KR100994633B1 - Black-colored photosensitive resin composition, black matrix prepared by using thereof and color filter comprising the black matrix - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A black photosensitive resin composition, a black matrix manufactured therefrom, and a color filter including the black matrix are provided to secure the excellent storage stability of the resin composition, and to reduce the optical density difference when forming a micro-pattern. CONSTITUTION: A black photosensitive resin composition contains an alkali-developable resin obtained by polymerizing a monomer including compounds marked with chemical formula 1 and 2. In the chemical formula 1, n is an integer of 2~4. In the chemical formula 2, m is the integer of 0~2. 10~40 parts of compound marked with the chemical formula 1 by weight, is mixed with the total amount of the monomer.

Description

흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 매트릭스 및 상기 블랙 매트릭스를 구비하는 컬러 필터{Black-colored photosensitive resin composition, black matrix prepared by using thereof and color filter comprising the black matrix}Black photosensitive resin composition, a black matrix prepared by using the same and a color filter having the black matrix TECHNICAL FIELD

본 발명은 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 매트릭스 및 상기 블랙 매트릭스를 구비하는 컬러 필터에 관한 것으로, 구체적으로, 기판과의 밀착성 및 저장 안정성이 우수하고 감도가 유지되면서도 포스트베이크시 열흐름성을 적게하여 미세패턴 형성시 위치에 따른 광학밀도차를 개선하는 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 매트릭스 및 상기 블랙 매트릭스를 구비하는 컬러 필터에 관한 것이다.
The present invention relates to a black photosensitive resin composition, a black matrix manufactured using the same, and a color filter including the black matrix. Specifically, the present invention provides excellent adhesion to a substrate and storage stability and maintains sensitivity while maintaining heat sensitivity. The present invention relates to a black photosensitive resin composition having a small property to improve an optical density difference according to a position when forming a fine pattern, a black matrix manufactured by using the same, and a color filter having the black matrix.

액정디스플레이의 컬러필터 중 블랙매트릭스는 투명화 소전극 외로 투과되어 제어되지 않는 빛을 차단하여 콘트라스트를 향상시키는 역할을 하며, 크롬 또는 수지를 재료로 하여 제조된다. 크롬의 경우 박막 차광성능 및 패턴 직진성은 우수하나 환경문제, 고반사율, 공정상의 고비용 등의 문제로 수지계 블랙 매트릭스가 선호되고 있다. Among the color filters of the liquid crystal display, the black matrix serves to improve contrast by blocking uncontrolled light transmitted through the transparent small electrode, and is made of chromium or resin. In the case of chromium, the thin film shading performance and pattern linearity are excellent, but resin-based black matrices are preferred due to environmental problems, high reflectivity, and high process costs.

그러나, 수지 블랙 매트릭스 제조용 감광성 수지 조성물에 있어서는 감광성을 크게 방해하는 블랙 안료로 인해 효율적인 광가교가 일어나지 못하며, 소위‘언더컷’이라는 현상액으로 인한 과침식, 현상안정성, 미흡과 광감도 저하 등의 문제가 있다. 대한민국 특허출원 제1995-7002313호에서는 감도를 향상시키기위해 카도계 수지를 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물에 사용하고 있으나, 이는 벌키한 분자구조로 접착성이 저하되며, 특히 블랙매트릭스의 경우 요구되는 광학적 밀도를 위해 블랙 안료의 함량이 높아 접착성의 저하가 심하게 나타나는 문제가 있다. 이에 대한미국 특허출원 제2000-0055255호는 여러 단량체가 공중합된 카도계 수지 및 실란계 커플링제를 개시하고 있으나, 저장안정성이 열악하고 포스트베이크시 열흐름에 따른 미세패턴 형성시 위치에 따른 광학밀도차의 문제가 있다.
However, in the photosensitive resin composition for preparing the resin black matrix, efficient photocrosslinking does not occur due to the black pigment that greatly interferes with the photosensitivity, and there are problems such as over erosion, development stability, inadequateness and decrease in photosensitivity due to a so-called 'undercut' developer. . Korean Patent Application No. 1995-002002313 uses a cardo-based resin for the photosensitive resin composition for black matrices to improve the sensitivity, but this has a bulky molecular structure, which lowers the adhesiveness, and in particular, the optical density required for the black matrix. For the high content of the black pigment there is a problem that the deterioration of the adhesion is severe. US Patent Application No. 2000-0055255 discloses a cardo resin and a silane coupling agent copolymerized with various monomers, but has a poor storage stability and optical density according to position when forming a fine pattern due to heat flow during post-baking. There is a problem with the car.

상기의 문제점을 해결하고자 본 발명의 목적은 기판과의 밀착성 및 저장 안정성이 우수하고 감도가 유지되면서도 포스트베이크시 열흐름성을 적게하여 미세패턴 형성시 위치에 따른 광학밀도차를 개선하는 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 매트릭스 및 상기 블랙 매트릭스를 구비하는 컬러 필터를 제공하는 것이다.
An object of the present invention to solve the above problems is to improve the optical density difference according to the position when forming a fine pattern by reducing the heat flow during post-baking while maintaining excellent sensitivity and storage stability and sensitivity to the substrate It is to provide a composition, a black matrix prepared using the same and a color filter having the black matrix.

상기의 목적을 달성하고자 본 발명은,The present invention to achieve the above object,

하기 화학식 1 로 표현되는 화합물을 포함하는 단량체의 중합반응에 의해 얻어지는 알칼리 가용성 수지(B)를 포함하는 흑색 감광성 수지 조성물을 제공한다:It provides a black photosensitive resin composition comprising an alkali-soluble resin (B) obtained by polymerization of a monomer containing a compound represented by the following formula (1):

<화학식 1><Formula 1>

Figure 112010022328013-pat00001
Figure 112010022328013-pat00001

(화학식 1 에서,(In Formula 1,

n 은 2 내지 4 의 정수이다.)
n is an integer from 2 to 4.

상기 단량체는 하기 화학식 2 로 표현되는 화합물을 더 포함할 수 있다:The monomer may further include a compound represented by Formula 2 below:

<화학식 2><Formula 2>

Figure 112010022328013-pat00002
Figure 112010022328013-pat00002

(화학식 2 에서,(In Formula 2,

m 은 0 내지 2 의 정수이다.)
m is an integer of 0 to 2).

상기 화학식 1 로 표현되는 화합물은 상기 단량체에 대하여 10 내지 40 중량부로 포함될 수 있다.
The compound represented by Chemical Formula 1 may be included in an amount of 10 to 40 parts by weight based on the monomer.

상기 화학식 2 로 표현되는 화합물은 상기 단량체에 대하여 10 내지 40 중량부로 포함될 수 있다.
The compound represented by Formula 2 may be included in 10 to 40 parts by weight based on the monomer.

상기 알칼리 가용성 수지(B)는 조성물의 고형분에 대하여 4 내지 25 중량부로 포함될 수 있다.
The alkali-soluble resin (B) may be included in 4 to 25 parts by weight based on the solids of the composition.

상기 단량체는 (메타)아크릴레이트계 화합물, 방향족 비닐화합물, 카르복실산 비닐에스테르, 시안화 비닐화합물, 말레이미드 화합물, 비닐 카르복실레이트 화합물, 불포화 옥세탄 카르복실레이트 화합물, 모노카르복실산 화합물, 디카르복실산 화합물 및 양 말단에 카르복실기와 히드록시기를 갖는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 더 포함할 수 있다. The monomers include (meth) acrylate compounds, aromatic vinyl compounds, carboxylic acid vinyl esters, vinyl cyanide compounds, maleimide compounds, vinyl carboxylate compounds, unsaturated oxetane carboxylate compounds, monocarboxylic acid compounds and dica It may further comprise a single or a mixture thereof selected from the group consisting of a carboxylic acid compound and a compound having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals.

상기 흑색 감광성 수지 조성물은 착색제(A), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 더 포함할 수 있다.
The black photosensitive resin composition may further include a single or a mixture thereof selected from the group consisting of a colorant (A), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), and a solvent (E).

본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,In order to achieve the other object of the present invention,

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물을 도포, 노광 및 현상하여 얻어지는 블랙 매트릭스를 제공한다.
The black matrix obtained by apply | coating, exposing, and developing the black photosensitive resin composition of this invention is provided.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,In order to achieve another object of the present invention,

상기 블랙 매트릭스를 구비하는 컬러필터를 제공한다.
Provided is a color filter having the black matrix.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성이 우수할 뿐만 아니라 감도가 우수하여 미세한 패턴을 형성할 수 있다. The black photosensitive resin composition of this invention is not only excellent in adhesiveness with a board | substrate, but also excellent in sensitivity, and can form a fine pattern.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 감도가 저하되지 않으면서도 포스트베이크시 열흐름성을 적게하여 미세패턴 형성시 위치에 따른 광학밀도차를 개선할 수 있다. 따라서, 강한 백라이트를 균일적으로 차단할 수 있는 블랙 매트릭스를 제조할 수 있다. The black photosensitive resin composition of the present invention can improve the optical density difference according to the position at the time of forming a fine pattern by reducing the heat flow during post-baking without decreasing the sensitivity. Therefore, it is possible to produce a black matrix capable of uniformly blocking the strong backlight.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 저장 안정성이 우수하여 저장 기간에 따른 물성변화가 없다.
The black photosensitive resin composition of the present invention is excellent in storage stability and there is no change in physical properties according to the storage period.

