KR100736521B1 - 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법 - Google Patents

나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100736521B1
KR100736521B1 KR1020040042200A KR20040042200A KR100736521B1 KR 100736521 B1 KR100736521 B1 KR 100736521B1 KR 1020040042200 A KR1020040042200 A KR 1020040042200A KR 20040042200 A KR20040042200 A KR 20040042200A KR 100736521 B1 KR100736521 B1 KR 100736521B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transport layer
layer
light emitting
electroluminescent device
hole transport
Prior art date
Application number
KR1020040042200A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050117030A (ko
Inventor
전신애
장은주
이성훈
안태경
최성재
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020040042200A priority Critical patent/KR100736521B1/ko
Priority to US11/002,465 priority patent/US20050274944A1/en
Priority to JP2005163609A priority patent/JP2005353595A/ja
Publication of KR20050117030A publication Critical patent/KR20050117030A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100736521B1 publication Critical patent/KR100736521B1/ko
Priority to US12/722,903 priority patent/US8012781B2/en
Priority to US13/196,388 priority patent/US8440480B2/en
Priority to JP2011243999A priority patent/JP2012038741A/ja

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/06Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing organic luminescent materials
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82BNANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
    • B82B3/00Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • H10K50/115OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers comprising active inorganic nanostructures, e.g. luminescent quantum dots
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/08Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a plurality of light emitting regions, e.g. laterally discontinuous light emitting layer or photoluminescent region integrated within the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/20Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
    • H01L33/24Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate of the light emitting region, e.g. non-planar junction
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/14Carrier transporting layers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/778Nanostructure within specified host or matrix material, e.g. nanocomposite films
    • Y10S977/779Possessing nanosized particles, powders, flakes, or clusters other than simple atomic impurity doping

Abstract

본 발명은 고분자 정공수송층과 유기물 전자수송층 사이에 독립적으로 분리된 나노결정 발광층을 포함하는 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 나노 결정 전기발광 소자는 정공수송층과 나노결정 발광층 및 전자수송층이 완전히 분리되어, 전기발광 소자가 전압 등의 구동 조건에 영향을 거의 받지 않고, 기타의 유기층 발광을 최대 억제한 순수한 나노결정의 전기 발광 스펙트럼을 제공하는 이점을 갖는다.
전기발광 소자, 정공수송층, 전자수송층, 나노결정 발광층, 양극, 음극, 정공억제층

