KR101139518B1 - An evaporator for Vacuum thermal evaporation - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 증착 공정용 증발원에 관한 것으로, 좀 더 특별하게는 대면적 박막의 균일도를 높일 수 있게 설계된 다중 증발관 구조의 증발원과 다수의 증발원을 합체시켜 호스트 물질과 도핑 물질의 분포 균일도를 높일 수 있는 하이브리드 증발원에 관한 것이다. The present invention relates to an evaporation source for a deposition process, and more particularly, to increase the uniformity of distribution of a host material and a doping material by combining an evaporation source and a plurality of evaporation sources of a multi-evaporation tube structure designed to increase the uniformity of a large-area thin film. The present invention relates to a hybrid evaporation source.
일반적으로 반도체 소자, 평판 디스플레이 소자, 태양 전지 등을 제작함에 있어서 진공 중에서 물질을 가열하여 박막 형태로 증착하는 공정이 사용된다. 이러한 진공 가열 증착 방법에서는 증착하고자 하는 물질을 담아 가열하여 기판 쪽으로 분사하는 증발원이 필요하며, 종래 흔히 사용하는 증발원은 점증발원이었으나, 기판의 크기가 점점 대면적화 됨에 따라 기판을 회전시켜야 하는 점증발원으로도 박막의 균일도를 확보할 수 없어, 선형 증발원을 스캔하면서 증착하는 방식이 사용되고 있다. 그러나 선형 증발원을 사용할 경우 선형 증발원의 길이가 기판 길이보다 커야 하기 때문에 증착 장비의 크기가 커지며, 전체 선형 증발원의 균일 온도 유지 등이 문제되거나, 선형 증발원의 수평 유지가 깨어지면 박막 균일도가 깨어지는 문제가 발생할 수 있다. In general, in manufacturing a semiconductor device, a flat panel display device, a solar cell and the like, a process of heating a material in a vacuum and depositing it in a thin film form is used. In such a vacuum heating deposition method, an evaporation source that contains a material to be deposited is heated and sprayed toward a substrate. An evaporation source that is commonly used was an evaporation source. However, as the size of the substrate becomes larger and larger, the evaporation source needs to rotate. Since the uniformity of the thin film cannot be secured, a method of vapor deposition while scanning a linear evaporation source is used. However, when the linear evaporation source is used, the length of the linear evaporation source must be larger than the length of the substrate, so that the size of the deposition equipment becomes large, and the problem of maintaining the uniform temperature of the entire linear evaporation source or breaking the horizontal uniformity of the linear evaporation source breaks the film uniformity. May occur.
또한, 호스트 물질과 도펀트 물질을 동시에 증착할 경우 사각기둥형의 두 개의 선형 증발원을 스캔 방향으로 나란히 배열하여야 하는데(도 11 참조), 두 개의 선형 증발원에서 분출되는 분포가 일치하지 않기 때문에 호스트 물질과 도펀트 물질이 균일한 비율로 섞이지 않게 된다. 예를 들면, 하나의 증발원은 호스트(host) 물질을 분사하고 다른 하나의 증발원은 도핑 물질(dopant)을 분사할 경우, 도핑 농도가, 중앙에서 10 %이면, 좌우측에서는 각각 5 %와 20 %로 불균일하게 되는 문제가 있다.In addition, when the host material and the dopant material are deposited at the same time, two linear evaporation sources having a rectangular column shape should be arranged side by side in the scanning direction (see FIG. 11), because the distributions emitted from the two linear evaporation sources do not coincide with each other. Dopant materials do not mix at a uniform rate. For example, if one evaporation source injects a host material and the other evaporation source injects a dopant, if the doping concentration is 10% in the center, it will be 5% and 20% on the left and right, respectively. There is a problem of being uneven.
