KR101375202B1 - Combustion-type exhaust gas treatment apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 연소식 배기가스처리장치는 가스를 무해하게 만들기 위하여 연소에 의해 유해한 배기가스를 처리하는 데 사용된다. 본 발명은 이러한 연소식 배기가스처리장치를 제공한다. 이 처리장치는 연소처리부, 냉각부 및 세척부를 포함한다. 상기 연소처리부는 배기가스처리연소기, 금속으로 제조되어 거친 내측면을 구비한 본체 및 상기 본체의 내측면 상에 수막을 형성하도록 되어 있는 수막형성기구를 포함한다. 상기 배기가스의 연소처리는 본체 내에서 행해진다.

Figure R1020070124919

The combustion exhaust gas treating apparatus according to the present invention is used to treat harmful exhaust gases by combustion in order to make the gas harmless. The present invention provides such a combustion exhaust gas treatment apparatus. The treatment apparatus includes a combustion treatment section, a cooling section and a washing section. The combustion treatment unit includes an exhaust gas treating combustion machine, a body made of metal having a rough inner surface, and a water film forming mechanism configured to form a water film on the inner surface of the body. The combustion treatment of the exhaust gas is performed in the main body.

Figure R1020070124919

Description

연소식배기가스처리장치{COMBUSTION-TYPE EXHAUST GAS TREATMENT APPARATUS}Combustion Exhaust Gas Treatment System {COMBUSTION-TYPE EXHAUST GAS TREATMENT APPARATUS}

본 발명은 배기가스를 무해하게 만들기 위하여 연소에 의해, 예컨대 실란 가스(SiH4) 또는 할로겐 가스(NF3, ClF3, SF6, CHF3, C2F6, CF4 등)를 함유하는 유해한 가연성 배기가스를 처리하기 위한 연소식 배기가스처리장치에 관한 것이다.The present invention is detrimental by combustion, for example containing silane gas (SiH 4 ) or halogen gas (NF 3 , ClF 3 , SF 6 , CHF 3 , C 2 F 6 , CF 4, etc.) to make the exhaust gases harmless. A combustion exhaust gas treatment apparatus for treating combustible exhaust gas.

반도체제조장치는 예컨대 실란 가스(SiH4) 또는 할로겐 가스(NF3, ClF3, SF6, CHF3, C2F6, CF4)와 같은 유해한 가연성 배기가스를 포함하는 가스를 배출한다. 이러한 배기가스는 대기 속으로 배출될 수 없다. 따라서, 배기가스는 일반적으로 처리장치로 도입되어, 여기서 상기 배기가스를 무해하게 만들기 위하여 연소에 의해 산화된다. 널리 사용되는 이러한 타입의 처리 방법은, 일본특허공개공보 제11-218317호에 개시된 바와 같이, 배기가스가 불꽃(flame)에 의해 연소되는 노에서 불꽃을 형성하는 데 연소지원가스(combustion-supporting gas)가 사용되는 것이다.The semiconductor manufacturing apparatus discharges gas containing harmful flammable exhaust gases such as silane gas (SiH 4 ) or halogen gas (NF 3 , ClF 3 , SF 6 , CHF 3 , C 2 F 6 , CF 4 ). Such exhaust gases cannot be released into the atmosphere. Thus, the exhaust gas is generally introduced into a treatment apparatus where it is oxidized by combustion to make the exhaust gas harmless. A treatment method of this type which is widely used is a combustion-supporting gas for forming a flame in a furnace in which exhaust gas is burned by a flame, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-218317. ) Is used.

반도체 산업 및 액정 산업에서 사용하기 위한 연소식 배기가스처리장치는 배기가스의 연소 처리의 부산물로서 대량의 먼지(주로 SiO2)와 대량의 산성 가스를 배출시킬 가능성이 있다. 결과적으로, 처리부로부터의 먼지를 제거하기 위하여 정규 유지보수 작업이 요구되거나, 또는 연소처리실의 원통형 본체의 내측면에 부착되어 그 위에 퇴적된 먼지를 정규적으로 긁어내기 위하여 스크래퍼와 같은 추가 기구가 요구된다.Combustion type exhaust gas treating apparatuses for use in the semiconductor industry and the liquid crystal industry have a possibility of emitting a large amount of dust (mainly SiO 2 ) and a large amount of acid gas as a by-product of the combustion treatment of exhaust gas. As a result, regular maintenance work is required to remove dust from the treatment section, or additional mechanisms, such as scrapers, are required to regularly scrape dust deposited on and deposited on the inner surface of the cylindrical body of the combustion treatment chamber. .

부착되어 퇴적된 먼지는 주로 SiO2(이산화규소)로 이루어져 있다. 하지만, SiO2 이외에도, 상기 먼지는 그와 혼합된 독성 먼지를 가질 수도 있다. 상기 먼지는 0.1 마이크로미터 내지 수십 마이크로미터의 범위에 있는 여러 직경을 가진다. 더욱이, 상기 먼지는 큰 블럭으로 존재할 수도 있다. 결과적으로, 먼지를 흡입하여 건강을 해치지 못하도록 먼지-제거 유지보수의 작업상 안정성을 보장할 필요가 있게 된다.Attached and deposited dust consists mainly of SiO 2 (silicon dioxide). However, in addition to SiO 2 , the dust may also have toxic dust mixed with it. The dust has several diameters ranging from 0.1 micrometers to tens of micrometers. Moreover, the dust may be present in large blocks. As a result, there is a need to ensure the operational stability of the dust-removal maintenance to prevent inhalation of dust and harm to health.

스크래핑 기구를 제공하는 경우, 구성요소의 수가 증가된다. 그 결과, 제품의 제조비용이 증가하고, 상기 스크래핑 기구의 교체도 정규적으로 필요하게 되어, 운영비가 증가하게 된다.In the case of providing a scraping mechanism, the number of components is increased. As a result, the manufacturing cost of the product increases, and the replacement of the scraping mechanism is also regularly required, which increases the operating cost.

연소처리실 내의 연소가스의 온도는 대략 1700℃ 정도로 높기 때문에, 알루미나계 글래스 세라믹과 같은 내열성 재료가 상기 연소처리실을 둘러싸는 원통형 본체로 사용된다. 하지만, 연소처리실의 온도가 높고, 불소 또는 염소 가스가 존재한다면, 상기 원통형 본체의 내측면이 부식되어 마멸될 수도 있다. 그러므로, 원통형 본체를 정규적으로 교체할 필요가 있다. 이러한 고비용의 원통형 본체의 교체는 비용을 초래하고, 시간-소모형 유지보수를 필요로 한다.Since the temperature of the combustion gas in the combustion chamber is as high as about 1700 ° C, a heat resistant material such as alumina-based glass ceramic is used as the cylindrical body surrounding the combustion chamber. However, if the temperature of the combustion chamber is high and fluorine or chlorine gas is present, the inner surface of the cylindrical body may be corroded and worn. Therefore, it is necessary to replace the cylindrical body regularly. Replacement of these expensive cylindrical bodies is costly and requires time-consuming maintenance.

