KR100806810B1 - A Mask Aligner - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라스틱 기판을 패터닝시키기 위한 노광기에 관한 것으로서, 본 발명의 노광기는 자외선 광을 출사하여 플라스틱 기판 상에 도포된 포토 레지스트를 감광시키기 위한 광원과, 상기 광원에서 출사된 자외선 광을 일방향으로 조사시키기 위한 슬릿과, 상기 슬릿을 통과한 광으로 상기 포토 레지스트를 실루엣 패턴하기 위한 마스크와, 상기 마스크를 통과한 광의 경로를 변경하고 상기 플라스틱 기판 상에 초점을 맞추기 위한 광학계와, 상기 플라스틱 기판을 지지하고 상기 마스크의 이동에 따라 상기 플라스틱 기판을 평탄하게 이동시키기 위한 롤러로 구성되기 때문에 플라스틱 액정표시소자의 노광공정을 용이하게 할 수 있다.The present invention relates to an exposure machine for patterning a plastic substrate, wherein the exposure machine of the present invention emits ultraviolet light to irradiate a photoresist applied on the plastic substrate, and the ultraviolet light emitted from the light source in one direction. A slit to support the mask, a mask for silhouette patterning the photoresist with the light passing through the slit, an optical system for changing a path of the light passing through the mask and focusing on the plastic substrate, and supporting the plastic substrate And a roller for smoothly moving the plastic substrate according to the movement of the mask, thereby facilitating an exposure process of the plastic liquid crystal display device.

플라스틱 액정표시소자, 노광기Plastic LCD, Exposure Machine

Description

노광기{A Mask Aligner}Exposure machine {A Mask Aligner}

도 1은 종래 기술에 따른 노광기의 개략적인 단면도.1 is a schematic cross-sectional view of an exposure machine according to the prior art.

도 2는 플라스틱 기판 적용시의 문제점을 도시한 단면도.Figure 2 is a cross-sectional view showing a problem when applying a plastic substrate.

도 3은 본 발명에 따른 노광기의 개략적인 단면도.3 is a schematic cross-sectional view of an exposure machine according to the present invention.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings

400 : 광원 410 : 슬릿400: light source 410: slit

420 : 마스크 430 : 플라스틱 기판420: mask 430: plastic substrate

440 : 롤러 441,442 : 보조 롤러440: roller 441,442: auxiliary roller

450 : 광학계 451,452,453 : 반사경450: optical system 451,452,453: reflector

454 : 오목렌즈 454: concave lens

본 발명은 노광기에 관한 것으로서, 탄력성이 있는 플라스틱 기판을 패터닝시키기 위한 노광기에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure machine, and more particularly, to an exposure machine for patterning elastic plastic substrates.

근래에 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 디스플레이 장치가 연구되고 있으나, 그 중에서도 액정표시소자(LCD)는 여러 가지 단점에도 불구하고 화질이 우수하고 소비전력이 작아 가장 실용화되고 있다.Recently, various flat panel display devices such as liquid crystal display device (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescent display (ELD), and vacuum fluorescent display (VFD) have been studied, but among them, liquid crystal display (LCD) Despite the disadvantages, the picture quality is excellent and the power consumption is small, making it the most practical.

상기 액정표시소자는 소정간격을 두고 서로 대향되어 있는 하부기판과 상부기판, 및 상기 양 기판사이에 형성된 액정층으로 구성되어 있는데, 상기 상부기판에는 블랙 매트릭스(Black Matrix)층 및 칼라 필터(Color Filter)층이 형성되어 있고, 상기 하부기판에는 일정한 간격으로 종횡으로 배열되어 화소영역을 정의하는 복수의 게이트 라인(Gate Line) 및 데이터 라인(Data Line), 및 상기 화소영역에 형성되어 있는 화소 전극과 박막트랜지스터(Thin Flim Transistor)가 형성되어 있다.The liquid crystal display device includes a lower substrate and an upper substrate facing each other at a predetermined interval, and a liquid crystal layer formed between the two substrates. The upper substrate includes a black matrix layer and a color filter. A plurality of gate lines and data lines arranged vertically and horizontally at regular intervals on the lower substrate, and defining pixel regions, and pixel electrodes formed on the pixel regions; A thin film transistor (Thin Flim Transistor) is formed.

