KR101190285B1 - 나노금속입자 제조장치 - Google Patents

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KR101190285B1
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이진욱
김은주
김재환
조성희
장윤석
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포항공과대학교 산학협력단
효림산업주식회사
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Abstract

본 발명은 토양/지하수 내 유기오염물질 및 중금속 등의 환경오염 물질을 정화처리하기 위한 나노영가철(Nanoscale Zero Valent Iron; nZVI), Bimetal nZVI 등의 다양한 나노금속입자를 제조하기 위한 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP, 이하 같다) 제조장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 SUS 반응탱크, 교반장치, N2가스퍼징(purging)수단을 포함하여 구성되는 NMP 합성반응기와; 합성된 NMP을 합성 반응기 바닥에 포집하기 위하여 합성 반응기 하부에 설치되는 전자석(Eelectromagnet)과; NMP 합성 반응기에서 합성된 NMP 또는 전자석으로 포집 및 응집된 NMP을 분산시키며 표면에 흡착된 불순물을 제거하기 위한 입자균질화수단(Homogenizer);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 ㅎ호환원제인 um Borohydride를 이용한 습식 환원법 이용하여, 다양한 환경에서 유기오염물질을 분해할 수 있고 유해한 중금속을 흡착/고정화 처리할 수 있는 정화제로 다양한 환경유해물질 처리에 적용될 수 있는 반응성이 뛰어난 나노영가철(nZVI)을 대량으로 합성하여 안정적으로 회수할 수 있다.

Description

나노금속입자 제조장치{Nano Metal Particle Manufacturing Equipment}
본 발명은 토양/지하수 내 유기오염물질 및 중금속 등의 환경오염 물질을 정화처리하기 위한 나노영가철(Nanoscale Zero Valent Iron; nZVI), Bimetal nZVI 등의 다양한 나노금속입자를 제조하기 위한 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP, 이하 같다) 제조장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 SUS 반응탱크, 교반장치, N2가스퍼징(purging)수단을 포함하여 구성되는 NMP 합성반응기와; 합성된 NMP을 합성 반응기 바닥에 포집하기 위하여 합성 반응기 하부에 설치되는 전자석(Eelectromagnet)과; NMP 합성 반응기에서 합성된 NMP 또는 전자석으로 포집 및 응집된 NMP을 분산시키며 표면에 흡착된 오염물질 및 불순물을 제거하기 위한 입자균질화수단(Homogenizer);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 환원제인 um Borohydride를 이용한 습식 환원법 이용하여, 다양한 환경에서 유기오염물질을 분해할 수 있고 유해한 중금속을 흡착/고정화 처리할 수 있는 정화제로 다양한 환경유해물질 처리에 적용될 수 있는 반응성이 뛰어난 나노영가철(nZVI)을 대량으로 합성하여 안정적으로 회수할 수 있다.
최근 나노크기입자는 환경오염물 제거 이외에도 다양한 응용성 때문에 환경 과학자와 기술자에게 가장 관심 있는 분야로 나노기술의 발달에 따라 최근 환경 분야에서 토양/지하수 내 유기오염물질의 처리를 위하여 나노영가철(Nano Zero Valent Iron; nZVI)의 활용 방안이 많은 주목을 받고 있다.
먼저 영가철에 의한 염화유기물의 제거 메커니즘을 살펴보면, 영가철로 존재하는 철(Fe0)은 다음 반응식과 같이 산화를 일으키며 산화환원쌍(redox couple)을 형성한다. 이는 영가 금속이 전자를 잃으며 양이온 형태로 존재하려는 경향에 의하여 자발적 산화에 의해 발생하는 부식반응과 유사하다.
Fe0 ↔ Fe2 + + 2e-
즉, 염화유기화합물과 반응 가능한 주요 환원제는 Fe0, Fe2 +이다. 부식반응의 경우로는 Fe0 로부터 표면에 흡착된 염화알킬로의 직접적인 전자교환에 의한 것이 주종을 이루나, 이외에도 부식반응으로 생성된 Fe2 +의 탈염소화에 의한 탈염소화 작용 등이 있다. 이들 철 환원제에 의한 알킬할라이드(alkyl halide: RX)의 탈염과정은 다음 식과 같이 나타낼 수 있다.
