KR101074388B1 - 액정표시장치용 제조 장비 - Google Patents

액정표시장치용 제조 장비 Download PDF

Info

Publication number
KR101074388B1
KR101074388B1 KR1020040110197A KR20040110197A KR101074388B1 KR 101074388 B1 KR101074388 B1 KR 101074388B1 KR 1020040110197 A KR1020040110197 A KR 1020040110197A KR 20040110197 A KR20040110197 A KR 20040110197A KR 101074388 B1 KR101074388 B1 KR 101074388B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
robot arm
unit
temperature
disposed
Prior art date
Application number
KR1020040110197A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060071574A (ko
Inventor
김용훈
곽상민
서진우
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020040110197A priority Critical patent/KR101074388B1/ko
Priority to TW094145273A priority patent/TWI334040B/zh
Priority to US11/315,063 priority patent/US8021993B2/en
Priority to CN200510132182A priority patent/CN100592211C/zh
Publication of KR20060071574A publication Critical patent/KR20060071574A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101074388B1 publication Critical patent/KR101074388B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67184Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the presence of more than one transfer chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67745Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber characterized by movements or sequence of movements of transfer devices
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/14Wafer cassette transporting
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/942Masking
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/942Masking
    • Y10S438/948Radiation resist
    • Y10S438/949Energy beam treating radiation resist on semiconductor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 액정표시장치 제조 장비에 관한 것으로써, 특히, 포토레지스트가 도포된 기판에 대한 노광 작업이 진행되기 전에 상기 기판이 상기 노광 작업에 적합한 온도를 유지하도록 함과 더불어 전체적인 택트 타임을 저감하고 풋프린트를 최단화 할 수 있도록 한 새로운 구조의 노광용 레이아웃을 제공하고자 한 것이다..
이를 위해 본 발명은, 포토레지스트가 도포된 기판을 반송하는 반송 컨베이어; 코팅 장치로부터 기판을 제공받아 상기 반송 컨베이어로 반출하는 제1로봇암; 상기 반송 컨베이어의 기판 반출측에 배치되는 솔벤트 제거부; 솔벤트 제거가 완료된 기판을 제공받아 그의 온도를 저감하는 온도 저감부; 온도가 저감된 기판을 임시 저장하는 버퍼부; 상기 반송 컨베이어와 솔벤트 제거부와 온도 저감부 및 버퍼부의 기판 반입측 사이에 배치되며, 기판을 각각 반입 및/혹은, 반출하는 제2로봇암; 기판을 노광 작업에 적합한 온도로 유지시키는 온도 컨트롤 유닛; 기판을 노광하는 노광 장치; 그리고, 상기 버퍼부의 기판 반출측과 상기 온도 컨트롤 유닛과 상기 노광 장치 사이에 배치되며, 기판을 각각 반입 및/혹은 반출하는 제3로봇암:이 포함되어 구성됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비를 제공한다.
Figure R1020040110197
액정표시장치용 제조 장비, 노광용 레이아웃, 배치 구조

