KR100850874B1 - Manufacturing method of ni nano-particles, ni nano-particles and ink composition comprising the same - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 초미세 니켈 나노입자의 제조방법 수순 개략도,1 is a schematic view showing a method for manufacturing ultrafine nickel nanoparticles according to an embodiment of the present invention;
도 2는 실시예 1에서 제조된 니켈 나노입자의 전자 현미경 사진, 2 is an electron micrograph of the nickel nanoparticles prepared in Example 1,
도 3은 실시예 1에서 제조된 니켈 나노입자의 X선 회절도,3 is an X-ray diffraction diagram of the nickel nanoparticles prepared in Example 1,
도 4는 실시예 1~3 및 비교예 1~2의 X선 회절도에 대한 비교 그래프이다.4 is a comparative graph of the X-ray diffraction diagrams of Examples 1-3 and Comparative Examples 1-2.
본 발명은 초미세 니켈입자의 제조방법, 초미세 니켈입자 및 이를 포함하는 전도성 잉크에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing ultrafine nickel particles, ultrafine nickel particles and a conductive ink comprising the same.
최근 휴대통신기기의 성장, 디지털 TV의 보급과 더불어 고품위 영상에 대한 요구가 증가하고 있다. 이러한 고품위 영상에 부합하기 위해 평판 디스플레이는 고정세화가 필수적으로 수반되어야 한다. 이를 충족하기 위해서는 관련 공정 기술의 고정세화가 발전해야 한다. 그러나 기존의 스크린 인쇄 및 사진 식각으로 전극 패턴 형성을 할 경우 스크린의 메쉬 피치(mesh pitch)로부터 인쇄할 수 있는 최소 패턴 치수가 결정되며 이에 의하면 100 ㎛ 이하의 패턴 형성은 힘든 일이다. 또한 스크린의 사용 횟수가 1000 ∼ 2000회로 교환이 필요하고, 에칭을 통해 불필요한 부분의 도전층을 제거해야 하므로 실제 필요한 양보다 많은 양을 사용하게 되어 재료비가 높아지는 단점이 있다. 공정 면에서도 글라스 프릿(glass frit)을 사용하므로 고온공정이 반드시 요구되고 글라스 프릿으로 인해 저항이 높아지는 문제점도 안고 있다. 따라서 100 ㎛ 이하의 미세 패턴 형성을 위한 방법으로 잉크젯 방식에 대한 연구가 이루어지고 있다. 잉크젯 방식을 이용하면 미세 패턴의 형성이 용이할 뿐만 아니라, 원하는 패턴만 그리게 되므로 기존의 사진 식각 공정에 비해 재료비를 획기적으로 절감할 수 있다.Recently, with the growth of mobile communication devices and the spread of digital TVs, the demand for high quality images is increasing. In order to meet such high quality images, flat panel displays must be accompanied by high definition. In order to meet this, the refinement of related process technologies must be developed. However, when the electrode pattern is formed by conventional screen printing and photolithography, the minimum pattern size that can be printed is determined from the mesh pitch of the screen. Accordingly, pattern formation of 100 μm or less is difficult. In addition, since the number of times of use of the screen needs to be changed to 1000 to 2000 times, and the conductive layer of the unnecessary portion must be removed through etching, the amount of the screen may be used in a larger amount than the required amount, resulting in a material cost increase. The glass frit is also used in the process aspect, so a high temperature process is required and the glass frit has a problem of increasing resistance. Therefore, a study on the inkjet method as a method for forming a fine pattern of 100 ㎛ or less has been made. The inkjet method not only facilitates the formation of a fine pattern, but also draws only the desired pattern, thereby significantly reducing the material cost compared to the conventional photolithography process.
잉크젯 방식의 핵심이 되는 원천 소재로 전도성 잉크를 들 수 있는데 잉크 구성은 금속을 포함한 도전성 나노 입자와 잉크 용매로 되어 있다. 여기서 도전성 나노 입자가 핵심인데, 이는 도전성 나노 입자가 부피 대비 표면적이 기존 벌크(bulk) 입자에 비해 매우 증가하므로 기존 소재보다 특성 향상 및 새로운 특성을 나타낼 수 있기 때문이다. 특히 적절한 두께의 전극을 구현하기 위해 잉크내 나노 입자의 함량을 높여야 하는데, 입자가 미세하고 분산성이 좋아질수록 이러한 입자 함유량이 증가할 수 있다. 이에 따라 고함량의 나노 입자를 함유한 용액들이 개발 되고 있고 이를 이용한 다양한 응용으로의 개발에도 다각적인 노력들이 진행되고 있다.The core material of the inkjet method is a conductive ink, which is composed of conductive nanoparticles containing metal and an ink solvent. Here, the conductive nanoparticles are the core because the surface area of the conductive nanoparticles is much increased compared to the existing bulk particles, and thus, the characteristics can be improved and new properties can be exhibited. In particular, in order to realize an electrode having an appropriate thickness, the content of the nanoparticles in the ink must be increased. As the particles become finer and better in dispersibility, the content of such particles may increase. Accordingly, solutions containing high content of nanoparticles are being developed, and various efforts are being made to develop various applications using the same.