Description

나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법{Nanocrystal electroluminescence device and preparation method thereof}
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 나노결정 전기발광 소자의 단면 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 나노결정 전기발광 소자의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a는 나노 결정과 정공수송층을 혼합하여 코팅할 경우, 정공수송층과 나노결정층의 분리가 불완전하게 일어나는 종래의 전기발광 소자의 일부 단면 개략도이다.
도 3b는 나노 결정과 정공수송층을 혼합하여 코팅할 경우, 나노결정이 정공 수송 재료 내에 균일하게 분산되어 하나의 층을 나타내는 도면이다.
도 3c은 고분자 정공수송층을 먼저 코팅하여 박막화하고 열처리한 후, 그 위에 나노 결정을 코팅하여, 나노결정 발광층이 고분자 정공수송층으로부터 완전히 분리된 본 발명의 나노결정 전기발광 소자의 일부 단면 개략도이다.
도 4는 본 발명의 제조예 1에 따라 수득된 감광기와실리카 나노결정의 광 여기 발광 스펙트럼이다.
도 5는 본 발명의 제조예 2에 따라 수득된 감광기와실리카 나노결정의 광 여기 발광 스펙트럼이다.
도 6a 및 b는 본 발명의 실시예 1 및 2에 따라 수득된 전기발광 소자들의 전기 발광 스펙트럼이다.
도 7은 본 발명의 실시예 3에 따라 수득된 전기발광 소자들의 전기 발광 스펙트럼이다.
도 8은 본 발명의 비교예 1에 따라 수득된 종래 기술에 따른 전기발광 소자들의 전기 발광 스펙트럼이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10: 기판 20: 양극
30: 고분자 정공수송층 40: 나노결정 발광층
50: 유기물 전자수송층 60: 음극
본 발명은 전기발광 소자 (electroluminescence device) 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고분자 정공수송층과 유기물 전자수송층 사이에 독립적으로 분리된 나노결정 발광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
나노결정은 수 나노 크기의 결정 구조를 가진 물질로, 수백에서 수천 개 정도의 원자로 구성되어 있다. 이렇게 작은 크기의 물질은 단위 부피 당 표면적이 넓어 대부분의 원자들이 표면에 존재하게 되고, 양자 제한 효과 등을 나타내게 되어, 물질 자체의 고유한 특성과는 다른 독특한 전기적, 자기적, 광학적, 화학적, 기계적 특성을 가지게 된다. 즉, 나노결정의 물리적인 크기를 조절함으로써 다양한 특성을 조절하는 것이 가능해진다.
기존의 나노결정을 합성하는 방법으로는 MOCVD (metal organic chemical vapor deposition)나 MBE (molecular beam epitaxy)와 같은 기상 증착법으로 양자점을 제조하는 방법들이 시도되어 왔다. 또한 최근 십년 동안 유기 용매에 전구체 물질을 넣어 결정을 성장시키는 화학적 습식 방법도 빠르게 발전되어 왔다. 화학적 습식 방법은 결정이 성장될 때 유기 용매가 자연스럽게 양자점 결정 표면에 배위되어 분산제 역할을 하게 함으로써 결정의 성장을 조절하는 방법으로, MOCVD나 MBE와 같은 기상 증착법보다 더 쉽고 저렴한 공정을 통하여 나노 결정의 크기와 형태의 균일도를 조절할 수 있는 장점을 갖는다.
화학적 습식 방법에 의해 합성된 나노결정은 합성후 분리되어 용액 중에 분산된 상태로 존재하게 되므로, 이를 전자발광 소자에 응용하기 위해서는 고체상으로 박막화하는 기술이 요구된다.
현재까지 발표된 나노결정을 사용한 전기발광 소자에서는 나노결정을 발광물질로 사용하거나, 또는 발광기능과 전하 수송기능을 병행해서 수행하고 있다. 미국특허 제 5,537,000호는 나노결정을 채용한 전기발광 소자를 최초로 제시하고 있 는데, 나노결정을 여러 층으로 쌓아 발광층인 동시에 전자수송층 역할을 하게 함으로써 전압에 따라 발광파장이 변하는 소자의 개념을 제시하고 있다.
국제 공개 특허 WO/03/084292호는 두개의 전극 사이에 나노결정을 포함하고 있는 유무기 혼합 매트릭스로 구성되어 있는 소자에 대하여 설명하고 있다. 구체적으로 나노결정과TPD(N,N-diphenyl-N,N-bis(3-methylphenyl)- (1,1-biphenyl)-4,4-diamine)와 같은 저분자 정공수송 물질을 혼합한 용매를 전극 위에 스핀 코팅하는 방법을 제시하고 있다. 이 때 코팅 조건과 물질의 혼합비율을 적절히 조절하면 저분자 정공수송층과 나노 결정이 분자간력의 차이 또는 밀도의 차이로 인하여 나노 결정층이 정공수송층의 윗부분에 형성되게 된다. 이러한 제조 공정에 의하여 생성된 나노 결정층은 정공수송층의 상단에 층을 형성하기는 하지만 ,정공수송층이 혼합된 상태로 층을 형성하므로, 그 위 층에 형성된 전자수송층과 정공수송층이 접촉하게 되어, 나노 결정과 함께 정공/전자수송층이 같이 발광을 하게 된다. 상기 국제특허공개는 이러한 문제를 해결하기 위하여 나노 결정을 포함한 정공수송층을 코팅하여 박막을 형성한 후 전자수송층을 형성하기 전에 정공 억제층을 삽입하는 기술을 개시하고 있다. 또한, 나노결정과 혼합하는 정공수송 물질로는 저분자를 사용하고 있는데, 이는 고분자의 용해도가 낮아 나노결정을 용해 시키는 용매에 용해되는 고분자로 물질이 한정될 뿐만 아니라 용해가 되는 고분자라고 하더라도 용해도가 높지 않아 나노결정-정공수송층의 두께를 조절하기 어렵기 때문이다.
미국특허 제 6,049,090호에서는 두 개의 전극 사이에 나노결정- 매트릭스 혼합층을 발광층으로 사용하는 소자에 대하여 설명하고 있는데, 이 때 나노결정에서 발광이 잘 일어나도록 밴드 갭 에너지가 나노결정 보다 크고 전도대 (Conduction band) 에너지 준위는 더 높고 가전자대(Valence band) 에너지 준위는 더 낮은 매트릭스를 선택하여 전자와 홀을 나노결정에 감금하여 소자의 발광 효율을 높일 수 있다고 설명하고 있다.
이상에서 설명한 바와 같은 기존의 나노결정을 발광물질로 사용하는 전기 발광소자들에서는 나노결정이 발광기능과 전하 수송기능을 병행해서 수행하거나, 정공수송층과 혼합된 층을 형성하거나, 정공수송층과 혼합하여 코팅한 후 공정 조건에 따라 상,하단에 밀도 차이로 분리되도록 한다. 그러나 이러한 종래의 방법들은 순수한 나노결정 발광 스펙트럼을 얻을 수 없어 전기발광 소자의 색순도가 저하되는 문제점을 갖는다.
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 극복하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 고분자 정공수송층과 유기물 전자수송층 사이에 독립적으로 분리된 나노결정 발광층을 형성함으로써 순수한 나노결정 발광 스펙트럼을 수득하여 색순도가 높은 전기발광 소자를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 정공수송층 재료의 선정 과정에서 나노 결정이 분산된 용매와의 용해도에 관계 없이 정공수송층 재료를 선택할 수 있는 전기발광 소자의 제조방법을 제공하는 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은
고분자 정공수송층과 유기물 전자수송층 사이에 상기 고분자 정공수송층과 접촉된 별도의 나노 결정 발광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자이다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양상은
양극이 패터닝된 기판 위에 정공을 주입하는 고분자 정공수송층을 제조하는 단계;
상기 고분자 정공수송층 상에 나노 결정 용액을 코팅하여 나노 결정 발광층을 형성하는 단계;
상기 나노결정 발광층 상에 유기물 전자수송층을 형성하는 단계; 및
상기 유기물 전자수송층 상에 전자를 주입하는 음극을 형성하는 단계를 포함하는 전기발광 소자의 제조방법이다.
