KR101045026B1 - Transparent conductive multilayered film, producing method of the same, and touch panel containing the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A transparent conductive laminate film, a manufacturing method thereof, and a touch panel with the same are provided to apply a process including a plasma-enhanced chemical vapor deposition method of a roll-to-roll type, thereby increasing film forming speed. CONSTITUTION: A laminate comprises a first laminate(20) and a second laminate(30). The first laminate is laminated on an optical transparent base(10) using a plasma-enhanced chemical vapor deposition method. The thickness of the first laminate is between 10nm and 300nm. The first laminate comprises an inorganic oxide. The refractive index of the first laminate is 1.3 to 2.5. The second laminate is laminated on the first laminate using a plasma-enhanced chemical vapor deposition method. The thickness of second laminate is between 10nm and 300nm. The second laminate comprises an inorganic oxide different from the inorganic oxide of the first laminate. A transparent conductive layer(40) is laminated on the second laminate. The thickness of the transparent conductive layer is between 10nm and 100nm.

Description

투명 도전성 적층 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 터치패널 {TRANSPARENT CONDUCTIVE MULTILAYERED FILM, PRODUCING METHOD OF THE SAME, AND TOUCH PANEL CONTAINING THE SAME}Transparent conductive laminated film, manufacturing method thereof and touch panel including same {TRANSPARENT CONDUCTIVE MULTILAYERED FILM, PRODUCING METHOD OF THE SAME, AND TOUCH PANEL CONTAINING THE SAME}

본원은 서로 다른 굴절률을 가지는 적층체를 포함하는 투명 도전성 적층 필름, 이의 제조방법 및 이의 용도에 관한 것이다.The present application relates to a transparent conductive laminated film including a laminate having different refractive indices, a manufacturing method thereof, and a use thereof.

터치패널은 디스플레이 장치의 표면에 장착되어 사용자의 손가락, 터치 펜 등의 물리적 접촉을 전기적 신호로 변환하여 출력하는 장치로서, 액정표시장치(liquid crystal display), 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel), EL(electro-luminescence) 소자 등에 응용되고 있다.The touch panel is mounted on the surface of the display device and converts and outputs physical contact of a user's finger, touch pen, etc. into an electrical signal, and includes a liquid crystal display, a plasma display panel, and an EL. It is applied to an electro-luminescence element.

이와 같은 터치 패널은 정보 디스플레이 기기의 특수한 입력장치로 구현방식에 따라 저항막 방식, 정전용량 방식, 초음파 방식, 적외선 방식, 탄성파 방식 등으로 구분되어진다.Such a touch panel is a special input device of an information display device and is classified into a resistive film type, a capacitive type, an ultrasonic type, an infrared type, and an acoustic wave type according to an implementation method.

최근 들어 사용량과 적용범위가 확대되고 있는 모바일 기기나 네비게이션과 같은 소형 휴대용 기기에는 저항막 방식 및 디지털 정전용량 방식의 터치 패널이 널리 적용되어 지고 있다. 특히 저항막 방식은 동작 구현이 용이하고 제조비용이 적게 들어 일반적인 터치 휴대폰과 네비게이션 기기에 많이 사용되어 지고 있으나 기존 터치 패널의 터치 방법인 탭(Tab) 및 드래그(Drag)만 할 수 있는 단순 동작에서 벗어나 다양한 방식의 멀티 터치 구현이 용이한 정전용량 방식의 터치 패널이 최근 스마트폰 및 프리미엄급 모바일 기기의 디스플레이 탑재가 확대되고 있다.In recent years, resistive and digital capacitive touch panels have been widely applied to small portable devices such as mobile devices and navigation devices, which are expanding in usage and application range. In particular, the resistive film is easy to implement and has a low manufacturing cost, so it is widely used in general mobile phones and navigation devices, but in a simple operation that can only tap and drag, which is a touch method of the existing touch panel, In addition, capacitive touch panels that can easily implement various types of multi-touch devices have recently been increasingly equipped with displays of smart phones and premium mobile devices.

정전용량 방식의 터치 패널은 터치 패턴층을 포함하고 있으며, 상기 터치 패턴층은 외부의 물리적 접촉에 대응하여 전기적 신호를 발생시키는 역할을 하는데, 정전용량방식의 터치 패널에 사용되는 투명 도전성 필름의 경우, 가시광 투과율이 높고 투과착색이 낮아 투명 전극패턴 에칭 공정 후 생성되는 투명 전극 패턴의 시인성이 양호하여야 한다. 특히, 정전용량방식의 터치 패널에 사용되는 투명 도전성 필름은 디스플레이되는 화면의 색상을 왜곡 없이 표현하기 위해 투과착색이 낮아야 하며, 터치 패널 제품 구조상 투명 전극 패턴 에칭 공정 후 생성된 패턴의 시인성이 좋아야 한다. 낮은 투과 착생성과 높은 패턴의 시인성을 얻기 위해서는 패턴이 투과되어 눈에 보이는 것을 최소화시켜야 하며, 이를 위해 반사되는 빛의 양을 줄이고 투과량을 증대시키는 적층구조가 필요하다. 그러나, 기존 터치 패널에 사용되는 투명 도전성 필름은 일반적으로 전기 저항막 방식에 적합한 가시광 투과율을 가지고 있다. 이를 극복하기 위한 다층 구조의 필름의 경우 투과율을 향상시키고 고온, 고습(150℃, 90%습도) 및 열충격에 대한 내구성 및 저항 안정성을 확보한 경우도 있으나 다층막의 적층에 따른 생산시간 증가로 인해 제조비용이 많이 드는 문제점이 있다. The capacitive touch panel includes a touch pattern layer, and the touch pattern layer generates an electrical signal in response to external physical contact. In the case of a transparent conductive film used in a capacitive touch panel In addition, the visibility of the transparent electrode pattern generated after the transparent electrode pattern etching process should be good because of high visible light transmittance and low transmission coloring. In particular, the transparent conductive film used for the capacitive touch panel should have low transmissive color in order to express the color of the displayed screen without distortion, and the visibility of the pattern generated after the transparent electrode pattern etching process should be good in the touch panel product structure. . In order to achieve low transmission complexability and high pattern visibility, the pattern is transmitted and minimized to be visible. To this end, a laminated structure is required to reduce the amount of reflected light and increase the amount of transmission. However, the transparent conductive film used in the existing touch panel generally has a visible light transmittance suitable for the electrical resistive film. In order to overcome this problem, the multilayered film has improved transmittance and secured durability and resistance against high temperature, high humidity (150 ° C, 90% humidity) and thermal shock, but it is manufactured due to increased production time due to the lamination of the multilayer film. There is a costly problem.

상기 문제를 해결하기 위해 종래에는 투명 기재의 굴절률 보다는 크고 투명 도전층 보다는 작은 굴절률을 갖는 중간층을 형성하여 투과광의 색차계 b* 값을 줄여 투과색이 황색 및 갈색으로 변하는 문제는 해결하였으나, 정전용량 방식에 사용할 수 있는 고 투과율을 가진 도전성 적층 필름을 제작하지 못하였다.In order to solve the problem, conventionally, an intermediate layer having a refractive index larger than the refractive index of the transparent substrate and smaller than the transparent conductive layer was formed to reduce the color difference b * value of transmitted light, thereby solving the problem of changing the transmission color to yellow and brown. Failed to produce a conductive laminated film having a high transmittance that can be used for the method.

또한, 고 투과율을 가지는 도전성 적층 필름을 제작하기 위한 또 다른 종래의 기술은, 고굴절률과 저굴절률의 산화물막을 형성하는 도전성 적층 필름의 중간층을 형성하는 과정에서 건식 프로세스로서 물리적 증기 증착법(PVD; physical vapor deposition)중 스퍼터링(Sputtering)으로 성막하는 방법을 제안하여 투과율을 향상시키고 내구성을 향상시켰다. 그러나 고굴절률과 저굴절률을 가진 2층의 금속 및 무기산화물을 스퍼터링 방법으로 형성하여 장 시간의 성막 시간이 필요해 롤투롤(roll-to-roll) 방식의 연속생산 공정에서는 제조비용이 많이 필요한 문제점을 역시 해결하지 못하고 있다.In addition, another conventional technique for manufacturing a conductive laminated film having a high transmittance is a physical vapor deposition method (PVD; physical drying) as a dry process in the process of forming the intermediate layer of the conductive laminated film forming the oxide film of high refractive index and low refractive index The method of sputtering during vapor deposition is proposed to improve transmittance and durability. However, the formation of two layers of metal and inorganic oxides having high refractive index and low refractive index by sputtering method requires long deposition time. Therefore, roll-to-roll continuous production process requires a lot of manufacturing cost. It is not solved either.

본원은 광 투과율이 높고 투과 착색성이 낮은, 투명 도전성 적층필름을 제공함과 더불어, 고온·고습의 열악한 환경에서도 표면 저항 변화율이 적고 내구성이 우수하며, 투명 전극 패턴의 시인성을 높이면서도 제조비용을 낮출 수 있는 투명 도전성 적층필름 및 이의 제조방법을 제공하고, 상기 투명 도전성 적층 필름을 포함하는 터치 패널을 제공하고자 한다.The present invention provides a transparent conductive laminated film with high light transmittance and low transmittance, and has a low surface resistance change rate and excellent durability even in a harsh environment of high temperature and high humidity, and can reduce the manufacturing cost while increasing the visibility of the transparent electrode pattern. To provide a transparent conductive laminated film and a method of manufacturing the same, to provide a touch panel comprising the transparent conductive laminated film.