이하, 당업자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명을 상세히 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily practice.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 단량체의 중합반응에 의해 얻어지는 알칼리 가용성 수지(B)를 포함한다. 상기 단량체는 하기 화학식 1 로 표현되는 화합물을 포함한다:The black photosensitive resin composition of this invention contains alkali-soluble resin (B) obtained by the polymerization reaction of a monomer. The monomer includes a compound represented by the following formula (1):

<화학식 1><Formula 1>

Figure 112010022328013-pat00003
Figure 112010022328013-pat00003

상기 화학식 1 에서, n 은 2 내지 4 의 정수이다.In Formula 1, n is an integer of 2 to 4.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 상기 화학식 1 로 표현되는 화합물을 포함하는 단량체의 중합체를 포함하여 기판과의 밀착성이 향상되고, 상기 중합체는 비반응성으로 저장안정성도 향상되어 저장 기간에 따른 선폭 변화 등이 나타나지 않는다. 또한, 포스트베이크시 열흐름성이 작아 위치에 따른 광학밀도차를 개선할 수 있으므로, 백라이트를 균일하게 차단할 수 있는 블랙 매트릭스를 제조할 수 있다. The black photosensitive resin composition of the present invention includes a polymer of a monomer including the compound represented by Chemical Formula 1, thereby improving adhesion to a substrate, and the polymer is non-reactive, and thus storage stability is also improved to change line width according to storage period. Does not appear. In addition, since the thermal flowability at the time of post-baking can be improved to improve the optical density difference according to the position, it is possible to manufacture a black matrix that can block the backlight uniformly.

상기 화학식 1 로 표현되는 화합물은 구체적으로, 아크릴옥시에틸숙시네이트류 등을 사용할 수 있으며, 바람직하게는, 4-(2-(아크릴로일옥시)에톡시)-4-옥소부탄오익 에시드, 5-(2-(아크릴로일옥시)에톡시)-5-옥소펜탄오익에시드 및 6-(2-(아크릴로일옥시)에톡시)-6-옥소헥산오익에시드로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Specifically, the compound represented by the formula (1) may be used, such as acryloxyethyl succinate, preferably, 4- (2- (acryloyloxy) ethoxy) -4-oxobutanic acid acid, 5 Single or selected from the group consisting of-(2- (acryloyloxy) ethoxy) -5-oxopentanoic acid and 6- (2- (acryloyloxy) ethoxy) -6-oxohexaneoacid A mixture of may be used, but is not limited thereto.

상기 화학식 1 로 표현되는 화합물은 상기 단량체에 대하여10 내지 40 중량부로 포함될 수 있다. 즉, 상기 알칼리 가용성 수지(B)의 중합을 위해 투입되는 단량체의 총량에 대해 10 내지 40 중량부로 투입되어 중합될 수 있다. 상기 화학식 1 로 표현되는 화합물이 10 중량부 미만으로 포함되는 경우 패턴형성시 포스트베이크시 열흐름성을 적게하려는 효과가 미미하고, 패턴형성시 잔막 형성으로 인해 직진성 불량이 될 수 있으며, 40 중량부를 초과하는 경우 패턴형성시 침하현상으로 인해 직진성 및 막균일도에 문제가 일어날 수 있다.
The compound represented by Chemical Formula 1 may be included in an amount of 10 to 40 parts by weight based on the monomer. That is, 10 to 40 parts by weight based on the total amount of the monomers input for the polymerization of the alkali-soluble resin (B) may be polymerized. When the compound represented by Chemical Formula 1 is included in less than 10 parts by weight, the effect of reducing the heat flow during post-baking during pattern formation is insignificant, and may be a straightness defect due to residual film formation during pattern formation, and 40 parts by weight. If exceeded, problems with straightness and film uniformity may occur due to settlement phenomenon during pattern formation.

상기 단량체는 하기 화학식 2 로 표현되는 화합물을 더 포함할 수 있다:The monomer may further include a compound represented by Formula 2 below:

<화학식 2><Formula 2>

Figure 112010022328013-pat00004
Figure 112010022328013-pat00004

상기 화학식 2 에서 m 은 0 내지 2 의 정수이다. 상기 화학식 2 로 표현되는 화합물을 단량체로 더 포함하여 상기 화학식 1 및 상기 화학식 2 의 단량체가 중합 반응에 참여하는 공중합체를 함유하게 되므로 포스트베이크시 열흐름성이 더욱 줄어 미세패턴 형성시 위치차이에 따른 광학밀도 차이를 줄여줄 수 있다. In Formula 2, m is an integer of 0 to 2. Further comprising a compound represented by the formula (2) as a monomer, the monomers of the formula (1) and the formula (2) contain a copolymer participating in the polymerization reaction, further reducing the heat flow during post-baking position difference when forming a fine pattern This can reduce the difference in optical density.

상기 화학식 2로 표현되는 화합물은 구체적으로, 이소보닐메타아크릴레이트를 사용할 수 있으며, 바람직하게는, 1,7,7-트리메틸바이시클로[2.2.1]헵탄-2-일 메타아크릴레이트, 7,7-디메틸-1-프로필바이시클로[2,2,1]헵탄-2-일 메타아크릴레이트, 1-에틸-7,7-디메틸바이시클로[2.2.1]헵탄-2-일 메타아크릴레이트 및 1-에틸-7,7-디메틸바이시클로[2.2.1]헵탄-2-일 메타아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specifically, the compound represented by Chemical Formula 2 may be used isobornyl methacrylate, preferably, 1,7,7-trimethylbicyclo [2.2.1] heptan-2-yl methacrylate, 7, 7-dimethyl-1-propylbicyclo [2,2,1] heptan-2-yl methacrylate, 1-ethyl-7,7-dimethylbicyclo [2.2.1] heptan-2-yl methacrylate and It can be used alone or a mixture thereof selected from the group consisting of 1-ethyl-7,7-dimethylbicyclo [2.2.1] heptan-2-yl methacrylate, but is not limited thereto.

상기 화학식 2 로 표현되는 화합물은 상기 단량체에 대하여 10 내지 40 중량부로 포함될 수 있다. 10 중량부 미만으로 포함되는 경우 패턴형성시 밀착성이 약하며, 40 중량부를 초과하는 경우 현상성 저하 및 기판과의 밀착성이 증가하여 미세패턴 형성에 어려움이 있을 수 있다.
The compound represented by Formula 2 may be included in 10 to 40 parts by weight based on the monomer. When the amount is less than 10 parts by weight, the adhesion is weak at the time of pattern formation, and when it exceeds 40 parts by weight, the developability is reduced and the adhesion with the substrate may increase, thereby making it difficult to form the fine pattern.