이하에서 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 의한 전기발광 소자는 고분자 정공수송층과 유기물 전자수송층 사이에 상기 고분자 정공수송층과 접촉된 별도의 독립된 나노 결정 발광층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 전기발광소자의 단면 개략도이다. 도 1 을 참조하면, 본 발명에 의한 전기 발광 소자는 투명 기판 (10)위에 양극(20), 고분자 정공수송층(30), 나노결정 발광층(40), 유기물 전자수송층(50) 및 음극(60)이 순차적으로 적층된 구조를 갖는다. 상기 고분자 정공수송층(30)은 전자를 수송할 수 있는 재료로 만들어지고, 전자수송층(50)은 전자를 수송할 수 있는 재료로 만들어진다. 두 개의 전극에 전압이 인가되면 양극(20)에서는 정공이 정공수송층(30)으로 주입되고 음극(60)에서는 전자가 유기물 전자수송층(50)으로 주입된다. 전자와 정공이 같은 분자에서 만나게 되면 엑시톤이 형성되고, 이 엑시톤이 재결합하면서 발광을 한다.
선택적으로 본 발명에서는 양극(20)과 정공수송층(30) 사이에 정공 주입층, 정공수송층(30)과 나노 결정 발광층(40) 사이에 전자억제층이나 정공억제층 또는 전자/정공억제층, 혹은 나노 결정 발광층(40)과 전자수송층(50) 사이에 전자억제층 이나 정공억제층 또는 전자/정공억제층이 도입될 수 있다.
본 발명의 전기발광 소자에서 사용되는 투명 기판(10)은 통상적인 유기 전기발광 소자에 사용되는 기판을 사용하는데, 투명성, 표면평활성, 취급용이성 및 방수성이 우수한 유리기판 또는 투명 플라스틱 기판이 바람직하다. 더욱 구체적인 예로는 유리기판, 폴리에틸렌테레프탈레이트 기판, 폴리카보네이트 기판 등이 있으며, 그 두께는 0.3~1.1 mm인 것이 바람직하다.
상기 투명 기판(10) 위에 형성되는 정공의 주입이 용이한 양극(20)의 재료는 전도성 금속 또는 그 산화물로서, 구체적인 예로서, ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), 니켈(Ni), 백금(Pt), 금(Au), 은(Ag), 이리듐(Ir) 등을 사용 할 수 있다.
고분자 정공수송층(30)의 소재로는 통상적으로 사용되는 물질을 모두 사용할 수 있으며, 그 구체적인 예는 PEDOT (poly(3, 4-ethylenedioxythiophene)/PSS (polystyrene parasulfonate)) 유도체, 폴리N 비닐카르바졸 (poly-N-vinylcarbazole) 유도체, 폴리페닐렌비닐렌 (polyphenylenevinylene) 유도체,폴리파라페닐렌(polyparaphenylene)유도체,폴리메타크릴레이트(polymethaacrylate) 유도체, 폴리 ((9,9-옥틸플루오렌)(poly(9,9-octylfluorene)) 유도체, 폴리 (스파이로-플루오렌)(poly(spiro-fluorene)) 유도체를 포함하나 반드시 이들로 국한되는 것은 아니다. 본 발명에서 고분자 정공수송층(30)의 두께는 10 내지 100 nm가 바람직하다.
본 발명에서 유기물 전자수송층(50)의 소재로는 통상적으로 사용되는 물질을 사용할 수 있다. 구체적인 예들은 옥사졸계 화합물, 이소옥사졸계 화합물, 트리아졸계 화합물, 이소티아졸(isothiaxole)계 화합물, 옥시디아졸계 화합물, 티아디아졸(thiadiazole)계 화합물, 페릴렌(perylene)계 화합물, Alq3 (tris(8-quinoline) -aluminium), Balq, Salq, Almq3등의 알루미늄 착물을 포함하나 반드시 이들로 국한되는 것은 아니다. 본 발명에서 유기물 전자수송층(50)의 두께는 10 내지 100nm가 바람직하다.
본 발명에서 전자억제층, 정공억제층 또는 전자/정공억제층의 소재로는 통상적으로 사용되는 물질을 사용할 수 있으며, 구체적인 예들은 TAZ (3-phenyl-4 (1-naphthyl)-5-phenyl-1,2,4-triazole), BCP (2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline), 페난트롤린(phenanthrolines)계 화합물, 이미다졸계 화합물, 트리아졸(triazoles)계 화합물, 옥사디아졸 (oxadiazoles)계 화합물 및 알루미늄 착물로 구성되는 군에서 선택되는 1종 이상의 재료를 포함하나 반드시 이들로 국한되는 것은 아니다. 본 발명에서 바람직한 전자억제층, 정공억제층 또는 전자/정공억제층의 두께는 5 내지 50 nm이다.
전자 주입을 위한 음극(60)의 재료는 전자 주입이 용이한 일 함수가 작은 금속 즉, [I], Ca, Ba, Ca/Al, LiF/Ca, LiF/Al, BaF2/Al, BaF2/Ca/Al, Al, Mg, Ag:Mg 합금 등을 포함하나, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니며, 음극의 두께는 50 nm 내지 300nm인 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용가능한 나노결정은 금속 나노결정, 반도체 나노 결정 등 습식으로 합성된 대부분의 나노 결정을 포함한다. 구체적으로 본 발명에서 나노결정 발광층(40)은 Au, Ag, Pt, Pd, Co, Cu, Mo 등의 금속 나노 결정, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe 등의 II-VI족 화합물 반도체 나노 결정, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs 등의 III-V족 화합물 반도체 나노 결정, PbS, PbSe, PbTe로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이다. 본 발명에서 상기 나노결정 발광층이 상기 2 이상의 물질들의 혼합물로 존재하는 경우, 단순 혼합물로 존재하거나 각 물질들의 결정 구조가 부분적으로 나누어져 동일 입자 내에 존재하거나 합금 형태로 존재할 수 있다. 본 발명에서 나노 결정 발광층의 두께는 3 내지 30 nm이다.
본 발명은 나노결정 전기발광 소자의 제조방법에도 관계한다. 본 발명의 전기발광 소자의 제조 방법에서는 먼저 정공이 주입되는 양극 위에, 고분자 정공수송층을 여러 가지 코팅방법으로 박막화한 후 열처리를 하여 견고한 박막을 형성하고, 그 위에 고분자 층이 용해되지 않는 용매를 사용하여 분산된 나노결정 용액을 여러 가지 코팅방법으로 박막화하여 고분자 정공수송층과 분리된 독립적인 나노결정 발광층을 형성하고, 그 위에 유기물 전자수송층과 전자가 주입되는 음극을 차례로 적층한다.
도 2는 도 1의 단면 구조를 갖는 본 발명에 의한 전기발광 소자의 제조공정을 설명하기 위한 도면이다. 도 2를 참조하면, 먼저 양극(20)이 패터닝된 기판 (10) 위에 고분자 정공수송층 (30)을 스핀 코팅 등의 여러 가지 코팅 방법으로 형성하고, 열처리 등을 하여, 나노결정 발광층을 형성할 때 박막이 손상되지 않도록 견고한 박막을 형성한다. 이어서 그 위에 고분자 정공수송층(30)을 비교적 용해하지 않는 용매 내에 분산된 나노결정 용액을 스핀 코팅 등의 여러 가지 코팅 방법으로 박막화하여 독립적인 나노결정 발광층(40)을 형성한다. 그 위에 다시 유기물 전자수송층(50)을 형성하고, 음극(60)을 증착하여 전기발광소자를 제조한다.
양극(20)이 패터닝된 기판(10)은 일반적으로 중성세제, 탈이온수, 아세톤, 이소프로필알콜 등의 용매로 세정한 다음, UV-오존 처리 및 플라즈마 처리를 하여 사용한다.
본 발명의 방법에서 나노결정 발광층은 감광기가 있는 물질로 배위된 나노 결정을 상기 고분자 정공수송층을 손상시키지 않는 용매에 분산시킨 나노 결정 용액을 코팅하여 박막화하거나 감광기가 없는 물질로 배위된 나노 결정과 감광성 물질을 상기 고분자 정공수송층을 손상시키지 않는 용매에 분산시킨 나노 결정 용액을 코팅하여 박막화하여 형성한다.
