판 표면에 박막 트랜지스터로 불리는 스위칭 소자(Thin Film Transistor:TFT)를 형성한 후, 그 위에 각각의 표시 디바이스를 형성하는 능동적 소자(액티브 디바이스)가 주류가 되어오고 있다.
근년(近年)에는, 시트 모양의 기판(예를 들면 필름 부재 등) 상에 표시 소자를 형성하는 기술이 제안되고 있다. 이와 같은 기술로서, 예를 들면 롤·투·롤 방식(이하, 단지 「롤 방식」이라고 표기함)으로 불리는 수법이 알려져 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조). 롤 방식은, 기판 공급측의 공급용 롤러에 감긴 1매의 시트 모양의 기판(예를 들면, 띠 모양의 필름 부재)을 송출함과 아울러 송출된 기판을 기판 회수측의 회수용 롤러로 권취하면서 기판을 반송한다.
그리고, 기판이 송출되고 나서 권취될 때까지의 사이에, 예를 들면 복수의 반송 롤러 등을 이용하여 기판을 반송하면서, 복수의 처리 장치를 이용하여, TFT를 구성하는 게이트 전극, 게이트 산화막, 반도체막, 소스·드레인 전극 등을 형성하고, 기판의 피처리면 상에 표시 소자의 구성 요소를 순차 형성한다. 예를 들면, 유기 EL 소자를 형성하는 경우에는, 발광층, 양극, 음극, 전기 회로 등을 기판 상에 순차 형성한다. 근년에는, 대형의 표시 소자가 요구되는 것이 많아지고 있기 때문에, 보다 큰 치수의 기판을 이용할 필요가 생기고 있다.
특허 문헌 1 : 국제공개 제2006/100868호
그렇지만, 기판의 반송 방향에 대한 직교 방향(기판의 방향)에서의 기판의 치수가 크게 되면, 예를 들면 반송 중에 해당 폭 방향으로 기판이 휠 우려가 있다. 이와 같은 기판의 휨은, 예를 들면, 기판의 피처리면에 형성하는 표시 소자의 각 구성 요소의 위치 맞춤 정밀도의 저하 등의 원인이 되는 경우가 있다.
본 발명의 형태는, 기판의 치수에 의하지 않고 해당 기판의 피처리면에 대한 처리 정밀도를 고정밀도로 행할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 형태에 따르면, 띠 모양의 시트 기판을 제1 방향으로 반송하는 반송부와, 시트 기판 중, 제1 방향에 교차하는 제2 방향의 복수의 구간에 대해서 처리를 각각 행하는 복수의 처리부와, 복수의 처리부의 각각에 대응하여 마련되며, 시트 기판을 지지하는 스테이지 장치를 구비하는 기판 처리 장치가 제공된다.
본 발명의 형태에 의하면, 기판의 치수에 의하지 않고 해당 기판 상에 고정밀도로 처리를 행할 수 있다.
도 1은 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면.
도 2는 본 실시 형태에 관한 스테이지 장치의 구성을 나타내는 도면.
도 3은 본 실시 형태에 관한 노광 장치 및 스테이지 장치의 구성을 나타내는 도면.
도 4는 본 실시 형태에 관한 노광 장치 및 스테이지 장치의 구성을 나타내는 도면.
도 5는 본 실시 형태에 관한 노광 장치 및 스테이지 장치의 구성을 나타내는 도면.
도 6은 노광 장치의 노광 동작을 나타내는 도면.
도 7은 노광 장치 및 스테이지 장치의 얼라이먼트 동작을 나타내는 도면.
도 8은 스테이지 장치와 시트 기판과의 사이의 얼라이먼트 동작을 나타내는 도면.
도 9는 스테이지 장치와 노광 장치와의 사이의 얼라이먼트 동작을 나타내는 도면.
도 10은 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 다른 구성을 나타내는 도면.
도 11은 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 다른 구성을 나타내는 도면.
도 12는 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 다른 구성을 나타내는 도면.
도 13은 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 다른 구성을 나타내는 도면.
도 14는 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 다른 구성을 나타내는 도면.
이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 형태를 설명한다.  
도 1은, 실시 형태에 관한 기판 처리 장치(FPA)의 구성을 나타내는 도면이다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치(FPA)는, 시트 기판(예를 들면, 띠 모양의 필름 부재, FB)을 공급하는 기판 공급부(SU), 시트 기판(FB)의 표면(피처리면)에 대해서 처리를 행하는 기판 처리부(PR), 시트 기판(FB)을 회수하는 기판 회수부(CL), 및, 이들의 각 부를 제어하는 제어부(CONT)를 가지고 있다. 기판 처리 장치(FPA)는, 예를 들면 공장 등에 설치된다.
기판 처리 장치(FPA)는, 기판 공급부(SU)로부터 시트 기판(FB)이 송출되고 나서, 기판 회수부(CL)에서 시트 기판(FB)을 회수할 때까지의 사이에, 시트 기판(FB)의 표면에 각종 처리를 실행하는 롤·투·롤 방식(이하, 단지 「롤 방식」이라고 표기함)의 장치이다. 기판 처리 장치(FPA)는, 시트 기판(FB) 상에 예를 들면 유기 EL소자, 액정 표시 소자 등의 표시 소자(전자 디바이스)를 형성하는 경우에 이용할 수 있다. 물론, 처리 장치(FPA)는, 이들의 소자 이외의 소자를 형성하는 경우에도 이용할 수 있다.
기판 처리 장치(FPA)에서 처리 대상이 되는 시트 기판(FB)으로서는, 예를 들면 수지 필름이나 스테인리스 강 등의 박(포일(foil))을 이용할 수 있다. 예를 들면, 수지 필름은, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리에스테르 수지, 에틸렌 비닐 공중합체 수지, 폴리염화비닐 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 아세트산 비닐 수지 등의 재료를 이용할 수 있다.
시트 기판(FB)의 Y 방향(짧은 방향)의 치수는 예를 들면 1m ~ 2m 정도로 형성되어 있으며, X 방향(긴 방향)의 치수는 예를 들면 10m 이상으로 형성되어 있다. 물론, 이 치수는 일례에 불과하며, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 시트 기판(FB)의 Y 방향의 치수가 1m 이하, 또는 50cm 이하라도 상관없고, 2m 이상이라도 상관없다. 본 실시 형태에서는, Y 방향의 치수가 2m를 넘는 시트 기판(FB)이라도 매우 적합하게 이용된다. 또, 시트 기판(FB)의 X 방향의 치수가 10m 이하라도 상관없다.
시트 기판(FB)은, 예를 들면 가요성을 가지도록 형성되어 있다. 여기서 가요성이란, 예를 들면 기판에 적어도 자중(自重) 정도의 소정의 힘을 가해도 단선하거나 파단하거나 하는 것은 아니고, 해당 기판을 휘게 하는 것이 가능한 성질을 말한다. 또, 예를 들면 상기 소정의 힘에 의해서 굴곡하는 성질도 가요성에 포함된다. 또, 상기 가요성은, 해당 기판의 재질, 크기, 두께, 또는 온도 등의 환경 등에 따라 바뀐다. 또한, 시트 기판(FB)으로서는, 1매의 띠 모양의 기판을 이용해도 상관없지만, 복수의 단위 기판을 접속하여 띠 모양으로 형성되는 구성으로 해도 상관없다.
시트 기판(FB)은, 비교적 고온(예를 들면 200℃ 정도)의 열을 받아도 치수가 실질적으로 변하지 않는 것(열변형이 작음)과 같이 열팽창 계수가 비교적 작은 것이 바람직하다. 예를 들면, 무기 필러(filler)를 수지 필름에 혼합하여 열팽창 계수를 작게 할 수 있다. 무기 필러의 예로서는, 산화 티탄, 산화 아연, 알루미나, 산화 규소 등을 들 수 있다.