Fe0+ RX + H+ ↔ Fe2 + + RH + X-
2Fe2 + + RX + H+ ↔ 2Fe3 + + RH + X-
또한, 다양한 전이금속 중에서도 철은 비교적 높은 환원력(-0.3 ~ 0.7V)을 가지고 있으면서 저렴하고 구하기가 쉬워 가장 널리 사용되고 있다.
영가철에 의한 탈염화 환원반응이 일어나기 위해서는 오염물질의 철 표면으로의 흡착과 전자전달반응이 유기적으로 연계되어야 한다. 전자 전달반응은 철 표면의 defects로부터 나온 전자가 직접 전달되거나, 반도체(Semi-conductor)의 역할을 하는 산화막 또는 산화막에 존재하는 Fe-H, Fe-OH bond들의 coordination에 의해 간접적으로 전달된다고 알려져 있다.
영가철은 그 종류에 따라 -0.3 ~ 0.7 V 의 환원전위를 가지고 있음이 보고되고 있고, 철의 환원전위 보다 낮은 전위를 갖는 환원 반응은 이론적으로 처리가 가능하다. 이러한 영가철을 이용하여 오염물질을 제거하는 연구가 계속되고 있으며, 철에 의한 탈염화 반응에 의해 처리 가능한 염화유기오염물질은 halogenated ethylenes(TCE, PCE), Halogenated Alkanes(TCM, DCM 등), Halogenated aromatics (염화페놀, PCBs, 염화다이옥신, PBDEs)등으로 처리속도에 차이는 있지만 대부분 탈염화 반응이 가능하다. Nitrate, Nitrite, Nitro-aromatics와 같은 질소화합물의 경우 매우 빠른 반응속도로 질소 가스로 환원되어 수처리에 응용가능하다. 또한 산화/환원에 의한 흡착반응에 의해 Cr, As, Pb, Zn, Ni 등의 중금속 및 우라늄 등의 방사성 물질까지 처리할 수 있음이 보고되고 있다.
이러한 nZVI는 합성방법이나 조건에 따라 입자 자체의 환원 반응성이 크게 달라질 수 있기 때문에 현재까지 반응성 향상을 위한 새로운 합성방법에 대한 연구가 지속적으로 이루어지고 있는 실정이다.
이러한 반응성 있는 철은 이용 목적에 따라 다양한 방법으로 제조할 수 있다. 대표적으로, 나노영가철 제조 기술로서 최근에 개발된 기술은 크게 물리적 합성법과 화학적 합성법으로 구분할 수 있다.
물리적 합성법에는 1) Inert Gas condensation, 2) Severe plastic deformation, 3) High energy ball milling 4) Ultrasound shot peening이 있으며, 화학적 합성법에는 1) Reverse Micelle(or Micro emulsion), 2) Controlled chemical coprecipitation 3) Chemical vapor condensation, 4) pulse electrodeposition 5) Liquid flame spray 6) Liquid-phase reduction 및 7) Gas-phase reduction 방법이 있다.
이중 환경정화에 이용되는 합성법은 주로 Boll-milling, liquid-phase reduction(습식환원법) 및 Gas phase reduction(가스상 환원법)에 의한 방법이다. 초기에 영가철을 이용하던 반응벽체(PRB)에 사용되는 micro size ZVI 는 Boll-milling에 의해 만들어져 왔으며, 최근에는 NaBH4와 같은 환원제를 이용하여 합성하는 습식환원법에 의해 Nano size ZVI를 만들어 비표면적을 크게하여 반응성을 증가시키고, 입자크기를 줄여 토양 공극을 더욱 쉽게 이동할 수있는 nZVI를 합성하여 현장에 적용하고자 하는 연구가 활발히 진행되고 있다.
또한 고온 고압하에서 H2를 주입하여 환원하는 가스상 환원법으로 제조하여 환경정화에 적용 및 시판되고 있는 RNIP(FeH2, Reactive Nano Iron Particle)를 이용하고 있다.
하지만, 실제로 환원제(NaBH4 등)를 이용하여 실제 환경정화 현장에 사용할 수 있는 제품을 대량으로 만들 수 있는 장치는 없으므로 본 발명자들은 나노영가철 등 나노금속입자를 대량으로 생산할 수 있고, 가격도 저렴하게 제조할 수 있는 장치를 개발하기 위하여 본 발명을 완성하게 되었다.