그러나, 본원이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problem to be solved by the present application is not limited to the above-mentioned problem, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 달성하기 위하여, 본원의 제 1 측면은, 광학적 투명 기재; 플라즈마-강화 화학 기상 증착법(PECVD)을 이용하여 상기 광학적 투명 기재 상에 10 nm 내지 300 nm의 두께로 적층되며, 무기 산화물을 포함하며, 굴절률 1.3 내지 2.5을 가지는 제 1 적층체; 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 상기 제 1 적층체 상에 10 nm 내지 300 nm의 두께로 적층되며, 상기 제 1 적층체에 포함된 무기 산화물과 상이한 무기 산화물을 포함하는 제 2 적층체; 및, 상기 제 2 적층체 상에 10 내지 100 nm의 두께로 적층된 투명 도전층:을 포함하는, 투명 도전성 적층 필름을 제공할 수 있다.In order to achieve the above object, the first aspect of the present application, an optically transparent substrate; A first laminate having a thickness of 10 nm to 300 nm on the optically transparent substrate using plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD), comprising an inorganic oxide, and having a refractive index of 1.3 to 2.5; A second laminate stacked on the first laminate with a thickness of 10 nm to 300 nm using plasma-enhanced chemical vapor deposition and comprising an inorganic oxide different from the inorganic oxide included in the first laminate; And a transparent conductive layer laminated on the second laminate at a thickness of 10 to 100 nm. The transparent conductive laminated film may be provided.

일 구현예에 있어서, 상기 투명 도전층의 두께가 50 nm 이상인 경우, 상기 제 2 적층체의 굴절률은 상기 제 1 적층체의 굴절률 보다 큰 굴절률을 가지는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, when the thickness of the transparent conductive layer is 50 nm or more, the refractive index of the second laminate may have a refractive index larger than that of the first laminate, but is not limited thereto.

일 구현예에 있어서, 상기 제 1 적층체 및 제 2 적층체의 총 두께는 50 내지 350 nm 인 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, the total thickness of the first laminate and the second laminate may be 50 to 350 nm, but is not limited thereto.

일 구현예에 있어서, 상기 제 2 적층체의 색차계의 L, a*,b* 값에서 투과색 좌표값이 -7〈 b*〈 2 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, the transmission color coordinate value in the L, a *, b * value of the color difference system of the second laminate may be -7 <b * <2, but is not limited thereto.

일 구현예에 있어서, 상기 투명 도전층은 산화 인듐 주석(ITO), 산화 안티몬 주석(ATO), 및 산화 인듐 아연(IZO)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, the transparent conductive layer may include one or more selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), and indium zinc oxide (IZO), but is not limited thereto. It doesn't happen.

일 구현예에 있어서, 상기 광학적 투명 기재는 플라스틱 필름을 포함하며, 상기 광학적 투명 기재의 두께가 25 ㎛ 내지 350 ㎛인 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, the optical transparent substrate includes a plastic film, the thickness of the optical transparent substrate may be 25 ㎛ to 350 ㎛, but is not limited thereto.

일 구현예에 있어서, 상기 광학적 투명 기재의 일면 또는 양면에 투명 하드 코트막을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
In one embodiment, it may be to include a transparent hard coat film on one or both sides of the optical transparent substrate, but is not limited thereto.

본원의 제 2 측면은, 광학적 투명 기재 상에, 무기 산화물을 포함하며 굴절률이 1.3 내지 2.5 인 제 1 적층체를 10 nm 내지 300 nm의 두께로 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 적층하고; 상기 제 1 적층체 상에, 상기 제 1 적층체에 포함된 무기 산화물과 상이한 무기 산화물을 포함하는 제 2 적층체를 10 nm 내지 300 nm의 두께로 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 적층하고; 상기 제 2 적층체 상에 10 내지 100 nm의 두께로 투명 도전층을 적층하는 것:을 포함하는, 투명 도전성 적층 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.A second aspect of the present disclosure is directed to stacking, on an optically transparent substrate, a first laminate comprising an inorganic oxide and having a refractive index of 1.3 to 2.5 using a plasma-enhanced chemical vapor deposition method with a thickness of 10 nm to 300 nm; Depositing, on the first laminate, a second laminate comprising an inorganic oxide different from the inorganic oxide included in the first laminate by a plasma-enhanced chemical vapor deposition method with a thickness of 10 nm to 300 nm; It is possible to provide a method for producing a transparent conductive laminated film comprising: laminating a transparent conductive layer to a thickness of 10 to 100 nm on the second laminate.

일 구현예에 있어서, 상기 플라즈마-강화 화학 기상 증착법은, 롤투롤 방식의 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, the plasma-enhanced chemical vapor deposition method may include, but is not limited to, a roll-to-roll plasma-enhanced chemical vapor deposition method.

일 구현예에 있어서, 상기 투명 도전층을 적층하는 것은, 증착법, 이온플레이팅법, 스퍼터링법, 화학증착법 및 플레이팅법으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 방법 및 롤투롤 공정을 이용하여 상기 투명 도전층을 연속 형성하는 것을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, the stacking of the transparent conductive layer may be performed using at least one method selected from the group consisting of a deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and a plating method, and a roll-to-roll process. It may be to include a continuous forming, but is not limited thereto.

일 구현예에 있어서, 상기 투명 도전층을 적층한 후에 120℃ 내지 150℃에서 열처리하여 상기 투명 도전층을 결정화 시키는 것을 추가 포함하는 투명 도전성 적층 필름의 제조방법일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
In one embodiment, after laminating the transparent conductive layer may be a method for manufacturing a transparent conductive laminated film further comprising crystallizing the transparent conductive layer by heat treatment at 120 ℃ to 150 ℃, but is not limited thereto.

본원의 제 3 측면은, 상기 투명 도전성 적층 필름을 포함하는 터치 패널을제공할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The third aspect of the present application may provide a touch panel including the transparent conductive laminated film, but is not limited thereto.

본원에 의하면, 광학적 투명 기재상에 굴절률과 두께를 조절한 2 층 구조를 포함하는 적층체를 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 포함하는 공정을 통해 치밀하고도 안정된 구조의 투명 도전성 적층필름을 제공할 수 있으며, 가시광 투과율이 높고 투과착색이 적으며, 고온·고습 환경에서 표면저항의 변화율이 적고 높은 박막 내구성을 지니는 투명 도전성 적층 필름을 제공할 수 있다.According to the present application, a laminate including a two-layer structure having a refractive index and a thickness controlled on an optical transparent substrate may be provided through a process including plasma-enhanced chemical vapor deposition (CVD) to provide a transparent conductive laminated film having a dense and stable structure. In addition, it is possible to provide a transparent conductive laminated film having high visible light transmittance, low transmissive coloration, low rate of change of surface resistance and high thin film durability in high temperature and high humidity environments.

한편, 굴절률과 두께를 조절한 2층 구조를 포함하는 적층체를 롤투롤 타입의 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 포함하는 공정을 적용할 경우 다른 PVD 공정(스파터링, 전자빔 증착 등)과 비교하여 성막 속도를 5배 ~ 7배 이상 높일 수 있기 때문에, 대면적 생산성을 높이고 제조비용을 낮출 수 있는 효과가 있다.On the other hand, when a process including a roll-to-roll type plasma-enhanced chemical vapor deposition method is applied to a laminate including a two-layer structure in which the refractive index and the thickness are controlled, it is compared with other PVD processes (spattering, electron beam deposition, etc.). Since the speed can be increased by 5 to 7 times or more, there is an effect of increasing the large area productivity and lowering the manufacturing cost.

더불어, 상기의 높은 광투과율, 투과 착색성의 낮음, 및 고온·고습 환경에서의 표면저항의 변화율이 낮은 투명 도전성 적층 필름을 포함하는 터치 패널에 있어서, 정전용량 방식의 터치 패널, 저항막 방식의 터치 패널을 포함하는 다양한 방식의 터치 패널에 제한 없이 활용이 가능하다. In addition, in the touch panel comprising a transparent conductive laminated film having a high light transmittance, low transmission colorability, and low rate of change of surface resistance in a high temperature and high humidity environment, a touch panel of a capacitive type and a touch of a resistive type Various types of touch panels including panels can be used without limitation.

도 1은 본원의 일 구현예에 있어서, 투명 도전성 적층 필름의 단면도이다.
도 2a는 본원의 실시예 1에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이다.
도 2b는 비교예 1에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이다.
도 3a는 본원의 실시예 2에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이다.
도 3b는 비교예 3에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이다.
도 4a는 본원의 실시예 2에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이다.
도 4b는 비교예 5에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이다.1 is a cross-sectional view of a transparent conductive laminate film in one embodiment of the present application.
Figure 2a is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Example 1 of the present application.
2B is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Comparative Example 1. FIG.
Figure 3a is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Example 2 of the present application.
3B is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Comparative Example 3. FIG.
Figure 4a is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Example 2 of the present application.
4B is a graph measuring reflectance of the transparent conductive laminated film according to Comparative Example 5. FIG.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 구현예 및 실시예를 들어 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments and embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.

그러나 본원은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 구현예 및 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본원을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.It should be understood, however, that the present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments and examples described herein. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted for simplicity of explanation, and like reference numerals designate like parts throughout the specification.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout this specification, when a part is said to "include" a certain component, it means that it can further include other components, without excluding the other components unless otherwise stated.