그러나 이러한 장점에도 불구하고 아직 양산화 기술이 개발되지 않고 있는 것은 나노 입자의 입도와 분산 안정성이 확보되어 있지 않기 때문이다. 즉, 기존의 나노분말 제조공정은 NiCl2, Ni(NO3)2 등을 원료물질로 한 습식 침전법으로 제작하는데, 원료 물질에 함유된 다량의 염소(Cl) 및 질산(NO3) 성분이 처리공정이 매우 복잡하고, 잉크젯 공정에 악영향을 미친다. 이러한 Cl 및 NO3 등의 잔류 원소를 제거하기 위해서 수십번의 세척 및 공정의 가장 마지막 부분에서 400℃ 이상의 고온 열처리를 한다. 이와 같은 고온 열처리 공정에서 분말 입자가 성장한다. 그 결과 100 ㎚ 이상의 조대한 입도 분포를 갖게 되어 나노 분말로서의 특성, 재현성 및 안정성이 저하할 수 있다. 즉, 나노 입자가 응집하면서 이에 의한 노즐의 막힘 현상 등으로 인해 분사 균일성이 확보되지 않아 최종 제품의 성능불량을 만들어 내는 원인이 된다. 따라서 이와 같은 고온 열처리 공정을 개선하고 니켈 나노 분말의 입도 미세화 및 균일성 향상을 위한 저온 열처리 및 합성법이 필요하다.However, despite these advantages, mass production technology has not yet been developed because the particle size and dispersion stability of the nanoparticles are not secured. In other words, the conventional nanopowder manufacturing process is produced by the wet precipitation method using NiCl 2 , Ni (NO 3 ) 2 as a raw material, and a large amount of chlorine (Cl) and nitric acid (NO 3 ) components contained in the raw material The treatment process is very complicated and adversely affects the inkjet process. In order to remove residual elements such as Cl and NO 3 , a high temperature heat treatment of 400 ° C. or higher is performed at the end of several tens of washings and processes. Powder particles grow in such a high temperature heat treatment process. As a result, it has coarse particle size distribution of 100 nm or more, and the characteristics, reproducibility, and stability as a nano powder may fall. In other words, due to the aggregation of the nanoparticles, the spray uniformity is not secured due to the clogging phenomenon of the nozzle, which causes a performance defect of the final product. Therefore, a low temperature heat treatment and synthesis method for improving the high temperature heat treatment process and improving the particle size and uniformity of the nickel nanopowder are required.
또한, 환경적 문제, 양산성 등을 고려할 때, 복잡한 공정과 첨가물, 그리고 유해성 약품의 사용이 없이도, 간단한 방법으로 우수한 결정성을 갖는 나노입자를 제조할 수 있는 방법이 요구되며, 특히 상기 불순물들이 나노입자에 잔류하여 잉크 소재로서 적용시 잉크젯 배선에 이러한 불순물이 남아 전기 저항을 높이는 등의 문제가 없는 니켈 나노입자 제조방법의 개발이 요구된다.In addition, in consideration of environmental problems, mass production, and the like, there is a need for a method for producing nanoparticles having excellent crystallinity in a simple manner without complicated processes, additives, and the use of hazardous chemicals. When applied as an ink material after remaining in the nanoparticles, it is required to develop a method for producing nickel nanoparticles, which does not have a problem such that the impurities remain in the inkjet wiring to increase the electrical resistance.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로,The present invention is to solve the above problems,
저온 공정을 통하여 입자 성장을 억제하여 초미세 니켈 나노입자를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles by suppressing particle growth through a low temperature process.
본 발명은 또한, 분쇄공정을 생략할 수 있는 방법을 제공하여, 시간, 단가 절감이 가능한 초미세 니켈 나노입자를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a method capable of omitting the grinding step, and to provide a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles, which can reduce time and cost.
