KR100720220B1 - 치환 아닐린 화합물의 제조방법 - Google Patents
치환 아닐린 화합물의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100720220B1 KR100720220B1 KR1020037005218A KR20037005218A KR100720220B1 KR 100720220 B1 KR100720220 B1 KR 100720220B1 KR 1020037005218 A KR1020037005218 A KR 1020037005218A KR 20037005218 A KR20037005218 A KR 20037005218A KR 100720220 B1 KR100720220 B1 KR 100720220B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- branched
- straight
- linear
- alkoxy
- Prior art date
Links
- -1 aniline compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 237
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 57
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N N-phenyl amine Natural products NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 37
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 64
- FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N methylenecarboxanilide Natural products CC(=O)NC1=CC=CC=C1 FZERHIULMFGESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 229960001413 acetanilide Drugs 0.000 claims abstract description 46
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N benzopyrrole Natural products C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 44
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 40
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 95
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 75
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 65
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 62
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 62
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 61
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 60
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 53
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 45
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 43
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 39
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 32
- 125000005431 alkyl carboxamide group Chemical group 0.000 claims description 30
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 22
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 claims description 21
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000004454 (C1-C6) alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- MRPUESHNMJXBDD-UHFFFAOYSA-N 1-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)propan-2-one Chemical compound COC1=CC(OC)=NC(CC(C)=O)=N1 MRPUESHNMJXBDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- CVNDJYZTTMPSSQ-UHFFFAOYSA-N [2-(methoxymethyl)phenyl]hydrazine Chemical compound COCC1=CC=CC=C1NN CVNDJYZTTMPSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000006196 deacetylation Effects 0.000 claims description 7
- 238000003381 deacetylation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 230000000850 deacetylating effect Effects 0.000 claims description 6
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000008061 acetanilides Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 2
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 abstract description 5
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 159
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 72
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 38
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 32
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 30
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 28
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical class CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 20
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 16
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 16
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- 239000010977 jade Substances 0.000 description 13
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 13
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 10
- HKMCYGKIBUUALH-UHFFFAOYSA-N 3-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)-3-oxo-n-phenylpropanamide Chemical compound COC1=CC(OC)=NC(C(=O)CC(=O)NC=2C=CC=CC=2)=N1 HKMCYGKIBUUALH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- CJBAGZDMKLQHFD-UHFFFAOYSA-N 3-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)-2-methyl-1h-indole Chemical compound COC1=CC(OC)=NC(C=2C3=CC=CC=C3NC=2C)=N1 CJBAGZDMKLQHFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 8
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 8
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- 0 CCC(C(C(*)c1c(C)c(OC)cc(*)c1)=*)=C(*)C(*C)=C(C)* Chemical compound CCC(C(C(*)c1c(C)c(OC)cc(*)c1)=*)=C(*)C(*C)=C(C)* 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 7
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 7
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 7
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 7
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 6
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 6
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEIMVOKKWWOWBM-UHFFFAOYSA-N 3-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)-2,7-dimethyl-1h-indole Chemical compound COC1=CC(OC)=NC(C=2C3=CC=CC(C)=C3NC=2C)=N1 VEIMVOKKWWOWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YILLIHNRNIMHJY-UHFFFAOYSA-N 3-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)-7-(methoxymethyl)-2-methyl-1h-indole Chemical compound CC=1NC=2C(COC)=CC=CC=2C=1C1=NC(OC)=CC(OC)=N1 YILLIHNRNIMHJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- JJORFKLVGMELDN-UHFFFAOYSA-N [2-amino-3-(methoxymethyl)phenyl]-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)methanol Chemical compound COCC1=CC=CC(C(O)C=2N=C(OC)C=C(OC)N=2)=C1N JJORFKLVGMELDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 5
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- CJUJMMAMUMDDJH-UHFFFAOYSA-N (2-aminophenyl)-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=NC(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)N)=N1 CJUJMMAMUMDDJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VQXCUEGJQYQNEO-UHFFFAOYSA-N 3-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)-7-ethyl-2-methyl-1h-indole Chemical compound CC=1NC=2C(CC)=CC=CC=2C=1C1=NC(OC)=CC(OC)=N1 VQXCUEGJQYQNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 4
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QZYKNQASNNLMQJ-UHFFFAOYSA-N 1-pyrimidin-2-ylpropan-2-one Chemical compound CC(=O)CC1=NC=CC=N1 QZYKNQASNNLMQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PZKQOBUGIDGJFX-UHFFFAOYSA-N 3-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)-5-methoxy-2-methyl-1h-indole Chemical compound C12=CC(OC)=CC=C2NC(C)=C1C1=NC(OC)=CC(OC)=N1 PZKQOBUGIDGJFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XWDNMBWEWNQSMC-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-3-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)-2-methyl-1h-indole Chemical compound COC1=CC(OC)=NC(C=2C3=CC(Cl)=CC=C3NC=2C)=N1 XWDNMBWEWNQSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002565 Polyethylene Glycol 400 Polymers 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FHZRXTRVRCXCCK-UHFFFAOYSA-N [2-amino-3-(methoxymethyl)phenyl]-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)methanone Chemical compound COCC1=CC=CC(C(=O)C=2N=C(OC)C=C(OC)N=2)=C1N FHZRXTRVRCXCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229940068917 polyethylene glycols Drugs 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- UNMXFBVWSPLGOJ-UHFFFAOYSA-N (2-amino-3-ethylphenyl)-(4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)methanol Chemical compound CCC1=CC=CC(C(O)C=2N=C(OC)C=C(OC)N=2)=C1N UNMXFBVWSPLGOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHPOWXCLWLEKBY-UHFFFAOYSA-N (2-ethylphenyl)hydrazine Chemical compound CCC1=CC=CC=C1NN JHPOWXCLWLEKBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000171 (C1-C6) haloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZHERWZMAGGWSIX-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethyl)aniline Chemical compound COCC1=CC=CC=C1N ZHERWZMAGGWSIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRUKOYWDGNQFHW-UHFFFAOYSA-N 3-(4-chloro-4,6-dimethoxy-1h-pyrimidin-2-yl)-3-oxo-n-phenylpropanamide Chemical compound N1C(OC)=CC(Cl)(OC)N=C1C(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1 QRUKOYWDGNQFHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical group CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000001243 acetic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 238000011909 oxidative ring-opening Methods 0.000 description 2
