KR100762522B1 - 도포, 현상 장치 및 그 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (11)
- 캐리어 블록에 캐리어에 의해 반입된 기판을 처리 블록으로 전달하여, 이 처리 블록에서 레지스트막을 포함하는 도포막을 형성한 뒤, 인터페이스 블록을 거쳐서 노광 장치에 반송하고, 상기 인터페이스 블록을 거쳐서 되돌아온 노광후의 기판을 상기 처리 블록에서 현상 처리하여 상기 캐리어 블록에 전달하는 도포, 현상 장치에 있어서,a) 상기 처리 블록은, 서로 적층된 복수의 도포막 형성용의 단위 블록과, 상기 도포막 형성용의 단위 블록에 대하여 적층된 현상 처리용의 단위 블록을 구비하고,b) 상기 각 단위 블록은, 약액을 기판에 도포하기 위한 액 처리 유닛과, 기판을 가열하는 가열 유닛과, 기판을 냉각하는 냉각 유닛과, 이들 유닛간에서 기판을 반송하는 단위 블록용의 반송 수단을 구비하고,c) 상기 서로 적층된 복수의 도포막 형성용의 단위 블록에 마련되는 액 처리 유닛은, 기판에 레지스트액을 도포하기 위한 도포 유닛과, 레지스트액을 도포하기 전에 기판에 반사 방지막용의 약액을 도포하기 위한 제 1 반사 방지막 유닛과, 레지스트액을 도포한 후에 기판에 반사 방지막용의 약액을 도포하기 위한 제 2 반사 방지막 유닛을 포함하고, 도포막 형성용의 단위 블록에서는, 단위 블록 단위로, 기판에 대하여 레지스트막을 포함하는 도포막의 형성이 실행되는 것을 특징으로 하는도포, 현상 장치.
- 제 1 항에 있어서,도포막 형성용의 단위 블록 하나에서 이상이 발생했을 때에, 해당 이상이 발생한 도포막 형성용의 단위 블록에 대해서는 기판의 반송을 실행하지 않고, 다른 도포막 형성용의 단위 블록에 대해서는 기판의 반송을 실행하도록 제어하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 도포, 현상 장치.
- 제 1 항에 있어서,각 단위 블록마다 캐리어 블록측에 마련되어, 각 단위 블록의 반송 수단간의 사이에서 기판의 전달을 실행하는 제 1 전달 스테이지를 적층하여 구성된 제 1 전달 스테이지군(群)과,상기 제 1 전달 스테이지끼리의 사이에서 기판의 전달을 실행하기 위한 제 1 기판 전달 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 도포, 현상 장치.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,각 단위 블록마다 인터페이스 블록측에 마련되어, 각 단위 블록의 반송 수단과의 사이에서 기판의 전달을 실행하는 제 2 전달 스테이지를 적층하여 구성된 제 2 전달 스테이지군과,상기 제 2 전달 스테이지끼리의 사이에서 기판의 전달을 실행하기 위한 제 2 기판 전달 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 도포, 현상 장치.
- 제 3 항에 있어서,제 1 전달 스테이지군은, 캐리어 블록과 처리 블록의 사이에서 기판의 전달을 실행하기 위한 캐리어 블록용 전달 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 도포, 현상 장치.
- 제 4 항에 있어서,제 2 전달 스테이지군은, 인터페이스 블록과 처리 블록의 사이에서 기판의 전달을 실행하기 위한 인터페이스 블록용 전달 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 도포, 현상 장치.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,처리 블록과 인터페이스 블록의 사이에, 도포막 형성후 노광 처리전, 및 노광 처리후 현상 처리전후, 중 적어도 하나의 경우에 처리를 실행하는 유닛을 구비한 보조 블록을 마련하는 것을 특징으로 하는 도포, 현상 장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 보조 블록에 마련되는 유닛은, 기판 표면의 상태를 검사하기 위해, 기판에 형성된 도포막의 막두께를 검사하기 위한 막두께 검사 유닛, 노광전 및 노광후 중 적어도 하나의 경우에 기판을 세정하기 위한 세정 유닛, 노광 장치에서 발생하는 패턴의 위치 어긋남을 검출하기 위한 디포커스(defocus)검사 장치, 레지스트액의 도포 불균일을 검출하기 위한 도포 불균일 검출 장치, 현상 처리의 불량을 검출하기 위한 현상 불량 검출 장치, 기판에 부착한 파티클수를 검출하기 위한 파티클수 검출 장치, 레지스트 도포후 기판에 발생하는 코밋(comet)를 검출하기 위한 코밋 검출 장치, 스플래시백(splash back) 검출 장치, 기판 표면의 결함을 검출하기 위한 결함 검출 장치, 현상 처리후의 기판에 잔존하는 레지스트 찌꺼기를 검출하기 위한 찌꺼기 검출 장치, 레지스트 도포 처리 및 현상 처리 중 적어도 하나에서의 불량을 검출하기 위한 불량 검출 장치, 기판 상에 형성된 레지스트막의 선폭을 측정하기 위한 선폭 측정 장치, 노광후의 기판과 포토 마스크의 중첩 정밀도를 검사하기 위한 중첩 검사 장치의 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 도포, 현상 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 노광 장치는, 기판 표면에 액층을 형성하여 액침(液浸) 노광하는 것으로,상기 보조 블록에 마련되는 유닛은, 상기 액침 노광된 후의 기판을 세정하는 세정 유닛인 것을 특징으로 하는 청구항 8에 기재된 도포, 현상 장치.
- 제 9 항에 있어서,상기 서로 적층된 복수의 도포막 형성용의 단위 블록에 대하여, 레지스트막이 형성된 기판에 대하여, 상기 레지스트막 상에 발수(撥水)성의 보호막을 형성하기 위한 도포막 형성용의 단위 블록을 또한 적층하여 마련하는 것을 특징으로 하는 도포, 현상 장치.
- 청구항 1에 기재된 도포, 현상 장치에서 실행되는 도포, 현상 방법에 있어서,상기 도포막 형성용의 단위 블록 하나에 이상이 발생했을 때에, 해당 이상이 발생한 도포막 형성용의 단위 블록에 대해서는 기판의 반송을 실행하지 않고, 다른 도포막 형성용의 단위 블록에 대해서는 기판의 반송을 실행하는 것을 특징으로 하는 도포, 현상 방법.
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