본 발명은 또한, 환경오염 및 독성이 상대적으로 적은 재료를 사용함으로써, 환경 오염 요인을 제거한 초미세 니켈 나노입자를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles from which environmental pollution factors are eliminated by using materials having relatively low environmental pollution and toxicity.
본 발명은 또한, 초미세한 입경과 특정 결정성을 갖는 니켈 나노입자 및 이를 함유한 잉크 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide nickel nanoparticles having an ultrafine particle diameter and specific crystallinity and an ink composition containing the same.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명은,The present invention for achieving the above object,
니켈(Ni)-유기물 혼합제가 유기용제에 용해 또는 분산된 니켈-유기물 혼합제 함유액을 제조하는 단계; 상기 함유액의 유기용제를 제거하여 불순 유기물이 존재하는 니켈 나노입자를 얻는 단계; 250℃ 이하의 저온 분위기에서 열처리하여 상기 불순 유기물을 제거하는 단계;를 포함하여 이루어진 초미세 니켈 나노입자의 제조 방법을 제공한다.Preparing a solution containing a nickel-organic mixture in which a nickel (Ni) -organic mixture is dissolved or dispersed in an organic solvent; Removing the organic solvent of the containing solution to obtain nickel nanoparticles in which impurities are present; It provides a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles comprising the; heat treatment in a low temperature atmosphere of less than 250 ℃ to remove the impurities organic matter.
또한, 상기 유기용제를 제거하는 단계는 상온에서 교반을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자의 제조방법을 제공한다.In addition, the step of removing the organic solvent provides a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles, characterized in that carried out through stirring at room temperature.
또한, 상기 교반은 8시간 이상 수행되어 유기용제를 서서히 제거하는 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자의 제조방법을 제공한다.In addition, the stirring is performed for more than 8 hours to provide a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles, characterized in that to slowly remove the organic solvent.
또한, 상기 니켈-유기물 혼합제는 니켈과 유기물이 킬레이션(Chelation)된 형태인 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자의 제조방법을 제공한다.In addition, the nickel-organic mixture provides a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles, characterized in that the form of the chelated (nickel) and organic matter.
또한, 상기 유기물로는 아세테이트(acetate), 아세틸아세토네이트(acetylacetonate), 옥살레이트(oxalate) 및 이들로부터 유도되는 산(acid) 중에서 적어도 하나 포함되는 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자의 제조방법을 제공한다.In addition, the organic material may include at least one of acetate (acetate), acetylacetonate, oxalate, and acid derived therefrom. to provide.
또한, 상기 유기용제는 아세톤, 탄소수 1~4의 알콜 및 글리콜 중에서 적어도 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자의 제조방법을 제공한다.In addition, the organic solvent provides a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles, characterized in that at least one selected from acetone, alcohol having 1 to 4 carbon atoms and glycol.
또한, 열처리하여 유기물을 제거하는 단계는 200℃ 미만의 저온 분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자의 제조방법을 제공한다.In addition, the step of removing the organic material by heat treatment provides a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles, characterized in that performed in a low temperature atmosphere of less than 200 ℃.
또한, 상기 열처리하여 유기물을 제거하는 단계를 수행하면 분쇄공정 없이도 평균입경 100nm 이하의 초미세 니켈 나노입자가 얻어지는 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자의 제조방법을 제공한다.In addition, by performing the step of removing the organic material by the heat treatment provides a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles, characterized in that ultrafine nickel nanoparticles having an average particle diameter of 100nm or less is obtained without a grinding process.
또한, 상기 니켈(Ni)-유기물 혼합제 100 중량 대비 니켈은 15 내지 50 중량부 포함되는 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자의 제조방법을 제공한다.In addition, nickel based on the weight of the nickel (Ni) -
본 발명은 또한, 상기 제조방법으로 제조된 초미세 니켈 나노입자로서, 평균입경이 100nm 이하인 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자를 제공한다.The present invention also provides ultra-fine nickel nanoparticles, which have an average particle diameter of 100 nm or less, as the ultra-fine nickel nanoparticles prepared by the above method.
또한, 평균입경이 10nm 이하인 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자를 제공한다.In addition, it provides an ultra-fine nickel nanoparticles, characterized in that the average particle diameter is 10nm or less.
또한, 평균입경이 5nm 이하인 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자를 제공한다.In addition, it provides an ultra-fine nickel nanoparticles, characterized in that the average particle diameter is 5nm or less.
