KR100813507B1

KR100813507B1 - Lapping machine for cathode ray tube panel

Info

Publication number: KR100813507B1
Application number: KR1020010038137A
Authority: KR
Inventors: 오희원; 윤창건; 안광환; 이석찬
Original assignee: 삼성코닝정밀유리 주식회사
Priority date: 2001-06-29
Filing date: 2001-06-29
Publication date: 2008-03-13
Also published as: KR20030002496A

Abstract

본 발명은 음극선관용 판넬 래핑머신을 제공한다. 본 발명은 판넬을 연마위치로 배치시키고, 연마위치의 판넬을 회전시키는 인덱싱머신과 함께 판넬 연마시스템을 구성하는 판넬 래핑머신에 있어서, 베이스와; 베이스에 간격을 두고 수직하게 설치되는 한쌍의 가이드 포스트와; 가이드 포스트를 따라 상하 왕복운동가능하게 설치되는 승강테이블과; 인덱싱머신에 대해 전후운동가능하게 승강테이블에 설치되는 모션베이스와; 모션베이스에 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 회전테이블과; 회전테이블에 수평축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 로테이션 바디와; 로테이션 바디에 외팔보형태로 고정설치되며, 로테이션 바디와 함께 수평축선을 중심으로 원운동하는 아암과; 아암에 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 스핀들과; 스핀들을 회전시킬 수 있도록 스핀들과 작동적으로 연결되는 구동모터와; 스핀들의 단부에 고정되며, 원운동하는 아암에 의해 인덱싱머신의 판넬에 접촉하는 연마구와; 판넬에 대한 연마구의 접촉각이 일정하게 유지될 수 있도록 아암을 고정시키는 위치고정수단과; 상하 왕복운동하는 승강테이블의 하사점 높이를 조절할 수 있도록 승강테이블을 승강시키는 제 1승강수단과; 연마구를 수직으로 승강시키도록 승강테이블을 하사점으로부터 수직하게 승강시키는 제 2승강수단을 포함한다. The present invention provides a panel wrapping machine for cathode ray tubes. The present invention relates to a panel wrapping machine for arranging a panel polishing system together with an indexing machine for arranging a panel in a polishing position and rotating a panel at a polishing position, comprising: a base; A pair of guide posts installed vertically at intervals on the base; An elevating table installed up and down reciprocating along the guide post; A motion base installed on the lifting table so as to be movable back and forth with respect to the indexing machine; A rotating table rotatably installed around a vertical axis on the motion base; A rotation body rotatably installed on the rotating table about a horizontal axis; An arm fixed to the rotation body in a cantilever shape and circularly moving around the horizontal axis along with the rotation body; A spindle rotatably mounted on the arm about a vertical axis; A drive motor operatively connected to the spindle to rotate the spindle; An abrasive tool fixed to the end of the spindle and contacting the panel of the indexing machine by a circularly moving arm; Position fixing means for fixing the arm so that the contact angle of the polishing tool with respect to the panel can be kept constant; First elevating means for elevating an elevating table to adjust a bottom dead center height of an elevating table which is reciprocated vertically; And a second elevating means for elevating the elevating table vertically from the bottom dead center to elevate the polishing tool vertically.

Description

음극선관용 판넬 래핑머신{LAPPING MACHINE FOR CATHODE RAY TUBE PANEL} Panel Wrapping Machine for Cathode Ray Tubes {LAPPING MACHINE FOR CATHODE RAY TUBE PANEL}

도 1은 본 발명의 래핑머신이 설치된 음극선관용 연마시스템의 구성을 나타내는 측면도,1 is a side view showing the configuration of a polishing system for a cathode ray tube provided with a wrapping machine of the present invention;

도 2는 본 발명에 따른 판넬 래핑머신의 구성을 나타내는 측면도,Figure 2 is a side view showing the configuration of a panel wrapping machine according to the present invention,

도 3은 도 2의 A-A선 단면도,3 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

도 4는 도 3의 B-B선 단면도, 4 is a cross-sectional view taken along the line B-B of FIG.

도 5와 도 6은 본 발명의 주요부인 보조 가이드수단의 변형예를 나타내는 도면이다. 5 and 6 are views showing a modification of the auxiliary guide means that is the main part of the present invention.

♣ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ♣ ♣ Explanation of symbols for the main parts of the drawing ♣

10: 베이스 12: 가이드 포스트10: base 12: guide post

20: 승강테이블 30: 제 1승강수단20: lifting table 30: first lifting means

32: 잭스크류 34: 구동모터32: jackscrew 34: drive motor

36: 승강플레이트 40: 제 2승강수단36: lifting plate 40: second lifting means

42: 유압실린더 50: 보조 가이드수단42: hydraulic cylinder 50: auxiliary guide means

52: 가이드 플레이트 54: 가이드레일 52: guide plate 54: guide rail

56: 슬라이더 60: 모션베이스56: slider 60: motion base

62: 회전테이블 66: 로테이션 바디 62: rotary table 66: rotation body

70: 아암 72: 래핑헤드70: arm 72: wrapping head

74: 스핀들 76: 원판형 연마구74: spindle 76: disk grinding

78: 구동모터 80: 벨트전동기구78: drive motor 80: belt transmission mechanism

90: 스토핑나사90: Stopping screw

본 발명은 음극선관용 판넬을 연마하기 위한 음극선관용 판넬의 래핑머신 (Lapping Machine)에 관한 것이다.The present invention relates to a wrapping machine of a cathode ray tube panel for polishing a cathode ray tube panel.

음극선관은 기본적으로 화상이 투시되는 판넬(Panel)과, 이 판넬의 후면에 접합되는 원추형의 훤넬(Funnel)과, 훤넬의 꼭지점에 융착되는 관형상의 네크 (Neck)로 이루어진다. 판넬, 훤넬 및 네크는 모두 유리로 제조되며, 특히 판넬과 훤넬은 곱(Gob)이라 불리는 용융유리 덩어리를 원하는 크기 및 형상으로 프레스 성형하여 제조한다. The cathode ray tube basically consists of a panel through which an image is projected, a conical funnel joined to the back of the panel, and a tubular neck fused to the vertex of the channel. Panels, channels and necks are all made of glass, in particular panels and channels are produced by press molding a molten glass mass called a gob to the desired size and shape.

한편, 판넬은 영상을 표시하는 페이스(Face)와, 페이스의 가장자리로부터 후방으로 연장되는 스커트(Skirt)를 구비하는데, 이러한 판넬은 성형 공정이 완료되면 일반적으로 거친 표면을 가지므로, 그 표면을 적절히 연마하여 광학적 결함을 제거해야 한다. 보통 판넬의 표면 연마 작업은 판넬 연마시스템에 의해 이루어진다. On the other hand, the panel has a face for displaying an image and a skirt extending rearward from the edge of the face. Such a panel generally has a rough surface when the molding process is completed, so that the surface is properly Polishing should eliminate optical defects. Usually the surface polishing of the panel is done by a panel polishing system.

