JP2003226844A - 絶縁膜形成用塗料、およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 経時変化による溶媒の分離などが無く、無機
微粒子の分散安定性が良く、焼成後の絶縁膜の光学特性
が優れている絶縁膜形成用塗料を提供することを目的と
する。さらに、輝度の高いプラズマディスプレイパネ
ル、およびその製造方法を提供することも目的とする。 【解決手段】 バインダー樹脂、溶媒、および無機微粒
子を含む絶縁膜形成用塗料で、バインダー樹脂の酸価を
２０以上９０以下とし、かつ、溶媒を塩基性有機溶剤と
する。バインダー樹脂としては、アクリル系共重合体が
好ましく用いられる。また、この絶縁膜形成用塗料を用
いてＰＤＰの前面板誘電体層１４等の絶縁膜を形成する
ことで、輝度の高いプラズマディプレイパネルが提供で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル、プラズマアドレス液晶ディスプレイ、また
は電子放出素子を用いた画像形成装置等に設けられる絶
縁膜の形成用等に用いられる絶縁膜形成用塗料、および
それを用いて絶縁膜が形成されたプラズマディスプレイ
パネルおよびその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の重くて大きいブラウン管に替わる
画像形成装置として、薄くて軽い平面型のディスプレ
イ、いわゆるフラットパネルディスプレイ（以下、ＦＰ
Ｄと記す。）の需要が高まっている。ＦＰＤとして代表
的なものに液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと記す。）
が挙げられるが、画像が暗い、視野角が狭い、大面積化
が困難などの課題が残っている。そこで、近年ではプラ
ズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す。）、プ
ラズマアドレス液晶ディスプレイ（以下、ＰＡＬＣと記
す。）、電子放出素子を用いた画像形成装置（以下、Ｆ
ＥＤと記す。）などが注目を浴びており、ＬＣＤ以上の
高精細化、大型化が可能であることから、その需要はま
すます高まっている。

【０００３】まず、その中の一つであるＰＤＰについて
説明する。図１は、ＰＤＰの構造を示した斜視図であ
る。なお、ＰＤＰの構成をわかりやすく示すために、図
１においては、ＰＤＰの前面板１と背面板２とを別々に
（一体化されていない状態で）示している。

【０００４】ＰＤＰは、放電空間を挟んで２枚のガラス
基板（前面ガラス基板１１と背面ガラス基板２１）が対
向して配置された構成である。前面ガラス基板１１上に
は帯状の表示電極１２が複数配置され、さらにこの表示
電極１２を覆う前面板誘電体層４および前面板保護層１
５が配置されている。背面ガラス基板２１上には、表示
電極１２と交差する帯状のアドレス電極２２が複数配置
され、さらにこのアドレス電極２２を覆う背面板誘電体
層２３が配置されている。背面板誘電体層２３上には、
放電空間を形成するための帯状の隔壁２４が、各アドレ
ス電極２２間に設けられている。さらに、背面板誘電体
層２３上から隔壁２４の側面にわたって、蛍光体層２５
が形成されている。蛍光体層２５は、カラー表示を可能
とするために、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に対応す
る材質にて形成された３色の蛍光体層２５ａ，２５ｂ，
２５ｃが隔壁２４を挟んで順に配置されている。隔壁２
４は、帯状に設けられた各アドレス電極２２を隔離して
放電空間を形成しており、この放電空間内には放電ガス
が封入されている。

【０００５】次に、ＰＤＰの表示原理について説明す
る。前面ガラス基板１１上に設けられた一対の表示電極
１２のうち一方と背面ガラス基板２１上に設けられたア
ドレス電極２２とに電圧を印加することにより放電空間
に電界が生じ、この電界により放電空間内の放電ガスが
プラズマ化する。プラズマを放電させることにより発生
した紫外線は、背面ガラス基板２１上の隔壁２４によっ
て隔てられた蛍光体層２５を励起し、可視光を発生させ
る。発生した可視光は、前面板保護層１５、前面板誘電
体層１４、および前面ガラス基板１１を通過して、映像
となって表示される。このとき、可視光励起に寄与して
いない他方の表示電極１２に信号を印加し、どの放電セ
ルを表示させるかを指定することで、映像を所要の画像
とすることができる。

【０００６】ここで、プラズマを発生させ、および維持
させるためには、各電極間の絶縁を確保する必要があ
り、前面板誘電体層１４は、表示電極１２間や表示電極
１２とアドレス電極２２間の短絡（リーク）を防止する
機能を果たしている。通常、前面板誘電体層１４にはガ
ラスの絶縁膜が用いられる。このガラス絶縁膜からなる
前面板誘電体層１４は、主にＳｉなどの元素を含んだガ
ラス粉末からなる無機微粒子を樹脂などと共に有機溶媒
中に分散させて得られた塗料を、表示電極１２が形成さ
れた前面ガラス基板１１上に塗布して乾燥させ、続いて
焼成することで得られる。乾燥段階では溶媒である有機
溶媒が気化し、焼成段階では樹脂が気化すると共にガラ
ス粉末が溶解して互いに結合する。そして、焼成後に冷
却してガラス絶縁膜となり、前面板誘電体層１４が形成
される。例えば、特開２０００−１６８３５号公報に
は、前面ガラス基板および背面ガラス基板の表面に形成
する保護膜としての薄膜の絶縁膜と、前面ガラス基板お
よび背面ガラス基板上の電極を被覆する厚膜の絶縁膜と
を形成するための塗料として、平均粒子径が０．３〜
１．５μｍであって、最大粒子径が１０μｍ以下である
ガラス粉末７０〜９５重量％と、有機成分５〜３０重量
％とを含む、絶縁ペーストの使用が提案されている。

【０００７】また、ＰＡＬＣは、背面板およびガラスシ
ートをなす一対の平坦で透明な絶縁基板と絶縁性を有す
る一対の隔壁とで構成された微小な放電セル内に、対向
する一対の放電電極を設け、さらに前記放電セル内に希
ガス等の放電可能なガスが封入された構造をなしてい
る。そして、対向する放電電極間の放電により、ガラス
シート上に配置した液晶パネルを駆動させて、画面の表
示素子として利用するものである。また、前記背面板の
下部に設けられたバックライトの発光と、前記ガラスシ
ートの上部に設けたカラーフィルターによって、各表示
色を発光させている。このように，ＰＡＬＣにおいて
も、ＰＤＰと同様に，ガラス化合物からなる絶縁膜が使
用されている。