또한, 상기 초미세 니켈 나노입자의 X선 회절도는 2θ가 40~50사이에서 가장 큰 피크가 나타나고, 35~40 사이에서 두번째로 큰 피크가 나타나며, 60~65사이에서 세번째로 큰 피크가 나타나는 결정성을 갖는 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자를 제공한다.In addition, the X-ray diffractogram of the ultra-fine nickel nanoparticles shows the largest peak between 2θ and 40-50, the second largest peak between 35-40, and the third largest peak between 60-65. It provides ultra-fine nickel nanoparticles having a crystallinity.
또한, 상기 가장 큰 피크의 인텐시티(Intensity) 대비 노이즈 또는 불순 피크의 인텐시티(Intensity)가 1/4 이하인 것을 특징으로 하는 초미세 니켈 나노입자를 제공한다.In addition, it provides an ultra-fine nickel nanoparticles, characterized in that the intensity of the noise or impurity peak of the largest peak (Intensity) is less than 1/4.
본 발명은 또한, 상기 초미세 니켈 나노입자를 포함하여 이루어진 잉크 조성물을 제공한다.The present invention also provides an ink composition comprising the ultra-fine nickel nanoparticles.
본 발명은 또한, 상기 잉크 조성물을 기재 상부에 잉크젯 방식으로 분사하여 패터닝한 후 열처리하여 제조된 패턴 구조물을 제공한다.The present invention also provides a pattern structure prepared by spraying and patterning the ink composition on the substrate by an inkjet method, followed by heat treatment.
이하, 도면 및 실시예를 통해 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings and examples.
본 발명은, 니켈(Ni)-유기물 혼합제가 유기용제에 용해 또는 분산된 니켈-유기물 혼합제 함유액을 제조하는 단계, 상기 함유액의 유기용제를 제거하여 불순 유기물이 존재하는 니켈 나노입자를 얻는 단계, 250℃ 이하의 저온 분위기에서 열처리하여 상기 불순 유기물을 제거하는 단계를 포함하여 이루어진 초미세 니켈 나노 입자의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a method of preparing a nickel-organic mixture containing liquid in which a nickel (Ni) -organic mixture is dissolved or dispersed in an organic solvent, and obtaining nickel nanoparticles in which an impure organic substance is present by removing the organic solvent. It provides a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles comprising the step of removing the impurities organic material by heat treatment in a low temperature atmosphere of less than 250 ℃.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 초미세 니켈 나노입자의 제조방법의 수순 개략도이다.1 is a process schematic diagram of a method for producing ultra-fine nickel nanoparticles according to an embodiment of the present invention.
먼저, 초미세 니켈 나노입자를 제조하기 위하여 니켈(Ni)-유기물 혼합제가 유기용제에 용해 또는 분산된 니켈-유기물 혼합제 함유액을 제조한다.First, in order to prepare ultra-fine nickel nanoparticles, a nickel-organic mixture containing liquid in which a nickel (Ni) -organic mixture is dissolved or dispersed in an organic solvent is prepared.
상기 니켈(Ni)-유기물 혼합제는 니켈과 유기물이 이온결합이 아닌 킬레이션(Chelation) 형태로 혼합되어 있는 것이 바람직하며, 특히 니켈을 유기물이 감싸고 있는 형태가 좋다. 이러한 형태를 통해 유기용제에 쉽게 용해 또는 고르게 분산될 수 있게 된다.The nickel (Ni) -organic mixture is preferably a mixture of nickel and the organic material in the form of chelation (Chelation), not an ionic bond, in particular, the form in which the organic material is wrapped in nickel. This form makes it easy to dissolve or evenly disperse in the organic solvent.
상기 니켈(Ni)-유기물 혼합제에서 니켈의 함유량은 제한되지 않으나 혼합제 총 100 중량 대비 니켈이 15 내지 50 중량부 포함되는 것이 좋다. 상기 범위 이하로 니켈이 포함된 경우에는 혼합제 대비 니켈의 수율이 좋지 않으며, 상기 범위 이상으로 니켈이 포함된 경우에는 용해도 또는 분산도가 떨어져 최종으로 얻어지는 니켈 입자의 입경이 커질 수 있다.The content of nickel in the nickel (Ni) -organic mixture is not limited, but it is preferable that nickel is contained in an amount of 15 to 50 parts by weight based on the total weight of the mixture. When nickel is included in the range below the nickel, the yield of nickel is not good compared to the mixture, and when nickel is included in the above range, the solubility or dispersibility may be lowered, thereby increasing the particle size of the finally obtained nickel particles.