본 출원인에 의해 출원된 한국특허출원 제 2000-74773호의 연마시스템에 의 하면, 연마시스템은 판넬을 연마위치로 공급시키거나 배출시키면서 동시에 연마위치에 배치된 판넬을 회전운동시키는 인덱싱머신(indexing machine)과, 회전되는 판넬의 상면에 회전운동과 스윙운동을 하는 연마구를 마찰접촉시킴으로써 연마 처리하는 래핑머신(lapping machine)으로 구성된다. 특히, 래핑머신은 베이스와, 베이스에 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 모션베이스와, 모션베이스에 외팔보 형태로 힌지결합되는 아암과, 아암의 단부에 설치되는 래핑헤드와, 래핑헤드에 회전가능하게 설치되어 연마를 수행하는 원판형 연마구 그리고 상기 연마구를 회전시키기 위한 모터 등으로 구성된다. According to the polishing system of Korean Patent Application No. 2000-74773 filed by the present applicant, the polishing system is an indexing machine for supplying or discharging the panel to the polishing position and rotating the panel disposed at the polishing position at the same time. And, it is composed of a lapping machine (lapping machine) for polishing by friction-contacting the grinding tool to the rotary motion and swing movement on the upper surface of the panel to be rotated. In particular, the wrapping machine includes a base, a motion base rotatably installed about a vertical axis on the base, an arm hinged to the motion base in the form of a cantilever beam, a wrapping head installed at an end of the arm, and a rotation on the wrapping head. And a disk-shaped grinding | polishing tool which can be installed and performs grinding | polishing possibly, and a motor etc. to rotate the grinding | polishing tool.

이러한 구성의 래핑머신은 모션베이스를 수직축선을 중심으로 회전시킴으로써 아암의 방위를 잡은 다음, 힌지축을 중심으로 외팔보 형태의 아암을 승강 및 하강시킴으로써 헤드의 연마구를 판넬의 상면으로 근접시키면서 마찰접촉시켜 상기 판넬의 표면을 연마 처리하는 것이다. The wrapping machine of this configuration holds the arm's orientation by rotating the motion base about the vertical axis, and then raises and lowers the cantilever-shaped arm around the hinge axis, thereby bringing the grinding wheel of the head into contact with the upper surface of the panel in frictional contact. The surface of the panel is polished.

그러나, 이러한 종래의 연마시스템은 원판형 연마구와 판넬이 균일하게 접촉하지 못하여 연마구가 편마모되는 문제가 있었으며, 특히 연마구가 편마모됨에 따라 판넬의 어느 특정부위만 과도하게 연마되거나(이하, "과연마부분"이라 함) 또는 어느 특정부위만 연마되지 않는(이하, "미연마부분"이라 함) 등 연마 불량이 발생되는 문제점이 있었다. However, such a conventional polishing system has a problem in that the grinding wheel is unevenly contacted with the disk-shaped abrasive tool and the panel is not uniformly contacted. In particular, only a specific portion of the panel is excessively polished as the abrasive tool wears out (hereinafter, Abrasion defects are generated such as "grinding part") or only a specific part is not polished (hereinafter, referred to as "non-polishing part").

즉, 종래의 연마구는 힌지축을 중심으로 회전하는 외팔보 형태의 아암에 의해 판넬에 근접하는 바, 상기 연마구는 아암과 함께 원호의 궤적을 그리면서 소정 의 기울기로 판넬에 근접하게 되며, 최종적으로 수평된 상태에서 판넬과 균일하게 접촉하여 판넬의 표면을 연마 처리하게 된다. 그러나 종래의 연마구는 원호의 궤적을 그리면서 소정의 기울기로 판넬에 근접하기 때문에, 자칫 판넬과의 접촉이 균일하지 않게 될 우려가 있다. 다시말해, 회전하는 연마구와 판넬의 접촉각이 수평된 상태를 유지하지 않게 될 우려가 있다는 것이다. 한편, 판넬에 대한 연마구의 접촉각이 수평된 상태를 유지하지 않게 되면, 원판형 연마구는 판넬의 어느 특정부위와 집중적으로 접촉 마찰하게 되고, 연마구가 판넬의 특정부위와 집중적으로 접촉 마찰하게 되면, 연마구는 접촉되는 특정부위만 집중적으로 마모되는 결과를 초래하는 것이다. 결국, 연마구는 편마모되며, 이렇게 편마모된 연마구에 연마된 판넬에는 미연마부분 또는 과연마부분이 발생되는 것이다. That is, the conventional grinding wheel is close to the panel by a cantilever-shaped arm rotating about a hinge axis, and the grinding wheel is close to the panel at a predetermined inclination while drawing the trajectory of the arc together with the arm. In this state, the surface of the panel is polished by uniform contact with the panel. However, since the conventional polishing tool approaches the panel at a predetermined inclination while drawing the trajectory of the arc, there is a fear that the contact with the panel will not be uniform. In other words, there is a fear that the contact angle between the rotating abrasive tool and the panel will not be kept horizontal. On the other hand, when the contact angle of the polishing tool with respect to the panel is not maintained in a horizontal state, the disk-shaped polishing tool is in intensive contact friction with any specific part of the panel, and when the polishing tool is in intensive contact friction with the specific part of the panel, Abrasive tools result in intensive wear of only the specific area in contact. As a result, the polishing tool is single-weared, and the unpolished or over-polishing portion is generated in the panel polished to the thus-weared polishing tool.

따라서, 본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 그 목적은 연마구와 판넬의 접촉각을 일정하게, 특히 수평하게 유지시킴으로써 연마구가 편마모되는 것을 방지할 수 있는 음극선관용 판넬 래핑머신을 제공하는데 있다. Therefore, the present invention has been made to solve the problems described above, the object of the panel lapping machine for cathode ray tube that can prevent the abrasive tool is abrasion by keeping the contact angle of the abrasive tool and the panel constant, especially horizontal To provide.

또한, 연마구의 편마모를 방지함으로써 판넬에 미연마부분 또는 과연마부분이 형성되는 것을 방지하기 위한 음극선관용 판넬 래핑머신을 제공하는데 있다. In addition, the present invention provides a panel wrapping machine for cathode ray tubes for preventing unpolishing or over-polishing portions from being formed on the panel by preventing uneven wear of the polishing tool.