본 발명에서 상기 정공수송층 박막을 손상하지 않기 위해 사용하는 나노 결정의 분산 용액은 물, 피리딘, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올,톨루엔 ,클로로포름, 클로로벤젠, THF, 시클로헥산, 시클로헥센, 메틸렌 클로라이드, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸 또는 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
또한 본 발명에서는 나노 결정 발광층 (40) 위에 유기물 전자수송층(50)을 코팅하기 전에 나노 결정 발광층 (40)을 자외선에 노광하여 가교시킬 수 있다. 이 때 200nm 내지 450nm의 자외선 파장 범위에서 나노결정 발광층을 노광하여 가교시킬 수 있다. 이와 같이 해서 수득된 상기 나노 결정의 발광 파장은 350nm에서 1300nm이다.
본 발명에서 상기 나노결정 발광층과 고분자 정공수송층의 재료 및 상기 정공수송층 박막을 손상하지 않기 위해 사용하는 나노 결정의 분산 용액은 상술한 바와 같고, 나노 결정의 분산 용액의 농도는 바람직하게 0.01wt% 내지 10wt%이고, 더욱 바람직하게는 0.1wt% 내지 5wt%이며, 가장 바람직하게는 0.2wt% 내지 2wt%이다.
본 발명에서 유기물 전자수송층(50)의 재료는 저분자 또는 고분자가 모두 가능하고, 코팅 방법도 진공 증착 또는 습식 코팅 방법 등을 모두 사용할 수 있다. 습식 코팅으로 유기물 전자수송층(50)을 형성하는 첫번째 방법으로는 감광기가 있는 물질로 배위된 나노결정을 박막화한 후 자외선 등에 노광하여 가교 상태의 박막을 제조함으로써, 나노 결정의 박막층이 전자수송층을 포함한 용매에 녹지 않게 만들어 그 위에 유기물 전자수송층(50)을 습식 코팅 방법으로 형성할 수 있다. 두 번째 방법으로는 감광기가 없는 물질로 배위된 나노 결정을 감광성 물질과 잘 혼합하여 박막화한 후 자외선 등에 노광하여 감광성 물질이 가교되어 이루는 망목 구조에 나노 결정이 잘 포함되는 상태의 박막을 제조함으로써, 나노 결정 박막층이 전자수송층을 포함한 용매에 녹지 않게 만들어 그 위에 전자수송층을 습식 코팅 방법으로 형성할 수 있다.
상기 나노 결정에 배위된 유기물이 알킬사슬 또는 방향족의 한쪽 말단 또는 양쪽 말단에 아세틸기, 아세틱 산기, 포스핀기, 포스포닉 산기, 알코올기, 바이닐기, 카르복실기, 아마이드기, 페닐기, 아민기, 아크릴기, 실란기, 시안기 및 싸이올기로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 작용기가 존재하는 화합물을 일종 이상 사용하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 나노 결정에 배위된 감광기 물질은 이중결합, 카르복실기, 아마이드기, 페닐기, 바이페닐기, 퍼옥사이드기, 아민기 및 아크릴기로 구성되는 군에서 선택되는 것일 수 있다.
본 발명의 전기발광 소자의 제조방법에 의해 전기발광 소자를 제조하는 경우에는 양극과 정공수송층 사이에 정공 주입층을 삽입하거나, 정공수송층과 나노 결정 발광층 사이에 전자 억제층을 삽입할 수 있고, 나노 결정 발광층과 전자수송층 사이에 정공 억제층을 삽입할 수 있다.
도 3a, 3b는 유기물 정공 수송 재료와 나노결정을 혼합한 용액을 스핀 코팅 등을 하여 박막화한 경우를 나타내는 도면이다. 이 때의 유기물 정공 수송 재료는 저분자인 경우와 고분자인 경우가 모두 해당될 수 있다. 도 3a는 종래기술에 의해 유기물 정공 수송 재료와 나노 결정의 혼합 용액을 스핀 코팅한 경우 밀도와 분자 간력의 차이에 의하여 상,하단의 나노 결정 밀도가 차이가 나는 경우를 나타낸 도면이다. 이 때 상단에 존재하는 나노 결정(25)은 부분적으로는 독립된 층을 형성할 수도 있겠으나, 대부분 정공 수송 물질이 혼합되어 있다. 도 3b는 나노결정 (25)이 유기물 정공 수송 재료 내에 균일하게 분산이 되어 하나의 혼합된 층을 나타내는 도면이다. 도3c는 도2에서 설명한 본 발명에 의한 제조방법에 의한 경우, 나노결정 발광층(40)이 고분자 정공수송층 (30)으로부터 완전히 분리된 층을 형성하는 경우의 도면이다.
본 발명의 전기발광 소자에서 독립적으로 분리된 나노결정 발광층 이외의 제작은 특별한 장치나 방법을 필요로 하지 않으며, 통상의 발광 재료를 이용한 유기 전기발광 소자의 제작방법에 따라 제작될 수 있다.
본 발명에서 정공수송층(30) 및 전자수송층(50)의 박막화 방법으로는 스핀 코팅(spin coating), 딥 코팅(dip coating), 분무 코팅(spray coating), 블레이드 코팅(blade coating) 등이 다 해당될 수 있으며, 상기 발명에서 사용되는 박막의 노광 방법으로는 접촉 노광법과 비접촉 노광법을 모두 사용할 수 있다. 본 발명에서는 나노 결정 발광층(40) 위에 열 증착법, 분자 증착법, 화학 증착법에 의해 전자수송층(50)을 형성할 수 있다.
박막화 후 건조 온도는 20℃도에서 300℃, 바람직하게는 40℃ 내지 120℃ 이다. 감광처리 에너지는 50 mJ/cm2 ~ 850 mJ/cm2 정도로, 두께에 따라 달라지는데 상기 범위를 벗어나면 충분한 가교반응이 일어나기 어렵거나, 박막이 손상될 수 있 다. 사용하는 광원은 200 nm에서 500nm 사이의 광원으로 바람직하게는 300 nm에서 400nm의 유효파장으로 에너지는 100에서 800W 정도를 사용하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명을 하기 실시예를 들어 더욱 상세하게 설명할 것이다. 이러한 실시예들은 본 발명의 바람직한 구현예를 설명하기 위한 것으로, 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.
제조예 1. CdSeS 나노결정의 제조
트리옥틸아민 (Trioctylamine, 이하 TOA로 나타냄) 16g과 올레인산 0.5g, 카드뮴 옥사이드 0.4mmol을 동시에 환류 콘덴서가 설치된 125ml 플라스크에 넣고, 교반하면서 반응 온도를 300℃로 조절하였다. 이와 별도로 Se 분말을 트리옥틸 포스핀(TOP)에 녹여서 Se 농도가 약 0.25M 정도인 Se-TOP 착물용액을 만들고, S 분말을 TOP에 녹여서 S 농도가 약 1.0M 정도인 S-TOP 착물 용액을 만들었다. 상기 교반되고 있는 반응 혼합물에 S-TOP 착물 용액 0.9ml와 Se-TOP 착물 용액 0.1ml의 혼합물을 빠른 속도로 주입하고 4분 정도 더 교반시켰다. 반응이 종결되면, 반응 혼합물의 온도를 가능한 빨리 상온으로 떨어뜨리고, 비용매 (non solvent)인 에탄올을 부가하여 원심 분리를 실시하였다. 원심 분리된 침전을 제외한 용액의 상등액은 버리고, 침전은 톨루엔에 1wt% 용액이 되도록 분산시켰다. 이렇게 합성된 나노 결정은 365nm UV 램프 아래에서 연두색으로 발광한다. 도 4에 이렇게 만들어진 나노결정 용액의 광 여기 발광 스펙트럼을 나타내었으며, 발광 파장의 중심은 약 552 nm에서 나타났고, FWHM(full-width at half maximum)은 약 30 nm이다.
제조예 2. CdSe / ZnS 나노결정의 제조
TOA 16g과 올레인산 0.5g, 카드뮴 옥사이드 0.1mmol을 동시에 환류 콘덴서가 설치된 125ml 플라스크에 넣고, 교반하면서 반응 온도를 300℃로 조절하였다. 이와 별도로 Se 분말을 트리옥틸 포스핀(TOP)에 녹여서 Se 농도가 약 2 M 정도인 Se-TOP 착물용액을 만들었다. 상기 교반되고 있는 반응 혼합물에 Se-TOP 착물 용액 1ml를 빠른 속도로 주입하고 약 10초 정도 더 교반시켰다. 반응이 종결되면, 반응 혼합물의 온도를 가능한 빨리 상온으로 떨어뜨리고, 비용매 (non solvent)인 에탄올을 부가하여 원심 분리를 실시하였다. 원심 분리된 침전을 제외한 용액의 상등액은 버리고, 침전은 톨루엔에 분산시켰다.
TOA 8g과 올레인산 0.1g, 아연 아세테이트 0.4 mmol을 동시에 환류 콘덴서가 설치된 125ml 플라스크에 넣고, 교반하면서 반응 온도를 260℃로 조절하였다. 위에서 합성한 CdSe 나노결정 용액을 반응물에 첨가한 후 S-TOP 착물 용액을 천천히 가하여 약 1시간 동안 반응시켰다. 반응이 종결되면, 반응 혼합물의 온도를 가능한 빨리 상온으로 떨어뜨리고, 비용매 (non solvent)인 에탄올을 부가하여 원심 분리를 실시하였다. 원심 분리된 침전을 제외한 용액의 상등액은 버리고, 침전은 톨루엔에 분산시켰다. 이렇게 얻어진 나노결정은 365nm UV 램프 아래에서 연두색으로 발광한다. 도 5에 이렇게 만들어진 나노결정 용액의 광 여기 발광 스펙트럼을 나타내었으며, 발광 파장의 중심은 약 527 nm에서 나타났고, FWHM(full-width at half maximum)은 약 30 nm이다.