Description

액정표시장치용 제조 장비{manufacturing device for manufacturing of liquid crystal display device}
도 1 은 종래 일반적인 노광용 레이아웃을 개략적으로 나타낸 블럭도
도 2 는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광용 레이아웃을 개략적으로 나탄내 블럭도
도 3 은 본 발명의 다른 실시예에 따른 노광용 레이아웃을 개략적으로 나타낸 블럭도
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
100. 반송 컨베이어 200. 솔벤트 제거부
300. 온도 저감부 500. 타이틀러
600. 버퍼부 610. 기판 반입측
620. 기판 반출측 710. 제1로봇암
720. 제2로봇암 730. 제3로봇암
800. 온도 컨트롤 유닛
본 발명은 액정표시장치 제조 장비에 관한 것으로써, 더욱 구체적으로는 액정표시장치 등의 디스플레이장치에 사용되는 기판의 노광을 수행하기 위한 노광용 레이아웃에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시장치(LCD;Lipuid Crystal Display Device)의 제조 공정용 장비로 사용되는 노광 장치는 포토레지스트가 도포된 글래스 기판상에 원하는 패턴에 대응한 포토 마스크를 배치하여 자외선을 조사함으로써 노광하는 장치이다.
이 때, 상기 노광 작업을 수행하기 위해 반입되는 글래스 기판은 포토레지스트의 도포 즉, 포토레지스트의 코팅을 위한 코팅 장치로부터 제공받으며, 상기 코팅 장치와 상기 노광 장치 사이에는 다수의 로봇암과 컨베이어 등이 배치되어 상기 글래스 기판의 반송이 이루어진다.
첨부된 도 1은 종래의 일반적인 액정표시장치(LCD;Lipuid Crystal Display Device)의 제조 공정용 장비 중 노광 장치로의 글래스 기판을 반송하는 일련의 레이아웃(Layout) 구조가 도시되고 있다.
이를 참조하여 종래 노광 장치로의 글래스 기판을 반송하기 위한 일반적인 레이아웃(이하, “노광용 레이아웃”이라 함)에 대하여 설명하면 아래와 같다.
우선, 종래의 노광용 레이아웃은 크게 반송 컨베이어(11,12)와, 솔벤트 제거부(20)와, 온도 저감부(30)와, 반전부(40)와, 타이틀러(50)와, 버퍼부(60)와, 다수의 로봇암(71,72,73)이 포함된다.
여기서, 상기 반송 컨베이어(11,12)는 기판을 반입 및 반출하는 역할을 수행하며, 기판을 반입받는 반입측 반송 컨베이어(11)와, 기판을 반출하는 반출측 반송 컨베이어(12)를 포함하여 구성된다.
그리고, 상기 솔벤트 제거부(20)는 상기 반입측 반송 컨베이어(11)를 통해 코팅 장치(2)로부터 포토레지스트가 도포된 기판을 반입받아 솔벤트 성분을 제거하는 역할을 수행한다.
이러한 솔벤트 제거부(20)는 SHP(Softbake Hot Plate)를 가지는 오븐(oven)이다.
그리고, 상기 온도 저감부(30)는 상기 솔벤트 제거부(20)로부터 반출된 기판의 온도를 저감하는 CP(Cool Plate)이다.
그리고, 상기 반전부(40)는 이전 공정으로부터 제공받은 기판의 공정 진행 방향을 반전시켜 후 공정으로 제공하는 역할을 수행하는 기기이다.
그리고, 상기 로봇암(71,72,73)은 각 기기와 기기 사이에 위치되어 각 기기로부터 상기 기판을 반입받아 여타의 기기로 상기 기판을 반출하는 기기이다.
이 때, 상기 로봇암은 제1로봇암(71)과, 제2로봇암(72) 및 제3로봇암(73)을 포함하여 구성된다.
상기 제1로봇암(71)은 코팅 장치(2)로부터 포토레지스트가 도포된 기판을 제공받아 반입측 반송 컨베이어(11)로 제공하는 역할을 수행하며, 상기 코팅 장치(2)와 상기 반입측 반송 컨베이어(11)의 기판 반입측 사이에 구비된다.
또한, 상기 제2로봇암(72)은 상기 반입측 반송 컨베이어(11)에 의해 반송된 기판을 제공받아 상기 솔벤트 제거부(20)로 제공하고, 상기 솔벤트 제거부(20)로부터 기판을 제공받아 상기 온도 저감부(30)로 제공하며, 상기 온도 저감부(30)로부 터 기판을 제공받아 상기 반전부(40)로 제공하는 역할을 수행한다.
