KR101210099B1 - 광학 기판의 표면 모델링 방법, 광학 기판, 휘도 강화 필름, 광학 필름의 3차원 표면 모델링 방법, 광학 기판 제조 방법 및 백라이트 디스플레이 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (106)
- 광학 기판(100)의 표면을 모델링하는 방법에 있어서,좌표계에 제 1 윈도우(216)를 정의하는 단계와,상기 제 1 윈도우(216) 내에 마스터 함수(210)를 정의하는 단계와,상기 제 1 윈도우(216) 내의 제 1 위치에 상기 제 1 윈도우(216)의 일부분으로서 제 2 윈도우(200)를 정의하는 단계와,상기 제 2 윈도우(200) 내에서 포인트 세트를 선택하는 단계와,상기 선택된 포인트 세트를 상호연결하는 변조 경로(206)를 정의하는 단계와,상기 변조 경로(206)를 따라 표면 함수를 정의하는 단계와,상기 변조 경로(206)를 따라 상기 표면 함수를 변조하는 단계와,상기 마스터 함수(210)와 상기 변조된 표면 함수를 조합하여, 상기 변조 경로(206)에 걸쳐 3차원 구조 패턴을 생성하는 단계를 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 2 윈도우(200) 내에서 포인트 세트를 선택하는 단계는 상기 제 2 윈도우(200) 내에서 포인트 세트를 랜덤하게 선택하는 단계를 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 변조 경로(206)를 따라 상기 표면 함수를 변조하는 단계는 상기 변조 경로(206)를 따라 상기 표면 함수를 랜덤하게 변조하는 단계를 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 윈도우(216) 내의 새로운 위치로 상기 제 2 윈도우(200)를 이동시키는 단계를 더 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 제 4 항에 있어서,상기 제 2 윈도우(200) 내에서 포인트 세트를 선택하는 것과,상기 선택된 포인트 세트를 상호연결하는 변조 경로(206)를 정의하는 것과,상기 변조 경로(206)를 따라 표면 함수를 정의하는 것과,상기 변조 경로(206)를 따라 상기 표면 함수를 변조하는 것과,상기 제 2 윈도우(200)가 상기 제 1 윈도우(216) 내의 모든 포인트와 공존할 때까지, 상기 마스터 함수(210)와 상기 변조된 표면 함수를 조합하여, 상기 변조 경로(206)에 걸쳐 3차원 구조 패턴을 생성하는 것을반복하는 단계를 더 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 제 2 윈도우(200)를 상기 제 1 윈도우(216) 내의 상기 제 1 위치로 되돌리는 단계와,상기 제 2 윈도우(200) 내에서 포인트 세트를 선택하는 것과,상기 선택된 포인트 세트를 상호연결하는 변조 경로(206)를 정의하는 것과,상기 변조 경로(206)를 따라 표면 함수를 정의하는 것과,상기 변조 경로(206)를 따라 상기 표면 함수를 변조하는 것과,상기 제 2 윈도우(200)가 상기 제 1 윈도우(216) 내의 모든 포인트와 공존할 때까지, 상기 마스터 함수(210)와 상기 변조된 표면 함수를 조합하여, 상기 제 1 윈도우(216)의 범위에 걸쳐 3차원 구조 패턴을 생성하는 것을반복하는 단계를 더 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 제 6 항에 있어서,형태학적(morphologic) 연산자 세트로부터 마스크 함수(442)를 생성하는 단계와,상기 마스크 함수(442)를 상기 변조된 표면 함수와 콘볼브(convolve)하는 단계와,상기 마스크 함수(442)와 상기 변조된 표면 함수의 콘볼루션과 상기 마스터 함수(210)와의 부울 합집합(Boolean union)을 수행하는 단계를 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 변조된 표면 함수와 상기 마스터 함수(210)의 조합 단계는 상기 변조된 표면 함수와 상기 마스터 함수(210)의 부울 합집합을 수행하는 단계를 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 윈도우(216)의 범위에 걸쳐 생성된 다수의 3차원 구조 패턴을 서로에 대해 나란히 배치하여 3차원 구조 패턴 어레이를 형성하는 단계를 더 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 제 1 항에 기재된 방법에 의해 생성된 광학 기판(100).