본 발명은 종래의 나노영가철의 합성방법인 습식 환원법(wet reduction method)을 이용하여 대량의 나노금속입자 제조 장치 개발을 통해 뛰어난 반응성을 가진 나노영가철을 대량으로 합성할 수 있는 장치를 개발하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 SUS 반응탱크, 교반장치, N2가스퍼징(purging)수단을 포함하여 구성되는 NMP 합성반응기와; 합성된 NMP을 합성반응기 바닥에 포집하기 위하여 합성 반응기 하부에 설치되는 전자석(Eelectromagnet)과; NMP 합성반응기에서 합성된 NMP 또는 전자석으로 포집 및 응집된 NMP을 분산시키며 표면에 흡착된 오염물질 및 불순물을 제거하기 위한 입자균질화수단(Homogenizer);을 포함하여 구성되는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치를 과제의 해결수단으로 한다.
또한, 상기 NMP 합성반응기는 환원제인 Sodium Borohydride를 이용한 습식 환원법을 이용하고, N2 gas를 주입하여 혐기반응으로 표면 산화를 최소화한 반응성이 뛰어난 나노금속입자를 제조하는 것을 과제의 해결수단으로 한다.
또한, 상기 NMP 합성반응기는 N2 가스퍼징증류수탱크, Fe용액탱크, NaBH4용액탱크, 첨가제탱크와 각각 펌프, 밸브 및 배관라인으로 연결되는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.
또한, 상기 NMP 합성반응기는 환원제인 NaBH4용액이 합성반응기 내에 균질하게 주입될 수 있도록 원형의 튜브에 1mm 구멍을 뚫어 NaBH4용액이 균질하게 주입되어 나노금속입자가 균질하게 합성되는 것을 과제 해결 수단으로 한다.
또한, 상기 NMP 합성반응기는 바닥의 경사가 5-10°로 형성되어 합성된 나노금속입자를 합성반응기 하부의 전자석으로 포집, 상등액을 신속하고 용이하게 제거할 수 있도록 하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.
또한, 상기 입자균질화수단(Homogenizer)은 나노금속입자의 분산효과 증대 및 균질성을 증대하기 위하여 회전자와 고정자의 간격을 50~150㎛로 조절하고, 회전자를 3,200-30,000rpm으로 고속회전시켜 응집된 입자를 균질하게 하는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.
또한, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 전자석(Eelectromagnet)의 과열을 방지하기 위한 냉각장치를 더 포함하여 구성되는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.
또한, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 입자균질화수단(Homogenizer)과 연결되어 2차로 NMP을 균질하게 분산시키며 표면에 흡착된 불순물을 제거하기 위한 초음파기(ultrasonicator)를 더 포함하여 구성되는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.
또한, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 NMP 합성반응기, 전자석(Eelectromagnet), 입자균질화수단(Homogenizer)의 다양한 가동조건을 자동운전할 수 있는 프로그램을 탑재하여 PLC 방식으로 제어할 수 있도록 하는 Control Panel을 더 포함하여 구성되는 것을 과제의 해결 수단으로 한다.
또한, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 나노영가철을 1~10kg/day(dry base)으로 생산할 수 있는 것을 과제 해결수단으로 한다.
본 발명에 따른 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 기존의 합성법으로 나노금속입자를 저렴하게 상용화 대량생산할 수 있도록 시스템화한 것으로 하루에 1-10kg의 나노영가철(nZVI)을 제조할 수 있으며, 또한, 본 발명에 따른 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 환원제인 Sodium Borohydride를 이용한 습식 환원법 이용하여, 다양한 환경에서 유기오염물질을 분해할 수 있고 유해한 중금속을 흡착/고정화 처리할 수 있는 정화제로 다양한 환경유해물질 처리에 적용될 수 있는 반응성이 뛰어난 나금속입자를 대량으로 합성하여 안정적으로 회수할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 나노금속입자 제조장치 공정도
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 나노금속입자 제조장치 평면구성도
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 나노금속입자 제조장치 정면구성도
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 나노금속입자 제조장치 측면평면구성도
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 Homogenizer 개념도
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 PLC 제어화면사진
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 장치에 의해 제조된 nZVI 제품 사진
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 nZVI의 입자특성 및 스펙트럼데이터
본 발명은 SUS 반응탱크, 교반장치, N2가스퍼징(purging)수단을 포함하여 구성되는 NMP 합성반응기와; 합성된 NMP을 합성반응기 바닥에 포집하기 위하여 합성 반응기 하부에 설치되는 전자석(Eelectromagnet)과; NMP 합성반응기에서 합성된 NMP 또는 전자석으로 포집 및 응집된 NMP을 분산시키며 표면에 흡착된 오염물질 및 불순물을 제거하기 위한 입자균질화수단(Homogenizer);을 포함하여 구성되는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치를 기술구성의 특징으로 한다.