본원 명세서 전체에서, 어떤 층 또는 부재가 다른 층 또는 부재와 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 층 또는 부재가 다른 층 또는 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 층 또는 두 부재 사이에 또 다른 층 또는 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다. Throughout this specification, when a layer or member is located "on" with another layer or member, it is not only when a layer or member is in contact with another layer or member, but also between two layers or another member between the two members. Or when another member is present.

본원 명세서 전체에서 사용되는 정도의 용어 “약”, “실질적으로” 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본 발명의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다. 본원 명세서 전체에서 사용되는 용어 “~ (하는) 단계” 또는 " ~의 단계"는 " ~를 위한 단계"를 의미하지 않는다.
As used throughout this specification, the terms “about”, “substantially”, and the like, are used at, or in the vicinity of, numerical values when manufacturing and material tolerances inherent in the meanings indicated are given, and an understanding of the invention Accurate or absolute figures are used to help prevent unfair use by unscrupulous infringers. As used throughout this specification, the term “step of” or “step of” does not mean “step for”.

본원의 제 1 측면은, 광학적 투명 기재; 플라즈마-강화 화학 기상 증착법(PECVD)을 이용하여 상기 광학적 투명 기재 상에 10 nm 내지 300 nm의 두께로 적층되며, 무기 산화물을 포함하며, 굴절률 1.3 내지 2.5을 가지는 제 1 적층체; 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 상기 제 1 적층체 상에 10 nm 내지 300 nm의 두께로 적층되며, 상기 제 1 적층체에 포함된 무기 산화물과 상이한 무기 산화물을 포함하는 제 2 적층체; 및, 상기 제 2 적층체 상에 10 내지 100 nm의 두께로 적층된 투명 도전층:을 포함하는, 투명 도전성 적층 필름을 제공할 수 있다.A first aspect of the present disclosure, an optically transparent substrate; A first laminate having a thickness of 10 nm to 300 nm on the optically transparent substrate using plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD), comprising an inorganic oxide, and having a refractive index of 1.3 to 2.5; A second laminate stacked on the first laminate with a thickness of 10 nm to 300 nm using plasma-enhanced chemical vapor deposition and comprising an inorganic oxide different from the inorganic oxide included in the first laminate; And a transparent conductive layer laminated on the second laminate at a thickness of 10 to 100 nm. The transparent conductive laminated film may be provided.

도 1은 본원의 일 구현예에 있어서, 투명 도전성 적층 필름의 단면도이다. 도 1을 참조하여 본원의 일 구현예를 이하에서 상세히 설명하도록 한다.1 is a cross-sectional view of a transparent conductive laminate film in one embodiment of the present application. An embodiment of the present disclosure will be described in detail below with reference to FIG. 1.

상기 무기 산화물은 금속 산화물 또는 양쪽성 금속 산화물을 포함하는 것일 수 있으며, 구체적인 예로서, 티타늄 산화물(titanium oxide), 아연 산화물(zinc oxide), 세륨 산화물(cerium oxide), 알루미늄 산화물(aluminium oxide), 탄탈륨 산화물(tantalum oxide), 이트륨 산화물(yttrium oxide), 이터비움 산화물(ytterbium oxide), 및 지르코늄 산화물(zirconium oxide), 산화 규소 (silicon oxide), 안티몬 주석 산화물(antimony tin oxide), 및 인듐 주석 산화물(indium tin oxide)로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예시적 구현예에 있어서, 상기 무기 산화물은 산화 티타늄, 산화 규소 및 산화 지르코늄로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예시적 구현예에 있어서, 투명 전극 패턴의 시인성을 향상을 위해서 상기 무기 산화물은 산화 티타늄 또는 산화 규소를 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The inorganic oxide may include a metal oxide or an amphoteric metal oxide, and specific examples thereof include titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, aluminum oxide, Tantalum oxide, yttrium oxide, ytterbium oxide, and zirconium oxide, silicon oxide, antimony tin oxide, and indium tin oxide It may include one or more selected from the group consisting of indium tin oxide, but is not limited thereto. In an exemplary embodiment, the inorganic oxide may include one or more selected from the group consisting of titanium oxide, silicon oxide, and zirconium oxide, but is not limited thereto. In an exemplary embodiment, the inorganic oxide may include titanium oxide or silicon oxide to improve visibility of the transparent electrode pattern, but is not limited thereto.

상기 제 1 적층체(20)의 굴절률은 1.3 내지 2.5 일 수 있으며, 두께는 10 내지 300 nm일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 수치 범위는 상기 제 1 적층체(20) 및 제 2 적층체(30)를 포함하는 적층체에 있어서, 상기 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용한 증착 공정에서 2-층 막의 빛의 거동 및 다층의 적층체를 구성하는 경우, 적층체의 물리적 특성을 고려해야 하는데, 상기 수치 범위 내에서 적층체 물질의 안정성이 크며 적층체 간의 스트레스 매칭(matching)이 되고 굴절률 변화가 적다. 상기 스트레스 매칭의 예로서, 제 1 적층체(20)의 경우 산화 티타늄(TiO2)을 적층하여 약 1.46의 굴절률을 갖게 하고, 제 2 적층체(30)는 산화규소(SiO2)를 사용하여 굴절률을 조절하여 2 층 막의 적층체를 구성하면, 상기 산화 티타늄이 포함된 적층체는 외부 스트레스를 받을 경우 인장력(tensile)을 받고, 산화 규소를 포함하는 적층체는 수축력(compressive strain)을 받아, 광학적 투명 기재(10)에 대한 힘의 균형을 잡아 줄 수 있는 장점이 있다. The refractive index of the first laminate 20 may be 1.3 to 2.5, and the thickness may be 10 to 300 nm, but is not limited thereto. The numerical range is a laminate comprising the first laminate 20 and the second laminate 30, wherein the behavior of light and multilayer of the two-layer film in the deposition process using the plasma-enhanced chemical vapor deposition method When constructing the laminate, the physical properties of the laminate must be taken into account. The stability of the laminate material within the above numerical range is high, stress matching between the laminates, and the refractive index change is small. As an example of the stress matching, in the case of the first laminate 20, titanium oxide (TiO 2 ) is laminated to have a refractive index of about 1.46, and the second laminate 30 is made of silicon oxide (SiO 2 ). When the refractive index is adjusted to form a laminate of two-layer films, the laminate including titanium oxide receives a tensile force when subjected to external stress, and the laminate including silicon oxide receives a compressive strain. There is an advantage that can balance the force on the optical transparent substrate 10.

상기 제 2 적층체(30)는, 상기 제 1 적층체(20)에 포함된 금속 산화물 및/또는 무기 산화물과 상이한 무기 산화물을 포함하며 10 nm 내지 300 nm의 두께일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 예시적 구현예에 있어서, 상기 제 1 적층체(20)가 산화 티타늄을 포함하는 경우, 제 2 적층체(30)는 상기 산화 티타늄을 제외한 금속 산화물 또는 무기 산화물로서 산화 규소를 포함할 수 있다. 이와 같이, 서로 다른 금속 산화물 및/또는 무기산화물을 포함하는 이유는 앞서 설명한 바와 같이 적층체의 안정성, 광학 투과율의 우수성 등을 확보할 수 있기 때문이다.The second laminate 30 may include an inorganic oxide different from the metal oxide and / or the inorganic oxide included in the first laminate 20 and may have a thickness of 10 nm to 300 nm, but is not limited thereto. . In an exemplary embodiment, when the first laminate 20 includes titanium oxide, the second laminate 30 may include silicon oxide as a metal oxide or an inorganic oxide except for the titanium oxide. As described above, the reason for including the different metal oxides and / or inorganic oxides is that the stability of the laminate, the excellent optical transmittance, and the like can be ensured as described above.

일 구현예에 있어서, 상기 투명 도전층(40)의 두께가 50 nm 이상인 경우, 상기 제 2 적층체(30)의 굴절률은 상기 제 1 적층체(20)의 굴절률 보다 큰 굴절률을 포함하는 투명 도전성 적층 필름을 제공할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 투명 도전층(40)의 두께가 50 nm 이상인 경우, 상기 제 2 적층체(30)의 굴절률이 상기 제 1 적층체(20)의 굴절률 보다 높아야, 고 광투과성의 효과를 가질 수 있다.In one embodiment, when the thickness of the transparent conductive layer 40 is 50 nm or more, the refractive index of the second laminate 30 includes a refractive index greater than the refractive index of the first laminate 20. A laminated film may be provided, but is not limited thereto. When the thickness of the transparent conductive layer 40 is 50 nm or more, the refractive index of the second laminate 30 must be higher than the refractive index of the first laminate 20 to have a high light transmittance effect.

일 구현예에 있어서, 상기 제 1 적층체(20) 및 제 2 적층체(30)의 총 두께는 50 내지 350 nm 인 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예시적 구현예에 있어서, 상기 제 1 적층체(20) 및 제 2 적층체(30)의 총 두께는 90 ~ 310 nm일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 수치 범위 내에서 적층체의 고 안정성, 높은 광학적 투과율의 우수성을 확보할 수 있다.In one embodiment, the total thickness of the first laminate 20 and the second laminate 30 may be 50 to 350 nm, but is not limited thereto. In an exemplary embodiment, the total thickness of the first laminate 20 and the second laminate 30 may be 90 to 310 nm, but is not limited thereto. It is possible to ensure the excellent stability of the laminate and high optical transmittance within the numerical range.