실시예 1. 옥탄 용매에 분산된 CdSeS 나노 결정 발광층을 채용한 전기발광 소자의 제조예
본 실시예는 독립적으로 분리된 나노 결정 발광층으로 구성된 전기발광 소자의 제조예이다. 먼저 유리 기판 위에 ITO가 패턴 되어있는 기판을 중성세제, 탈이온수, 물 및 이소프로필알콜 등의 용매를 사용하여 순차적으로 세정한 다음, UV-오존 처리를 한다. ITO 기판 위에 TFB (poly(9,9-dioctylfluorene-co-N- (4-butylphenyl) diphenylamine)) 고분자를 클로로벤젠 용매에 녹여, 1wt% 농도로 만든 후, 50nm 정도의 두께로 스핀 코팅하여 180℃에서 10분 동안 열처리를 함으로써 정공수송층을 형성하였다. 그 위에 제조예 1에서 합성한 CdSeS 나노결정을 정공수송층을 전혀 녹여 내지 않는 옥탄 용매에 1wt%로 분산시켜 제조된 용액을 스핀 코팅하고, 이를 건조하여 약 5 nm 두께의 나노결정 발광층을 형성하였다.
완전히 건조시킨 상기 나노결정 발광층 상부에 정공 억제층인 TAZ (3-(4-biphenylyl)-4-phenyl-5-(4-tert-butylphenyl)-1,2,4-triazole)를 10nm 증착하고, 전자수송층인 Alq3 (tris-(8hydroxyquinoline) aluminum)를 30nm 정도의 두께로 증착하여 형성하고, 이 상부에 LiF를 1nm 두께로 증착하고, 알루미늄을 200nm 두께로 증착하여 음극을 형성하여, 전기발광 소자를 완성하였다.
본 실시예에서 수득한 전기발광 소자의 전기 발광 스펙트럼을 조사하여 도 6a에 나타내었다. 도 6a에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의해 제조된 나노결정 발광층이 독립적으로 분리된 본 발명의 전기발광 소자는 발광 파장의 중심이 약 556 nm에서 나타났고, FWHM은 약 40 nm으로 나타났다.
실시예 2. 클로로 벤젠 용매에 분산된 CdSeS 나노 결정 발광층을 채용한 전기발광 소자의 제조예
유리 기판 위에 ITO가 패턴 되어있는 기판을 중성세제, 탈이온수, 물, 이소프로필알콜 등의 용매를 사용하여 순차적으로 세정한 다음, UV-오존 처리를 한다. ITO 기판 위에 정공수송층인 TFB (poly(9,9-dioctylfluorene-co-N-(4-butylphenyl) diphenylamine)) 고분자를 클로로벤젠 용매에 녹여, 1wt% 농도로 만든 후, 50nm 정도의 두께로 스핀 코팅하여 180℃ 에서 10분 동안 열처리를 한다. 이어서 상기 제조예 1에서 합성한 CdSeS 나노결정을 정공수송층을 손상하지 않는 클로로벤젠 용매에 1wt%로 분산시켜 제조된 용액을 스핀 코팅하고, 이를 건조하여 약 5 nm 두께의 나노결정 박막을 형성하였다.
완전히 건조시킨 상기 나노결정발광층상부에 정공억제층인 TAZ(3-(4-biphenylyl) -4-phenyl-5-(4-tert-butylphenyl)-1,2,4-triazole)를 10nm 증착하고, 전자수송층인 Alq3 (tris-(8hydroxyquinoline) aluminum)를 30nm 정도의 두께로 증착하여 형성하고, 이 상부에 LiF를 1nm 두께로 증착하고, 알루미늄을 200nm 두께로 증착하여 전극을 형성하여, 전기발광 소자를 제조하였다.
본 실시예에서 수득한 전기발광 소자의 전기 발광 스펙트럼을 조사하여 도 6b에 나타내었다. 도 6b에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의해 제조된 나노결정 발광층이 독립적으로 분리된 본 발명의 전기발광 소자는 발광 파장의 중심이 약 556 nm에서 나타났고, FWHM은 약 50 nm으로 나타났다.
실시예 3. 정공 억제층을 포함하지 않고, 옥탄 용매에 분산된 CdSe / ZnS 나노 결정 발광층을 채용한 전기발광 소자의 제조예
유리 기판 위에 ITO가 패턴 되어있는 기판을 중성세제, 탈이온수, 물, 이소프로필알콜 등의 용매를 사용하여 순차적으로 세정한 다음, UV-오존 처리를 한다. ITO 기판 위에 정공수송층인 TFB (poly(9,9-dioctylfluorene-co-N-(4-butylphenyl) diphenylamine)) 고분자를 클로로벤젠 용매에 녹여, 1wt% 농도로 만든 후, 50nm 정도의 두께로 스핀 코팅하여 180℃ 에서 10분 동안 열처리를 한다. 이어서 상기 제조예 2에서 합성한 CdSe/ZnS 나노결정을 정공수송층을 손상하지 않는 옥탄 용매에 1wt%로 분산시켜 제조된 용액을 스핀 코팅하고, 이를 건조하여 약 5 nm 두께의 나노결정 박막을 형성하였다.
완전히 건조시킨 상기 나노결정 발광층 상부에 전자수송층인 Alq3(tris- (8hydroxyquinoline) aluminum)를 40nm 정도의 두께로 증착하여 형성하고, 이 상부에 LiF를 1nm 두께로 증착하고, 알루미늄을 200nm 두께로 증착하여 전극을 형성하여, 전기발광 소자를 제조하였다.
본 실시예에서 수득한 전기발광 소자의 전기 발광 스펙트럼을 조사하여 도 7에 나타내었다. 도 7에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 의해 제조된 나노결정 발광층이 독립적으로 분리된 본 발명의 전기발광 소자는 발광 파장의 중심이 약 530 nm에서 나타났고, FWHM은 약 46 nm으로 나타났다.
비교예 1. 정공 수송 재료와 CdSeS 나노 결정이 혼합된 용액을 코팅하여 제조된 종래 기술에 의한 전기발광 소자의 제조예
본 비교예는 종래 기술에 따라 정공 수송 재료와 나노 결정이 혼합된 용액을 코팅하여 코팅 과정에서 일어나는 상 분리에 의한 나노 결정의 밀도 차이로 인해 정공수송층과 발광층을 분리하는 종래 기술에 의한 전기발광 소자의 제조방법을 시현한 것이다.
유리 기판 위에 ITO가 패턴 되어있는 기판을 중성세제, 탈이온수, 물, 이소프로필알콜 등의 용매를 사용하여 순차적으로 세정한 다음, UV-오존 처리를 한다. ITO 기판 위에 TFB 고분자 (poly(9,9-dioctylfluorene-co-N- (4-butylphenyl) diphenylamine))와 제조예 1에서 합성한 CdSeS 나노결정을 무게 비를 1:1로 하여 클로로벤젠 용매에 1wt%로 제조하고 스핀 코팅하여 180℃에서 10분 동안 열처리하여 박막을 형성하였다.
완전히 건조시킨 상기 발광층을 포함하는 정공수송층 상부에 정공 억제층인 TAZ (3-(4-biphenylyl)-4-phenyl-5-(4-tert-butylphenyl)-1,2,4-triazole)를 10nm 증착하고, 전자수송층인 Alq3 (tris-(8hydroxyquinoline) aluminum)를 30nm 정도의 두께로 증착하였다. 이어서 상기 전자수송층 상부에 LiF를 1nm 두께로 증착하고, 알루미늄을 200nm 두께로 증착하여 전극을 형성함으로써, 전기발광 소자를 제조하였다.
본 비교예에서 수득한 전기발광 소자의 전기 발광 스펙트럼을 조사하여 도 8에 나타내었다. 도 8에서 확인되는 바와 같이, 종래 기술에 의해 제조된 전기발광 소자는 발광층인 나노결정을 포함한 정공수송층과 전자수송층 전 영역에서 발광을 나타내고 있다.
본 발명에 의한 전기발광 소자는 가시광에서 적외선 범위의 직접 천이형 밴드 갭을 갖고, 발광 효율 높은 나노 결정으로 제조된 독립적으로 분리된 나노결정 발광층을 포함하므로, 전기발광 소자가 전압 등의 구동 조건에 영향을 거의 받지 않고, 기타의 유기층 발광을 최대 억제한 순수한 나노결정 발광 스펙트럼을 제공하여 색순도가 높은 이점을 제공한다. 또한 본 발명에 의한 전기발광 소자의 제조방법에 의하면 나노 결정이 분산된 용매와 정공수송층 재료의 용해도에 관계 없이 정공수송층 재료를 선택할 수 있어 공정성이 향상된 이점을 갖는다.