또한, 상기 NMP 합성반응기는 환원제인 Sodium Borohydride를 이용한 습식 환원법을 이용하고, N2 gas를 주입하여 혐기반응으로 표면 산화를 최소화한 반응성이 뛰어난 나노금속입자를 제조하는 것을 기술구성의 특징으로 한다.
또한, 상기 NMP 합성반응기는 N2 가스퍼징증류수탱크, Fe용액탱크, NaBH4용액탱크, 첨가제탱크와 각각 펌프, 밸브 및 배관라인으로 연결되는 것을 기술구성의 특징으로 한다.
또한, 상기 NMP 합성반응기는 NaBH4용액이 합성반응기 내에 균질하게 주입될 수 있도록 원형의 튜브에 1mm 구멍을 뚫어 NaBH4용액이 균질하게 주입되어 나노금속입자가 균질하게 합성되는 것을 기술구성의 특징으로 한다.
또한, 상기 NMP 합성반응기는 바닥의 경사가 5-10°로 형성되어 합성된 나노금속입자를 합성반응기 하부의 전자석으로 포집, 상등액을 신속하고 용이하게 제거할 수 있도록 하는 것을 기술구성의 특징으로 한다.
또한, 상기 입자균질화수단(Homogenizer)은 나노금속입자의 분산효과 증대 및 균질성을 증대하기 위하여 회전자와 고정자의 간격을 50~150㎛로 조절하고, 회전자를 3,200-30,000rpm으로 고속회전시켜 응집된 입자를 균질하게 하는 것을 기술구성의 특징으로 한다.
또한, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 전자석(Eelectromagnet)의 과열을 방지하기 위한 냉각장치를 더 포함하여 구성되는 것을 기술구성의 특징으로 한다.
또한, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 입자균질화수단(Homogenizer)과 연결되어 2차로 NMP을 균질하게 분산시키며 표면에 흡착된 불순물을 제거하기 위한 초음파기(ultrasonicator)를 더 포함하여 구성되는 것을 기술구성의 특징으로 한다.
또한, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 NMP 합성반응기, 전자석(Eelectromagnet), 입자균질화수단(Homogenizer)의 다양한 가동조건을 자동운전할 수 있는 프로그램을 탑재하여 PLC 방식으로 제어할 수 있도록 하는 Control Panel을 더 포함하여 구성되는 것을 기술구성의 특징으로 한다.
또한, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 나노영가철을 1~10kg/day(dry base)으로 생산할 수 있는 것을 기술구성의 특징으로 한다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 이들 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니라는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명할 것이다.
우선, 본 발명은 토양/지하수 내 유기오염물질 및 중금속 등의 환경오염 물질을 정화처리하기 위한 나노영가철(Nanoscale Zero Valent Iron; nZVI), Bimetal nZVI 등의 다양한 나노금속입자를 제조하기 위한 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP, 이하 같다) 제조장치에 관한 것이다.
나노영가철을 이용하여 정화처리될 수 있는 상기 환경오염물질은 트리클로로에틸렌(Trichloroethylene; TCE), 테트라클로로에틸렌(Tetrachloroethylene; PCE)의 할로겐 유기용매; 염화페놀, Polychlorinated Biphenyl(PCBs), Polychlorinated Dibenzodioxins(PCDDs), Polybrominated diphenyl ethers(PBDEs)의 할로겐 방향족 물질; 크롬, 납, 비소, 니켈의 중금속; 질산염(NO3-); 황산염(SO4-2); Polycyclic aromatic hydrocarbon(PAH); 트리클로로에탄(Trichoroethane; TCA); 테트라클로로에탄(Tetrachloroethane; PCA); 클로로포름; 니트로벤젠; 니트로톨루엔; 디니트로벤젠; 디니트로톨루엔; 염소화메탄 등이다.
