KR101623965B1 - 세정용 작업대 - Google Patents

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Abstract

세정용 작업대를 개시한다.
이러한 세정용 작업대는, 내부가 관통된 상태의 챔버를 구비한 챔버하우징이 놓여지는 작업대 본체와, 상기 챔버하우징의 챔버 측에 세정액이 담겨질 수 있는 상태로 상기 챔버하우징을 받쳐줄 수 있도록 상기 작업대 본체 측에 형성되는 받침부와, 상기 받침부와 상기 챔버하우징의 접촉 부분이 시일 상태를 이룰 수 있도록 상기 받침부 측에 형성되는 시일부 그리고, 상기 챔버하우징을 상기 받침부 측에 받쳐진 상태로 고정할 수 있도록 상기 작업대 본체 측에 형성되는 고정구를 구비한 고정부를 포함한다.

Description

세정용 작업대{A WASHING TABLE}
본 발명은 세정용 작업대에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조를 위한 물리기상증착(PVD, 예: 스퍼터링 등) 공정은, 진공분위기의 챔버하우징 내부에서 기체 상태의 증착물질이 고체 상태로 변하는 물리적인 변화 과정을 거쳐서 기판 측에 증착되는 방식으로 진행된다.
PVD 공정에 사용되는 챔버하우징은 주로 원통이나 다각통 형태로 제공되며, 내부의 챔버 측에는 증착물질의 안정적인 증착이 가능하도록 통상의 실드부재(예: 포커스 링)들이 설치될 수 있다.
특히 챔버하우징은 증착 작업 중에 챔버 내부면에 증착물질이 달라붙어서 오염되는 현상이 발생하므로 주기적인 세정 작업이 요구되며, 이러한 챔버하우징의 세정 방법으로는 특허 등록 제10-1421605호가 있다.
하지만, 상기 특허 등록 제10-1421605호는 플라즈마를 발생하기 위한 구조를 챔버 내에 갖춰야 하므로 구조가 복잡할 뿐만 아니라, 제작 및 유지보수 등에 과다한 비용이 소요될 수 있다.
더욱이 플라즈마 세정 방식으로는 PVD 공정에 사용되는 금속 증착물질(예: 알루미늄, 구리)들을 원활하게 제거할 수 없으므로 만족할 만한 세정력을 기대할 수 없고, 플라즈마 세정시 발생하는 잔여 세정 부산물들에 의해 챔버의 2차 오염을 유발하는 문제도 초래할 수 있다.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서,
본 발명의 목적은, 세정액을 이용한 습식(濕式) 세정 방식으로 PVD 챔버하우징의 세정 작업을 간편하게 진행할 수 있는 세정용 작업대를 제공하는데 있다.
상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여,
내부가 관통된 상태의 챔버를 구비한 챔버하우징이 놓여지는 작업대 본체;
상기 챔버하우징의 챔버 측에 세정액이 담겨질 수 있는 상태로 상기 챔버하우징을 받쳐줄 수 있도록 상기 작업대 본체 측에 형성되는 받침부;
상기 받침부와 상기 챔버하우징의 접촉 부분이 시일 상태를 이룰 수 있도록 상기 받침부 측에 형성되는 시일부; 및
상기 챔버하우징을 상기 받침부 측에 받쳐진 상태로 고정할 수 있도록 상기 작업대 본체 측에 형성되는 고정구를 구비한 고정부;
를 포함하는 세정용 작업대를 제공한다.
이와 같은 본 발명은, 작업대 본체 측에 챔버하우징을 간편하게 고정 셋팅한 상태로 챔버 내부에 세정액이 담겨지도록 공급하여 세정액에 의한 습식(濕式) 세정방식으로 챔버의 세정이 이루어질 수 있는 작업대 환경을 제공할 수 있다.
이러한 본 발명의 구조에 의하면, 특히 챔버하우징의 내측(챔버)만 한정적으로 세정이 이루어질 수 있는 작업 환경을 제공할 수 있으므로 예를 들어, 세정 작업 중에 챔버하우징의 외부면이 세정액의 접촉(화학 반응)에 의해 손상되는 것을 방지하여 한층 향상된 세정 작업 안정성 및 신뢰도를 확보할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 세정용 작업대의 전체 구조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2 내지 도 10은 본 발명의 일실시 예에 따른 세정용 작업대의 세부 구조 및 작용을 설명하기 위한 도면들이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명한다.
본 발명의 실시 예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자들이 본 발명의 실시가 가능한 범위 내에서 설명된다.