이와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 판넬을 연마위치로 배치시키고, 연마위치의 판넬을 회전시키는 인덱싱머신과 함께 판넬 연마시스템을 구성하는 판넬 래핑머신에 있어서, 베이스와; 상기 베이스에 간격을 두고 수직하게 설치되는 한쌍의 가이드 포스트와; 상기 한쌍의 가이드 포스트를 따라 상하 왕복운동가능하게 설치되는 승강테이블과; 상기 인덱싱머신에 대해 전후운동가능하도록 상기 승강테이블에 설치되는 모션베이스와; 상기 모션베이스에 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 회전테이블과; 상기 회전테이블에 수평축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 로테이션 바디와; 상기 로테이션 바디에 외팔보 형태로 고정 설치되며, 상기 로테이션 바디와 함께 수평축선을 중심으로 원운동하는 아암과; 상기 아암에 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 스핀들과; 상기 스핀들을 회전시킬 수 있도록 상기 스핀들과 작동적으로 연결되는 구동모터와; 상기 스핀들과 함께 회전가능하도록 상기 스핀들에 고정되며, 원운동하는 상기 아암에 의해 상기 인덱싱머신의 판넬에 접촉하는 원판형 연마구와; 판넬에 대한 상기 연마구의 접촉각이 일정하게 유지될 수 있도록 상기 아암을 고정시키는 위치고정수단과; 상기 가이드 포스트를 따라 상하 왕복운동하는 승강테이블의 하사점 높이를 조절할 수 있도록 상기 승강테이블을 승강시키는 제 1승강수단과; 상기 연마구를 수직으로 승강시킬 수 있도록 상기 승강테이블을 하사점으로부터 수직하게 승강시키는 제 2승강수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a panel wrapping machine for constituting a panel polishing system with an indexing machine for arranging a panel in a polishing position and rotating a panel at a polishing position, the base comprising: a base; A pair of guide posts vertically installed at intervals on the base; An elevating table installed up and down reciprocating along the pair of guide posts; A motion base installed on the lifting table so as to be movable back and forth with respect to the indexing machine; A rotating table rotatably installed around the vertical axis on the motion base; A rotation body rotatably installed on the rotary table about a horizontal axis; An arm fixed to the rotation body in the form of a cantilever and circularly moving around a horizontal axis along with the rotation body; A spindle rotatably mounted to the arm about a vertical axis; A drive motor operatively connected to the spindle to rotate the spindle; A disk-shaped abrasive tool fixed to the spindle to be rotatable with the spindle and contacting the panel of the indexing machine by the circularly moving arm; Position fixing means for fixing the arm to maintain a constant contact angle of the polishing tool with respect to the panel; First elevating means for elevating the elevating table so as to adjust the bottom dead center of the elevating table for up and down reciprocating movement along the guide post; And a second elevating means for elevating the elevating table vertically from a bottom dead center so as to elevate the polishing tool vertically.

이하, 본 발명에 따른 음극선관용 판넬 래핑머신에 대한 바람직한 실시예를 첨부된 도면들에 의거하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a panel wrapping machine for cathode ray tubes according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1에는 본 발명의 래핑머신이 설치된 음극선관용 연마시스템의 구성을 나타내는 측면도가 도시되어 있다. 이에 따르면, 본 발명의 래핑머신은 인덱싱머신 (1)과 함께 설치되어 판넬 연마시스템을 구성함을 알 수 있다. 인덱싱머신(1)은 판 넬(P)이 올려 놓여지는 복수의 테이블유닛(3)과, 테이블유닛(3)을 회전운동시키는 테이블드라이브(5)와, 테이블유닛(3)을 연마위치에서 대기위치로 회전운동시키는 인덱싱드라이브(7)로 구성되어 있다. 1 is a side view showing the configuration of a polishing system for a cathode ray tube provided with a wrapping machine of the present invention. According to this, it can be seen that the lapping machine of the present invention is installed together with the indexing machine 1 to constitute a panel polishing system. The indexing machine 1 holds a plurality of table units 3 on which a panel P is placed, a table drive 5 for rotating the table unit 3, and the table unit 3 in a polishing position. It consists of an indexing drive 7 which rotates in position.

한편, 본 발명의 래핑머신은 도 2와 도 3에 도시된 바와 같이 베이스(10)를 갖는다. 베이스(10)의 상면에는 도 3에 도시된 바와 같이 한쌍의 가이드 포스트 (12)가 간격을 두고 수직하게 설치되며, 한쌍의 가이드 포스트(12)에는 승강테이블 (20)이 상하이동가능하게 설치된다. 특히, 승강테이블(20)은 어느 한 위치를 기준으로(이하, "기준위치"라 함)하여 상부로 왕복운동가능하도록 구성된다. Meanwhile, the lapping machine of the present invention has a base 10 as shown in FIGS. 2 and 3. As shown in FIG. 3, a pair of guide posts 12 are vertically installed at intervals on the upper surface of the base 10, and a lift table 20 is installed on the pair of guide posts 12 so as to be movable. . In particular, the elevating table 20 is configured to be reciprocated upwardly based on any one position (hereinafter referred to as "reference position").

그리고 본 발명의 래핑머신은 승강테이블(20)을 승강시키는 제 1승강수단 (30)과 제 2승강수단(40)을 구비한다. 제 1승강수단(30)은 승강테이블(20)의 승강시켜 상기 승강테이블(20)의 기준위치를 조절하는 것으로, 도 2와 도 3에 도시된 바와 같이 가이드 포스트(12)의 사이에 입설되는 잭스크류(32)와, 이 잭스크류(32)를 정/역회전시키는 구동모터(34)와, 정/역회전되는 잭스크류(32)를 따라 상하로 승강할 수 있도록 상기 잭스크류(32)에 나사결합되는 승강플레이트(36)로 구성된다. The lapping machine of the present invention includes a first elevating means 30 and a second elevating means 40 for elevating the elevating table 20. The first elevating means 30 is to adjust the reference position of the elevating table 20 by elevating the elevating table 20, which is placed between the guide post 12 as shown in FIG. The jackscrew 32 so that the jackscrew 32, the drive motor 34 for rotating the jackscrew 32 forward / reversely, and the jackscrew 32 in the forward / reverse rotation can be lifted up and down. It consists of a lifting plate 36 which is screwed on.