기판 공급부(SU)는, 예를 들면 롤 모양으로 감긴 시트 기판(FB)을 기판 처리부(PR)로 송출하여 공급한다. 기판 공급부(SU)에는, 예를 들면 시트 기판(FB)을 휘감는 축부나 해당 축부를 회전시키는 회전 구동원 등이 마련되어 있다. 대체적 및/또는 추가적으로, 기판 공급부(SU)는, 예를 들면 롤 모양으로 감긴 상태의 시트 기판(FB)을 덮는 커버부 등이 마련된 구성이라도 상관없다.
기판 회수부(CL)는, 기판 처리부(PR)로부터의 시트 기판(FB)을 예를 들면 롤 모양으로 권취하여 회수한다. 기판 회수부(CL)에는, 기판 공급부(SU)와 마찬가지로, 시트 기판(FB)을 감기 위한 축부나 해당 축부를 회전시키는 회전 구동원, 회수한 시트 기판(FB)을 덮는 커버부 등이 마련되어 있다. 대체적 및/또는 추가적으로, 기판 처리부(PR)에서 시트 기판(FB)이 예를 들면 패널(panel) 모양으로 절단되는 경우 등에는 예를 들면 시트 기판(FB)을 겹친 상태로 회수하는 등, 기판 회수부(CL)는, 롤 모양으로 감은 상태와는 다른 상태로 시트 기판(FB)을 회수하는 구성이라도 상관없다.
기판 처리부(PR)는, 기판 공급부(SU)로부터 공급되는 시트 기판(FB)을 기판 회수부(CL)로 반송함과 아울러, 반송 과정에서 시트 기판(FB)의 피처리면(Fp)에 대해서 처리를 행한다. 기판 처리부(PR)는, 예를 들면 처리 장치(10), 반송 장치(30) 및 얼라이먼트 장치(50) 등을 가지고 있다.
처리 장치(10)는, 시트 기판(FB)의 피처리면(Fp)에 대해서 예를 들면 유기 EL소자를 형성하기 위한 각종 처리부를 가지고 있다. 이와 같은 처리부로서는, 예를 들면 피처리면(Fp) 상에 격벽을 형성하기 위한 격벽 형성 장치, 유기 EL소자를 구동하기 위한 전극을 형성하기 위한 전극 형성 장치, 발광층을 형성하기 위한 발광층 형성 장치 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 액적(液滴) 도포 장치(예를 들면 잉크젯형 도포 장치, 스핀 코트(spin coat)형 도포 장치 등), 증착 장치, 스퍼터링(sputtering) 장치 등의 성막 장치나, 노광 장치, 현상 장치, 표면 개질 장치, 세정 장치 등을 들 수 있다. 이들의 각 장치는, 예를 들면 시트 기판(FB)의 반송 경로 상에 적절히 마련되어 있다. 예를 들면, 2 이상의 처리 장치를 반송 방향을 따라서 배치할 수 있다.
반송 장치(30)는, 기판 처리부(PR) 내에서 예를 들면 시트 기판(FB)을 기판 회수부(CL)를 향하여 반송하는 롤러 장치(R)를 가지고 있다. 롤러 장치(R)는, 시트 기판(FB)의 반송 경로를 따라서 예를 들면 복수 마련되어 있다. 복수의 롤러 장치(R) 중 적어도 일부의 롤러 장치(R)에는, 구동 기구(미도시)가 장착되어 있다. 이와 같은 롤러 장치(R)가 회전하는 것에 의해, 시트 기판(FB)이 X축 방향으로 반송되도록 되어 있다. 복수의 롤러 장치(R) 중 예를 들면 일부의 롤러 장치(R)가 반송 방향과 직교하는 방향으로 이동 가능하게 마련된 구성이라도 상관없다. 또한, 본 실시 형태에서는, 시트 기판(FB)의 반송 방향에 관해서, 처리 장치(10)의 하류 측에, 한 쌍의 롤러 장치(R)를 마련하고 있다. 이 한 쌍의 롤러 장치(R)는, 시트 기판(FB)의 표면 및 이면(裏面)에 접촉함과 아울러, 시트 기판(FB)의 적어도 일부를 끼워 넣도록 구성되어 있다.
얼라이먼트 장치(50)는, 시트 기판(FB)의 양단부에 마련된 얼라이먼트 마크(기판 마크)를 검출하고, 그 검출 결과에 근거하여, 처리 장치(10)에 대한 시트 기판(FB)의 얼라이먼트 동작을 행한다. 얼라이먼트 장치(50)는, 시트 기판(FB)에 마련된 얼라이먼트 마크를 검출하는 얼라이먼트 카메라(81)와, 해당 얼라이먼트 카메라(81)의 검출 결과에 근거하여 시트 기판(FB)을 예를 들면 X 방향, Y 방향, Z 방향, θX 방향, θY 방향 및 θZ 방향 중 적어도 하나의 방향으로 미세 조정하는 조정 기구(52)를 가지고 있다.
본 실시 형태에서는, 시트 기판(FB)의 피처리면을 처리하는 처리 장치(10)로서, 예를 들면 노광 장치(10A) 및 노광 장치(10B)를 이용하는 경우를 예로 들어 설명한다. 본 실시 형태에서는, 시트 기판(FB)의 표면(피처리면)측의 스페이스에 처리 장치(10, 노광 장치(10A 및 10B))를 배치하고, 시트 기판(FB)의 이면측의 스페이스에, 스테이지 장치(FST)가 마련되어 있다. 본 실시 형태에서, 스테이지 장치(FST)는, 시트 기판(FB)의 이면을 지지하고, 노광 장치(10A 및 10B)에 의해서 처리되는 시트 기판(FB)의 피처리면을 안내한다.
도 2는, 스테이지 장치(FST)의 구성을 나타내는 사시도이다.  
도 2에 나타내는 바와 같이, 스테이지 장치(FST)는, 본체부(70)와, 콘케이브 롤러(concave roller, 71 및 72)와, 흡착 롤러(73 및 74)와, 지지 테이블(75)을 가지고 있다. 본체부(70)는, 반송 장치(30)의 베이스(미도시)에 고정되는 직사각형 모양의 하층부(70a), 하층부(70a)의 상면에, 간격을 두고 배치되는 한 쌍의 기둥 모양부(70b), 기둥 모양부(70b) 상에 고정되는 상층부(70c)를 가지고 있다. 그리고, 하층부(70a)의 상면과 상층부(70c)와 한 쌍의 기둥 모양부(70b)와의 사이에는 공간(70d)이 형성되어 있다. 콘케이브 롤러(71 및 72), 흡착 롤러(73 및 74), 지지 테이블(75)의 각각은, 본체부(70)의 상층부(70c) 상에 마련되어 있다. 또한, 콘케이브 롤러(71 및 72), 흡착 롤러(73 및 74), 지지 테이블(75)은, 시트 기판(FB)의 반송 방향으로, 콘케이브 롤러(71), 흡착 롤러(73), 지지 테이블(75), 흡착 롤러(74), 콘케이브 롤러(72)의 순으로 배치되어 있다. 즉, 지지 테이블(75)은, 흡착 롤러(73)와 흡착 롤러(74)와의 사이에 배치된다.
콘케이브 롤러(71 및 72)는, 상층부(70c) 상의 예를 들면 X 방향의 양단부에 배치되어 있다. 콘케이브 롤러(71 및 72)는, 예를 들면 Y축을 중심축으로 하여 θY 방향으로 회전 가능하게 마련되어 있다. 콘케이브 롤러(71 및 72)는, 예를 들면 Y 방향의 양단부에서 중앙부에 도달함에 따라, 지름이 서서히 작아지도록 형성되어 있다. 이와 같이 회전축 방향으로 지름의 분포를 형성함으로써, 시트 기판(FB)의 주름이 형성되기 어렵게 되어 있다.