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- BDSHNNKBWNAZIM-UHFFFAOYSA-N (2,4-dimethylphenyl)hydrazine Chemical compound CC1=CC=C(NN)C(C)=C1 BDSHNNKBWNAZIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHGPIPTUDQZJJS-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)hydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1Cl GHGPIPTUDQZJJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGODPVCKFLEVFG-UHFFFAOYSA-N (2-methoxyphenyl)hydrazine Chemical compound COC1=CC=CC=C1NN FGODPVCKFLEVFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJGFNDCSTWGUDT-UHFFFAOYSA-N (2-methylanilino)azanium;chloride Chemical compound Cl.CC1=CC=CC=C1NN KJGFNDCSTWGUDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCZGZDLUGUYLRV-UHFFFAOYSA-N (2-methylphenyl)hydrazine Chemical compound CC1=CC=CC=C1NN SCZGZDLUGUYLRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQVZREHUWCCHHX-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)hydrazine;hydron;chloride Chemical compound Cl.NNC1=CC=C(Cl)C=C1 YQVZREHUWCCHHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYPNYAHCNKRLHG-UHFFFAOYSA-N (4-ethylphenyl)hydrazine Chemical compound CCC1=CC=C(NN)C=C1 JYPNYAHCNKRLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVRSIFAEUCUJPK-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)hydrazine Chemical compound COC1=CC=C(NN)C=C1 PVRSIFAEUCUJPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQHCPFMTXFJZJS-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)hydrazine;hydrochloride Chemical compound Cl.COC1=CC=C(NN)C=C1 FQHCPFMTXFJZJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAMBIJWZVIZZOG-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)hydrazine Chemical compound CC1=CC=C(NN)C=C1 XAMBIJWZVIZZOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYATZFJUOXJFPY-UHFFFAOYSA-N (4-propan-2-ylphenyl)hydrazine Chemical compound CC(C)C1=CC=C(NN)C=C1 ZYATZFJUOXJFPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZWYEAUEGLJAJC-UHFFFAOYSA-N 1-(4,6-dichloropyrimidin-2-yl)propan-2-one Chemical compound CC(=O)CC1=NC(Cl)=CC(Cl)=N1 XZWYEAUEGLJAJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJHSVBOGIGFNLR-UHFFFAOYSA-N 1-(4,6-diethoxypyrimidin-2-yl)propan-2-one Chemical compound CCOC1=CC(OCC)=NC(CC(C)=O)=N1 CJHSVBOGIGFNLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUBOUABSSXXGHA-UHFFFAOYSA-N 1-(4,6-dimethoxy-5-methylpyrimidin-2-yl)propan-2-one Chemical compound COC1=NC(CC(C)=O)=NC(OC)=C1C DUBOUABSSXXGHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPNKLVXLKPRYIR-UHFFFAOYSA-N 1-(4,6-dimethoxy-5-nitropyrimidin-2-yl)propan-2-one Chemical compound COC1=NC(CC(C)=O)=NC(OC)=C1[N+]([O-])=O PPNKLVXLKPRYIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQPPPERFNNMO-UHFFFAOYSA-N 1-(4,6-dimethylpyrimidin-2-yl)propan-2-one Chemical compound CC(=O)CC1=NC(C)=CC(C)=N1 AMGQPPPERFNNMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLFDJIVMZZXXPH-UHFFFAOYSA-N 1-(5-ethyl-4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl)propan-2-one Chemical compound CCC1=C(OC)N=C(CC(C)=O)N=C1OC RLFDJIVMZZXXPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPTRRTCPDSCNOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-4,6-dimethoxypyrimidine Chemical compound COC1=CC(OC)=NC(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=N1 IPTRRTCPDSCNOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFTCDVWETRBXGT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)-4,6-dimethylpyrimidine Chemical compound CC1=CC(C)=NC(S(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=N1 IFTCDVWETRBXGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFGVDCBVGNMCJC-UHFFFAOYSA-N 2-hydrazinylbenzoic acid Chemical compound NNC1=CC=CC=C1C(O)=O KFGVDCBVGNMCJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEVVLQBCEVMGGM-UHFFFAOYSA-N 3-(4-chloro-4,6-dimethoxy-1h-pyrimidin-2-yl)-3-hydroxy-n-phenylpropanamide Chemical compound N1C(OC)=CC(Cl)(OC)N=C1C(O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1 OEVVLQBCEVMGGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 3-(5-amino-1h-indol-3-yl)-2-azaniumylpropanoate Chemical compound C1=C(N)C=C2C(CC(N)C(O)=O)=CNC2=C1 YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQWVQIVJGAOWDJ-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-n-phenylpropanamide Chemical compound COCCC(=O)NC1=CC=CC=C1 WQWVQIVJGAOWDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITDVJJVNAASTRS-UHFFFAOYSA-N 4,6-dimethoxy-2-methylsulfonylpyrimidine Chemical compound COC1=CC(OC)=NC(S(C)(=O)=O)=N1 ITDVJJVNAASTRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPSPPRZKBUVEJQ-UHFFFAOYSA-N 4,6-dimethoxypyrimidine Chemical compound COC1=CC(OC)=NC=N1 FPSPPRZKBUVEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010067484 Adverse reaction Diseases 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N Raney nickel Chemical compound [Al].[Ni] NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 108091006629 SLC13A2 Proteins 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYMGNFTVGSSAE-UHFFFAOYSA-N [4-(methoxymethyl)phenyl]hydrazine Chemical compound COCC1=CC=C(NN)C=C1 WPYMGNFTVGSSAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBNLGTYGKCMLLR-UHFFFAOYSA-N [4-(trifluoromethyl)phenyl]hydrazine Chemical compound NNC1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 DBNLGTYGKCMLLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N [C].[Pt] Chemical compound [C].[Pt] DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000006838 adverse reaction Effects 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011609 ammonium molybdate Substances 0.000 description 1
- APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P ammonium molybdate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O APUPEJJSWDHEBO-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 235000018660 ammonium molybdate Nutrition 0.000 description 1
- 229940010552 ammonium molybdate Drugs 0.000 description 1
- 150000003931 anilides Chemical class 0.000 description 1
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JGVDBODXXHHCJH-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.CCCCOC(C)=O JGVDBODXXHHCJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000005392 carboxamide group Chemical group NC(=O)* 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012156 elution solvent Substances 0.000 description 1
- IUXRSXYEOYUWMC-UHFFFAOYSA-N ethyl 4,6-dimethoxy-2-(2-oxopropyl)pyrimidine-5-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=C(OC)N=C(CC(C)=O)N=C1OC IUXRSXYEOYUWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- XVAIDCNLVLTVFM-UHFFFAOYSA-N methacetin Chemical compound COC1=CC=C(NC(C)=O)C=C1 XVAIDCNLVLTVFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUVXAQCVNJUHKG-UHFFFAOYSA-N methyl 4-hydrazinylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(NN)C=C1 PUVXAQCVNJUHKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 150000004967 organic peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical group CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003797 solvolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
- C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
- C07D403/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C243/00—Compounds containing chains of nitrogen atoms singly-bound to each other, e.g. hydrazines, triazanes
- C07C243/10—Hydrazines
- C07C243/22—Hydrazines having nitrogen atoms of hydrazine groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/30—Halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/32—One oxygen, sulfur or nitrogen atom
- C07D239/42—One nitrogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/46—Two or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms
- C07D239/52—Two oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
본 발명은, 일반식(3)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해, 일반식(4)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물에 대하여 환원, 및 탈아세틸화를 하는 것을 특징으로 하는 일반식(6)
으로 표시되는 치환 아닐린류의 공업적으로 유리한 제조방법을 제공한다.
