KR101371572B1 - 액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체 - Google Patents

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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 제1 처리액 및 제2 처리액을 확실하게 분리하여 회수하고, 피처리 기판 상에 워터마크나 파티클 등의 결함이 생기는 것을 확실하게 방지하는 것을 과제로 한다.
액처리 장치(1)는, 기판 유지 기구(20)와, 제1 처리액 및 제2 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구(30)와, 회전 컵(61)과, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받은 제1 처리액 및 제2 처리액을 각각 배출하는 외측 배출부(15) 및 내측 배출부(16)와, 외측 배출부(15)를 개폐하는 배출부 개폐 기구(34)를 구비하고 있다. 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)의 하단(61b)은, 기판 유지 기구(20)에 의해서 유지된 피처리 기판(W)보다 아래쪽으로 연장되어 있다. 배출부 개폐 기구(34)가 상승한 경우, 제1 처리액은 외측 배출부(15)를 향해서 배출되고, 배출부 개폐 기구(34)가 하강한 경우, 제2 처리액은 내측 배출부(16)를 향해서 배출된다.

Description

액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체{LIQUID TREATMENT APPARATUS, LIQUID TREATMENT METHOD AND STORAGE MEDIUM}
본 발명은, 반도체 웨이퍼 또는 액정 표시 장치용 유리 기판 등의 피처리 기판에 대하여 처리액을 이용하여 액처리를 하기 위한 액처리 장치와, 액처리 방법, 그리고 액처리 장치를 이용하는 액처리 방법에 사용되며 컴퓨터 상에서 동작하는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체에 관한 것이다.
예컨대, 반도체 장치 또는 액정 표시 장치 등의 제조 공정에 있어서는, 반도체 웨이퍼 또는 액정 표시 패널용 유리 기판 등의 피처리 기판에 대하여 처리액을 공급함으로써, 피처리 기판의 표면이나 그 표면에 형성된 박막에 대한 액처리를 실시하는 공정(액처리 방법)이 행해지고 있다.
예컨대 이러한 액처리 방법으로서, 피처리 기판인 웨이퍼를 회전시키면서, 웨이퍼에 대하여 암모니아 과산화수소수 혼합 수용액(제1 처리액)을 토출한 후, 그 웨이퍼를 회전시키면서 웨이퍼에 대하여 불산(제2 처리액)을 토출하여, 웨이퍼를 세정하는 액처리 방법이 알려져 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조).
이러한 처리액 중에는 고가의 것도 있으며, 또한 환경상의 이유에 의해, 처 리액을 반복하여 사용하고 있다. 이 경우, 제1 처리액과 제2 처리액을 혼합시키는 일없이 확실하게 분리하여 회수할 필요가 있다.
또한, 전술한 것과 같은 액처리 방법을 실행하기 위한 액처리 장치에 있어서는, 웨이퍼가 회전함으로써 웨이퍼로부터 털어내어진 처리액을 바깥쪽으로 유도하기 위한 컵이 웨이퍼 둘레 가장자리 바깥쪽에 설치되어 있다. 그러나, 이러한 컵을 설치한 경우, 컵에서 튀어오른 처리액이 미스트로서 비산되어, 이것이 웨이퍼 상에 도달함으로써 워터마크나 파티클 등의 결함으로 될 우려가 있다.
[특허문헌 1] 일본 특허 공개 2002-329696호 공보
[특허문헌 2] 일본 특허 공개 2008-60203호 공보
본 발명은, 이러한 점을 고려하여 이루어진 것으로, 제1 처리액 및 제2 처리액을 확실하게 분리하여 회수할 수 있고, 피처리 기판 상에 워터마크나 파티클 등의 결함이 생기는 것을 확실하게 방지할 수 있는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 본 발명은, 상기 액처리 방법을 실행시키기 위한 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체를 제공하는 것도 목적으로 한다.
본 발명에 의한 액처리 장치는, 피처리 기판을 수평 상태로 회전 가능하게 유지하는 기판 유지 기구와, 기판 유지 기구에 유지된 피처리 기판에 대하여 제1 처리액 및 제2 처리액을 선택적으로 공급하는 처리액 공급 기구와, 기판 유지 기구에 유지된 피처리 기판의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며, 피처리 기판을 액처리한 후의 제1 처리액 및 제2 처리액을 받는 제1 받이면을 갖는 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵의 아래쪽에 설치되고, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액 및 제2 처리액을 각각 배출하는 외측 배출부 및 내측 배출부와, 회전 컵의 둘레 가장자리 바깥쪽에 승강 가능하게 설치되며, 외측 배출부를 개폐하는 배출부 개폐 기구를 구비하고, 회전 컵의 제1 받이면의 하단은, 기판 유지 기구에 의해서 유지된 피처리 기판보다 아래쪽으로 연장되고, 배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 외측 배출부를 향해서 배출되고, 배출부 개폐 기구가 하강하여 외측 배출부가 폐쇄된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제2 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 내측 배출부를 향해서 배출되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 액처리 장치에 있어서, 회전 컵의 제1 받이면은 아래쪽으로 향할수록 그 내경이 커지도록 경사진 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 액처리 장치에 있어서, 배출부 개폐 기구는, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액을 받는 제2 받이면을 갖고, 배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 배출부 개폐 기구의 제2 받이면을 통해 외측 배출부를 향해서 배출되는 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 액처리 장치에 있어서, 배출부 개폐 기구의 제2 받이면은 아래쪽으로 향할수록 그 내경이 커지도록 경사진 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 액처리 장치에 있어서, 배출부 개폐 기구의 제2 받이면은, 배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 상태에서, 회전 컵의 제1 받이면의 외측 아래쪽에 위치하는 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 액처리 장치에 있어서, 배출부 개폐 기구는, 외측 배출부에 형성된 내측 환형부와의 