이 때, 상기 반입측 반송 컨베이어(11)의 기판 반출측에는 상기 솔벤트 제거부(20)가 배치되며, 상기 제2로봇암(72)은 상기 솔벤트 제거부(20)와 상기 온도 저감부(30) 및 상기 반전부(40) 사이에 위치되어 상기 각 기기(20,30,40)로의 기판(1) 전달을 수행한다.
또한, 상기 제3로봇암(73)은 상기 반전부(40)로부터 기판을 제공받아 노광 장치(3)로 제공하고, 다시 노광 작업이 완료된 기판을 제공받아 상기 반전부(40)로 제공하는 역할을 수행한다.
이 때, 상기 제3로봇암(73)은 상기 타이틀러(50)와 상기 버퍼부(60)와 상기 노광 장치(3)와 상기 반전부(40) 사이에 위치되어 상기 각 기기(50,60,3,40)로 기판을 선택적으로 제공하고 제공받는 역할을 수행한다.
그리고, 상기 타이틀러(50)는 상기 제3로봇암(73)으로부터 노광 작업을 수행하기 전의 기판을 제공받아 각각의 식별코드(ID)를 형성하는 기기이다.
그리고, 상기 버퍼부(60)는 다음 공정으로의 반입 예정 기판을 임시 보관하는 카세트(Cassette)로써, 상기 제3로봇암(73)으로부터 상기 타이틀러(50)에 의해 식별코드가 형성된 기판을 제공받아 상기 노광 장치(3)로 제공하기전에 임시 보관하는 역할을 수행한다.
한편, 미설명 부호 4는 코팅 장치(2)로부터 반입받은 기판의 코팅층을 저진공 상태에서 건조하여 경화하는 경화부(VCD;Vacuum Dry)이며, 상기 경화부(4)는 상기 솔벤트 제거부(20)와 함께 반입측 반송 컨베이어(11)가 구비된 위치에 나란히 배치된다.
이하, 전술한 종래의 노광용 레이아웃에 의한 기판의 노광 과정을 설명하면 다음과 같다.
우선, 제1로봇암(71)은 코팅 장치(2)로부터 포토레지스트의 코팅이 완료된 기판을 제공받아 상기 경화부(4)로 제공한다.
이 때, 상기 경화부(4)의 동작에 의해 경화된 기판은 다시 상기 제1로봇암(71)에 의해 반출된 후 반입측 반송 컨베이어(11)로 제공(S1)된다.
그리고, 제2로봇암(72)은 상기 반입측 반송 컨베이어(11)에 의해 반송되는 기판을 제공받아 솔벤트 제거부(20)로 전달(S2)하고, 상기 솔벤트 제거부(20)에서는 상기 전달받은 기판의 솔벤트 제거가 수행된다.
또한, 상기 제2로봇암(72)은 상기 솔벤트 제거가 완료된 기판을 상기 솔벤트 제거부(20)로부터 반출(S3)하여 온도 저감부(30)로 제공하고, 상기 온도 저감부(30)에 의해 온도가 저감된 기판을 다시 제공받아(S4) 반전부(40)로 제공(S5)한다.
이 때, 상기 반전부(40)는 상기 제2로봇암(72)으로부터 제공받은 기판의 전후 혹은, 좌우 위치를 반전시키는 일련의 작업을 수행하게 되고, 제3로봇암(73)은 상기 반전부(40)에 의해 반전된 기판을 제공받아(S6) 타이틀러(50)로 제공한다.
상기 타이틀러(50)에서는 상기와 같이 제공받은 기판에 식별코드를 형성하게 되고, 상기 제3로봇암(73)은 상기 식별코드의 형성이 완료된 기판을 반출(S7)한 후 노광 장치(3)로 제공(S9)한다.
이 때, 상기 제3로봇암(73)은 상기 노광 장치(3)가 노광 작업의 진행 중일 경우 상기 기판을 버퍼부(60)에 임시 저장도록 동작(S8)된다.
상기 기판을 버퍼부(60)에 임시 저장하는 이유는 이후 공정인 노광 장치에서의 노광 과정이 그 이전 공정에서 이루어지는 각 작업에 비해 상당한 작업 시간이 소요되기 때문이다.
그리고, 전술한 일련의 과정에 의해 노광 작업이 완료된 기판은 다시 상기 제3로봇암(73)에 의해 반출된 후 반전부(40)로 제공(S10)됨과 더불어 계속해서 반출측 반송 컨베이어(12)로 제공(S11)되어 후 공정으로 반송된다.
그러나, 전술한 종래의 일반적인 노광용 레이아웃은 노광 작업을 수행하기 전 즉, 노광 장치(3)로의 기판 반입이 이루어지기 전에 노광 작업에 적합한 온도를 유지하도록 조절 된다고 하지만 각 기판별로의 온도 조절이 이루어지는 것이 아니기 때문에 노광 작업에 가장 적합한 온도를 유지할 수 없다는 문제점이 있었다.
즉, 상기 온도 조절이 노광용 레이아웃의 전 부위에 걸쳐 이루어지도록 구성되어 있거나 혹은, 별도의 챔버(5) 등으로 반전부(40)와 제3로봇암(73)과 버퍼부(60)가 배치된 공간에 대하여 일괄적으로 수행되었기 때문에 각 기판별로는 정확한 온도 조절이 이루어지지 못하였던 것이다.