Description
본 발명은 예를 들면 농의약품의 제조에 있어서 유용한 중간체가 될 수 있는 치환 아닐린 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
지금까지 4,6-디메톡시피리미딘을 갖는 술폰아닐리드 유도체 중에서, 몇 개의 화합물이 높은 제초활성을 갖고 있는 것은 이미 알려져 있고(일본국 특개평 11-60562호 공보, WO00/06553호 공보 참조), 그 제조에 있어서는, 치환 아닐린 화합물이 중요 중간체로서 유용한 것도 알려져 있다.
한편, 높은 제초활성을 갖는 술폰아닐리드 유도체의 중요 중간체인 치환 아닐린류의 제조방법도, 지금까지 개시되어 있지만(일본국 특개평 7-48359호 공보, WO96/41799호 공보 참조), 이들은 공업화 제법으로서는 불리한 반응을 이용하는 것이었기 때문에, 목적으로 하는 치환 아닐린류의 공업적으로 유리한 제조방법의 출현이 요구되어 왔다.
[발명의 개시]
본 발명자가 상기 과제를 해결하기 위해 예의 노력을 거듭한 결과, 예를 들면(피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물과 히드라진 화합물을 산의 존재하에서 반응 시켜 치환 인돌 화합물을 제조하고, 인돌 화합물을 산화함에 의해 인돌환의 개환(開環)을 하여 아세트아닐리드 화합물을 얻어, 얻어진 아세트아닐리드 화합물에 대하여 바람직하게는 수소화붕소나트륨에 의한 환원이나, 그 아미드 부위의 탈아세틸화를 함으로써, 목적으로 하는 치환 아닐린 화합물을 제조하는 것, 즉, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 이 지견에 근거하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
[발명을 실시하기 위한 최선의 형태]
이하, 본 발명에 관해서 상세히 설명한다.
본 발명은, 주로 하기〔1〕내지〔14〕에 기재된 발명을 제공하는 것에 의해 상기 과제를 해결한 것이다.
[1] 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물에 대하여 환원, 및 탈아세틸화를 하는 것을 특징으로 하는 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
[2] 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물을 환원하여, 일반식(5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 2-(피리미딘-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 계속하여 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는, 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
[3] 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해 얻어지는 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물을 단리(單離)하지 않고 환원하여, 일반식(5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 계속하여 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는, 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
[4] 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3 및 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의 해, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물을 탈아세틸하여, 일반식(7)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 아미노 화합물을 제조하고, 계속해서 환원하는 것을 특징으로 하는, 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
[5] 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을, 일반식(1)
(식 중, R1, R2 및 R3은 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물과, 일반식(2)
(식 중, X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 히드라진 화합물을 산의 존재 하에서 반응시켜 제조하는, 1 내지 4 중 어느 하나에 기재된 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
[6] 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환를 하는 것에 의해, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물을 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는, 일반식(7)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는, 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 아미노 화합물의 제조방법.
[7] 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물을 환원하는 것을 특징으로 하는, 일반식(5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는, 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물의 제조방법.
[8] 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해 얻어지는 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 단리하지 않고 환원하는 것을 특징으로 하는, 일반식(5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물의 제조방법.
[9] 일반식(1)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타낸다.)
로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물과, 일반식(2)
(식 중, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
로 표시되는 히드라진 화합물을 산의 존재 하에서 반응시키는 것을 특징으로 하는, 일반식(3)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물의 제조방법.
[10] 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴 기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것을 특징으로 하는, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물의 제조방법.
[11] 일반식(4)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴 기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는 일반식(7)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 아미노 화합물의 제조방법.
[12] 일반식(7)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를 나타낸다.)
로 표시되는 아미노 화합물을 환원하는 것을 특징으로 하는 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
[13] 일반식(4)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 환원하는 것을 특징으로 하는 일반식 (5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물의 제조방법.
[14] 일반식(5)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르복사미드기, 니트로기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 알콕시알킬기, 할로알킬기, 카르복실기, 알콕시카르보닐기 또는 할로겐원자를, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)
로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)
으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
이하, 본 발명에 관해서 상세히 설명한다.
[1]에 기재된 본 발명방법(이하, 특별히 기록하지 않는 한 '본 발명방법'은 의미가 같다.)은, 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 원료로 하지만, 이 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물은, 일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물과, 일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물을 산의 존재 하에서 반응시켜 제조할 수 있으므로, 최초에 이 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 제조하는 공정(공정 1)을 설명한다.
우선, 원료가 되는 일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물과 일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물에 대해서 설명한다.
일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물 중의 R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부 틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 탄소수 1 내지 6(이하, 탄소수에 대해서는, 예를 들면 탄소수가 1 내지 6인 경우에는, 이것을 'C1∼C6'과 같이 약기한다.)의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 알킬기; 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 알콕시기; 예를 들면 메톡시메틸기, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 알콕시(C1∼C6)알킬기; 예를 들면 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 할로알킬기; 카르복실기; 예를 들면 메톡시카르보닐기, 에톡시 카르보닐기 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 알콕시카르보닐기; 예를 들면 메틸카르복사미드기, 에틸카르복사미드기 등의 직쇄 또는 분지(C1∼C6 알킬)카르복사미드기; 니트로기; 페닐기 등의 아릴기; 예를 들면 페닐메틸기, 페닐에틸기 등의 직쇄 또는 분지 아릴(C1∼C6)알킬기; 예를 들면 페녹시기, 나프톡시기 등의 아릴옥시기; 예를 들면 브로모기, 클로로기, 플루오로기, 요오드기 등의 할로겐원자 및 수소원자를 나타낼 수 있다.