【０００８】一方、ＦＥＤの電子放出素子としては、大
別して熱陰極電子放出素子と冷陰極電子放出素子の２種
類が知られている。近年では、待機電力が不必要で高電
流密度が可能な、冷陰極電子放出素子による画像形成装
置が注目されている。冷陰極電子放出素子としては、電
界放出型（ＦＥ型）、金属／絶縁層／金属型（ＭＩＭ
型）などがある。冷陰極電子放出素子を用いた画像形成
装置は、電子放出素子から放出される電子ビームを蛍光
体に照射して可視光を発生させることで、画像を表示し
ている。このような冷陰極電子放出素子を用いた画像形
成装置においても、ＰＤＰと同様にガラス化合物による
絶縁膜が使用されている。例えば、背面ガラス基板に
は、複数の電子放出素子と、これら電子放出素子を互い
に接続するための格子状の配線が設けられている。これ
らの配線の交差部（格子点）に電子放出素子が配置さ
れ、この交差部において両配線を絶縁するために帯状の
絶縁膜が必要となる。このように交差する配線間の絶縁
膜は、例えばＰｂＯを主成分とするガラス化合物を用い
て、膜厚１０〜１００μｍ、好ましくは２０〜５０μｍ
で形成される。例えば、特開平９−２８３０６０号公報
には、絶縁膜の下に下配線を形成した後、それに直交す
る形で帯状の絶縁膜を形成し、その絶縁膜の上に上配線
を形成する構成が示されている。

【０００９】以上のように、ＰＤＰ、ＰＡＬＣ、および
ＦＥＤは絶縁膜を必要とし、その絶縁膜は電気的絶縁性
の発揮や保護膜として遮蔽効果の発現などの機能を有す
る必要がある。これら絶縁膜は、通常、真空蒸着法、ス
パッタ法あるいは塗布法などによって形成される。

【００１０】しかしながら、真空蒸着法やスパッタ法の
ような真空を必要とする工法は、高価な製造設備が必要
であることが問題であり、特に、大面積化を目指すＦＰ
Ｄの場合では、ますます製造コストの負担が大きくな
る。従って、ＰＤＰ、ＰＡＬＣ、およびＦＥＤ等におけ
る絶縁膜の形成方法としては、スクリーン印刷法やダイ
コート法等の安価な塗布法が多用されている。

【００１１】塗布法で用いられる絶縁膜形成用塗料で
は、溶媒（主に有機溶剤）中で、バインダーとしての樹
脂（以下、バインダー樹脂と記す。）が無機微粒子（主
にガラス微粒子やセラミックス微粒子）へ吸着して立体
障害や電気的反発力を付与している。その結果、無機微
粒子が塗料中で分散した状態になっている。このとき、
一般的には、バインダー樹脂が分散剤としての役割も担
っている場合が多い。従来の絶縁膜形成用塗料を構成す
るバインダー樹脂としては、エチルセルロースが一般的
に用いられている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】例えばＰＤＰの前面板
誘電体層を考えた場合、この誘電体層には粘度安定性や
電気的絶縁性に加えて高い光学特性が要求される。塗布
法により絶縁膜を作製する場合、塗料中の無機微粒子の
分散状態、焼成時の脱バインダー性（脱添加剤性）など
が光学特性に大きく影響を与える。

【００１３】しかしながら、従来、バインダー樹脂とし
て一般的に用いられているエチルセルロースは、脱バイ
ンダー性が劣り、焼成炉の負荷が大きく、焼成炉中に不
完全燃焼成分が付着して異物混入の原因になる等の問題
があった。

【００１４】これに対し、アクリル系共重合体は脱バイ
ンダー性が優れているが、無機化合物、特にガラス粉末
に代表される金属酸化物への吸着反応性が高すぎるた
め、塗料中で溶媒が分離したり、無機微粒子が凝集した
りして分散状態が悪かった。このように無機微粒子の分
散状態が悪い場合、塗料を塗布した後の塗膜内部におけ
る無機微粒子のつまり具合が不均一になり、その結果、
焼成後の絶縁膜内部に大小様々な大きさの気泡が大量に
発生し、絶縁膜の光透過率や絶縁性が低下してしまうと
いう問題があった。

【００１５】本発明はこれらの問題を解決するために、
経時変化による溶媒の分離などが無く、無機微粒子の分
散安定性が良く、焼成後の絶縁膜の光学特性が優れてい
る絶縁膜形成用塗料を提供することを目的とする。さら
に、輝度の高いＰＤＰおよびその製造方法を提供するこ
とも目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の絶縁膜形成用塗料は、バインダー樹脂、
溶媒、および無機微粒子を含む絶縁膜形成用塗料であっ
て、前記バインダー樹脂の酸価が２０以上９０以下であ
り、かつ、前記溶媒が塩基性有機溶剤であることを特徴
とする。

【００１７】この絶縁膜形成用塗料によれば、塗料中の
溶媒の分離等が発生しにくく、さらに塗料中での無機微
粒子の凝集が抑制されるので無機微粒子の分散状態が良
好となる。このため、焼成後の絶縁膜内部に気泡が大量
に発生することを抑制できるので、高い絶縁性を有し、
かつ光学特性の良好な絶縁膜を作製することが可能とな
る。

【００１８】また、本発明の絶縁膜形成用塗料は、前記
バインダー樹脂がアクリル系共重合体を含むことが好ま
しい。アクリル系共重合体は焼成時の脱バインダー性が
良好であるため、焼成中に不完全燃焼成分が付着して異
物が混入しにくく、また、酸価のコントロールも容易で
ある。従って、アクリル系共重合体を含むバインダー樹
脂を用いることにより、焼成後の絶縁膜の光学特性がよ
り良好となる。