상기 제 1 적층체(20)와 제 2 적층체(30)는 완충역활을 수행하여 상기 투명 투명 도전층(40)의 면저항 보다 외부환경 특히 습도와 열 혹은 필름의 휘어짐(Bending)과 같은 충격에 의한 전기적 안정성을 높이게 된다. 또한 적층되는 산화물의 높은 밀도와 치밀한 막 구조는 투명한 수지필름 기재로부터 발생하는 수분이나 솔벤트 같은 유기물이 투명 도전체 층으로의 확산을 막아주는 베리어 역할과 굽힘충격에 대한 완충기능을 향상 시킨다.The first laminate 20 and the second laminate 30 play a buffering role, so that they are more resistant to impacts such as humidity and heat or bending of the film than the sheet resistance of the transparent transparent conductive layer 40. Increase the electrical stability. In addition, the high density and dense film structure of the oxides to be laminated improves the barrier function to prevent diffusion of organic substances such as moisture or solvent generated from the transparent resin film substrate into the transparent conductor layer and the buffering function against bending impact.

일 구현예에 있어서, 상기 제 2 적층체(30)의 색차계의 L, a*,b* 값에서 투과색 좌표값이 -7〈 b*〈 2 인 것을 포함하는 투명 도전성 적층 필름을 제공할 수 있다. 상기 L, a*, 및 b*는 색좌표를 의미하며, 상기 L의 값은 명도를 나타내고 0 ~ 100 까지 표시된다. 그리고, 상기 a* 및 b*는 xy 좌표계에서와 같은 평면좌표계로서 가로축이 a* 값, 세로축이 b* 값을 의미하며 +a 쪽은 적색, -a 쪽은 녹색을 나타내고, +b 쪽은 노란색, -b 쪽은 파란색을 나타낸다. 본원의 예시적 구현예에 있어서, 상기 색차계의 L, a*,b* 값에서 투과색 좌표값이 -5〈 b*〈 3 인 것을 포함하는 투명 도전성 적층필름을 제공할 수 있다. 상기 수치 범위 내에서, 상기 투명 도전성 적층 필름의 완전한 투과율과 색좌표값을 구현할 수 있으며, 상기 서로 다른 굴절률을 가지는 2 층 적층체의 표면의 국부 최저 반사율 파장이 350 내지 500 nm 영역에서 최저값을 가질 수 있으며, 적층체의 굴절률과 두께를 조절하고 상기 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 증착시키는 경우, 상기 색차계의 투과색 좌표값의 수치 범위내에서, 자색광 내지 청색광의 반사가 감소할 수 있고 투과광의 착색도 감소할 수 있다. In one embodiment, to provide a transparent conductive laminated film comprising a transmission color coordinate value of -7 <b * <2 in the L, a *, b * value of the color difference meter of the second laminate 30 Can be. L, a *, and b * mean color coordinates, and the value of L represents brightness and is displayed from 0 to 100. In addition, the a * and b * is the same plane coordinate system as in the xy coordinate system, the horizontal axis is a * value, the vertical axis is b * value, + a side is red, -a side is green, + b side is yellow , -b indicates blue. In an exemplary embodiment of the present application, it is possible to provide a transparent conductive laminated film including a transmission color coordinate value of −5 <b * <3 in L, a *, b * values of the color difference meter. Within the numerical range, perfect transmittance and color coordinate values of the transparent conductive laminated film may be realized, and a local minimum reflectance wavelength of the surface of the two-layer laminate having different refractive indices may have a lowest value in the region of 350 to 500 nm. In the case where the refractive index and thickness of the laminate are controlled and deposited using the plasma-enhanced chemical vapor deposition method, the reflection of the violet light to the blue light may be reduced within the numerical range of the transmission color coordinate value of the color difference meter. The coloring of the transmitted light can also be reduced.

일 구현예에 있어서, 상기 투명 도전층(40)은 산화 인듐 주석(ITO) 산화 안티몬 주석(ATO), 및 산화 인듐 아연(IZO)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 투명 도전층(40)은, 금속 또는 금속 산화물을 포함할 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다. 예시적 구현예에 있어서, 산화 인듐 주석(ITO) 산화 안티몬 주석(ATO), 산화 인듐 아연(IZO), 금, 은, 구리, 백금 및 니켈로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, the transparent conductive layer 40 may include one or more selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), and indium zinc oxide (IZO), but is not limited thereto. It doesn't happen. The transparent conductive layer 40 may include a metal or a metal oxide, but is not limited thereto. In an exemplary embodiment, it may include one or more selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), indium zinc oxide (IZO), gold, silver, copper, platinum, and nickel. However, the present invention is not limited thereto.

일 구현예에 있어서, 상기 광학적 투명 기재(10)는 플라스틱 필름을 포함하며, 상기 광학적 투명 기재의 두께가 25 내지 350 ㎛인 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 광학적 투명 기재의 두께 수치 범위에서, 상기 투명 도전성 적층 필름의 투명도 및 생산성의 관점에서 바람직하다. 상기 광학적 투명 기재(10)는 그 기재의 두께가 투명도가 확보될 수 있는 광학적으로 투명한 물질이면 당업자가 필요에 맞게 적의 선택 가능한 기재가 포함될 수 있다. 예시적 구현예에 있어서, 상기 광학적 투명 기재(10)는, 예를 들면, 유리, 또는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate, PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(polybutyleneterephthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리(메틸메타크릴레이트) 공중합체(poly(methylmethacrylate) copolymer), 트리아세틸셀룰오즈(triacetyl cellulose), 폴리올레핀(polyolefin), 폴리아미드(polyamide), 폴리(비닐클로라이드)(poly(vinyl chloride)) 및 무정형 폴리올레핀(amorphous polyolefin)으로 이루어진 군에서 선택되는 1 종이상을 포함하는 기재를 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 광학적 투명 기재(10)의 형태는 시트, 판 또는 박막일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, the optical transparent substrate 10 includes a plastic film, the thickness of the optical transparent substrate may be 25 to 350 ㎛, but is not limited thereto. It is preferable from a viewpoint of the transparency and productivity of the said transparent conductive laminated film in the thickness numerical range of the said optically transparent base material. The optically transparent substrate 10 may include an appropriately selectable substrate to those skilled in the art as long as the thickness of the substrate is an optically transparent material capable of securing transparency. In an exemplary embodiment, the optically transparent substrate 10 may be, for example, glass or polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polycarbonate, poly ( Methyl (methacrylate) copolymer, triacetyl cellulose, polyolefin, polyamide, poly (vinyl chloride) and amorphous polyolefin (amorphous polyolefin) may include a base material including one paper selected from the group consisting of, but is not limited thereto. The shape of the optical transparent substrate 10 may be a sheet, a plate or a thin film, but is not limited thereto.

일 구현예에 있어서, 상기 광학적 투명 기재(10)는 그의 최소 한면 이상에 투명 하드 코트막을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 광학적 투명 기재의 표면 경도 향상 및 굽힘성(bending) 향상을 위해 상기 투명 하드 코트막의 두께는 2 ~ 15 ㎛ 일 수 있으며 이에 제한되는 것은 아니다. 예시적 구현예에 있어서는 3 ~ 15 ㎛ 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 하드 코트막은 멜라닌계 수지, 유레테인계 수지, 알키드계 수지, 아크릴계 수지, 및 실리콘계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 경화형 수지일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
In one embodiment, the optical transparent substrate 10 may include a transparent hard coat film on at least one surface thereof, but is not limited thereto. The thickness of the transparent hard coat layer may be 2 to 15 μm in order to improve the surface hardness and the bending of the optically transparent substrate, but is not limited thereto. In an exemplary embodiment, the thickness may be 3 to 15 μm, but is not limited thereto. The hard coat layer may be a curable resin including one or more selected from the group consisting of melanin resin, urethane resin, alkyd resin, acrylic resin, and silicone resin, but is not limited thereto.

본원의 제 2 측면은, 광학적 투명 기재 상에, 무기 산화물을 포함하며 굴절률이 1.3 내지 2.5 인 제 1 적층체를 10 nm 내지 300 nm의 두께로 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 적층하고; 상기 제 1 적층체 상에, 상기 제 1 적층체에 포함된 무기 산화물과 상이한 무기 산화물을 포함하는 제 2 적층체를 10 nm 내지 300 nm의 두께로 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 적층하고; 상기 제 2 적층체 상에 10 내지 100 nm의 두께로 투명 도전층(40)을 적층하는 것:을 포함하는, 투명 도전성 적층 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.A second aspect of the present disclosure is directed to stacking, on an optically transparent substrate, a first laminate comprising an inorganic oxide and having a refractive index of 1.3 to 2.5 using a plasma-enhanced chemical vapor deposition method with a thickness of 10 nm to 300 nm; Depositing, on the first laminate, a second laminate comprising an inorganic oxide different from the inorganic oxide included in the first laminate by a plasma-enhanced chemical vapor deposition method with a thickness of 10 nm to 300 nm; It is possible to provide a method for producing a transparent conductive laminated film, comprising: laminating the transparent conductive layer 40 to a thickness of 10 to 100 nm on the second laminate.

