KR100794586B1 - 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판의 건조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (7)
- 기판이 놓이며 회전 가능한 기판 지지 부재와;상기 기판 지지 부재에 놓인 기판상에 건조 가스를 분사하며, 그 내부에는 중심부로 공급되는 건조 가스가 중심부의 둘레를 돌면서 주변부로 이동하도록 유로가 형성된 가스 분사 부재와;상기 가스 분사 부재의 중심부에 건조 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 부재와;상기 가스 분사 부재의 주변부에 건조 가스를 공급하는 제 2 가스 공급 부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 유로는 나선형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 삭제
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 장치는,상기 가스 분사 부재의 중심부 및 주변부에 순차적으로 건조 가스를 공급하도록 상기 제 1 및 제 2 가스 공급 부재의 동작을 제어하는 제어부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 기판상에 건조 가스를 공급하여 기판을 건조하는 방법에 있어서,가스 분사 부재의 중심부에 공급된 건조 가스가 그 내부에 형성된 유로를 따라 중심부의 둘레를 돌면서 주변부로 이동하도록 하면서, 상기 유로에 연결된 상기 가스 분사 부재의 분사 홀들을 통해 상기 유로를 따라 이동하는 건조 가스를 기판상에 분사하여 기판을 건조하되,상기 유로를 따라 상기 가스 분사 부재의 주변부로 이동하는 건조 가스의 유압 손실을 보상하기 위해, 상기 가스 분사 부재의 중심부와 주변부에 각각 건조 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 건조 가스는 상기 가스 분사 부재의 중심부에 공급된 후 상기 가스 분사 부재의 주변부에 공급되는 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 건조 가스는 회전하는 기판상에 공급되는 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법.
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KR1020060075685A KR100794586B1 (ko) | 2006-08-10 | 2006-08-10 | 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판의 건조 방법 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103367510A (zh) * | 2012-03-30 | 2013-10-23 | 生阳新材料科技有限公司 | 冷却板 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR0141176B1 (ko) * | 1994-12-20 | 1998-08-17 | 김광호 | 웨이퍼의 엣지 처리방법 |
KR19990048219A (ko) * | 1997-12-09 | 1999-07-05 | 윤종용 | 반도체소자 제조설비의 건조장치 |
KR20050008945A (ko) * | 2003-07-14 | 2005-01-24 | 주식회사 시스넥스 | 이중 유로형식의 가스 분사장치 |
-
2006
- 2006-08-10 KR KR1020060075685A patent/KR100794586B1/ko active IP Right Grant
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