따라서, 본 발명의 실시 예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있는 것이므로 본 발명의 특허청구범위는 아래에서 설명하는 실시 예들에 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 세정용 작업대의 전체 구조를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2 내지 도 10은 세부 구조 및 작용을 설명하기 위한 도면들로서, 도면 부호 2는 작업대 본체를 지칭한다.
작업대 본체(2)는 챔버하우징(H)이 놓여진 상태로 세정 작업이 진행될 수 있는 구조를 갖도록 형성된다.
작업대 본체(2)는 예를 들어, 도 1에서와 같이 작업면(A)을 구비하고, 이 작업면(A)이 상부에 수평한 상태로 제공되는 작업대 구조를 이루도록 형성될 수 있다.
작업대 본체(2)는 금속이나 합성수지 재질의 판재, 각재들을 통상의 방법으로 가공하거나 연결하여 형성할 수 있다.
그리고, 챔버하우징(H)은, 도 1에서와 같이 원통 형태의 둘레를 가지며, 둘레 내측이 관통되어 양쪽이 개방된 상태의 챔버(H1)를 구비하고, 이 챔버(H1) 측에는 포커스 링과 같은 실드부재(H2)가 설치된 구조로 이루어질 수 있다.
본 발명의 일실시 예에 따른 세정용 작업대는, 받침부(4) 및 시일부(6)를 포함한다.
받침부(4) 및 시일부(6)는 작업대 본체(2) 측에서 챔버하우징(H)을 세정 가능한 상태로 받쳐줄 수 있는 구조를 갖도록 형성된다.
특히, 받침부(4) 및 시일부(6)는 챔버(H1) 내측에 세정액(W)이 담겨질 수 있는 상태로 챔버하우징(H)을 시일 가능하게 받쳐줄 수 있도록 작업대 본체(2) 측에 형성된다.
받침부(4)는 도 2에서와 같이 작업대 본체(2)의 작업면(A) 측에 받침면(B)이 형성된 상태로 제공될 수 있다.
받침면(B)은 챔버하우징(H)의 챔버(H1) 양쪽 개방부 중에서 어느 한쪽 개방부를 차단하는 상태로 챔버하우징(H)을 받쳐줄 수 있는 크기 및 모양을 갖도록 형성된다.
받침면(B)은 챔버하우징(H) 내측에 설치된 실드부재(H2)의 돌출 단부를 수용할 수 있는 상태로 형성된다.
받침부(4)는 배수(排水) 구조를 갖도록 형성될 수 있다.
예를 들어, 도 2에서와 같이 받침부(4) 아래쪽에서 받침면(B)과 대응하는 상태로 배수관(B1) 및 밸브(B2)가 설치될 수 있다.
배수관(B1)은 받침면(B) 일측과 연결되어 세정액(W)을 외부로 배수할 수 있도록 배관되고, 밸브(B2)는 배수관(B1)의 통로를 개폐할 수 있도록 셋팅된다.
그러면, 받침부(4) 측에 챔버하우징(H)이 배치된 상태에서 챔버(H1) 측에 공급된 세정액(W)을 밸브(B2) 조작에 의해 배수관(B1)을 통해 외부로 배수할 수 있다.
시일부(6)는 받침부(4) 측에 챔버하우징(H)이 놓여질 때 이들의 접촉면 틈새를 시일 상태로 유지할 수 있도록 형성된다.
시일부(6)는 도 4에서와 같이 시일부재(C, 예: 고무링)를 구비하고, 이 시일부재(C)는 챔버하우징(H)의 하부 둘레부와 대응하는 상태로 받침부(4)의 받침면(B) 측에 설치된다.
시일부재(C)는 받침부(4) 측에 놓여지는 챔버하우징(H)의 하부 즉, 챔버(H1)의 일측(하측) 개방부 둘레면과 접촉될 수 있는 상태로 배치되어 이들의 접촉 틈새가 시일 상태를 이루도록 할 수 있다.
그러면, 도 2에서와 같이 작업대 본체(2)의 받침부(4) 측에 챔버하우징(H)이 놓여진 상태로 챔버(H1) 내부에 세정액(W)을 공급하더라도 시일이 유지될 수 있으므로 챔버(H1) 측에 세정액(W)이 담겨진 상태로 세정 작업이 진행될 수 있는 시일 환경을 제공할 수 있다.
한편, 본 발명의 일실시 예에 따른 세정용 작업대는, 고정부(8)를 포함한다.