일 구현예에 있어서, 상기 플라즈마-강화 화학 기상 증착법은, 롤투롤 방식의 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 플라즈마-강화 화학 기상 증착법은 높은 밀도와 순도를 가진 적층체를 치밀하고 균일하게 막으로 형성할 수 있다. 한편, 증착율(deposition rate)의 조절이 용이하고 낮은 온도에서 상기 광학적 기재 필름에 증착하는 경우 적은 비용으로 제조가 가능하다. 상기 플라즈마-강화 화학 기상 증착법은 최적의 균일한 막 품위를 얻기 위해 온도분포, 반응기의 위치에 따른 반응기체의 흐름 유동 등의 유체역학적 요소와 열전달 요소를 최적화하여 적용할 수 있다. 예시적 구현예에 있어서, 낮은 압력에서 높은 전기 에너지를 가스에 공급해 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 이온 소스(plasma ion source)를 통해 반응물질(precursor)과 활성시키고 활성화된 반응 가스를 반응기로 이도시켜 상기 광학적 투명 기재 상에 상변화를 유도해 원하는 막을 저온에서 형성할 수 있다. 예시적 구현예에 있어서, 이 때 사용되는 상기 전구체는 산화 티타늄을 포함하는 적층체를 형성하는 경우 티타늄 에톡사이드(titanium ethoxide) 또는 티타늄 테라클로라이드(titanium tetrachloride)를 사용할 수 있으며, 산화 규소를 포함하는 적층체를 형성하는 경우에는 TMDSO(tetramethyldisiloxane)+O2 또는 SiH4+O2 를 반응 전구체로 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 한편, 상기 플라즈마-강화 화학 기상 증착법은 롤투롤 방식을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 통한 상기 제 1 적층체 및 제 2 적층체의 적층은 성막시간이 빠르며, 성막 후의 적층체의 무기 산화물의 치밀성과 균일한 분포성을 확보할 수 있고, 이를 통해 롤투롤 방식을 포함하여 상기 투명 도전성 적층 필름을 순차적인 연속 생산이 가능하다.In one embodiment, the plasma-enhanced chemical vapor deposition method may include, but is not limited to, a roll-to-roll plasma-enhanced chemical vapor deposition method. The plasma-enhanced chemical vapor deposition method can form a laminate having high density and purity in a dense and uniform film. On the other hand, it is easy to control the deposition rate (deposition rate) and can be manufactured at a low cost when the deposition on the optical base film at a low temperature. The plasma-enhanced chemical vapor deposition method may be applied by optimizing hydrodynamic elements and heat transfer elements such as temperature distribution and flow flow of the reactor according to the position of the reactor in order to obtain an optimal uniform film quality. In an exemplary embodiment, the optical and activated reactant gases are transferred to a reactor through a plasma ion source that supplies high electrical energy to the gas at low pressure to generate a plasma. Phase change can be induced on the transparent substrate to form the desired film at low temperature. In an exemplary embodiment, the precursor used in this case may use titanium ethoxide or titanium tetrachloride when forming a laminate including titanium oxide, and may include silicon oxide. In the case of forming the laminate, tetramethyldisiloxane (TMDSO) + O 2 or SiH 4 + O 2 may be used as the reaction precursor, but is not limited thereto. The plasma-enhanced chemical vapor deposition method may include a roll-to-roll method, but is not limited thereto. The deposition of the first laminate and the second laminate through the plasma-enhanced chemical vapor deposition method has a fast film formation time and ensures the compactness and uniform distribution of the inorganic oxide of the laminate after film formation, and thus the rolls. Including a two-roll method it is possible to sequentially produce the transparent conductive laminated film.

일 구현예에 있어서, 상기 투명 도전층을 적층하는 것은, 증착법, 이온플레이팅법, 스퍼터링법, 화학증착법 및 플레이팅법으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 방법 및 롤투롤 공정을 이용하여 상기 투명 도전층을 연속 형성하는 것을 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment, the stacking of the transparent conductive layer may be performed using at least one method selected from the group consisting of a deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and a plating method, and a roll-to-roll process. It may be to include a continuous forming, but is not limited thereto.

일 구현예에 있어서, 상기 투명 도전층을 적층한 후에 120℃ 내지 150℃에서 열처리하여 상기 투명 도전층을 결정화 시키는 것을 추가 포함하는 투명 도전성 적층 필름의 제조방법일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예시적 구현예에 있어서, 상기 열처리는 120℃ 내지 150℃에서 약 90 분간 열처리 하는 것을 추가 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
In one embodiment, after laminating the transparent conductive layer may be a method for manufacturing a transparent conductive laminated film further comprising crystallizing the transparent conductive layer by heat treatment at 120 ℃ to 150 ℃, but is not limited thereto. In an exemplary embodiment, the heat treatment may further include heat treatment at 120 ° C. to 150 ° C. for about 90 minutes, but is not limited thereto.

본원의 제 3 측면은, 투명 도전성 적층 필름을 포함하는 터치패널을 제공할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 터치패널은 정정용량 방식의 터치페널일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니며, 저항막 방식의 터치패널에서도 적용이 가능하다. 예시적 구현예에 있어서, 상기 투명 도전성 적층 필름을 패널판으로 하고, 다른 쪽의 패널판으로서 유리판상에 산화 인듐 주석(ITO)의 박막을 형성한 후 투명 도전성 유리를 이용하여, 이 양 패널판을 산화 인듐 주석 박막끼리 대향 하도록 스페이서를 개재시켜 대향 배치하여 스위치 구조로서의 터치 패널을 제조할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
The third aspect of the present application may provide a touch panel including a transparent conductive laminated film, but is not limited thereto. The touch panel may be a touch capacitive touch panel, but is not limited thereto. The touch panel may be applied to a resistive touch panel. In the exemplary embodiment, the transparent conductive laminated film is used as a panel plate, and the other panel plate is formed by forming a thin film of indium tin oxide (ITO) on the glass plate as the other panel plate, and then using both transparent conductive glass. It is possible to manufacture a touch panel as a switch structure by facing the indium tin oxide thin film through a spacer so as to face each other, but is not limited thereto.

이하, 실시예를 이용하여 본원을 좀더 구체적으로 설명하지만, 본원이 이에 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

제 1 First 적층체의Laminate 제조 Produce

두께가 125 ㎛인 PET 필름으로 이루어진 투명 수지필름 기재의 한 면에 대면적 PECVD 선형 소스를 적용한 플라즈마 강화 화학기상 증착설비로서 GPi사 PECVD 모듈레이터를 이용하였다.GPi's PECVD modulator was used as a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus using a large area PECVD linear source on one side of a transparent resin film substrate made of a PET film having a thickness of 125 μm.

PECVD챔버에 PET를 잠입하고 진공도가 1 ~ 20 mtorr로 유지한 챔버의 프라즈마 이온 소스에 40 kHz의 AC 발전기에서 파워을 인가하고 반응 전구체(Precusor)로 티타늄 테라콜라이드 (Titanium Terachloride)를 PECVD반응기에 주입해 기판상에 상변이를 유도하여 굴절률 2.32를 가진 34 nm 두께의 TiO2막을 형성하였다.
Injecting PET into the PECVD chamber and applying a 40 kHz AC generator to the plasma ion source in the chamber maintained at a vacuum of 1 to 20 mtorr and injecting titanium terachloride into the PECVD reactor as a precursor. The phase shift was induced on the substrate to form a 34 nm thick TiO 2 film with a refractive index of 2.32 .

제 2 2nd 적층체의Laminate 적층 Lamination

상기 제 1 적층체 상에, 상기의 제 1 적층체의 제조방법으로 반응전구체(Precusor)로 TMDSO와 분위기 가스 O2를 PECVD 반응기에 주입해 굴절률 1.45를 가진 61 nm 두께의 SiO2막을 가지는 제 2 적층체를 형성하였다.
On the first laminate, a second precursor having a 61 nm-thick SiO 2 film having a refractive index of 1.45 was injected into a PECVD reactor using a precursor precursor by injecting TMDSO and atmospheric gas O 2 into the precursor by the method of manufacturing the first laminate. The laminate was formed.

투명 Transparency 도전층의Conductive layer 적층 Lamination

제 2적층체가 성막된 필름을 스파터 챔버에 잠입하고 RF 마그네트론 스파터링법으로 형성하였다. 타겟은 일산화주석 5 중량%를 함유한 95 중량% 산화인듐 소결체를 사용하였고, 챔버의 초기 진공도를 5.0 × 10-5 torr 를 유지하여 아르곤 가스 80% 및 산소 가스 20% 분압으로 주입하여 4.0 × 10-3 torr 분위기에서 굴절률 2.05를 가진 25 nm 두께의 투명 도전층으로서의 ITO 막을 적층하여, 투명 도전성 적층 필름을 제조하였다.
The film on which the second laminate was formed was immersed in the spatter chamber and formed by RF magnetron spattering. The target was a 95% by weight indium oxide sintered body containing 5% by weight of tin monoxide, and the initial vacuum of the chamber was maintained at 5.0 × 10 -5 torr and injected at a partial pressure of 80% argon gas and 20% oxygen gas to give 4.0 × 10 A transparent conductive laminated film was prepared by laminating an ITO film as a 25 nm thick transparent conductive layer having a refractive index of 2.05 in a -3 torr atmosphere.