상기 유기물로는 니켈과 킬레이션될 수 있는 작용기를 갖는 것이라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 바람직하기로는 아세테이트(acetate), 아세틸아세토네이트(acetylacetonate), 옥살레이트(oxalate) 및 이들로부터 유도되는 산(acid) 중에서 적어도 하나 포함되는 것이 혼합제가 유기용에 잘 용해되어 좋다.The organic material may be used without limitation as long as it has a functional group capable of chelation with nickel, preferably acetate, acetylacetonate, oxalate and acid derived therefrom. It is good that at least one of the mixing agent is dissolved in an organic solvent.
상기 유기용제는 니켈-유기물 혼합제가 용해되거나 고르게 분산될 수 있는 유기용제라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 바람직하기로는 아세톤, 탄소수 1~4의 알콜 및 글리콜 중에서 적어도 하나 이상 선택되는 것이 좋다.The organic solvent may be used without limitation as long as the organic solvent in which the nickel-organic mixture is dissolved or evenly dispersed, and preferably at least one selected from acetone, alcohol having 1 to 4 carbon atoms, and glycol.
다음, 상기에서 얻어진 니켈-유기물 혼합제 함유액에서 유기용제를 제거하여 불순 유기물이 존재하는 니켈 나노입자를 얻는다. 유기용제를 제거하게 되면 서서히 니켈 나노입자가 석출되게 되며, 겔화되어 간다.Next, the organic solvent is removed from the nickel-organic mixture containing liquid obtained above to obtain nickel nanoparticles in which an impure organic substance is present. When the organic solvent is removed, nickel nanoparticles are gradually precipitated and gelate.
상기 유기용제를 제거하는 단계는 요구되는 나노크기의 입자를 얻기 위해 상온에서 교반을 통해 수행되는 것이 바람직하다. 열을 가하여 유기용제를 급하게 제거할 경우 얻어지는 니켈 나노입자의 직경이 다소 커질 수 있다(다만, 본 발명에서 열을 가하여 유기용제를 제거하는 것을 제외하는 것은 아니다). 상기 교반은 유기용제가 충분히 제거되는 때까지 수행하는 것이 좋으며, 바람직하기로는 8시간 이상 수행되어 유기용제를 서서히 제거하는 것이 좋다. 교반 시간의 상한은 제한되지 않으나 96시간 이내면 적당하다. 상기 교반은 연속적일 수도 있으며, 비연속적으로 수행될 수도 있으며 모두 본 발명에 포함된다. Removing the organic solvent is preferably carried out by stirring at room temperature to obtain the desired nano-sized particles. When the organic solvent is rapidly removed by applying heat, the diameter of the nickel nanoparticles obtained may be somewhat large (however, in the present invention, the removal of the organic solvent is not performed by applying heat). Preferably, the stirring is performed until the organic solvent is sufficiently removed, and preferably, the stirring is performed for at least 8 hours to gradually remove the organic solvent. The upper limit of the stirring time is not limited but is suitable within 96 hours. The stirring may be continuous or may be performed discontinuously and all are included in the present invention.
유기용제를 충분히 제거하게 되면, 특별한 분쇄공정 없이도 100nm 이하의 초미세 입자가 쉽게 얻어지게 된다. 이 경우, 유기용제 제거시 니켈과 킬레이션되었던 유기물이 같이 증발하여 제거될 수 있으나 상당량이 잔존하여 불순물로 남게 된다.When the organic solvent is sufficiently removed, ultrafine particles of 100 nm or less are easily obtained without a special grinding process. In this case, when the organic solvent is removed, the organic material that has been cheated with nickel may be removed by evaporation, but a considerable amount remains and remains as impurities.
다음, 상기 불순물로 잔존하는 유기물을 250℃ 이하의 저온 분위기에서 열처리하여 상기 불순 유기물을 제거하여 순수한 초미세 니켈 나노입자를 얻는다. 상기 범위 이상의 온도에서 열처리를 하게 되면 니켈 입자가 조대해지고 입자간 응집이 발생하여 원하는 초미세 니켈 나노입자를 얻기 어렵다.Next, the organic material remaining as the impurity is heat-treated in a low temperature atmosphere of 250 ° C. or less to remove the impurity organic material to obtain pure ultra-fine nickel nanoparticles. When the heat treatment is performed at a temperature above the above range, the nickel particles are coarse and aggregation between particles occurs, which makes it difficult to obtain desired ultrafine nickel nanoparticles.