상기 단량체는 추가적으로 상기 화학식 1 또는 화학식 2 로 표현되는 화합물과 공중합할 수 있는 불포화 결합을 갖는 화합물을 더 포함할 수 있다. 즉, 상기 화학식 1 또는 화학식 2 로 표현되는 화합물 외에 다른 단량체를 추가적으로 투입하여 공중합시켜 본 발명의 알칼리 가용성 수지(B)를 제조할 수 있다. 구체적으로, (메타)아크릴레이트계 화합물(상기 (메타)아크릴레이트는 메타아크릴레이트와 아크릴레이트를 모두 포함한다), 방향족 비닐화합물, 카르복실산 비닐에스테르 화합물, 시안화 비닐화합물, 말레이미드 화합물, 비닐 카르복실레이트 화합물, 불포화 옥세탄 카르복실레이트 화합물, 모노카르복실산 화합물, 디카르복실산 화합물 및 양 말단에 카르복실기와 히드록시기를 갖는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 더 포함할 수 있다. 상기 (메타)아크릴레이트계 화합물은 구체적으로, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬 에스테르 화합물; 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 글리시딜카르복실레이트 화합물 또는 올리고에틸렌글리콜 모노알킬(메타)아크릴레이트 등의 글리콜 모노카르복실산 에스테르 화합물 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 방향족 비닐화합물의 구체적인 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 카르복실산 비닐에스테르 화합물의 구체적인 예로는, 아세트산 비닐 또는 프로피온산 비닐 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 시안화 비닐화합물의 구체적인 예로는, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 또는 α-클로로아크릴로니트릴 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 말레이미드 화합물의 구체적인 예로는, N-시클로헥실말레이미드 또는 N-페닐말레이미드 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 비닐카르복실레이트 화합물의 구체적인 예로는, 비닐아세테이트 또는 비닐프로피오네이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 불포화 옥세탄카르복실레이트 화합물의 구체적인 예로는, 3-메틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴옥시에틸옥세탄 또는 3-메틸-3-메타크릴옥시에틸옥세탄 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 모노카르복실산 화합물의 구체적인 예로는, 아크릴산, 메타크릴산 또는 크로톤산 등이 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 디카르복실산 화합물의 구체적인 예로는, 푸마르산, 메사콘산 또는 이타콘산 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 양 말단에 카르복실기와 히드록시기를 갖는 화합물의 구체적인 예로는, ω-카르복시폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
The monomer may further include a compound having an unsaturated bond copolymerizable with the compound represented by Formula 1 or Formula 2. That is, the alkali-soluble resin (B) of the present invention may be prepared by additionally copolymerizing other monomers in addition to the compound represented by Formula 1 or Formula 2. Specifically, (meth) acrylate-based compound (the (meth) acrylate includes both methacrylate and acrylate), aromatic vinyl compound, carboxylic acid vinyl ester compound, vinyl cyanide compound, maleimide compound, vinyl It may further include a carboxylate compound, an unsaturated oxetane carboxylate compound, a monocarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound and a single or a mixture thereof selected from the group consisting of compounds having a carboxyl group and a hydroxyl group at both ends. . Specifically, the (meth) acrylate-based compound is methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate Unsubstituted or substituted alkyl ester compounds of unsaturated carboxylic acids such as aminoethyl (meth) acrylate; Unsaturated glycidyl carboxylate compounds such as glycidyl methacrylate or glycol monocarboxylic acid ester compounds such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate, and the like, but are not limited thereto. Specific examples of the aromatic vinyl compound include styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, and the like, but are not limited thereto. Specific examples of the carboxylic acid vinyl ester compound include vinyl acetate or vinyl propionate, but are not limited thereto. Specific examples of the vinyl cyanide compound include acrylonitrile, methacrylonitrile or α-chloroacrylonitrile, but are not limited thereto. Specific examples of the maleimide compound include N-cyclohexylmaleimide or N-phenylmaleimide, but are not limited thereto. Specific examples of the vinyl carboxylate compound include vinyl acetate or vinyl propionate, but are not limited thereto. Specific examples of the unsaturated oxetanecarboxylate compound include 3-methyl-3-acryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-methacryloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-acryloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-methacryloxymethyloxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-methacryloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloxyethyl oxetane or 3-methyl-3-methacryloxyethyloxetane, and the like, but is not limited thereto. Specific examples of the monocarboxylic acid compound include, but are not limited to, acrylic acid, methacrylic acid or crotonic acid. Specific examples of the dicarboxylic acid compound include fumaric acid, mesaconic acid or itaconic acid, but are not limited thereto. Specific examples of the compound having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals include, but are not limited to, ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate.

상기 알칼리 가용성 수지(B)는 조성물의 고형분에 대하여 4 내지 25 중량부로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 5 내지 20 중량부로 포함될 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지(B)가 4 내지 25 중량부 미만으로 포함되는 경우 현상액에 용해성이 충분하여 패턴 형성이 용이하며, 현상시에 노광부의 막감소가 방지되어 화소부분의 누락성이 양호해진다.
The alkali-soluble resin (B) may be included in 4 to 25 parts by weight based on the solids of the composition, preferably 5 to 20 parts by weight. When the alkali-soluble resin (B) is contained in less than 4 to 25 parts by weight, solubility in the developer is sufficient, so that pattern formation is easy, and film reduction of the exposed portion is prevented at the time of development, thereby improving the omission of the pixel portion.

상기 흑색 감광성 수지 조성물이 착색제(A), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 더 포함할 수 있다.
The black photosensitive resin composition may further include a single or a mixture thereof selected from the group consisting of a colorant (A), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D) and a solvent (E).

상기 착색제(A)는 흑색 안료(A1) 및 유기 안료(A2)를 포함한다. The said coloring agent (A) contains a black pigment (A1) and an organic pigment (A2).

상기 흑색 안료(A1)는 차광성이 있는 것이면 특별히 제한되지 않고 사용될 수 있으나, 구체적으로, 아닐린 블랙, 퍼릴렌 블랙, 티탄 블랙, 카본블랙 등이 사용될 수 있다. The black pigment (A1) may be used without particular limitation as long as it has a light shielding property. Specifically, aniline black, perylene black, titanium black, carbon black, or the like may be used.

상기 유기 안료(A2)는 색보정제의 역할을 하며, 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 등에 사용되는 당업계에 공지된 것을 제한없이 사용할 수 있으며, 구체적으로, 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌 안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론 (anthanthrone) 안료, 인단트론(indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론 (pyranthrone) 안료, 디케토피로로피롤 안료 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The organic pigment (A2) serves as a color correction agent, can be used without limitation those known in the art used in printing inks, inkjet inks, specifically, water-soluble azo pigments, insoluble azo pigments, phthalocyanine Pigments, quinacridone pigments, isoindolinone pigments, isoindolin pigments, perylene pigments, perinone pigments, dioxazine pigments, anthraquinone pigments, dianthraquinonyl pigments, anthrapyrimidine pigments, ananthrones Pigments, indanthrone pigments, pravantron pigments, pyranthrone pigments, diketopyrrolopyrrole pigments and the like may be used, but are not limited thereto.

상기 착색제(A)는 조성물의 고형분에 대하여 20 내지 70 중량부, 바람직하게는, 30 내지 65 중량부로 포함될 수 있다. 상기 착색제(A)가 20 내지 70 중량부로 포함되는 경우 박막 형성시 광학밀도가 충분하고, 현상시 화소부의 잔사 발생이 감소한다. 여기서 상기‘고형분’은 흑색 감광성 수지 조성물로부터 용제를 제외한 나머지 성분의 총량을 의미한다.
The coloring agent (A) may be included in 20 to 70 parts by weight, preferably 30 to 65 parts by weight based on the solids of the composition. When the colorant (A) is included in an amount of 20 to 70 parts by weight, the optical density is sufficient when forming a thin film, and the occurrence of residues of the pixel portion during development is reduced. Here, the 'solid content' means the total amount of the remaining components excluding the solvent from the black photosensitive resin composition.

상기 광중합성 화합물(C)은 광중합 개시제(D)의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로, 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 다관능 단량체를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 2관능 이상의 다관능 단량체를 사용할 수 있다. The photopolymerizable compound (C) is a compound which can be polymerized by the action of the photopolymerization initiator (D), and may be a monofunctional monomer, a bifunctional monomer or a polyfunctional monomer, and preferably a bifunctional or higher polyfunctional monomer is used. Can be.

상기 단관능 단량체의 구체적인 예로는, 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 또는 N-비닐피롤리돈 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate or N-vinylpi Or the like, but not limited thereto.

상기 2관능 단량체의 구체적인 예로는, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르 또는 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and triethylene glycol di (meth) acrylate. , Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A or 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, and the like, but is not limited thereto.

상기 다관능 단량체의 구체적인 예로는, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 또는 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tree. (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) Acrylate or dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like, but is not limited thereto.

상기 광중합성 화합물(C)은 조성물의 고형분에 대하여 3 내지 40 중량부로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 5 내지 30 중량부로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 화합물(C)이 3 내지 40 중량부로 포함되는 경우 노광부의 강도 및 평활성이 양호하다.
The photopolymerizable compound (C) may be included in an amount of 3 to 40 parts by weight, and preferably 5 to 30 parts by weight, based on the solid content of the composition. When the photopolymerizable compound (C) is included in an amount of 3 to 40 parts by weight, the strength and smoothness of the exposed portion are good.

상기 광중합 개시제(D)는 당업계에 공지된 광중합 개시제를 제한없이 사용할 수 있으며, 구체적으로 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물 및 옥심 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. The photopolymerization initiator (D) can be used without limitation, photopolymerization initiators known in the art, specifically selected from the group consisting of triazine compounds, acetophenone compounds, biimidazole compounds and oxime compounds alone or their Mixtures can be used.

상기 트리아진계 화합물은 구체적으로, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로 메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로 메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로 메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the triazine-based compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6 -(4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (Trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2- Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl ) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like, but is not limited thereto.

상기 아세토페논계 화합물은 구체적으로, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 아세토페논계 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물일 수 있다: Specific examples of the acetophenone-based compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxy Hydroxyethoxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1 -On oligomers, etc., but is not limited thereto. In addition, the acetophenone-based compound may be a compound represented by the following formula (3):

<화학식 3><Formula 3>

Figure 112010022328013-pat00005
Figure 112010022328013-pat00005

상기 화학식 3에서, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수도 있는 벤질기 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기에 의해 치환될 수 있는 나프틸기를 나타낸다. 상기 화학식 3 으로 표시되는 화합물의 구체적인 예로는, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노 페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. In Chemical Formula 3, R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a phenyl group which may be substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a benzyl group which may be substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Or a naphthyl group which may be substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Specific examples of the compound represented by Formula 3 include 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one and 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethane- 1-one, 2-propyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-butyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan-1-one, 2-methyl- 2-amino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-amino (4-morpholino phenyl) butan-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholin Nophenyl) propane-1-one, 2-ethyl-2-amino (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propane-1- On, 2-methyl-2-dimethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-diethylamino (4-morpholinophenyl) propan-1-one, and the like, It is not limited to this.