이와 같은 상기 액정표시소자의 기판은 일반적으로 제조의 편의성과 생산설비의 저변화 때문에 유리가 이용되나, 제조에 따른 어려움에도 불구하고 경량화와 내구성 및 저비용을 위해 플라스틱의 이용이 요구된다.Such a substrate of the liquid crystal display device is generally used glass because of the ease of manufacturing and low changes in production equipment, but despite the difficulties of manufacturing, the use of plastic for light weight, durability and low cost is required.

한편, 이러한 액정표시소자 제조공정은 기판 제조공정, 셀(Cell) 제조공정 및 모듈(Module) 공정의 세 가지 공정으로 나눌 수 있다.Meanwhile, the liquid crystal display device manufacturing process may be divided into three processes, a substrate manufacturing process, a cell manufacturing process, and a module process.

먼저, 기판 제조공정은 세정된 유리 기판을 사용하여 각각 박막트랜지스터 제조공정과 칼라필터 제조 공정으로 나눈다. 여기서, 상기 박막트랜지스터 제조공정은 제 1 기판 상에 복수의 박막트랜지스터와 화소전극을 제조하는 공정을 말하는 것이며, 칼라필터 제조공정은 차광막이 형성된 제 2 기판 상에 염료나 안료를 사용하여 적색(Red). 녹색(Green). 청색(Blue) 색상의 칼라필터층을 형성한 후 공통전극을 형성하는 공정을 일컫는다.First, the substrate manufacturing process is divided into a thin film transistor manufacturing process and a color filter manufacturing process using the cleaned glass substrate, respectively. The thin film transistor manufacturing process refers to a process of manufacturing a plurality of thin film transistors and pixel electrodes on the first substrate, and the color filter manufacturing process uses red or red on the second substrate on which the light shielding film is formed. ). Green. Refers to a process of forming a common electrode after forming a color filter layer of blue color.

또한, 셀 공정은 박막트랜지스터 공정이 완료된 상기 제 1 기판과 칼라필터 공정이 완료된 상기 제 2 기판의 두 기판 사이에 일정한 간격이 유지되도록 스페이서(Spacer)를 산포하여 합착하고 액정을 주입하여 셀을 제조하는 공정이며, 마지막으로 모듈 공정은 신호처리를 위한 회로부를 형성하고 박막트랜지스터 액정표시소자 패널과 신호처리 회로부를 연결시켜 모듈을 제조하는 공정이다.In addition, in the cell process, a cell is manufactured by dispersing a spacer and injecting a liquid crystal so that a constant distance is maintained between two substrates of the first substrate on which the thin film transistor process is completed and the second substrate on which the color filter process is completed. Finally, the module process is a process of manufacturing a module by forming a circuit portion for signal processing and connecting the thin film transistor liquid crystal display device panel and the signal processing circuit portion.

여기서, 상기 기판 제조공정은 실리콘(Silicon) 반도체 제조공정과 유사하여 기판 상에 증착된 박막을 패터닝(Patterning)하기 위해 포토 레지스트(Photo Resist)도포, 노광(Exposing), 식각(Etching), 세정(Cleaning)과 같은 사진석판인쇄법(Photolithography)에 따른 일련의 공정으로 이루어지는 데, 대면적 고화소의 액정표시소자를 제조하기 위해 상기 노광 공정은 더욱 섬세하고 정교한 작업을 요한다.Here, the substrate manufacturing process is similar to the silicon semiconductor manufacturing process, so that photoresist coating, exposing, etching, and cleaning (patterning) of the thin film deposited on the substrate is performed. It consists of a series of processes according to Photolithography, such as cleaning, the exposure process requires more delicate and sophisticated work in order to produce a large area liquid crystal display device.

이하, 종래 기술에 따른 노광기에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, an exposure apparatus according to the prior art will be described with reference to the drawings.

도 1은 종래 기술에 따른 노광기의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an exposure machine according to the prior art.