보다 초미세한 니켈 나노입자를 얻기 위해서는 상기 불순 유기물이 제거될 수 있는 최소한의 온도로 열처리하는 것이 좋으며, 특히 200℃ 미만의 저온 분위기에서 수행되는 것이 바람직하다. 열처리 온도의 하한은 제한되지 않으나 열처리 효과의 효율성을 위해 150℃ 이상, 특히 180℃ 이상의 온도에서 열처리하는 것이 바람직하다.In order to obtain ultrafine nickel nanoparticles, it is preferable to heat-treat at a minimum temperature at which the impurity organics can be removed, and in particular, it is preferably performed in a low temperature atmosphere of less than 200 ° C. The lower limit of the heat treatment temperature is not limited, but for the efficiency of the heat treatment effect, heat treatment at a temperature of 150 ° C. or higher, particularly 180 ° C. or higher is preferable.
상기 열처리하여 유기물을 제거하는 단계를 수행하면 특별한 분쇄공정 없이도 초미세 니켈 나노입자가 얻어지게 된다. 즉, 본 발명에서는 환원 공정이나, 분쇄 공정 등의 복잡한 공정 없이도, 간단하게 초미세 니켈 나노입자를 얻을 수 있다.When performing the step of removing the organic material by the heat treatment, ultrafine nickel nanoparticles are obtained without a special grinding process. That is, in the present invention, ultrafine nickel nanoparticles can be obtained simply without complicated processes such as a reduction step or a grinding step.
본 발명은 또한, 상기의 제조방법에 따라 제조된 초미세 니켈 나노입자로서, 평균입경이 100nm 이하, 특히 10nm 이하, 보다 미세하게는 평균입경이 5nm 이하인 초미세 니켈 나노입자를 제공한다. 평균입경의 하한은 제한되지 않으며, 본 발명이 허락하는 한 최소입경을 갖는 것이 좋다. 물론, 적용되는 필드에 따라 나노크기 미만은 요구되지 않을 수도 있다.The present invention also provides ultra-fine nickel nanoparticles prepared according to the above-described method, wherein the average particle diameter is 100 nm or less, particularly 10 nm or less, and more specifically, the average particle diameter is 5 nm or less. The lower limit of the average particle diameter is not limited, and it is preferable to have the minimum particle diameter as long as the present invention permits. Of course, less than nanosize may not be required depending on the field applied.
특히, 상기의 특징적인 제조방법에 따라 니켈 나노입자를 제조할 경우, 독특 한 결정성을 갖는 니켈 나노입자를 얻을 수 있다. 즉, 초미세 니켈 나노입자의 X선 회절도에서, 2θ가 40~50 사이에서 가장 큰 피크가 나타나고, 35~40 사이에서 두번째의 큰 피크가 나타나며, 60~65 사이에서 세번째의 큰 피크가 나타나는 결정성을 갖는 초미세 니켈 나노입자를 얻을 수 있으며, 특히 가장 큰 피크의 인텐시티(Intensity) 대비 노이즈 또는 불순 피크의 인텐시티(Intensity)가 1/4 이하인 초미세 니켈 나노입자를 얻을 수 있다. In particular, when manufacturing the nickel nanoparticles according to the above-described characteristic manufacturing method, it is possible to obtain nickel nanoparticles having a unique crystallinity. That is, in the X-ray diffractogram of ultrafine nickel nanoparticles, 2θ shows the largest peak between 40-50, the second largest peak appears between 35-40, and the third largest peak appears between 60-65. Ultrafine nickel nanoparticles having crystallinity can be obtained, and in particular, ultrafine nickel nanoparticles having an intensity of noise or impurity peaks of 1/4 or less relative to the intensity of the largest peak can be obtained.
이러한 본 발명의 초미세 니켈 나노입자의 XRD 피크는 기존의 니켈 분말의 벌크 피크와는 다소 차이점이 있다. 이에 대한 정확한 원인은 밝혀내지 못했으나 얻어진 초미세 니켈 나노입자의 표면에 다소간의 초박층의 유기산화물이 존재하는 것이 아닌가 추정된다. 얻어진 초미세 니켈 나노입자의 색상이 까만색인 점, 도금 실험 결과 도금이 잘 되는 점(색상 및 전자 현미경으로 확인)으로 보아, 상기 얻어진 분말의 성분이 니켈인 것은 충분히 증명, 확인되었다.The XRD peak of the ultrafine nickel nanoparticles of the present invention is somewhat different from the bulk peak of the conventional nickel powder. The exact cause of this problem has not been determined, but it is presumed that some ultra-thin organic oxide exists on the surface of the obtained ultra-fine nickel nanoparticles. From the point where the color of the obtained ultrafine nickel nanoparticles is black and the plating test result (the color and the electron microscope confirmed), it was fully proved and confirmed that the component of the obtained powder was nickel.