본 발명은 상기 단점들의 관점에서 고안되었다. 그러므로, 본 발명의 목적은 연소처리실을 둘러싸는 저렴한 본체용 재료를 사용할 수 있고, 상기 연소처리실의 내측면에 먼지가 부착되는 것을 방지할 수 있으며, 상기 연소처리실의 내측면이 부식성 가스에 의해 손상을 입는 것을 막을 수 있고, 시간-소모형 유지보수와 유지보수비용을 줄일 수 있는 연소식 배기가스처리장치를 제공하는 것이다.The present invention has been devised in view of the above disadvantages. Therefore, it is an object of the present invention to use an inexpensive body material surrounding the combustion chamber, to prevent dust from adhering to the inner surface of the combustion chamber, and to damage the inner surface of the combustion chamber by corrosive gas. It is possible to provide a combustion exhaust gas treatment apparatus which can prevent wear, and reduce time-consuming maintenance and maintenance costs.

본 발명에 따른 연소식 배기가스처리장치는, 배기가스에 대한 연소 처리를 행하기 위한 연소처리부, 상기 연소처리부에서 처리된 배기가스를 냉각하기 위한 냉각부 및 상기 연소 처리에 의해 생성되는 부산물을 제거하기 위하여 상기 배기가스를 물로 세척하기 위한 세척부를 포함한다. 상기 연소처리부는 배기가스처리연소기(exhaust-gas treatment combustor), 금속으로 제조되어 거친(roughened) 내측면을 구비한 본체 및 상기 본체의 상기 내측면 상에 수막을 형성하도록 되어 있는 수막형성기구를 포함한다. 상기 배기가스의 연소 처리는 상기 본체 내에서 행해진다.The combustion type exhaust gas treating apparatus according to the present invention includes a combustion processing unit for performing combustion processing on exhaust gas, a cooling unit for cooling the exhaust gas treated in the combustion processing unit, and a by-product generated by the combustion processing. It includes a washing unit for washing the exhaust gas with water to. The combustion treatment unit includes an exhaust-gas treatment combustor, a body made of metal having a roughened inner side, and a water film forming mechanism configured to form a water film on the inner side of the body. do. The combustion treatment of the exhaust gas is performed in the main body.

상술된 바와 같이, 본 발명은 거친 내측면을 구비한 금속 본체를 포함하는 연소식 배기가스처리장치를 제공하므로, 배기가스가 본체 내에서 연소에 의해 처리되게 된다. 상기 본체의 내측면 상에 형성되는 수막은 내수성 구조를 제공한다. 그러므로, 스테인리스강과 같은 저비용의 재료가 상기 본체를 형성하는 데 사용될 수 있다. 더욱이, 본체의 내측면 상에 형성되는 수막은 먼지를 세척할 수 있어, 본체의 내측면에 먼지가 들러붙는 것을 방지하게 된다. 나아가, 수막은 부식성 가스를 세척할 수 있으므로, 상기 본체의 내측면이 손상을 입지 않게 된다. 그 결과, 스테인리스강과 같은 저비용의 재료가 본체를 형성하는 데 사용될 수 있으므로, 상기 본체의 제조 비용 자체를 낮출 수 있게 된다. 또한, 시간-소모형 유지보수와 유지보수비용도 절감할 수 있다.As described above, the present invention provides a combustion type exhaust gas treatment apparatus including a metal body having a rough inner surface, so that the exhaust gas is treated by combustion in the body. The water film formed on the inner side of the body provides a water resistant structure. Therefore, low cost materials such as stainless steel can be used to form the body. Moreover, the water film formed on the inner side of the main body can wash the dust, thereby preventing the dust from adhering to the inner side of the main body. Furthermore, since the water film can wash away the corrosive gas, the inner surface of the main body is not damaged. As a result, a low cost material such as stainless steel can be used to form the body, thereby lowering the manufacturing cost itself of the body. It also reduces time-consuming maintenance and maintenance costs.

이하, 본 발명의 실시예들을 도면들을 참조하여 설명하기로 한다. 도면에서, 동일한 기능 또는 구조를 갖는 구성요소 또는 요소들은 동일한 도면 부호들로 표시되어 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the figures, components or elements having the same function or structure are denoted by the same reference numerals.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 연소식 배기가스처리장치의 연소처리부를 도시한 단면도이다. 상기 연소처리부(11)는 배기가스처리연소기(12)를 포함하여 이루어진다. 배기가스는 노즐(13)을 통해 공급된 후, 에어노즐(14)을 통해 공급되는 공기의 소용돌이류와 그리고 연소지원가스노즐(15)을 통해 공급되는 연소지원가스와 혼합된다. 상기 혼합물이 연소되어 불꽃(17)을 형성하게 된다. 원통형 본체(18)에 의해 둘러싸인 연소처리실(불꽃유지실)(19)이 상기 불꽃(17)의 하류에 제공된다. 배기가스의 연소 및 처리는 상기 연소처리실(19)에서 진행된다. 배기가스처리연소기(12)와 원통형 본체(18) 사이에 수류 플랜지(water-flow flange; 20)가 제공되어, 상기 원통형 본체(18)의 내측면을 따라 아래로 물이 유동하게 됨으로써, 상기 원통형 본체(18)의 내측면 상에 수막(A)을 형성하게 된다.1 is a cross-sectional view showing a combustion treatment unit of a combustion type exhaust gas treating apparatus according to an embodiment of the present invention. The combustion treatment unit 11 includes an exhaust gas treatment combustor 12. After the exhaust gas is supplied through the nozzle 13, the exhaust gas is mixed with the swirl flow of air supplied through the air nozzle 14 and the combustion support gas supplied through the combustion support gas nozzle 15. The mixture is combusted to form a flame 17. A combustion treatment chamber (flame holding chamber) 19 surrounded by the cylindrical body 18 is provided downstream of the flame 17. Combustion and treatment of the exhaust gas proceed in the combustion treatment chamber 19. A water-flow flange 20 is provided between the exhaust gas treating combustor 12 and the cylindrical body 18 so that water flows down along the inner surface of the cylindrical body 18 so that the cylindrical The water film A is formed on the inner surface of the main body 18.

본 실시예에 있어서는, 원통형 본체(18)를 형성하는 데 스테인리스강이 사용된다. 상기 원통형 본체(18)의 내측면은 거친 표면(roughened surface)을 포함하여 이루어진다. 상기 원통형 본체(18)의 내측면이 거칠기 때문에, 상기 내측면의 젖음성(wettability)이 개선되므로, 균일한 수막이 그 전체로 상기 내측면 상에 형성될 수 있게 된다. 소수성 재료인 스테인리스강이 미러-피니쉬(mirror-finished) 내측면을 가진다면, 그 위에 물방울이 형성되기 쉽다. 이에 따라, 균일한 수막을 그 전체로 내측면 상에 형성하는 것이 어렵게 된다. 상기 원통형 본체(18)의 내측면은 그 전체로 거칠기 때문에, 워터 브레이크(water break)없이 원통형 본체(18)의 전체로 상기 내측면 상에 안정한 수막이 형성될 수 있다.In this embodiment, stainless steel is used to form the cylindrical body 18. The inner side of the cylindrical body 18 comprises a roughened surface. Since the inner surface of the cylindrical body 18 is rough, the wettability of the inner surface is improved, so that a uniform water film can be formed on the inner surface as a whole. If the hydrophobic material stainless steel has a mirror-finished inner surface, water droplets are likely to form thereon. Thereby, it becomes difficult to form a uniform water film on the inner side as a whole. Since the inner surface of the cylindrical body 18 is rough in its entirety, a stable water film can be formed on the inner surface of the cylindrical body 18 entirely without water break.