도 1에서 도시한 바와 같이, 종래 기술의 노광기는 유리 기판 상에 도포된 포토 레지스트를 감광시키기 위해 자외선 광을 출사하는 광원(100)과, 상기 광원(100)에서 출사된 자외선 광을 일방향으로 선택 통과시키는 슬릿(110)과, 상기 슬릿(110)에서 출사된 광을 이용하여 실루엣(Silhouette) 패턴하기 위한 마스크(120)와, 상기 마스크(120)를 통과한 광의 경로를 변경하고 초점을 맞추기 위한 광학계(150)와, 유리기판(130)을 지지하고 고정하기 위한 스테이지(140)를 포함하여 구성된다. As shown in FIG. 1, the exposure apparatus according to the related art selects, in one direction, a light source 100 that emits ultraviolet light to emit a photoresist applied on a glass substrate, and an ultraviolet light emitted from the light source 100 in one direction. A slit 110 to pass through, a mask 120 for silhouette patterning using the light emitted from the slit 110, and for changing and focusing the path of the light passing through the mask 120 It comprises an optical system 150, and a stage 140 for supporting and fixing the glass substrate 130.

이때, 상기 마스크(120)는 일방향으로 평면 이동하고, 상기 스테이지(140) 또한 상기 마스크(120)와 같은 방향으로 평면 이동함으로써 상기 유리 기판(130)의 단면 전체를 노광시킬 수 있다. In this case, the mask 120 may be planarly moved in one direction, and the stage 140 may also be planarly moved in the same direction as the mask 120 to expose the entire cross section of the glass substrate 130.

따라서, 종래 기술의 노광기는 상기 광원(100)으로부터 자외선 광을 출사하고 상기 광원(100)을 기준으로 상기 마스크(120)와 상기 스테이지(140)가 동시에 일방향으로 평면 이동함으로써 상기 마스크(120)의 형성된 패턴을 상기 유리 기판 (130)전체를 모두 노광시킬 수 있다.Therefore, the exposure apparatus of the prior art emits ultraviolet light from the light source 100 and the mask 120 and the stage 140 are simultaneously moved in one direction with respect to the light source 100. The formed pattern may expose all of the glass substrate 130.

이와 같이 구성된 종래 기술에 따른 노광기의 동작은 다음과 같다.The operation of the exposure apparatus according to the prior art configured as described above is as follows.

먼저, PR이 도포된 유리 기판(130)을 상기 스테이지(140) 상에 로딩시킨 후 고정시키고, 상기 광원(100)으로부터 자외선 광을 상기 슬릿(110)을 통하여 조사하고, 상기 슬릿(110)을 통하여 조사된 자외선 광은 복수개의 반사경으로 이루어진 상기 광학계(150)에 의해 경로가 바뀌어 상기 스테이지(140) 상의 상기 유리 기판(130)의 세로 면에 수직으로 초점이 맺힌다. First, the glass substrate 130 coated with PR is loaded on the stage 140 and then fixed, irradiated with ultraviolet light from the light source 100 through the slit 110, and the slit 110 The ultraviolet light irradiated through the optical path 150 is changed by the optical system 150 including a plurality of reflecting mirrors to focus vertically on the vertical surface of the glass substrate 130 on the stage 140.

다음, 상기 자외선 광이 상기 유리 기판(130)의 세로 면에 수직으로 조사되고, 상기 마스크(120)와 상기 스테이지(140)가 동시에 동일방향으로 이동 속도가 같도록 이동시켜 마스크(120)에 형성된 패턴이 상기 유리 기판(130)에 1:1로 동일하게 스캐닝 되도록 한다.Next, the ultraviolet light is irradiated perpendicularly to the longitudinal surface of the glass substrate 130, and the mask 120 and the stage 140 are simultaneously moved in the same direction in the same direction so as to be formed on the mask 120. The pattern is scanned equally on the glass substrate 130 in a 1: 1 ratio.

여기서, 상기 유리 기판(130)은 상기 스테이지(140) 상에 평탄하게 놓일 수 있기 때문에 모터와 같은 구동수단에 의해 이동되는 상기 스테이지(140)에 고정되어 상기 마스크(120)와 같이 이동된다. Here, since the glass substrate 130 may be laid flat on the stage 140, the glass substrate 130 is fixed to the stage 140, which is moved by a driving means such as a motor, and moves together with the mask 120.

따라서, 종래 기술의 노광기는 광원으로부터 자외선을 고정적으로 조사하고, 상기 마스크(120)와 상기 스테이지(140)가 동시에 일방향으로 평행 이동시킴으로써 상기 마스크의 형성된 패턴을 상기 유리 기판(130) 전체를 모두 노광시킬 수 있다.Accordingly, the exposure apparatus of the prior art fixedly irradiates ultraviolet rays from a light source, and simultaneously exposes the entire glass substrate 130 to the formed pattern of the mask by simultaneously moving the mask 120 and the stage 140 in parallel in one direction. You can.