본 발명은 또한, 상기 초미세 니켈 나노입자가 포함된 잉크 조성물을 제공한다. 잉크 조성물은 잉크젯 방식에 적합하게 사용될 수 있다. 잉크 조성물의 성분으로는 상기 초미세 니켈 나노입자가 함유된 것이라면 제한되지 않으며, 본 기술분야에서 알려진 잉크 조성물을 적용할 수 있다.The present invention also provides an ink composition containing the ultra-fine nickel nanoparticles. The ink composition can be suitably used for the inkjet method. The component of the ink composition is not limited as long as it contains the ultra-fine nickel nanoparticles, and ink compositions known in the art may be applied.
일례로는, 상기 초미세 니켈 나노입자 및 용제가 포함되고, 기타 첨가제 등이 더 포함될 수 있으며, 첨가제의 예로는 제한되지 않으나 마멸방지 촉진 나노 입자(anti abrasive promoting nano particle) 및/또는 가요성 촉진 중합체(flexible promotingpolymer) 등을 포함할 수 있다. 마멸방지 촉진 나노 입자는 콜로이드상(colloidal) 및/또는 훈증 실리카(fumed silica) 나노 입자 및/또는 졸-겔 나노 입자 및/또는 탄소 나노 입자 등을 들 수 있으며, 가요성 촉진 중합체는 실리콘 중합체 및/또는 관능화(functionalised) 실리콘 중합체 등을 들 수 있다.As an example, the ultra-fine nickel nanoparticles and solvents are included, and other additives may be further included. Examples of the additives include, but are not limited to, anti abrasive promoting nano particles and / or flexibility promoting. Flexible promoting polymers and the like. The anti-wear promoting nanoparticles include colloidal and / or fumed silica nanoparticles and / or sol-gel nanoparticles and / or carbon nanoparticles, and the like. And / or functionalized silicone polymers.
상기 용제로는 제한되지 않으나 에탄올, 에틸렌 글리콜 등의 알콜 유기용제를 들 수 있으며, 일종 또는 혼합하여 사용될 수 있다.Examples of the solvent include, but are not limited to, alcohol organic solvents such as ethanol and ethylene glycol, and may be used in one kind or in mixture.
본 발명은 또한, 상기 잉크 조성물을 기재 상부에 잉크젯 방식으로 분사하여 패터닝한 후 열처리하여 제조된 패턴 구조물을 제공한다.The present invention also provides a pattern structure prepared by spraying and patterning the ink composition on the substrate by an inkjet method, followed by heat treatment.
상기 잉크 조성물을 잉크젯 방식으로 분사하여 소정의 패턴으로 잉크 조성물을 기재에 도포한 후에 열처리하게 되면, 미세한 도전성 패턴 구조물을 얻을 수 있게 된다. When the ink composition is sprayed by an inkjet method to apply the ink composition to a substrate in a predetermined pattern, and then heat treated, a fine conductive pattern structure can be obtained.
특히, 표시장치의 전극을 상기 방법으로 패터닝하여 제조할 수 있다. 상기 잉크 조성물을 사용할 경우, 특징적인 결정성과 초미세 나노입경을 갖는 니켈을 함유하고 있고, 이에 따라 100㎛ 이하의 매우 미세한 전극 패턴도 우수하게 형성될 수 있다.In particular, the electrode of the display device can be manufactured by patterning the above method. In the case of using the ink composition, it contains nickel having characteristic crystallinity and ultra-fine nanoparticle diameter, and thus an extremely fine electrode pattern of 100 μm or less can be excellently formed.
이하, 실시예를 통해 보다 상세히 설명한다. 하기의 실시예는 일례이므로 본 발명이 이에 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail. The following examples are examples, so the present invention is not limited thereto.