- 제 10 항에 있어서,상기 좌표계 내의 제 1 방향으로 상기 3차원 구조 패턴 내의 제 1 위치로부터 사전정의된 거리 내에 1/e의 상관 함수 값을 갖는광학 기판.
- 제 11 항에 있어서,상기 상관 함수는 자기 상관 함수인광학 기판.
- 제 11 항에 있어서,상기 상관 함수는 교차 상관 함수인광학 기판.
- 제 11 항에 있어서,최소화된 무아레 패턴(Moire patterns)을 갖는광학 기판.
- 제 1 항에 있어서,상기 변조된 표면 함수를 상기 마스터 함수(210)와 조합하는 단계는 상기 변조된 표면 함수와 상기 마스터 함수(210)의 부울 합집합을 수행하는 단계를 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 광학 기판(100)에 있어서,1 ㎝ 이하의 상관 길이 내에서 초기 값의 37 퍼센트 미만의 상관 함수 값을 갖는 표면을 포함하되,상기 표면은 제 2 함수에 의해 변조되는 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)에 의해 정의되고, 상기 광학 기판(100)의 상기 표면은 광의 제 1 입력 빔으로부터 정반사 광 및 확산 광을 생성하는광학 기판.
- 제 16 항에 있어서,상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)는 상기 기판의 제 1 종단에서 제 2 종단까지 길이를 연장하는광학 기판.
- 제 17 항에 있어서,상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)는 톱니 또는 삼각형의 단면을 갖는광학 기판.
- 제 16 항에 있어서,상기 광학 기판(100)의 상기 표면은 0.1도 내지 60도의 전력 반각을 각각 갖는 다수의 확산 타원을 형성하도록 광을 방향 전환시키고 확산시키는 형상을 포함하는광학 기판.
- 제 19 항에 있어서,상기 전력 반각은 1도 내지 5도인광학 기판.
- 제 19 항에 있어서,광의 제 1 입력 빔은 제 1 입사각을 갖고 상기 광학 기판(100)의 상기 표면은 상기 광의 제 1 입력 빔이 상기 광학 기판(100)을 통해 전송되고 상기 광학 기판(100)의 상기 표면에 의해 상기 제 1 입사각과는 다른 출력 각으로 방향 전환되도록 형성되는광학 기판.
- 제 21 항에 있어서,정반사 성분의 상기 출력 각은 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)에 의해 결정되는광학 기판.
- 제 22 항에 있어서,상기 광학 기판(100)에 수직인 광의 제 2 입력 빔은 상기 광학 기판(100)의 상기 표면에 의해 반사되고 0.1도 내지 60도의 전력 반각을 갖는 출력 정반사 성분을 형성하는광학 기판.
- 제 16 항에 있어서,상기 상관 길이는 200 마이크론 이하인광학 기판.
- 휘도 강화 필름에 있어서,1 ㎝ 이하의 상관 길이를 갖는 표면을 포함하되,상기 표면은 관찰자에 대해 축 상에 적어도 30 퍼센트 휘도 증가를 생성하도록 입사광을 방향 전환 및 확산시키는 형상을 갖고, 상기 표면은 0.1도 내지 60도의 전력 반각을 갖는 광의 확산 성분을 생성하는휘도 강화 필름.
- 제 25 항에 있어서,상기 표면은 200 마이크론 이하의 상관 길이를 갖는휘도 강화 필름.
- 제 25 항에 있어서,상기 축상의 휘도 증가는 30 퍼센트 내지 300 퍼센트인휘도 강화 필름.
- 제 25 항에 있어서,상기 축상의 휘도 증가는 50 퍼센트 내지 200 퍼센트인휘도 강화 필름.
- 광학 기판(100)에 있어서,두 개의 표면 구조 함수에 의해 정의되는 표면을 포함하되,제 1 표면 구조 함수(50,52,54)는 광의 입력 빔으로부터 적어도 하나의 출력 정반사 성분을 생성하는 광학적 특성을 갖는 기하학적 구조를 구비하고,제 2 표면 구조 함수(144,146)는 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)를 변조하는 적어도 의사 랜덤한 특성을 갖는 기하학적 구조를 구비하되,3차원 표면은 1 ㎝ 이하의 상관 길이에서 초기 값의 37 퍼센트 미만의 상관 함수 값을 갖는광학 기판.
- 제 29 항에 있어서,상기 표면은 200 마이크론 이하의 상관 길이를 갖는광학 기판.