따라서 공정 1에 사용할 수 있는 일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물로서는, 구체적으로 예를 들면, 1-(피리미딘-2-일)-2-프로파논, 1-(4,6-디메틸피리미딘-2-일)-2-프로파논, 1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논, 1-(4,6-디메톡시-5-메틸피리미딘-2-일)-2-프로파논, 1-(4,6-디메톡시-5-에틸피리미딘-2-일)-2-프로파논, 1-(4,6-디메톡시-5-니트로피리미딘-2-일)-2-프로파논, 1-(4,6-디클로로피리미딘-2-일)-2-프로파논, 1-(4,6-디메톡시-5-에톡시카르보닐피리미딘-2-일)-2-프로파논, 1-(4,6-디에톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논 등을 들 수 있다. 일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물에는 호변이성체(互變異性體)가 존재하고, 어떤 호변이성체도 본 발명방법에서는 사용 가능하지만, 본 명세서의 기재에 있어서는, 그 구조의 표현은 일반식(1)과 같이 2-프로파논 유도체로서의 구조식이고, 또한, 그 명칭은 상기의 바와 같이 2-프로파논 유도체로서의 명명에 의한 명칭으로 각각 대표시킨다.
이들 일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물은 공지의 화합물이거나, 2-페닐설포닐-4,6-디메틸피리미딘 등을 원료로 하여 케미컬 앤드 파머수티컬 블러틴(Chemical & Pharmaceutical Bulletin), 제 152페이지(1982년) 기재의 방법 등에 준하여 제조할 수가 있는 화합물이고, 일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물 중에는 1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논 등의 신규화합물이 있고, 이것은 상기 일반식(6)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물을 제조할 때에 원료로서 유용한 화합물이다.
한편, 일반식(2) 중의 X 및 Y는, 각각 독립적으로 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 알킬기; 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 알콕시기; 예를 들면 메톡시메틸기, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 알콕시(C1∼C6)알킬기; 예를 들면 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 할로알킬기; 카르복실기; 예를 들면 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 알콕시카르보닐기; 예를 들면 브로모 기, 클로로기, 플루오로기, 요오드기 등의 할로겐원자; 또는 수소원자를 나타낼 수 있다.
따라서, 공정 1에 사용할 수 있는 일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물로서는, 구체적으로 예를 들면, 페닐히드라진, 2-메틸페닐히드라진, 4-메틸페닐히드라진, 2,4-디메틸페닐히드라진, 2-에틸페닐히드라진, 4-에틸페닐히드라진, 4-이소프로필페닐히드라진, 2-메톡시페닐히드라진, 4-메톡시페닐히드라진, 2-메톡시메틸페닐히드라진, 4-메톡시메틸페닐히드라진, 4-트리플루오로메틸페닐히드라진, 2-히드라지노벤조산, 4-메톡시카르보닐페닐히드라진, 2-클로로페닐히드라진 등을 들 수 있다.
또한, 일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물은, 프리(유리(遊離))인 것이라도, 예를 들면 염산염이나 황산염 등의 소금으로 되어있는 것이라도, 어느 것이나 사용할 수가 있다.
일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물은 공지의 화합물이거나, 혹은 대응하는 아닐린을 원료로서 저널 오브 오가닉 케미스트리(Journal of Organic Chemistry), 제 2849페이지(1972년)에 기재된 방법 등에 준하여 제조할 수가 있는 화합물이다.
또한, 일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물 중의 2-메톡시메틸페닐히드라진은 신규 화합물이다.
공정 1에서의 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물 제조상에서의 일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물과 일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)- 2-프로파논 화합물의 몰비는, 어떠한 몰비에서도 반응이 진행하지만, 일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물 1몰에 대하여 일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물이 통상 0.5∼3몰, 바람직하게는 1∼2몰의 범위를 예시할 수 있다.
일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 제조하는 공정 1은 산을 사용하여 행한다. 사용할 수 있는 산으로서는, 예를 들면, 염산, 황산 등의 광산류; 초산, 트리플루오로초산 등의 초산류; 염화아연, 3불화붕소 등의 루이스산; p-톨루엔술폰산 등의 술폰산류; 폴리인산 등의 인산류; 3염화인 등의 할로겐화인류; 앰버리스트 등의 산성 이온교환수지류 등을 예시할 수가 있지만, 바람직하게는 염화아연, 3불화붕소 등의 루이스산을 사용하여 행하는 것이 좋다. 본 공정에서의 산의 사용량은, 생성하는 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 분해하지 않는 양이면 좋지만, 일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물 1몰에 대하여 0.001∼10몰, 바람직하게는 0.1∼2몰의 범위이면 좋다.
일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 제조하는 공정 1은, 무용매에서도 충분할 수 있지만, 용매를 사용하여 행할 수도 있다. 본 반응에 사용할 수 있는 용매로서는, 반응을 저해하지 않는 것이면 좋고, 예를 들면, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 디클로로메탄, 클로로포름 등의 할로겐화 지방족 탄화수소류; 초산메틸, 초산에틸, 초산부틸 등의 초산에스테르류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 테트라-메틸요소, 헥사메틸포스포릭트리아미드(HMPA) 등의 비프로톤성 극성용매류; 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산계 등의 에테르계 용매류; 펜탄, n-헥산 등의 지방족 탄화수소류 등을 들 수 있지만, 바람직하게는 톨루엔 등의 방향족 탄화수소류가 좋다. 용매는 단독으로, 또는 임의의 혼합비율의 혼합용매로서 사용할 수 있다. 용매량으로서는, 반응계의 교반을 충분히 할 수 있는 양이면 좋지만, 일반식(5)으로 표시되는 히드라진 화합물 1몰에 대하여 통상 0.5∼20ℓ, 바람직하게는 1∼10ℓ의 범위이면 좋다.
일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 제조하는 공정 1의 반응온도는 0℃∼사용하는 용매의 환류온도의 범위를 예시할 수 있지만, 바람직하게는 0℃∼ 120℃의 범위가 좋다.
상기와 같이 하여 제조할 수 있는 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 제조하는 공정 1의 반응시간은, 특히 제한되지 않지만, 바람직하게는 0.5시간∼ 12시간이 좋다.