상기 비이미다졸계 화합물은 구체적으로, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐) 비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등이 있으며, 바람직하게는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 등이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the biimidazole-based compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis (2,3- Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimi Dazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, and a phenyl group at the 4,4', 5,5 'position is carbo And imidazole compounds substituted with an alkoxy group, and preferably 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2'- Bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole may be used, but is not limited thereto.

상기의 옥심 화합물은, 구체적으로 예를 들면, 하기의 화학식 4 내지 6 중 어느 하나로 표시되는 화합물일 수 있다: Specifically, the oxime compound may be, for example, a compound represented by one of the following Chemical Formulas 4 to 6:

<화학식 4> <Formula 4>

Figure 112010022328013-pat00006
Figure 112010022328013-pat00006

<화학식 5> <Formula 5>

Figure 112010022328013-pat00007
Figure 112010022328013-pat00007

<화학식 6> <Formula 6>

Figure 112010022328013-pat00008
Figure 112010022328013-pat00008

또한, 상술한 광중합 개시제 외에 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도이면 이 분야에서 통상 사용되고 있는 그 밖의 광중합 개시제 등을 추가로 병용할 수 있다. 그 밖의 광중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물, 다관능 티올화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 벤조인계 화합물은 구체적으로, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등이 있으며 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다. 상기 티오크산톤계 화합물은 구체적으로, 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 안트라센계 화합물은 구체적으로, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다관능 티올화합물은 구체적으로, 트리스-(3-머캅토프로피온일옥시)-에틸-이소시아눌레이트, 트리메틸올프로판트리스-3-머캅토프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라키스-3-머캅토프로피오 네이트, 디펜타에리스리톨테트라키스-3-머캅토프로피오네이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이 외에 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸 안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 그 밖의 광중합 개시제로 사용할 수 있다. Moreover, in addition to the photoinitiator mentioned above, the other photoinitiator etc. which are normally used in this field can be used together if it is a grade which does not impair the effect of this invention. As another photoinitiator, a benzoin compound, a benzophenone type compound, a thioxanthone type compound, an anthracene type compound, a polyfunctional thiol compound, etc. are mentioned, for example. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. Specifically, the benzoin-based compound includes, but is not limited to, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and the like. As said benzophenone type compound, for example, benzophenone, methyl 0- benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, 4-benzoyl-4'- methyl diphenyl sulfide, 3, 3 ', 4, 4'- tetra ( tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc. are mentioned. Specific examples of the thioxanthone compound include 2-isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-dichloro thioxanthone, 1-chloro-4-propoxy thioxanthone, and the like. However, the present invention is not limited thereto. Specific examples of the anthracene-based compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, and the like. It is not limited to this. Specific examples of the polyfunctional thiol compound include tris- (3-mercaptopropionyloxy) -ethyl-isocyanurate, trimethylolpropanetris-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercapto Propionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, and the like, but are not limited thereto. In addition to 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethyl anthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, phenylclioxylic acid Methyl, titanocene compounds, etc. can be used as another photoinitiator.

상기 광중합 개시제(D)는 조성물의 고형분에 대하여 0.1 내지 20 중량부로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 0.5 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제(D)가 0.1 내지 20 중량부로 포함되는 경우 흑색 감광성 수지 조성물의 감도가 우수하여 노광시간이 단축되므로 생산성이 향상될 수 있을 뿐만 아니라 높은 미세성을 유지할 수 있어 노광부의 강도 및 평활성이 양호하여 바람직하다.The photopolymerization initiator (D) may be included in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, and preferably 0.5 to 10 parts by weight, based on the solid content of the composition. When the photopolymerization initiator (D) is included in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, the sensitivity of the black photosensitive resin composition is excellent, thereby shortening the exposure time, thereby improving productivity as well as maintaining high fineness. It is favorable and preferable.

상기 광중합 개시제(D)에 광중합 개시 보조제(D-1)을 조합하여 사용할 수도 있다. 광중합 개시제(D)에 광중합 개시 보조제(D-1)를 병용하면, 이들을 함유하는 흑색 감광성 수지 조성물은 더욱 고감도가 되어 블랙 매트릭스 또는 블랙 컬럼스페이서를 형성할 때의 생산성이 향상된다.It can also be used combining the photoinitiator (D-1) with the said photoinitiator (D). When photopolymerization start adjuvant (D-1) is used together with a photoinitiator (D), the black photosensitive resin composition containing them becomes more sensitive and the productivity at the time of forming a black matrix or a black column spacer improves.

상기 광중합 개시 보조제(D-1)로 아민 화합물 및 카르복실산 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. As the photopolymerization initiation assistant (D-1), one or a mixture thereof selected from the group consisting of amine compounds and carboxylic acid compounds can be used.

상기 아민 화합물은 구체적으로, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물; 또는 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노 벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭:미힐러케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물 등이 있으며, 바람직하게는, 방향족 아민 화합물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine; Or 4-dimethylaminobenzoic acid methyl, 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4 Aromatic amine compounds such as 4'-bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michler's ketone) and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; and the like, preferably an aromatic amine compound is used. It may be, but is not limited thereto.

상기 카르복실산 화합물은 구체적으로, 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid, Aromatic heteroacetic acids such as dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid, and the like, but are not limited thereto.

상기 광중합 개시 보조제(D-1)는 조성물의 고형분에 대하여 0.01 내지 10 중량부로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량부로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시 보조제(D-1)가 0.01 내지 10 중량부로 포함되는 경우 흑색 감광성 수지 조성물의 감도가 증가되어 이로 형성된 착색층의 강도 및 평활성이 상승될 뿐만 아니라 컬러필터의 생산성이 향상된다.
The photopolymerization initiation aid (D-1) may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight, and preferably 0.01 to 5 parts by weight, based on the solids of the composition. When the photopolymerization start adjuvant (D-1) is included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight, the sensitivity of the black photosensitive resin composition is increased, thereby increasing the strength and smoothness of the colored layer formed therein and improving the productivity of the color filter.

상기 용제(E)는 당업계에 공지된 것을 제한없이 사용할 수 있으며, 구체적으로, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜 모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌 글리콜디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알콕시알킬아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류; 및 γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. The solvent (E) can be used without limitation to those known in the art, specifically, ethylene glycol monoalkyl such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether Ethers; Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol monopropyl ether acetate; Alkoxyalkyl acetates such as methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; And cyclic esters such as γ-butyrolactone can be used alone or in a mixture thereof.

바람직하게는, 도포성, 건조성 면에서 비점이 100 내지 200 ℃인 유기 용제를 사용할 수 있고, 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산에틸 및 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산에틸 및 3-메톡시프로피온산메틸로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. Preferably, an organic solvent having a boiling point of 100 to 200 ° C. in view of applicability and dryness can be used, and more preferably alkylene glycol alkyl ether acetates, ketones, ethyl 3-ethoxypropionate and 3-methoxy It can be used alone or a mixture thereof selected from the group consisting of esters such as methyl propionate, more preferably propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate and It is possible to use alone or mixtures thereof selected from the group consisting of methyl 3-methoxypropionate.

상기 용제(E)는 흑색 감광성 수지 조성물에 대하여 60 내지 90 중량부, 바람직하게는 70 내지 88 중량부로 포함될 수 있다. 상기 용제(E)가 60 내지 90 중량부로 포함되는 경우 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호하다.
The solvent (E) may be included in an amount of 60 to 90 parts by weight, preferably 70 to 88 parts by weight based on the black photosensitive resin composition. When the said solvent (E) is contained in 60 to 90 weight part, applicability | paintability is favorable when it apply | coats with coating apparatuses, such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (die coater), and an inkjet.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은 상기 성분 외에 본 발명의 목적을 해치지 아니하는 범위에서 당업자의 필요에 따라 충진제, 다른 고분자 화합물, 경화제, 안료 분산제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제(F)를 병용하는 것도 가능하다. The black photosensitive resin composition of the present invention may be a filler, other polymer compounds, curing agents, pigment dispersants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-agglomerating agents, etc. according to the needs of those skilled in the art within the range that does not impair the object of the present invention other than the above components. It is also possible to use additive (F) together.

상기 충진제는 구체적으로, 유리, 실리카, 알루미나 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specifically, the filler may be glass, silica, alumina, or the like, but is not limited thereto.