본 발명에서 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 나노금속입자 제조장치 공정도이며, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 나노금속입자 제조장치 평면구성도이고, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 나노금속입자 제조장치 정면구성도이며, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 나노금속입자 제조장치 측면평면구성도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 Homogenizer 개념도이며, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 PLC 제어화면사진이고, 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 장치에 의해 제조된 nZVI 제품 사진이며, 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 nZVI의 특성치 및 스펙트럼데이터이다.
본 발명에 따른 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치를 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명하면, SUS 반응탱크(1), 교반장치(2), N2가스퍼징(purging)수단(3)을 포함하여 구성되는 NMP 합성반응기와; 합성된 NMP을 합성반응기 바닥에 포집하기 위하여 합성 반응기 하부에 설치되는 전자석(Eelectromagnet)(4)과; NMP 합성반응기에서 합성된 NMP 또는 전자석으로 포집 및 응집된 NMP을 분산시키며 표면에 흡착된 오염물질 및 불순물을 제거하기 위한 입자균질화수단(Homogenizer)(5);을 포함하여 구성되며, 상기 NMP 합성반응기는 N2 가스퍼징증류수탱크(101), Fe용액탱크(102), NaBH4용액탱크(103), 첨가제탱크(106)와 각각 펌프, 밸브 및 배관라인으로 연결된다.
상기 NMP 합성반응기는 Fe용액, 환원제인 NaBH4(Sodium Borohydride), N2 가스퍼징증류수 및 첨가제를 이용한 습식 환원법을 이용하고, N2 gas를 주입하여 혐기반응으로 표면 산화를 최소화한 반응성이 뛰어난 나노금속입자를 제조할 수 있으며, NaBH4용액이 합성반응기 내에 균질하게 주입될 수 있도록 원형의 튜브에 1mm 구멍을 뚫어 NaBH4용액이 균질하게 주입되어 나노금속입자가 균질하게 합성되도록 구성된다.
또한, 상기 NMP 합성반응기는 바닥의 경사가 5-10°로 형성되어 합성된 나노금속입자를 합성반응기 하부의 전자석으로 포집, 상등액을 신속하고 용이하게 제거할 수 있도록 되어 있다. 또한, 상기 전자석(Eelectromagnet)(4)에는 과열을 방지하기 위한 냉각장치를 더 포함하여 구성될 수 있다.
한편, 입자균질화수단(Homogenizer)(5)은 나노금속입자의 분산효과 증대 및 균질성을 증대하기 위한 것으로, 도 5에 도시한 바와 같이, 회전자(rotor)(11)와 고정자(stator)(10)의 아주 작은 간극 사이로 회전자가 고속으로 회전하면 높은 전단에너지(high shearing force)가 발생되는데, 이 높은 전단에너지에 의해 입자가 균질화되고 표면적이 크게 늘어나며, 반응성이 높아지게 되고, 회전자(rotor)(11)의 고속회전에 의해 원심력이 발생하여 이송펌프로서의 기능이 생기게 되고, 연속적인 균질화가 가능하게 된다.
상기 회전자(11)는 3,200-30,000rpm으로 고속회전되어 응집된 입자를 균질하게 하고, 고정자(10)와 회전자(11) 사이의 간격은 50~150㎛ 범위로 조절할 수 있게 되어 있다.
입자균질화수단(Homogenizer)(5)의 작동상태를 설명하면, NMP 합성반응기에서 합성된 NMP용액 또는 전자석으로 포집 및 응집된 NMP용액을 입자균질화수단(Homogenizer)(5)에 공급하면 용액은 고정자(1)와 회전자(11) 사이의 좁은 간격을 통하여 원주면으로 방출된다. 이때 용액은 전단력, 원심력 및 마찰력을 받아 나노금속입자가 분산 및 균질화된다.
또한, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 입자균질화수단(Homogenizer)(5)과 연결되어 2차로 NMP을 균질하게 분산시키며 표면에 흡착된 불순물을 제거하기 위한 초음파기(ultrasonicator)(6)를 더 포함하여 구성될 수도 있다.