사이에서 외측 배출부를 개폐하는 것으로, 배출부 개폐 기구는, 내주측 하부에 형성된 제1 단차부를 갖고, 내측 환형부는, 상단에 형성된 제2 단차부를 가지며, 배출부 개폐 기구가 하강하여 외측 배출부가 폐쇄된 경우, 배출부 개폐 기구의 제1 단차부와 내측 환형부의 제2 단차부가 맞물리는 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 액처리 방법은, 액처리 장치를 이용한 액처리 방법에 있어서, 배출부 개폐 기구를 상승시켜 외측 배출부를 개방하는 외측 배출부 개방 공정과, 기판 유지 기구에 의해 유지된 피처리 기판에 제1 처리액을 처리액 공급 기구에 의해서 공급하는 제1 처리액 공급 공정과, 피처리 기판을 수평 상태로 회전시키고, 피처리 기판을 제1 처리액에 의해 액처리하는 제1 처리 공정과, 피처리 기판을 처리한 후, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액을 제1 받이면의 하단으로부터 외측 배출부를 향해서 배출시키는 제1 배출 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 액처리 방법에 있어서, 배출부 개폐 기구를 하강시켜 외측 배출부를 폐쇄하는 외측 배출부 폐쇄 공정과, 기판 유지 기구에 의해 유지된 피처리 기판에 제2 처리액을 처리액 공급 기구에 의해서 공급하는 제2 처리액 공급 공정과, 피처리 기판을 수평 상태로 회전시키고, 피처리 기판을 제2 처리액에 의해 액처리하는 제2 처리 공정과, 피처리 기판을 처리한 후, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제2 처리액을 제1 받이면의 하단으로부터 내측 배출부를 향해서 배출시키는 제2 배출 공정을 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 의한 기억 매체는, 액처리 장치를 이용하는 액처리 방법에 사용되며, 컴퓨터 상에서 동작하는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체로서, 상기 액처리 방법은, 배출부 개폐 기구를 상승시켜 외측 배출부를 개방하는 외측 배출부 개방 공정과, 기판 유지 기구에 의해 유지된 피처리 기판에 제1 처리액을 처리액 공급 기구에 의해서 공급하는 제1 처리액 공급 공정과, 피처리 기판을 수평 상태로 회전시키고, 피처리 기판을 제1 처리액에 의해 액처리하는 제1 처리 공정과, 피처리 기판을 처리한 후, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액을 제1 받이면의 하단으로부터 외측 배출부를 향해서 배출시키는 제1 배출 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 기억 매체에 있어서, 상기 액처리 방법은, 배출부 개폐 기구를 하강시켜 외측 배출부를 폐쇄하는 외측 배출부 폐쇄 공정과, 기판 유지 기구에 의해 유지된 피처리 기판에 제2 처리액을 처리액 공급 기구에 의해서 공급하는 제2 처리액 공급 공정과, 피처리 기판을 수평 상태로 회전시키고, 피처리 기판을 제2 처리액에 의해 액처리하는 제2 처리 공정과, 피처리 기판을 처리한 후, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제2 처리액을 제1 받이면의 하단으로부터 내측 배출부를 향해서 배출시키는 제2 배출 공정을 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 회전 컵의 제1 받이면의 하단은, 기판 유지 기구에 의해 유지된 피처리 기판보다 아래쪽으로 연장되어 있기 때문에, 미스트를 피처리 기판 상으로 돌려보내는 일 없이, 효율적으로 회전 컵으로부터 배출할 수 있어, 피처리 기판 상에 워터마크나 파티클 등의 결함이 생기는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 외측 배출부를 향해서 배출되고, 배출부 개폐 기구가 하강하여 외측 배출부가 폐쇄된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제2 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 내측 배출부를 향해서 배출된다. 이로써, 제1 처리액 및 제2 처리액을 확실하게 분리하여 회수할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 액처리 장치, 액처리 방법 및 기억 매체의 일 실시형태에 관해서, 도 1 내지 도 5를 참조하여 설명한다. 도 1은 본 실시형태에 의한 액처리 장치를 포함하는 액처리 시스템을 위쪽에서 본 상측 평면도이며, 도 2는 본 실시형태에 의한 액처리 장치를 도시하는 종단면도이다. 도 3의 (a)는 링 밸브가 상승한 상태에 있어서의 액처리 장치를 도시하는 부분 확대 단면도이며, 도 3의 (b)는 링 밸브가 하강한 상태에 있어서의 액처리 장치를 도시하는 부분 확대 단면도이다. 도 4는 본 실시형태에 의한 액처리 장치의 처리액 공급 기구의 구성을 도시하는 개략도이며, 도 5는 본 실시형태에 의한 액처리 방법을 도시하는 흐름도이다.
우선, 도 1에 의해, 본 실시형태에 의한 액처리 장치를 포함하는 액처리 시스템 전체의 구성에 관해서 설명한다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 액처리 시스템은, 외부로부터 피처리 기판으로서의 반도체 웨이퍼(W)[이하, 단순히 웨이퍼(W)라고도 함]를 수용한 캐리어를 놓기 위한 배치대(81)와, 캐리어에 수용된 웨이퍼(W)를 빼내기 위한 이송 아암(82)과, 이송 아암(82)에 의해서 빼내어진 웨이퍼(W)를 놓기 위한 선반 유닛(83)과, 선반 유닛(83)에 놓인 웨이퍼(W)를 수취하여, 그 웨이퍼(W)를 액처리 장치(1) 내로 반송(搬送)하는 메인 아암(84)을 포함하고 있다. 그리고, 이 액처리 시스템에는 복 수(본 실시형태에서는 12개)의 액처리 장치(1)가 포함되어 있다.
이어서, 도 2 내지 도 4에 의해 본 실시형태에 의한 액처리 장치의 구성에 관해서 설명한다.
액처리 장치(1)는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 케이싱(5)과, 케이싱(5) 내에 설치되어, 웨이퍼(W)를 수평 상태로 회전 가능하게 유지하는 기판 유지 기구(20)와, 기판 유지 기구(20)에 유지된 웨이퍼(W)에 대하여, 후술하는 제1 처리액 및 제2 처리액을 선택적으로 공급하는 처리액 공급 기구(30)를 구비하고 있다.
기판 유지 기구(20)에 유지된 웨이퍼(W)의 둘레 가장자리 바깥쪽에는, 웨이퍼(W)를 둘레 가장자리 바깥쪽으로부터 덮고, 전술한 웨이퍼(W)의 회전과 일체적으로 회전할 수 있는 회전 컵(61)이 [기판 유지 기구(20)에 접속] 배치되어 있다. 이 회전 컵(61)은, 웨이퍼(W)를 액처리한 후의 제1 처리액 및 제2 처리액을 받는 제1 받이면(61a)을 내측에 갖고 있다. 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)은, 아래쪽으로 향할수록 그 내경이 커지도록, 내측[웨이퍼(W)측] 위쪽에서 외측[케이싱(5)측벽측] 아래쪽으로 향해 경사져 있다.