이 때, 상기 노광 작업을 수행하기 전 기판에 대한 정확한 온도 조절이 이루어지지 않을 경우에는 온도차에 따른 기판의 크기 변형으로 인해 노광 위치가 정밀하지 못하게 되어 제품 불량이 이루어지던 심각한 문제점이 야기됨으로써 이의 개선이 시급한 실정이다.
또한, 전술한 종래의 일반적인 노광용 레이아웃은 제3로봇암(73)이 한 사이 클(cycle)동안 수행하는 작업 공수가 여덟 공수이기 때문에 한 사이클 당 택트 타임(Tact Time)이 길어지게 된 문제점이 있었다.
물론, 상기 한 사이클 당 택트 타임을 줄이기 위해 별도의 로봇암을 추가로 제공하였던 레이아웃도 개발되고 있지만, 그의 경우 상기 추가되는 로봇암의 설치 공간이 추가로 필요시되어 전체적인 레이아웃의 길이 즉, 풋프린트(footprint)가 증가되었던 문제점이 있었다.
이 때, 상기 풋프린트의 증가는 노광용 레이아웃의 구축을 위한 공장 부지의 증가를 야기시켰으므로 이에 대한 개선 역시 시급하게 요구되고 있는 실정에 있다.
본 발명은 상기한 종래의 각종 문제점들을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 포토레지스트가 도포된 기판에 대한 노광 작업이 진행되기 전에 상기 기판이 상기 노광 작업에 가장 적합한 온도를 유지하도록 함과 더불어 전체적인 택트 타임을 저감하고 풋프린트를 최단화 할 수 있도록 한 새로운 구조의 액정표시장치 제조 장비의 노광용 레이아웃을 제공하고자 한 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 기판을 반송하는 반송 컨베이어; 상기 반송 컨베이어의 기판 반입측에 배치되어 코팅 장치로부터 포토레지스트가 도포된 기판을 제공받아 상기 반송 컨베이어로 반출하는 제1로봇암; 상기 반송 컨베이어의 기판 반출측에 배치되는 솔벤트 제거부; 솔벤트 제거가 완료된 기판을 제공받아 그의 온도를 저감하는 온도 저감부; 온도가 저감된 기판을 임시 저장 하는 버퍼부; 상기 반송 컨베이어와 솔벤트 제거부와 온도 저감부 및 버퍼부의 기판 반입측 사이에 배치되며, 기판을 각각 반입 및/혹은, 반출하는 제2로봇암; 버퍼부에 임시 저장된 기판을 제공받아 노광 작업에 적합한 온도로 유지시키는 온도 컨트롤 유닛; 노광하는 노광 장치; 그리고, 상기 버퍼부의 기판 반출측과 상기 온도 컨트롤 유닛과 상기 노광 장치 사이에 배치되며, 기판을 각각 반입 및/혹은 반출하는 제3로봇암:이 포함되어 구성됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비를 제공한다.
이하, 본 발명에 따른 액정표시장치용 제조 장비의 바람직한 실시예들을 첨부된 도 2 및 도 3을 참조하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
먼저, 첨부된 도 2는 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 액정표시장치용 제조 장비의 노광용 레이아웃을 개략적으로 나타낸 블럭도이다.
즉, 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치용 제조 장비의 노광용 레이아웃은 크게 반송 컨베이어(100)와, 제1로봇암(710)과, 제2로봇암(720) 및 제3로봇암(730)과, 솔벤트 제거부(200)와, 온도 저감부(300)와, 버퍼부(600)와, 온도 컨트롤 유닛(800)과, 노광 장치(3)를 포함하여 구성된다.
상기 반송 컨베이어(100)는 포토레지스트가 도포된 기판을 반송하는 역할을 수행한다.
그리고, 상기 제1로봇암(710)과 제2로봇암(720) 및 제3로봇암(730)은 기판을 각각 반입 및/혹은, 반출하는 역할을 수행한다.
그리고, 상기 솔벤트 제거부(200)는 포토레지스트가 도포된 기판의 솔벤트 성분을 제거하는 역할을 수행한다.
그리고, 상기 온도 저감부(300)는 솔벤트 제거가 완료된 기판을 제공받아 그의 온도를 저감하는 역할을 수행한다.
그리고, 상기 버퍼부(600)는 온도가 저감된 기판을 노광 작업이 수행되기 전에 임시 저장하는 역할을 수행한다.