상기 다른 고분자 화합물은 구체적으로 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the other polymer compound include a curable resin such as an epoxy resin and a maleimide resin, a thermoplastic resin such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, polyurethane, and the like. It may be, but is not limited thereto.

상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 구체적으로 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 에폭시 화합물은 구체적으로, 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한　에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레이트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 옥세탄 화합물은 구체적으로, 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The curing agent is used to increase the core hardening and mechanical strength, and specifically, an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, an oxetane compound, etc. may be used, but is not limited thereto. Specific examples of the epoxy compound include bisphenol A epoxy resins, hydrogenated bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, hydrogenated bisphenol F epoxy resins, noblock type epoxy resins, other aromatic epoxy resins, cycloaliphatic epoxy resins, and glyce Aliphatic, cycloaliphatic or aromatic epoxy compounds other than cydyl ester resins, glycidylamine resins, or brominated derivatives of these epoxy resins, epoxy resins and brominated derivatives thereof, butadiene (co) polymer epoxides, isoprene (co) Polymer epoxides, glycidyl (meth) acrylate (co) polymers, triglycidyl isocyanurates and the like can be used, but are not limited thereto. Specifically, the oxetane compound may include carbonate bis oxetane, xylene bis oxetane, adipate bis oxetane, terephthalate bis oxetane, cyclohexane dicarboxylic acid bis oxetane, and the like. It is not.

상기 경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다. 상기 경화 보조 화합물은 구체적으로, 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등을 사용할 수 있다. 상기 카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 시판되는 상기 에폭시 수지 경화제로서는 예를 들면, 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다. The said hardening | curing agent can use together the hardening auxiliary compound which can make ring-opening-polymerize the epoxy group of an epoxy compound, and the oxetane skeleton of an oxetane compound with a hardening | curing agent. Specifically, the curing auxiliary compound may be a polyhydric carboxylic acid, a polyhydric carboxylic anhydride, an acid generator, or the like. As said carboxylic anhydride, what is marketed can be used as an epoxy resin hardening | curing agent. As said commercially available epoxy resin hardening | curing agent, a brand name (Adekahadona EH-700) (made by Adeka Industrial Co., Ltd.), a brand name (Rikaditdo HH) (made by Nippon Ewha Co., Ltd.), a brand name (MH-700) are mentioned, for example. (Manufactured by Nippon Ewha Co., Ltd.).

상기에서 예시한 경화제 및 경화 보조 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다.The hardening | curing agent and hardening auxiliary compound which were illustrated above can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

상기 안료 분산제는 시판되는 계면 활성제를 사용할 수 있고, 구체적으로 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계 및 양성 등의 계면 활성제로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 보다 구체적으로, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄지방산에스테르류, 지방산변성폴리에스테르류, 3급아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등을 사용할 수 있으며, 이외에 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(Lubrisol), EFKA(EFKA 케미칼스사), PB 821(아지노모또㈜), Disperbyk-series(BYK-chemi) 등을 사용할 수 있다.The pigment dispersant may use a commercially available surfactant, and specifically, may be used alone or a mixture thereof selected from the group consisting of surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic and amphoteric. have. More specifically, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes, polyethyleneimines and the like In addition, KP (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), POLYFLOW (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EFTOP (TOCHEM Products), MEGAFAC (Die) Nippon Ink Kagaku Kogyo Co., Ltd., Florad (Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi guard, Suflon (Ashihi Glass Co., Ltd.), SOLSPERSE (Lubrisol), EFKA (EFKA Chemicals Co., Ltd.), PB 821 (Ajinomoto Co., Ltd.), Disperbyk-series (BYK-chemi), etc. can be used.

상기 밀착 촉진제는 구체적으로, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐 트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토 프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란 및 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.Specific examples of the adhesion promoter include vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercapto propyl tree It is possible to use alone or mixtures thereof selected from the group consisting of methoxysilane, 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane and 3-isocyanatepropyltriethoxysilane.

상기 밀착 촉진제는 조성물의 고형분에 대하여 0.01 내지 10 중량부, 바람직하게는 0.05 내지 2 질량부로 포함될 수 있다. The adhesion promoter may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.05 to 2 parts by weight, based on the solids of the composition.

상기 산화 방지제는 구체적으로 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등 힌더드페놀계를 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The antioxidant may specifically use a hindered phenol-based, such as 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, It is not limited to this.

상기 자외선 흡수제는 구체적으로, 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. Specifically, the ultraviolet absorber may use 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole, alkoxybenzophenone, and the like, but is not limited thereto.

상기 응집 방지제는 구체적으로 폴리아크릴산 나트륨 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
The aggregation inhibitor may specifically use sodium polyacrylate, but is not limited thereto.

본 발명의 흑색 감광성 수지 조성물은, 다음과 같은 방법에 의해 제조될 수 있다. 착색제(A)를 미리 용제(E)와 혼합하여 착색제의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시켜 분산액을 얻는다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제가 사용되고, 알칼리 가용성 수지(B)의 일부 또는 전부가 배합되는 경우도 있다. 얻어진 분산액(이하, 밀베이스라고 하는 경우도 있음)에 알칼리 가용성 수지(B)의 나머지, 광중합성 화합물(C) 및 광중합 개시제(D)와, 필요에 따라 첨가제(F)를 첨가한 후, 필요에 따라 추가의 용제를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 목적하는 흑색 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다.
The black photosensitive resin composition of this invention can be manufactured by the following method. A coloring agent (A) is previously mixed with a solvent (E), and is disperse | distributed using a bead mill etc. until the average particle diameter of a coloring agent becomes about 0.2 micrometer or less, and a dispersion liquid is obtained. Under the present circumstances, a pigment dispersant is used as needed and one part or all part of alkali-soluble resin (B) may be mix | blended. After adding the remainder of alkali-soluble resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photoinitiator (D), and the additive (F) as needed to the obtained dispersion liquid (it may be called a mill base hereafter), According to the present invention, an additional solvent may be further added to a predetermined concentration to obtain a desired black photosensitive resin composition.

이하, 본 발명에 따른 컬러필터를 설명한다.Hereinafter, a color filter according to the present invention will be described.

본 발명에 따른 컬러필터는 기판 상부에 전술한 본 발명에 따른 흑색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광 및 현상하여 얻어지는 블랙 매트릭스 또는 블랙 컬럼스페이서를 포함한다. The color filter according to the present invention includes a black matrix or a black column spacer obtained by applying the black photosensitive resin composition according to the present invention on the substrate and exposing and developing in a predetermined pattern.

보다 구체적으로 본 발명에 따른 흑색 감광성 수지 조성물을 이용하여 블랙 매트릭스 또는 블랙 컬럼스페이서의 패턴을 형성하는 방법은, 전술한 흑색 감광성 수지 조성물을 기판상에 도포하는 도포 단계, 상기 흑색 감광성 수지 조성물의 일부 영역을 선택적으로 노광하는 노광 단계 및 상기 흑색 감광성 수지 조성물의 노광 영역 또는 비노광 영역을 제거하는 현상 단계를 포함한다.More specifically, the method of forming a pattern of a black matrix or a black column spacer using the black photosensitive resin composition according to the present invention includes a coating step of applying the black photosensitive resin composition described above on a substrate, and a part of the black photosensitive resin composition. An exposure step of selectively exposing the area and a developing step of removing the exposed area or the non-exposed area of the black photosensitive resin composition.

상기 도포 단계는 본 발명의 흑색 감광성 조성물을 기판 위에 도포하여 예비 건조함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는 단계이다. 이 때의 도막의 두께는 대개 0.5 내지 5 ㎛ 정도이다. 상기 기판은 유리판, 실리콘 웨이퍼 또는 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES), 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등의 플라스틱 기재의 판 등일 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니다.The coating step is a step of applying a black photosensitive composition of the present invention on a substrate and preliminarily drying to remove volatile components such as a solvent to obtain a smooth coating film. The thickness of the coating film at this time is about 0.5-5 micrometers normally. The substrate may be a glass plate, a silicon wafer or a plate of a plastic substrate such as polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), or the like, and the type thereof is not particularly limited.

상기 노광 단계는 상기에서 얻어진 도막에 목적하는 패턴을 얻기 위해 마스크를 통해 특정 영역에 자외선을 조사하는 단계이다. 이때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 마스크와 기판이 정확히 위치가 맞도록 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. The exposure step is a step of irradiating ultraviolet rays to a specific region through a mask to obtain a desired pattern on the coating film obtained above. At this time, it is preferable to use apparatuses, such as a mask aligner and a stepper, so that a parallel light beam may be irradiated uniformly to the whole exposure part, and a mask and a board | substrate will be correctly aligned.

상기 현상 단계는 상기에서 경화가 종료된 도막을 현상액인 알칼리 수용액에 접촉시켜 비노광 영역을 용해시키고 현상함으로써 목적하는 패턴을 제조하는 것이다. 현상 후, 필요에 따라 150 내지 230 ℃에서 10 내지 60분 정도의 후 건조를 실시할 수 있다. The developing step is to prepare a desired pattern by contacting the coating film after the curing is completed with an aqueous alkali solution which is a developing solution to dissolve and develop the non-exposed areas. After image development, it can carry out after about 10 to 60 minutes of drying at 150-230 degreeC as needed.