한편, 기판 유지 기구(20)에는 회전 기구(70)가 연결되고, 이 회전 기구(70)에 의해 회전 컵(61) 및 기판 유지 기구(20)가 일체적으로 회전되도록 되어 있다.
또한, 도 2에 도시하는 바와 같이, 케이싱(5) 안에서 회전 컵(61)의 둘레 가장자리 아래쪽에는 웨이퍼(W)를 세정한 후의 처리액을 수용하는 환형의 배액(排液) 컵(12)이 배치되어 있다. 이 배액 컵(12)은 케이싱(5)에 대하여 회전하지 않도록 고정되어 있다.
또한 도 2 및 도 3의 (a), (b)에 도시하는 바와 같이, 배액 컵(12)은 중심측에서부터, 제1 환형부(17)와, 제1 환형부(17)의 외측에 형성된 제2 환형부(내측 환형부)(18)와, 제2 환형부(18)의 외측에 형성된 제3 환형부(외측 환형부)(19)를 갖고 있다.
이 중에서 제2 환형부(18)와 제3 환형부(19)에 의해서 외측 배출부(15)가 형성되어 있다. 이 외측 배출부(15)는 회전 컵(61)의 아래쪽에 형성되며, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받은 제1 처리액을 배출하는 것이다. 또한 도 2에 도시하는 바와 같이, 외측 배출부(15)에는, 외측 배출부(15)에 수용된 제1 처리액을 배출하는 제1 배액관(13)이 연결되어 있다.
한편, 제1 환형부(17)와 제2 환형부(18)에 의해서 내측 배출부(16)가 형성되어 있다. 이 내측 배출부(16)는 제2 처리액을 배출하는 것으로, 외측 배출부(15)의 안쪽에서 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)의 대략 바로 아래에 형성되어 있다. 또한 도 2에 도시하는 바와 같이, 내측 배출부(16)에는, 내측 배출부(16)에 수용된 제2 처리액을 배출하는 제2 배액관(24)이 연결되어 있다.
한편, 도 2 및 도 3의 (a), (b)에 도시하는 바와 같이, 회전 컵(61)의 둘레 가장자리 바깥쪽에는 외측 배출부(15)를 개폐하는 환형의 링 밸브(배출부 개폐 기구)(34)가 설치되어 있다. 이 링 밸브(34)는 외측 배출부(15)에 마련된 제2 환형부(18)와의 사이에서 외측 배출부(15)를 개폐하는 것으로, 실린더 기구(52)에 의해서 승강 가능하게 설치되어 있다. 한편, 링 밸브(34)의 회전 방향의 동작은 규제되고 있다.
도 2 및 도 3의 (a), (b)에 도시하는 바와 같이, 링 밸브(34)는, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받은 제1 처리액을 받는 제2 받이면(34a)을 내측에 갖고 있다. 제2 받이면(34a)은, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)과 마찬가지로, 아래쪽으로 향할수록 그 내경이 커지도록 경사져 있다. 또한, 제2 받이면(34a)의 수평면에 대한 경사 각도는 제1 받이면(61a)의 수평면에 대한 경사 각도와 대략 동일하다.
그런데, 도 2에 도시하는 바와 같이, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)의 하단(61b)은, 웨이퍼(W)를 액처리한 후의 제1 처리액 및 제2 처리액을 웨이퍼(W)보다 아래쪽으로 유도하여 웨이퍼(W) 쪽으로 튀어오르지 않도록 하기 위해서, 기판 유지 기구(20)에 의해서 유지된 웨이퍼(W)보다 아래쪽으로 연장되어 있다.
즉, 본 실시형태에 있어서, 제1 받이면(61a)의 하단(61b)은, 후술하는 회전 플레이트(21)보다 더 아래쪽으로 연장되며, 링 밸브(34)가 상승한 상태[도 3의 (a)]에서 링 밸브(34)의 제1 단차부(34b)(후술함) 하단과 대략 동일한 높이에 위치하고 있다.
또한, 도 3의 (a)에 도시하는 바와 같이, 링 밸브(34)가 상승하여 외측 배출부(15)가 개방된 상태에서, 링 밸브(34)의 제2 받이면(34a)은, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)의 외측 아래쪽에 위치하고 있다. 이 경우, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면(61a)의 하단(61b)으로부터 링 밸브(34)의 제2 받이면(34a)을 통해 외측 배출부(15)를 향해서 배출된다.
이에 비하여 도 3의 (b)에 도시하는 바와 같이, 링 밸브(34)가 하강한 경우, 외측 배출부(15)가 폐쇄된다. 이 경우, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받은 제2 처리액은, 제1 받이면(61a)의 하단(61b)으로부터 내측 배출부(16)를 향해서 배출된다.
또한, 링 밸브(34)는 내주측 하부에 형성된 제1 단차부(34b)를 갖고, 제2 환형부(18)는 상단에 형성된 제2 단차부(18b)를 갖고 있다. 도 3의 (b)에 도시하는 바와 같이, 링 밸브(34)가 하강하여 외측 배출부(15)가 폐쇄된 경우, 링 밸브(34)의 제1 단차부(34b)와 제2 환형부(18)의 제2 단차부(18b)가 맞물리고, 이에 따라 외측 배출부(15)가 밀폐된다.
그런데, 도 2에 도시하는 바와 같이, 기판 유지 기구(20)는, 수평으로 설치된 원판형을 이루는 회전 플레이트(21)와, 회전 플레이트(21)의 둘레 가장자리 단부에 설치되어, 웨이퍼(W)를 유지하는 유지 부재(22)와, 회전 플레이트(21) 하면의 중심부에 연결되어, 아래쪽으로 수직하게 연장되는 원통형의 회전축(23)을 구비하고 있다. 또한, 회전 플레이트(21)의 중심부에는 원통형 회전축(23)의 구멍(23a)에 연통하는 원형의 구멍(21a)이 형성되어 있고, 회전축(23)의 구멍(23a)의 내부에는, 승강 기구(56)에 의해 상하 방향으로 승강 가능한 승강 부재(25)가 설치되어 있다.
또한, 도 2에 도시하는 바와 같이, 승강 부재(25) 내에는, 웨이퍼(W)의 이면(하면)측으로부터 처리액을 공급하는 이면 처리액 공급로(26)가 마련되어 있다. 또한, 승강 부재(25)의 상단부에는 웨이퍼 지지대(27)가 설치되고, 이 웨이퍼 지지대(27)의 상면에는 웨이퍼(W)를 지지하기 위한 웨이퍼 지지 핀(28)이 마련되어 있 다. 한편, 회전축(23)은, 베어링 부재(29)를 통해 베이스 플레이트(6)에 회전 가능하게 지지되어 있다.