지지 테이블(75)은, 상층부(70c) 상의 예를 들면 X 방향의 중앙부에 배치되어 있다. 지지 테이블(75)은, 예를 들면 -Z 방향에서 볼 때 직사각형으로 형성되어 있다. 이 지지 테이블(75)은, 시트 기판(FB)의 폭 방향(Y 방향)으로, 예를 들면 3개의 지지면(75a ~ 75c)으로 분할되어 있다. 각 지지면(75a ~ 75c)은, 예를 들면 평탄하게 형성되어 있으며, 예를 들면 XY 평면에 평행하게 형성되어 있다. 이들 3개의 지지면(75a ~ 75c)에서 시트 기판(FB)이 지지된다.
지지면(75a)과 지지면(75b)과의 사이, 지지면(75b)과 지지면(75c)과의 사이는, 각각 상층부(70c)의 +Z측의 면이 노출된 상태로 되어 있다. 상층부(70c)의 해당 노출 부분(75d)의 각각에는, 스테이지 기준 마크(기준 마크, SFM)가 마련되어 있다. 이 2개의 스테이지 기준 마크(SFM)는, 예를 들면 X 방향의 위치가 일치하도록 배치되어 있다.
또한, 도 2에는, 2개의 스테이지 기준 마크(SFM)만이 나타내어져 있지만, 각 지지면(75a, 75b, 75c)마다, 즉, 각 지지면을 Y 방향에 관해서 사이에 두도록, 한 쌍의 스테이지 기준 마크(SFM)를 마련해도 좋다. 이 경우, 지지면(75a)과 지지면(75b)과의 사이에 마련되는 스테이지 기준 마크(SFM)를 지지면(75a) 및 지지면(75b)에서 공용 마크로서, 또, 지지면(75b)과 지지면(75c)과의 사이에 마련되는 스테이지 기준 마크(SFM)를 지지면(75b) 및 지지면(75c)에서 공용 마크로서 이용해도 괜찮다.
상층부(70c)와 하층부(70a)와 기둥 모양부(70b)로 형성되는 공간(70d)에는, 해당 스테이지 기준 마크(SFM)를 검출하는 검출 카메라(DC)가 마련되어 있다. 검출 카메라(DC)는, Z 방향에서 볼 때 예를 들면 각각의 스테이지 기준 마크(SFM)에 겹치는 위치에 마련되어 있다. 상층부(70c) 중, 적어도 스테이지 기준 마크(SFM)가 마련된 부분의 -Z측은, 검출 카메라(DC)에 의한 검출광이 통과 가능하도록 개구가 마련되어 있다. 각 검출 카메라(DC)의 검출 결과는, 예를 들면 제어부(CONT)에 송신되어 처리되도록 되어 있다.
흡착 롤러(73)는, 상층부(70c) 상에, 지지 테이블(75)과 콘케이브 롤러(71)와의 사이에 배치되어 있다. 흡착 롤러(73 및 74)는, 콘케이브 롤러(71 및 72)와 마찬가지로, 예를 들면 Y축을 중심축으로 하여 회전 가능하게 마련되어 있다.
흡착 롤러(73 및 74)는, 각각, 분할 구조를 가지며, 회전축 방향(Y 방향)으로 복수로 분할되어 있다. 본 실시 형태에서는, 흡착 롤러(73)는, 3개로 분할된 롤러 부분(73a ~73c)을 가진다. 마찬가지로, 흡착 롤러(74)는, 3개로 분할된 롤러 부분(74a ~74c)을 가진다. 흡착 롤러(73)의 롤러 부분(73a ~73c) 및 흡착 롤러(74a)의 롤러 부분(74a ~74c)은, 각각 서로 착탈 가능하게 연결되며, 각 롤러 부분마다 교환 가능하게 마련되어 있다.
즉, 이들의 롤러 부분을 1개씩 상층부(70c) 상으로부터 떼어내어, 다른 롤러 부분을 장착할 수 있도록 되어 있다. 따라서, 예를 들면 Y 방향의 치수가 다른 롤러 부분으로 교환하거나, 예를 들면 형상이 다른 롤러 부분이나, 지름이 다른 롤러 부분 등으로 교환하거나 할 수 있도록 되어 있다. 또, 흡착 롤러(73)나 흡착 롤러(74) 중 모든 롤러 부분을 교환시킬 수도 있고, 일부(여기에서는 1개 또는 2개)의 롤러 부분만을 교환시킬 수도 있다.
본 실시 형태에서는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 흡착 롤러(73) 중 예를 들면 Y 방향의 중앙부에 배치된 롤러 부분(73c)의 표면에는, 원주 방향으로 홈부(76 및 77)가 형성되어 있다. 홈부(76)는, 롤러 부분(73c)의 Y 방향의 양단부에 각각 형성되어 있다. 홈부(77)는, 롤러 부분(73c) 중 2개의 홈부(76)의 사이에 복수 개 형성되어 있다.
홈부(76) 및 홈부(77)는, 각각 롤러 부분(73c)의 1주(周)에 걸쳐 형성되어 있다. 홈부(76)와 홈부(77)의 홈의 폭은, 다른 치수로 형성되어 있다. 예를 들면, 홈부(76)의 Y 방향의 치수가 수mm 이상으로 형성되며, 홈부(77)의 Y 방향의 치수가 수㎛ 정도로 형성되어 있다. 롤러 부분(73c)에 시트 기판(FB)의 이면이 접촉한 경우, 시트 기판(FB)의 일부가 예를 들면 홈부(76)로 깊숙이 들어가, 휨 부분(Fa)이 형성된다. 시트 기판(FB)의 Y 방향의 양단에 휨 부분(Fa)이 형성되는 것에 의해, 해당 휨 부분(Fa)의 사이 부분에서는 시트 기판(FB)이 홈부(76)측으로 끌려가게 된다. 이 때문에, 휨 부분(Fa)의 사이 부분, 즉, 홈부(76) 사이에 있는 시트 기판(FB)의 장력이 증가하여, 시트 기판(FB)의 평탄성이 향상되게 되고, 시트 기판(FB)과 롤러 부분(73c)과의 사이의 흡착성이 향상된다. 또한, 홈부(77)는, 롤러 부분(73c)이 Y축을 중심으로 회전할 때에, 시트 기판(FB)과 롤러 부분(73c)과의 사이의 공기의 도피로가 된다. 이 때문에, 시트 기판(FB)과 롤러 부분(73c)이 밀착하여, 분리되기 어려워진다.
도 4는, 처리 장치(10, 노광 장치(10A) 및 노광 장치(10B)) 및 스테이지 장치(FST)의 구성에 대해서, 반송 장치(30)의 측방(側防, +Y 방향)으로부터 보았을 때의 도면이다. 도 5는, 처리 장치(10) 및 스테이지 장치(FST)의 구성을 상측(+Z 방향)으로부터 보았을 때의 도면이다.
도 4에 나타내는 바와 같이, 노광 장치(10A) 및 노광 장치(10B)는, 각각, 소정의 패턴을 가지는 마스크(M)를 유지하는 마스크 스테이지(MST)와, 마스크(M)를 노광광(露光光, EL)으로 조명하는 조명 광학계(IL)와, 노광광(EL)으로 조명된 마스크(M)의 소정의 조명 영역 내의 패턴의 상(像)을 시트 기판(FB)의 피처리면에 투영하는 투영 광학계(PL)를 구비하고 있다. 이 투영 광학계(PL)는, 양측(또는 시트 기판(FB)에 편측(片側)) 텔레센트릭(telecentric) 투영 광학계(PL)를 통하여, 시트 기판(FB)의 피처리면 내의 노광 영역에 소정의 투영 배율(예를 들면, 등배(等倍), 1/4배, 1/5배 등)로 투영된다. 마스크 스테이지(MST), 조명 광학계(IL) 및 투영 광학계(PL)의 동작은, 예를 들면 제어부(CONT)에 의해서 제어되도록 되어 있다.