이 때, 상기 버퍼부(600)는 기판이 반입되는 기판 반입측(610)과 기판이 반출되는 기판 반출측(620)이 종래와 같이 동일한 곳이 아니라 서로 다른 부위임을 특징으로 한다.
특히, 상기 버퍼부(600)는 기판 반입측(610)과 기판 반출측(620)이 서로 수직한 방향에 각각 형성됨을 특징으로 한다.
그리고, 상기 온도 컨트롤 유닛(800)은 버퍼부에 임시 저장된 기판을 제공받아 노광 작업에 적합한 온도로 유지시키는 역할을 수행한다.
이 때, 상기 온도 컨트롤 유닛(800)은 노광 작업이 수행되기 직전에 각 기판별로 온도 조절을 수행하도록 구성되며, 이로 인해 정밀한 노광 작업이 가능하게 됨과 더불어 노광 작업 후 기판의 변형되어 노광 위치가 정확하지 못하던 불량이 해소될 수 있다.
그리고, 상기 노광 장치(3)는 포토레지스트가 도포된 글래스 기판상에 원하는 패턴에 대응한 포토 마스크를 배치하여 자외선을 조사함으로써 노광하는 장치이다.
전술한 바와 같은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치용 제조 장비의 각 구성들은 기본적으로 종래의 노광용 레이아웃을 이루는 개개의 구성과 대략 동일하지만, 반전부가 삭제됨과 더불어 버퍼부(600)의 구조가 개선되었으며, 별도의 온도 컨트롤 유닛(800)이 추가된다.
특히, 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치용 제조 장비의 노광용 레이아웃에 대한 배치가 종래와는 확연히 달라진다.
하기에서는, 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치용 제조 장비의 노광용 레이아웃에 대한 배치 구조를 보다 구체적으로 설명한다.
우선, 제1로봇암(710)은 반송 컨베이어(100)의 기판 반입측에 배치되고, 솔벤트 제거부(200)는 상기 반송 컨베이어(100)의 기판 반출측에 배치된다.
이 때, 상기 솔벤트 제거부(200)와 상기 반송 컨베이어(100)는 평면에서 볼 때 수평 방향을 기준으로 2열을 이루면서 나란히 배치된다.
즉, 상기 솔벤트 제거부(200)는 도면상 반송 컨베이어(100)의 기판 반출측 상부에 배치되는 것이다.
이 때, 상기 반송 컨베이어(100)의 기판 반입측 상부인 공정 진행 방향으로 봤을 때 상기 솔벤트 제거부(200)의 전방측에는 경화부(4)가 배치된다.
상기 경화부(4)는 코팅 장치(2)로부터 반입받은 기판의 코팅층을 저진공 상태에서 건조하여 경화하는 역할을 수행한다.
또한, 제2로봇암(720)은 상기 반송 컨베이어(100)와 솔벤트 제거부(200)의 이후 공정 위치에 배치되며, 온도 저감부(300)는 상기 제2로봇암(720)과 수직한 방향측인 도면상 상기 제2로봇암(720)의 상측 부위에 배치된다.
또한, 온도 컨트롤 유닛(800)은 상기 온도 저감부(300)와 그 평면에서 볼 때 수평 방향을 기준으로 2열을 이루면서 나란히 배치된다.
또한, 상기 제3로봇암(730)은 버퍼부(600)의 기판 반출측(620)과 상기 온도 컨트롤 유닛(800)과 상기 노광 장치 사이에 배치된다.
특히, 상기 제1로봇암(710)과 상기 반송 컨베이어(100)와 상기 제2로봇암(720)과 상기 버퍼부(600)는 평면에서 볼 때 동일한 열을 따라 각각 순차적으로 배치되고, 상기 온도 컨트롤 유닛(800)과 상기 제3로봇암(730)과 상기 노광 장치(3)는 평면에서 볼 때 동일한 열을 따라 각각 순차적으로 배치되며, 상기 제3로봇암(730)은 상기 버퍼부(600)와 수직한 방향측 즉, 도면상 상측 부위에 배치된다.
이 때, 상기 제2로봇암(720)과 상기 버퍼부(600)의 기판 반입측(610)은 서로 대향되게 배치됨과 동시에 상기 버퍼부(600)의 기판 반출측(620)과 상기 제3로봇암(730)은 서로 대향되게 배치된다.
그리고, 본 발명의 제1실시예에서는 상기 제3로봇암(730)이 배치된 부위와 수직한 방향측 중 상기 버퍼부(600)와는 반대 방향을 향해 수직한 방향측에는 타이틀러(500)가 더 구비된다.
즉, 본 발명의 제1실시예에 따른 노광용 레이아웃에서 상기 타이틀러(500)는 노광 후 여타 공정으로 기판이 반출되는 위치에 배치되는 것이다.