한편, 도 2에 도시하는 바와 같이, 회전 기구(70)는, 모터축(71a)을 갖는 모터(71)와, 이 모터축(71a)에도 감겨 있고 회전축(23)의 하단부에도 감겨진 벨트(72)를 갖고 있다. 한편, 벨트(72)와 모터축(71a) 사이에는 풀리(74)가 설치되어 있고, 벨트(72)와 회전축(23) 사이에는 풀리(73)가 설치되어 있다.
또한, 도 2에 있어서, 기판 유지 기구(20)에 유지된 웨이퍼(W)에, 액처리 시스템의 팬 필터 유닛(FFU)(도시하지 않음)으로부터의 기체가 웨이퍼(W) 위쪽으로부터 공급되도록 되어 있다. FFU는 알칼리 성분을 흡착시키는 케미컬 필터를 갖고 있어, 외부로부터 케이싱(5) 안으로 알칼리 분위기가 들어가는 것을 방지할 수 있다.
또한, 배액 컵(12)의 하단에는 슬릿형의 통기 구멍(66b)이 형성되어 있어, 회전 컵(61)의 둘레 가장자리 위쪽을 지난 기체를 배기관(67)으로 안내하도록 되어 있다(도 2의 점선 화살표 참조).
또한, 도 2에 도시하는 바와 같이, 처리액 공급 기구(30)는, 기판 유지 기구(20)에 의해서 유지된 웨이퍼(W)의 표면에 제1 처리액 및 제2 처리액을 공급하는 노즐 블록(31)과, 노즐 블록(31)에 연결되어, 이 노즐 블록(31)을 기판 유지 기구(20)에 유지된 웨이퍼(W)의 표면을 따라서 이동시키는 노즐 아암(32)과, 이 노즐 아암(32)으로부터 하향 수직 방향을 향해서 연장되는 노즐 요동축(33)과, 이 노즐 요동축(33)을 구동하는 노즐 구동부(75)를 갖고 있다. 또한, 노즐 요동축(33)의 하단에는 노즐 블록(31), 노즐 아암(32), 노즐 요동축(33) 및 노즐 구동부(75)를 상하 방향으로 구동하는 노즐 승강 기구(57)가 연결되어 있다.
이 노즐 구동부(75)는, 모터축(76a)을 갖는 모터(76)와, 이 모터축(76a)에도 감겨 있고 노즐 요동축(33)의 하단부에도 감겨진 벨트(77)를 갖고 있다. 또한, 벨트(77)와 모터축(76a) 사이에는 풀리(79)가 설치되어 있고, 벨트(77)와 노즐 요동축(33) 사이에는 풀리(78)가 설치되어 있다.
또한, 도 4에 도시하는 바와 같이, 처리액 공급 기구(30)의 노즐(31a, 31b)을 갖는 노즐 블록(31), 노즐 아암(32) 및 노즐 요동축(33) 내에는, 제1 처리액 및 제2 처리액이 통과하는 처리액 유로(35)와, 건조 용매가 통과하는 건조 용매 유로(38)가 마련되어 있다. 또한, 처리액 유로(35)와 건조 용매 유로(38)는 처리액 공급부(40)에 연통되어 있다.
이 처리액 공급부(40)는, 세정 처리를 위한 약액으로서, 제1 처리액을 공급하는 제1 공급원(41)과, 제2 처리액을 공급하는 제2 공급원(42)과, 린스액으로서, 예컨대 순수(DIW)를 공급하는 DIW 공급원(45)과, 건조 용매로서, 예컨대 IPA(이소프로필알코올)을 공급하는 IPA 공급원(43)을 갖고 있다. 또한, 제1 처리액 및 제2 처리액의 조합으로서는, 후술하는 바와 같이, 암모니아과수(SC1 : 제1 처리액) 및 희석 불산(DHF : 제2 처리액)의 조합 외에, 황산과수(SPM : 제1 처리액) 및 암모니아과수(SC1 : 제2 처리액)의 조합 등을 들 수 있다.
그리고, 처리액 유로(35)는, 제1 밸브(46)를 통해 제1 공급원(41)과 연통되고, 제2 밸브(47)를 통해 제2 공급원(42)과 연통되며, 또한 제3 밸브(48)를 통해 DIW 공급원(45)과 연통되어 있다. 한편, 건조 용매 유로(38)는 제4 밸브(49)를 통해 IPA 공급원(43)과 연통되어 있다.
그런데, 도 4에 있어서, 제1 밸브(46)만이 개방되어, 처리액 유로(35)와 제1 공급원(41)이 연통되면, 처리액 공급 기구(30)는 세정 처리를 위한 약액으로서 제1 공급원(41)으로부터 제1 처리액을 공급한다. 이와 같이, 노즐(31a, 31b)을 갖는 노즐 블록(31), 노즐 아암(32), 노즐 요동축(33), 처리액 유로(35), 노즐 구동부(75)(도 2 참조), 제1 밸브(46) 및 제1 공급원(41)에 의해서, 제1 약액 공급 기구가 구성되어 있다.
한편, 도 4에 있어서, 제2 밸브(47)만이 개방되어, 처리액 유로(35)와 제2 공급원(42)이 연통되면, 처리액 공급 기구(30)는 세정 처리를 위한 약액으로서 제2 공급원(42)으로부터 제2 처리액을 공급한다. 이와 같이, 노즐(31a, 31b)을 갖는 노즐 블록(31), 노즐 아암(32), 노즐 요동축(33), 처리액 유로(35), 노즐 구동부(75)(도 2 참조), 제2 밸브(47) 및 제2 공급원(42)에 의해서, 제2 약액 공급 기구가 구성되어 있다.
또한, 도 4에 있어서, 노즐(31a, 31b)을 갖는 노즐 블록(31), 노즐 아암(32), 노즐 요동축(33), 건조 용매 유로(38), 노즐 구동부(75)(도 2 참조), 제4 밸브(49) 및 IPA 공급원(43)에 의해서, 웨이퍼(W)를 건조시키기 위한 IPA(유기 용매)를 공급하는 건조액 공급 기구가 구성되어 있다.