또한, 상기 문제점을 해결하기 위해, 두 개의 선형 증발원을 중심부를 향해 틸트 시키는 경우, 증발원들을 기울인 상태로 구현 및 유지하는 것 자체가 어렵고, 기울어진 증발원 내의 물질은 수평면을 유지하기 때문에 분사 노즐에 대해 불균일한 분포를 갖게 되며, 결과적으로 대면적 기판의 박막 균일도가 깨어지고 호스트 물질과 도핑 물질을 분사하는 경우 호스트 물질과 도핑 물질의 분포도가 균일성(homogeneity)을 갖지 못한다. In addition, in order to solve the problem, when tilting the two linear evaporation source toward the center, it is difficult to implement and maintain the evaporation sources in a tilted state, and because the material in the inclined evaporation source maintains a horizontal plane, As a result, there is a non-uniform distribution, and as a result, the thin film uniformity of the large-area substrate is broken, and when the host material and the doping material are sprayed, the distribution of the host material and the doping material does not have homogeneity.
따라서 본 발명의 목적은 대면적 기판의 박막 두께 균일도를 얻을 수 있는 증발원을 제공하는 것이다.It is therefore an object of the present invention to provide an evaporation source capable of obtaining thin film thickness uniformity of large area substrates.
본 발명의 또 다른 목적은 대면적 기판에 호스트 물질과 도핑 물질을 증착하는 경우, 호스트 물질과 도핑 물질의 농도 분포가 균일하게 증착될 수 있는 하이브리드 증발원을 제공하고자 하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a hybrid evaporation source in which the concentration distribution of the host material and the doping material can be uniformly deposited when the host material and the doping material are deposited on a large area substrate.
본 발명에 따르면, 물질을 담는 다수의 도가니;According to the present invention, there are provided a plurality of crucibles containing material;
상기 도가니가 나사 결합할 수 있는 체결부; 및A fastening part to which the crucible is screwed; And
상기 체결부에 연결되는 분출부;를 포함하며,Includes; a blowout portion connected to the fastening portion,
상기 분출부에는 다수의 증발관이 형성되고,A plurality of evaporation tube is formed in the ejecting portion,
상기 증발관들은 두 개의 군으로 구성되고 제1군의 증발관들은 연직 방향에 대해 왼쪽 또는 오른쪽 중 어느 한쪽으로 소정 각도씩 기울어지게 형성되고 제2군의 증발관들은 상기 제1군의 증발관들과 연직 방향에 대해 반대로 동일 각도만큼 기울어지게 형성되며,
상기 분출부의 윗면은,
평탄부;와 상기 평탄부의 길이가 더 긴 방향의 양단부에 대칭으로 형성되며 상기 평탄부로부터 아래로 경사진 경사면;을 포함하고,The evaporating tubes are composed of two groups, the first group of evaporating tubes are formed to be inclined at an angle to either the left or the right with respect to the vertical direction, and the second group of evaporating tubes are the evaporating tubes of the first group. It is formed to be inclined at the same angle as opposed to the vertical direction.
The upper surface of the ejection portion,
And an inclined surface symmetrically formed at both ends in a longer direction of the flat portion and inclined downward from the flat portion.
상기 분출부 겉면에 노출되는 증발관들의 단면은 증발관들의 길이 방향과 특정 각도를 갖도록 구성하여, 상기 평탄부는 톱니 구조를 이루는 것을 특징으로 하는 증발원을 제공할 수 있다.The cross section of the evaporation tube exposed to the outer surface of the ejection portion may be configured to have a specific angle with the longitudinal direction of the evaporation tube, the flat portion may provide an evaporation source characterized in that it forms a sawtooth structure.
또한, 본 발명은, 왼쪽 또는 오른쪽 중 어느 한쪽으로 기울어진 상기 각 군에 속한 증발관들 중 일부의 기울기가 소정의 각도를 갖고 나머지 증발관들의 기울기는 상기 소정의 각도와 다른 각도를 갖도록 두 가지 각도 또는 세 가지 이상의 각도로 구성하는 것을 특징으로 하는 증발원을 제공할 수 있다.In addition, the present invention, the inclination of some of the evaporator tubes belonging to each of the groups inclined to either of the left or right has a predetermined angle and the inclination of the remaining evaporator tubes have two different angles from the predetermined angle It is possible to provide an evaporation source, comprising an angle or three or more angles.
또한, 본 발명은, 상기 분출부에는 각 군에 속하는 증발관들이 다수의 행과 다수의 열로 배열되는 것을 특징으로 하는 증발원을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide an evaporation source, characterized in that the evaporation pipes belonging to each group are arranged in a plurality of rows and columns.