도 4에 나타내는 바와 같이, 노광 장치(10A) 및 노광 장치(10B)는, 각각, 소정의 패턴을 가지는 마스크(M)를 유지하면서 이동 가능한 마스크 스테이지(MST)와, 마스크(M)를 노광광(EL)으로 조명하는 조명 광학계(IL)와, 노광광(EL)으로 조명된 마스크(M)의 패턴의 상을 시트 기판(FB)에 투영하는 투영 광학계(PL)를 구비하고 있다. 마스크 스테이지(MST), 조명 광학계(IL) 및 투영 광학계(PL)의 동작은, 예를 들면 제어부(CONT)에 의해서 제어되도록 되어 있다.
조명 광학계(IL)는, 마스크(M) 상의 소정의 조명 영역을 균일한 조도 분포의 노광광(EL)으로 조명한다. 조명 광학계(IL)로부터 사출(射出)되는 노광광(EL)으로서는, 예를 들면 수은 램프로부터 사출되는 휘선(輝線, g선, h선, i선) 등이 이용된다. 마스크 스테이지(MST)는, 스테이지 구동부(11)에 의해서, 미도시한 마스크 베이스의 상면(XY 평면에 평행한 면)에, X 방향으로 일정 속도로 이동 가능하게, 또한 적어도 Y 방향, Z 방향, θZ 방향으로 이동 가능하게 마련되어 있다.
마스크 스테이지(MST)의 2차원적인 위치는 미도시한 레이저 간섭계에 의해서 계측되며, 이 계측 정보에 근거하여 제어부(CONT)가 스테이지 구동부(11)를 통하여 마스크 스테이지(MST)의 위치 및 속도를 제어한다. 투영 광학계(PL)는, 조명 광학계(IL)와 지지 테이블(75)과의 사이, 즉, 마스크 스테이지(MST)의 -Z측에 배치되어 있다. 투영 광학계(PL)는, 예를 들면 미도시한 고정 부재에 고정되어 있다. 투영 광학계(PL)는, 마스크(M)의 패턴의 상이 예를 들면 스테이지 장치(FST) 중 지지 테이블(75) 상의 시트 기판(FB)의 피처리면에 투영되도록 배치되어 있다.
노광 장치(10A 및 10B)는, 조명 광학계(IL)로부터 사출되는 노광광(EL)을 이용하여 마스크(M)의 패턴의 일부의 투영 광학계(PL)에 의해서 형성되는 상을 시트 기판(FB) 상에 투영하면서, X 방향으로 마스크 스테이지(MST)와 시트 기판(FB)을 투영 배율을 속도비로서 동기(同期)하여 이동함으로써, 시트 기판(FB)의 피처리 영역(Fp)에서의 노광 영역을 노광할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 시트 기판(FB)의 표면(피처리면) 중, 1개의 피처리 영역(Fp)에 대한 마스크(M)의 패턴의 노광이 종료한 후, 다음의 피처리 영역의 노광을 행하기 전에, 마스크 스테이지(MST)를 -X 방향으로 이동시킨다. 그리고, 다시 X 방향으로 마스크 스테이지(MST)와 시트 기판(FB)을 동기시켜, 다음의 피처리 영역에서의 노광 영역의 노광을 행한다.
이와 같이 X 방향으로 연속 반송되는 시트 기판(FB)에 대해서, 마스크(M)를 X 방향으로 동기 이동시킴과 아울러, 1개의 피처리 영역이 종료한 후, 마스크(M)를 -X 방향으로 이동시키는 동작을 반복하는 것에 의해서, 시트 기판(FB)의 복수의 피처리 영역에 마스크(M)의 패턴의 상을 노광할 수 있다.
또한, 도 5에 나타내는 바와 같이, 노광 장치(10A)는, 2개의 투영 광학계(PL1 및 PL2)를 가지고 있다. 노광 장치(10A)의 2개의 투영 광학계(PL1 및 PL2)는, 예를 들면 Y 방향으로 간격을 두고 배치되어 있다. 노광 장치(10A)는, 시트 기판(FB)의 피처리면 중, 폭 방향(Y 방향)으로 떨어진 2개의 투영 영역(EA1) 및 투영 영역(EA2)에 패턴의 상을 투영할 수 있다. 또한, 본 실시 형태에서, 이 2개의 투영 영역(EA1 및 EA2)의 형상은, 사다리꼴 형상으로 형성되어 있다. 본 실시 형태에서는, 노광 장치(10A)에 의해서 시트 기판(FB)의 피처리면 중, 폭 방향에 관해서 중앙부(중앙 구간)를 제외하는 양단부(2개의 횡 구간)가 노광되게 된다. 또한, 투영 광학계(PL1 및 PL2)는, X 방향의 위치가 일치하도록 배치되어 있다. 이 때문에, 투영 광학계(PL1 및 PL2)는, Y 방향을 따라서 배치된다.
한편, 노광 장치(10B)는, 1개의 투영 광학계(PL3)를 가지고 있다. 노광 장치(10B)의 투영 광학계(PL3)는, Y 방향에서 노광 장치(10A)의 2개의 투영 광학계(PL1)와 투영 광학계(PL2)와의 사이의 위치에 배치된다. 이 때문에, 노광 장치(10B)의 투영 영역(EA3)은, 상기 노광 장치(10A)의 투영 영역(EA1)과 투영 영역(EA2)과의 사이에 마련되게 된다. 또한, 본 실시 형태에서, 투영 영역(EA3)은, 사다리꼴 형상으로 형성되어 있다. 또, 본 실시 형태에서는, 노광 장치(10B)에 의해서, 시트 기판(FB)의 피처리면 중, 폭 방향에 관한 중앙부가 노광되게 된다.
또, 도 5에 나타내는 바와 같이, 노광 장치(10A)에 대응하는 스테이지 장치(FST)에서의 흡착 롤러(73 및 74)의 롤러 부분은, 시트 기판(FB)의 피처리면 중 투영 영역(EA1) 및 투영 영역(EA2)에 대해서 시트 기판(FB)을 평탄하게 하도록 구성되어 있다. 이 구성은, 도 2에 나타내는 흡착 롤러(73 및 74)의 롤러 부분의 구성과는 다르다.
구체적으로는, 흡착 롤러(73)는, 도 3에 나타내는 롤러 부분(73c)과 마찬가지로, 홈부(76 및 77)가 형성된 롤러 부분(73d 및 73e)을 구비한다. 그리고, 흡착 롤러(73)는, 이 2개의 롤러 부분(73d 및 73e)을 Y 방향으로 서로 연결한 상태로 구비하고 있다. 롤러 부분(73d)은, 투영 영역(EA1)을 Y 방향으로 사이에 두는 위치에 한 쌍의 홈부(76)가 마련되어 있다. 또, 롤러 부분(73e)은, 투영 영역(EA2)을 Y 방향으로 사이에 두는 위치에 한 쌍의 홈부(76)가 마련되어 있다.
마찬가지로, 흡착 롤러(74)는, 도 3에 나타내는 롤러 부분(73c)과 마찬가지로, 홈부(76 및 77)가 형성된 롤러 부분(74d 및 74e)을 구비한다. 그리고, 흡착 롤러(74)는, 이 2개의 롤러 부분(74d 및 74e)을 Y 방향으로 서로 연결한 상태로 구비하고 있다. 롤러 부분(74d)은, 투영 영역(EA1)을 Y 방향으로 사이에 두는 위치에 한 쌍의 홈부(76)가 마련되어 있다. 롤러 부분(74e)은, 투영 영역(EA2)을 Y 방향으로 사이에 두는 위치에 한 쌍의 홈부(76)가 마련되어 있다. 또한, 도 5에 나타내는 바와 같이, 노광 장치(10B)에 대응하는 스테이지 장치(FST)의 구성은, 도 2와 동일한 구성이기 때문에 설명을 생략한다.