이하, 전술한 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치용 제조 장비의 노광용 레이아웃에 의한 기판의 노광 과정을 설명하면 다음과 같다.
우선, 제1로봇암(710)이 코팅 장치(2)로부터 포토레지스트의 코팅이 완료된 기판을 제공받아 상기 경화부(4)로 제공한다.
이 때, 상기 경화부(4)의 동작에 의해 경화된 기판은 다시 상기 제1로봇암(710)에 의해 반출된 후 반송 컨베이어(100)로 제공(S21)된다.
그리고, 제2로봇암(720)은 상기 반송 컨베이어(100)에 의해 반송되는 기판을 제공(S22)받아 솔벤트 제거부(200)로 전달하고, 상기 솔벤트 제거부(200)에서는 상기 전달받은 기판의 솔벤트 제거가 수행된다.
또한, 상기 제2로봇암(720)은 상기 솔벤트 제거가 완료된 기판을 상기 솔벤트 제거부(200)로부터 반출(S23)하여 온도 저감부(300)로 제공한다.
계속해서, 상기 제2로봇암(720)은 상기 온도 저감부(300)로부터 온도 저감이 완료된 기판을 반출(S24)하여 버퍼부(600)로 제공(S25)한다.
그리고, 제3로봇암(730)은 상기 버퍼부(600)에 임시 저장된 기판을 반출(S26)하여 온도 컨트롤 유닛(800)으로 제공(S27)한다.
이 때, 상기 온도 컨트롤 유닛(800)은 각각의 기판을 노광 작업에 가장 적합한 온도로 조절하게 된다.
그리고, 상기 제3로봇암(730)은 온도 컨트롤 유닛(800)에 의해 온도의 조절이 완료된 기판을 다시 반출하여 노광 장치(3)로 제공(S28)한다.
또한, 상기 제3로봇암(730)은 상기 노광 장치(3)에 의해 노광이 완료된 기판을 반입하여 타이틀러(500)로 반출(S29)한 후 노광 이후의 액정표시장치 제조 공정으로 반송된다.
이 때, 상기 제3로봇암(730)은 상기 노광 장치(3)가 노광 작업의 진행 중일 경우 상기 버퍼부(600)로부터 기판의 반출을 중단하고, 상기 노광 작업이 완료되면 상기 기판의 반출을 재개함으로써 연속적인 노광 작업을 진행한다.
한편, 본 발명에 따른 액정표시장치용 제조 장비의 노광용 레이아웃은 굳이 전술한 제1실시예의 배치 구조로만 배치되어야 하는 것은 아니다.
즉, 첨부된 도 3의 제2실시예에 따른 노광용 레이아웃과 같이 버퍼부(600)와 온도 저감부(300) 및 온도 컨트롤 유닛(800)간의 위치가 서로 변경될 수도 있다.
이의 경우 제1로봇암(710)과 상기 반송 컨베이어(100)와 상기 제2로봇암(720)과 상기 온도 저감부(300)는 평면에서 볼 때 동일한 열을 따라 각각 순차적으로 배치되고, 상기 온도 컨트롤 유닛(800)과 상기 온도 저감부(300)는 평면에서 볼 때 수평 방향을 기준으로 2열을 이루면서 나란히 배치되며, 상기 버퍼부(600)와 상기 제3로봇암(730)과 상기 노광 장치(3)는 평면에서 볼 때 동일한 열을 따라 각각 순차적으로 배치되고, 상기 온도 컨트롤 유닛(800)은 상기 제3로봇암(730)과 수직한 방향측에 배치된다.
이 때, 상기 버퍼부(600)는 상기 제2로봇암(720)과 수직한 방향측에 배치된다.
물론, 전술한 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시장치용 제조 장비의 노광용 레이아웃에 의한 기판의 노광 과정은 전술한 제1실시예에 따른 노광용 레이아웃에 의한 기판의 노광 과정과 동일하다.
이상에서 설명된 바와 같이 본 발명의 각 실시예에 따른 액정표시장치용 제 조 장비의 노광용 레이아웃은 노광 장치로의 기판 반입이 이루어지기 직전에 각 기판별로의 온도 조절이 이루어져 노광 작업에 가장 적합한 온도를 유지할 수 있게 된다.
이로 인해, 노광 작업의 정확한 진행이 가능하게 되어 노광 완료된 기판의 불량을 최소화할 수 있게 된 효과를 가진다.
특히, 본 발명의 각 실시예에 따른 노광용 레이아웃 중 제3로봇암은 그 작업 공수를 6 공수로 최소화하였기 때문에 별도의 로봇암을 추가하지 않고도 한 사이클 당 택트 타임(Tact Time)을 줄일 수 있게 된 효과를 가진다.
뿐만 아니라, 본 발명의 각 실시예에 따른 노광용 레이아웃 중 버퍼부는 서로 다른 방향으로 기판의 반입 및 반출이 이루어지도록 구성되기 때문에 전체적인 레이아웃의 길이 즉, 풋프린트(footprint)를 최소화할 수 있다는 효과를 가진다.