- 제 29 항에 있어서,상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)는 각각 길이, 폭 및 피크 각도를 갖는 일련의 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)를 갖는광학 기판.
- 제 31 항에 있어서,상기 제 2 표면 구조 함수(144,146)의 적어도 의사 랜덤한 특성은 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 주파수, 위상 및 피크 각도 변조 중 하나 이상을 생성하는광학 기판.
- 제 32 항에 있어서,상기 위상 변조는 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 길이를 따라 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54) 중 적어도 하나의 수평 위치를 변조하는 것을 포함하는광학 기판.
- 제 32 항에 있어서,상기 주파수 변조는 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 길이를 따라 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54) 중 적어도 하나의 폭을 변조하는 것을 포함하는광학 기판.
- 제 32 항에 있어서,상기 피크 각도 변조는 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 길이를 따라 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54) 중 적어도 하나의 피크 각도를 변조하는 것을 포함하는광학 기판.
- 제 29 항에 있어서,상기 표면은 상기 광의 입력 빔을 확산 및 방향 전환시켜 각각 0.1도 내지 60도의 전력 반각을 갖는 다수의 확산 타원을 형성하는광학 기판.
- 제 36 항에 있어서,상기 전력 반각은 1도 내지 5도인광학 기판.
- 제 36 항에 있어서,상기 광의 입력 빔은 입사각을 갖고, 상기 표면은 상기 광의 입력 빔이 상기 광학 기판(100)을 통해 전송되고 상기 표면에 의해 방향 전환되어 상기 입사각과는 다른 정반사 성분의 출력각을 형성하도록 구성되는광학 기판.
- 제 38 항에 있어서,상기 정반사 성분의 상기 출력각은 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)에 의해 결정되는광학 기판.
- 광학 필름의 3차원 표면을 모델링하는 방법에 있어서,다수의 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)를 변조하여 불규칙하고 변조된 파형을 생성하는 단계와,작업 표면 상에 다수의 제 1 세트의 변조된 파형을 띄엄띄엄 배치하되, 상기 제 1 세트의 변조된 파형 각각을 인접하는 변조된 파형 위에 중첩시키는 단계와,상기 작업 표면 상에 다수의 제 2 세트의 변조된 파형을 띄엄띄엄 배치하되, 상기 제 2 세트의 변조된 파형을 상기 제 1 세트의 변조된 파형 위에 중첩시키는 단계를 포함하는광학 필름의 3차원 표면 모델링 방법.
- 제 40 항에 있어서,상기 파형은 변조 이전에 단면이 톱니 또는 삼각형 함수의 단면의 형상을 갖는광학 필름의 3차원 표면 모델링 방법.
- 제 41 항에 있어서,다수의 상기 톱니 또는 삼각형 함수는 위상, 주파수 및 피크 각도 변조 중 하나 이상에 의해 변조되는광학 필름의 3차원 표면 모델링 방법.
- 제 10 항에 있어서,상기 광학 기판(100)은 몰드(molds)를 형성하기 위한 포토리소그래피, 그레이 스케일 리소그래피, 마이크로리소그래피, 전기적 방전 기계가공 또는 경질 공구를 사용한 마이크로기계가공에 의해 생성되는광학 기판.
- 제 43 항에 있어서,상기 광학 기판(100)은 100 ㎜ 내지 1 ㎚의 특징적 크기를 갖는 표면을 포함하는광학 기판.
- 광학 기판(100)의 표면을 모델링하는 방법에 있어서,좌표계에 제 1 윈도우(216)를 정의하는 단계와,상기 제 1 윈도우(216) 내에 마스터 함수(210)를 정의하는 단계와,상기 제 1 윈도우(216) 내의 제 1 위치에 제 2 윈도우(200)를 정의하는 단계와,상기 제 2 윈도우(200) 내에서 포인트 세트를 랜덤하게 선택하는 단계와,상기 선택된 포인트 세트를 상호연결하는 변조 경로(206)를 정의하는 단계와,상기 변조 경로(206)를 따라 표면 함수를 정의하는 단계와,상기 변조 경로(206)를 따라 상기 표면 함수를 랜덤하게 변조하는 단계와,상기 마스터 함수(210)와 상기 변조된 표면 함수를 조합하여, 상기 변조 경로(206)에 걸쳐 3차원 구조 패턴을 생성하는 단계와,상기 제 1 윈도우(216) 내의 새로운 위치로 상기 제 2 윈도우(200)를 이동시키는 단계와,상기 제 2 윈도우(200) 내에서 포인트 세트를 선택하는 것과,상기 선택된 포인트 세트를 상호연결하는 변조 경로(206)를 정의하는 것과,상기 변조 경로(206)를 따라 표면 함수를 정의하는 것과,상기 변조 경로(206)를 따라 상기 표면 함수를 변조하는 것과,상기 제 2 윈도우(200)가 상기 제 1 윈도우(216) 내의 모든 포인트와 공존할 때까지, 상기 마스터 함수(210)와 상기 변조된 표면 함수를 조합하여, 상기 변조 경로(206)에 걸쳐 3차원 구조 패턴을 생성하는 것을반복하는 단계를 포함하는광학 기판의 표면 모델링 방법.