스테이지 기준 마크(스테이지 위치 검출용 기준 마크, 기준 마크, SFM)는, 각각 투영 광학계(PL1 ~ PL3)에 대향하도록 마련되어 있다. 예를 들면, 스테이지 기준 마크(SFM)는, 시트 기판(FB)의 반송 방향에 관해서, 노광 장치(10A 및 10B)의 투영 광학계(PL)의 조명 영역의 상류측에 마련된다. 또, 도 4에 나타내는 바와 같이, 노광 장치(10A)에 대응하는 스테이지 장치(FST)에는, 시트 기판(FB) 중 투영 영역(EA1 및 EA2)의 하류측의 노광 상태를 검출하는 검출 카메라(12)가 마련되어 있다. 검출 카메라(12)에 의한 검출 결과는, 예를 들면 제어부(CONT)에 송신되도록 되어 있다.
상기와 같이 구성된 기판 처리 장치(FPA)는, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 롤 방식에 의해서 유기 EL소자, 액정 표시 소자 등의 표시 소자(전자 디바이스)를 제조한다. 이하, 상기 구성의 기판 처리 장치(FPA)를 이용하여 표시 소자를 제조하는 공정을 설명한다.
우선, 롤러에 감겨진 띠 모양의 시트 기판(FB)을 기판 공급부(SU)에 장착한다. 제어부(CONT)는, 이 상태에서 기판 공급부(SU)로부터 해당 시트 기판(FB)이 송출되도록, 롤러를 회전시킨다. 그리고, 기판 처리부(PR)를 통과한 해당 시트 기판(FB)을 기판 회수부(CL)의 롤러로 권취시킨다. 이 기판 공급부(SU) 및 기판 회수부(CL)를 제어함에 의해서, 시트 기판(FB)의 피처리면을 기판 처리부(PR)에 대해서 연속적으로 반송할 수 있다.
제어부(CONT)는, 시트 기판(FB)이 기판 공급부(SU)로부터 송출되고 나서 기판 회수부(CL)에서 권취될 때까지의 사이에, 기판 처리부(PR)의 반송 장치(30)에 의해서 시트 기판(FB)을 해당 기판 처리부(PR) 내에서 적절히 반송시키면서, 처리 장치(10)에 의해서 표시 소자의 구성 요소를 시트 기판(FB) 상에 순차 형성시킨다.
이 공정 중에, 노광 장치(10A 및 10B)에 의해서 처리를 행하는 경우, 예를 들면 도 6에 나타내는 바와 같이, 투영 광학계(PL1)에 의한 투영 영역(EA1)의 -Y측 단부(사다리꼴 형상의 조명 영역에서의 테이퍼(taper) 부분 중 일방(一方))와, 투영 광학계(PL3)에 의한 투영 영역(EA3)의 +Y측 단부(사다리꼴 형상의 조명 영역에서의 테이퍼(taper) 부분 중 일방(一方))가 서로 겹치게 된다. 또, 투영 광학계(PL2)에 의한 투영 영역(EA2)의 +Y측 단부(사다리꼴 형상의 조명 영역에서의 테이퍼(taper) 부분 중 일방(一方))와, 투영 광학계(PL3)에 의한 투영 영역(EA3)의 -Y측 단부(사다리꼴 형상의 조명 영역에서의 테이퍼(taper) 부분 중 타방(他方))가 서로 겹치게 된다.
상기와 같이 구성된 노광 장치(10A 및 10B)를 이용하는 것에 의해, 도 6에 나타내는 바와 같이, 예를 들면 시트 기판(FB)의 피처리면은, 복수의 피처리 영역(복수의 구간, 노광 영역, F1 ~ F5)으로 분할하여 처리가 행해지게 된다. 여기에서는, 노광 영역(F1)은, 투영 영역(EA1)에 투영되는 상만에 인해서 노광되는 부분(구간)이다. 노광 영역(F2)은, 투영 영역(EA1)에 투영되는 상의 일부와 투영 영역(EA3)에 투영되는 상의 일부에 의해서 노광되는 부분(구간)이다. 노광 영역(F3)은, 투영 영역(EA3)에 투영되는 상만에 인해서 노광되는 부분(구간)이다. 노광 영역(F4)은, 투영 영역(EA2)에 투영되는 상의 일부와 투영 영역(EA3)에 투영되는 상의 일부에 의해서 노광되는 부분(구간)이다. 노광 영역(F5)은, 투영 영역(EA2)에 투영되는 상만에 인해서 노광되는 부분(구간)이다.
이와 같이, 각 스테이지 장치(FST)에는, 각각의 투영 영역에 대응하도록 흡착 롤러(73 및 74)에 한 쌍의 홈부(76)가 형성되어 있기 때문에, 예를 들면 홈부(76)에 끼워진 부분에서 시트 기판(FB)의 평면도가 고정밀도로 유지된 상태로 노광 처리가 행해지게 된다. 이 때문에, 본 실시 형태에서는, 시트 기판(FB)의 평탄도를 Y 방향의 전체에 걸쳐 유지할 필요는 없고, 예를 들면 시트 기판(FB)의 일부에 평탄도가 높은 부분을 형성하고, 해당 부분에 대해서 노광을 행하고, 노광 영역을 서로 겹치도록 하고 있다. 이것에 의해, 시트 기판(FB)의 Y 방향의 전체에 고정밀도로 노광 처리가 시행되게 된다.
다음에, 노광 장치(10A) 및 노광 장치(10B)와, 대응하는 각각의 스테이지 장치(FST)와, 시트 기판(FB)과의 사이에서 얼라이먼트를 행하는 동작을 설명한다.  
이 동작에서는, 우선 노광 장치(10A)로 시트 기판(FB)의 노광을 행하기 전에, 스테이지 장치(FST)와 시트 기판(FB)과의 사이에서 얼라이먼트 동작을 행하고, 다음에, 스테이지 장치(FST)와 노광 장치(10A)와의 사이에서 얼라이먼트 동작을 행한다. 또, 노광 장치(10A)에 의한 노광 동작이 종료한 후, 노광 장치(10B)로 시트 기판(FB)의 노광을 행하기 전에, 스테이지 장치(FST)와 시트 기판(FB)과의 사이에서 얼라이먼트 동작을 행하고, 스테이지 장치(FST)와 노광 장치(10B)와의 사이에서 얼라이먼트 동작을 행한다. 이하, 노광 장치(10B)에서의 경우를 예로 들어 얼라이먼트 동작에 대해서 설명한다.
또한, 본 실시 형태에서는, 얼라이먼트 장치(50)에 의해서, 노광 장치(10A)에 대한 시트 기판(FB)의 러프(rough)한 얼라이먼트를 행하고, 스테이지 장치(FST)를 이용하여, 노광 장치(10A) 또는 노광 장치(10B)에 대한 미세한(fine) 얼라이먼트를 행하도록, 얼라이먼트 장치(50)와 스테이지 장치(FST)와의 얼라이먼트 정밀도를 다르게 하는 구성으로 할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 스테이지 장치(FST), 시트 기판(FB) 및 노광 장치(10B)의 사이의 얼라이먼트 동작을 예로 설명한다.