Claims (10)

  1. 기판을 반송하는 반송 컨베이어;
    상기 반송 컨베이어의 기판 반입측에 배치되어 코팅 장치로부터 포토레지스트가 도포된 기판을 제공받아 상기 반송 컨베이어로 반출하는 제1로봇암;
    상기 반송 컨베이어의 기판 반출측에 배치되는 솔벤트 제거부;
    솔벤트 제거가 완료된 기판을 제공받아 그의 온도를 저감하는 온도 저감부;
    온도가 저감된 기판을 임시 저장하는 버퍼부;
    상기 반송 컨베이어와 솔벤트 제거부와 온도 저감부 및 버퍼부의 기판 반입측 사이에 배치되며, 기판을 각각 반입 및/혹은, 반출하는 제2로봇암;
    버퍼부에 임시 저장된 기판을 제공받아 상기 기판의 온도를 제어하는 온도 컨트롤 유닛;
    노광하는 노광 장치; 그리고,
    상기 버퍼부의 기판 반출측과 상기 온도 컨트롤 유닛과 상기 노광 장치 사이에 배치되며, 기판을 각각 반입 및/혹은 반출하는 제3로봇암:이 포함되어 구성됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 솔벤트 제거부와 상기 반송 컨베이어는 평면에서 볼 때 수평 방향을 기준으로 2열을 이루면서 나란히 배치됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1로봇암과 상기 반송 컨베이어와 상기 제2로봇암과 상기 버퍼부는 평면에서 볼 때 동일한 열을 따라 각각 순차적으로 배치되고,
    상기 온도 컨트롤 유닛과 상기 제3로봇암과 상기 노광 장치는 평면에서 볼 때 동일한 열을 따라 각각 순차적으로 배치되며,
    상기 제3로봇암은 상기 버퍼부와 수직한 방향측에 배치됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 온도 저감부는 상기 제2로봇암과 수직한 방향측에 배치됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 온도 저감부는 상기 제2로봇암과 수직한 방향측에 배치되고, 상기 온도 컨트롤 유닛과 상기 온도 저감부는 평면에서 볼 때 수평 방향을 기준으로 2열을 이루면서 나란히 배치됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
  6. 제 3 항에 있어서,
    상기 제3로봇암이 배치된 부위와 수직한 방향측 중 상기 버퍼부와는 반대 방 향을 향해 수직한 방향측에는 타이틀러가 더 구비됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1로봇암과 상기 반송 컨베이어와 상기 제2로봇암과 상기 온도 저감부는 평면에서 볼 때 동일한 열을 따라 각각 순차적으로 배치되고,
    상기 온도 컨트롤 유닛과 상기 온도 저감부는 평면에서 볼 때 수평 방향을 기준으로 2열을 이루면서 나란히 배치되며,
    상기 버퍼부와 상기 제3로봇암과 상기 노광 장치는 평면에서 볼 때 동일한 열을 따라 각각 순차적으로 배치되고,
    상기 온도 컨트롤 유닛은 상기 제3로봇암과 수직한 방향측에 배치됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 버퍼부는 상기 제2로봇암과 수직한 방향측에 배치됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 버퍼부는 기판의 반입측과 반출측이 서로 다르게 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 버퍼부의 기판 반입측과 반출측은 서로 수직한 방향측에 각각 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치용 제조 장비.
KR1020040110197A 2004-12-22 2004-12-22 액정표시장치용 제조 장비 KR101074388B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040110197A KR101074388B1 (ko) 2004-12-22 2004-12-22 액정표시장치용 제조 장비
TW094145273A TWI334040B (en) 2004-12-22 2005-12-20 Exposure apparatus for manufacturing liquid crystal display device
US11/315,063 US8021993B2 (en) 2004-12-22 2005-12-22 Method of carrying out an exposure process for a liquid crystal display device
CN200510132182A CN100592211C (zh) 2004-12-22 2005-12-22 用于制造液晶显示器的设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040110197A KR101074388B1 (ko) 2004-12-22 2004-12-22 액정표시장치용 제조 장비