상기 현상 단계에서 사용하는 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 포함하는 수용액이다. 상기 알칼리성 화합물은 무기 또는 유기 알칼리성 화합물을 사용할 수 있으며, 상기 무기 알칼리성 화합물은 구체적으로, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 사용할 수 있다. 또한, 상기 유기 알칼리성 화합물은 구체적으로, 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시 에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필 아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 알칼리성 화합물은 현상액에 대하여 0.01 내지 10 질량부, 바람직하게는 0.03 내지 5 질량부로 포함될 수 있다. The developing solution used in the developing step is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant. The alkaline compound may be an inorganic or organic alkaline compound, and the inorganic alkaline compound may be specifically, sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate Sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like can be used. In addition, the organic alkaline compound is specifically, tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxy ethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, Monoisopropylamine, diisopropyl amine, ethanolamine and the like. These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. The alkaline compound may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.03 to 5 parts by mass, with respect to the developer.

상기 현상액 중의 계면활성제는 비이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 및 양이온계 계면활성제로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 상기 비이온계 계면활성제는 구체적으로, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 사용할 수 있다. 상기 음이온계 계면활성제는 구체적으로, 라우릴알코올황산에스테르나트륨, 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급알코올황산에스테르염류, 라우릴황산 나트륨, 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨, 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 사용할 수 있다. 상기 양이온계 계면활성제는 구체적으로, 스테아릴아민염산염, 라우릴트리메틸 암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 사용할 수 있다. 상기 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 계면활성제는 알칼리 현상액에 대하여 0.01 내지 10 질량부, 바람직하게는 0.05 내지 8 질량부, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 중량부로 포함될 수 있다. The surfactant in the developer may be used alone or a mixture thereof selected from the group consisting of nonionic surfactants, anionic surfactants and cationic surfactants. Specific examples of the nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine, etc. can be used. Specifically, the anionic surfactants include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, and sodium dodecylbenzene sulfonate. And alkyl aryl sulfonates such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate. Specifically, the cationic surfactant may be an amine salt such as stearylamine hydrochloride, lauryltrimethyl ammonium chloride or quaternary ammonium salt. The said surfactant can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. The surfactant may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.05 to 8 parts by mass, and more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to the alkaline developer.

상기한 과정을 통하여 블랙 매트릭스 또는 블랙 컬럼스페이서가 얻어진다. 컬러필터의 구성 및 제조방법은 본 기술분야에서 잘 알려져 있으므로 그에 의하고 자세한 설명은 생략한다.
Through the above process, a black matrix or a black column spacer is obtained. Since the configuration and manufacturing method of the color filter are well known in the art, detailed description thereof will be omitted.

본 발명은 전술한 컬러필터를 구비한 액정표시장치도 권리에 포함하고 있다. The present invention also includes a liquid crystal display device provided with the color filter described above.

본 발명의 액정표시장치는 전술한 컬러필터를 구비한 것을 제외하고는 본 기술분야에서 알려진 구성을 포함한다. 즉, 본 발명의 컬러필터를 적용할 수 있는 액정표시장치는 모두 본 발명에 포함된다. 일례로, 박막트랜지스터(TFT소자), 화소전극 및 배향층을 구비한 대향전극기판을 소정의 간격으로 마주 향하게 하고, 이 간극부에 액정재료를 주입하여 액정층으로 한 투과형의 액정표시장치를 들 수 있다. 또한, 컬러필터의 기판과 착색층 사이에 반사층을 설치한 반사형의 액정표시장치도 있다. The liquid crystal display of the present invention includes a configuration known in the art, except that the above-described color filter is provided. That is, all of the liquid crystal display devices to which the color filter of the present invention can be applied are included in the present invention. For example, a transmissive liquid crystal display device in which a counter electrode substrate including a thin film transistor (TFT element), a pixel electrode, and an alignment layer is faced at predetermined intervals, and a liquid crystal material is injected into the gap to form a liquid crystal layer. Can be. There is also a reflective liquid crystal display device in which a reflective layer is provided between the substrate of the color filter and the colored layer.

또 다른 일례로, 컬러필터의 투명 전극 위에 합쳐진 TFT(박막 트랜지스터: Thin Film Transistor) 기판 및, TFT 기판이 컬러필터와 중첩하는 위치에 고정된 백라이트를 포함한 액정표시장치를 들 수 있다. 상기 TFT 기판은 컬러필터의 주변 표면을 둘러싸는 광방지 수지(light-proof resin)로 이루어진 외부 프레임, 외부 프레임 내에 부과된 네마틱 액정으로 이루어진 액정층, 액정층의 각 영역마다 제공된 다수의 화소 전극, 화소 전극이 형성된 투명 유리 기판, 및 투명 유리 기판의 노출된 표면 위에 형성된 편광판을 구비할 수 있다. As another example, a liquid crystal display device including a TFT (Thin Film Transistor) substrate joined on a transparent electrode of a color filter, and a backlight fixed at a position where the TFT substrate overlaps the color filter. The TFT substrate includes an outer frame made of light-proof resin surrounding a peripheral surface of a color filter, a liquid crystal layer made of nematic liquid crystals imposed in the outer frame, and a plurality of pixel electrodes provided for each region of the liquid crystal layer. , A transparent glass substrate on which the pixel electrode is formed, and a polarizing plate formed on the exposed surface of the transparent glass substrate.

편광판은 수직으로 가로지르는 편광 방향을 가지며, 폴리비닐알코올과 같은 유기 재료로 구성되어 있다. 다수의 화소 전극은 각각 TFT 기판의 유리 기판 위에 형성된 복수의 박막 트랜지스터와 연결되어 있다. 만일 특정의 화소 전극에 소정의 전위차가 적용되면, 소정의 전압이 특정 화소 전극과 투명 전극사이에 적용된다. 따라서, 전압에 따라 형성된 전기장이 액정층의 특정 화소 전극에 해당하는 영역의 배향을 변화시킨다.
The polarizing plate has a polarizing direction that traverses vertically and is made of an organic material such as polyvinyl alcohol. A plurality of pixel electrodes are connected with a plurality of thin film transistors each formed on a glass substrate of a TFT substrate. If a predetermined potential difference is applied to a specific pixel electrode, a predetermined voltage is applied between the specific pixel electrode and the transparent electrode. Therefore, the electric field formed according to the voltage changes the orientation of the region corresponding to the specific pixel electrode of the liquid crystal layer.

이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 이는 본 발명의 설명을 위한 것일 뿐, 이로인해 본 발명의 범위가 제한되지 않는다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. This is for the purpose of illustrating the invention only, and thus the scope of the invention is not limited.

<< 제조예Production Example > 안료 분산액(M)의 제조> Preparation of Pigment Dispersion (M)

카본블랙 20.0 g, 분산제로서 아지스파 PB821(아지노모또 파인테크노 가부시끼가이샤) 6 g, 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 74 g을 비드밀로 12 시간 동안 혼합·분산하여 안료 분산액(M)을 제조하였다.
A pigment dispersion (M) was prepared by mixing and dispersing 20.0 g of carbon black, 6 g of azipa PB821 (Ajino Moto Fine Techno Co., Ltd.) as a dispersant, and 74 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent for 12 hours. It was.

<< 합성예Synthetic example 1 내지 20> 알칼리 가용성 수지의 합성 1 to 20> Synthesis of Alkali Soluble Resin

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 1000 ml플라스크에 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMA), AIBN, 2-아크릴옥시에틸숙시네이트류(B-1), 노르말페닐말레이미드, 스티렌, 메타아크릴산, 이소보닐메타아크릴레이트류(B-2)를 하기 표 2 및 표 3의 함량으로 투입하고 질소 치환하였다(하기 표 2 및 3 의 단위는 g이다). 그 후 교반하며 반응액의 온도를 100 ℃로 상승시키고 상승후7시간 반응하였다. 이렇게 합성된 알칼리 가용성 수지의 최종 고형분, 고형분의 산가 및GPC로 중량 평균 분자량을 측정하여 하기 표 2 및 3에 나타내었다. 각 합성예에서 사용한 B-1 과 B-2 는 하기 표 1 과 같다. Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMA), AIBN, 2-acryloxyethyl succinates (B-1), normal phenylmaleic in a 1000 ml flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping lot and a nitrogen introduction tube. Mid, styrene, methacrylic acid and isobornyl methacrylates (B-2) were added in the amounts shown in Tables 2 and 3 below and nitrogen-substituted (units of Tables 2 and 3 are g). After stirring, the temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C. and reacted for 7 hours after the increase. The final solid content of the alkali-soluble resin thus synthesized, the acid value of the solid content and the weight average molecular weight of the GPC was measured and shown in Tables 2 and 3 below. B-1 and B-2 used by each synthesis example are as Table 1 below.