제 2승강수단(40)은 기준위치가 설정된 승강테이블(20)을 기준위치로부터 상부로 승강시키는 것으로, 제 1승강수단(30)의 승강플레이트(36) 상에 수직하게 설치되는 유압실린더(42)로 구성된다. 여기서, 유압실린더(42)의 실린더로드(44)는 승강테이블(20)의 밑면에 고정됨은 물론이다. 한편, 승강테이블(20)의 밑면에는 유압실린더(42)의 양쪽을 따라 아래로 뻗어 있는 한쌍의 가이드 축(22)이 설치되어 있는데, 이 한쌍의 가이드 축(22)은 승강플레이트(36)의 양쪽을 관통하도록 구성된다. 이러한 가이드 축(22)은, 승강테이블(20)과 승강플레이트(36)의 서로에 대한 회전은 방지하고, 승강테이블(20)과 승강플레이트(36)의 서로에 대한 축방향 이동은 가능하게 한다. The second elevating means 40 is to elevate the elevating table 20 in which the reference position is set from the reference position to the upper portion. The hydraulic cylinder 42 is installed vertically on the elevating plate 36 of the first elevating means 30. It consists of Here, of course, the cylinder rod 44 of the hydraulic cylinder 42 is fixed to the bottom surface of the elevating table 20. On the other hand, a pair of guide shafts 22 extending downward along both sides of the hydraulic cylinder 42 are provided on the bottom of the elevating table 20, and the pair of guide shafts 22 are formed on the elevating plate 36. It is configured to penetrate both sides. This guide shaft 22 prevents the lifting table 20 and the lifting plate 36 from rotating relative to each other, and enables the lifting table 20 and the lifting plate 36 to move in the axial direction with respect to each other. .

이러한 구성에 따라 제 1승강수단(30)의 구동모터(34)를 구동시키면, 잭스크류(32)가 정/역회전되고, 잭스크류(32)가 정/역회전되면, 승강플레이트(36)가 잭스크류(32)를 따라 상승 및 하강한다. 이와 같은 상태에서 유압실린더(42)를 통하여 승강플레이트(36)에 지지된 승강테이블(20)도 승강플레이트(36)와 함께 상승 및 하강하면서 기준위치, 즉 하사점의 높낮이가 조절되는 것이다. 한편, 기준위치란, 후술하는 연마구(76)가 판넬(P)의 상면과 직접적으로 접촉하여 판넬(P)을 연마하는 연마위치, 다시말해 후술하는 연마구(76)는 제 2승강수단에 의해 상하로 왕복운동하는 바, 연마구(76)가 하사점에 위치할 때 판넬(P)의 상면과 접촉하게 된다. 이에 따라 승강테이블(20)의 기준위치는 곧 연마구(76)의 하사점을 의미하는 것이며, 따라서 제 1승강수단(30)을 이용하여 승강테이블(20)과 함께 승강하는 연마구(76)를 상승 및 하강시킴으로써 연마구(76)와 판넬(P)의 접촉위치, 즉 연마구(76)의 하사점을 조절하는 것이다. When the driving motor 34 of the first lifting means 30 is driven in accordance with this configuration, the jack screw 32 is rotated forward / reverse, and the jack screw 32 is rotated forward / reverse, the lifting plate 36 Rises and falls along the jackscrew 32. In this state, the elevating table 20 supported by the elevating plate 36 through the hydraulic cylinder 42 is also raised and lowered together with the elevating plate 36 to adjust the reference position, that is, the height of the bottom dead center. On the other hand, the reference position is a polishing position where the polishing tool 76, which will be described later, directly contacts the upper surface of the panel P to polish the panel P. In other words, the polishing tool 76, which will be described later, is provided to the second lifting means. By reciprocating up and down by this, when the grinding | polishing tool 76 is located in bottom dead center, it comes into contact with the upper surface of the panel P. FIG. Accordingly, the reference position of the elevating table 20 means the bottom dead center of the polishing tool 76. Therefore, the polishing tool 76 which moves up and down together with the elevating table 20 by using the first elevating means 30. By raising and lowering, the contact position of the grinding | polishing tool 76 and the panel P, ie, the bottom dead center of the grinding | polishing tool 76, is adjusted.

한편, 제 2승강수단(40)의 유압실린더(42)를 작동시키면, 유압실린더(42)가 신장 및 수축하고, 유압실린더(42)가 신장 및 수축함에 따라 실린더로드(44)에 지지된 승강테이블(20)은 가이드 축(22)에 안내되어 승강플레이트(36)와 멀어지거나 또는 가까워지면서 상하로 승강하게 된다. 이와 같은 상태에서 승강테이블(20)은 기준위치로부터 상부로 상승 및 하강하게 된다. 이러한 제 2승강수단은 후술하는 연마구(76)를 판넬(P)과의 접촉위치로부터 수직으로 상승시키고 또한 상승된 상태에서 수직으로 하강시켜 판넬(P)과 접촉시킴으로써, 원호의 궤적을 그리면서 판넬 (P)과 접촉하는 종래의 연마구와는 달리 판넬(P)에 대한 연마구(76)의 접촉각을 항상 일정하게 유지시킬 수 있게 한다. On the other hand, when the hydraulic cylinder 42 of the second lifting means 40 is operated, the hydraulic cylinder 42 expands and contracts, and the hydraulic cylinder 42 extends and contracts as the hydraulic cylinder 42 expands and contracts. The table 20 is guided to the guide shaft 22 to move up and down while moving away from or near the lifting plate 36. In this state, the lifting table 20 is moved up and down from the reference position. The second lifting means raises the polishing tool 76, which will be described later, vertically from the contact position with the panel P, and also vertically lowers in the raised state to contact the panel P, thereby drawing the trajectory of the arc. Unlike conventional grinding tools in contact with the panel P, the contact angle of the grinding wheel 76 with respect to the panel P can be kept constant at all times.

이상과 같은 제 1승강수단(30)과 제 2승강수단(40)은 승강테이블(20)의 기준위치를 설정하고, 그 기준위치로부터 승강테이블(20)을 수직으로 상승 및 하강시키게 함으로써 연마구(76)와 판넬(P)의 접촉위치를 조절할 수 있게 하고, 연마구(76)와 판넬(P)의 접촉각을 항상 일정하게 유지시킬 수 있게 한다. The first elevating means 30 and the second elevating means 40 as described above set the reference position of the elevating table 20, thereby raising and lowering the elevating table 20 vertically from the reference position. The contact position between the 76 and the panel P can be adjusted, and the contact angle between the polishing tool 76 and the panel P can be kept constant at all times.