【００１９】また、本発明の絶縁膜形成用塗料は、前記
無機微粒子の９０％体積粒子径が１μｍ以上１０μｍ以
下であることが好ましい。ただし、無機微粒子の９０％
体積粒子径とは、体積基準で求めた前記無機微粒子の粒
度分布を２分割する粒子径であって、その粒子径より小
さい粒子が９０％、大きい粒子が１０％存在する粒子径
のことである。無機微粒子の９０％体積粒子径が１μｍ
未満の場合は、無機微粒子の凝集性が高いので絶縁膜内
部に気泡が生じやすく、無機微粒子の９０％体積粒子径
が１０μｍを超える場合は、絶縁膜内部の充填率が低下
するので絶縁膜内部に気泡が生じやすいからである。

【００２０】また、本発明の絶縁膜形成用塗料は、前記
無機微粒子がガラスからなることが好ましく、具体的に
は、そのガラス微粒子が、ＳｉＯ₂、ＺｎＯ、Ｂ₂Ｏ₃、
ＰｂＯ、Ｂｉ₂Ｏ₃、ＢａＯ、Ｐ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂、Ｌｉ
₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＭｇＯから選択
される組成物を少なくとも一種含むことが好ましい。

【００２１】また、本発明の絶縁膜形成用塗料は、絶縁
性が高く、かつ光学特性が優れた絶縁膜を形成すること
ができるので、ＰＤＰ、ＰＡＬＣ、またはＦＥＤの絶縁
膜形成用として用いることができる。

【００２２】さらに、上記の目的を達成するため、本発
明のＰＤＰは、本発明の絶縁膜形成用塗料を用いて形成
された絶縁膜、例えば表示電極が設けられた前面基板上
に設けられた誘電体層を備えていることを特徴とする。
また、本発明のＰＤＰの製造方法は、本発明の絶縁膜形
成用塗料を所定の部材が設けられた基板上、例えば表示
電極が設けられた前面基板上に塗布し、その後焼成し
て、絶縁膜（誘電体層等）を形成することを特徴とす
る。これによれば、輝度の高いＰＤＰを提供することが
できる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て説明する。

【００２４】本実施の形態の絶縁膜形成用塗料は、ＰＤ
Ｐ、ＰＡＬＣ、またはＦＥＤにおいて、誘電体層や保護
層として設ける絶縁膜の形成に好適に用いられるもので
ある。

【００２５】本実施の形態の絶縁膜形成用塗料は、
（ａ）バインダー樹脂と、（ｂ）溶媒と、（ｃ）無機微
粒子と、を必須成分とする絶縁膜形成用塗料である。こ
の絶縁膜形成用塗料中においては、バインダー樹脂など
が無機微粒子の表面に吸着することにより各無機微粒子
同士が離され、無機微粒子が溶媒中で分散している状態
となっている。この絶縁膜形成用塗料は、被塗布面とな
る基板上の所望の箇所に所望の厚さで塗布され、必要に
応じて加工もしくはパターン形成した後、焼成により有
機成分が熱分解解除（脱バインダー）されて、絶縁膜と
なる。以下、（ａ）〜（ｃ）の各構成について、詳しく
説明する。

【００２６】（ａ）バインダー樹脂 絶縁膜形成用塗料中における無機微粒子の分散状態は、
バインダー樹脂の無機微粒子への吸着性、および溶媒へ
の親和性によって大きく影響される。バインダー樹脂の
無機微粒子への吸着性が悪い場合は、無機微粒子同士が
凝集するため、焼成後の絶縁膜内部には気泡が大量に発
生する。また、バインダー樹脂の溶媒への親和性が悪い
場合は、バインダー樹脂を介して無機微粒子が凝集して
しまい、無機微粒子およびバインダー樹脂から溶媒が分
離してしまう。従って、バインダー樹脂は、無機微粒子
および溶媒のどちらに対しても親和性が良好であること
が必要である。バインダー樹脂の酸価が２０未満の場
合、溶媒に対する親和性が悪く、絶縁膜形成用塗料にお
いて溶媒の分離が生じてしまう。また、バインダー樹脂
の酸価が９０を超える場合は、無機微粒子への吸着性に
比べて溶媒への親和性が勝り、無機微粒子の凝集が生じ
てしまうので好ましくない。そこで、本実施の形態にお
けるバインダー樹脂としては、酸価が２０以上９０以下
である樹脂を使用し、より好ましくは、酸価が４０以上
７０以下である樹脂を使用する。これにより、無機微粒
子の分散性が良好となるため、焼成後の絶縁膜内部に気
泡が大量に発生するのを防ぎ、高い絶縁性、高い光透過
率、低いヘイズ（曇り度）を実現することができる。

【００２７】本実施の形態の絶縁膜形成用塗料に用いら
れるバインダー樹脂は、酸価が２０以上９０以下であれ
ば特に限定されず、前記の無機微粒子のバインダーとし
て機能しうるものであれば、従来公知のものを全て使用
できる。その中でも特に、焼成時の脱バインダー性が良
好であること、共重合による酸価のコントロールが容易
なことなどからアクリル系共重合体が好ましく用いられ
る。

【００２８】アクリル系共重合体とは、共重合成分に少
なくともアクリル系モノマーを含む共重合体のことであ
る。アクリル系モノマーとして具体的には、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレ
ート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレ
ート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリ
レート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチル
アクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチ
レングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペン
テニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレー
ト、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２
−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアク
リレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリ
レート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエ
チレングリコールアクリレート、メトキシジエチレング
リコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレ
ート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアク
リレート、トリフロロエチルアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、１−ナフチルアク
リレート、２−ナフチルアクリレート、チオフェノール
アクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート等が
挙げられ、さらに、これらのアクリレートをメタクリレ
ートに替えたもの等が挙げられる。これらの中でも、ア
クリル酸アルキルもしくはメタクリル酸アルキル、より
好ましくはメタクリル酸メチルを含むものが、脱バイン
ダー性が良好な重合体として挙げられる。アクリル系モ
ノマー以外の共重合成分としては、炭素炭素２重結合を
有する全ての化合物が使用可能であるが、好ましくはス
チレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ
−メチルスチレン、α−メチルスチレン、クロロメチル
スチレン、ヒドロキシメチルスチレンなどのスチレン
類、γ−メタクリロシキプロピルトリメトキシシラン、
１−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。

【００２９】これらのアクリル系共重合体に酸性を付与
させるためには、モノマーとして不飽和酸を加えればよ
い。不飽和酸の具体例としては、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル
酸、酢酸ビニル、またはこれらの酸無水物等が挙げられ
る。