공정 1에서 제조할 수 있는 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물은 신규 화합물이고, 이것은 제초제로서 고활성으로 유용한 것이 알려져 있는 술폰아닐리드 유도체의 중간원료로서 유용한 화합물이다.
본 발명방법에서는, 상기한 바와 같이 하여 얻어진 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물의 인돌환을 산화에 의해 개환을 하여, 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물을 제조하는 공정(공정 2)과, 계속해서 일반식(4)으로 표시되는 아세트아닐리드 화합물에 대하여 환원, 및, 탈아세틸화를 함에 의해 최종화합물인 일반식(6)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물을 제조하는 공정으로 구성되지만, 환원, 및, 탈아세틸화는 어느 것을 선행시키더라도 좋기 때문에, 상기 공정 2 및, 일반식(4)으로 표시되는 아세트아닐리드 화합물과 바람직하게는 수소화붕소나트륨과 반응시킴으로써 상기 일반식(5)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 제조하는 공정(공정 3)과, 공정 3에서 얻어지는 일반식(5)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물의 아미드부위를 탈아세틸함으로써 최종화합물인 일반식(6)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물을 제조하는 공정(공정 4)을 순차로 설명한다.
공정 2는, 공정 1에서 얻어지는 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화적으로 인돌환을 개환하는 것에 의해서, 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물을 제조하는 공정이다. 또한, 일반식(3)중의 R1, R2, R3, X 및 Y는 상기와 같은 의미를 나타내고 있다.
이 공정 2에 있어서 사용되는 산화제로서는, 예를 들면 오존; 과산화 수소 등의 무기과산화물; 과초산, 과벤조산, m-클로로과벤조산 등의 유기과산류; 과망간산칼륨, 과옥소산나트륨, 텅스텐산나트륨, 몰리브덴산암모늄 등의 금속산화물, 공기 등을 예시할 수 있지만, 바람직하게는 오존이 좋다. 이들 산화제는 단독으로도 충분히 반응은 진행하지만, 임의의 혼합비율로 사용할 수도 있다. 본 산화공정에서의 산화제의 사용량은 생성하는 일반식(4)의 치환 아세트아닐리드 화합물을 분해하지 않는 범위이면 좋지만, 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물 1몰에 대하여, 통상 0.1∼20몰, 바람직하게는 1∼10몰이 좋다.
공정 2에서는 통상, 용매를 사용하여 반응을 한다. 사용할 수 있는 용매로 서는 반응을 저해하지 않는 것이면 좋고, 예를 들면, 초산메틸, 초산에틸초산부틸 등의 초산에스테르류; 디클로로메탄, 클로로포름 등의 할로겐화 지방족 탄화수소류; 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 펜탄, n-헥산 등의 지방족 탄화수소류; 포름아미드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 비프로톤성 극성용매류; 아세트니트릴 등의 니트릴류; 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 디그라임 등의 에테르계용매류; 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 초산 등의 카르본산류; 아세톤, 메틸 이소부틸케톤 등의 케톤류; 물 등을 들 수 있다. 용매는 단독으로, 또는 임의의 비율의 혼합용매로서 사용할 수 있다. 용매량으로서는, 반응계의 교반을 충분히 할 수 있는 양이면 좋지만, 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물 1몰에 대하여 통상 0.5∼20ℓ, 바람직하게는 1∼l0ℓ의 범위이면 좋다.
공정 2의 반응온도는, -20℃∼사용하는 용매의 환류온도의 범위를 예시할 수 있지만, 바람직하게는 -10℃∼60℃에서의 범위가 좋다.
공정 2의 반응시간은 특히 제한되지 않지만, 바람직하게는 0.5시간∼12시간이 좋다.
공정 2에서 얻어지는 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물은 신규 화합물이고, 이들 치환 아세트아닐리드 화합물은 제초제로서 유용한 것이 알려져 있는 술폰아닐리드 유도체의 중간원료로서 유용한 화합물이다.
이렇게 하여 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물을 제조할 수 있다.
일반식(4)으로 표시되는 아세트아닐리드 화합물로서는, 구체적으로 예를 들면, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메틸아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-에틸아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-4-메틸아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-4-에틸아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-4-메톡시메틸아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-4-클로로아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-클로로아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-4-플루오로아세트아닐리드, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-플루오로아세트아닐리드 등을 들 수 있다.
또한, 이와 같이 하여 공정 2에서 얻어진 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물은, 단리정제하지 않더라도 후속공정 3에 사용할 수가 있다. 즉 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 예를 들면 오존 등으로 공정 2의 산화 개환공정을 하고, 계속해서 후기공정 3의 바람직하게는 수소화붕소나트륨에 의한 환원을 동일용기 내에서 하는 것에 의해, 일반식(5)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 쉽게 얻을 수 있어, 사용한 산화제의 뒤처리도 용이하게 된다. 따라서, 공업적으로는, 이러한 산화 개환공정과 환원공정을 연속적으로 동일용기 내에서 하는 방법을 채용하는 것이 조작의 간편성 등의 관점에서 바람직하다.
다음에 공정 3에 대해서 설명한다.
공정 3은, 일반식(4)으로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을, 바람직하게는 수소화붕소나트륨으로 환원하는 것에 의해, 일반식(5)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 제조하는 공정이다. 또한, 일반식(4) 중의 R1, R2, R3, X 및 Y는 상기와 같은 의미를 나타내고 있다.
공정 3에 있어서의 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물과 수소화붕소나트륨의 몰비는 어떠한 몰비라도 좋지만, 치환 아세트아닐리드 화합물 1몰에 대하여 0.5∼20몰, 바람직하게는 1∼10몰로 좋다.
공정 3의 반응은 통상, 용매를 사용하여 행하여진다. 공정 3에 사용되는 용매로서는, 본 반응을 저해하지 않는 것이면 좋고, 예를 들면, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 초산메틸, 초산에틸, 초산부틸 등의 초산에스테르류; 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올 등의 알코올류: 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 비프로톤성 극성용매류: 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산 등의 에테르계용매류; 펜탄, n-헥산 등의 지방족 탄화수소류; 폴리에틸렌글리콜(PEG)-400 등의 폴리에틸렌글리콜류나 물 등을 들 수 있다. 용매는 단독으로, 또는 임의의 혼합비율의 혼합용매로서 사용할 수 있다. 용매량으로서는, 반응계의 교반을 충분히 할 수 있는 양이면 좋지만, 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물 1몰에 대하여 통상, 0.5∼20ℓ, 바람직하게는 1∼10ℓ의 범위이면 좋다.