- 광학 기판(100)에 있어서,1 ㎝ 이하의 상관 길이 내에서 초기 값의 37 퍼센트 미만의 상관 함수 값을 갖는 표면을 포함하되,상기 표면은 제 2 함수에 의해 변조되는 상기 기판의 제 1 종단에서 제 2 종단까지의 길이를 연장하는 톱니 또는 삼각형 단면을 갖는 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)에 의해 정의되고, 상기 광학 기판(100)의 상기 표면은 광의 제 1 입력 빔으로부터 정반사 광 및 확산 광을 생성하는광학 기판.
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- 휘도 강화 필름에 있어서,1 ㎝ 이하의 상관 길이를 갖는 표면을 포함하되,상기 표면은 관찰자에 대해 축 상에서 50 퍼센트 내지 200 퍼센트 휘도 증가를 생성하도록 입사광을 방향 전환 및 확산시키는 형상을 갖고, 상기 표면은 0.1도 내지 60도의 전력 반각을 갖는 광의 확산 성분을 생성하는휘도 강화 필름.
- 광학 기판(100)에 있어서,두 개의 표면 구조 함수에 의해 정의되는 표면을 포함하되,제 1 표면 구조 함수(50,52,54)는 광의 입력 빔으로부터 적어도 하나의 출력 정반사 성분을 생성하는 광학적 특성을 갖는 길이, 폭 및 피크 각도를 구비하고,제 2 표면 구조 함수(144,146)는 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 길이를 따라 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 주파수, 위상 및 피크 각도 중 하나 이상에 의해 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)를 변조하는 적어도 의사 랜덤한 특성을 갖는 기하학적 구조를 구비하며,3차원 표면은 1 ㎝ 이하의 상관 길이에서 초기 값의 37 퍼센트 미만의 상관 함수 값을 갖는광학 기판.
- 광학 필름의 3차원 표면을 모델링하는 방법에 있어서,불규칙하고 변조된 파형을 생성하도록 톱니 또는 삼각형 함수와 같은 단면이 형성된 다수의 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)를 위상, 주파수 및 피크 각도 중 하나 이상에 의해 변조하는 단계와,작업 표면 상에 다수의 제 1 세트의 변조된 파형을 띄엄띄엄 배치하되, 상기 제 1 세트의 변조된 파형 각각을 인접하는 변조된 파형 위에 중첩시키는 단계와,상기 작업 표면 상에 다수의 제 2 세트의 변조된 파형을 띄엄띄엄 배치하되, 상기 제 2 세트의 변조된 파형을 상기 제 1 세트의 변조된 파형 위에 중첩시키는 단계를 포함하는광학 필름의 3차원 표면 모델링 방법.
- 1 ㎝ 이하의 상관 길이 내에서 초기 값의 37 퍼센트 미만의 상관 함수 값을 갖는 표면을 포함하는 광학 기판(100)을 제조하되, 상기 표면은 제 2 함수에 의해 변조되는 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)에 의해 정의되고, 상기 광학 기판(100)의 상기 표면은 광의 제 1 입력 빔으로부터 정반사 광 및 확산 광을 생성하는, 광학 기판 제조 방법에 있어서,포토레지스트, 그레이 스케일 마스크 또는 하프톤 마스크(halftone mask)에 대해 상기 광학 기판(100)의 상기 표면을 포토리소그래피식으로 마스터링(mastering)하는 단계와,핫 엠보싱(hot embossing), 콜드 칼렌더링(cold calendaring), 자외선 경화(ultraviolet curing) 또는 열 고정화(thermal setting)에 의해 마스터(master)로부터 상기 광학 기판(100)의 상기 표면의 몰드를 형성하는 단계를 포함하는광학 기판 제조 방법.