다시, 도 2와 도 4를 살펴보면, 본 발명은 승강테이블(20)의 이동을 보조적으로 지지하기 위한 보조 가이드수단(50)을 갖추고 있다. 이 보조 가이드수단(50)은 베이스(10)에 수직하게 설치되는 가이드 플레이트(52)와, 이 가이드 플레이트 (52)에 수직으로 나란하게 설치되는 한쌍의 가이드레일(54) 그리고 가이드레일(54)을 따라 이동가능하며 승강테이블(20)의 일측에 고정되는 한쌍의 슬라이더(56)로 구성된다. 여기서, 가이드레일(54)에는 양측으로 돌출되는 가이드 턱(54a)이 길이방향을 따라 형성되어 있으며, 슬라이더(56)에는 가이드레일(54)의 가이드 턱(54a)을 감쌀 수 있는 한쌍의 핑거(56a)가 형성되어 있다. 가이드 턱(54a)과 이를 감싸는 핑거(56a)는 가이드레일(54)과 슬라이더(56)의 분리를 방지한다. 이러한 보조 가이드수단은 가이드 포스트(12)과 함께 승강테이블(20)의 이동을 지지함으로써 상기 승강테이블(20)이 보다 안정적으로 상승 및 하강할 수 있도록 한다. 2 and 4 again, the present invention is provided with an auxiliary guide means 50 for supporting the movement of the elevating table 20 in an assisted manner. The auxiliary guide means 50 is a guide plate 52 installed perpendicular to the base 10, a pair of guide rails 54 and guide rails 54 installed in parallel to the guide plate 52 vertically. It is composed of a pair of sliders 56 which are movable along and fixed to one side of the elevating table 20. Here, the guide jaw 54 is formed along the longitudinal direction of the guide jaw 54a protruding on both sides, and the slider 56 has a pair of fingers that can wrap the guide jaw 54a of the guide rail 54. 56a) is formed. The guide jaw 54a and the fingers 56a surrounding the guide jaw 54a prevent separation of the guide rail 54 and the slider 56. The auxiliary guide means supports the movement of the lifting table 20 together with the guide post 12 so that the lifting table 20 can be raised and lowered more stably.

한편, 도 5와 도 6에는 보조 가이드수단의 변형예들이 도시되어 있다. 먼저, 도 5에 도시된 보조 가이드수단은, 나란하게 설치되는 가이드레일(54)의 대향면 각각에 내측으로 경사지게 절취되는 절취부(54b)를 길이방향으로 형성하여 가이드 홈(54c)을 형성하고, 이 가이드 홈(54c)을 따라 이동가능한 슬라이더(56)를 설치한 구성을 갖는다. 이러한 변형예의 보조 가이드수단은 하나의 슬라이더(56)만을 구비하므로 조립이 간편한 특징을 갖는다. 5 and 6 show modifications of the auxiliary guide means. First, the auxiliary guide means shown in Figure 5, to form a guide groove (54c) by forming a cut portion (54b) to be inclined inwardly cut inward on each of the opposing surfaces of the guide rails 54 are installed side by side and And a slider 56 movable along the guide groove 54c. The auxiliary guide means of this modification has only one slider 56, so it is easy to assemble.

그리고 도 6에 도시된 변형예의 보조 가이드수단은 가이드 플레이트(52)의 양측에 가이드레일(54)을 일체로 형성하고, 이 가이드레일(54)을 따라 이동가능한 한쌍의 슬라이더(56)를 구비한 구성을 갖는다. 특히, 변형예의 보조 가이드수단은 한쌍의 슬라이더(56) 각각에 가이드레일(54)의 양면을 따라 구름운동할 수 있는 가이드롤러(58)를 설치한 구성을 갖는다. 이러한 변형예의 보조 가이드수단은 가이드레일(54)을 따라 구름운동하는 가이드롤러(58)를 구비함으로써 승강테이블(20)의 이동을 보다 원활하게 할 수 있는 특징을 갖는다. In addition, the auxiliary guide means of the modification shown in FIG. 6 includes a guide rail 54 integrally formed on both sides of the guide plate 52, and includes a pair of sliders 56 movable along the guide rail 54. Has a configuration. In particular, the auxiliary guide means of the modification has a configuration in which a guide roller 58 capable of rolling movement along both sides of the guide rail 54 on each of the pair of sliders 56 is provided. The auxiliary guide means of this modification is characterized by having a guide roller 58 for rolling along the guide rail 54 to facilitate the movement of the lifting table 20 more smoothly.

다시, 도 1과 도 2를 살펴보면, 본 발명의 래핑머신은 승강테이블(20) 상에 설치되는 모션베이스(60)를 가지며, 모션베이스(60)의 상면에는 회전테이블(62)이 설치된다. 모션베이스(60)는 승강테이블(20)의 상면에 설치되는 가이드(24)를 따라 인덱싱머신(1)을 향하여 직선운동하도록 구성되며, 회전테이블(62)은 모션베이스 (60)의 상면에 직립되어 있는 베어링 스탠드(60a)에 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치된다. 여기서, 모션베이스(60)는 승강테이블(20)의 후방에 설치되는 구동모터(60b)에 의해 인덱싱머신(1)에 대해 전후 이동가능하도록 구성되며, 회전테이 블(62)은 도 4에 도시된 바와 같이 모션베이스(60)와 회전테이블(62)에 양단이 각각 지지되는 유압실린더(64)에 의해 수직축선을 중심으로 회전된다. 1 and 2, the wrapping machine of the present invention has a motion base 60 installed on the lifting table 20, and a rotating table 62 is installed on the upper surface of the motion base 60. The motion base 60 is configured to linearly move toward the indexing machine 1 along the guide 24 installed on the upper surface of the elevating table 20, and the rotary table 62 is erected on the upper surface of the motion base 60. The bearing stand 60a is rotatably installed about a vertical axis. Here, the motion base 60 is configured to be movable back and forth with respect to the indexing machine 1 by a drive motor 60b installed at the rear of the elevating table 20, and the rotating table 62 is shown in FIG. 4. As described above, the hydraulic cylinder 64, which is supported at both ends by the motion base 60 and the rotation table 62, is rotated about the vertical axis.

그리고 회전테이블(62)의 상면에는 도 2에 도시된 바와 같이 로테이션 바디 (66)가 힌지축(66a)을 중심으로 회전가능하게 설치되며, 로테이션 바디(66)의 상단에는 아암(70)이 외팔보 형태로 고정 설치된다. 여기서, 로테이션 바디(66)는 로테이션 바디(66)와 회전테이블(62)에 양단이 각각 지지되는 유압실린더(68)에 의해 수평축선을 중심으로 회전된다. 한편, 로테이션 바디(66)가 회전테이블(62)에 힌지축(66a)을 중심으로 회전가능하게 설치되고, 회전테이블(62)이 모션베이스(60)에 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치됨에 따라 상기 아암(70)은 수직축선을 중심으로 스윙운동하면서 동시에 힌지축(66a)을 중심으로 상승 또는 하강하는 것이다. In addition, as shown in FIG. 2, the rotation body 66 is rotatably installed around the hinge axis 66a on the upper surface of the rotation table 62, and an arm 70 cantilevers the upper end of the rotation body 66. It is fixedly installed in the form. Here, the rotation body 66 is rotated about the horizontal axis by the hydraulic cylinder 68, both ends of which are supported by the rotation body 66 and the rotary table 62, respectively. On the other hand, since the rotation body 66 is rotatably installed around the hinge axis 66a on the rotation table 62, and the rotation table 62 is rotatably installed about the vertical axis on the motion base 60. Accordingly, the arm 70 swings about the vertical axis and simultaneously moves up or down about the hinge axis 66a.