아울러, 상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 도 6에 도시한 바와 같이, 상기 NMP 합성반응기, 전자석(Eelectromagnet), 입자균질화수단(Homogenizer)의 다양한 가동조건을 자동운전할 수 있는 프로그램을 탑재하여 PLC 방식으로 제어할 수 있도록 하는 Control Panel(7)을 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 도 7에 도시한 바와 같이, 나노영가철을 1~10kg/day(dry base)으로 생산할 수 있으며, 도 8에 도시한 본 발명의 나노금속입자 제조장치에 의해 제조된 nZVI의 특성치 및 스펙트럼데이터로부터 다양한 환경에서 유기오염물질을 분해할 수 있고 유해한 중금속을 흡착/고정화 처리할 수 있는 정화제로 다양한 환경유해물질 처리에 적용될 수 있는 반응성이 뛰어난 나노영가철(nZVI)을 대량으로 합성할 수 있음을 알 수 있다.
(1) Fe 용액 제조 : FeCl3 290.44g을 증류수 3000 ml에 녹여 0.5 M Fe3+용액을 제조하여 Fe 용액탱크에 저장한다.
(2) NaBH4 용액 제조 : NaBH4 195.11g을 6500 ml의 증류수에 녹여 0.8M의 NaBH4 용액을 제조하여 NaBH4 용액탱크에 저장한다.
(3) Degassing Water : N2 가스로 30분동안 Purging 한 증류수를 20L 제조하여 나노영가철의 제조 및 세척수로 사용할 수 있도록 증유수 탱크에 저장한다. N2 purging은 1L/min로 30분 이상 주입하여 DO 2ppm 이하로 유지하고, 순수 탱크의 공기중 노출시 1시간 이내 사용 또는 밀폐시 6시간까지 사용이 가능하다.
본 발명에 따른 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치를 사용하여 도 1의 공정도에 따라 다음과 같이 나노영가철을 제조하였다.
(1) 반응기(1) 내의 교반장치가 가동되고, N2 가스퍼징증류수탱크(101), Fe용액탱크(102), NaBH4용액탱크(103), 첨가제탱크(106)의 밸브를 개방하여 반응기(1) 내로 Fe용액, NaBH4용액, N2 가스퍼징증류수, 첨가제를 주입하여 나노영가철을 합성한다.
(2) 합성된 나노영가철의 교반 및 세척을 위해 반응기내 합성된 영가철을 순환 시키며 교반을 하고, 반응기 내에 물을 추가로 2L 주입하여 오염물질의 탈착시킨다.
(3) 합성된 나노 영가철의 분산성을 증대시키기 위해 입자균질화수단(Homogenizer)(5)를 가동하여 분산기 내 고정자 및 회전자 간극을 통과시켜 응집된 나노영가철을 분산 시키며, 표면에 흡착된 오염물질 및 불순물을 제거한다.
(4) 반응기 하부에 설치된 전자석(4)를 약 0.5-1분 동안 가동시켜 합성된 나노영가철을 반응기 바닥에 포집한다. 이때 전자석을 경사진 반응기의 바닥면에 밀착시켜 반응기 내 영가철을 효율적으로 포집할 수 있도록 하며, 전자석의 과열을 방지하기 위해 냉각장치를 사용한다.
(5) 전자석 포집 후 상등액을 배수시켜 폐수저장탱크로 보낸다. 이때 상등액을 효육적으로 배출하기 위하여 반응기 바닥은 약 5-10도 정도 경사지게 해서 영가철의 손실이 없이 상등액만 배출될 수 있도록 한다.
(6) 상등액을 모두 배수 후 순수한 물을 반응기(1)내 주입하고, 이때 전자석(4)은 끄고, 대신 교반기(2)를 켜서 나노영가철을 다시 교반 및 세척할 수 있도록 한다. 또한, 입자균질화수단(Homogenizer)(5)를 가동하여 나노영가철 용액을 순환시키며 전자석으로 응집된 나노영가철을 다시 균질하게 분산될 수 있도록 한다. 이때 입자균질화수단(Homogenizer)(5)은 회전자와 고정자 사이 50~150㎛ 간극 틈을 가진 것으로 최대 분산 속도는 500ml/min 이며, 분산강도는 3,200~30,000rpm 으로 나노영가철을 분산한다.
(7) 상기 합성된 나노영가철은 상기 (4) 내지 (6) 단계를 2회 더 반복하여 영가철 표면에 흡착된 오염물질을 탈착/세척을 하고, 균질하게 분산이 될 수 있도록 반복한다.