상기 거친 표면은 압축공기 또는 원심력을 이용하여 표면에 대해 고속으로 연마제(예컨대, 샌드 또는 글래스 비즈)를 분사하여 원하는 거칠기로 러프면을 형성하는 방법인 블라스팅(blasting)에 의해 형성될 수 있다. 상기 거친 표면은 툴의 수직방향-선형 운동과 워크피스의 공급 운동의 조합에 의해 워크피스를 스크래핑하는 스플라인법 또는 다수의 블레이드를 이용하는 컷팅(브로칭)과 같은 머시닝에 의해 형성될 수도 있다. 대안적으로, 상기 거친 표면은 피클링(pickling) 또는 친수성 코팅와 같은 표면 처리에 의해 형성될 수도 있다. 피클링은 화학액(예컨대, 질산, 플루오르화수소산, 염산, 황산)에 워크피스를 침지시키고, 워크피스를 화학액으로부터 제거하며, 워크피스를 물로 세척하고, 워크피스를 건조시켜 행해진다. 친수성 코팅은 유리섬유, 실리콘 폴리머 또는 Teflon(등록상표)과 같은 친수성막으로 내측면을 코팅하여 행해진다.The rough surface may be formed by blasting, which is a method of spraying an abrasive (eg sand or glass beads) at high speed on the surface using compressed air or centrifugal force to form a rough surface with a desired roughness. The rough surface may be formed by machining, such as a spline method of scraping a workpiece by a combination of vertical-linear movement of the tool and feeding movement of the workpiece or cutting (broaching) using multiple blades. Alternatively, the rough surface may be formed by surface treatment such as pickling or hydrophilic coating. Pickling is done by immersing the workpiece in a chemical liquid (eg, nitric acid, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid), removing the workpiece from the chemical liquid, washing the workpiece with water, and drying the workpiece. Hydrophilic coating is performed by coating the inner side with a hydrophilic film such as glass fiber, silicone polymer or Teflon®.

배기가스의 분해를 위한 바람직한 온도는 적어도 1700℃ 이다. 그러므로, 연소처리실(19) 내의 온도가 1700℃ 정도로 유지된다. 수류 플랜지(20)로부터 공급되는 수량은 수막(A)이 적어도 2 mm 의 두께를 갖도록 조정된다. 두께가 적어도 2 mm 인 수막(A)은 내열성 구조를 제공할 수 있으므로, 원통형 본체(18)의 온도가 실질적으로 통상 온도(50℃ 보다 높지 않음)로 유지되게 된다. 그러므로, 고비용의 알루미나계 글래스 세라믹 대신에, 스테인리스강과 같은 저비용 재료가 원통형 본체(18)로 사용될 수 있다. 수류 플랜지(20) 내의 수온이 30℃ 이면, 원통형 본체(18)의 유출구에서의 수온이 수십도 이하일 수도 있다.The preferred temperature for the decomposition of the exhaust gas is at least 1700 ° C. Therefore, the temperature in the combustion chamber 19 is maintained at about 1700 ° C. The amount of water supplied from the water flow flange 20 is adjusted so that the water film A has a thickness of at least 2 mm. The water film A having a thickness of at least 2 mm can provide a heat resistant structure, so that the temperature of the cylindrical body 18 is maintained at substantially normal temperature (not higher than 50 ° C). Therefore, instead of the expensive alumina-based glass ceramics, a low cost material such as stainless steel can be used as the cylindrical body 18. If the water temperature in the water flow flange 20 is 30 degreeC, the water temperature in the outlet of the cylindrical main body 18 may be tens of degrees or less.

연소처리실(19) 내의 생성된 먼지가 원통형 본체(18)의 내측면에 접근하면, 수막(A)이 먼지를 세척하게 되어, 먼지가 원통형 본체(18)의 내측면에 들러붙는 것을 방지하게 된다. 이와 유사하게, 부식성 가스의 분자들이 상기 원통형 본체(18)의 내측면에 접근하면, 상기 수막(A)이 부식성 가스의 분자를 세척해 버린다. 예를 들어, 플루오르 부산물이 연소 처리 시에 생성되면, 이러한 플루오르 부산물은 상기 원통형 본체(18)의 내측면에 손상을 입히지 않는 묽은 플루오르화수소산이 된다. 그러므로, 스테인리스강과 같은 저비용의 재료가 원통형 본체(18)에 사용되더라도, 먼지가 내측면에 들러붙지 않고, 상기 내측면이 산화 가스에 의해 부식되지 않는다. 그 결과, 시간-소모형 유지보수와 유지보수비용이 크게 절감될 수 있게 된다.When the generated dust in the combustion chamber 19 approaches the inner surface of the cylindrical body 18, the water film A washes the dust, thereby preventing the dust from sticking to the inner surface of the cylindrical body 18. . Similarly, when molecules of corrosive gas approach the inner side of the cylindrical body 18, the water film A washes off the molecules of corrosive gas. For example, if fluorine by-products are produced during the combustion treatment, these fluorine by-products become dilute hydrofluoric acid, which does not damage the inner surface of the cylindrical body 18. Therefore, even if a low cost material such as stainless steel is used for the cylindrical body 18, dust does not stick to the inner side, and the inner side is not corroded by oxidizing gas. As a result, time-consuming maintenance and maintenance costs can be significantly reduced.

도 1에서, 원통형 본체(18)의 내측면은 상기 원통형 본체(18)의 상단부로부터 하단부까지 내부 직경이 일정한 원통형이다. 대안적으로, 상기 원통형 본 체(weir; 18)의 내측면은 상기 원통형 본체(18)의 상단부로부터 하단부까지 내부 직경의 크기가 점진적으로 감소하는 원뿔형일 수도 있다. 상기 원통형 모양은 연소처리실로부터 용접된 부분을 제거하여, 워터 브레이크를 피할 수 있고, 상기 원통형 본체의 생산을 단순화시켜 제조 비용을 절감하는 장점을 가진다. 상기 원뿔형 모양은 그 테이퍼진 형상으로 인하여 수막이 용이하게 형성된다는 장점을 가진다. 다른 한편으로, 상기 원뿔형 모양은 워터 브레이크를 발생시키지 않기 위해 숙련된 용접 기술을 필요로 하므로, 제조 비용이 증가될 수도 있다.In FIG. 1, the inner surface of the cylindrical body 18 is cylindrical with a constant internal diameter from the upper end to the lower end of the cylindrical body 18. Alternatively, the inner side of the cylindrical weir 18 may be conical, with the size of the inner diameter gradually decreasing from the upper end to the lower end of the cylindrical body 18. The cylindrical shape has the advantage of eliminating the welded portion from the combustion treatment chamber, avoiding water breaks, and simplifying the production of the cylindrical body, thereby reducing manufacturing costs. The conical shape has the advantage that the water film is easily formed due to its tapered shape. On the other hand, the conical shape requires skilled welding techniques in order not to generate water brakes, so manufacturing costs may be increased.

도 2 내지 도 10은 원통형 본체의 내측면 상에 수막을 형성하기 위한 기구의 예시들을 보여준다.2-10 show examples of mechanisms for forming a water film on the inner side of a cylindrical body.