하지만, 이와 같은 종래 기술의 노광기는 상기 플라스틱 기판을 이용하여 액정표시소자를 제조할 경우 다음과 같은 문제점이 있다.However, such an exposure apparatus of the prior art has the following problems when manufacturing a liquid crystal display device using the plastic substrate.

도 2는 플라스틱 기판을 이용한 종래 기술의 노광기의 문제점을 도시한 단면도로서, 박형의 플라스틱 기판(160)을 노광기의 스테이지(140)에 위치하여 노광을 시키고자할 경우 제조공정 상의 외력이나 열에 의해 상기 플라스틱 기판(160)이 변형되어 상기 스테이지(140) 상에 평탄하게 놓이지 못할 수 있다.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a problem of a conventional exposure machine using a plastic substrate, wherein the thin plastic substrate 160 is positioned on the stage 140 of the exposure machine to be exposed by the external force or heat in the manufacturing process. The plastic substrate 160 may be deformed and may not be flat on the stage 140.

따라서, 종래 기술의 노광기는 상기 플라스틱 기판(160)이 상기 스테이지(140) 상에 평탄하게 놓이지 못함으로써 상기 마스크(도 1의 120)와 상기 플라스틱 기판(160)을 동시에 이동시키면서 노광할 수 없기 때문에 노광공정의 불량을 발생시킬 수 있다.Therefore, the exposure apparatus of the prior art cannot expose the plastic substrate 160 while moving the mask (120 of FIG. 1) and the plastic substrate 160 simultaneously because the plastic substrate 160 does not lie flat on the stage 140. Defects in the exposure process may occur.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 상기 플라스틱 기판을 평탄하게 이동시킬 수 있는 롤러를 구비하고 상기 롤러에 의해 이동되는 상기 플라스틱 기판 상에 초점이 맺히도록 할 수 있는 광학계를 구비한 노광기를 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention has been made to solve the above problems, and includes an optical system having a roller that can move the plastic substrate flat and to focus on the plastic substrate moved by the roller. It is an object to provide an exposure machine.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 노광기는, 자외선 광을 출사하여 플라스틱 기판 상에 도포된 포토 레지스트를 감광시키기 위한 광원과, 상기 광원에서 출사된 자외선 광을 일방향으로 조사시키기 위한 슬릿과, 상기 슬릿을 통과한 광으로 상기 포토 레지스트를 실루엣 패턴하기 위한 마스크와, 상기 마스크를 통과한 광의 경로를 변경하고 상기 플라스틱 기판 상에 초점을 맞추기 위한 광학계와, 상기 플라스틱 기판을 지지하고 상기 마스크의 이동에 따라 상기 플라스틱 기판을 평탄하게 이동시키기 위한 롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다.The exposure apparatus of the present invention for achieving the above object, a light source for emitting the ultraviolet light to photosensitive photoresist applied on the plastic substrate, a slit for irradiating the ultraviolet light emitted from the light source in one direction, A mask for silhouette patterning the photoresist with the light passing through the slit, an optical system for changing the path of the light passing through the mask and focusing on the plastic substrate, and supporting the plastic substrate and moving the mask In accordance with, characterized in that it comprises a roller for flatly moving the plastic substrate.

본 발명의 노광기는 상기 플라스틱 기판을 평탄하게 이동시킬 수 있는 롤러와, 상기 롤러에 의해 이동되는 상기 플라스틱 기판 상에 초점이 맺히도록 할 수 있는 광학계를 구비하기 때문에 플라스틱 액정표시소자 제조를 용이하게 할 수 있다. The exposure apparatus of the present invention has a roller that can move the plastic substrate flatly and an optical system that can focus on the plastic substrate moved by the roller. Can be.

이하, 본 발명에 따른 노광기의 바람직한 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a preferred embodiment of an exposure apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 노광기의 개략적인 단면도이다.3 is a schematic cross-sectional view of an exposure machine according to the present invention.