그리고 아암(70)의 자유단에는 래핑헤드(72)가 설치되고, 래핑헤드(72)에는 수직축선을 중심으로 회전하는 스핀들(74)이 설치되며, 스핀들(74)의 하단부에는 원판형 연마구(76)가 설치된다. 여기서, 스핀들(74)은 로테이션 바디(66)에 설치되는 구동모터(78)에 의해 회전되는데, 상기 구동모터(78)와 스핀들(74)은 벨트전동기구(80)에 의해 연결된다. 벨트전동기구(80)는 구동모터(78)의 출력축(78a)에 고정되는 구동풀리(82)와, 스핀들(74)의 상단에 고정 설치되는 종동풀리(84)와, 구동풀리(82)와 종동풀리(84)를 감아 연결하는 벨트(86)로 구성된다. 그리고 원판형 연마구(76)는 벨트전동기구(80)와 스핀들(74)을 통하여 전달되는 구동모터(78)의 회전력에 의해 고속으로 회전하면서 인덱싱머신(1)에 배치된 판넬(P)의 표면을 연마 하게 된다. And the free end of the arm 70 is provided with a wrapping head 72, the wrapping head 72 is provided with a spindle 74 that rotates about a vertical axis, the lower end of the spindle 74 disk grinding 76 is installed. Here, the spindle 74 is rotated by a drive motor 78 installed in the rotation body 66, the drive motor 78 and the spindle 74 is connected by a belt transmission mechanism (80). The belt transmission mechanism 80 includes a drive pulley 82 fixed to the output shaft 78a of the drive motor 78, a driven pulley 84 fixedly installed on the upper end of the spindle 74, and a drive pulley 82. It consists of a belt 86 which winds and connects the driven pulley 84. In addition, the disk-shaped polishing tool 76 rotates at a high speed by the rotational force of the drive motor 78 transmitted through the belt transmission mechanism 80 and the spindle 74 of the panel P disposed on the indexing machine 1. The surface is polished.

한편, 본 발명의 래핑머신은 아암(70)을 고정시키는 위치고정수단을 구비한다. 이 위치고정수단은 로테이션 바디(66)에 나사결합되는 스토핑나사(90)로 구성되는데, 이 스토핑나사(90)는 로테이션 바디(66)와 함께 회전하면서 회전테이블(62)의 일측과 접촉하여 로테이션 바디(66)와 일체로 된 아암(70)의 하강을 제한함으로써 아암(70)의 위치를 고정시키는 것이다. On the other hand, the wrapping machine of the present invention is provided with a position fixing means for fixing the arm (70). The position fixing means is composed of a stopping screw 90 screwed to the rotation body 66, the stopping screw 90 in contact with one side of the rotary table 62 while rotating with the rotation body 66 This is to fix the position of the arm 70 by limiting the lowering of the arm 70 integral with the rotation body 66.

이러한 위치고정수단은 아암(70)의 하강을 제한하여 상기 아암(70)을 고정시킴으로써 아암(70)에 설치된 연마구(76)를 고정시키는 역할을 한다. 특히, 위치고정수단은 스토핑나사(90)로 하여금 회전테이블(62)의 일측과 매번 동일한 위치에서 접촉케함으로써 상승과 하강을 반복하는 아암(70)을 매번 동일한 위치에 고정시키게 하며, 따라서 아암(70)에 설치된 연마구(76)를 매번 동일한 위치에 배치시키는 역할을 수행한다. The position fixing means serves to fix the polishing tool 76 installed on the arm 70 by fixing the arm 70 by limiting the lowering of the arm 70. In particular, the position fixing means causes the stopping screw 90 to contact the one side of the rotary table 62 at the same position each time, thereby fixing the arm 70 repeating rise and fall at the same position each time, and thus the arm. The grinding | polishing tool 76 provided in the 70 serves to arrange in the same position every time.

한편, 위치고정수단은, 스토핑나사(90)를 회전시켜 로테이션 바디(66)로부터의 돌출 높이를 조절함으로써 아암(70)의 고정위치를 조절할 수 있게도 하였다. 즉, 스토핑나사(90)는 로테이션 바디(66)에 나사결합되는 바, 상기 스토핑나사(90)를 회전시키면, 로테이션 바디(66)로부터의 돌출되는 스토핑나사(90)의 돌출높이가 변하게 되고, 스토핑나사(90)의 돌출높이가 변함에 따라 로테이션 바디(66)의 회전 제한위치도 변하게 된다. 결과적으로, 아암(70)의 하강 제한위치도 변하게 되어 아암(70)의 고정위치가 조절되는 것이다. 여기서, 스토핑나사(90)는 로테이션 바디 (66)에 설치된 아암(70)이 대략 수평하도록 조절함이 바람직하다. 이는 아암(70)과 나란하게 설치되는 래핑헤드(72)의 연마구(76)를 수평하게 유지시킴으로써 상기 판넬(P)에 대한 연마구(76)의 접촉각을 수평하게 유지시키기 위함이다. On the other hand, the position fixing means, by rotating the stopping screw 90 to adjust the height of the projection from the rotation body 66 it was also possible to adjust the fixed position of the arm (70). That is, the stopper screw 90 is screwed to the rotation body 66, the rotation of the stopper screw 90, the height of the protrusion of the stopping screw 90 protruding from the rotation body 66 is As the protrusion height of the stopper screw 90 changes, the rotation limit position of the rotation body 66 also changes. As a result, the lower limit position of the arm 70 is also changed so that the fixed position of the arm 70 is adjusted. Here, the stop screw 90 is preferably adjusted so that the arm 70 installed on the rotation body 66 is approximately horizontal. This is to keep the contact angle of the polishing tool 76 with respect to the panel P horizontal by keeping the polishing tool 76 of the wrapping head 72 installed in parallel with the arm 70.