【００３０】また、酸化のコントロール法としては、ア
クリル系共重合体（ポリマー）中の酸性成分（例えば、
アクリル系共重合体としてメタクリル酸−メタクリル酸
メチル共重合体を用いた場合ではメタクリル酸）の混合
比を変更する方法が挙げられる。アクリル系共重合体中
の酸性成分（例においてはメタクリル酸）の混合比を多
くすれば、アクリル系共重合体全体としての酸化を大き
くすることができる。

【００３１】これらアクリル系共重合体の分子量は、重
量平均分子量にして１００００〜１００００００、好ま
しくは５００００〜５０００００であることが、絶縁膜
形成用塗料の粘度調整の点から好ましい。

【００３２】また、本実施の形態のバインダー樹脂に
は、上述したアクリル系共重合体以外に、本発明の効果
を阻害しない範囲で他の樹脂を混合させて用いても良
い。混合できる樹脂としては、例えば、ニトロセルロー
スやエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースな
どのセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルブチラールなどが好ましく挙げられる。これらの樹
脂は、絶縁膜形成用塗料中にその１種を単独で、もしく
は２種以上を併用して使用しても良い。

【００３３】また、本実施の形態のバインダー樹脂の含
有量は、絶縁膜形成用塗料全体に対して０．１〜２０質
量％、好ましくは０．５〜１０質量％、更に好ましくは
１〜５質量％とするのがよい。バインダー樹脂の含有量
が０．１質量％未満の場合は、塗膜（乾燥膜）の形状保
持に必要な量が不足し、型崩れが起こる。一方、２０質
量％を超える場合は、焼成時の損失が大きく、欠陥が生
じやすくなる。

【００３４】（ｂ）溶媒 本実施の形態の絶縁膜形成用塗料に用いる溶媒として
は、塩基性有機溶剤を用いる。溶媒が塩基性有機溶剤で
あると、酸性のバインダー樹脂との親和性が良く、絶縁
膜形成用塗料において溶媒の分離などが生じることを防
ぐことができる。塩基性有機溶剤としては、従来公知の
ものを全て使用することができる。例えば、アミノ化合
物、ニトリル、エーテル、サルファイド、カルボニル、
ベンゼン核などを含む有機溶剤が挙げられる。より具体
的には、α−、β−、γ−テルピネオールなどのテルペ
ン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エ
チレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレング
リコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコー
ルジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアル
キルエーテルアセテート類、エチレングリコールジアル
キルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノ
アルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコール
ジアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコー
ルモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジア
ルキルエーテル類、プロピレングリコールトリプロピル
エーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテ
ルアセテート類、プロピレングリコールジアルキルエー
テルアセテート類、プロピレングリコールトリアルキル
エーテルアセテート類、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、ピ
リジン、アセトニトリル、酢酸エチルや酢酸ブチルなど
の酢酸アルキル類、アルキルアミン類、ジアルキルアミ
ン類、トリアルキルアミン類などが好ましく挙げられる
が、これらに限定されるものではない。これらの溶媒
は、単独でも、任意の２種以上を組み合わせて混合して
用いても良い。

【００３５】また、本実施の形態の溶媒の割合は、絶縁
膜形成用塗料全体に対して４〜８５質量％、好ましくは
５〜６０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％とす
るのが良い。この溶媒の含有量が４質量％未満の場合
は、絶縁膜形成用塗料の流動性が低下して塗布性が悪く
なり、一方、８５質量％を超える場合は、乾燥時の収縮
が大きく欠陥発生の原因となるほか、コスト高の原因と
なる。

【００３６】（ｃ）無機微粒子 本実施の形態の絶縁膜形成用塗料に含まれる無機微粒子
としては、特に限定されず、絶縁膜を形成しうる公知の
無機化合物からなる微粒子を全て使用できる。中でも、
金属酸化物が好ましく用いられる。特に、ＳｉＯ₂、Ｚ
ｎＯ、Ｂ₂Ｏ₃、ＰｂＯ、Ｂｉ₂Ｏ₃、ＢａＯ、Ｐ₂Ｏ₅、Ｚ
ｒＯ₂、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＭｇＯな
どが好ましい。絶縁膜として一般的に用いられる低融点
ガラスには、これらの酸化物の中から２種以上を混合し
たガラス粉末が用いられている。特に、ＰｂＯを主成分
としたガラス粉末は、軟化点調整などの点で制御しやす
いため、好ましく用いられている。

【００３７】これらの無機化合物からなる微粒子を絶縁
膜形成用塗料に混合することにより、塗膜の絶縁性が良
好となる。なお、これらの微粒子は、単独で使用しても
良いし、任意の組み合わせで使用することも可能であ
る。

【００３８】また、本実施の形態の無機微粒子は、その
９０％体積粒子径が１〜１０μｍの範囲内、好ましくは
２〜８μｍの範囲内、更に好ましくは３〜７μｍの範囲
内である。無機微粒子の９０％体積粒子径が１μｍ未満
の場合は、無機微粒子の凝集性が強く、絶縁膜内部に気
泡が生じやすい。一方、粒子径が１０μｍを超える場合
は、絶縁膜内部の充填率が低下するため、同様に絶縁膜
内部に気泡が生じやすい。

【００３９】また、本実施の形態における無機微粒子の
割合は、絶縁膜形成用塗料全体に対して、１０〜９５質
量％、好ましくは４０〜９０質量％、更に好ましくは６
０〜８０質量％とするのが良い。この含有量が１０質量
％未満の場合は、乾燥・焼成時の損失が大きく、コスト
高となる。一方、９５質量％を超える場合は、塗料の流
動性が低下し、塗布性が悪くなる。

【００４０】以上の（ａ）〜（ｃ）の構成に加え、本実
施の形態の絶縁膜形成用塗料には、チタニア、アルミ
ナ、チタン酸バリウム、ジルコニアなどのセラミックス
および高融点ガラスから選ばれる少なくとも１種をフィ
ラーとして加えることができる。これらフィラーは熱膨
張係数を低下させて焼成時の収縮率を小さくし、基板に
かかる応力を低下させるなどの効果がある。フィラーの
添加量は、前記絶縁膜形成用塗料の機能を阻害しない範
囲であれば特に制限されないが、熱膨張係数のコントロ
ールの点から、絶縁膜形成用塗料全体に対し、通常、１
〜２０質量％、好ましくは２〜１０質量％であることが
好ましい。