또한, 본 발명은, 상기 분출부에는 각 군에 속하는 증발관들의 분포 밀도는 증발원의 가장자리로 갈수록 밀하게 구성하는 것을 특징으로 하는 증발원을 제공할 수 있다.In addition, the present invention may provide an evaporation source, characterized in that the ejection portion has a distribution density of evaporation tubes belonging to each group closer to the edge of the evaporation source.
또한, 본 발명은, 상기 분출부에는 각 군에 속하는 증발관들이 다수의 행과 하나의 열로 배열되고 상기 증발관의 단면은 행 방향으로 길게 형성된 선형 개구부인 것을 특징으로 하는 증발원을 제공할 수 있다.The present invention may also provide an evaporation source, in which the evaporation tubes belonging to each group are arranged in a plurality of rows and one column, and the cross section of the evaporation tube is a linear opening elongated in the row direction. .
또한, 본 발명은, 상기 분출부의 증발관들의 단면이 증발관들의 길이 방향에 대해 수직 각도를 갖도록 구성하는 것을 특징으로 하는 증발원을 제공할 수 있다.In addition, the present invention, it is possible to provide an evaporation source, characterized in that the cross section of the evaporation tube of the ejection portion configured to have a vertical angle with respect to the longitudinal direction of the evaporation tube.
또한, 본 발명은 증발원 두 개를 나란히 배치하고 상기 증발원들의 양 단부의 중심부에 점 증발원을 각각 배치하여 호스트 물질과 도핑 물질을 동시 증착하는 것을 특징으로 하는 하이브리드 증발원을 제공할 수 있다.In addition, the present invention may provide a hybrid evaporation source, characterized in that the two evaporation sources are arranged side by side and a point evaporation source is disposed at the centers of both ends of the evaporation sources to simultaneously deposit a host material and a doping material.
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본 발명의 증발원에 따르면, 대면적 기판에 증착되는 박막의 두께 분포가 매우 균일하게 되는 장점이 있다. According to the evaporation source of the present invention, there is an advantage that the thickness distribution of the thin film deposited on the large area substrate is very uniform.
또한, 본 발명의 증발원의 체결 구조 및 측면 개구부 구조는 증발원의 가공 내지는 구현이 용이하다는 장점을 갖는다. In addition, the fastening structure and the side opening structure of the evaporation source of the present invention has the advantage of easy processing or implementation of the evaporation source.
또한, 본 발명의 하이브리드 증발원에 따르면, 대면적 기판에 호스트 물질과 도핑 물질을 균일한 농도 분포로 증착할 수 있다. In addition, according to the hybrid evaporation source of the present invention, the host material and the doping material can be deposited in a uniform concentration distribution on a large area substrate.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 하이브리드 증발원의 사시도이다.
도 2는 본 실시예의 분출부(100)의 구조와 증발관(180)의 배열을 보여주는 분해 사시도이다.
도 3은 본 실시예에 따른 증발관(180)의 구조에 대한 변형을 보여주는 사시도이다.
도 4는 본 실시예에 따른 증발관(180)의 구조에 대한 또 다른 변형을 보여주는 사시도이다.
도 5는 본 실시예에 따른 증발관(180)들의 배열을 나타내는 단면도들이다.
도 6은 본 실시예의 분출부(100)의 윗면 구조를 보여주는 단면도이다.
도 7 및 도 8은 증발관의 단면 구조에 따라 증발 물질의 분포가 어떻게 달라지는 지를 보여주는 개념 단면도 이다.
도 9는 본 발명에 따른 하이브리드 증발원의 배치 단면도 및 측면도이다.
도 10은 본 발명에 따른 변형된 하이브리드 증발원의 배치 평면도이다.
도 11은 종래 두 개의 증발원을 나란히 배치하거나 틸트 시켜 배치한 경우 물질 분포를 나타내는 단면도 및 그래프들이다.1 is a perspective view of a hybrid evaporation source according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is an exploded perspective view showing the structure of the
3 is a perspective view showing a modification of the structure of the
4 is a perspective view showing another modification of the structure of the
5 is a cross-sectional view showing the arrangement of the
6 is a cross-sectional view showing the top structure of the
7 and 8 are conceptual cross-sectional view showing how the distribution of the evaporation material varies depending on the cross-sectional structure of the evaporation tube.