도 2는 수류 플랜지(수막형성기구)(20)의 일 례를 도시한 단면도이다. 상기 수막형성기구(20)의 예시는 환형수조(annular water reservoir; 24) 및 위어(18a)를 포함하여 이루어진다. 상기 위어(18a)는 상기 수조(24)의 일부분을 형성한다. 상기 위어(18a)는 높이가 균일한 최상부를 구비한다. 그러므로, 균일한 두께를 갖는 균일한 수막이 원통형 본체(18)의 내측면 상에 형성될 수 있다. 도 3은 만곡된 내부 탑 에지를 구비한 원통형 위어(18b)를 보여준다. 이러한 수막형성기구의 예시의 기본 구조는 도 2에 것과 동일하다. 상기 예시는 위어(18b)를 넘쳐 흐르는 물의 원활한 흐름을 형성할 수 있다.2 is a cross-sectional view showing an example of a water flow flange (water film forming mechanism) 20. An example of the water film forming apparatus 20 includes an annular water reservoir 24 and a weir 18a. The weir 18a forms part of the water tank 24. The weir 18a has a top having a uniform height. Therefore, a uniform water film having a uniform thickness can be formed on the inner side of the cylindrical body 18. 3 shows a cylindrical weir 18b with a curved inner top edge. The basic structure of an example of such a film forming mechanism is the same as that in FIG. The example may form a smooth flow of water flowing over the weir 18b.

도 4는 도 2의 수정예로서, L 형상의 단면을 갖는 최상부를 구비한 위어(18c)를 보여준다. 상기 수막형성기구의 예시는 환형수조(24) 및 위어(18c)를 포함하여 이루어진다. 상기 위어(18c)는 상기 수조(24)의 일부분을 형성한다. 도 5는 만곡된 내부 탑 에지(top edge)를 구비하면서 L 형상의 단면을 갖는 최상부를 구비한 원통형 위어(18d)를 보여준다. 이러한 수막형성기구의 예시의 기본 구조는 도 4에 도시된 것과 동일하다. 도 6은 원통형 배주(33)가 원통형 위어(18e)의 방사상 안쪽으로 제공되고, 상기 위어(18e)와 원통형 부재(33) 사이의 작은 갭을 통해 물이 아래로 흐르는 일 례를 보여준다. 이러한 수막형성기구의 예시는 환형수조(24), 위어(18e) 및 원통형 부재(33)를 포함하여 이루어진다. 상기 위어(18e)는 상기 수조(24)의 일부분을 형성한다.FIG. 4 shows a weir 18c having a top portion with an L-shaped cross section as a modification of FIG. 2. An example of the film forming mechanism includes an annular water tank 24 and a weir 18c. The weir 18c forms part of the water tank 24. Figure 5 shows a cylindrical weir 18d having a top with a curved inner top edge and an L-shaped cross section. The basic structure of an example of such a film forming mechanism is the same as that shown in FIG. FIG. 6 shows an example in which a cylindrical vessel 33 is provided radially inward of the cylindrical weir 18e and water flows down through a small gap between the weir 18e and the cylindrical member 33. An example of such a film forming mechanism includes an annular water tank 24, a weir 18e and a cylindrical member 33. The weir 18e forms part of the water tank 24.

도 7a 및 도 7b는 직사각형의 개구(20f)가 원통형 위어(18f)의 최상부 아래쪽에 형성되어, 물이 상기 개구(20f)를 통해 원통형 본체(18)의 내측면으로 흐르도록 하는 일 례를 보여준다. 이러한 수막형성기구의 예시는 환형수조(24), 위어(18f) 및 상기 위어(18f)에 형성된 직사각형 개구(20f)를 포함하여 이루어진다. 도 8a 및 도 8b는 원통형 본체(18)의 내주면 상에 나선류를 형성하도록 물이 흘러 나가는 유출구(20g)를 보여준다. 이러한 수막형성기구의 예시는 원통형 본체(18)의 내측면에 형성된 복수의 유출구(20g)를 포함하여 이루어진다. 보다 구체적으로, 상기 유출구(20g)는 원통형 본체(18)의 내주면을 따라 수평 방향으로 유동하는 물을 형성한다. 복수의 유출구(20g)가 제공되기 때문에, 균일한 두께를 갖는 수막이 원통형 본체(18)의 내주면 상에 형성된다. 도 9a 내지 도 9c는 원통형 본체(18)의 내주면 상에 나선류를 형성하도록 물이 흘러 나가는 유출구(20h)를 보여준다. 이러한 수막형성기구의 예시는 환형수조(24) 및 상기 원통형 본체(18)의 내측면에 형성된 수직방향-세장형(vertically-elongated) 유출구(20h)를 포함하여 이루어진다. 각각 의 유출구(20h)는 한 쪽이 개방된 직사각형이므로, 상기 직사각형 유출구(20h) 자체를 커버하는 수막을 형성하도록 접선 방향으로 물이 수평방향으로 흘러 나가게 된다.7A and 7B show an example in which a rectangular opening 20f is formed below the uppermost portion of the cylindrical weir 18f so that water flows through the opening 20f to the inner side of the cylindrical body 18. . An example of such a film forming mechanism includes an annular water tank 24, a weir 18f and a rectangular opening 20f formed in the weir 18f. 8A and 8B show an outlet 20g through which water flows to form a spiral flow on the inner circumferential surface of the cylindrical body 18. An example of such a water film forming mechanism includes a plurality of outlets 20g formed on the inner surface of the cylindrical body 18. More specifically, the outlet 20g forms water flowing in the horizontal direction along the inner circumferential surface of the cylindrical body 18. Since a plurality of outlets 20g are provided, a water film having a uniform thickness is formed on the inner circumferential surface of the cylindrical body 18. 9A-9C show an outlet 20h through which water flows to form a spiral flow on the inner circumferential surface of the cylindrical body 18. An example of such a water film forming mechanism comprises an annular water tank 24 and a vertically-elongated outlet 20h formed in the inner surface of the cylindrical body 18. Since each outlet 20h is an open rectangle, water flows in a tangential direction in a horizontal direction to form a water film covering the rectangular outlet 20h itself.

도 10a 및 도 10b는 물이 위어(18i)를 흘러 넘쳐 나선류를 형성하도록 상기 수조(24)에 소용돌이류를 형성하기 위하여 접선 방향으로부터 수조(24) 안으로 물이 공급되는 일 례를 보여준다. 이러한 수막형성기구의 예시는 환형수조(24), 위어(18i) 및 상기 수조(24)의 접선 방향으로부터 상기 수조(24) 안으로 물을 공급하기 위한 1이상의 공급구(20i)를 포함하여 이루어진다. 상기 위어(18i)는 상기 수조(24)의 일부분을 형성한다. 상기 공급구(20i)를 통해 수조(24)로 물이 공급되면, 상기 물의 소용돌이류가 상기 수조(24)에서 형성된다. 그 결과, 상기 수조(24) 내의 수위가 그 원주 방향 전반에 걸쳐 균일하게 증가되고, 물이 원통형 본체(18)의 내측면 상으로 균일하게 위어(18i)를 넘쳐 흐르게 된다. 1이상의 공급구(20i)가 제공될 수 있다. 단 하나의 공급구(20i)가 제공되더라도, 물의 소용돌이류가 상기 수조(24) 내에 형성될 수 있다. 그러므로, 균일한 수막이 상기 원통형 본체(18)의 내측면 상에 형성될 수 있다. 이러한 예시에 따르면, 원통형 본체(18)가 배기가스처리장치(10)의 설치 조건으로 인해 수평방향으로부터 소정의 각도(예컨대, 높이 대 길이가 1 cm 대 200 cm 가 되는 기울기)로 기울어지더라도, 균일한 수막이 안정하게 형성될 수 있다.10A and 10B show an example in which water is supplied from the tangential direction into the water tank 24 to form a vortex in the water tank 24 so that water flows through the weir 18i to form a spiral flow. An example of such a water film forming mechanism includes an annular water tank 24, a weir 18i and one or more supply ports 20i for supplying water into the water tank 24 from the tangential direction of the water tank 24. The weir 18i forms part of the bath 24. When water is supplied to the water tank 24 through the supply port 20i, a swirl of water is formed in the water tank 24. As a result, the water level in the water tank 24 is increased uniformly throughout its circumferential direction, and water flows evenly over the weir 18i onto the inner surface of the cylindrical body 18. One or more supply ports 20i may be provided. Even if only one feed port 20i is provided, a swirl of water can be formed in the bath 24. Therefore, a uniform water film can be formed on the inner side of the cylindrical body 18. According to this example, even if the cylindrical body 18 is inclined at a predetermined angle (for example, inclination of height to length of 1 cm to 200 cm) from the horizontal direction due to the installation condition of the exhaust gas treating apparatus 10, Uniform water film can be formed stably.