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060071574A KR20060071574A (ko) 2006-06-27
KR101074388B1 true KR101074388B1 (ko) 2011-10-17

Family

ID=36805613

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040110197A KR101074388B1 (ko) 2004-12-22 2004-12-22 액정표시장치용 제조 장비

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8021993B2 (ko)
KR (1) KR101074388B1 (ko)
CN (1) CN100592211C (ko)
TW (1) TWI334040B (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000138158A (ja) 1998-11-04 2000-05-16 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc 基板処理装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6159837A (ja) 1984-08-31 1986-03-27 Toshiba Ceramics Co Ltd ウエ−ハ洗浄連続装置
JPH07185481A (ja) 1993-12-27 1995-07-25 Toyo Radiator Co Ltd 偏平なプレス加工部品の洗浄装置
JP3988805B2 (ja) * 1997-10-02 2007-10-10 大日本スクリーン製造株式会社 基板搬送方法及びその装置
TW418452B (en) * 1997-10-31 2001-01-11 Tokyo Electron Ltd Coating process
KR100271764B1 (ko) 1997-12-24 2000-12-01 윤종용 반도체장치 제조용 현상 장치 및 그의 제어방법
JP3914690B2 (ja) 1999-06-30 2007-05-16 東京エレクトロン株式会社 基板受け渡し装置及び塗布現像処理システム
US6402401B1 (en) * 1999-10-19 2002-06-11 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP3599100B2 (ja) 2000-11-24 2004-12-08 鹿児島日本電気株式会社 溶剤乾燥装置
JP3911624B2 (ja) 2001-11-30 2007-05-09 東京エレクトロン株式会社 処理システム

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000138158A (ja) 1998-11-04 2000-05-16 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc 基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI334040B (en) 2010-12-01
US20060183351A1 (en) 2006-08-17
US8021993B2 (en) 2011-09-20
CN100592211C (zh) 2010-02-24
CN1794094A (zh) 2006-06-28
KR20060071574A (ko) 2006-06-27
TW200622393A (en) 2006-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101061707B1 (ko) 도포막형성 장치 및 도포막형성 방법
TWI303450B (en) Stage equipment and coating processing equipment
US20060012771A1 (en) System and method for manufacturing a flat panel display
KR101355278B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP4743716B2 (ja) 基板処理装置
JP4451385B2 (ja) 塗布処理装置及び塗布処理方法
KR20060045764A (ko) 현상처리장치 및 현상처리방법
JP4372984B2 (ja) 塗布装置及び塗布方法
KR101169839B1 (ko) 도포막형성 장치
KR20080059519A (ko) 기판 처리 방법 및 레지스트 표면 처리 장치
JP2010103480A (ja) 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法
JP4353530B2 (ja) 基板処理方法及び基板処理装置
KR101074388B1 (ko) 액정표시장치용 제조 장비
JP2009117462A (ja) 塗布膜形成装置、基板搬送方法及び記憶媒体
CN109716250B (zh) 基板处理管理装置、基板处理管理方法及存储装置
KR101432825B1 (ko) 기판처리장치
KR102256215B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20020082761A (ko) 처리장치
JP2004146625A (ja) ベーキング方法及びベーキング装置
JP2591753B2 (ja) ウエット処理装置用基板保持治具
JP4097878B2 (ja) 基板処理装置
CN116804827B (zh) 基板处理装置以及基板处理方法
JP2013003157A (ja) 露光ユニット及びそれを用いた露光方法
JP4643630B2 (ja) 処理装置
KR20040074916A (ko) 기판반송장치 및 기판처리장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140918

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150930

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180917

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190917

Year of fee payment: 9