도 7은, 스테이지 장치(FST), 시트 기판(FB) 및 노광 장치(10B)의 사이의 위치 관계를 나타내는 사시도이다. 도 7에 나타내는 바와 같이, 예를 들면 시트 기판(FB)에는, 미리 기판 기준 마크(기판 위치 검출용 기준 마크, 제1 기준 마크, 기판 마크, FFM)를 형성해 둔다. 이 기판 기준 마크(FFM)는, 시트 기판(FB)의 폭 방향에서, 예를 들면 스테이지 장치(FST)의 스테이지 기준 마크(SFM)의 간격에 대응하도록 형성되어 있다.
또, 노광 장치(10B)의 마스크(M)에 마련된 한 쌍의 마스크 기준 마크(처리 위치 검출용 기준 마크, 제2 기준 마크, MFM)의 상은, 투영 광학계(PL3)를 통하여 시트 기판(FB) 상에 투영된다. 본 실시 형태에서의 한 쌍의 기준 마크는, 마스크(M)에 대해서 Y 방향의 단부로서, 마스크 기준 마크(MFM)의 상의 투영 위치가 예를 들면 스테이지 장치(FST)의 스테이지 기준 마크(SFM)의 근방이 되도록 해당 마스크 기준 마크(MFM)가 형성되어 있다.
또한, 노광 장치(10A)에서 이용되는 2개의 마스크(M)에도, Y 방향의 단부로서, 마스크 기준 마크(MFM)의 상의 투영 위치가 예를 들면 스테이지 장치(FST)의 스테이지 기준 마크(SFM)의 근방이 되도록 해당 마스크 기준 마크(MFM)를 형성해도 좋다. 이 경우, 전술한 바와 같이, 지지면(75a)의 Y 방향측 및 지지면(75c)의 -Y 방향측에, 스테이지 기준 마크(SFM)를 마련하면 좋다.
도 8은, 스테이지 장치(FST)와 시트 기판(FB)과의 사이의 얼라이먼트 동작을 나타내는 도면이다.
도 8에 나타내는 바와 같이, 시트 기판(FB)은, 그 표면(피처리면) 중, 예를 들면 표시 소자가 형성되는 피처리 영역(Fpa)을 가지고 있다. 기판 기준 마크(FFM)는, 시트 기판(FB) 중, 예를 들면 해당 피처리 영역(Fpa)으로부터 벗어난 영역(Fpb)에 형성되어 있다. 제어부(CONT)는, 예를 들면 노광 장치(10B)에 의한 노광 처리가 행해지지 않는 타이밍(예를 들면 노광 장치(10A)에 의한 노광 처리가 종료하고, 노광 장치(10B)로 노광 처리를 개시하기 전의 사이 시간)에서 검출 카메라(DC)를 작동시켜, 스테이지 기준 마크(SFM)와 기판 기준 마크(FFM)를 검출시킨다. 제어부(CONT)는, 해당 검출 결과에 근거하여, 스테이지 기준 마크(SFM)와 기판 기준 마크(FFM)와의 사이의 어긋남량 및 그 방향(제1 위치 관계)을 구한다. 제어부(CONT)는, 스테이지 기준 마크(SFM)와 기판 기준 마크(FFM)와의 제1 위치 관계에 근거하여, 시트 기판(FB)을 X 방향 또는 Y 방향으로 이동시킨다. 이 경우, 예를 들면 조정 기구(52)를 이용하여 흡착 롤러(73, 74) 등을 이동시키도록 해도 상관없고, 스테이지 장치(FST) 자체를 이동시키도록 해도 상관없다.
또, 시트 기판(FB)의 이면 중 스테이지 기준 마크(SFM)에 대응하는 부분에 예를 들면 기준 스케일(scale) 등을 형성해 둠으로써, 상시 얼라이먼트 동작을 행하게 하는 것도 가능하다. 이 경우, 시트 기판(FB)의 위치를 연속적으로 검출할 수도 있기 때문에, 예를 들면 시트 기판(FB)의 반송 속도에 맞추어 마스크(M)의 위치 및 이동 속도, 혹은 조명 광학계(IL)의 조도 등을 조정할 수도 있다. 또, 노광 장치(10A)가 구비하는 투영 광학계(PL1) 및 투영 광학계(PL2), 노광 장치(10B)가 구비하는 투영 광학계(PL3)의 각각의 결상(結像) 특성을 개별적으로 조정할 수도 있다.
예를 들면, 시트 기판(FB)의 반송 속도가 일정하지 않은 경우라도, 마스크(M)의 위치 및 이동 속도, 혹은 조명 광학계(IL)의 조도, 투영 광학계의 결상 특성(상 위치, 상면(像面) 형상) 등을 조정하는 것에 의해, 시트 기판(FB)의 반송 속도를 조정하지 않고, 고정밀도의 노광이 행해지게 된다. 또한, 시트 기판(FB)의 위치를 검출하는 구성으로서는, 상기 구성에 한정되지 않고, 별도로 위치 검출 센서 등을 마련하도록 해도 상관없다.
도 9는, 스테이지 장치(FST)와 노광 장치(10B)와의 사이의 얼라이먼트 동작을 나타내는 도면이다. 도 9에 나타내는 바와 같이, 제어부(CONT)는, 검출 카메라(DC)를 작동시켜, 스테이지 기준 마크(SFM)와 마스크 기준 마크(MFM)를 검출시킨다. 제어부(CONT)는, 해당 검출 결과에 근거하여, 스테이지 기준 마크(SFM)와 마스크 기준 마크(MFM)와의 사이의 어긋남량 및 그 방향(제2 위치 관계)을 구한다. 제어부(CONT)는, 스테이지 기준 마크(SFM)와 마스크 기준 마크(MFM)와의 제2 위치 관계에 근거하여, 예를 들면 마스크 스테이지(MST)를 X 방향 또는 Y 방향으로 이동시킨다.
또, 노광 동작에서 노광 영역(F1 ~ F5)을 겹치는 경우, 예를 들면 노광 장치(10A)에 의한 노광 처리를 행한 후, 제어부(CONT)는, 검출 카메라(12)에 의해서, 시트 기판(FB) 상의 가운데, 투영 영역(EA1 및 EA2)의 하류측의 노광 상태를 검출하고, 해당 검출 결과를 이용하여 노광 장치(10B)에 의한 노광 처리를 행하게 할 수 있다. 이 경우, 검출 카메라(12)에 의한 검출 결과를, 얼라이먼트 결과에 반영시킨 다음 마스크 스테이지(MST)를 이동시키도록 해도 상관없다.
이상과 같이, 본 실시 형태에 의하면, 시트 기판(FB)을 X 방향으로 반송하는 반송 장치(30)와, 시트 기판(FB) 중 X 방향에 교차하는 Y 방향으로 분할되는 복수의 피처리 영역(노광 영역, 복수의 구간, F1 ~ F5)의 각각에 대해서 개별적으로 처리를 행하는 복수의 노광 장치(10A 및 10B)와, 해당 노광 장치(10A 및 10B)의 각각에 대응하여 마련되며, 시트 기판(FB)을 지지하는 스테이지 장치를 구비하는 것으로 했으므로, 시트 기판(FB)의 반송 중에 해당 Y 방향으로 시트 기판(FB)이 휘지 않고, 해당 시트 기판(FB) 상에 고정밀도로 처리를 행할 수 있다.
또, 본 실시 형태에 의하면, 노광 장치(10A)로 피처리 영역의 노광 처리를 행한 후, 노광 장치(10B)로 피처리 영역의 노광을 행하기 전에, 스테이지 장치(FST)와 시트 기판(FB)과의 사이의 얼라이먼트, 및 스테이지 장치(FST)와 노광 장치(10B)와의 사이의 얼라이먼트를 행할 수 있으므로, 노광 장치(10A)와 노광 장치(10B)와의 사이에서 시트 기판(FB)의 반송 중에, 시트 기판(FB)의 반송 방향이 어긋나거나, Y 방향으로 휘었다고 해도, 그러한 영향을 저감한 상태에서 노광 처리를 행할 수 있다.