고정부(8)는 작업대 본체(2) 측에 세정이 가능한 상태로 챔버하우징(H)을 고정할 수 있는 구조를 갖도록 형성된다.
고정부(8)는 고정구(D)를 구비하고, 작업대 본체(2) 측에서 고정구(D)가 상,하 방향으로 움직이는 동작에 의해 챔버하우징(H)을 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 형성된다.
고정구(D)는 예를 들어, 도 1 및 도 5에서와 같이 가이드로드(D1) 측에 설치되고, 이 가이드로드(D1)의 조작에 의해 상,하 방향으로 움직일 수 있는 상태로 작업대 본체(2) 측에 셋팅될 수 있다.
그리고, 가이드로드(D1)는 길이방향으로 나사부가 형성되고 로드 축선을 중심으로 회전 조작이 가능한 상태로 작업대 본체(2)의 작업면(A) 측에 일단이 고정되어 세워진 상태로 배치될 수 있다.
가이드로드(D1)는 챔버하우징(H)의 둘레부와 대응하는 상태로 작업대 본체(2)의 작업면(A) 측에 한 군데 이상의 지점에 설치될 수 있으며, 가이드로드(D1) 측에는 고정구(D)가 각각 설치된다.
이러한 고정부(8)의 구조에 의하면, 도 5에서와 같이 가이드로드(D1)를 로드 축선을 중심으로 정,역 회전 조작할 때 고정구(D)가 나사부에 의해 로드 길이방향을 따라 상,하 방향으로 움직이는 상태로 고정 또는 고정 해제 동작이 이루어질 수 있다.
예를 들어, 도 6에서와 같이 가이드로드(D1)를 일방향으로 회전 조작하면, 고정구(D)가 아래쪽을 향하여 움직이면서 챔버하우징(H)의 상부 둘레부를 누르는 상태로 고정 동작된다.
그리고, 도 7에서와 같이 가이드로드(D)를 반대 방향으로 회전 조작하면, 고정구(D)가 위쪽을 향하여 움직이면서 고정 해제 상태로 동작된다.
그러므로, 고정부(8)는 간단한 고정 구조 및 조작 방식에 의해 작업대 본체(2) 측에 세정이 가능한 상태로 챔버하우징(H)을 간편하고 신속하게 고정할 수 있다.
특히, 고정구(D)가 가이드로드(D1)의 조작에 의해 상,하 방향으로 움직이는 상태로 작동이 이루어지면, 챔버하우징(H)의 크기(높이)에 따라 이와 부합하도록 고정구(D)의 위치(높낮이)를 간편하게 셋팅할 수 있으므로 작업 호환성을 높일 수 있다.
도 8 내지 도 9를 참조하면, 본 발명의 일실시 예에 따른 세정용 작업대는, 고정부(8)와 대응하는 지지부(10)를 더 포함할 수 있다.
특히, 지지부(10)는 고정부(8)의 고정 동작시 작동 안정성을 높일 수 있는 지지 구조를 제공할 수 있도록 형성된다.
지지부(10)는 예를 들어, 도 8에서와 같이 두 개의 지지구(E)와, 이 두 개의 지지구(E)를 서로 간격 조절이 가능한 상태로 연결하는 연결로드(E1)를 구비하여 이루어질 수 있다.
두 개의 지지구(E)는 블록 타입으로 형성될 수 있으며, 재질은 합성수지나 금속이 사용될 수 있다.
연결로드(E1)는 길이방향을 따라 나사부가 형성되며, 양쪽 단부는 지지구(E)와 각각 나사 결합으로 연결된 상태로 셋팅된다.
두 개의 지지구(E)는 도 8에서와 같은 방향으로 회전 조작시, 나사부 결합에 의해 연결로드(E1)의 길이방향을 따라 움직이면서 서로 간격이 좁혀지거나 벌어지는 상태로 작동될 수 있다.
이와 같이 두 개의 지지구(E)의 간격 조절이 가능한 구조를 제공하면, 특히 고정구(D)의 작동 위치(높낮이)와 대응하는 지지 간격을 이루도록 간편하게 조절 및 셋팅할 수 있다.
지지부(10)는 도 9에서와 같이 고정부(8)의 고정구(D) 일측 단부로 챔버하우징(H)을 눌러서 고정할 때, 가이드로드(D1)를 사이에 두고 고정구(D)의 타측 단부를 작업대 본체(2) 측에서 받쳐줄 수 있도록 셋팅된다.