【００４１】前記の（ｃ）無機微粒子として用いるガラ
ス化合物は、一般に、溶融ガラス化合物を急冷し、粉砕
することにより合成される。このため、合成された段階
ですでに粉末状態、すなわち微粒子状態となっている。
従って、この粉末ガラスと、この粉末ガラスを分散させ
るための有機溶媒と、この粉末ガラスを有機溶媒中に均
質に分散させるため、および塗布・乾燥後の塗膜が型崩
れを起こすことを防止するためのバインダー樹脂とを少
なくとも含有させることで、塗絶縁膜形成用塗料を作製
することができる。従って、このような絶縁膜形成用塗
料を塗布し、乾燥させた後に、焼成することによって、
所望の絶縁膜が得られる。分散媒としての有機溶剤は乾
燥時に、そしてバインダー樹脂は焼成時に揮発するた
め、最後に残されるのはガラス成分のみである。なお、
分散媒としての有機溶媒とバインダー樹脂は、ガラス粉
末を絶縁膜として形成させる場合に、安価な塗布型の形
成方法を用いることができるようにするために必要なも
のである。

【００４２】以上のことから、本発明の絶縁膜形成用塗
料に用いる無機微粒子やフィラー等としては、焼成によ
りガラスを形成する化合物を用いることが好ましい。

【００４３】さらに、本実施の形態の絶縁膜形成用塗料
には、必要に応じて、分散剤、可塑剤、粘度調節剤など
を加えることができる。可塑剤としては、ジブチルフタ
レート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコー
ル、グリセリンなどが挙げられ、また、粘度調節剤とし
ては、アエロジルなどのチキソ剤を挙げることができ
る。これらの添加剤の配合割合は、前記絶縁膜形成用塗
料の機能を阻害しない範囲であれば特に制限されない
が、絶縁膜形成用塗料全体に対し、通常、０．０１〜２
０質量％、好ましくは０．１〜５質量％であることが、
焼成時の欠陥発生抑制の点から好ましい。

【００４４】本発明の絶縁膜形成用塗料は、例えば、無
機微粒子、バインダー樹脂、溶媒、分散剤、可塑剤、粘
度調節剤、およびその他の添加剤などの各種成分を、所
望の組成となるように配合した後、３本ローラー、ボー
ルミル、サンドミル等の分散機によって均質に混合分散
することにより、調製することができる。

【００４５】次に、本実施の形態の絶縁膜形成用塗料を
用いたＰＤＰの前面板の製造方法について、図１を参照
しながら説明する。

【００４６】ＰＤＰのガラス基板には、ソーダライムガ
ラスやＰＤＰ用基板ガラスなどが用いられる。ＰＤＰ用
基板ガラスとしては、例えば旭硝子社製のＰＤ２００等
が挙げられる。

【００４７】ＰＤＰの前面板１は、前面ガラス基板１１
上に２つの表示電極１２およびブラックマトリックス１
３などを設け、更にそれら上を覆うようにして前面板誘
電体層１４、そして前面板保護層１５としてのＭｇＯ膜
を形成するのが一般的である。

【００４８】この前面板誘電体層１４は、表示電極１２
間やそれら表示電極１２とアドレス電極２２との間の短
絡（リーク）を防止するため、所望の絶縁効果を有する
必要がある。ただし、背面ガラス基板２１に設けられて
いる隔壁２４のようなパターン形成をする必要はなく、
逆に表示ムラを抑制するために平坦で透明性の高い薄膜
であることが必要である。そのため、印刷法などにより
絶縁膜形成用塗料を塗布して、乾燥・焼成して製造する
ことが可能である。

【００４９】まず、前面ガラス基板１１上に、スパッタ
法などにより一般的にはＩＴＯからなる透明電極をパタ
ーニングして作製し、続いてその上にスクリーン印刷法
もしくはフォトリソグラフィ法などにより表示電極１２
を形成する。透明電極上に積み重ねる電極材料として
は、Ａｇ、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａ
ｌ、Ｎｉなどの金属化合物であることが、抵抗値、ガラ
ス基板との密着性などの点から好ましい。また、電極材
料中に少量のガラス成分を含有させることが好ましく、
これにより基板との密着性に優れた電極とすることがで
きる。ここで、透明電極は必ずしも必要ではなく、前面
ガラス基板１１上に直接、上述の金属化合物からなる電
極を形成することもできる。そして、一般的には酸化ル
テニウム（ＲｕＯ₂）などの黒色顔料とガラス成分から
なるブラックマトリックス１３を、電極と同様にして形
成する。

【００５０】そして、それらの上を覆うようにして前面
板誘電体層１４を形成する。具体的には、本実施の形態
の絶縁膜形成用塗料を、焼成後の厚さが１０〜５０μｍ
となるように３０〜１５０μｍの厚さに塗布して誘電体
塗膜を形成し、その後焼成して前面板誘電体層１４を形
成する。

【００５１】絶縁膜形成用塗料の塗布方法としては、ス
クリーン印刷法、バーコーター法、ロールコーター法、
ダイコーター法、ドクターブレード法など、一般的な方
法で行うことができる。焼成雰囲気や温度は、塗料や基
板の特性によって異なるが、空気中、窒素などの雰囲気
で焼成すると良い。焼成炉は、バッチ式の焼成炉や、ベ
ルト式、ウォーキングビーム式の連続型焼成炉を用いる
ことができる。焼成温度は、特に限定されないが、通常
４００〜６００℃で焼成する。

【００５２】続いて、ＭｇＯ膜をスパッタ法などによっ
て形成して前面板保護層１５とし、ＰＤＰの前面板１が
作製される。

【００５３】本実施の形態の絶縁膜形成用塗料は、焼成
後の絶縁膜内部に気泡が大量に発生するのを防ぎ、高い
絶縁性、高い光透過率、低いヘイズの絶縁膜を実現する
ことができる。従って、この絶縁膜形成用塗料を用いて
前面板誘電体層が製造されたＰＤＰの前面板は、絶縁効
果が優れると共に光学特性に優れているという点で、好
ましく用いることができる。