(8) 상기 (7) 단계까지 탈착/세척/분산 과정을 수행한 나노영가철은 마지막으로 물을 주입하여 원하는 규격의 나노영가철의 농도로 밀폐 보관한다.
이상의 공정에 따라 본 발명의 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 나노영가철을 1~10kg/day(dry base)으로 생산할 수 있다. 또한 이러한 합성 공정 사이에 다양한 나노영가철을 합성하기 위해 다양한 첨가제를 주입하는 것은 용액탱크, 밸프, 배관라인이 추가로 설치되어 언제든지 공정을 변경, 다양한 영가철을 합성 할 수 있다.
이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.
1 : 반응기 2 : 교반장치 3 : 질소퍼징장치
4 : 전자석 5 : 입자균질화수단 6 : 초음파기

Claims (10)

  1. SUS 반응탱크와, 상기 SUS 반응탱크 내부의 Fe용액, NaBH4용액, N2 가스퍼징증류수 및 첨가제의 반응혼합물을 교반하기 위한 교반장치와, 상기 SUS 반응탱크 내부로 N2 가스퍼징증류수를 주입하거나 N2 gas를 주입하기 위한 N2가스퍼징(purging)수단을 포함하여 구성되는 NMP 합성반응기와; 합성된 NMP을 합성반응기 바닥에 포집하기 위하여 합성 반응기 하부에 설치되는 전자석(Eelectromagnet)과; NMP 합성반응기에서 합성된 NMP 또는 전자석으로 포집 및 응집된 NMP을 분산시키며 표면에 흡착된 불순물을 제거하기 위한 입자균질화수단(Homogenizer);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
  2. 제1항에 있어서,
    상기 NMP 합성반응기는 Fe용액, NaBH4용액, N2 가스퍼징증류수 및 첨가제의 반응혼합물에 N2 gas를 주입하여 혐기반응으로 표면 산화를 최소화한 나노금속입자를 제조하는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
  3. 제1항에 있어서,
    상기 NMP 합성반응기의 SUS 반응탱크는 N2 가스퍼징증류수탱크, Fe용액탱크, NaBH4용액탱크, 첨가제탱크와 각각 펌프, 밸브 및 배관라인으로 연결되어 상기 SUS 반응탱크 내부로 N2 가스퍼징증류수, Fe용액, NaBH4용액 및 첨가제 각각을 주입하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
  4. 제1항에 있어서,
    상기 NMP 합성반응기는 NaBH4용액이 합성반응기 내에 균질하게 주입될 수 있도록 원형의 튜브에 1mm 구멍을 뚫어 NaBH4용액이 균질하게 주입되어 나노금속입자가 균질하게 합성되는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
  5. 제1항에 있어서,
    상기 NMP 합성반응기는 바닥의 경사가 5-10°로 형성되어 합성된 나노금속입자를 합성반응기 하부의 전자석으로 포집하고, 상등액을 신속하고 용이하게 제거할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
  6. 제1항에 있어서,
    상기 입자균질화수단(Homogenizer)은 나노금속입자의 분산효과 증대 및 균질성을 증대하기 위하여 회전자와 고정자의 간격을 50~150㎛로 조절하고, 회전자를 3,200-30,000rpm으로 고속회전시켜 응집된 입자를 균질하게 하는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
  7. 제1항에 있어서,
    상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 전자석(Eelectromagnet)의 과열을 방지하기 위한 냉각장치를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
  8. 제1항에 있어서,
    상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 입자균질화수단(Homogenizer)과 연결되어 2차로 NMP을 균질하게 분산시키며 표면에 흡착된 불순물을 제거하기 위한 초음파기(ultrasonicator)를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
  9. 제1항 내지 제8항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 상기 NMP 합성반응기, 전자석(Eelectromagnet), 입자균질화수단(Homogenizer)의 다양한 가동조건을 자동운전할 수 있는 프로그램을 탑재하여 PLC 방식으로 제어할 수 있도록 하는 Control Panel을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
  10. 제1항 내지 제8항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치는 나노영가철을 1~10kg/day(dry base)으로 생산할 수 있는 것을 특징으로 하는 나노금속입자(Nano Metal Particle ; NMP) 제조장치
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