Claims (20)

  1. 고분자 정공수송층과 유기물 전자수송층 사이에 상기 고분자 정공수송층을 형성한 후 독립적으로 형성된 상기 고분자 정공수송층과 접촉된 나노 결정 발광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 전기발광 소자가 투명 기판 위에 양극, 고분자 정공수송층, 나노결정발광층, 유기물 전자수송층 및 음극이 순차적으로 적층된 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 전기발광 소자가 고분자 정공수송층과 양극 사이에 또는 유기물 전자수송층과 나노결정 발광층 사이에 정공주입층, 전자억제층, 정공억제층 또는 전자/정공 억제층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 나노결정 발광층이 Au, Ag, Pt, Pd, Co, Cu, Mo의 금속 나노 결정, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe의 II-VI족 화합물 반도체 나노 결정, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs의 III-V족 화합물 반도체 나노 결정, PbS, PbSe, PbTe로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이고 ,상기 나노결정 발광층이 상기 2 이상의 물질들의 혼합물로 존재하는 경우, 단순 혼합물로 존재하거나 각 물질들의 결정 구조가 부분적으로 나누어져 동일 입자 내에 존재하거나 합금 형태로 존재하는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 고분자 정공수송층이 PEDOT (poly(3, 4-ethylenedioxythiophene)/PSS (polystyrene parasulfonate)) 유도체, 폴리 N-비닐카르바졸 (poly-N-vinylcarbazole) 유도체, 폴리페닐렌비닐렌 (polyphenylenevinylene) 유도체, 폴리파라페닐렌 (polyparaphenylene) 유도체, 폴리메타크릴레이트(polymethaacrylate) 유도체, 폴리 ((9,9-옥틸플루오렌) (poly(9,9-octylfluorene)) 유도체, 폴리(스파이로-플루오렌) (poly(spiro-fluorene)) 유도체로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 재료로 형성된 것을 특징으로 하는 전기발광 소자.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 나노 결정 발광층의 두께가 3 에서 30 nm 사이인 것을 특징으로 하는 전기발광 소자.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 전자수송층의 소재가 옥사졸계 화합물, 이소옥사졸계 화합물, 트리아졸계 화합물, 이소티아졸(isothiaxole)계 화합물, 옥시디아졸계 화합물, 티아디아졸(thiadiazole)계 화합물, 페릴렌(perylene)계 화합물, Alq3(tris(8-quinoline)-aluminium), Balq, Salq, Almq3로 구성되는 그룹으로부터 선택되고, 상기 전자수송층의 두께가 10 내지 100nm인 것을 특징으로 하는 전기발광소자.
  8. 제 3항에 있어서, 상기 전자억제층, 정공억제층 또는 전자/정공억제층은 TAZ (3-phenyl-4(1-naphthyl)-5-phenyl-1,2,4-triazole), BCP (2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline), 페난트롤린(phenanthrolines)계 화합물, 이미다졸계 화합물, 트리아졸(triazoles)계 화합물, 옥사디아졸(oxadiazoles)계 화합물 및 알루미늄 착물로 구성되는 군에서 선택되는 1종 이상의 재료로 형성되고, 그 두께는 5 내지 50 nm인 것을 특징으로 하는 전기발광 소자.
  9. 양극이 패터닝된 기판 위에 정공을 주입하는 고분자 정공수송층을 제조하는 단계;
    상기 고분자 정공수송층 상에 나노 결정 용액을 코팅하여 나노 결정 발광층 을 형성하는 단계;
    상기 나노결정 발광층 상에 유기물 전자수송층을 형성하는 단계; 및
    상기 유기물 전자수송층 상에 전자를 주입하는 음극을 형성하는 단계를 포함하는 전기발광 소자의 제조방법.
  10. 제 9항에 있어서, 상기 나노결정 발광층 형성 단계가 감광기가 있는 물질로 배위된 나노 결정을 상기 고분자 정공수송층을 손상시키지 않는 용매에 분산시킨 나노 결정 용액을 코팅하거나 감광기가 없는 물질로 배위된 나노 결정과 감광성 물질을 상기 고분자 정공수송층을 손상시키지 않는 용매에 분산시킨 나노 결정 용액을 코팅하여 박막화하는 과정인 것을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  11. 제 9항에 있어서, 상기 나노결정 발광층이 Au, Ag, Pt, Pd, Co, Cu, Mo의 금속 나노 결정, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe의 II-VI족 화합물 반도체 나노 결정, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs의 III-V족 화합물 반도체 나노 결정, PbS, PbSe, PbTe 또는 이들의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이고, 상기 나노결정 발광층이 상기 2 이상의 물질들의 혼합물로 존재하는 경우, 단순 혼합물로 존재하거나 각 물질들의 결정 구조가 부분적으로 나누어져 동일 입자 내에 존재하거나 합금 형태로 존재하는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  12. 제 10항에 있어서, 상기 정공수송층을 손상시키지 않는 용매가 물, 피리딘, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올, 톨루엔, 클로로포름, 클로로벤젠, THF, 시클로헥산, 시클로헥센, 메틸렌 클로라이드, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸 또는 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  13. 제 9항에 있어서, 상기 전자수송층 형성 단계가 스핀코팅, 딥코팅, 분무코팅, 또는 블레이트코팅에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  14. 제 10항에 있어서, 상기 나노 결정의 분산 용액의 농도가 0.01wt% 내지 10wt%인 것을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  15. 제 9항에 있어서, 상기 나노 결정 발광층의 두께가 3 내지 30 nm인 것을 특 징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  16. 제 9항에 있어서, 상기 고분자 정공수송층의 소재가 PEDOT (poly(3, 4-ethylenedioxythiophene)/PSS (polystyrene parasulfonate)) 유도체, 폴리 N-비닐카르바졸 (poly-N-vinylcarbazole) 유도체, 폴리페닐렌비닐렌 (polyphenylenevinylene) 유도체, 폴리파라페닐렌 (polyparaphenylene) 유도체, 폴리메타크릴레이트(polymethaacrylate) 유도체, 폴리 ((9,9-옥틸플루오렌) poly (9,9-octylfluorene)) 유도체, 폴리 스파이로-플루오렌) poly(spiro-fluorene)) 유도체로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  17. 제 9항에 있어서, 상기 전자수송층 형성 단계가 나노 결정 발광층 위에 열 증착법, 분자 증착법, 화학 증착법에 의해 전자수송층을 형성하는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  18. 제 9항에 있어서, 상기 방법이 나노 결정 발광층 위에 전자수송층을 코팅하기 전에 나노 결정 발광층을 자외선에 노광하여 가교시키는 단계를 추가로 포함하 는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  19. 제 10항에 있어서, 나노 결정에 배위된 감광기 물질은 이중결합, 카르복실기, 아마이드기, 페닐기, 바이페닐기, 퍼옥사이드기, 아민기 및 아크릴기로 구성되는 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
  20. 제 9항에 있어서, 상기 방법이 양극과 정공수송층 사이에 정공주입층을 삽입하거나, 정공수송층과 나노 결정 발광층 사이에 전자억제층을 삽입하거나, 나노 결정 발광층과 전자수송층 사이에 정공억제층을 삽입하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전기발광 소자의 제조방법.
KR1020040042200A 2004-06-09 2004-06-09 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법 KR100736521B1 (ko)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040042200A KR100736521B1 (ko) 2004-06-09 2004-06-09 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법
US11/002,465 US20050274944A1 (en) 2004-06-09 2004-12-03 Nanocrystal electroluminescence device and fabrication method thereof
JP2005163609A JP2005353595A (ja) 2004-06-09 2005-06-03 ナノ結晶エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
US12/722,903 US8012781B2 (en) 2004-06-09 2010-03-12 Method for fabricating an electroluminescence device
US13/196,388 US8440480B2 (en) 2004-06-09 2011-08-02 Method for fabricating an electroluminescence device
JP2011243999A JP2012038741A (ja) 2004-06-09 2011-11-07 ナノ結晶エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040042200A KR100736521B1 (ko) 2004-06-09 2004-06-09 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050117030A KR20050117030A (ko) 2005-12-14
KR100736521B1 true KR100736521B1 (ko) 2007-07-06