【００５４】

【実施例】以下、実施例を用いて、本発明を具体的に説
明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではな
い。なお、実施例における％表示の濃度は、断りのない
場合は質量％である。

【００５５】本実施例において使用したバインダー樹脂
は以下に示す表１に、無機微粒子として用いたガラス粉
末は以下に示す表２に、それぞれ示されている。ただ
し、ガラス粉末の９０％体積粒子径は、日機装社製マイ
クロトラックＨＲＡにより、レーザー回折法を用いて測
定した。

【００５６】 （表１） ――――――――――――――――――――――――――――――――――― 種 類 酸 価 ――――――――――――――――――――――――――――――――――― 樹脂ａ エチルセルロース ０ 樹脂ｂ メタクリル酸メチル ０ 樹脂ｃ メタクリル酸―メタクリル酸メチル共重合体 １３ 樹脂ｄ メタクリル酸―メタクリル酸メチル共重合体 ２６ 樹脂ｅ メタクリル酸―メタクリル酸メチル共重合体 ４０ 樹脂ｆ メタクリル酸―メタクリル酸メチル共重合体 ５２ 樹脂ｇ メタクリル酸―メタクリル酸メチル共重合体 ６５ 樹脂ｈ メタクリル酸―メタクリル酸メチル共重合体 ７８ 樹脂ｉ メタクリル酸―メタクリル酸メチル共重合体 ９０ 樹脂ｊ メタクリル酸―メタクリル酸メチル共重合体 １０６ ―――――――――――――――――――――――――――――――――――

【００５７】 （表２） ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 種 類 ９０％体積粒子径（μｍ） ──────────────────────────────────── ガラスａ ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＣａＯ系 ０．９ ガラスｂ ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＣａＯ系 １．８ ガラスｃ ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＣａＯ系 ３．５ ガラスｄ ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＣａＯ系 ５．４ ガラスｅ ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＣａＯ系 ７．３ ガラスｆ ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＣａＯ系 ８．９ ガラスｇ ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃−ＣａＯ系 １１．８ ――――――――――――――――――――――――――――――――――――

【００５８】（実施例１〜６および比較例１〜４） 絶縁膜形成用塗料の調製 表１に記載のバインダー樹脂ａ〜ｊそれぞれに、無機微
粒子として表２に記載のガラスｄ、および溶媒として塩
基性有機溶剤のブチルカルビトールアセテート（ＢＣ
Ａ）を用いて、以下に示す方法にて絶縁膜形成用塗料を
作製し、実施例１〜６および比較例１〜４とした。実施
例１〜６および比較例１〜４の絶縁膜形成用塗料の組成
比は、バインダー樹脂４％、無機微粒子６５％、溶媒３
１％とした。

【００５９】絶縁膜形成用塗料の調整方法は、まず、バ
インダー樹脂を有機溶剤中に溶かしてビヒクル（樹脂を
溶解した溶液）を作製した。ビヒクルには必要に応じて
各添加剤を混合した。続いて、ビヒクルとガラス粉末を
混合・予備混錬した後、３本ロールで混錬して絶縁膜形
成用塗料とした。

【００６０】絶縁膜形成用塗料の分離性評価 実施例１〜６および比較例１〜４の絶縁膜形成用塗料を
２３℃で静置して、１週間後の様子を観察した。その結
果を表３に示す。なお、塗料の分離性は以下の基準で評
価した。

【００６１】 ○：塗料から有機溶剤が分離しなかった ×：塗料から有機溶剤が分離した 表３より、バインダー樹脂としてエチルセルロース、酸
価が２０以上のアクリル系共重合体を用いた塗料では有
機溶剤の分離が観察されなかったが、酸価が２０未満の
アクリル系共重合体を用いた塗料では有機溶剤の分離が
観察された。

【００６２】光学特性の評価 実施例１〜６および比較例１〜４の絶縁膜形成用塗料を
施工して得られた透明膜の光学特性（ヘイズ）を、以下
の方法にて測定した。

【００６３】ガラス基板（旭硝子社製ＰＤ−２００）上
に実施例１〜６および比較例１〜４の絶縁膜形成用塗料
を塗料作製後２４時間以内に印刷し、５９０℃で焼成し
て透明膜を作製した。なお、焼成後の膜厚が３５μｍと
なるように印刷条件を調整した。そして、村上色彩研究
所製ヘイズメーター（ＨＭ−１５０）でヘイズを測定し
た。その結果を表３に示す。

【００６４】表３より、酸価が２０〜９０のアクリル系
共重合体を用いた絶縁膜形成用塗料（実施例１〜６）で
形成した透明膜では、膜内に閉じ込められる気泡の数が
減少し、従来例のエチルセルロースを用いた絶縁膜形成
用塗料で形成した透明膜（比較例１）よりもヘイズが大
きく減少した。しかしながら、酸価が２０未満もしくは
９０よりも大きいアクリル系共重合体を用いた絶縁膜形
成用塗料で形成した透明膜（比較例２〜４）では、膜内
に閉じ込められる気泡の数が増加し、従来例のエチルセ
ルロースを用いた塗料で形成した透明膜（比較例１）と
比べてヘイズは同等、もしくはやや劣る値となった。

【００６５】ＰＤＰの輝度の評価 実施例１〜６および比較例１〜４の絶縁膜形成用塗料を
施工して得られた前面板誘電体層を有するＰＤＰ前面板
からなる、図１に示すような構造のＰＤＰの輝度を、以
下の方法にて測定した。

【００６６】ガラス基板（旭硝子社製ＰＤ−２００）上
に、ＩＴＯ膜を、スパッタ法を用いて厚さが１００ｎｍ
となるようにパターニングした。その上に、感光性のＡ
ｇペーストを、焼成後の厚さが１０μｍとなるように印
刷し、露光・現像によりパターニングした後に、焼成し
て表示電極１２を形成した。そして、ＲｕＯ₂ペースト
を同様に印刷して、ブラックマトリックス１３を形成し
た。これら表示電極１２およびブラックマトリックス１
３を覆うようにして、実施例１〜６および比較例１〜４
の絶縁膜形成用塗料を、焼成後の膜厚が３５μｍとなる
ように印刷し、５９０℃で焼成して前面板誘電体層１４
を形成した。続いて、前面板誘電体層１４上に、ＭｇＯ
膜をスパッタ法を用いて形成して前面板保護層１５と
し、ＰＤＰ前面板１を作製した。