또한, 도 4에 있어서, 제3 밸브(48)만이 개방되어, 처리액 유로(35)에 DIW 공급원(45)이 연통되면, 처리액 공급 기구(30)는 약액의 린스액으로서 순수(세정 액)을 공급한다. 이 때문에, 노즐(31a, 31b)을 갖는 노즐 블록(31), 노즐 아암(32), 노즐 요동축(33), 처리액 유로(35), 노즐 구동부(75)(도 2 참조), 제3 밸브(48) 및 DIW 공급원(45)에 의해서, 기판 유지 기구(20)에 유지된 웨이퍼(W)에 순수(약액의 린스액)를 공급하는 세정액 공급 기구가 구성되어 있다.
또한, 도 2에 도시하는 이면 처리액 공급로(26)에 처리액을 공급하는 기구는, IPA 공급원(43)이 설치되어 있지 않은 것을 제외하고는, 전술한 처리액 공급부(40)와 같은 구성으로 되어 있다.
또한, 도 2에 도시하는 바와 같이, 제1 배액관(13)에는 제1 배액관(13)을 통과하는 제1 처리액의 흐름을 막는 폐색 밸브(폐색 기구)(11)가 설치되어 있고, 이 폐색 밸브(11)를 폐쇄함으로써, 제1 배액관(13)을 폐색할 수 있다. 이 제1 배액관(13)은 제1 공급원(41)과 접속되어 있어, 제1 배액관(13)으로부터의 제1 처리액을 제1 공급원(41)으로 돌려보내 재이용할 수 있다.
한편, 제2 배액관(24)에는 제2 배액관(24)를 통과하는 제2 처리액의 흐름을 막는 폐색 밸브(폐색 기구)(36)가 설치되어 있고, 이 폐색 밸브(36)를 폐쇄함으로써, 제2 배액관(24)을 폐색할 수 있다. 또한, 제1 처리액과 달리, 제2 처리액은 제2 배액관(24)로부터 바깥쪽으로 배출된 후 재이용되지 않게 되어 있다.
또한, 도 2 및 도 4에 도시하는 바와 같이, 제1 밸브(46), 제2 밸브(47), 제3 밸브(48), 제4 밸브(49) 및 폐색 밸브(11) 각각에는 제어부(50)가 접속되어 있어, 전술한 제1 약액 공급 기구, 제2 약액 공급 기구, 건조액 공급 기구 및 세정액 공급 기구 각각은 제어부(50)에 의해 제어된다.
이어서, 이러한 구성으로 이루어지는 본 실시형태의 작용에 관해 설명한다.
보다 구체적으로는, 본 실시형태에 의한 액처리 장치(1)에 의해, 웨이퍼(W)를 세정 처리하는 액처리 방법에 관해서 설명한다. 또한, 여기서는, 제1 처리액으로서 암모니아과수를 이용하고, 제2 처리액으로서 희석 불산을 이용하는 경우를 예로 들어 설명한다.
우선, 메인 아암(84)에 의해서 유지된 웨이퍼(W)가 액처리 장치(1)의 케이싱(5) 내에 반송된다. 그리고, 이와 같이 반송된 웨이퍼(W)는, 승강 부재(25)를 상승시킨 상태에서, 웨이퍼 지지대(27)에 마련된 웨이퍼 지지 핀(28) 상에 건네어진다. 그 후, 승강 부재(25)가 하강하고, 웨이퍼(W)는 유지 부재(22)에 의해 처킹되어 유지된다[유지 공정(101)](도 2 및 도 5 참조).
이어서, 기판 유지 기구(20)에 의해서 유지된 웨이퍼(W)를 회전 기구(70)에 의해 회전 컵(61)과 일체적으로 회전시킨다[회전 공정(102)](도 2 및 도 5 참조). 또한, 후술하는 건조 공정(114)이 종료될 때까지, 웨이퍼(W)와 회전 컵(61)은 일체적으로 계속 회전한다.
보다 구체적으로는, 모터(71)의 모터축(71a)을 회전시킴으로써, 모터축(71a)에도 감겨 있고 회전축(23)의 하단부에도 감겨진 벨트(72)를 회전시켜, 회전축(23)을 회전시킨다. 여기서, 회전 컵(61)은 기판 유지 기구(20)와 일체로 되어 있기 때문에, 회전축(23)을 회전시킴으로써, 이 회전 컵(61)을 기판 유지 기구(20)와 일체적으로 회전시킬 수 있다.
또한, 전술한 회전 공정(102) 이전 또는 이후에, 실린더 기구(52)에 의해 링 밸브(34)를 상승시켜 외측 배출부(15)를 개방한다[외측 배출부 개방 공정(103)][도 2, 도 3의 (a) 및 도 5 참조].
계속해서, 기판 유지 기구(20)에 의해 유지된 웨이퍼(W)에 대하여 소정의 액처리가 처리액 공급 기구(30)에 의해서 이루어진다(도 2 내지 도 5 참조). 이 동안, 구체적으로는 이하의 각 공정이 실시된다. 한편, 후술하는 제1 처리액 공급 공정(104)을 행하기 전에는 밸브(46, 47, 48, 49)는 모두 폐쇄된 상태로 되어 있다(도 4 참조).
우선, 제어부(50)로부터의 신호에 기초하여, 제1 밸브(46)가 개방되고, 제1 공급원(41)으로부터 제1 처리액(암모니아과수)이 공급된다. 그리고, 제1 처리액이 기판 유지 기구(20)에 의해 유지된 웨이퍼(W)에 노즐(31a)을 통해 공급된다[제1 처리액 공급 공정(104)][도 2, 도 3의 (a), 도 4 및 도 5 참조].
이와 같이, 웨이퍼(W) 및 회전 컵(61)을 수평 상태로 회전시킨 채, 웨이퍼(W)를 제1 처리액(암모니아과수)에 의해 액처리한다[제1 처리 공정(105)].
이와 같이 웨이퍼(W)에 공급된 제1 처리액은, 웨이퍼(W)의 회전에 따른 원심력에 의해, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)을 향해 비산한다[도 3의 (a)의 점선 화살표 참조]. 이와 같이 비산된 제1 처리액은 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받아내어지고, 제1 받이면(61a)을 따라 아래쪽으로 흐른다.