Figure 112010022328013-pat00009
Figure 112010022328013-pat00009

Figure 112010022328013-pat00010
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Figure 112010022328013-pat00011
Figure 112010022328013-pat00011

<< 실시예Example 1 내지 17> 흑색 감광성 수지 조성물의 제조 1 to 17> Preparation of Black Photosensitive Resin Composition

하기 표 4및 5의 조성으로 당업계에 공지된 방법으로 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 하기 표 4 및 5의 단위는 g이다.To the composition of Tables 4 and 5 to prepare a black photosensitive resin composition by a method known in the art. The units in Tables 4 and 5 below are g.

Figure 112010022328013-pat00012
Figure 112010022328013-pat00012

Figure 112010022328013-pat00013
Figure 112010022328013-pat00013

1)KAYARAD DPHA(닛본가야꾸 제조)1) KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku)

2)Ciba Specialty Chemical2) Ciba Specialty Chemical

3)Ciba Specialty Chemical3) Ciba Specialty Chemical

4)Ciba Specialty Chemical4) Ciba Specialty Chemical

5) 4,4'-디(N,N'-디메틸아미노)-벤조페논(호도가야 카가쿠㈜)
5) 4,4'-di (N, N'-dimethylamino) -benzophenone (Hodogaya Kagaku Co., Ltd.)

<< 비교예Comparative example 1 내지 4> 흑색 감광성 수지 조성물의 제조 1 to 4> Preparation of Black Photosensitive Resin Composition

하기 표 6 의 조성으로 상기 실시예와 동일한 방법으로 흑색 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 하기 표 6 의 단위는 g이다. To the composition of Table 6 was prepared a black photosensitive resin composition in the same manner as in the Example. The unit of Table 6 below is g.

Figure 112010022328013-pat00014
Figure 112010022328013-pat00014

1)WR-101, 아데카사1) WR-101, Adecasa

2)KAYARAD DPHA(닛본가야꾸 제조)2) KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku)

3)Ciba Specialty Chemical3) Ciba Specialty Chemical

4)Ciba Specialty Chemical4) Ciba Specialty Chemical

5)Ciba Specialty Chemical5) Ciba Specialty Chemical

6) 4,4'-디(N,N'-디메틸아미노)-벤조페논(호도가야 카가쿠㈜)
6) 4,4'-di (N, N'-dimethylamino) -benzophenone (Hodogaya Kagaku Co., Ltd.)

<< 실험예Experimental Example 1>  1> 열흐름성의Heat flow 평가 evaluation

상기 실시예 1 내지 17과 비교예 1 내지 4에서 제조된 흑색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법으로 유리 기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100 ℃의 온도에서 2분간 유지하여 박막을 형성시켰다. 이어서 상기 박막 위에 투과율을 1 내지 100%의 범위에서 계단상으로 변화시키는 패턴과 1㎛ 내지 50㎛의 라인/스페이스 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 자외선을 조사하였다. 이때, 자외선 광원은 g, h, i 선을 모두 함유하는 1 KW의 고압 수은등을 사용하여 50 mJ/㎠의 조도로 조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. 상기에서 자외선이 조사된 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 2분 동안 담궈 현상하였다. 이 박막이 입혀진 유리판을 증류수를 사용하여 세척한 다음, 질소 가스를 불어서 건조하고, 230℃의 가열 오븐에서 20분간 가열하여 컬러필터를 제조하였다. 상기에서 제조된 컬러필터의 필름 두께는 1.0㎛이었다. 현상 후 남아있는 노광부의 20마이크로 패턴의 막두께를 포스트베이크 전, 후로 측정하여, 하기와 같은 식으로 열 흐름성을 측정하고 그 결과를 하기와 같은 기준으로 평가하여 표 7 에 나타내었다. The black photosensitive resin compositions prepared in Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 4 were coated on a glass substrate by spin coating, and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C. for 2 minutes to form a thin film. Subsequently, a test photomask having a pattern for changing the transmittance stepwise in a range of 1 to 100% and a line / space pattern of 1 μm to 50 μm was placed on the thin film and the distance from the test photomask was 50 μm. Was investigated. In this case, the ultraviolet light source was irradiated with an illuminance of 50 mJ / cm 2 using a 1 KW high-pressure mercury lamp containing all g, h, and i rays, and no special optical filter was used. The thin film irradiated with ultraviolet rays was developed by soaking in a KOH aqueous solution developing solution of pH 10.5 for 2 minutes. The thin film coated glass plate was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 230 ° C. for 20 minutes to prepare a color filter. The film thickness of the color filter manufactured above was 1.0 μm. The film thickness of the 20 micro pattern of the exposed part remaining after the development was measured before and after the post-baking, and the heat flowability was measured in the following manner, and the results were evaluated in the following criteria, and are shown in Table 7 below.

* (포스트베이크 후 막두께/포스트베이크 전 막두께)×100 * (Film thickness after post-baking / film thickness before post-baking) × 100

○: 97% 이상, △: 95~97%, ×: 95% 이하○: 97% or more, △: 95 to 97%, ×: 95% or less

Figure 112010022328013-pat00015
Figure 112010022328013-pat00015

상기 표 7 에 나타난 바와 같이 실시예의 흑색 감광성 수지 조성물은 열흐름성이 감소되어 포스트베이크 전 후 막 두께에 큰 변화가 없음을 알 수 있다. 반면에, 비교예의 흑색 감광성 수지 조성물의 경우 열흐름성이 커서 포스트베이크 전,후로 막두께의 차이가 생긴 것을 알 수 있다. 또한, 화학식 1 및 화학식 2 의 단량체의 함량이 소량인 실시예 10, 11 및 13의 조성물은 열흐름성 저하 효과가 다른 실시예만큼 개선되지는 않았다.
As shown in Table 7, the black photosensitive resin composition of the example may be seen that there is no significant change in the film thickness before and after the postbaking due to reduced heat flow. On the other hand, in the case of the black photosensitive resin composition of the comparative example it can be seen that the difference in the film thickness before and after the post-baking large heat flow properties. In addition, the compositions of Examples 10, 11, and 13 in which the amounts of the monomers of the formulas (1) and (2) were small were not as improved as those of the other examples.

<< 실험예Experimental Example 2> 저장 안정성의 평가 2> Evaluation of storage stability

상기 실시예 1 내지 17과 비교예 1 내지 4에서 제조된 광차단용 흑색 감광성 수지 조성물을 25 ℃에 각각 5일, 3일, 1일 방치한 것과 표준시료로 각각의 해당 조성물을 패턴평가 실험하기 바로 전에 제조한 조성물들을 스핀 코팅법으로 유리 기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100 ℃의 온도에서 2분간 유지하여 박막을 형성시켰다. 20마이크로미터 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 자외선을 조사하였다. 이때, 자외선 광원은 g, h, i 선을 모두 함유하는 1KW의 고압 수은등을 사용하여 50 mJ/㎠의 조도로 조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. 상기에서 자외선이 조사된 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 2분 동안 담궈 현상하였다. 이 박막이 입혀진 유리판을 증류수를 사용하여 세척한 다음, 질소 가스를 불어서 건조하고, 230 ℃의 가열 오븐에서 20분간 가열하여 컬러필터를 제조하였다. 상기에서 제조된 컬러필터 중 20 ㎛의 선폭을 가지는 마스크에 형성된 패턴의 선폭을 각각 측정하여 방치시간에 따른 선폭의 변화량(△CD)을 측정하여 그 결과를 하기 표 8 에 나타내었다.5 days, 3 days, and 1 day of black blocking photosensitive resin composition prepared in Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 4, respectively, and the pattern evaluation experiment of each corresponding composition with a standard sample The composition just prepared was applied onto the glass substrate by spin coating, and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C. for 2 minutes to form a thin film. A test photomask having a 20 micrometer pattern was placed and ultraviolet light was irradiated with a distance of 50 μm from the test photomask. In this case, the ultraviolet light source was irradiated with an illuminance of 50 mJ / cm 2 using a 1KW high-pressure mercury lamp containing all g, h, and i rays, and no special optical filter was used. The thin film irradiated with ultraviolet rays was developed by soaking in a KOH aqueous solution developing solution of pH 10.5 for 2 minutes. The thin film coated glass plate was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 230 ° C. for 20 minutes to prepare a color filter. The line width of the pattern formed on the mask having a line width of 20 μm among the color filters manufactured above was measured, and the change amount of the line width (ΔCD) according to the standing time was measured. The results are shown in Table 8 below.