< < 비교예Comparative example 1 > 1>

투명 도전층의 두께를 25 nm 로 고정시키고 중간층의 구조에 의한 투과율과 투과착색, 고온.고습 환경에 의한 신뢰성을 조사하기 위하여 제 1 적층체인 TiO2 를 형성하지 않는 것을 제외하고는 실시예 1 과 같은 방법으로 굴절률 1.45와 두께 42 nm의 SiO2막을 가지는 투명 도전성 적층 필름을 제작하였다.
The thickness of the transparent conductive layer was fixed to 25 nm, except that TiO 2 , which is the first laminate, was not formed in order to investigate the transmittance, the coloration, and the reliability of the high-temperature and high-humidity environment. In the same manner, a transparent conductive laminated film having a SiO 2 film having a refractive index of 1.45 and a thickness of 42 nm was prepared.

< < 비교예Comparative example 2 > 2>

투명 도전층의 두께와 저항의 변화, 굴절률의 차이에 따른 투과율과 투과착색 값의 차이를 조사하기 위하여 제 1 적층체 및 제 2 적층체를 진공증착(Electron Beam Evaporation) 공정을 통해 형성 하였다.The first laminate and the second laminate were formed through an electron beam evaporation process in order to investigate the difference in transmittance and permeation coloring values according to the change in thickness, resistance, and refractive index of the transparent conductive layer.

두께가 125 ㎛인 PET 필름을 증착 챔버에 잠입하고 전자 빔의 도가니에 제 1 적층체(TiO2)와 제 2 적층체(SiO2)의 약품을 각각 잠입하고, 초기 진공을 6.0 × 10-6 torr 를 유지하여 전자 빔을 조사하면서 산소 가스를 주입하여 무기 산화물들의 반응성을 높혀 주었다. 무기 산화물의 광학박막의 최적화된 산소분압 압력인 5.0 × 10-5 torr 에서 작업이 이루어지게 하였다. The PET film having a thickness of 125 μm was immersed in the deposition chamber, and the chemicals of the first laminate (TiO 2 ) and the second laminate (SiO 2 ) were respectively injected into the crucible of the electron beam, and the initial vacuum was 6.0 × 10 −6. Torr was maintained to increase the reactivity of the inorganic oxides by injecting oxygen gas while irradiating the electron beam. The operation was performed at an optimized oxygen partial pressure of 5.0 × 10 -5 torr of the optical thin film of inorganic oxide.

굴절률 2.16을 가지고 두께 66 nm 의 TiO2막과 1.43의 굴절률을 가지는 43 nm 의 SiO2 막을 제조하였다. ITO의 두께와 형성 방법은 실시예 1 과 같은 방법으로 투명 도전성 적층 필름을 제작하였다.
A 66 nm thick TiO 2 film having a refractive index of 2.16 and a 43 nm SiO 2 film having a refractive index of 1.43 were prepared. The thickness and formation method of ITO produced the transparent conductive laminated film by the method similar to Example 1.

본원의 일 실시예에 따른 상기 실시예 1 에 따라 제조된 투명 도전성 적층 필름의 투과율, 색좌표값, 면저항, 및 신뢰성 등을 측정하였고, 이를 비교예 1 및 비교예 2와 함께 그 결과를 하기 [표 1]에 나타내었다.
The transmittance, color coordinate value, sheet resistance, and reliability of the transparent conductive laminated film prepared according to Example 1 according to an embodiment of the present application were measured, and the results are shown together with Comparative Example 1 and Comparative Example 2 below. 1].

Figure 112010074114811-pat00001
Figure 112010074114811-pat00001

< 평균투과율과 <Average transmittance 색좌표값Color coordinate value 측정 방법> Measurement method>

본원의 일 실시예에 따른 투명 도전성 적층 필름의 투과율을 비교예와 함께 측정하였고, 투과율은 히타치사 U4300 분광 광도계(spectrophotometer)를 사용하여 측정 하였으며, CIE 색좌표 측정법과 D 75 소스를 사용하여 각각 측정하였다.
The transmittance of the transparent conductive laminated film according to one embodiment of the present application was measured together with the comparative example, and the transmittance was measured using a Hitachi U4300 spectrophotometer, and measured using a CIE color coordinate measuring method and a D 75 source, respectively. .

< 표면저항 측정과 저항  <Surface resistance measurement and resistance 변화률Rate of change 측정방법> Measurement Method>

4-단자법을 이용하여 측정하였으며 상온에 방치한 투명 도전성 적층 필름의 ITO면의 표면저항 Ro(ohm/cm2)을 측정한 후 가열 챔버에 넣어 60℃, 95% 습도분위기에 240 시간 방치한 후 ITO 면저항 R을 측정하여 면 저항의 변화률(R/Ro)을 구해서 고온·고습의 신뢰성을 평가하였다.
Measured by the 4-terminal method, the surface resistance Ro (ohm / cm 2 ) of the ITO surface of the transparent conductive laminated film which was left at room temperature was measured and placed in a heating chamber and allowed to stand at 60 ° C. and 95% humidity for 240 hours. After the ITO sheet resistance R was measured, the change rate (R / Ro) of the sheet resistance was obtained to evaluate the reliability of high temperature and high humidity.

　 < 박막의 굴절율 및 두께측정 방법 > < How to measure refractive index and thickness of thin film >

각 층에 형성되는 TiO2와 SiO2, ITO 막의 굴절률과 막의 두께 측정은 위상 변조방식의 분광타원계(Phase Modulated Spectroscopic Ellipsometer)를 사용하였다.Phase modulated spectroscopic ellipsometer was used to measure the refractive index and thickness of TiO 2 , SiO 2 , and ITO films formed in each layer.

상기 [표 1] 에서 확인 할 수 있는 바와 같이, 투명 적층체로서의 ITO 면저항의 고온·고습에 대한 신뢰성(R/Ro)은 실시예 1에서 2층의 중간층(제 1 적층체와 제 2 적층체)을 PECVD로 형성한 경우가 단층의 중간층만을 PECVD로 형성한 비교예 1과 2층의 중간체를 전자빔 증착공정으로 형성한 비교예 2보다 우수한 특성을 보임을 알 수 있다. 이는 앞에서 언급한대로 TiO2와 SiO2층이 외부 열적 충격에 대해 각각 인장력과 수축력에 대응함으로써 ITO 막의 표면장력을 안정화 시켜줄 수 있음을 알 수 있다.As can be seen from the above [Table 1], the reliability (R / Ro) of the ITO sheet resistance as a transparent laminate with respect to high temperature and high humidity is two intermediate layers (first laminate and second laminate in Example 1). ) By PECVD shows better characteristics than Comparative Example 1 in which only an intermediate layer of a single layer was formed by PECVD and Comparative Example 2 in which an intermediate of two layers were formed by an electron beam deposition process. As mentioned earlier, it can be seen that the TiO 2 and SiO 2 layers can stabilize the surface tension of the ITO film by responding to tensile and contraction forces, respectively, against external thermal shocks.

또한 전자빔으로 형성된 중간층인 제 1 적층체와 제 2 적층체는 낮은 밀도와 느슨한 막구조로 인해 열과 수분의 충격에 취약한 결과를 보이고 있으며, 이는 본원에 따른 일실시예로서의 실시예 1의 PECVD 공정을 통한 높은 밀도와 치밀한 막구조의 제 1 적층체와 제 2 적층체가 열과 수분 등이 외부충격에 대한 신뢰성 특성이 매우 우수함을 확인할 수 있다.In addition, the first laminate and the second laminate, which are intermediate layers formed of electron beams, are vulnerable to the impact of heat and moisture due to the low density and loose film structure. It can be seen that the first laminate and the second laminate having a high density and dense membrane structure have excellent reliability characteristics against external impact such as heat and moisture.

도 2a는 본원의 실시예 1에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이며, 도 2b는 비교예 1에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이다.2A is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Example 1 of the present application, and FIG. 2B is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Comparative Example 1. FIG.

상기 [표 1], 도 2a 및 도 2b 를 살펴보면, 비교예 1에서는 본원의 일 실시예에 따른 실시예 1과 비교하여, 투과착색 수치에 있어서 미세한 차이를 보이지만, 낮은 가시광선 투과율 값을 보여 투과율이 높은 값을 요구하는 정전용량 방식의 터치패널에 사용하기에는 적당하지 않음을 확인할 수 있다.Referring to [Table 1], Figure 2a and Figure 2b, in Comparative Example 1 compared to Example 1 according to an embodiment of the present application, although there is a slight difference in the transmission coloration value, but shows a low visible light transmittance value It can be seen that it is not suitable for use in capacitive touch panels requiring high values.

비교예 2에서는 본원의 일 실시예에 따른 실시예 1과 비교하여, 투과율 값에서는 비슷한 정도의 값을 보이나 투과착색(황색)을 나타내는 b* 값이 상대적으로 높은 것을 알 수 있다.In Comparative Example 2, compared with Example 1 according to an embodiment of the present application, it can be seen that the b * value indicating the transmissive color (yellow) is relatively high although the transmittance value shows similar values.

더불어, 도 2a 및 도 2b 를 비교하면, 본원의 일 실시예에 따른 실시예 1의 경우가 비교예 3과 비교하여, 가시광 영역 대에서의 반사율이 낮음을 확인 할 수 있으며, 550 nm 파장대에서 매우 낮음을 확인 할 수 있으며, 이를 통해 본원의 광 투광성이 높음을 확인 할 수 있다.
In addition, comparing FIG. 2A and FIG. 2B, in the case of Example 1 according to an embodiment of the present application, compared to Comparative Example 3, it can be confirmed that the reflectance in the visible light band is low, and in the 550 nm wavelength band It can be confirmed that the low, through which the high light transmittance of the present application can be confirmed.