Family

ID=35459576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040042200A KR100736521B1 (ko) 2004-06-09 2004-06-09 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법

Country Status (3)

Country Link
US (3) US20050274944A1 (ko)
JP (2) JP2005353595A (ko)
KR (1) KR100736521B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101030008B1 (ko) * 2004-12-31 2011-04-20 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 전계 발광 소자
KR20160078718A (ko) * 2014-12-24 2016-07-05 주식회사 나래나노텍 개선된 유기 발광다이오드 및 그 제조 방법

Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100697511B1 (ko) * 2003-10-21 2007-03-20 삼성전자주식회사 광경화성 반도체 나노결정, 반도체 나노결정 패턴형성용 조성물 및 이들을 이용한 반도체 나노결정의 패턴 형성 방법
KR100718101B1 (ko) * 2003-10-29 2007-05-14 삼성에스디아이 주식회사 나노 금속 입자를 이용한 전계 발광 소자
KR100736521B1 (ko) * 2004-06-09 2007-07-06 삼성전자주식회사 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법
US8049408B2 (en) 2004-08-10 2011-11-01 Cambridge Display Technology Limited Light emissive device having electrode comprising a metal and a material which is codepositable with the metal
KR20070035341A (ko) * 2005-09-27 2007-03-30 삼성전자주식회사 간극을 채운 반도체 나노결정층을 함유하는 발광소자 및 그제조방법
KR101304635B1 (ko) * 2006-01-09 2013-09-05 삼성전자주식회사 무기물 발광 다이오드 및 그의 제조방법
JP2009526370A (ja) * 2006-02-09 2009-07-16 キユーデイー・ビジヨン・インコーポレーテツド 半導体ナノ結晶およびドープされた有機材料を含む層を含むデバイスおよび方法
KR20080103527A (ko) * 2006-02-14 2008-11-27 메사츄세츠 인스티튜트 어브 테크놀로지 백색 발광 장치들
WO2007143197A2 (en) 2006-06-02 2007-12-13 Qd Vision, Inc. Light-emitting devices and displays with improved performance
KR100764847B1 (ko) * 2006-03-29 2007-10-09 한국화학연구원 저 homo 에너지 준위 유기반도체재료를 이용한 양자점발광소자
WO2007117698A2 (en) 2006-04-07 2007-10-18 Qd Vision, Inc. Composition including material, methods of depositing material, articles including same and systems for depositing material
KR100774200B1 (ko) * 2006-04-13 2007-11-08 엘지전자 주식회사 유기 el 소자 및 그 제조방법
JP5211043B2 (ja) * 2006-06-05 2013-06-12 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 有機発光ダイオードの製造方法
WO2008111947A1 (en) 2006-06-24 2008-09-18 Qd Vision, Inc. Methods and articles including nanomaterial
JP2010508620A (ja) 2006-09-12 2010-03-18 キユーデイー・ビジヨン・インコーポレーテツド 所定のパターンを表示するために有用なエレクトロルミネセントディスプレイ
WO2008033388A2 (en) 2006-09-12 2008-03-20 Qd Vision, Inc. A composite including nanoparticles, methods, and products including a composite
WO2008063658A2 (en) 2006-11-21 2008-05-29 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and compositions and devices including same
WO2008063653A1 (en) 2006-11-21 2008-05-29 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and compositions and devices including same
WO2008063652A1 (en) 2006-11-21 2008-05-29 Qd Vision, Inc. Blue emitting semiconductor nanocrystals and compositions and devices including same
JP5773646B2 (ja) 2007-06-25 2015-09-02 キユーデイー・ビジヨン・インコーポレーテツド ナノ材料を被着させることを含む組成物および方法
JP5143142B2 (ja) * 2007-12-05 2013-02-13 パナソニック株式会社 発光素子
US8304979B2 (en) * 2007-12-06 2012-11-06 Panasonic Corporation Light emitting device having inorganic luminescent particles in inorganic hole transport material
WO2009099425A2 (en) * 2008-02-07 2009-08-13 Qd Vision, Inc. Flexible devices including semiconductor nanocrystals, arrays, and methods
US9525148B2 (en) 2008-04-03 2016-12-20 Qd Vision, Inc. Device including quantum dots
KR101995369B1 (ko) * 2008-04-03 2019-07-02 삼성 리서치 아메리카 인코포레이티드 양자점들을 포함하는 발광 소자
DE102008062283B4 (de) * 2008-12-10 2016-01-07 Technische Universität Dresden Verfahren zur Herstellung großflächig emittierender Lichtemitterdioden
KR101652789B1 (ko) * 2009-02-23 2016-09-01 삼성전자주식회사 다중 양자점층을 가지는 양자점 발광소자
US20110049442A1 (en) * 2009-03-31 2011-03-03 Schreuder Michael A Surface structures for enhancement of quantum yield in broad spectrum emission nanocrystals
WO2011047385A1 (en) 2009-10-17 2011-04-21 Qd Vision, Inc. An optical, component, products including same, and methods for making same
EP2675618B1 (en) 2011-02-17 2018-07-04 Vanderbilt University Enhancement of light emission quantum yield in treated broad spectrum nanocrystals
TW201248894A (en) 2011-05-16 2012-12-01 Qd Vision Inc Device including quantum dots and method for making same
WO2013085611A1 (en) 2011-12-08 2013-06-13 Qd Vision, Inc. Solution-processed sol-gel films, devices including same, and methods
US8969856B2 (en) 2012-08-29 2015-03-03 General Electric Company OLED devices with internal outcoupling
CN102867921B (zh) * 2012-09-13 2015-11-25 深圳市华星光电技术有限公司 有机显示装置
JP6165536B2 (ja) * 2013-07-19 2017-07-19 住友化学株式会社 インク組成物及び有機光電変換素子の製造方法
GB2516930A (en) * 2013-08-07 2015-02-11 Cambridge Display Tech Ltd Organic Light-Emitting Device
JP6158248B2 (ja) * 2014-05-27 2017-07-05 ザ・ボード・オブ・トラスティーズ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・イリノイThe Board Of Trustees Of The University Of Illinois ナノ構造材料の方法および素子
KR101763258B1 (ko) * 2014-07-16 2017-08-03 순천향대학교 산학협력단 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
GB2549938A (en) * 2016-04-29 2017-11-08 Sumitomo Chemical Co Electroluminescence device
JP6721235B2 (ja) * 2016-05-23 2020-07-08 環境資材株式会社 断熱面導水板
WO2019035957A1 (en) * 2017-08-16 2019-02-21 Nanosys, Inc. PEG-BASED LIGANDS HAVING IMPROVED DISPERSION CAPABILITY AND IMPROVED PERFORMANCE
WO2019186844A1 (ja) * 2018-03-28 2019-10-03 シャープ株式会社 発光デバイス、光波長変換デバイス、および表示デバイス
EP3613829A1 (en) 2018-08-23 2020-02-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot device and quantum dots
EP3617292A1 (en) 2018-08-30 2020-03-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Electronic device including quantum dots
JP2020072089A (ja) * 2018-10-30 2020-05-07 国立研究開発法人産業技術総合研究所 半導体粒子および電子デバイス
CN110047982B (zh) * 2019-02-27 2020-07-07 华灿光电(苏州)有限公司 发光二极管、外延片及其制备方法
CN110289363B (zh) * 2019-06-28 2022-06-03 京东方科技集团股份有限公司 纳米粒子层图案化的方法、量子点发光器件及显示装置
US10826011B1 (en) * 2019-07-23 2020-11-03 Sharp Kabushiki Kaisha QLED fabricated by patterning with phase separated emissive layer
KR20210025159A (ko) 2019-08-26 2021-03-09 삼성디스플레이 주식회사 양자점 조성물, 발광 소자 및 이의 제조 방법
KR20210027211A (ko) 2019-08-29 2021-03-10 삼성전자주식회사 양자점 및 이를 포함하는 소자
EP3809474B1 (en) 2019-10-18 2023-07-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot light-emitting device and electronic device
KR20210076744A (ko) 2019-12-16 2021-06-24 삼성전자주식회사 발광소자와 그 제조방법
CN111261793B (zh) * 2020-01-20 2021-11-02 Tcl华星光电技术有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
WO2021184256A1 (zh) 2020-03-18 2021-09-23 京东方科技集团股份有限公司 量子点发光器件及其制备方法、量子点显示面板的制备方法
US20230113550A1 (en) * 2020-04-07 2023-04-13 Sharp Kabushiki Kaisha Display device and display device production method
CN111487305B (zh) * 2020-04-17 2022-10-04 浙江贵大贵金属有限公司 一种基于单原子Pd/ZnTe工作电极的光电化学传感器的制备方法与应用
KR20220003356A (ko) 2020-07-01 2022-01-10 삼성전자주식회사 발광 소자 및 이를 포함하는 표시 장치
CN111952472A (zh) * 2020-08-18 2020-11-17 福州大学 基于短链配体修饰的CdSe量子点发光二极管器件制备方法
CN114574187B (zh) * 2020-11-30 2024-03-05 北京京东方技术开发有限公司 纳米粒子、纳米粒子层图案化的方法及相关应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5537000A (en) 1994-04-29 1996-07-16 The Regents, University Of California Electroluminescent devices formed using semiconductor nanocrystals as an electron transport media and method of making such electroluminescent devices
WO2003084292A1 (en) 2002-03-29 2003-10-09 Massachusetts Institute Of Technology Light emitting device including semiconductor nanocrystals
KR20050038120A (ko) * 2003-10-21 2005-04-27 삼성전자주식회사 감광성 반도체 나노결정, 반도체 나노결정 패턴형성용감광성 조성물 및 이들을 이용한 패턴 형성 방법
KR20050112938A (ko) * 2004-05-28 2005-12-01 삼성전자주식회사 나노 결정의 다층 박막 제조 방법 및 이를 이용한유·무기 하이브리드 전기 발광 소자