△CD = 당일 제조한 수지 조성물로 평가한 패턴의 선폭-상온방치한 수지 조성물로 평가한 패턴의 선폭ΔCD = line width of the pattern evaluated by the resin composition prepared on the day-line width of the pattern evaluated by the resin composition at room temperature

○: △CD=0.5 마이크로미터 이하 ○: CD = 0.5 micrometer or less

△: △CD=0.5~1.0 마이크로미터△: △ CD = 0.5-1.0 micrometer

×: △CD=1.0 마이크로미터 이상×: CD = 1.0 micrometer or more

Figure 112010022328013-pat00016
Figure 112010022328013-pat00016

상기 표 8 에 나타난 바와 같이, 상온에서 조성물의 방치 시간에 따라 실시예의 흑색 감광성 수지 조성물은 패턴 선폭의 차이가 없었으나, 비교예의 조성물은 3일 방치후부터 패턴 선폭의 변화가 나타나기 시작하였다.
As shown in Table 8, the black photosensitive resin composition of the Example did not have a difference in the pattern line width according to the standing time of the composition at room temperature, but the composition of the comparative example began to change in the pattern line width after 3 days left.

<< 실험예Experimental Example 3>  3> 미세성Fineness 및 감도의 평가 And evaluation of sensitivity

상기 실시예 및 비교예의 조성물을 스핀 코팅법으로 유리 기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100 ℃의 온도에서 2분간 유지하여 박막을 형성시켰다. 20마이크로미터 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 자외선을 조사하였다. 이때, 자외선 광원은 g, h, i 선을 모두 함유하는 1 KW의 고압 수은등을 사용하여 50 mJ/㎠의 조도로 조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. 상기에서 자외선이 조사된 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 2분 동안 담궈 현상하였다. 이 박막이 입혀진 유리판을 증류수를 사용하여 세척한 다음, 광학현미경으로 몇 ㎛의 패턴까지 남아 있는지를 관찰하여 하기 표 9 에 나타내었다. The compositions of Examples and Comparative Examples were applied onto a glass substrate by spin coating, then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C. for 2 minutes to form a thin film. A test photomask having a 20 micrometer pattern was placed and ultraviolet light was irradiated with a distance of 50 μm from the test photomask. In this case, the ultraviolet light source was irradiated with an illuminance of 50 mJ / cm 2 using a 1 KW high-pressure mercury lamp containing all g, h, and i rays, and no special optical filter was used. The thin film irradiated with ultraviolet rays was developed by soaking in a KOH aqueous solution developing solution of pH 10.5 for 2 minutes. The glass plate coated with the thin film was washed with distilled water, and then observed by the optical microscope to see how many micrometers of patterns remained.

Figure 112010022328013-pat00017
Figure 112010022328013-pat00017

상기 표 9 에 나타난 바와 같이, 실시예의 조성물은 8 ㎛의 패턴까지 남아있어 감도가 우수함을 알 수 있었으며, 비교예의 조성물도 8 ㎛의 패턴까지 남아있어 비교적 감도가 양호하였다. 화학식 1 또는 화학식 2 의 단량체의 함량이 작은 실시예 10, 11 및 13의 경우 밀착성 및 이로 인한 감도가 다소 감소하는 것을 알 수 있다. 또한, 화학식 1 또는 화학식 2 의 단량체의 함량이 높은 실시예 12 및 14 의 경우 밀착성의 증가로 미세패턴 간 잔막의 연결이 발생하여 감도가 감소하는 경향을 나타냄을 알 수 있다.
As shown in Table 9, the composition of the Example remained up to 8 ㎛ pattern was found to have excellent sensitivity, the composition of Comparative Example also remained up to 8 ㎛ pattern was relatively good sensitivity. In Examples 10, 11, and 13 having a small content of the monomer of Formula 1 or Formula 2, it can be seen that the adhesion and the resulting sensitivity are somewhat reduced. In addition, in Examples 12 and 14 having a high content of the monomer of Formula 1 or Formula 2, it can be seen that the sensitivity tends to decrease due to the adhesion of the residual film between the micropatterns due to the increase in adhesion.

<< 실험예Experimental Example 4> 밀착성의 평가  4> Evaluation of adhesion

상기 실험예 1 내지 3 과 마찬가지의 방법으로 현상공정까지 진행한 후, 초고압 수세공정(2MPa)으로 30초 동안 증류수로 세척하고 광학현미경으로 몇 ㎛의 패턴까지 패턴 뜯김이 없는지를 관찰하여 하기 표 10에 나타내었다. After proceeding to the developing process in the same manner as in Experimental Examples 1 to 3, and washed with distilled water for 30 seconds by an ultra-high pressure washing process (2MPa) and observed by the optical microscope to see if there is no pattern tearing up to a pattern of a few ㎛ Table 10 Shown in

Figure 112010022328013-pat00018
Figure 112010022328013-pat00018

상기 표 10 에 의하면, 실시예의 조성물의 경우 비교예의 조성물보다 미세패턴까지 뜯김현상이 없는 것과 패턴간 연결현상도 없는 것을 알 수 있다.
According to Table 10, in the case of the composition of the embodiment it can be seen that there is no tearing phenomenon and no connection between the patterns to the fine pattern than the composition of the comparative example.

상기에서 살펴본 바와 같이 본 발명의 화학식 1 의 화합물을 포함하는 단량체를 중합하여 제조된 알칼리 가용성 수지를 포함하는 흑색 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성, 감도, 저장 안정성이 우수할 뿐만 아니라, 포스트베이크시 열흐름성이 약해 패턴의 흘러내림 현상이 감소되므로 광학밀도가 균일한 패턴 및 블랙매트릭스를 제공할 수 있다. As described above, the black photosensitive resin composition comprising an alkali-soluble resin prepared by polymerizing a monomer including the compound of Formula 1 of the present invention is not only excellent in adhesion to the substrate, sensitivity, and storage stability, but also at the time of post-baking. Since the heat flow is weak, the pattern flow down is reduced, so that a uniform optical density and a black matrix can be provided.

Claims (9)

하기 화학식 1 로 표현되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표현되는 화합물을 포함하는 단량체의 중합반응에 의해 얻어지는 알칼리 가용성 수지(B)를 포함하는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물:
<화학식 1>
Figure 112010039896493-pat00019

(화학식 1 에서,
n 은 2 내지 4 의 정수이다.)
<화학식 2>
Figure 112010039896493-pat00020

(화학식 2 에서,
m 은 0 내지 2 의 정수이다.)A black photosensitive resin composition comprising an alkali-soluble resin (B) obtained by a polymerization reaction of a monomer comprising a compound represented by the following formula (1) and a compound represented by the following formula (2):
<Formula 1>
Figure 112010039896493-pat00019

(In Formula 1,
n is an integer from 2 to 4.
<Formula 2>
Figure 112010039896493-pat00020

(In Formula 2,
m is an integer of 0 to 2). 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 화학식 1 로 표현되는 화합물이 상기 단량체에 대하여 10 내지 40 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
The black photosensitive resin composition, characterized in that the compound represented by the formula (1) is contained in 10 to 40 parts by weight based on the monomer. 청구항 1에 있어서,
상기 화학식 2 로 표현되는 화합물이 상기 단량체에 대하여 10 내지 40 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물. The method according to claim 1,
The black photosensitive resin composition, characterized in that the compound represented by the formula (2) is contained in 10 to 40 parts by weight based on the monomer. 청구항 1에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지(B)가 조성물의 고형분에 대하여 4 내지 25 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물. The method according to claim 1,
The black photosensitive resin composition, wherein the alkali-soluble resin (B) is contained in an amount of 4 to 25 parts by weight based on the solid content of the composition. 청구항 1에 있어서,
상기 단량체가 (메타)아크릴레이트계 화합물, 방향족 비닐 화합물, 카르복실산 비닐 에스테르, 시안화 비닐 화합물, 말레이미드 화합물, 비닐 카르복실레이트 화합물, 불포화 옥세탄 카르복실레이트 화합물, 모노카르복실산 화합물, 디카르복실산 화합물 및 양 말단에 카르복실기와 히드록시기를 갖는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물. The method according to claim 1,
The monomer is a (meth) acrylate compound, aromatic vinyl compound, carboxylic acid vinyl ester, vinyl cyanide compound, maleimide compound, vinyl carboxylate compound, unsaturated oxetane carboxylate compound, monocarboxylic acid compound, dica A black photosensitive resin composition further comprising a single acid or a mixture thereof selected from the group consisting of a carboxylic acid compound and a compound having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals. 청구항 1에 있어서,
상기 흑색 감광성 수지 조성물이 착색제(A), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 수지 조성물. The method according to claim 1,
The black photosensitive resin composition further comprises a single photosensitive resin composition selected from the group consisting of a colorant (A), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D) and a solvent (E). . 청구항 1 및 청구항 3 내지 청구항7 중 어느 한 항의 흑색 감광성 수지 조성물을 도포, 노광 및 현상하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스. The black matrix obtained by apply | coating, exposing, and developing the black photosensitive resin composition of any one of Claims 1 and 3-7. 청구항 8의 블랙 매트릭스를 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러필터.A color filter comprising the black matrix of claim 8.
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