도 11은 연소식 배기가스처리장치(10)의 전체 구조 예시이다. 연료 및 산소가 관(35, 36)을 통해 프리믹서(premixer; 37)로 공급되어, 상기 연료와 산소가 서 로 혼합됨으로써 미리 섞인 연료를 형성하게 된다. 이러한 미리 섞인 연료는 관(38)을 통해 연소처리부(11)로 공급된다. 배기가스를 연소(즉, 산화)시키기 위한 산소원으로서의 역할을 하는 공기는 관(39)을 통해 연소처리부(11)로 공급된다.11 shows an example of the overall structure of the combustion type exhaust gas treating apparatus 10. Fuel and oxygen are supplied to the premixer 37 through the pipes 35 and 36, and the fuel and oxygen are mixed with each other to form a premixed fuel. This premixed fuel is supplied to the combustion treatment unit 11 through the pipe 38. Air, which serves as an oxygen source for burning (ie, oxidizing) the exhaust gas, is supplied to the combustion processing unit 11 through the pipe 39.

상기 연소식 배기가스처리장치(10)는 연소 처리를 겪은 배기가스를 냉각시키기 위한 냉각부(21) 및 상기 원통형 본체(18)의 내측면 상에 수막(A)을 형성하도록 사용된 물을 저장 및 순환시키기 위한 순환탱크(25)를 포함하여 이루어진다. 상기 냉각부(21)는 원통형 본체(18)의 하류에 위치된다. 상기 냉각부(21)는 원통형 본체(18)의 하단부와 순환탱크(25)를 서로 결합시키는 관(22) 및 상기 관(22)을 세척부(31)로 분기시키는 관(27)을 포함하여 이루어진다. 상기 관(22)을 분기시키는 관(27)은 위쪽으로 기울어져, 수직관을 통해 세척부(세척실)(31)의 하단부에 결합된다. 상기 관(27)의 내측면 상에 수막을 형성하기 위한 살수기구(28)는 상기 관(27)과 수직관 사이의 연결부 부근에 제공된다.The combustion type exhaust gas treating apparatus 10 stores water used to form a water film A on the inner side of the cylindrical body 18 and a cooling unit 21 for cooling the exhaust gas which has undergone the combustion treatment. And a circulation tank 25 for circulating. The cooling section 21 is located downstream of the cylindrical body 18. The cooling unit 21 includes a tube 22 for coupling the lower end of the cylindrical body 18 and the circulation tank 25 to each other and a tube 27 for branching the tube 22 to the washing unit 31. Is done. The pipe 27 branching the pipe 22 is inclined upwardly and coupled to the lower end of the washing unit (washing chamber) 31 through the vertical pipe. A watering mechanism 28 for forming a water film on the inner side of the tube 27 is provided near the connection portion between the tube 27 and the vertical tube.

상기 관(22)의 내측면은 원통형 본체(18)로부터 아래로 유동하는 수막과 함께 전체로 커버되고, 상기 관(27)의 내측면은 상기 살수기구(28)에 의해 형성된 수막과 함께 전체로 커버된다. 이들 수막은 내열성 재료로서의 역할을 하기 때문에, 연소 처리를 겪은 고온의 배기가스에 관계 없이, 상기 관(22, 27)의 온도가 실질적으로 통상 온도(50℃ 보다 높지 않음)로 유지될 수 있다. 더욱이, 상기 수막들은 부식성 가스에 의해 상기 관들이 손상을 입는 것을 방지할 수 있다. 그러므로, 저비용의 스테인리스강이 관(22, 27)을 위해 사용될 수 있다. 화학증착, 물리적 코팅, 페인팅 또는 부착에 의한 내식성 재료(예컨대, Teflon(등록상표) 또는 PVC)로, 스테인리스강과 같은 금속으로 제조된 관의 가스접촉부의 표면을 커버하는 것은 종래의 조치였다. 본 발명의 상술된 실시예에 따른 구조는 이러한 조치를 제공할 필요가 없다.The inner side of the tube 22 is entirely covered with a water film flowing down from the cylindrical body 18, and the inner side of the tube 27 is entirely with the water film formed by the watering device 28. Covered. Since these water films serve as heat-resistant materials, the temperatures of the tubes 22 and 27 can be maintained at substantially normal temperatures (not higher than 50 ° C), regardless of the hot exhaust gases undergoing the combustion treatment. Moreover, the water films can prevent the tubes from being damaged by corrosive gas. Therefore, low cost stainless steel can be used for the tubes 22, 27. It has been a conventional measure to cover the surface of the gas contacts of a tube made of metal such as stainless steel with a corrosion resistant material (eg Teflon® or PVC) by chemical vapor deposition, physical coating, painting or adhesion. The structure according to the above-described embodiment of the present invention does not need to provide such measures.