공정 3의 반응온도는, -15℃∼사용하는 용매의 환류온도의 범위를 예시할 수 있지만, 바람직하게는 -5℃∼60℃의 범위가 좋다.
공정 3의 반응시간은, 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 0.5시간∼24시간이 좋다.
또한, 공정 3에서는, 시약의 안정성과, 공정 2에 있어서의 치환 인돌 화합물의 산화적 개환에 사용한 산화제의 뒤처리를 겸한다고 하는 의미로, 수소화붕소나트륨을 사용하는 것이 바람직하지만, 공정 3에 있어서의 환원은 수소화붕소나트륨에 한정되지 않고, 접촉 수소첨가에 의한 환원(촉매로서는, 팔라듐탄소[Pd/C], 백금탄소[Pt/C]나 레이니니켈 등의 레이니촉매(Raney catalyst) 등, 통상 사용되는 금속계의 접촉 환원촉매를 사용할 수 있다.), 수소화리튬알루미늄에 의한 환원이나 디보란에 의한 환원 등을 채용할 수 있다.
또한, 공정 3으로 얻어지는 일반식(5)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물은, 이것을 단리하지 않고 다음 공정 4로 진행되어도 좋다.
다음에 공정 4에 대해서 설명한다.
공정 4에서는, 공정 3에서 얻어진 일반식(5)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물의 아미드부위를 탈아세틸하는 것에 의해, 일반식(6)으로 표시되는 최종목적 화합물인 치환 아닐린 화합물을 제조한다. 또한, 일반식(5) 중의 R1, R2, R3, X 및 Y는 상기와 같은 의미를 나타내고 있다.
이 탈아세틸은, 목적물의 안정성의 관점에서는 염기를 사용하여 하는 것이 바람직하다.
공정 4의 반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리금속 수산화물류; 수산화바륨등의 알칼리토류금속 수산화물류; 탄산칼륨, 탄산나트륨 등의 탄산염류; 1,8-디아자비시클로[5,4,0]운데크-7-엔 등의 유기아민류 등을 들 수 있지만, 바람직하게는 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리금속 수산화물류가 좋다.
공정 4에 있어서의 염기의 사용량으로서는, 생성하는 일반식(6)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물을 분해하지 않는 양이면 좋지만, 일반식(5)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물 1몰에 대하여, 통상, 0.1∼ 30몰, 바람직하게는 0.5∼10몰의 범위이면 좋다.
공정 4의 반응은 용매를 사용하고 행하여도 좋다. 공정 4에 사용할 수 있는 용매로서는, 반응을 저해하지 않는 것이면 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 비 프로톤성 극성용매류; 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산 등의 에테르계용매류; 펜탄, n-헥산 등의 지방족 탄화수소류; 폴리에틸렌글리콜(PEG) -400 등의 폴리에틸렌글리콜류; 물 등을 들 수 있다. 용매는 단독으로, 또는 임의의 혼합비율의 혼합용매로서 사용할 수 있다. 용매량으로서는, 반응계의 교반을 충분히 할 수 있는 양이면 좋지만, 일반식 (2)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물 1몰에 대 하여 통상, 0.5∼20ℓ, 바람직하게는 1∼10ℓ의 범위이면 좋다.
공정 4의 반응온도는, -15℃∼사용하는 용매의 환류온도의 범위를 예시할 수 있지만, 바람직하게는 -5℃∼l00℃의 범위가 좋다.
공정 4의 반응시간은, 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 0.5시간∼24시간이 좋다.
또한, 이미 설명한 바와 같이, 일반식(4)으로 표시되는 아세트아닐리드 화합물에 대한 환원, 및, 탈아세틸화는 어느 것을 선행시키더라도 좋기 때문에, 계속해서 일반식(4)으로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 탈아세틸하여 일반식(7)으로 표시되는 아미노 화합물을 제조하는 공정(공정 5)과, 얻어진 일반식(7)으로 표시되는 아미노 화합물을 환원하여 최종 화합물인 일반식(6)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물을 제조하는 공정(공정 6)을 순차로 설명한다.
공정 5는, 상기 공정 2에서 얻어진 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물을 산을 사용하여 가하여 용매분해함으로써, 일반식(7)으로 표시되는 아미노 화합물을 제조하는 공정이다.
공정 5의 반응에 사용되는 산으로서는, 예를 들면, 염산, 황산 등의 광산류; 3불화붕소 등의 루이스산류; 초산, 트리플루오로초산 등의 초산류; p-톨루엔술폰산 등의 술폰산류; 앰버리스트 등의 산성이온교환수지류 등을 예시할 수 있지만, 바람직하게는, 염산, 황산을 사용하는 것이 좋다.
공정 5에 있어서의 산의 사용량으로서는, 생성하는 일반식(5)으로 표시되는 아미노 화합물을 분해하지 않는 양이면 좋지만, 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세 트아닐리드 화합물 1몰에 대하여, 통상 0.1∼10몰, 바람직하게는 0.5∼5몰의 범위이면 좋다.
공정 5의 반응은 용매존재 하에서 실시하지만, 이 용매로서는, 물; 에탄올, 메탄올 등의 직쇄 또는 분지 C1∼C6 알코올류를 예시할 수 있다. 이 용매의 양은, 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물 1몰에 대하여 1몰 이상이면 좋고, 통상 1∼10ℓ, 바람직하게는 0.5∼10ℓ의 범위를 예시할 수 있지만, 공정 5에서 사용하는 산의 종류나 사용량에도 의하지만, pH가 대략 4 이하, 바람직하게는 pH 2 이하, 더욱 바람직하게는 pH 1 이하가 되도록 하면 좋다.
공정 5의 반응은 상기 용매만이라도 충분히 할 수 있지만, 또 다른 용매를 혼합하여 할 수 있다.
공정 5에 혼합하여 사용할 수 있는 용매로서는, 공정 5의 가용매분해반응을 저해하지 않는 것이면 좋고, 예를 들면, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 비프로톤성 극성용매류; 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산 등의 에테르계용매류: 펜탄, n-헥산 등의 지방족 탄화수소류; 아세트니트릴 등의 니트릴류: 폴리에틸렌글리콜(PEG)-400 등의 폴리에틸렌글리콜류 등을 들 수 있다. 이들의 용매는 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
공정 5의 반응을, 용매로서 알코올류를 사용하여 하면, 사용한 알코올류와 목적물의 카르보닐기가 반응하여 아세탈 화합물이 생성되는 경우가 있지만, 그와 같은 때에는, 산 존재하인 채로 물을 가하고, 혹은 반응혼합물을 물에 붓고, 몇 분 에서 48시간 교반함에 의해 용이하게 탈아세탈하여, 목적물로 할 수 있다.