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0622439A1 (en) * 1993-04-20 1994-11-02 Koninklijke Philips Electronics N.V. Quantum sized activator doped semiconductor particles
US6049090A (en) * 1997-02-10 2000-04-11 Massachusetts Institute Of Technology Semiconductor particle electroluminescent display
JP4404489B2 (ja) * 1998-09-18 2010-01-27 マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー 水溶性蛍光半導体ナノ結晶
WO2000017655A1 (en) 1998-09-18 2000-03-30 Massachusetts Institute Of Technology Water-soluble fluorescent semiconductor nanocrystals
JP2001279240A (ja) * 2000-03-29 2001-10-10 Toshiba Corp 発光体粒子及び発光デバイス
US6797412B1 (en) * 2000-04-11 2004-09-28 University Of Connecticut Full color display structures using pseudomorphic cladded quantum dot nanophosphor thin films
WO2001096454A1 (en) 2000-06-12 2001-12-20 Maxdem Incorporated Polymer matrix electroluminescent materials and devices
US6515314B1 (en) * 2000-11-16 2003-02-04 General Electric Company Light-emitting device with organic layer doped with photoluminescent material
JP3986829B2 (ja) * 2001-01-17 2007-10-03 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置およびその製造方法
JP3969152B2 (ja) * 2001-06-21 2007-09-05 昭和電工株式会社 有機発光素子および発光材料
WO2003021694A2 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Koninklijke Philips Electronics N.V. Electroluminescent device comprising quantum dots
EP1436844B1 (en) * 2001-09-05 2016-03-23 Rensselaer Polytechnic Institute Passivated nanoparticles, method of fabrication thereof, and devices incorporating nanoparticles
JP2003257671A (ja) * 2002-02-28 2003-09-12 Fuji Photo Film Co Ltd 発光素子及びその製造方法
JP4493951B2 (ja) * 2002-08-09 2010-06-30 株式会社半導体エネルギー研究所 有機エレクトロルミネッセント素子
US20040124504A1 (en) * 2002-09-24 2004-07-01 Che-Hsiung Hsu Electrically conducting organic polymer/nanoparticle composites and methods for use thereof
JP2004303592A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Mitsubishi Chemicals Corp 電界発光素子及び電界発光素子の製造方法
KR100537966B1 (ko) * 2003-04-30 2005-12-21 한국과학기술연구원 나노복합체를 발광층으로 이용하는 고분자 전기발광 소자
JP2005038634A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電流注入型発光素子
US20050069726A1 (en) * 2003-09-30 2005-03-31 Douglas Elliot Paul Light emitting composite material and devices thereof
US7061011B2 (en) * 2003-11-26 2006-06-13 The Trustees Of Princeton University Bipolar organic devices
KR100736521B1 (ko) * 2004-06-09 2007-07-06 삼성전자주식회사 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5537000A (en) 1994-04-29 1996-07-16 The Regents, University Of California Electroluminescent devices formed using semiconductor nanocrystals as an electron transport media and method of making such electroluminescent devices
WO2003084292A1 (en) 2002-03-29 2003-10-09 Massachusetts Institute Of Technology Light emitting device including semiconductor nanocrystals
KR20050038120A (ko) * 2003-10-21 2005-04-27 삼성전자주식회사 감광성 반도체 나노결정, 반도체 나노결정 패턴형성용감광성 조성물 및 이들을 이용한 패턴 형성 방법
KR20050112938A (ko) * 2004-05-28 2005-12-01 삼성전자주식회사 나노 결정의 다층 박막 제조 방법 및 이를 이용한유·무기 하이브리드 전기 발광 소자

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101030008B1 (ko) * 2004-12-31 2011-04-20 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 전계 발광 소자
KR20160078718A (ko) * 2014-12-24 2016-07-05 주식회사 나래나노텍 개선된 유기 발광다이오드 및 그 제조 방법
KR101641862B1 (ko) * 2014-12-24 2016-07-25 주식회사 나래나노텍 개선된 유기 발광다이오드 및 그 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050117030A (ko) 2005-12-14
US8440480B2 (en) 2013-05-14
US20110287566A1 (en) 2011-11-24
JP2012038741A (ja) 2012-02-23
US8012781B2 (en) 2011-09-06
US20100173434A1 (en) 2010-07-08
JP2005353595A (ja) 2005-12-22
US20050274944A1 (en) 2005-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100736521B1 (ko) 나노 결정 전기발광 소자 및 그의 제조방법
KR100632632B1 (ko) 나노 결정의 다층 박막 제조 방법 및 이를 이용한유·무기 하이브리드 전기 발광 소자
US10014438B2 (en) Light emitting device including semiconductor nanocrystals
AU2003218452B2 (en) Light emitting device including semiconductor nanocrystals
KR20060018583A (ko) 반도체 나노결정을 함유하는 백색 발광 유·무기하이브리드 전기 발광 소자
US20070057263A1 (en) Quantum dot light emitting layer
EP1666562A2 (en) Interfused nanocrystals and method of preparing the same
KR100636959B1 (ko) 나노 결정-고분자 다층 박막의 제조 방법 및 이를 이용한유·무기 하이브리드 전기 발광 소자

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130522

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140522

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150522

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160518

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170522

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180518

Year of fee payment: 12