상기 관(22) 또는 상기 관(27)의 내측면 상에는 핀(fin)이나 배플판(baffle plate)과 같은 냉각가속기구(cooling-acceleration mechanism)를 제공하는 것이 바람직하다. 도 12a, 도 12b 내지 도 16a 및 도 16b는 핀이나 배플판과 같은 냉각가속기구의 예시들을 보여준다. 도 12a 및 도 12b는 상기 관(22)의 내측면 상에 배치된 링형상의 핀(23)을 보여준다. 도 13a 및 도 13b 또한 링형상의 핀(23)을 보여준다. 도 13a 및 도 13b에 도시된 예시는, 도 12a 및 도 12b의 핀(23)이 직사각형의 단면을 가지지만, 도 13a 및 도 13b의 핀(23)은 삼각형 단면을 가진다는 점에서 도 12a 및 도 12b에 도시된 예시와 상이하다. 도 14a 및 도 14b는 관(22) 내의 배기가스의 유동 방향을 따라 기울어진 단핀(short pin; 23)을 보여준다. 도 15a 및 도 15b는 관(22)의 내측면 상에 제공된 반원형 배플판(23)을 보여준다. 각각의 반원형 배플판(23)은 상기 관(22)의 내측면의 일부분을 핏팅시키는 형상이다. 상기 관(22)에서, 배플판(23)은 상이한 수직 위치와 상이한 원주 위치들에 배치된다. 상기 배기가스는 상기 배플판(23)과 관(22)의 내측면을 접촉시키면서 상기 관(22)을 통과한다. 이러한 방식으로, 상기 배기가스의 냉각 효과가 수막으로 커버된 배플판 또는 핀에 의해 가속화될 수 있다. 도 16a 및 도 16b는 상기 관(22)의 내주면 상에 제공된 나선형 핀(23)을 보여준다.It is desirable to provide a cooling-acceleration mechanism, such as a fin or baffle plate, on the inner surface of the tube 22 or the tube 27. 12A, 12B-16A and 16B show examples of cooling acceleration mechanisms such as fins or baffle plates. 12A and 12B show a ring-shaped pin 23 disposed on the inner side of the tube 22. 13A and 13B also show ring shaped pins 23. The examples shown in FIGS. 13A and 13B show that the pins 23 of FIGS. 12A and 12B have a rectangular cross section, while the pins 23 of FIGS. 13A and 13B have a triangular cross section. It is different from the example shown in FIG. 12B. 14A and 14B show a short pin 23 inclined along the flow direction of the exhaust gas in the tube 22. 15A and 15B show a semicircular baffle plate 23 provided on the inner side of the tube 22. Each semicircular baffle plate 23 is shaped to fit a portion of the inner surface of the tube 22. In the tube 22, the baffle plate 23 is arranged at different vertical positions and at different circumferential positions. The exhaust gas passes through the tube 22 while contacting the baffle plate 23 and the inner surface of the tube 22. In this way, the cooling effect of the exhaust gas can be accelerated by a baffle plate or fin covered with a water film. 16A and 16B show a helical fin 23 provided on the inner circumferential surface of the tube 22.

상기 연소식 배기가스처리장치(10)의 세척부(31)는 필터(31a) 및 살수기 구(31b)를 포함하여 이루어진다. 연소 처리 후, 상기 배기가스는 냉각부(21)에 의해 냉각된 다음, 상기 세척부(31) 안으로 도입된다. 이러한 세척부(31)는 물로 배기가스를 세척하여, 상기 배기가스의 연소 처리에 의해 생성되는 먼지 및 산화 가스를 포함하는 부산물을 캡처 및 제거하게 된다. 상기 먼지는 필터(31a)에 의해 제거되고, 살수기구(31b)로부터 분무되는 물에 의해 아래로 가라앉는다. 물과 함께 먼지가 관(27, 22)을 통해 순환탱크(25) 안으로 유동하여, 상기 탱크(25) 안에 저장된다. 이러한 방식으로, 배기가스가 연소 처리에 의해 무해하게 되고, 상기 냉각부(21)에서 냉각되어, 세척부(31)에서 물로 세척된다. 처리된 배기가스는 관(32)을 통과한 다음, 대기 또는 여타의 공간으로 배출된다.The cleaning part 31 of the combustion type exhaust gas treating device 10 includes a filter 31a and a water sprinkler sphere 31b. After the combustion treatment, the exhaust gas is cooled by the cooling section 21 and then introduced into the washing section 31. The washing unit 31 washes the exhaust gas with water to capture and remove by-products including dust and oxidizing gas generated by the combustion treatment of the exhaust gas. The dust is removed by the filter 31a and settled down by the water sprayed from the watering mechanism 31b. Dust with water flows through the pipes 27 and 22 into the circulation tank 25 and is stored in the tank 25. In this way, the exhaust gas is made harmless by the combustion treatment, cooled in the cooling section 21 and washed with water in the washing section 31. The treated exhaust gas passes through the pipe 32 and is then discharged into the atmosphere or other space.

상기 순환탱크(25)는 그 내부에 위어(26)를 구비한다. 상기 관(22)을 통해 아래로 유동한 후, 상기 물은 도면에서와 같이 상기 위어(26)의 좌측에 있는 챔버로 들어간다. 상기 좌측 챔버 내의 물은 위어(26)를 넘쳐 흘러 도면에서와 같이 상기 위어(26)의 우측에 있는 챔버 안으로 흐른다. 상기 우측 챔버 내의 물은 펌프(30)에 의해 흡입되어, 공급관(34)을 통해 열교환장치(40)로 전달된다. 상기 열교환장치(40)는 물과 냉각수간의 열교환을 수행하여, 물이 적절한 온도를 가지도록 한다. 그런 다음, 상기 물이 순환수로 재사용된다. 대량의 먼지를 함유하는 물은 순환탱크(25)의 좌측 챔버 안으로 유동한다. 먼지는 입자로 형성되는 데, 그 일부는 큰 직경을 가진다. 큰 입자들이 무거우므로, 챔버의 바닥에 가라앉는다. 다른 한편으로, 직경이 매우 작은 입자들은 경량이므로, 위어(26)를 넘쳐 우측 챔버 안으로 흐르게 된다. 우측 챔버로 이동한 입자들은 순환수로 사용될 물과 혼합된다. 순환수와 혼합된 입자들은, 상기 입자들이 대략 50 ㎛ 정도의 직경을 갖는 한, 상기 순환수의 사용 시에 악영향을 끼치지 못한다. 이에 따라, 직경이 50 ㎛ 보다 큰 입자들이 위어(26)를 흘러 넘칠 수 없도록 하는 높이를 상기 위어(26)가 가지는 것이 바람직하다.The circulation tank 25 has a weir 26 therein. After flowing down through the tube 22, the water enters the chamber on the left side of the weir 26 as shown. Water in the left chamber overflows the weir 26 and flows into the chamber on the right side of the weir 26 as shown. The water in the right chamber is sucked by the pump 30 and delivered to the heat exchanger 40 through the supply pipe 34. The heat exchanger 40 performs heat exchange between water and cooling water, so that the water has an appropriate temperature. The water is then reused as circulating water. Water containing a large amount of dust flows into the left chamber of the circulation tank 25. Dust is formed of particles, some of which have a large diameter. Since the large particles are heavy, they sink to the bottom of the chamber. On the other hand, particles that are very small in diameter are light, so they overflow the weir 26 and flow into the right chamber. Particles moved to the right chamber are mixed with water to be used as circulating water. Particles mixed with the circulating water do not adversely affect the use of the circulating water as long as the particles have a diameter of about 50 μm. Accordingly, it is desirable for the weir 26 to have a height such that particles larger than 50 μm cannot flow over the weir 26.