이어서, 회전 컵(61)의 회전에 따른 원심력에 의해, 제1 받이면(61a)을 따라서 흘러내린 제1 처리액은, 제1 받이면(61a)의 하단(61b)으로부터 경사 하방을 향해 비산한다. 이때, 제1 처리액은, 링 밸브(34)의 제1 단차부(34b)와 제2 환형 부(18)의 제2 단차부(18b) 사이를 통과하여, 링 밸브(34)의 제2 받이면(34a)에 도달한다.
그 후, 제1 처리액은 링 밸브(34)의 제2 받이면(34a)으로부터 외측 배출부(15)를 향해서 배출된다[제1 배출 공정(106)][도 3의 (a)의 점선 화살표 참조]. 그 후, 제1 처리액은 외측 배출부(15)로부터 제1 배액관(13)을 통해 제1 공급원(41)으로 돌려보내진다(도 2 및 도 4 참조).
이어서, 실린더 기구(52)에 의해 링 밸브(34)를 하강시켜 외측 배출부(15)를 폐쇄한다[외측 배출부 폐쇄 공정(107)][도 2, 도 3의 (b) 및 도 5 참조]. 이 때 링 밸브(34)의 제1 단차부(34b)와 제2 환형부(18)의 제2 단차부(18b)가 맞물리기 때문에, 링 밸브(34)에 의해 외측 배출부(15)가 밀폐된다.
이어서, 제어부(50)로부터의 신호에 기초하여, 제1 밸브(46)가 폐쇄되고 제3 밸브(48)가 개방되며, DIW 공급원(45)으로부터 순수가 공급된다. 그리고, 노즐(31a)을 통해 웨이퍼(W)에 순수가 공급되어, 웨이퍼(W) 표면이 세정된다[린스 공정(108)](도 4 및 도 5 참조). 이 경우, 웨이퍼(W)를 처리한 순수는, 후술하는 제2 처리액과 마찬가지로, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받아내어지고, 그 후에 제1 받이면(61a)의 하단(61b)으로부터 내측 배출부(16)를 향해서 배출된다.
이어서, 제어부(50)로부터의 신호에 기초하여, 제3 밸브(48)가 폐쇄되고 제2 밸브(47)가 개방되어, 제2 공급원(42)으로부터 제2 처리액(희석 불산)이 공급된다. 그리고, 제2 처리액(희석 불산)이 기판 유지 기구(20)에 의해 유지된 웨이퍼(W)에 노즐(31a)을 통해 공급된다[제2 처리액 공급 공정(109)][도 2, 도 3의 (b), 도 4, 및 도 5 참조].
이와 같이, 웨이퍼(W) 및 회전 컵(61)을 수평 상태로 회전시킨 채, 웨이퍼(W)를 제2 처리액(희석 불산)에 의해 액처리한다[제2 처리 공정(110)].
제2 처리 공정(110)에서 웨이퍼(W)를 액처리한 후, 제2 처리액은 웨이퍼(W)의 회전에 따른 원심력에 의해 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)을 향해 비산한다[도 3의 (b)의 점선 화살표 참조]. 이와 같이 비산된 제2 처리액은 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받아내어지고, 제1 받이면(61a)을 따라서 아래쪽으로 흐른다.
이어서, 회전 컵(61)의 회전에 따른 원심력에 의해, 제1 받이면(61a)을 따라서 흘러내린 제2 처리액은, 제1 받이면(61a)의 하단(61b)으로부터 경사 하방을 향해서 비산한다. 이때, 제2 처리액은 링 밸브(34)의 내벽면(34c)에 닿아, 링 밸브(34)의 내벽면(34c)으로부터 내측 배출부(16)를 향해 배출된다[제2 배출 공정(111)].
이 경우, 링 밸브(34)의 제1 단차부(34b)와 제2 환형부(18)의 제2 단차부(18b)가 맞물려 있기 때문에, 제2 처리액이 링 밸브(34)와 제2 환형부(18) 사이를 통과하여 외측 배출부(15) 안으로 들어가는 일은 없다. 특히, 링 밸브(34)의 제1 단차부(34b)는, 제2 환형부(18)의 제2 단차부(18b)보다 내측[내측 배출부(16)측]에 배치되어 있기 때문에, 제2 처리액이 제2 단차부(18b)를 넘어서 외측 배출부(15) 안으로 들어가는 것을 확실하게 방지할 수 있다.
그 후, 제2 처리액은 내측 배출부(16)로부터 제2 배액관(24)을 통해 바깥쪽으로 배출된다.
이어서, 제어부(50)로부터의 신호에 기초하여, 제2 밸브(47)가 폐쇄되고 제3 밸브(48)가 개방되며, DIW 공급원(45)으로부터 순수가 공급된다. 그리고, 기판 유지 기구(20)에 의해 웨이퍼(W)에 순수가 노즐(31a)을 통해 공급된다[린스 공정(112)](도 4 및 도 5 참조).
이어서, 제어부(50)로부터의 신호에 기초하여, 제3 밸브(48)가 폐쇄되고, 그 후, 제4 밸브(49)가 개방되며, 웨이퍼(W)를 건조시키기 위한 IPA가 노즐(31b)을 통해 웨이퍼(W)에 공급된다[건조액 공급 공정(113)](도 4 및 도 5 참조).
이때, 노즐 구동부(75)에 의해서 노즐 요동축(33)이 구동되고, 노즐 아암(32)에 설치된 노즐 블록(31)의 노즐(31a, 31b)은 노즐 요동축(33)을 중심으로 하여 웨이퍼(W) 위쪽에서 웨이퍼(W)의 표면을 따라 요동된다(도 2 참조).
전술된 바와 같이, 웨이퍼(W)에 IPA를 공급한 후, 기판 유지 기구(20)에 유지된 웨이퍼(W)를 건조액 공급 공정(113)시 보다도 고속으로 회전시킴으로써, 웨이퍼(W)에 부착된 IPA를 털어내고, 웨이퍼(W)를 건조시킨다[건조 공정(114)].
그런데, 전술한 바와 같이, 각 공정에 있어서, 회전 컵(61)은 기판 유지 기구(20)와 일체적으로 회전한다. 이 때문에, 웨이퍼(W)로부터 털어내어진 각 처리액이 회전 컵(61)에 닿았을 때에 그 처리액에는 원심력이 작용한다. 따라서, 상기 처리액이 비산되기 어렵고 미스트화되기 어렵게 되어 있다.
마지막으로, 처리가 끝난 웨이퍼(W)는, 유지 부재(22)에 의한 처킹을 해제한 후, 기판 유지 기구(20)로부터 분리되어, 케이싱(5)의 외부로 반출된다[반출 공정(115)](도 2 참조).