도 3에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 노광기는 자외선 광을 출사하여 플라스틱 기판(430) 상에 도포된 포토 레지스트(도시하지 않음)를 감광시키기 위한 광원(400)과, 상기 광원(400)에서 출사된 상기 자외선 광을 일방향으로 조사시키기 위한 슬릿(410)과, 상기 슬릿(410)을 통하여 조사된 상기 자외선 광으로 상기 포토 레지스트를 실루엣 패턴하기 위한 마스크(420)와, 상기 마스크(420)를 통과한 광의 경로를 변경하고 상기 플라스틱 기판(430) 상에 초점을 맞추기 위한 광학계(450)와, 상기 플라스틱 기판(430)을 지지하고 상기 마스크(420)의 이동에 따라 상기 플라스틱 기판(430)을 이동시키기 위한 롤러(440)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 3, the exposure apparatus of the present invention emits ultraviolet light to expose a photoresist (not shown) coated on the plastic substrate 430, and a light source 400. A slit 410 for irradiating the emitted ultraviolet light in one direction, a mask 420 for silhouette patterning the photoresist with the ultraviolet light irradiated through the slit 410, and the mask 420 Optical system 450 for changing the path of the light passing through and focusing on the plastic substrate 430, and supporting the plastic substrate 430 and moving the plastic substrate 430 according to the movement of the mask 420. And a roller 440 for moving.

또한, 본 발명의 노광기는 평탄면(도시하지 않음) 상에 상기 플라스틱 기판을 평탄하도록 하기 위한 복수의 보조 롤러(441,442)를 더 포함하여 구성된다.The exposure apparatus of the present invention further comprises a plurality of auxiliary rollers 441 and 442 for flattening the plastic substrate on a flat surface (not shown).

여기서, 상기 광학계(450)는 상기 광원(400), 슬릿(410) 및 마스크(420)를 통하여 조사된 자외선 광의 경로를 변경하기 위한 복수개의 반사경(451,452,453)과 상기 롤러(440)의 곡면에 따른 상기 플라스틱 기판(430) 상에 초점을 맞추기 위한 오목렌즈(454)로 이루어져 있다.In this case, the optical system 450 may include a plurality of reflectors 451, 452, 453 and a curved surface of the roller 440 for changing a path of ultraviolet light emitted through the light source 400, the slit 410, and the mask 420. Concave lens 454 for focusing on the plastic substrate 430.

즉, 상기 광원(400)으로부터 조사된 자외선 광은 상기 슬릿(410), 마스크(420) 및 광학계(450)를 통하여 상기 롤러(440)의 최상단에 위치한 플라스틱 기판(430)의 세로 면상에 도포된 포토 레지스트를 노광시킬 수 있다.That is, the ultraviolet light emitted from the light source 400 is applied on the vertical surface of the plastic substrate 430 located at the top of the roller 440 through the slit 410, the mask 420, and the optical system 450. The photoresist can be exposed.

따라서, 본 발명의 노광기는 상기 롤러(440) 및 보조 롤러(441,442)를 이용하여 탄력성이 있는 플라스틱 기판(430)을 평탄하게 할 수 있고, 상기 마스크(420)의 평면 이동과 동시에 상기 롤러(440,441,442)들에 의한 플라스틱 기판(430)을 이동시킬 수 있다. 또한, 상기 마스크(420)의 스캐닝 속도와 상기 롤러(440)의 회전 속도가 일치함을 알 수 있다.Therefore, the exposure machine of the present invention can flatten the elastic plastic substrate 430 by using the rollers 440 and the auxiliary rollers 441 and 442, and the rollers 440, 441 and 442 simultaneously with the plane movement of the mask 420. It is possible to move the plastic substrate 430 by the (). In addition, it can be seen that the scanning speed of the mask 420 and the rotational speed of the roller 440 coincide.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 노광기의 동작을 순차적으로 설명하면 다음과 같다. The operation of the exposure apparatus according to the present invention configured as described above will be described as follows.

먼저, 포토 레지스트가 도포된 플라스틱 기판(430)을 상기 롤러(440) 상에 로딩시키고, 상기 광원(400)으로부터 자외선 광을 상기 슬릿(410)을 통하여 조사시키고, 상기 슬릿(410)을 통하여 출사된 자외선 광은 상기 광학계(450)에 의해 상기 롤러(440) 상의 상기 플라스틱 기판(430)의 세로 면에 초점이 맺히도록 한다. First, a plastic substrate 430 coated with a photoresist is loaded on the roller 440, ultraviolet light is radiated from the light source 400 through the slit 410, and emitted through the slit 410. The ultraviolet light is focused on the vertical surface of the plastic substrate 430 on the roller 440 by the optical system 450.