9 is a sectional view and a side view of a hybrid evaporation source according to the present invention.
10 is a layout plan view of a modified hybrid evaporation source according to the present invention.
11 is a cross-sectional view and graphs showing material distribution when two conventional evaporation sources are disposed side by side or by tilting them.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 하이브리드 증발원의 사시도이다.1 is a perspective view of a hybrid evaporation source according to a preferred embodiment of the present invention.
본 발명의 하이브리드 증발원은 물질을 담는 도가니The hybrid evaporation source of the present invention is a crucible containing a material
(200)를 세 개의 원기둥형 몸체로 구성하였다. (200) consisted of three cylindrical bodies.
도가니(200)의 형상을 원기둥형 몸체로 구성한 것은 그 상단의 분출부(100)에 도가니(200)를 결합시키는 체결부를 나사 결합으로 구성하기 위함이다. 따라서 도가니 몸체를 원기둥이 아니라 다른 형상으로 하고 단지 체결부 만을 원기둥형으로 하여 나사 결합으로 구성할 수도 있다. 이러한 나사 결합으로 체결부를 구성한 이유는, 종래 사용되어 오던 리세스 형성 후 억지 끼움 맞춤식으로 구성한 체결부의 경우, 틈새가 생겨 증발물이 그 틈새로 누출되어 히터를 오염시키고 히터에 부착된 채 변성되어 기판에 증착되면서 불량을 발생시키기 때문이다. 즉, 본 실시예에서는 이러한 문제점을 제거하기 위해, 도가니(200)의 체결부(도면에는 도시하지 않음)를 나사산을 형성하여 나사 결합으로 구성하였다. The shape of the
또한, 도가니(200) 상단의 분출부(100)는 그 내부에 다수의 증발관(180)을 포함할 수 있다. 또한, 분출부(100)의 윗면은 전체적으로 수평으로 평탄하게 보이는 평탄부(150)와 그 평탄부의 양단으로부터 아래로 경사진 경사면(170)으로 구성된다. In addition, the
도 2를 보면, 분출부(100)의 구조를 좀 더 상세히 알 수 있다. 분출부의 양 측면에는 개구부(190)가 형성되어, 증발관(180)들의 설치 작업을 편리하게 할 수 있도록 하였고, 이러한 개구부(190)는 증발관(180) 설치 및 도가니(200) 체결을 완성하고 나면, 마개(195)(도 1 참조)로 막아 밀폐한다. Referring to FIG. 2, the structure of the
분출부(100)의 윗면을 평탄부(150)와 경사면(170)으로 구성한 이유는 증발관(180)들의 설치 구조와 관계되며, 궁극적으로는 박막 두께 균일성을 얻기 위한 것이다. 즉, 평탄부(150)에 증발관(180)의 단부가 속하는 경우에 비해 경사면(170)에 증발관(180)의 단부가 속하는 경우는 증발관(180)의 단면과 증발관의 길이 방향이 이루는 각도가 수직에 가깝게 되어 물질의 분사가 좀 더 멀리까지 미쳐 대면적 기판을 충분히 커버하여 물질을 증착할 수 있기 때문이다. The reason why the upper surface of the
증발관(180)들은 두 개의 군으로 나뉠 수 있고 어느 한 군(제1군)에 속하는 증발관(180)들은 연직 방향에 대해 왼쪽 또는 오른쪽 중 어느 한 쪽으로 기울어지게 구성하며, 다른 한 군(제2군)에 속하는 증발관(180)들은 제1군의 증발관들과 연직 방향에 대해 반대로 동일 각도로 기울어지게 구성한다. 도 1 내지 4에서 분출부(100) 윗면의 색이 어둡게 표시된 'ㄴ'자 좌우가 바뀐 형태의 부분이 하나의 군을 나타내고 이와 맞물려 밝은 색으로 표시된 부분이 제2군을 나타낸다. The
작은 원 또는 타원 단면을 갖는 증발관(180)들이 하나의 군에서 다수의 행과 다수의 열을 갖도록 배열될 수도 있으며(도 2 참조), 도 3에서와 같이, 증발관(180)의 단면을 행(가로) 방향으로 좀 더 길게 하여 열의 개수를 줄여 배열될 수도 있다. 또한, 도 4와 같이, 증발관(180) 단면을 양 끝만 반원형으로 둥글린 긴 선형으로 형성하여 하나의 열과 다수의 행으로 배열할 수도 있다.