그런데 일반적으로, 전술한 제2 처리 공정(110)에 있어서, 웨이퍼(W) 주위의 분위기 중에 암모니아 성분(알칼리 성분)이 조금이라도 존재할 경우, 건조 공정(114) 후, 웨이퍼(W)에 워터마크와 같은 얼룩이 발생할 우려가 있다.
이에 비하여 본 실시형태에서는, 링 밸브(34)의 제1 단차부(34b)와 제2 환형부(18)의 제2 단차부(18b)를 맞물리게 함으로써, 외측 배출부(15)를 확실하게 밀폐하고 있다. 이에 따라, 제2 처리 공정(110) 중, 제1 처리액(암모니아과수)의 암모니아 성분이 외측 배출부(15)로부터 누설되어 웨이퍼(W) 주위의 분위기 속에 도달할 우려가 없다. 따라서, 웨이퍼(W)에 워터마크와 같은 얼룩이 발생하는 것을 더욱 확실하게 방지할 수 있다.
또한, 상기한 내용에서는, 제1 공급원(41)으로부터 공급되는 제1 처리액과, 제2 공급원(42)으로부터 공급되는 제2 처리액이, 하나의 노즐 아암(32)과, 노즐(31a, 31b)을 갖는 하나의 노즐 블록(31)을 이용하여 웨이퍼(W)에 공급되고 있지만, 이에 한정되지 않고, 제1 공급원(41)으로부터 공급되는 제1 처리액과, 제2 공급원(42)으로부터 공급되는 제2 처리액 각각이, 전용 노즐 아암과 전용 노즐 블록(노즐을 포함함)을 이용하여 웨이퍼(W)에 공급되어도 좋다.
또한, 상기한 내용에서는, 제1 처리액으로서 암모니아과수를 이용하고, 제2 처리액으로서 희석 불산을 이용하는 경우를 예로 들어 설명했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 이들 처리액으로서 황산과수 및 암모니아과수를 이용할 수도 있다. 이 경우, 황산과수를 확실하게 회수하기 위해서, 황산과수를 제1 처리액으로 하고 암모니아과수를 제2 처리액으로 하는 것이 바람직하다. 즉, 2개의 처 리액을 비교하여, 외측 배출부(15)로부터 확실하게 회수(내지 재이용)하고 싶은 쪽의 처리액, 혹은 조금이라도 웨이퍼(W) 주위의 분위기 속에 누설시키고 싶지 않은 쪽의 처리액을 제1 처리액으로서 설정하는 것이 바람직하다.
또한, 본 실시형태에 있어서, 전술한 액처리 장치(1)를 이용하는 액처리 방법에 사용되고, 컴퓨터 상에서 동작하는 컴퓨터 프로그램이나, 이러한 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체도 제공한다.
이와 같이, 본 실시형태에 따르면, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)의 하단(61b)은 기판 유지 기구(20)에 의해서 유지된 웨이퍼(W)보다 아래쪽으로 연장되어 있다. 따라서, 제1 처리액 및 제2 처리액이 회전 컵(61)으로 튀어올라, 웨이퍼(W) 상에 워터마크나 파티클 등의 결함이 생기는 것을 확실하게 방지할 수 있다.
또한, 본 실시형태에 따르면, 링 밸브(34)가 상승하여 외측 배출부(15)가 개방된 경우, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면(61a)을 따라서 흐르고, 그 후에 제1 받이면(61a)의 하단(61b)으로부터 외측 배출부(15)를 향해서 배출된다. 한편, 링 밸브(34)가 하강하여 외측 배출부(15)가 폐쇄된 경우, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받은 제2 처리액은, 제1 받이면(61a)을 따라서 흐르고, 그 후에 제1 받이면(61a)의 하단(61b)으로부터 내측 배출부(16)를 향해서 배출된다. 이와 같이 하여, 제1 처리액 및 제2 처리액을 확실하게 분리하여 회수할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 의한 액처리 장치를 포함하는 액처리 시스템을 위쪽에서부터 본 상측 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 의한 액처리 장치를 도시하는 종단면도이다.
도 3의 (a), (b)는 각각 링 밸브가 상승한 상태와 하강한 상태에 있어서의, 본 발명의 일 실시형태에 의한 액처리 장치를 도시하는 부분 확대 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시형태에 의한 액처리 장치의 처리액 공급 기구의 구성을 도시한 개략도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시형태에 의한 액처리 방법을 도시하는 흐름도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 액처리 장치
5 : 케이싱
12 : 배액 컵
15 : 외측 배출부
16 : 내측 배출부
17 : 제1 환형부
18 : 제2 환형부(내측 환형부)
18b : 제2 단차부
19 : 제3 환형부(외측 환형부)
20 : 기판 유지 기구
21 : 회전 플레이트
30 : 처리액 공급 기구
34 : 링 밸브(배출부 개폐 기구)
34a : 제2 받이면
34b : 제1 단차부
40 : 처리액 공급부
41 : 제1 공급원
42 : 제2 공급원
43 : IPA 공급원
45 : DIW 공급원
50 : 제어부
52 : 실린더 기구
56 : 승강 기구
57 : 노즐 승강 기구
61 : 회전 컵
61a : 제1 받이면
67 : 배기관
70 : 회전 기구
W : 웨이퍼(피처리 기판)

Claims (10)

  1. 피처리 기판을 수평 상태로 회전 가능하게 유지하는 기판 유지 기구와,
    기판 유지 기구에 유지된 피처리 기판에 대하여 제1 처리액 및 제2 처리액을 선택적으로 공급하는 처리액 공급 기구와,
    기판 유지 기구에 유지된 피처리 기판의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며, 피처리 기판을 액처리한 후의 제1 처리액 및 제2 처리액을 받는 제1 받이면을 갖는 회전 가능한 회전 컵과,
    회전 컵의 아래쪽에 설치되며, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액 및 제2 처리액을 각각 배출하는 외측 배출부 및 내측 배출부와,
    회전 컵의 둘레 가장자리 바깥쪽에 승강 가능하게 설치되고, 외측 배출부를 개폐하는 배출부 개폐 기구
    를 포함하고, 회전 컵의 제1 받이면의 하단은, 기판 유지 기구에 의해서 유지된 피처리 기판보다 아래쪽으로 연장되고,
    배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 외측 배출부를 향해서 배출되고,
    배출부 개폐 기구가 하강하여 외측 배출부가 폐쇄된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제2 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 내측 배출부를 향해서 배출되고,
    배출부 개폐 기구는, 외측 배출부에 마련된 내측 환형부와의 사이에서 외측 배출부를 개폐하는 것이며, 배출부 개폐 기구는, 내주측 하부에 제1 단차부가 형성되고, 내측 환형부는, 상단에 제2 단차부가 형성되며,
    배출부 개폐 기구가 하강하여 외측 배출부가 폐쇄된 경우, 배출부 개폐 기구의 제1 단차부와 내측 환형부의 제2 단차부가 맞물리는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 배출부 개폐 기구는, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액을 받는 제2 받이면을 갖고,