투명 도전층의 두께와 저항의 변화, 굴절률의 차이에 따른 투과율과 투과착색 값의 차이를 조사하기 위하여 TiO2 막의 두께를 61 nm, SiO2막의 두께를 25 nm로 적층하고 투명 도전층의 두께는 40 nm로 한 것을 제외하고는 실시예 1을 따라 적층하여 투명 도전성 적층 필름을 제조하였다.
In order to investigate the difference in transmittance and coloration values according to the thickness, resistance change and refractive index of the transparent conductive layer, the thickness of the TiO 2 film was 61 nm and the SiO 2 film was 25 nm. A transparent conductive laminated film was prepared by laminating according to Example 1 except that the thickness was 40 nm.

< < 비교예Comparative example 3 > 3>

투명 도전층의 두께를 실시예 2와 같이 고정시키고 중간 층의 구조에 의한 투과율과 투과착색의 변화를 조사하기 위하여 제 2 적층체인 SiO2의 두께를 24 nm 로 변화시킨 것을 제외하고는 비교예 1과 같은 방법으로 투명 도전성 적층 필름을 제작하였다.
Comparative Example 1 except that the thickness of the second laminate, SiO 2 , was changed to 24 nm in order to fix the thickness of the transparent conductive layer as in Example 2 and to investigate the change in transmittance and transmittance due to the structure of the intermediate layer. A transparent conductive laminated film was produced by the same method as described above.

< < 비교예Comparative example 4 > 4>

상기 비교예 2에서, 제 1 적층체로서의 TiO2 층과 제 2 적층체로서의SiO2 층, 투명 도전층으로서의 ITO의 두께를 각각 67 nm, 25 nm, 40 nm 인것을 제외하고는 비교예 2와 같은 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.
In Comparative Example 2, except that the thicknesses of the TiO 2 layer as the first laminate, the SiO 2 layer as the second laminate, and the ITO as the transparent conductive layer were 67 nm, 25 nm, and 40 nm, respectively. In the same manner, a transparent conductive film was produced.

본원의 일 실시예에 따른 상기 실시예 2 에 따라 제조된 투명 도전성 적층 필름의 투과율과 색좌표 값을 측정하였고, 이를 비교예 3 및 비교예 4와 함께 그 결과를 하기 [표 2]에 나타내었다.
The transmittance and color coordinate values of the transparent conductive laminated film prepared according to Example 2 according to an embodiment of the present application were measured, and the results are shown in the following [Table 2] along with Comparative Example 3 and Comparative Example 4.

Figure 112010074114811-pat00002
Figure 112010074114811-pat00002

도 3a는 본원의 실시예 2에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이고, 도 3b는 비교예 3에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이다.3A is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Example 2 of the present application, and FIG. 3B is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Comparative Example 3. FIG.

상기 [표 2], 도 3a 및 도 3b 를 살펴보면, 비교예 3에서는 본원의 일 실시예에 따른 실시예 2와 비교하여, 투과착색 수치에 있어서 미세한 차이를 보이지만, 낮은 가시광선 투과율 값을 보여 투과율이 높은 값을 요구하는 정전용량 방식의 터치패널에 사용하기에는 적당하지 않음을 확인할 수 있다.Referring to Table 2, Figure 3a and Figure 3b, in Comparative Example 3 compared to the second embodiment according to an embodiment of the present application, although showing a slight difference in the transmissive coloration value, it shows a low visible light transmittance value It can be seen that it is not suitable for use in capacitive touch panels requiring high values.

비교예 4에서는 본원의 일 실시예에 따른 실시예 1과 비교하여, 투과율 값에서는 비슷한 정도의 값을 보이나 투과착색(황색)을 나타내는 b* 값이 상대적으로 높은 것을 알 수 있다.In Comparative Example 4, compared with Example 1 according to an embodiment of the present application, it can be seen that the b * value indicating the transmissive color (yellow) is relatively high although the transmittance value shows similar values.

더불어, 도 3a 및 도 3b 를 비교하면, 본원의 일 실시예에 따른 실시예 2의 경우가 비교예 5와 비교하여, 가시광 영역 대에서의 반사율이 낮음을 확인 할 수 있으며, 550 nm 파장대에서 매우 낮음을 확인 할 수 있으며, 이를 통해 본원의 광 투광성이 높음을 확인 할 수 있다.
In addition, comparing FIG. 3a and FIG. 3b, it can be seen that the case of Example 2 according to an embodiment of the present application, compared with Comparative Example 5, the reflectance is low in the visible region, and very high in the 550 nm wavelength band It can be confirmed that the low, through which the high light transmittance of the present application can be confirmed.

투명 도전층(ITO; 굴절률 20.5)의 두께가 50 nm 이상인 경우 광학적 투명수지로서 PET 상에 형성되는 제 1 적층체와 제 2 적층체의 경우, 제 2 적층체의 굴절률이 제 1 적층체의 굴절률 보다 높을 것이 요구된다.When the thickness of the transparent conductive layer (ITO; refractive index 20.5) is 50 nm or more, in the case of the first laminate and the second laminate formed on the PET as optical transparent resin, the refractive index of the second laminate is the refractive index of the first laminate. It is required to be higher.

PET 상에 1.45의 굴절률을 가지는 SiO2 층을 282 nm의 두께로 적층하여 제 1 적층체를 제작하고, 상기 제 1 적층체 상에 굴절률 2.32를 가지는 TiO2 를 57 nm로 적층하고, 투명 도전층의 두께를 70 nm로 하여 적층하여, 투명 도전성 적층 필름을 제조하였다.
A SiO 2 layer having a refractive index of 1.45 was laminated on PET to a thickness of 282 nm to fabricate a first laminate, and TiO 2 having a refractive index of 2.32 was laminated to 57 nm on the first laminate, and a transparent conductive layer Was laminated at a thickness of 70 nm to prepare a transparent conductive laminated film.

< < 비교예Comparative example 5 > 5>

투명 도전층의 두께를 실시예 3과 같이 고정시키고 중간층의 구조에 의한 투과율과 투과착색의 변화를 조사하기 위하여 제 2 적층체인 SiO2의 두께를 55 nm 로 변화시킨 것을 제외하고는 비교예 1과 같은 방법으로 투명 도전성 적층 필름을 제작하였다.
In order to fix the thickness of the transparent conductive layer in the same manner as in Example 3 and to change the thickness of the second laminate, SiO 2 , to 55 nm in order to investigate the change of transmittance and color change due to the structure of the intermediate layer, Comparative Example 1 and In the same manner, a transparent conductive laminated film was produced.

< < 비교예Comparative example 6 > 6>

비교예 2에 있어서, 제 1 적층체인 SiO2층, 제 2 적층체인 TiO2층 및 투명 도전층으로서의 ITO 층의 두께가 각각 288 nm, 64 nm, 70 nm 인 것을 제외하고는 비교예 2와 같은 방법으로 투명 도전성 필름을 제작하였다.
In Comparative Example 2, the thickness of the SiO 2 layer as the first laminate, the TiO 2 layer as the second laminate, and the ITO layer as the transparent conductive layer were 288 nm, 64 nm, and 70 nm, respectively. A transparent conductive film was produced by the method.

본원의 일 실시예에 따른 상기 실시예 3 에 따라 제조된 투명 도전성 적층 필름의 투과율과 색좌표 값을 측정하였고, 이를 비교예 5 및 비교예 6과 함께 그 결과를 하기 [표 3]에 나타내었다.
The transmittance and color coordinate values of the transparent conductive laminated film prepared according to Example 3 according to an embodiment of the present application were measured, and the results are shown in the following [Table 3] together with Comparative Example 5 and Comparative Example 6.

Figure 112010074114811-pat00003
Figure 112010074114811-pat00003

도 4a는 본원의 실시예 2에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이고, 도 4b는 비교예 5에 따른, 투명 도전성 적층 필름의 반사율을 측정한 그래프이다.4A is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Example 2 of the present application, and FIG. 4B is a graph measuring the reflectance of the transparent conductive laminated film according to Comparative Example 5. FIG.

상기 [표 3], 도 4a 및 도 4b 를 살펴보면, 비교예 5에서는 본원의 일 실시예에 따른 실시예 3과 비교하여, 투과착색 수치에 있어서 미세한 차이를 보이지만, 낮은 가시광선 투과율 값을 보여 투과율이 높은 값을 요구하는 정전용량 방식의 터치패널에 사용하기에는 적당하지 않음을 확인할 수 있다.Looking at the Table 3, Figure 4a and 4b, in Comparative Example 5 compared to Example 3 according to an embodiment of the present application, although there is a slight difference in the transmission coloration value, but shows a low visible light transmittance value It can be seen that it is not suitable for use in capacitive touch panels requiring high values.

비교예 6에서는 본원의 일 실시예에 따른 실시예 1과 비교하여, 투과율 값에서는 비슷한 정도의 값을 보이나 투과착색(황색)을 나타내는 b* 값이 상대적으로 높은 것을 알 수 있다.In Comparative Example 6, compared with Example 1 according to an embodiment of the present application, it can be seen that the b * value indicating the transmissive color (yellow) is relatively high although the transmittance value shows similar values.