용매량으로서는, 반응계의 교반을 충분히 할 수 있는 양이면 좋지만, 일반식 (4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물 1몰에 대하여 통상, 0.5∼5ℓ, 바람직하게는 1∼3ℓ의 범위이면 좋다.
공정 5의 반응온도는, 0℃∼사용하는 용매의 환류온도의 범위를 예시할 수 있지만, 바람직하게는 0℃∼120℃의 범위가 좋다.
공정 5의 반응시간은, 특히 제한되지 않지만, 바람직하게는 0.5시간∼24시간이 좋다.
또한, 공정 6은 상기한 바와 같이 하여 얻어진 일반식(7)으로 표시되는 아미노 화합물을, 바람직하게는 수소화붕소나트륨에 의해 환원하여, 최종화합물인 일반식(6)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물을 제조하는 공정이지만, 이 공정의 반응의 내용이나 조건은, 공정 3에 있어서의 그들과 거의 같다.
이와 같이 하여 제조된 최종화합물인, 일반식(6)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물은, 농의약품의 제조에 있어서 유용한 중간체가 되는 화합물이다.
한편, 본 발명은 동시에 많은 신규 화합물을 제공한다.
이미 설명을 한 바와 같이, 일반식(2)으로 표시되는 히드라진 화합물 중의 2-메톡시메틸페닐히드라진은 신규 화합물이고, 이 화합물은 대응하는 아닐린을 원료로 하여 저널 오브 오가닉 케미스트리(Journal of Organic Chemistry), 제 2849페이지(1972년) 기재의 방법 등에 준하여 제조할 수가 있다.
또한, 일반식(1)으로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물 중의 1- (4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논은 신규 화합물이고, 이 화합물은 2-페닐술포닐-4,6-디메톡시피리미딘 등을 원료로 하여 케미컬 앤드 파머수티컬 블러틴 (Chemical & Pharmaceutical Bulletin), 제 152페이지(1982년) 기재의 방법 등에 준하여 제조할 수가 있다. 또한, 이 화합물에는 호변이성체가 존재하지만, 본 발명은 어떤 호변이성체도 포함한다.
또한, 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물도 신규 화합물이고, 이 화합물은 상기 공정 1에 의해 제조할 수가 있다. 또한, 일반식(3) 중의 R1, R2, R3
및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고 있다.
이하의 표 1에 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 예시하지만, 본 발명화합물은 이것에 한정되는 것이 아니라 일반식(3)으로 표시되는 모든 화합물을 포함한다.
또한, 표 1 중의 약호는 이하의 의미를 나타낸다(이하의 표에서도 같다).
Me : 메틸기
Et : 에틸기
MOM : 메톡시메틸기
MeO : 메톡시기
EtO : 에톡시기
i-Pr : 이소프로필기
COOMe : 메톡시카르보닐기
NO2 : 니트로기
CF3 : 트리플루오로메틸기
NHAc : 아세타미드기
표 1
| 화합물번호 | X | Y | R1 | R2 | R3 | 융점(℃) |
| 3-1 | H | H | OMe | H | OMe | 182-184 |
| 3-2 | Me | H | Me | H | Me | |
| 3-3 | H | Me | OMe | H | OMe | 145-147 |
| 3-4 | H | Et | H | H | H | |
| 3-5 | Me | Me | OMe | NO2 | OMe | |
| 3-6 | H | MeO | OMe | Me | OMe | |
| 3-7 | EtO | H | OMe | COOMe | OMe | |
| 3-8 | H | MOM | OMe | H | OMe | 176-189 |
| 3-9 | Cl | H | OEt | H | OEt | |
| 3-10 | H | F | H | NHAc | H | |
| 3-11 | H | COOH | Cl | H | Cl | |
| 3-12 | COOMe | H | H | MOM | H | |
| 3-13 | Me | COOMe | H | CF3 | H | |
| 3-14 | Cl | Me | OMe | H | OMe | |
| 3-15 | i-Pr | H | OMe | H | OMe | |
| 3-16 | Cl | Me | OMe | H | OMe | 179-181 |
| 3-17 | I-Pr | H | OMe | H | OMe | 156-158 |
| 3-18 | H | Et | OMe | H | OMe | 90-95 |
또한, 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물도 신규 화합물이고, 이 화합물은 상기 공정 2에 의해 제조할 수가 있다. 또한, 일반식(3) 중 R1, R2, R3 및 X, Y, AC는 상기와 같은 의미를 나타내고 있다.
이하의 표 2에 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물을 예시하지만, 본 발명화합물은 이것에 한정되는 것이 아니라, 일반식(4)으로 표시되는 모든 화합물을 포함한다.
표 2
| 화합물번호 | X | Y | R1 | R2 | R3 | 융점(℃) |
| 4-1 | H | H | OMe | H | OMe | |
| 4-2 | Me | H | Me | H | Me | |
| 4-3 | H | Me | OMe | H | OMe | 151-153 |
| 4-4 | H | Et | H | H | H | |
| 4-5 | Me | Me | OMe | NO2 | OMe | |
| 4-6 | H | MeO | OMe | Me | OMe | |
| 4-7 | EtO | H | OMe | COOMe | OMe | |
| 4-8 | H | MOM | OMe | H | OMe | 147-150 |
| 4-9 | Cl | H | OEt | H | OEt | |
| 4-10 | H | F | H | NHAc | H | |
| 4-11 | H | COOH | Cl | H | Cl | |
| 4-12 | COOMe | H | H | MOM | H | |
| 4-13 | Me | COOMe | H | CF3 | H | |
| 4-14 | Cl | Me | OMe | H | OMe | |
| 4-15 | i-Pr | H | OMe | H | OMe | |
| 4-16 | Cl | H | OMe | H | OMe | 142-144 |
| 4-17 | OMe | H | OMe | H | OMe | 136-137 |
| 4-18 | H | Et | OMe | H | OMe | 139-142 |
또한, 일반식(5)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물도 신규 화합물이고, 이 화합물은 상기 공정 3에 의해(혹은 일반식(3)으로 표시되는 치환 인돌 화합물로부터 일반식(4)으로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물을 경유하지 않고서 직접) 제조할 수가 있다. 또한, 일반식(5) 중의 R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는 상기와 같은 의미를 나타내고 있다.