다음으로, 이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 작동을 도 1을 참고로하여 살펴본다. 먼저, 인덱싱머신(1)의 테이블유닛(3)에 판넬(P)을 척킹시킨다. 그런 다음, 판넬(P)의 페이스 높이에 맞춰 위치고정수단인 스토핑나사(90)를 이용하여 판넬(P)에 대한 연마구(76)의 접촉각을 조절한다. 이때, 판넬(P)에 대한 연마구(76)의 접촉각은 수평을 유지하는 것이 좋다. 그리고 제 1승강수단(30)을 이용하여 승강테이블(20)의 기준위치, 즉 연마구(76)의 하사점을 조절한다. 여기서, 승강테이블(20)의 기준위치 조절이 완료되면, 상기 승강테이블(20)은 제 2승강수단(40)을 이용하여 기준위치로부터 상부로 상승시켜 놓는다. Next, the operation of the present invention having such a configuration will be described with reference to FIG. 1. First, the panel P is chucked to the table unit 3 of the indexing machine 1. Then, the contact angle of the polishing tool 76 with respect to the panel P is adjusted using the stopper screw 90 which is a position fixing means according to the face height of the panel P. FIG. At this time, the contact angle of the polishing tool 76 with respect to the panel P is preferably kept horizontal. Then, by using the first lifting means 30, the reference position of the lifting table 20, that is, the bottom dead center of the polishing tool 76 is adjusted. Here, when the reference position adjustment of the elevating table 20 is completed, the elevating table 20 is raised upward from the reference position by using the second elevating means 40.

이와 같은 상태에서 인덱싱머신(1)의 테이블드라이브(5)를 작동시켜 테이블유닛(3)에 척킹된 판넬(P)을 회전시키고, 구동모터(78)를 작동시켜 연마구(76)를 회전시키며, 이어서 제 2승강수단(40)을 이용하여 승강테이블(20)을 하강시킨다. 한편, 승강테이블(20)이 점차적으로 하강함에 따라 아암(70)에 설치된 연마구(76)도 점차 하강하기 시작하면서 판넬(P)에 근접하기 시작한다. 이때, 연마구(76)는 상기 아암(70)이 위치고정수단에 의해 그 위치가 고정되어 있기 때문에 일정한 각도를 유지하면서 하강하게 된다. 그리고 하부로 더 하강하는 연마구(76)는 판넬(P)과 접촉하면서 판넬(P)의 페이스를 연마한다. 한편, 이와 같은 상태에서 연마구 (76)는, 아암(70)의 위치를 고정시키는 위치고정수단과 아암(70)을 수직하게 하강시키는 제 2승강수단(40)에 의해 일정한 각도를 유지하면서 수직으로 하강하여 판 넬(P)의 페이스를 균일하게 연마한다. In such a state, the table drive 5 of the indexing machine 1 is operated to rotate the panel P chucked to the table unit 3, and the driving motor 78 is operated to rotate the polishing tool 76. Then, the lifting table 20 is lowered by using the second lifting means 40. On the other hand, as the elevating table 20 gradually descends, the polishing tool 76 provided on the arm 70 also begins to descend gradually and approaches the panel P. As shown in FIG. At this time, the polishing tool 76 is lowered while maintaining the constant angle because the position of the arm 70 is fixed by the position fixing means. And the polishing tool 76 further descends to lower the face of the panel (P) while contacting the panel (P). On the other hand, in this state, the polishing tool 76 is vertical while maintaining a constant angle by the position fixing means for fixing the position of the arm 70 and the second lifting means 40 for lowering the arm 70 vertically. Descend to and polish the face of panel P evenly.

한편, 판넬(P)의 연마가 완료되면, 제 2승강수단(40)을 이용하여 승강테이블 (20)을 상승시킨다. 그러면, 아암(70)에 설치된 연마구(76)도 판넬(P)과 이격되면서 상승하게 된다. 그리고 연마구(76)가 판넬(P)로부터 충분히 이격되면, 그 작동을 멈추고 인덱싱머신(1)의 인덱싱드라이브(7)를 작동시켜 대기위치의 판넬(P)은 연마위치로, 연마위치의 판넬(P)은 대기위치로 각각 배치시킨다. 그런 다음, 다시 상술한 바와 마찬가지로 제 2승강수단(40)을 이용하여 승강테이블(20)을 하강시킨다. 그러면, 연마구(76)도 점차 하강하기 시작하면서 판넬(P)을 연마하기 시작한다. 이때, 연마구(76)는 위치고정수단과 제 2승강수단(40)에 의해 상술한 바와 같은 동일한 각도를 유지하면서 수직으로 하강하여 판넬(P)의 페이스를 연마 처리하는 것이다. On the other hand, when the polishing of the panel P is completed, the lifting table 20 is raised by using the second lifting means 40. Then, the grinding | polishing tool 76 provided in the arm 70 also raises, being spaced apart from the panel P. FIG. When the polishing tool 76 is sufficiently separated from the panel P, the operation stops and the indexing drive 7 of the indexing machine 1 is operated so that the panel P in the standby position is in the polishing position and the panel in the polishing position. (P) is arranged in the standby position. Then, as described above, the lifting table 20 is lowered by using the second lifting means 40. Then, the grinding | polishing tool 76 also starts to descend gradually, and starts to polish panel P. FIG. At this time, the polishing tool 76 is to be vertically lowered while maintaining the same angle as described above by the position fixing means and the second lifting means 40 to polish the face of the panel (P).

이상에서와 같은 본 발명은 위치고정수단을 이용하여 판넬(P)에 대한 연마구 (76)의 접촉각을 항상 일정하게 유지시키고, 아울러 제 2승강수단(40)을 이용하여 연마구(76)를 승강시킴으로써 판넬(P)에 대한 연마구(76)의 접촉을 매번 동일하게 할 수 있는 장점을 갖는다. 특히, 위치고정수단을 이용하여 판넬(P)에 대한 연마구 (76)의 접촉각을 수평하게 유지시키고, 제 2승강수단(40)을 이용하여 수평한 상태의 연마구(76)를 수직으로 승강시켜 판넬(P)에 접촉시킴으로써 연마구(76)와 판넬 (P)의 접촉을 균일하게 할 수 있는 장점을 갖는다. 이러한 장점들은 연마구(76)의 편마모를 방지하여 판넬(P)에 미연마부분 또는 과연마부분이 발생되는 것을 예방하는 효과를 갖는다. As described above, the present invention maintains a constant contact angle of the polishing tool 76 with respect to the panel P by using the position fixing means at all times, and uses the second lifting means 40 to maintain the polishing tool 76. Lifting and lowering has the advantage that the contact of the polishing tool 76 to the panel P can be made the same every time. In particular, the contact angle of the polishing tool 76 with respect to the panel P is kept horizontal by using the position fixing means, and the polishing tool 76 in the horizontal state is vertically elevated by using the second lifting means 40. By making it contact with the panel P, it has the advantage that the contact of the grinding | polishing tool 76 and the panel P can be made uniform. These advantages have the effect of preventing the unpolishing portion or over-polishing portion in the panel (P) by preventing uneven wear of the polishing tool (76).