<실시예 1><Example 1>
1L의 아세톤에 10g의 Ni-아세테이트를 첨가하여 용해시켜 Ni-아세테이트 함유 혼합액을 제조하였다. 상기 제조된 혼합액을 상온에서 30시간 교반하면서 유기용매 및 일부의 아세테이트를 증발시켜 제거하였다. 제거후에 얻어진 건조된 물질을 회수하여 전기로에서 190℃의 온도로 5시간 저온 열처리를 통해 불순 유기물을 제거하여 순수한 금속 Ni 나노입자를 제조하였다. 10 g of Ni-acetate was added and dissolved in 1 L of acetone to prepare a mixed solution containing Ni-acetate. The prepared liquid mixture was removed by evaporation of the organic solvent and some acetate while stirring at room temperature for 30 hours. After the removal, the obtained dried material was recovered and the impurities were removed by low temperature heat treatment at 190 ° C. for 5 hours in an electric furnace to prepare pure metal Ni nanoparticles.
<실시예 2><Example 2>
상기 실시예 1에서 열처리 온도를 200℃에서 수행한 것을 제외하고는 동일하게 하여 금속 Ni 나노입자를 제조하였다. Metal Ni nanoparticles were prepared in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature was performed at 200 ° C.
<실시예 3><Example 3>
상기 실시예 1에서 열처리 온도를 250℃에서 수행한 것을 제외하고는 동일하게 하여 금속 Ni 나노입자를 제조하였다. Metal Ni nanoparticles were prepared in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature was performed at 250 ° C.
<비교예 1>Comparative Example 1
상기 실시예 1에서 열처리 온도를 350℃에서 수행한 것을 제외하고는 동일하게 하여 금속 Ni 나노입자를 제조하였다. Metal Ni nanoparticles were prepared in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature was performed at 350 ° C.
<비교예 2>Comparative Example 2
상기 실시예 1에서 열처리 온도를 400℃에서 수행한 것을 제외하고는 동일하게 하여 금속 Ni 나노입자를 제조하였다. Metal Ni nanoparticles were prepared in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature was performed at 400 ° C.
상기에서 제조된 니켈 나노입자를 전자 현미경 사진으로 입경을 분석하고, X선 회절도를 통해 결정성을 분석하였다.The nickel nanoparticles prepared above were analyzed by particle size with an electron micrograph, and the crystallinity was analyzed by X-ray diffractogram.
도 2는 실시예 1에서 제조된 니켈 나노입자의 전자 현미경 사진으로서, 특별한 분쇄공정 없이도 입경이 5nm 이하의 초미세 니켈 나노입자가 얻어진 것을 볼 수 있으며, 2 is an electron micrograph of the nickel nanoparticles prepared in Example 1, and it can be seen that ultrafine nickel nanoparticles having a particle diameter of 5 nm or less are obtained without a special grinding process.
도 3은 실시예 1에서 제조된 니켈 나노입자의 X선 회절도로서, 순수한 니켈의 결정성을 볼 수 있다.3 is an X-ray diffraction diagram of the nickel nanoparticles prepared in Example 1, where the crystallinity of pure nickel can be seen.
도 4는 실시예 1~3 및 비교예 1~2의 X선 회절도에 대한 비교 그래프로서, 비교예의 결정성이 열처리 온도로 인해 불량해지는 것을 볼 수 있으며, 가장 좋은 결정성은 200℃ 미만인 것을 볼 수 있다.Figure 4 is a comparative graph for the X-ray diffractograms of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, it can be seen that the crystallinity of the Comparative Example is poor due to the heat treatment temperature, the best crystallinity is less than 200 ℃ Can be.
본 발명은 저온 공정을 통하여 입자 성장을 억제하여 초미세 니켈 나노입자를 제조할 수 있으며, 분쇄공정을 생략하여도 초미세 니켈 나노입자가 얻어지며, 시간, 단가 절감이 가능하고, 환경오염 및 독성이 상대적으로 적은 재료를 사용함으로써, 환경 오염 요인을 제거할 수 있으며, 초미세한 입경과 특정 결정성을 갖는 니켈 나노입자 및 이를 함유한 잉크 조성물을 제공하여 표시장치의 전극 등을 보다 우수하게 제조할 수 있다.The present invention can produce ultra-fine nickel nanoparticles by suppressing particle growth through low temperature process, ultra-fine nickel nanoparticles are obtained even if the grinding step is omitted, time, cost reduction, environmental pollution and toxicity By using this relatively small material, it is possible to eliminate environmental pollution factors, and to provide nickel nanoparticles having an extremely fine particle size and specific crystallinity and an ink composition containing the same, thereby making electrodes of a display device more excellent. Can be.
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