- 제 80 항에 있어서,금속 코팅으로 상기 마스터를 전기주조하여 부모 전기주조(parent electroform)를 형성하는 단계와,상기 부모 전기주조를 전기주조하여 자식 전기주조(child electroform)를 형성하는 단계를 더 포함하는광학 기판 제조 방법.
- 제 81 항에 있어서,상기 부모 및 자식 전기주조를 전기주조하는 단계는 상부에 니켈을 전기 증착하는 단계를 포함하는광학 기판 제조 방법.
- 제 80 항에 있어서,상기 기판은 서스펜딩형 확산(suspended diffusion), 복굴절 또는 굴절률 변경 입자를 포함하는 유기질, 무기질 또는 하이브리드식 광 투과 물질을 포함하는광학 기판 제조 방법.
- 제 80 항에 있어서,상기 마스터는 상기 광학 기판(100)의 네거티브인광학 기판 제조 방법.
- 제 80 항에 있어서,상기 마스터는 유리, 결정체 금속 또는 플라스틱을 포함하는광학 기판 제조 방법.
- 1 ㎝ 이하의 상관 길이 내에서 초기 값의 37 퍼센트 미만의 상관 함수 값을 갖는 표면을 포함하는 광학 기판(100)을 제조하되, 상기 표면은 제 2 함수에 의해 변조되는 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)에 의해 정의되고, 상기 광학 기판(100)의 상기 표면은 광의 제 1 입력 빔으로부터의 정반사 광 및 확산 광을 생성하는, 광학 기판 제조 방법에 있어서,상기 광학 기판(100)의 상기 표면을 경질 공구로 마스터링하는 단계와,핫 엠보싱, 콜드 칼렌더링, 자외선 경화 또는 열 고정화에 의해 마스터로부터 상기 광학 기판(100)의 상기 표면의 몰드를 형성하는 단계를 포함하는광학 기판 제조 방법.
- 백라이트 디스플레이 장치(500)에 있어서,광을 발생시키는 광원(502)과,상기 광을 안내하는 광 가이드(506)로서, 상기 광 가이드(506)로부터 상기 광을 반사시키는 반사 표면(508)을 포함하는 상기 광 가이드(506)와,상기 반사 표면(508)으로부터 상기 광을 수신하는 적어도 하나의 광학 기판(510)을 포함하되,상기 광학 기판(510)은,두 개의 표면 구조 함수에 의해 정의되는 3차원 표면을 포함하되,제 1 표면 구조 함수(50,52,54)는 광의 입력 빔으로부터 적어도 하나의 출력 정반사 성분을 생성하는 광학적 특성을 갖는 길이, 폭 및 피크 각도를 구비하고,제 2 표면 구조 함수(144,146)는 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 길이를 따라 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 주파수, 위상 및 피크 각도 중 하나 이상에 의해 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)를 변조하는 적어도 의사 랜덤한 특성을 갖는 기하학적 구조를 구비하며,3차원 표면은 1 ㎝ 이하의 상관 길이에서 초기 값의 37 퍼센트 미만의 상관 함수 값을 갖는백라이트 디스플레이 장치.
- 제 87 항에 있어서,상기 적어도 하나의 광학 기판(510)은 다수의 광학 기판(510)을 포함하는백라이트 디스플레이 장치.
- 제 88 항에 있어서,상기 다수의 광학 기판(510)은 서로에 대해 0도 내지 90도의 상대적 배향을 갖는 제 1 및 제 2 표면 함수를 포함하는백라이트 디스플레이 장치.
- 제 89 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 표면 함수의 상대적 배향은 서로에 대해 평행 또는 수직인백라이트 디스플레이 장치.