또한, 어느 하나의 군에 속하는 증발관(180)들의 기울기를 도 5(a)에서와 같이 하나의 일정한 각도로 기울어지게 할 수도 있으나, 도 5(b)에서와 같이 일부는 연직 방향에 대해 소정의 각도로 기울어지게 하고 나머지 일부는 그에 비해 좀 더 많이 기울어지게 구성할 수도 있다. 이러한 기울기 조절은 세 가지 이상의 기울기로 다양하게 구성할 수 있다. In addition, the inclination of the
도 1 내지 4에서 보듯이 분출부(100) 윗면 중 평탄부(150)는 톱니와 같은 요철 구조를 갖는데, 이는 증발관(180)의 길이 방향과 증발관(180)의 단면이 이루는 각도를 수직으로 하거나 수직에 가깝게 만들어 증발관으로부터 분사되는 물질의 분포를 대칭 구조에 가깝게 만들고자 함이다. 증발관 단면과 증발관의 길이 방향이 이루는 각도에 따른 물질의 분포는 도 7과 8에 비교 설명 되어 있으며, 이에 따라 분출부(100)의 윗면의 평탄부(150)와 경사면(170)의 측단면 형상과 증발관(180)의 배열 구조를 도 6에 도해하였다. As shown in FIGS. 1 to 4, the
본 실시예에 대한 변형으로서, 증발관(180)들의 기울기를 두 가지 각도가 아닌 세 가지 이상의 각도로 구성할 수 있으며, 모든 증발관을 모두 다른 각도로 기울어지게 구성할 수도 있다. 가공 상의 난이도 및 제작비와 박막 두께 균일도 향상 정도를 대비하여 최적화 할 수 있으며, 본 실시예에서는 두 가지 각도로 구성하였다. As a variation on the present embodiment, the inclination of the
본 실시예에 대한 또 다른 변형으로서, 증발관(180)들의 분포 밀도를 분출부(100)의 가장자리로 갈수록 빽빽하게 하여 대면적 기판에서 증착할 때 발생할 수 있는 단부 효과(end effect: 기판 단부에서는 박막 두께가 얇아지는 현상)를 해소하여 증착되는 박막 두께를 균일하게 얻을 수 있다. As another variation on the present embodiment, an end effect that may occur when deposition on a large-area substrate is made by densifying the distribution density of the
본 실시예에 대한 또 다른 변형으로서, 증발원(180)들의 개구부 크기를 분출부(100)의 가장자리로 갈수록 더 크게 하여 단부 효과를 제거하여 증착되는 박막 두께를 균일하게 얻을 수 있다.As another variation of the present embodiment, the opening size of the
본 실시예에 대한 또 다른 변형으로서, 증발원(180)들의 개구부 크기를 분출부(100)의 가장자리로 갈수록 더 크게 하고 분포 밀도를 빽빽하게 하여 단부 효과를 제거하여 증착되는 박막 두께를 균일하게 얻을 수 있다.As another variation on the present embodiment, the opening size of the
본 실시예에 대한 또 다른 변형으로서, 세 개의 도가니(180)에 모두 호스트 물질을 넣지 않고 중앙에는 호스트 물질을, 양 쪽의 도가니에는 도핑 물질을 넣어 증착할 수도 있으나, 실험 결과 도핑 물질의 균일도(homogeneity)는 그다지 이상적이지 않다. As another variation on the present embodiment, all three
따라서, 본 발명자들은 호스트 물질과 도핑 물질을 대면적 기판에 높은 분포 균일도로 증착할 수 있는 방안을 도 9에서와 같이 구현하였다. Accordingly, the present inventors have implemented a method of depositing a host material and a doping material on a large area substrate with high distribution uniformity as shown in FIG. 9.