상기 온도가 열교환장치(40)에서 조정된 후, 상기 물은 물(W1)로서 수류 플랜지(20)로 공급된다. 상기 물(W1)은 원통형 본체(18)의 내측면 상에 수막(A)을 형성하는 데 사용되고, 상기 관(22)의 내주면 상에 수막을 형성하는 데 사용된다. 그 후, 상기 물은 순환탱크(25)로 되돌아간다. 온도가 열교환장치(40)에서 조정된 물의 일부는 세척부(31)의 살수기구(31b)로 공급되고, 상기 순환탱크(25)로 되돌아간다. 또한, 온도가 열교환장치(40)에서 조정된 물의 일부는 상기 관(22)의 내주면 상에 수막을 형성하는 살수기구(28)로 공급된다. 그 후, 상기 물은 순환탱크(25)로 되돌아간다. 이러한 방식으로, 물이 순환한다. 그러므로, 연소식 배기가스처리장치(10)는, 상기 장치(10)의 동작 시에 사용되는 물 대부분이 순환수이기 때문에, 보충을 위해 매우 적은 양의 수도물 또는 산업용수를 필요로 한다는 장점이 있다. 나아가, 물이 순환수로서 재사용되기 때문에, 배기가스를 세척한 후 상기 물이 묽은 플루오르화수소산이 되더라도, 상기 산이 장치(10)의 외부로 배출되지 않게 된다.After the temperature is adjusted in the heat exchanger 40, the water is supplied to the water flow flange 20 as water W1. The water W1 is used to form the water film A on the inner side of the cylindrical body 18 and to form the water film on the inner circumferential surface of the tube 22. Thereafter, the water is returned to the circulation tank 25. A part of the water whose temperature is adjusted by the heat exchanger 40 is supplied to the sprinkling mechanism 31b of the washing part 31 and returns to the circulation tank 25. In addition, a part of the water whose temperature is adjusted by the heat exchanger 40 is supplied to the watering mechanism 28 which forms a water film on the inner circumferential surface of the tube 22. Thereafter, the water is returned to the circulation tank 25. In this way, the water circulates. Therefore, the combustion exhaust gas treatment apparatus 10 has an advantage that a very small amount of tap water or industrial water is required for replenishment because most of the water used in the operation of the apparatus 10 is circulating water. . Furthermore, since water is reused as circulating water, even if the water becomes dilute hydrofluoric acid after washing the exhaust gas, the acid is not discharged to the outside of the apparatus 10.

열교환장치(40)로 공급될 냉각수의 일부는 냉각수(W2)로서 상기 연소처리부(11)에 제공된 예시되지 않은 냉각수로에 공급된다. 상기 물(W2)은 배기가스처리연소기(12)를 냉각시키는 역할을 한다. 펌프(30)에 의해 전달되는 물의 일부는 물(W3)로서 순환탱크(25)로 공급되어, 상기 물(W3)이 상기 순환탱크(25)의 측부로부터 상기 순환탱크(25) 안으로 유동하도록 한다. 상기 순환탱크(25) 안으로 유동한 물은 상기 순환탱크(25)의 바닥에 퇴적된 부산물을 상기 위어(26) 쪽으로 쓸어 버려, 상기 관(22)의 하단부의 개구가 부산물로 막히는 것이 방지된다.A part of the coolant to be supplied to the heat exchanger 40 is supplied to the unillustrated coolant passage provided to the combustion treatment unit 11 as the coolant W2. The water W2 serves to cool the exhaust gas treating combustion chamber 12. A portion of the water delivered by the pump 30 is supplied to the circulation tank 25 as water W3 to allow the water W3 to flow into the circulation tank 25 from the side of the circulation tank 25. . The water flowing into the circulation tank 25 sweeps the byproduct deposited on the bottom of the circulation tank 25 toward the weir 26, thereby preventing the opening of the lower end of the pipe 22 from being clogged with the byproduct.

상기 연소식 배기가스처리장치(10)는 원통형 본체(18) 상의 온도센서(41)를 포함하여 이루어지고, 상기 온도센서(41)에 의해 상기 원통형 본체(18)의 온도의 증가를 모니터링한다. 만일 워터 브레이크가 원통형 본체(18)의 내측면 상에 발생한다면, 상기 부분에서 내열성 효과가 사라진다. 이러한 경우, 상기 원통형 본체(18)는 고온의 배기가스와 직접 접촉하게 되는 데, 이는 상기 원통형 본체(18)의 내측면에 손상을 입힐 가능성이 있다. 이러한 상황을 검출하기 위하여, 상기 온도센서(41)가 원통형 본체(18) 상에 제공되어 안정성을 보장하게 된다.The combustion exhaust gas treatment device 10 includes a temperature sensor 41 on the cylindrical body 18, and monitors the increase in temperature of the cylindrical body 18 by the temperature sensor 41. If a water brake occurs on the inner side of the cylindrical body 18, the heat resistance effect disappears in that portion. In this case, the cylindrical body 18 is in direct contact with the hot exhaust gas, which is likely to damage the inner surface of the cylindrical body 18. In order to detect this situation, the temperature sensor 41 is provided on the cylindrical body 18 to ensure stability.

상기 원통형 본체(18)의 소서(saucer)로서의 역할을 하는 일부분 상에 누출센서(42)가 제공된다. 만일 원통형 본체(18)가 손상을 입어 관통구멍이 형성된다면, 상기 누출센서(42)는 이러한 관통구멍의 존재를 검출할 수 있다. 이러한 방식으로, 누출센서(42)를 제공하는 것이 안정성을 개선시킬 수 있다.A leak sensor 42 is provided on a portion which serves as a saucer of the cylindrical body 18. If the cylindrical body 18 is damaged and a through hole is formed, the leak sensor 42 can detect the presence of such a through hole. In this way, providing the leak sensor 42 can improve stability.

지금까지 본 발명의 소정의 바람직한 실시예들을 설명하였지만, 본 발명은 상술된 실시예들로 제한되는 것은 아니며, 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서 다양한 변경 및 수정들이 가능하다는 것은 자명하다.While certain preferred embodiments of the present invention have been described so far, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and that various changes and modifications are possible without departing from the scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 연소처리부를 도시한 단면도;1 is a cross-sectional view showing a combustion treatment unit according to an embodiment of the present invention;

도 2는 수막형성기구의 일 례를 도시한 단면도;2 is a cross-sectional view showing an example of a water film forming mechanism;

도 3은 수막형성기구의 수정예를 도시한 단면도;3 is a sectional view showing a modification of the water film forming mechanism;

도 4는 수막형성기구의 또다른 수정예를 도시한 단면도;4 is a sectional view showing another modification of the water film forming mechanism;

도 5는 수막형성기구의 또다른 수정예를 도시한 단면도;5 is a sectional view showing another modification of the water film forming mechanism;

도 6은 수막형성기구의 또다른 수정예를 도시한 단면도;6 is a sectional view showing another modification of the water film forming mechanism;

도 7a는 수막형성기구의 또다른 수정예를 도시한 단면도;7A is a sectional view showing another modification of the water film forming mechanism;

도 7b는 도 7a에 도시된 수막형성기구의 정면도;FIG. 7B is a front view of the water film forming mechanism shown in FIG. 7A; FIG.

도 8a는 수막형성기구의 또다른 수정예를 도시한 평면도;8A is a plan view showing another modification of the film forming mechanism;

도 8b는 도 8a에 도시된 수막형성기구의 단면도;FIG. 8B is a sectional view of the water film forming mechanism shown in FIG. 8A; FIG.

도 9a는 수막형성기구의 또다른 수정예를 도시한 평면도;9A is a plan view showing another modification of the film forming mechanism;

도 9b는 도 9a에 도시된 수막형성기구의 단면도;9B is a sectional view of the water film forming mechanism shown in FIG. 9A;

도 9c는 도 9a에 도시된 수막형성기구의 정면도;9C is a front view of the water film forming mechanism shown in FIG. 9A;

도 10a는 수막형성기구의 또다른 수정예를 도시한 단면도;10A is a sectional view showing another modification of the water film forming mechanism;

도 10b는 도 10a에 도시된 수막형성기구의 평면도;FIG. 10B is a plan view of the water film forming mechanism shown in FIG. 10A; FIG.