- 백라이트 디스플레이 장치(500)에 있어서,광을 발생시키는 광원(502)과,상기 광을 안내하는 광 가이드(506)로서, 상기 광 가이드(506)로부터 상기 광을 반사시키는 반사 표면(508)을 포함하는 상기 광 가이드(506)와,상기 반사 표면(508)으로부터 상기 광을 수신하는 광학 기판(510)을 포함하되,상기 광학 기판(510)은,제 1 및 제 2 표면 구조 함수(144,146)에 의해 정의되는 제 1의 3차원 표면 -제 1 표면 구조 함수(50,52,54)는 광의 입력 빔으로부터 적어도 하나의 출력 정반사 성분을 생성하는 광학적 특성을 갖는 길이, 폭 및 피크 각도를 구비하고, 제 2 표면 구조 함수(144,146)는 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 길이를 따라 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)의 주파수, 위상 및 피크 각도 중 하나 이상에 의해 상기 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)를 변조하는 적어도 의사 랜덤한 특성을 갖는 기하학적 구조를 구비함- 과,상기 제 1의 3차원 표면과 마주보고 두 개의 표면 구조 함수에 의해 정의되는 제 2의 3차원 표면 -제 3 표면 구조 함수는 광의 입력 빔으로부터 적어도 하나의 출력 정반사 성분을 생성하는 광학적 특성을 갖는 길이, 폭 및 피크 각도를 구비하고, 제 4 표면 구조 함수는 상기 제 3 표면 구조 함수의 길이를 따라 상기 제 3 표면 구조 함수의 주파수, 위상 및 피크 각도 중 하나 이상에 의해 상기 제 3 표면 구조 함수를 변조하는 적어도 의사 랜덤한 특성을 갖는 기하학적 구조를 구비함- 을 포함하되,상기 제 1 및 제 2의 3차원 표면은 1 ㎝ 이하의 상관 길이에서 초기 값의 37 퍼센트 미만의 상관 함수 값을 갖는백라이트 디스플레이 장치.
- 제 91 항에 있어서,상기 광학 기판(510)은 서로에 대해 0도 내지 90도의 상대적 배향을 갖는 제 1 및 제 2 표면 함수를 포함하는백라이트 디스플레이 장치.
- 제 92 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 표면 함수의 상대적 배향은 서로에 대해 수평 또는 수직인백라이트 디스플레이 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 표면 함수는 40 ㎛의 폭과 1 ㎛ 내지 200 ㎛의 높이를 갖는 삼각형인광학 기판.
- 제 10 항에 있어서,상기 표면 함수는 40 ㎛의 폭과 18 ㎛의 높이를 갖는 삼각형인광학 기판.
- 제 10 항에 있어서,상기 표면 함수는 밑면 대 높이의 비율이 40 대 1 내지 1 대 10인 삼각형인광학 기판.
- 제 10 항에 있어서,상기 표면 함수는 밑면 대 높이의 비율이 40 대 18인 삼각형인광학 기판.
- 제 10 항에 있어서,상기 광학 기판(100)의 상기 표면은 1.1 내지 3.0의 굴절률을 갖는 광 투과 물질로 형성되는광학 기판.
- 제 10 항에 있어서,상기 광학 기판(100)의 상기 표면은 1.75의 굴절률을 갖는 광 투과 물질로 형성되는광학 기판.
- 제 95 항에 있어서,상기 광학 기판(100)의 상기 표면은 1.75의 굴절률을 갖는 광 투과 물질로 형성되는광학 기판.
- 제 91 항에 있어서,상기 제 2의 3차원 표면은 광학적으로 평활하거나 평면인백라이트 디스플레이 장치.
- 제 91 항에 있어서,상기 제 2의 3차원 표면은 광택이 없거나 또는 확산성 마감을 갖는백라이트 디스플레이 장치.
- 제 102 항에 있어서,상기 제 2의 3차원 표면은 왜곡 또는 이방성의 확산 특성을 갖는백라이트 디스플레이 장치.
- 제 91 항에 있어서,상기 제 2의 3차원 표면은 기판 내에 형성되거나 또는 접착제로 접착되는 융기부 패턴을 포함하는 광학적으로 평활하거나 평면인백라이트 디스플레이 장치.
- 광학 기판(100)에 있어서,1 ㎝ 이하의 상관 길이 내에서 초기 값의 37 퍼센트 미만의 상관 함수 값을 갖는 표면을 포함하되,상기 표면은 다수의 랜덤 함수에 의해 변조되는 다수의 파라미터를 갖는 제 1 표면 구조 함수(50,52,54)에 의해 정의되는광학 기판.
- 제 105 항에 있어서,상기 다수의 랜덤 함수는 공간적으로 일정하거나 또는 공간적으로 변하는광학 기판.
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