【００６７】このＰＤＰ前面板１を別途作製した背面板
２と合わせた後、封着してガス封入し、駆動回路を接続
してＰＤＰを作製した。このＰＤＰに電圧を印加して表
示を行い、前面点灯時の輝度を、大塚電子社製の測光機
ＭＣＰＤ−２００を用いて測定した。その結果を表３に
示す。

【００６８】表３より、酸価が２０〜９０のアクリル系
共重合体を用いた絶縁膜形成用塗料で前面板誘電体層１
４を形成したＰＤＰ（実施例１〜６）では、従来例のエ
チルセルロースを用いた絶縁膜形成用塗料で前面板誘電
体層１４を形成したＰＤＰ（比較例１）よりも大幅に輝
度が向上した。しかし、酸価が２０未満もしくは９０よ
りも大きいアクリル系共重合体を用いた絶縁膜形成用塗
料で前面板誘電体層１４を形成したＰＤＰ（比較例１〜
４）は、従来例のエチルセルロースを用いた絶縁膜形成
用塗料で前面板誘電体層１４を形成したＰＤＰ（比較例
１）と比べて輝度は同等もしくはやや劣る値となった。

【００６９】 （表３） ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― ハ゛インタ゛ー樹脂 無機微粒子 溶媒 分離性 ヘイス゛(%) 輝度(cd/m²) ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 実施例１ 樹脂ｄ ガラスｄ BCA ○ ２７．０ ６００ 実施例２ 樹脂ｅ ガラスｄ BCA ○ ２４．２ ６４０ 実施例３ 樹脂ｆ ガラスｄ BCA ○ ２３．８ ６５０ 実施例４ 樹脂ｇ ガラスｄ BCA ○ ２３．９ ６５０ 実施例５ 樹脂ｈ ガラスｄ BCA ○ ２５．３ ６２０ 実施例６ 樹脂ｉ ガラスｄ BCA ○ ２６．８ ６００ 比較例１ 樹脂ａ ガラスｄ BCA ○ ３２．５ ５５０ 比較例２ 樹脂ｂ ガラスｄ BCA × ３５．８ ５２０ 比較例３ 樹脂ｃ ガラスｄ BCA × ３３．８ ５４０ 比較例４ 樹脂ｊ ガラスｄ BCA ○ ３２．８ ５５０ ――――――――――――――――――――――――――――――――――――

【００７０】（実施例７および比較例５，６） 絶縁膜形成用塗料の調製 表１に記載のバインダー樹脂ｆおよび無機微粒子として
表２に記載のガラスｄを用い、溶媒として、実施例７で
は酢酸−ｎ−ブチル（ＢｕＡｃ）、比較例５では１−ブ
タノール（１−ＢｕＯＨ）、比較例６ではジクロロメタ
ン（ＣＨ₂Ｃｌ₂）をそれぞれ用いた。これらを用いて、
実施例１〜６および比較例１〜４と同様の方法にて、絶
縁性膜形成用塗料を作製した。組成比は、バインダー樹
脂４％、無機微粒子６５％、溶媒３１％とした。

【００７１】実施例７および比較例５，６の絶縁膜形成
用塗料についても、実施例１〜６および比較例１〜４と
同様に絶縁膜形成用塗料の分離性の評価、光学特性
の評価、およびＰＤＰの輝度の評価を行った。実施例
７および比較例５，６の絶縁膜形成用塗料の組成および
評価結果を表４に示す。また、実施例７および比較例
５，６と同様のバインダー樹脂および無機微粒子を用
い、溶媒としてＢＣＡを用いた実施例３についても、比
較のため表４に示す。

【００７２】 （表４） ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― ハ゛インタ゛ー樹脂 無機微粒子 溶媒 分離性 ヘイス゛(%) 輝度(cd/m²) ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 実施例３ 樹脂ｆ ガラスｄ BCA ○ ２７．０ ６５０ 実施例７ 樹脂ｆ ガラスｄ BuAc ○ ２４．４ ６４０ 比較例５ 樹脂ｆ ガラスｄ 1-BuOH × ３６．９ ５１０ 比較例６ 樹脂ｆ ガラスｄ CH₂Cl₂ × ３７．６ ５１０ ――――――――――――――――――――――――――――――――――――

【００７３】表４より、塩基性有機溶剤であるＢＣＡお
よびＢｕＡｃを用いて作製した絶縁膜形成用塗料は、静
置１週間後でも有機溶剤の分離がなかった。また、これ
ら塩基性有機溶剤を用いて作製した絶縁膜形成用塗料に
より形成した透明膜のヘイズは、比較例１より大幅に減
少し、ＰＤＰの輝度は比較例１より大幅に向上した。し
かし、酸性有機溶剤である１−ＢｕＯＨやＣＨ₂Ｃｌ₂を
用いた塗料は、静置１週間後には有機溶剤が分離してい
た。また、これら酸性有機溶剤を用いて作製した絶縁膜
形成用塗料から形成した透明膜のヘイズは、従来例の比
較例１よりも増加し、光学特性は悪くなった。また、酸
性有機溶剤を用いた場合は、ＰＤＰの輝度も比較例１よ
り低下した。

【００７４】（実施例８〜１３）実施例１〜６および比
較例１〜４と同様にして絶縁膜形成用塗料を作製した。
組成比は、バインダー樹脂４％、無機微粒子６５％、溶
媒３１％とした。実施例８〜１３の絶縁膜形成用塗料に
ついても、実施例１〜７および比較例１〜６と同様に
絶縁膜形成用塗料の分離性の評価、光学特性の評価、
およびＰＤＰの輝度の評価を行った。実施例８〜１３
の絶縁膜形成用塗料の組成および評価結果を表５に示
す。また、表５には、無機微粒子としてガラスｄを用い
た実施例３も示している。