도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 연소식 배기가스처리장치를 도시한 블럭도;11 is a block diagram showing a combustion type exhaust gas treating apparatus according to an embodiment of the present invention;

도 12a는 냉각가속기구의 일 례를 도시한 평면도;12A is a plan view showing an example of a cooling acceleration mechanism;

도 12b는 도 12a에 도시된 기구의 단면도;12B is a sectional view of the instrument shown in FIG. 12A;

도 13a는 냉각가속기구의 또다른 예시를 도시한 평면도;13A is a plan view showing another example of a cooling acceleration mechanism;

도 13b는 도 13a에 도시된 기구의 단면도;13B is a cross-sectional view of the instrument shown in FIG. 13A;

도 14a는 냉각가속기구의 또다른 예시를 도시한 평면도;14A is a plan view showing another example of a cooling acceleration mechanism;

도 14b는 도 14a에 도시된 기구의 단면도;14B is a sectional view of the instrument shown in FIG. 14A;

도 15a는 냉각가속기구의 또다른 예시를 도시한 평면도;15A is a plan view showing another example of a cooling acceleration mechanism;

도 15b는 도 15a에 도시된 기구의 단면도;FIG. 15B is a sectional view of the instrument shown in FIG. 15A;

도 16a는 냉각가속기구의 또다른 예시를 도시한 평면도; 및16A is a plan view showing another example of a cooling acceleration mechanism; And

도 16b는 도 16a에 도시된 기구의 단면도이다.16B is a cross-sectional view of the instrument shown in FIG. 16A.

Claims (12)

연소식 배기가스처리장치에 있어서,In the combustion type exhaust gas treating apparatus, 배기가스에 대한 연소 처리를 행하기 위한 연소처리부;A combustion processing unit for performing combustion processing on the exhaust gas; 상기 연소처리부에서 처리된 배기가스를 냉각하기 위한 냉각부; 및A cooling unit for cooling the exhaust gas treated in the combustion processing unit; And 상기 연소 처리에 의해 생성되는 부산물을 제거하기 위하여 상기 배기가스를 물로 세척하기 위한 세척부를 포함하여 이루어지고,It comprises a washing unit for washing the exhaust gas with water to remove by-products generated by the combustion treatment, 상기 연소처리부는,The combustion treatment unit, 불꽃을 형성하도록 구성된 배기가스처리연소기;An exhaust gas treating combustor configured to form a flame; 금속으로 제조되어 상기 불꽃의 하류에 위치하는 원통형 본체로서, 상기 배기가스의 연소 처리가 상기 원통형 본체 내에서 수행되는 원통형 본체; 및A cylindrical body made of metal and positioned downstream of the flame, the cylindrical body in which combustion treatment of the exhaust gas is performed in the cylindrical body; And 상기 배기가스처리연소기와 상기 원통형 본체의 사이에 제공되는 환형의 수조를 가지고, 상기 원통형 본체의 내측면 상에 수막을 형성하기 위해 상기 수조 내에 물의 소용돌이류를 형성하도록 구성된 하나 이상의 물 공급구를 더 가지는 수막형성기구를 포함하는 연소식 배기가스처리장치.At least one water supply port having an annular water tank provided between said exhaust gas treating combustor and said cylindrical body and configured to form a swirl of water in said water tank to form a water film on the inner side of said cylindrical body. Combustion exhaust gas treatment apparatus including a water film forming mechanism having a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 원통형 본체의 상기 내측면은, 내부 직경이 상기 원통형 본체의 상단부에서 하단부까지 일정한 원통형인 연소식 배기가스처리장치.The inner side surface of the cylindrical body, the combustion type exhaust gas treatment device, the inner diameter is a constant from the upper end to the lower end of the cylindrical body. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 원통형 본체의 상기 내측면은, 내부 직경의 크기가 상기 원통형 본체의 상단부에서 하단부까지 점진적으로 감소하는 원뿔형인 연소식 배기가스처리장치.The inner side surface of the cylindrical body, the combustion exhaust gas treatment device of the conical shape of the size of the inner diameter gradually decreases from the upper end to the lower end of the cylindrical body. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 원통형 본체의 하류에 제공되는 순환탱크를 더 포함하여 이루어지되, 상기 순환탱크는 상기 냉각부에 결합되어 있는 연소식 배기가스처리장치.And a circulation tank provided downstream of the cylindrical body, wherein the circulation tank is coupled to the cooling unit. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 순환탱크는 그 내부에 소정의 크기를 갖는 부산물의 순환을 방지하는 위어(weir)를 구비한 연소식 배기가스처리장치.The circulation tank is a combustion type exhaust gas treatment device having a weir (weir) to prevent the circulation of by-products having a predetermined size therein. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 냉각부는,The cooling unit includes: 상기 원통형 본체의 하단부와 상기 순환탱크를 서로 결합하도록 구성된 제1관;A first pipe configured to couple the lower end of the cylindrical body and the circulation tank to each other; 상기 제1관을 상기 세척부로 분기시키는 제2관; 및A second pipe branching the first pipe to the washing part; And 상기 제1관과 상기 제2관의 내측면 상에 수막을 형성하도록 되어 있는 기구를 포함하는 연소식 배기가스처리장치.And a mechanism adapted to form a water film on the inner surfaces of the first pipe and the second pipe. 제6항에 있어서,The method according to claim 6, 상기 제2관은 상기 제2관이 상기 제1관을 분기시키는 부분으로부터 위쪽으로 기울어져 있고,The second pipe is inclined upward from the portion where the second pipe branches the first pipe, 상기 제2관의 상기 내측면을 향해 물을 분무하기 위해 살수기구(water-spraying mechanism)가 제공되는 연소식 배기가스처리장치.And a water-spraying mechanism is provided to spray water toward the inner side of the second tube. 제6항에 있어서,The method according to claim 6, 상기 제1관 또는 상기 제2관의 상기 내측면 상에 제공된 핀(fin) 또는 배플판(baffle plate)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 연소식 배기가스처리장치.And a fin or baffle plate provided on the inner side of the first tube or the second tube. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 순환탱크에 저장된 물을 상기 수막형성기구, 상기 세척부 및 상기 냉각부에 공급하기 위한 공급관과 펌프; 및A supply pipe and a pump for supplying water stored in the circulation tank to the water film forming mechanism, the washing part and the cooling part; And 상기 공급관에 결합된 열교환장치를 더 포함하는 연소식 배기가스처리장치.Combustion exhaust gas treatment device further comprises a heat exchanger coupled to the supply pipe. 제9항에 있어서,10. The method of claim 9, 상기 수막형성기구 및 상기 세척부로 공급된 물은 상기 냉각부를 통해 상기 순환탱크로 되돌아가는 연소식 배기가스처리장치.And the water supplied to the water film forming mechanism and the washing unit returns to the circulation tank through the cooling unit. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 원통형 본체 상에 제공되어, 상기 원통형 본체의 온도의 증가를 검출하기 위한 온도센서를 더 포함하는 연소식 배기가스처리장치.And a temperature sensor provided on the cylindrical body to detect an increase in temperature of the cylindrical body. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 원통형 본체로부터의 누수를 검출하기 위한 누출센서(leak sensor)를 더 포함하는 연소식 배기가스처리장치.Combustion exhaust gas treatment apparatus further comprises a leak sensor (leak sensor) for detecting a leak from the cylindrical body.
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