즉, 상술한 본 실시예의 증발원에 호스트 물질을 담고 그 양 단에 각각 점 증발원을 배치하여 도핑 물질을 담아 물질을 분사하여 대면적 기판에 박막을 증착하는 것이다. 이러한 하이브리드(hybride) 증발원으로 대면적 기판에 증착되는 박막의 두께 균일도 뿐만 아니라 호스트 물질과 도핑 물질의 분포 균일도도 매우 높은 양질의 박막을 얻을 수 있다. That is, the host material is contained in the evaporation source of the present embodiment as described above, and the point evaporation sources are disposed at both ends thereof to contain the doping material, and the material is sprayed to deposit a thin film on the large area substrate. With such a hybrid evaporation source, it is possible to obtain a high quality thin film having a very high uniformity of distribution of the host material and the doping material as well as the thickness uniformity of the thin film deposited on the large-area substrate.
또한, 하이브리드 증발원은 도 10에서와 같이 상기 실시예의 증발원 두 개를 나란히 배열하고 그 양 단부의 중심에 점 증발원을 각각 배치하여 대면적 기판을 좀 더 높은 박막 두께 균일도 및 도핑 물질 균일도를 얻을 수 있다. In addition, in the hybrid evaporation source, as shown in FIG. 10, two evaporation sources of the above embodiment are arranged side by side, and point evaporation sources are disposed at the centers of both ends thereof, so that a large-area substrate may have higher thickness uniformity and doping material uniformity. .
상기와 같은 구성에 의해 도핑 물질의 분포가 전체적으로 균일해지고 증착되는 박막의 두께도 대면적 기판에 대해 더욱 균일해 질 수 있다. By such a configuration, the distribution of the doping material is uniform throughout, and the thickness of the deposited thin film may be more uniform with respect to the large area substrate.
또한, 본 실시예에서는 상향식 증착으로 나타내었으나, 이에 한정되지 않고 하향식 또는 측향 분사식에서도 본 실시예를 구현할 수 있다.
In addition, the present embodiment is shown as a bottom-up deposition, but is not limited to this embodiment can be implemented in a top-down or side-by-side injection type.
본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.
It is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiment, but is capable of many modifications and variations within the scope of the appended claims. It is self-evident.
100: 분출부 150: 평탄부
170: 경사면 180: 증발관
190: 개구부 195: 마개
200: 도가니100: ejection portion 150: flat portion
170: slope 180: evaporation tube
190: opening 195: plug
200: crucible
Claims (8)
상기 도가니가 나사 결합할 수 있는 체결부; 및
상기 체결부에 연결되는 분출부;를 포함하며,
상기 분출부에는 다수의 증발관이 형성되고,
상기 증발관들은 두 개의 군으로 구성되고 제1군의 증발관들은 연직 방향에 대해 왼쪽 또는 오른쪽 중 어느 한쪽으로 소정 각도씩 기울어지게 형성되고 제2군의 증발관들은 상기 제1군의 증발관들과 연직 방향에 대해 반대로 동일 각도만큼 기울어지게 형성되며,
상기 분출부의 윗면은,
평탄부;와 상기 평탄부의 길이가 더 긴 방향의 양단부에 대칭으로 형성되며 상기 평탄부로부터 아래로 경사진 경사면;을 포함하고,
상기 분출부 겉면에 노출되는 증발관들의 단면은 증발관들의 길이 방향과 특정 각도를 갖도록 구성하여, 상기 평탄부는 톱니 구조를 이루는 것을 특징으로 하는 증발원.Multiple crucibles containing material;
A fastening part to which the crucible is screwed; And
Includes; a blowout portion connected to the fastening portion,
A plurality of evaporation tube is formed in the ejecting portion,
The evaporating tubes are composed of two groups, the first group of evaporating tubes are formed to be inclined at an angle to either the left or the right with respect to the vertical direction, and the second group of evaporating tubes are the evaporating tubes of the first group. It is formed to be inclined at the same angle as opposed to the vertical direction.
The upper surface of the ejection portion,
And an inclined surface symmetrically formed at both ends in a longer direction of the flat portion and inclined downward from the flat portion.
The cross section of the evaporation tube exposed to the outer surface of the ejection portion is configured to have a specific angle with the longitudinal direction of the evaporation tube, the flat portion evaporation source characterized in that it forms a sawtooth structure.
The hybrid evaporation source of claim 6, wherein two evaporation sources are arranged side by side and a point evaporation source is disposed at the centers of both ends of the evaporation sources, thereby simultaneously depositing a host material and a doping material.
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