본 발명의 기술 범위는 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 적절히 변경을 더할 수 있다.
상기 실시 형태에서는, 스테이지 장치(FST) 중 XY 평면에 평행한 평탄면을 가지는 지지 테이블(75)에 시트 기판(FB)이 지지된 구성으로 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 도 10에 나타내는 바와 같이, 노광 장치(10A 및 10B)에 대응하는 스테이지로서, 롤러 스테이지(RST)를 이용해도 상관없다. 이 롤러 스테이지(RST)는, 시트 기판(FB)을 반송하면서 안내할 수 있도록 되어 있다.
또, 상기 실시 형태에서 콘케이브 롤러(71, 72)나 흡착 롤러(73, 74) 등의 롤러를 이용하는 경우, 해당 롤러의 일부의 지름을 변화시키도록 해도 상관없다. 예를 들면 도 11에 나타내는 바와 같이, 롤러(RR)가 복수의 롤러 부분(Ra ~ Rc)으로 분할되어 있는 경우(복수의 분할 원주면을 가지는 경우)에는, 해당 롤러 부분(Ra ~ Rc)마다 변형 가능한 구성으로 해도 상관없다. 또, 롤러(RR)가 전체로서 중앙부에 도달할수록 지름이 커지도록 변형 가능한 구성으로 해도 상관없다.
롤러(RR) 또는 롤러 부분(Ra ~ Rc)을 변형시키는 구성으로서는, 예를 들면 롤러의 표면(시트 기판(FB)을 안내하는 안내면)으로서 예를 들면 가요성 부재를 이용하여, 해당 롤러 표면을 변형 가능한 구성으로 한다. 게다가, 롤러 내부의 예를 들면 열, 유압, 공압(空壓) 등을 조정하는 것에 의해 롤러 표면을 변형시키는 구성으로 한다. 이것에 의해, 롤러(RR) 또는 롤러 부분(Ra ~ Rc)을 원하는 형상으로 변형시킬 수 있다. 이와 같이 롤러(RR) 및 롤러 부분(Ra ~ Rc)을 변형시키는 것에 의해, 예를 들면 시트 기판(FB)에 국소적으로 형성되는 주름을 신장시키거나, 시트 기판(FB)의 안내 속도를 변화시키거나 함으로써 해당 시트 기판(FB)의 진행 방향이나 위치 어긋남을 조정할 수 있다.
또, 스테이지 장치(FST)의 지지면(75a, 75b, 75c)에 시트 기판(FB)의 이면을 지지시키기 전에, 시트 기판(FB)의 반송 방향에 관해서, 흡착 롤러(73) 및 흡착 롤러(74)와의 사이의 간격을 서로 가까이하여, 시트 기판(FB)을 느슨해지게 해도 좋다. 시트 기판(FB)을 느슨해지게 하는 것에 의해서, 시트 기판(FB)에 장력이 없는 상태에서, 스테이지 장치(FST)의 지지면(75a, 75b, 75c)에 지지시킬 수 있다. 또, 지지면(75a, 75b, 75c)은, 시트 기판(FB)의 이면을 흡착하는 구성이라도 괜찮다.
또, 상기 실시 형태에서는, 예를 들면 노광 장치(10A)가 2개의 투영 광학계(PL1 및 PL2)를 구비하는 구성이었지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 노광 장치마다 1개의 투영 광학계(1개의 투영 영역(EA))를 가지는 구성이라도 상관없다. 예를 들면 도 12에는, 노광 장치(10A ~ 10D)가 각각 투영 광학계(PL)를 1개씩 가지며, 이들의 투영 광학계(PL)가 Y 방향으로 어긋나도록 배치된 구성이 나타내어지고 있다. 도 12에서, 각 투영 광학계(PL)에 의한 투영 영역(EL4 ~ EL7) 중 인접하는 2개는, Y 방향의 단부에서 서로 겹치도록 배치되어 있다.
또, 예를 들면 도 13에 나타내는 바와 같이, 노광 장치(10A, 10B)에 의한 투영 영역(EA11, EA12, EA21, EA22)과, 노광 장치(10C, 10D)에 의한 투영 영역(EA31, EA32, EA41, EA42)은, 서로 겹치도록 되어 있다. 이와 같이, 시트 기판(FB)의 반송 방향 상류측에 배치되는 노광 장치의 투영 영역과, 하류측에 배치되는 노광 장치의 투영 영역이 겹치는 구성이라도 상관없다.
또, 상기 실시 형태에서는, 흡착 롤러(73, 74)의 홈부(76)는, 예를 들면 투영 영역마다 한 쌍 마련된 구성으로 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 대체적 및/또는 추가적으로, 예를 들면 도 14에 나타내는 바와 같이, 복수의 투영 영역(EA)을 사이에 두도록 한 쌍의 홈부(76)가 마련되는 구성으로 할 수 있다.
또, 상기 설명에서는, 복수의 노광 장치에 의한 투영 영역이 X 방향으로 어긋난 형태를 예로 들어 설명했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 대체적 및/또는 추가적으로, 예를 들면 복수의 노광 장치에 의한 투영 영역이 X 방향으로 일치하도록, 즉 Y 방향으로 일렬로 늘어서도록 구성한 형태를 적용할 수 있다.
또, 상기 설명에서는, 복수의 노광 장치에 대응하여 배치된 스테이지 장치(FST) 모두 제1 검출 기구 및 제2 검출 기구가 마련된 구성으로 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 대체적 및/또는 추가적으로, 일부의 스테이지 장치(FST)에만 제1 검출 기구 및 제2 검출 기구가 마련된 구성으로 할 수 있다.
또, 상기 설명에서는, 처리 장치(10)로서 노광 장치를 예로 들어 설명했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 처리 장치(10)는, 상기 실시 형태에서 든 다른 장치, 예를 들면, 격벽 형성 장치, 전극 형성 장치, 발광층 형성 장치라도 괜찮다. 또, 본 실시 형태에서, 얼라이먼트 장치(50)는, 시트 기판(FB)의 양단부에 마련된 얼라이먼트 마크를 검출하고 있다. 대체적 및/또는 추가적으로, 얼라이먼트 장치(50)는, 기판 기준 마크(FFM)를 검출해도 좋고, 혹은 시트 기판(FB) 중 반송 방향에 평행한 양변(기판(FB)의 엣지)을 검출해도 괜찮다. 대체적 및/또는 추가적으로, 얼라이먼트 마크(기판 마크)는, 복수의 피처리 영역(복수의 구간)마다 마련할 수 있고, 혹은, 복수의 구간 중 1개 또는 2개 이상에 대응하여 장착할 수 있다.