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 기재된 범주내에서 적절하게 변경 가능한 것이다. Although the preferred embodiments of the present invention have been described above by way of example, the scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, and may be appropriately changed within the scope of the claims.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 음극선관용 판넬 래핑머신에 위치고정수단을 이용하여 판넬에 대한 연마구의 접촉각을 항상 일정하게 유지시키고, 제 2승강수단을 이용하여 연마구를 수직으로 승강시킴으로써 판넬에 대한 연마구의 접촉을 매번 동일하게 할 수 있는 장점을 갖는다. 특히, 위치고정수단을 이용하여 판넬에 대한 연마구의 접촉각을 수평하게 유지시키고, 수평한 상태의 연마구를 제 2승강수단을 이용하여 수직으로 승강시켜 판넬에 접촉시킴으로써 연마구와 판넬의 접촉을 균일하게 할 수 있는 장점을 갖는다. 더욱이 이러한 장점들은 연마구의 편마모를 방지하여 판넬에 미연마부분 또는 과연마부분이 발생되는 것을 예방하는 효과를 갖는다. As described above, the contact angle of the polishing tool with respect to the panel is always maintained by using the position fixing means in the panel wrapping machine for the cathode ray tube according to the present invention, and the polishing tool is vertically elevated by using the second elevating means. This has the advantage that the contact of the polishing tool can be made the same each time. In particular, by using the position fixing means to maintain the contact angle of the polishing tool to the panel horizontally, by lifting the horizontal state of the polishing tool vertically using the second lifting means to contact the panel to make contact between the polishing tool and the panel evenly. It has the advantage to do it. Furthermore, these advantages have the effect of preventing uneven wear or over-polishing in the panel by preventing uneven wear of the polishing tool.

Claims

판넬을 연마위치로 배치시키고, 연마위치의 판넬을 회전시키는 인덱싱머신과 함께 판넬 음극선관용 연마시스템을 구성하는 판넬 래핑머신에 있어서, In a panel wrapping machine that comprises a panel for positioning a cathode ray tube polishing system with an indexing machine for placing the panel in the polishing position and rotating the panel at the polishing position,

베이스와;A base;

상기 베이스에 간격을 두고 수직하게 설치되는 한쌍의 가이드 포스트와;A pair of guide posts vertically installed at intervals on the base;

상기 한쌍의 가이드 포스트를 따라 상하 왕복운동가능하게 설치되는 승강테이블과;An elevating table installed up and down reciprocating along the pair of guide posts;

상기 인덱싱머신에 대해 전후운동가능하도록 상기 승강테이블에 설치되는 모션베이스와;A motion base installed on the lifting table so as to be movable back and forth with respect to the indexing machine;

상기 모션베이스에 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 회전테이블과; A rotating table rotatably installed around the vertical axis on the motion base;

상기 회전테이블에 수평축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 로테이션 바디와;A rotation body rotatably installed on the rotary table about a horizontal axis;

상기 로테이션 바디에 외팔보 형태로 고정 설치되며, 상기 로테이션 바디와 함께 수평축선을 중심으로 원운동하는 아암과;An arm fixed to the rotation body in the form of a cantilever and circularly moving around a horizontal axis along with the rotation body;

상기 아암에 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치되는 스핀들과;A spindle rotatably mounted to the arm about a vertical axis;

상기 스핀들을 회전시킬 수 있도록 상기 스핀들과 작동적으로 연결되는 구동모터와;A drive motor operatively connected to the spindle to rotate the spindle;

상기 스핀들과 함께 회전가능하도록 상기 스핀들에 고정되며, 원운동하는 상기 아암에 의해 상기 인덱싱머신의 판넬에 접촉하는 원판형 연마구와;A disk-shaped abrasive tool fixed to the spindle to be rotatable with the spindle and contacting the panel of the indexing machine by the circularly moving arm;

판넬에 대한 상기 연마구의 접촉각이 일정하게 유지될 수 있도록 상기 아암을 고정시키는 위치고정수단과;Position fixing means for fixing the arm to maintain a constant contact angle of the polishing tool with respect to the panel;

상기 가이드 포스트를 따라 상하 왕복운동하는 승강테이블의 하사점 높이를 조절할 수 있도록 상기 승강테이블을 승강시키는 제 1승강수단과;First elevating means for elevating the elevating table so as to adjust the bottom dead center of the elevating table for up and down reciprocating movement along the guide post;

상기 연마구를 수직으로 승강시킬 수 있도록 상기 승강테이블을 하사점으로부터 수직하게 승강시키는 제 2승강수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관용 판넬 래핑머신.And a second elevating means for elevating the elevating table vertically from a bottom dead center so as to elevate the polishing tool vertically.

제 1항에 있어서, 상기 위치고정수단은 상기 로테이션 바디에 나사결합되는 스토핑나사이며, 상기 스토핑나사는 상기 로테이션 바디와 함께 회전하면서 상기 회전테이블의 일측과 접촉하여 상기 로테이션 바디의 회전을 제한하는 것을 특징으로 하는 음극선관용 판넬 래핑머신.According to claim 1, The position fixing means is a stop screw is screwed to the rotation body, the stop screw is in contact with one side of the rotary table while rotating with the rotation body to limit the rotation of the rotation body Panel wrapping machine for cathode ray tube, characterized in that.

제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 제 1승강수단은 상기 가이드 포스트의 사이에 입설되는 잭스크류와, 이 잭스크류를 정역회전시키는 구동모터와, 정역회전되는 잭스크류를 따라 상하로 승강할 수 있도록 상기 잭스크류에 나사결합되는 승강플레이트이며, According to claim 1 or claim 2, wherein the first lifting means is moved up and down along the jackscrew between the guide post, the drive motor for forward and reverse rotation of the jackscrew, and the jackscrew for forward and reverse rotation. Lifting plate is screwed to the jack screw so that,

상기 제 2승강수단은 상기 제 1승강수단의 승강플레이트와 상기 승강테이블의 밑면에 그 양단이 지지되는 유압실린더인 것을 특징으로 하는 음극선관용 판넬 래핑머신.And said second elevating means is a hydraulic cylinder having both ends supported on an elevating plate of said first elevating means and an underside of said elevating table.

제 1항에 있어서, 상기 승강테이블의 왕복운동을 보조적으로 지지하기 위한 보조 가이드수단을 더 포함하며, 상기 보조 가이드수단은 상기 베이스에 수직하게 설치되는 가이드 플레이트와, 상기 가이드 플레이트에 나란하게 설치되는 한쌍의 가이드레일과, 상기 가이드레일을 따라 이동가능하며 승강테이블에 고정되는 슬라이더인 것을 특징으로 하는 음극선관용 판넬 래핑머신.According to claim 1, further comprising auxiliary guide means for supporting the reciprocating motion of the lifting table, the auxiliary guide means is installed in parallel with the guide plate and the guide plate which is installed perpendicular to the base; And a pair of guide rails and a slider movable along the guide rails and fixed to a lifting table.