    배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 배출부 개폐 기구의 제2 받이면을 통해 외측 배출부를 향해서 배출되고,
    배출부 개폐 기구의 제2 받이면은, 아래쪽으로 향할수록 그 내경이 커지도록 경사진 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  4. 제1항에 있어서, 배출부 개폐 기구는, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액을 받는 제2 받이면을 갖고,
    배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 배출부 개폐 기구의 제2 받이면을 통해 외측 배출부를 향해서 배출되고,
    배출부 개폐 기구의 제2 받이면은, 배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 상태에서, 회전 컵의 제1 받이면의 외측 아래쪽에 위치하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 피처리 기판을 수평 상태로 회전 가능하게 유지하는 기판 유지 기구와, 기판 유지 기구에 유지된 피처리 기판에 대하여 제1 처리액 및 제2 처리액을 선택적으로 공급하는 처리액 공급 기구와, 기판 유지 기구에 유지된 피처리 기판의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며, 피처리 기판을 액처리한 후의 제1 처리액 및 제2 처리액을 받는 제1 받이면을 갖는 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵의 아래쪽에 설치되며, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액 및 제2 처리액을 각각 배출하는 외측 배출부 및 내측 배출부와, 회전 컵의 둘레 가장자리 바깥쪽에 승강 가능하게 설치되고, 외측 배출부를 개폐하는 배출부 개폐 기구를 포함하고, 회전 컵의 제1 받이면의 하단은, 기판 유지 기구에 의해서 유지된 피처리 기판보다 아래쪽으로 연장되고, 배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 외측 배출부를 향해서 배출되고, 배출부 개폐 기구가 하강하여 외측 배출부가 폐쇄된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제2 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 내측 배출부를 향해서 배출되는 액처리 장치를 이용한 액처리 방법에 있어서,
    배출부 개폐 기구를 상승시켜 외측 배출부를 개방하는 외측 배출부 개방 공정과,
    기판 유지 기구에 의해 유지된 피처리 기판에 제1 처리액을 처리액 공급 기구에 의해서 공급하는 제1 처리액 공급 공정과,
    피처리 기판을 수평 상태로 회전시키고, 피처리 기판을 제1 처리액에 의해 액처리하는 제1 처리 공정과,
    피처리 기판을 처리한 후, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액을 제1 받이면의 하단으로부터 외측 배출부를 향해서 배출시키는 제1 배출 공정
    을 포함하고,
    배출부 개폐 기구를 하강시켜 외측 배출부를 폐쇄하는 외측 배출부 폐쇄 공정과,
    기판 유지 기구에 의해 유지된 피처리 기판에 제2 처리액을 처리액 공급 기구에 의해서 공급하는 제2 처리액 공급 공정과,
    피처리 기판을 수평 상태로 회전시키고, 피처리 기판을 제2 처리액에 의해 액처리하는 제2 처리 공정과,
    피처리 기판을 처리한 후, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제2 처리액을 제1 받이면의 하단으로부터 내측 배출부를 향해서 배출시키는 제2 배출 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.
  9. 피처리 기판을 수평 상태로 회전 가능하게 유지하는 기판 유지 기구와, 기판 유지 기구에 유지된 피처리 기판에 대하여 제1 처리액 및 제2 처리액을 선택적으로 공급하는 처리액 공급 기구와, 기판 유지 기구에 유지된 피처리 기판의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며, 피처리 기판을 액처리한 후의 제1 처리액 및 제2 처리액을 받는 제1 받이면을 갖는 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵의 아래쪽에 설치되며, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액 및 제2 처리액을 각각 배출하는 외측 배출부 및 내측 배출부와, 회전 컵의 둘레 가장자리 바깥쪽에 승강 가능하게 설치되고, 외측 배출부를 개폐하는 배출부 개폐 기구를 포함하고, 회전 컵의 제1 받이면의 하단은, 기판 유지 기구에 의해서 유지된 피처리 기판보다 아래쪽으로 연장되고, 배출부 개폐 기구가 상승하여 외측 배출부가 개방된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 외측 배출부를 향해서 배출되고, 배출부 개폐 기구가 하강하여 외측 배출부가 폐쇄된 경우, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제2 처리액은, 제1 받이면의 하단으로부터 내측 배출부를 향해서 배출되는 액처리 장치를 이용하는 액처리 방법에 사용되며, 컴퓨터 상에서 동작하는 컴퓨터 프로그램을 저장한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체로서,
    상기 액처리 방법은,
    배출부 개폐 기구를 상승시켜 외측 배출부를 개방하는 외측 배출부 개방 공정과,
    기판 유지 기구에 의해 유지된 피처리 기판에 제1 처리액을 처리액 공급 기구에 의해서 공급하는 제1 처리액 공급 공정과,
    피처리 기판을 수평 상태로 회전시키고, 피처리 기판을 제1 처리액에 의해 액처리하는 제1 처리 공정과,
    피처리 기판을 처리한 후, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제1 처리액을 제1 받이면의 하단으로부터 외측 배출부를 향해서 배출시키는 제1 배출 공정
    을 포함하고,
    배출부 개폐 기구를 하강시켜 외측 배출부를 폐쇄하는 외측 배출부 폐쇄 공정과,
    기판 유지 기구에 의해 유지된 피처리 기판에 제2 처리액을 처리액 공급 기구에 의해서 공급하는 제2 처리액 공급 공정과,
    피처리 기판을 수평 상태로 회전시키고, 피처리 기판을 제2 처리액에 의해 액처리하는 제2 처리 공정과,
    피처리 기판을 처리한 후, 회전 컵의 제1 받이면에서 받은 제2 처리액을 제1 받이면의 하단으로부터 내측 배출부를 향해서 배출시키는 제2 배출 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체.
  10. 삭제
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