【００７５】 （表５） ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― ハ゛インタ゛ー樹脂 無機微粒子 溶媒 分離性 ヘイス゛(%) 輝度(cd/m²) ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 実施例 ３ 樹脂ｆ ガラスｄ BCA ○ ２３．８ ６５０ 実施例 ８ 樹脂ｆ ガラスａ BCA ○ ３０．８ ５７０ 実施例 ９ 樹脂ｆ ガラスｂ BCA ○ ２６．１ ６１０ 実施例１０ 樹脂ｆ ガラスｃ BCA ○ ２３．５ ６５０ 実施例１１ 樹脂ｆ ガラスｅ BCA ○ ２４．５ ６４０ 実施例１２ 樹脂ｆ ガラスｆ BCA ○ ２６．６ ６００ 実施例１３ 樹脂ｆ ガラスｇ BCA ○ ３１．５ ５７０ ――――――――――――――――――――――――――――――――――――

【００７６】表５より、いずれのガラス微粒子を用いた
絶縁膜形成用塗料においても、静置１週間後の有機溶剤
の分離は観察されなかった。９０％体積粒子径が１μｍ
未満のガラスａを用いた絶縁膜形成用塗料（実施例８）
から形成した透明のヘイズは、従来例である比較例１よ
りは良好な結果を示したもののその効果は小さく、ＰＤ
Ｐの輝度向上効果も小さかった。また、９０％体積粒子
径が１０μｍを超えるガラスｇを用いた絶縁膜形成用塗
料（実施例１３）から形成した透明膜についても、実施
例８と同様にＰＤＰの輝度向上は小さかった、一方、９
０％体積粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下のガラスｂ〜
ｆを用いた絶縁膜形成用塗料（実施例３，９〜１２）か
ら形成した透明膜はヘイズの減少量が大きく、ＰＤＰの
輝度向上効果が大きかった。これらの実施例の中でも、
特に、９０％体積粒子径が２μｍ以上８μｍ以下の範囲
内にあるガラスｃ、ｄ、ｅを用いた絶縁膜形成用塗料
（実施例３，１０，１１）から形成した透明膜は、ヘイ
ズの減少量がより大きく、ＰＤＰの輝度向上効果もより
大きかった。

【００７７】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明の絶縁膜
形成用塗料は、酸価が２０〜９０のアクリル系共重合体
をバインダー樹脂とし、塩基性有機溶剤を主溶媒とする
ことで、経時変化による溶媒の分離などが無く、塗料中
の無機微粒子の分散安定性が良い絶縁膜形成用塗料とす
ることができる。従って、本発明の絶縁膜形成用塗料を
用いて誘電体層や保護層等の絶縁膜を形成することで、
輝度の高いＰＤＰを実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 プラズマディスプレイパネルの構造を示す斜
視図である。

【符号の説明】

１ 前面板 ２ 背面板 １１ 前面ガラス基板 １２ 表示電極 １３ ブラックストライプ １４ 前面板誘電体層 １５ 前面板保護層 ２１ 背面ガラス基板 ２２ アドレス電極 ２３ 背面板誘電体層 ２４ 隔壁 ２５ 蛍光体層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｂ 29/87 29/87 Ｆターム(参考） 4G062 AA08 AA09 BB04 CC01 DA02 DC02 DD02 DE02 DF02 EA02 EB02 ED02 EE02 EF02 EG02 FC02 GA02 MM25 NN24 4J038 CG001 HA486 KA06 KA20 NA21 5C027 AA02 5C032 AA07 CC10 5C040 FA01 FA04 FA09 GB03 GD07 JA02 KA09 KA10 KA17 KB03 KB09 KB19 KB28 MA03 MA30

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 バインダー樹脂、溶媒、および無機微粒
   子を含む絶縁膜形成用塗料であって、 前記バインダー樹脂の酸価が２０以上９０以下であり、
   かつ、前記溶媒が塩基性有機溶剤であることを特徴とす
   る絶縁膜形成用塗料。
2. 【請求項２】 前記バインダー樹脂がアクリル系共重合
   体を含むことを特徴とする請求項１に記載の絶縁膜形成
   用塗料。
3. 【請求項３】 前記無機微粒子の９０％体積粒子径が１
   μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１
   に記載の絶縁膜形成用塗料。ただし、無機微粒子の９０
   ％体積粒子径とは、体積基準で求めた前記無機微粒子の
   粒度分布を２分割する粒子径であって、その粒子径より
   小さい粒子が９０％、大きい粒子が１０％存在する粒子
   径のことである。
4. 【請求項４】 前記無機微粒子がガラスからなることを
   特徴とする請求項１に記載の絶縁膜形成用塗料。
5. 【請求項５】 前記ガラスが、二酸化珪素（Ｓｉ
   Ｏ₂）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、三酸化ホウ素（Ｂ
   ₂Ｏ₃）、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ビスマス（Ｂｉ
   ₂Ｏ₃）、酸化バリウム（ＢａＯ）、五酸化ニリン（Ｐ₂
   Ｏ₅）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ ₂）、酸化リチウム
   （Ｌｉ₂Ｏ）、酸化ナトリウム（Ｎａ₂Ｏ）、酸化カルシ
   ウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、およ
   び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から選択される少なくと
   も一種を含む組成物であることを特徴とする請求項４に
   記載の絶縁膜形成用塗料。
6. 【請求項６】 プラズマディスプレイパネル、プラズマ
   アドレス液晶ディスプレイパネル、または電子放出素子
   を用いた画像形成装置の絶縁膜形成用として用いられる
   ことを特徴とする請求項１に記載の絶縁膜形成用塗料。
7. 【請求項７】 請求項１に記載の絶縁膜形成用塗料を用
   いて形成された絶縁膜を備えたことを特徴とするプラズ
   マディスプレイパネル。
8. 【請求項８】 前記絶縁膜が、表示電極が設けられた前
   面基板上に設けられる誘電体層であることを特徴とする
   請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
9. 【請求項９】 請求項１に記載の絶縁膜形成用塗料を所
   定の部材が設けられた基板上に塗布し、その後焼成し
   て、絶縁膜を形成することを特徴とするプラズマディス
   プレイパネルの製造方法。
10. 【請求項１０】 前記絶縁膜形成用塗料を表示電極が設
    けられた前面基板上に塗布し、その後焼成して、誘電体
    層を形成することを特徴とする請求項９に記載のプラズ
    マディスプレイパネルの製造方法。