또한, 상기 자외선 광이 상기 플라스틱 기판(430)의 세로 면에 수직으로 조사되고, 상기 마스크(420)를 화살표 방향으로 평행 이동시킴과 동시에 상기 롤러(440)를 화살표방향으로 회전시킴으로써 상기 마스크(420)에 형성된 패턴이 상기 유리 기판(430)에 동일하게 스캐닝 되도록 한다.In addition, the ultraviolet light is irradiated perpendicularly to the longitudinal surface of the plastic substrate 430, and the mask 420 by rotating the mask 420 in the direction of the arrow and at the same time by rotating the roller 440 in the direction of the arrow. The pattern formed on) is scanned on the glass substrate 430 in the same manner.

결국, 본 발명의 노광기는 롤러(440)를 이용하여 탄력성 있는 플라스틱 기판(430)을 평탄하게 하고, 동시에 마스크(420)의 이동에 따라 상기 롤러(440)를 회전시켜 상기 플라스틱 기판(430)을 이동됨으로써 상기 플라스틱 기판(430)면의 전체를 노광할 수 있다.As a result, the exposure apparatus of the present invention flattens the elastic plastic substrate 430 using the roller 440, and at the same time rotates the roller 440 according to the movement of the mask 420 to rotate the plastic substrate 430. By moving, the entire surface of the plastic substrate 430 may be exposed.

상술한 바와 같이, 본 발명의 노광기는 탄력성이 있는 상기 플라스틱 기판(430)을 평탄하게 이동시키기 위해 복수의 롤러(440,441,442)를 이용하여 플라스틱 액정표시소자의 제조를 용이하게 할 수 있다. As described above, the exposure apparatus of the present invention can facilitate the manufacture of the plastic liquid crystal display device by using the plurality of rollers 440, 441, 442 to smoothly move the elastic plastic substrate 430.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 노광기는 다음과 같은 효과가 있다.The exposure machine according to the present invention as described above has the following effects.

본 발명의 노광기는 롤러를 이용하여 탄력성 있는 플라스틱 기판을 평탄하게 이동시킬 수 있기 때문에 플라스틱 액정표시소자의 수율을 높일 수 있다.The exposure apparatus of the present invention can increase the yield of the plastic liquid crystal display device because it can smoothly move the elastic plastic substrate using a roller.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 이탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

따라서, 본 발명의 기술 범위는 실시예에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의하여 정해져야 한다.Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the examples, but should be defined by the claims.

Claims (4)

자외선 광을 출사하여 플라스틱 기판 상에 도포된 포토 레지스트를 감광시키기 위한 광원과,A light source for emitting ultraviolet light to photosensitive photoresist applied on the plastic substrate; 상기 광원에서 출사된 자외선 광을 일방향으로 조사시키기 위한 슬릿과,A slit for irradiating ultraviolet light emitted from the light source in one direction; 상기 슬릿을 통과한 광으로 상기 포토 레지스트를 실루엣 패턴하기 위한 마스크와,A mask for silhouette patterning the photoresist with light passing through the slit, 상기 마스크를 통과한 광의 경로를 변경하고 상기 플라스틱 기판 상에 초점을 맞추기 위한 광학계와,An optical system for changing a path of light passing through the mask and focusing on the plastic substrate; 상기 플라스틱 기판을 지지하고 상기 마스크의 이동에 따라 상기 플라스틱 기판을 평탄하게 이동시키기 위한 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광기.And a roller for supporting the plastic substrate and for smoothly moving the plastic substrate according to the movement of the mask. 제 1 항에 있어서, 상기 광학계는 상기 광원, 슬릿 및 마스크를 통하여 조사된 자외선 광의 경로를 변경하기 위한 복수개의 반사경과 상기 롤러의 곡면에 따른 상기 플라스틱 기판 상에 초점을 맞추기 위한 오목렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광기.The optical system of claim 1, wherein the optical system comprises a plurality of reflectors for changing a path of ultraviolet light emitted through the light source, the slit, and a mask, and a concave lens for focusing on the plastic substrate along the curved surface of the roller. An exposure machine, characterized in that. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 플라스틱 기판을 평탄하게 하기 위한 복수 개의 보조 롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광기. And a plurality of auxiliary rollers for flattening the plastic substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 마스크의 스캔속도와 상기 롤러의 회전속도가 일치 하는 것을 특징으로 하는 노광기.2. An exposure apparatus according to claim 1, wherein the scanning speed of the mask and the rotational speed of the roller coincide.
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