FPA … 기판 처리 장치 FB … 시트 기판
PR … 기판 처리부 CONT … 제어부
Fp … 피처리면 FST … 스테이지 장치
DC … 검출 카메라 M … 마스크
MST … 마스크 스테이지 IL … 조명 광학계
PL … 투영 광학계 CA … 검출 카메라
SFM … 스테이지 기준 마크 FFM … 기판 기준 마크
MFM … 마스크 기준 마크 F1 ~ F5 … 노광 영역
PL(PL1 ~ PL3) … 투영 광학계 EA(EA1 ~ EA42) … 투영 영역
10 … 처리 장치 10A ~ 10D … 노광 장치
11 … 스테이지 구동부 30 … 반송 장치
50 … 얼라이먼트 장치 52 … 조정 기구
71, 72 … 콘케이브 롤러 73, 74 … 흡착 롤러
73a ~ 73e, 74a ~ 74e, Ra ~ Rc … 롤러 부분
75 … 지지 테이블 76 … 홈부

Claims (20)

  1. 가요성(可撓性)을 가지는 띠 모양의 시트 기판을 긴 방향으로 반송하는 롤러를 가지는 반송부와,
    상기 시트 기판의 피(被)처리면 중, 상기 긴 방향과 교차하는 폭 방향에 관하여 분할된 복수의 피처리 영역의 각각에 대해서 소정의 패턴이 노광(露光)되도록, 상기 시트 기판의 상기 폭 방향과 상기 긴 방향 각각으로 간격을 두고 배치되는 복수의 투영 영역을 구비한 처리부와,
    상기 시트 기판의 이면(裏面)측에 배치됨과 아울러, 상기 처리부의 상기 복수의 투영 영역의 각각에 대응하여 상기 폭 방향과 상기 긴 방향 각각으로 분할된 복수의 평탄한 지지면을 가지는 지지 테이블, 혹은 상기 복수의 투영 영역의 각각에 대응하여 상기 긴 방향으로 배치되는 복수의 롤러 스테이지를 구비하며, 상기 지지 테이블의 상기 복수의 지지면, 혹은 상기 복수의 롤러 스테이지에 의해서 상기 시트 기판의 이면을 지지하는 스테이지 장치를 구비하는 기판 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 시트 기판의 상기 긴 방향 및 상기 폭 방향 중 적어도 일방에서의 상기 스테이지 장치와 상기 시트 기판과의 제1 위치 관계를 검출하는 제1 검출 기구와,
    상기 제1 검출 기구의 검출 결과에 근거하여 상기 제1 위치 관계를 조정하는 제1 위치 조정 기구를 더 구비하는 기판 처리 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 스테이지 장치는, 상기 시트 기판을 지지하는 부분에 마련된 기준 마크를 가지며,
    상기 제1 검출 기구는, 상기 기준 마크와 상기 시트 기판에 마련되는 기판 마크를 계측하고, 계측 결과에 근거하여 상기 제1 위치 관계를 검출하는 기판 처리 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 기판 마크는, 상기 복수의 피처리 영역 중 1개 또는 2개 이상에 대응하여 장착되어 있는 기판 처리 장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 제1 검출 기구는, 상기 스테이지 장치에 마련되어 있는 기판 처리 장치.
  6. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 시트 기판의 상기 긴 방향 및 상기 폭 방향 중 적어도 일방에서의 상기 스테이지 장치와 상기 처리부의 상기 복수의 투영 영역과의 제2 위치 관계를 검출하는 제2 검출 기구와,
    상기 제2 검출 기구의 검출 결과에 근거하여 상기 제2 위치 관계를 조정하는 제2 위치 조정 기구를 더 구비하는 기판 처리 장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 스테이지 장치는, 상기 시트 기판을 지지하는 부분에 마련된 제1 기준 마크를 가지고,
    상기 처리부는, 상기 복수의 투영 영역 내의 소정 위치에 제2 기준 마크를 촬영하며,
    상기 제2 검출 기구는, 상기 스테이지 장치의 상기 지지 테이블의 상기 분할된 복수의 지지면의 사이에 마련되어, 상기 제1 기준 마크와 상기 제2 기준 마크를 계측하고, 계측 결과에 근거하여 상기 제2 위치 관계를 검출하는 기판 처리 장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 시트 기판의 상기 피처리면 중 상기 투영 영역에 의해서 노광된 상기 피처리 영역의 처리 상태를 검출하는 처리 상태 검출 기구와,
    상기 처리 상태 검출 기구에 의한 검출 결과에 근거하여, 상기 시트 기판에 대한 상기 처리부의 상기 복수의 투영 영역의 각각에 의한 노광 처리를 제어하는 처리 제어부를 더 구비하는 기판 처리 장치.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 반송부의 상기 롤러는, 상기 시트 기판의 이면 중, 상기 시트 기판 상의 상기 피처리 영역의 상기 폭 방향에서의 단부 중 적어도 일방에 대향하도록 형성되는 홈부를 가지는 기판 처리 장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 롤러의 상기 홈부는, 상기 피처리 영역의 상기 폭 방향에서의 단부의 양쪽 모두에 대향하도록 형성되는 기판 처리 장치.
  11. 청구항 9 또는 청구항 10에 있어서,
    상기 롤러는, 상기 시트 기판 상의 상기 복수의 피처리 영역의 각각에 대응한 분할 구조를 가지는 기판 처리 장치.
  12. 청구항 9 또는 청구항 10에 있어서,
    상기 롤러의 적어도 일부는, 지름 방향의 크기가 변형 가능하게 형성되어 있는 기판 처리 장치.
  13. 청구항 6에 있어서,
    상기 시트 기판의 상기 피처리면 중 상기 투영 영역에 의해서 노광된 상기 피처리 영역의 처리 상태를 검출하는 처리 상태 검출 기구와,
    상기 처리 상태 검출 기구에 의한 검출 결과에 근거하여, 상기 시트 기판에 대한 상기 처리부의 상기 복수의 투영 영역의 각각에 의한 노광 처리를 제어하는 처리 제어부를 더 구비하는 기판 처리 장치.
  14. 가요성을 가지는 띠 모양의 시트 기판을 긴 방향으로 반송하는 롤러를 가지는 반송부와,
    상기 시트 기판의 피(被)처리면 중, 상기 긴 방향과 교차하는 폭 방향에 관하여 분할된 복수의 피처리 영역의 각각에 대해서 소정의 패턴이 노광되도록, 상기 시트 기판의 상기 폭 방향과 상기 긴 방향 각각으로 간격을 두고 배치되는 복수의 투영 영역을 구비한 처리부와,
    상기 시트 기판의 이면측에 배치됨과 아울러, 상기 복수의 투영 영역의 각각 중, 상기 폭 방향에 관하여 서로 이웃하는 투영 영역의 각각을 상기 긴 방향으로 떨어뜨려 배치하는 위치의 각각에 대응하여, 상기 긴 방향으로 떨어져 배치되는 복수의 롤러 스테이지를 포함하며, 상기 복수의 롤러 스테이지의 각각에 의해서 상기 시트 기판의 이면을 지지하는 스테이지 장치를 구비하는 기판 처리 장치.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 시트 기판의 상기 긴 방향 및 상기 폭 방향 중 적어도 일방에서의 상기 스테이지 장치와 상기 시트 기판과의 제1 위치 관계를 검출하는 제1 검출 기구와,
    상기 제1 검출 기구의 검출 결과에 근거하여 상기 제1 위치 관계를 조정하는 제1 위치 조정 기구를 더 구비하는 기판 처리 장치.
  16. 청구항 14에 있어서,
    상기 시트 기판의 상기 긴 방향 및 상기 폭 방향 중 적어도 일방에서의 상기 스테이지 장치와 상기 처리부의 상기 복수의 투영 영역과의 제2 위치 관계를 검출하는 제2 검출 기구와,
    상기 제2 검출 기구의 검출 결과에 근거하여 상기 제2 위치 관계를 조정하는 제2 위치 조정 기구를 더 구비하는 기판 처리 장치.
  17. 청구항 15 또는 청구항 16에 있어서,
    상기 반송부의 상기 롤러는, 상기 시트 기판의 이면 중, 상기 시트 기판 상의 상기 피처리 영역의 상기 폭 방향에서의 단부 중 적어도 일방에 대향하도록 형성되는 홈부를 가지는 기판 처리 장치.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 롤러의 상기 홈부는, 상기 피처리 영역의 상기 폭 방향에서의 단부의 양쪽 모두에 대향하도록 형성되는 기판 처리 장치.
  19. 청구항 17에 있어서,
    상기 롤러는, 상기 시트 기판 상의 상기 복수의 피처리 영역의 각각에 대응한 분할 구조를 가지는 기판 처리 장치.
  20. 청구항 17에 있어서,
    상기 롤러의 적어도 일부는, 지름 방향의 크기가 변형 가능하게 형성되어 있는 기판 처리 장치.
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