그러면, 고정 동작 중에 발생하는 누름 압력에 의해 특히, 고정구(D) 및 가이드로드(D1)가 작업대 본체(2) 상에서 어느 한쪽으로 기울어지는 현상을 억제하여 고정구(D)의 고정 동작이 안정적으로 이루어질 수 있는 지지 환경을 제공할 수 있다.
그리고, 이와 같이 고정 동작이 안정적으로 이루어지면, 고정 동작 중에 고정구(D) 또는 가이드로드(D1)가 변형되거나 파손되는 것을 방지하여 만족할 만한 내구성도 확보할 수 있다.
따라서, 본 발명은 도 10에서와 같이 작업대 본체(2)의 받침부(4) 측에 챔버하우징(H)이 셋팅되어 챔버(H1) 내부에 세정액(W)이 담겨진 상태로 챔버(H1) 및 실드부재(H2)의 세정이 이루어질 수 있는 작업대 구조를 제공할 수 있다.
특히 이러한 작업대 환경은, 챔버하우징(H)의 챔버(H1) 내부에만 세정액(W)이 담겨진 상태로 세정 작업이 진행될 수 있으므로 예를 들어, 세정 작업 중에 세정액(W)이나 약품 등이 챔버하우징(H)의 외부면과 접촉하여 화학 반응에 의해 하우징 외부면이 손상되는 현상을 최대한 방지할 수 있다.
그러므로, 본 발명은 챔버하우징(H)의 외부면을 보호하면서 챔버(H1) 내부 영역만 안정적으로 세정이 이루어질 수 있도록 하여 세정 작업시 만족할 만한 작업 안정성 및 편의성 등을 확보할 수 있는 작업 환경을 제공할 수 있다.
2: 작업대 본체 4: 받침부 6: 시일부
8: 고정부 10: 지지부 H: 챔버하우징
H1: 챔버 W: 세정액

Claims (9)

  1. 내부가 관통된 상태의 챔버를 구비한 챔버하우징이 놓여지는 작업대 본체;
    상기 챔버하우징의 챔버 측에 세정액이 담겨질 수 있는 상태로 상기 챔버하우징을 받쳐줄 수 있도록 상기 작업대 본체 측에 형성되는 받침부;
    상기 받침부와 상기 챔버하우징의 접촉 부분이 시일 상태를 이룰 수 있도록 상기 받침부 측에 형성되는 시일부; 및
    상기 챔버하우징을 상기 받침부 측에 받쳐진 상태로 고정할 수 있도록 상기 작업대 본체 측에 형성되는 고정구를 구비한 고정부;
    상기 고정부의 고정구를 받침 상태로 지지하기 위한 두 개의 지지구와, 이 두 개의 지지구를 서로 간격 조절이 가능한 상태로 연결하는 연결로드를 구비한 지지부;
    를 포함하는 세정용 작업대.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 받침부는,
    상기 챔버하우징과 대응하는 받침면을 구비하고,
    상기 받침면은,
    상기 챔버의 일측 개방부가 차단될 수 있는 상태로 상기 챔버하우징을 받쳐줄 수 있도록 상기 작업대 본체 측에 형성되는 세정용 작업대.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 시일부는,
    상기 챔버하우징과 대응하는 시일부재를 구비하고,
    상기 시일부재는,
    상기 챔버하우징과 상기 받침부의 접촉 부분 틈새 사이에 위치될 수 있는 상태로 상기 받침부 측에 형성되는 세정용 작업대.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 시일부재는,
    고무링을 사용하는 세정용 작업대.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 고정부는,
    상기 작업대 본체 측에 배치되는 가이드로드를 더 구비하고, 이 가이드로드의 조작에 의해 로드 길이방향을 따라 상기 고정구가 움직이면서 상기 챔버하우징의 고정 또는 고정 해제 동작이 이루어지도록 셋팅되는 세정용 작업대.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 가이드로드는,
    로드 길이방향을 따라 형성된 나사부를 구비하고 상기 작업대 본체 측에 세워진 상태로 배치되어 로드 축선을 중심으로 정,역 회전 조작시 상기 고정구가 상기 나사부에 의해 로드 길이방향을 따라 움직이는 상태로 고정 또는 고정 해제 동작이 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정용 작업대.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 고정부는,
    상기 작업대 본체 측에서 상기 챔버하우징과 대응하는 상태로 한 군데 이상의 지점에 형성되는 세정용 작업대.
  8. 삭제
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 연결로드는,
    로드 길이방향을 따라 나사부가 형성되고, 양쪽 단부 측에 상기 지지구가 각각 나사 결합으로 연결 설치되는 세정용 작업대.
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