더불어, 도 4a 및 도 4b 를 비교하면, 본원의 일 실시예에 따른 실시예 3의 경우가 비교예 5와 비교하여, 가시광 영역 대에서의 반사율이 낮음을 확인할 수 있으며, 550 nm 파장대에서 매우 낮음을 확인 할 수 있으며, 이를 통해 본원의 광 투광성이 높음을 확인 할 수 있다.
In addition, comparing FIG. 4A and FIG. 4B, in the case of Example 3 according to an embodiment of the present application, compared to Comparative Example 5, it can be seen that the reflectance in the visible light band is low, very low in the 550 nm wavelength band It can be confirmed, through which it can be confirmed that the high light transmittance of the present application.

본원에 따른 일 실시예로서의 실시예 1 내지 실시예 3의 결과는, 본원이 높은 투과율 확보와 낮은 투과착색, 및 고온·고습의 외부환경에 대한 신뢰성 특성이 매우 우수함을 보여준다.The results of Examples 1 to 3 as one embodiment according to the present application show that the present application is very excellent in securing high transmittance, low permeation coloring, and reliability characteristics of the external environment of high temperature and high humidity.

이상, 구현예 및 실시예를 들어 본 발명을 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 구현예 및 실시예들에 한정되지 않으며, 여러 가지 다양한 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 많은 변형이 가능함이 명백하다.
Although the present invention has been described in detail with reference to embodiments and examples, the present invention is not limited to the above embodiments and embodiments, and may be modified in various forms, and within the technical spirit of the present invention. It is obvious that many modifications are possible to those skilled in the art.

10 : 광학적 투명 기재 20 : 제 1 적층체
30 : 제 2 적층체 40 : 투명 도전층
100 : 투명 도전성 적층 10 optically transparent substrate 20 first laminate
30: second laminate 40: transparent conductive layer
100: transparent conductive lamination

Claims (12)

플라스틱 필름을 포함하는 광학적 투명 기재;
플라즈마-강화 화학 기상 증착법(PECVD)을 이용하여 상기 광학적 투명 기재 상에 10 nm 내지 300 nm의 두께로 적층되며, 무기 산화물을 포함하며, 굴절률 1.3 내지 2.5을 가지는 제 1 적층체;
플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 상기 제 1 적층체 상에 10 nm 내지 300 nm의 두께로 적층되며, 상기 제 1 적층체에 포함된 무기 산화물과 상이한 무기 산화물을 포함하는 제 2 적층체; 및,
상기 제 2 적층체 상에 10 nm 내지 100 nm의 두께로 적층된 투명 도전층:을 포함하며,
상기 투명 도전층의 두께가 50 nm 이상인 경우, 상기 제 2 적층체의 굴절률은 상기 제 1 적층체의 굴절률보다 큰 굴절률을 가지는 것이고,
상기 제 1 적층체 및 제 2 적층체의 총 두께는 50 nm 내지 350 nm 인 것이고,
상기 무기 산화물은 티타늄 산화물(titanium oxide), 아연 산화물(zinc oxide), 세륨 산화물(cerium oxide), 알루미늄 산화물(aluminium oxide), 탄탈륨 산화물(tantalum oxide), 이트륨 산화물(yttrium oxide), 이터비움 산화물(ytterbium oxide), 지르코늄 산화물(zirconium oxide) 및 산화 규소(silicon oxide) 로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인,
터치패널용 투명 도전성 적층 필름.
Optically transparent substrates including plastic films;
A first laminate having a thickness of 10 nm to 300 nm on the optically transparent substrate using plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD), comprising an inorganic oxide, and having a refractive index of 1.3 to 2.5;
A second laminate stacked on the first laminate with a thickness of 10 nm to 300 nm using plasma-enhanced chemical vapor deposition and comprising an inorganic oxide different from the inorganic oxide included in the first laminate; And,
A transparent conductive layer laminated on the second laminate in a thickness of 10 nm to 100 nm,
When the thickness of the transparent conductive layer is 50 nm or more, the refractive index of the second laminate has a refractive index larger than that of the first laminate,
The total thickness of the first laminate and the second laminate is 50 nm to 350 nm,
The inorganic oxide may be titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, aluminum oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, or iterium oxide ( It is to include those selected from the group consisting of ytterbium oxide, zirconium oxide and silicon oxide (silicon oxide),
Transparent conductive laminated film for touch panels.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 투명 도전층은 산화 인듐 주석(ITO), 산화 안티몬 주석(ATO), 및 산화 인듐 아연(IZO)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인,
터치패널용 투명 도전성 적층 필름.
The method of claim 1,
The transparent conductive layer is one containing at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), and indium zinc oxide (IZO),
Transparent conductive laminated film for touch panels.
제 1 항에 있어서,
상기 광학적 투명 기재의 두께가 25 ㎛ 내지 350 ㎛인,
터치패널용 투명 도전성 적층 필름.
The method of claim 1,
The optical transparent substrate has a thickness of 25 μm to 350 μm,
Transparent conductive laminated film for touch panels.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 적층체의 색차계의 L, a*,b* 값에서 투과색 좌표값이 -7〈 b*〈 2 인 것을 포함하는 것인, 터치패널용 투명 도전성 적층 필름.
The method of claim 1,
The transparent conductive laminated film for touch panels which contains the thing of -7 <b * <2 in the transmission color coordinate value in L, a *, b * value of the color difference meter of a said 2nd laminated body.
제 1 항에 있어서,
상기 광학적 투명 기재는 일면 또는 양면에 투명 하드 코트막을 포함하는 것인,
터치패널용 투명 도전성 적층 필름.
The method of claim 1,
The optically transparent substrate is to include a transparent hard coat film on one side or both sides,
Transparent conductive laminated film for touch panels.
플라스틱 필름을 포함하는 광학적 투명 기재 상에, 무기 산화물을 포함하며 굴절률이 1.3 내지 2.5 인 제 1 적층체를 10 nm 내지 300 nm의 두께로 롤투롤 방식의 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 적층하고;
상기 제 1 적층체 상에, 상기 제 1 적층체에 포함된 무기 산화물과 상이한 무기 산화물을 포함하는 제 2 적층체를 10 nm 내지 300 nm의 두께로 플라즈마-강화 화학 기상 증착법을 이용하여 적층하고;
상기 제 2 적층체 상에 10 nm 내지 100 nm의 두께로 투명 도전층을 적층하는 것:을 포함하며,
상기 투명 도전층의 두께가 50 nm 이상인 경우, 상기 제 2 적층체의 굴절률은 상기 제 1 적층체의 굴절률보다 큰 굴절률을 가지는 것이고,
상기 제 1 적층체 및 제 2 적층체의 총 두께는 50 nm 내지 350 nm 인 것이고,
상기 무기 산화물은 티타늄 산화물(titanium oxide), 아연 산화물(zinc oxide), 세륨 산화물(cerium oxide), 알루미늄 산화물(aluminium oxide), 탄탈륨 산화물(tantalum oxide), 이트륨 산화물(yttrium oxide), 이터비움 산화물(ytterbium oxide), 지르코늄 산화물(zirconium oxide) 및 산화 규소(silicon oxide) 로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인,
터치패널용 투명 도전성 적층 필름의 제조 방법.
On an optically transparent substrate comprising a plastic film, a first laminate including an inorganic oxide and having a refractive index of 1.3 to 2.5 was laminated to a thickness of 10 nm to 300 nm using a roll-to-roll plasma-enhanced chemical vapor deposition method. ;
Depositing, on the first laminate, a second laminate comprising an inorganic oxide different from the inorganic oxide included in the first laminate by a plasma-enhanced chemical vapor deposition method with a thickness of 10 nm to 300 nm;
Laminating a transparent conductive layer to a thickness of 10 nm to 100 nm on the second laminate:
When the thickness of the transparent conductive layer is 50 nm or more, the refractive index of the second laminate has a refractive index larger than that of the first laminate,
The total thickness of the first laminate and the second laminate is 50 nm to 350 nm,
The inorganic oxide may be titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, aluminum oxide, tantalum oxide, yttrium oxide, or iterium oxide ( It is to include those selected from the group consisting of ytterbium oxide, zirconium oxide and silicon oxide (silicon oxide),
The manufacturing method of the transparent conductive laminated film for touch panels.
삭제delete 제 8 항에 있어서,
상기 투명 도전층을 적층하는 것은, 증착법, 이온플레이팅법, 스퍼터링법, 화학증착법 및 플레이팅법으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 방법 및 롤투롤 공정을 이용하여 상기 투명 도전층을 연속 형성하는 것을 포함하는 것인,
터치패널용 투명 도전성 적층 필름의 제조 방법.
The method of claim 8,
Laminating the transparent conductive layer includes continuously forming the transparent conductive layer using at least one method selected from the group consisting of a deposition method, an ion plating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method and a plating method and a roll-to-roll process. That,
The manufacturing method of the transparent conductive laminated film for touch panels.
제 8 항에 있어서,
상기 투명 도전층을 적층한 후에 120℃ 내지 150℃에서 열처리하여 상기 투명 도전층을 결정화시키는 것을 추가 포함하는,
터치패널용 투명 도전성 적층 필름의 제조 방법.
The method of claim 8,
After laminating the transparent conductive layer further comprises crystallizing the transparent conductive layer by heat treatment at 120 ℃ to 150 ℃,
The manufacturing method of the transparent conductive laminated film for touch panels.
제 1 항 및 제 4 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 상기 터치패널용 투명 도전성 적층 필름을 포함하는 터치패널.A touch panel comprising the transparent conductive laminated film for said touch panel according to any one of claims 1 and 4.
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