이하의 표 3에 일반식(5)으로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 예시하지만, 본 발명화합물은 이것에 한정되는 것이 아니라 일반식(5)으로 표시되는 모든 화합물을 포함한다.
표 3
| 화합물번호 | X | Y | R1 | R2 | R3 | 융점(℃) |
| 5-1 | H | H | OMe | H | OMe | |
| 5-2 | Me | H | Me | H | Me | |
| 5-3 | H | Me | OMe | H | OMe | |
| 5-4 | H | Et | OMe | H | OMe | 143-147 |
| 5-5 | Me | Me | OMe | NO2 | OMe | |
| 5-6 | H | OMe | OMe | Me | OMe | |
| 5-7 | EtO | H | OMe | COOMe | OMe | |
| 5-8 | H | MOM | OMe | H | OMe | 79-82 |
| 5-9 | Cl | H | OEt | H | OEt | |
| 5-10 | H | F | H | NHAc | H | |
| 5-11 | H | COOH | Cl | H | Cl | |
| 5-12 | COOMe | H | H | MOM | H | |
| 5-13 | Me | COOMe | H | CF3 | H | |
| 5-14 | Cl | Me | OMe | H | OMe | |
| 5-15 | i-Pr | H | OMe | H | OMe | |
| 5-16 | Cl | H | OMe | H | OMe | 121-123 |
| 5-17 | OMe | H | OMe | H | OMe | 122-125 |
일반식(1)으로 표시되는 화합물로부터, 각 일반식을 거쳐서 얻어지는 일반식 (6)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물을 이용하여, 제초제가 될 수 있는 술폰아닐리드 화합물까지의 반응 스킴의 1예를 이하에 나타낸다.
상기 스킴에 표시되는 바와 같이, 본 발명의 방법 및 본 발명의 화합물은, 제초제의 유효성분으로서 유용한 술폰아닐리드 화합물의 제조에 있어서 지극히 유용하다.
다음에, 실시예를 들어 본 발명화합물의 제조방법을 구체적으로 설명한다. 실시예 중에 표기되어 있는, 굴절율: n20
D은, 20℃에서 나트륨 D선으로 측정된 굴절율을 나타낸다. 가스크로마토그래피 분석은, 컬럼으로서 G-250(40m)((재)화학물질평가연구기구(구:화학품검사협회)제)을 사용하여 행하였다. 또한, 고속액체크로마토그래피에 의한 분석은, 컬럼으로서 YMC-A312((주)와이엠씨제)를 사용하여, 아세트니트릴/0.05%인산수용액을 용출용매로서 행하였다.
실시예 1
2-메톡시메틸페닐히드라진의 제조
2-메톡시메틸아닐린 6.86g(50mmol)을 진한염산 50㎖에 용해하여 -10℃로 냉각하고, 아초산나트륨(4.14g, 60mmol)의 수(50㎖)용액을 -10∼0℃의 온도를 유지하면서 적하하였다. 이어서, 염화제1주석 44.6g(235mmol)의 진한염산(50㎖)용액을 상기 온도로 1시간을 소요하여 적하하였다. 적하종료 후 서서히 약 20℃로 승온하면서 교반한 후 10% 수산화나트륨용액을 적하하여 pH를 14로 한 후, 톨루엔으로 추출하였다. 톨루엔층을 수세하여 회전 농축기(rotary evaporator)로 감압농축하여 액체형상의 2-메톡시메틸페닐히드라진 5.40g(35.5mmol)을 얻었다. 수율 71%
MS m/e : 152(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 3.8(s, 3H), 4.46(s, 2H), 7.1∼7.4 (m, 7H)
IR(NaC1판, cm-1) : 3350(NH)
실시예 2
l-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논의 제조
반응용기에 60% 수소화나트륨 16.0g(0.4mol), THF 400㎖, 4,6-디메톡시-2-메탄설포닐피리미딘 43.6g(0.2mol)을 넣어, 30℃로 승온하였다. 거기에 아세톤 39.4g(0.68mol)을 적하하여, 2시간 반응시켰다. 반응종료 후, 물 350㎖를 가하고, 초산에틸 500㎖로 추출하였다. 초산에틸층은 농축 후, 감압증류하여 1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로판 8.8g(44.9mmol)을 얻었다. 굴절율 : n20
D = 1.5181
MS m/e : 196(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.03(s), 2.26(s), 3.86(s), 3.91(s, 6H), 5.40(s), 5.73(s), 5.91(s, 1H)
실시예 3 (공정 1)
3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-에틸인돌의 제조
반응용기에 1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논 2.4g(12.2mmol), 2-에틸페닐히드라진염산염 1.7g(9.98mmol), 염화아연 1.4g(10.2 mmo1), 톨루엔 10㎖를 넣고 2시간 가열환류시켰다. 반응종료 후, 실온까지 냉각하여, 물, 초산에틸을 가하여 분액(分液)하였다. 초산에틸층은 농축하고, 실리카겔 컬럼크로마토그래피 분리(전개용매: n-헥산/초산에틸)를 하여 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-에틸인돌 2.38g (8.01mmo1)을 얻었다. 수율 80.3%. 융점 90.3∼94.8℃
MS m/e : 297(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 1.38(t, 3H), 2.87(q, 2H), 2.96(s, 3H), 4.08(s, 6H), 5.85(s, 1H), 7.03(d, 1H), 7.18(t, 1H), 8.18(bs, 1H), 8. 57(d, 1H)
실시예 4 (공정 2)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-에틸아세트아닐리드의 제조
반응용기에 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-에틸인돌 0.7g (2.4mmol), 초산에틸 10㎖를 넣었다. 이어서, 0℃부터 10℃에서 오존을 2시간 불어넣었다. 반응종료 후, 실온까지 승온하여 농축했더니, 2-(4,6-디메톡시피리미딘 -2-일카르보닐)-6-에틸아세트아닐리드가 0.75g(2.3mmol) 생성되었다. 수율 95%.
융점 : 139.3∼142.3℃
MS m/e : 329(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 1.25(t, 3H), 2.17(s, 3H), 2.69(q, 2H), 3.95(s, 6H), 6.16(s, 1H), 7.2∼7.3(m, 1H), 7.4∼7.6(m, 2H), 8.95(bs, 1H)
실시예 5 (공정 3)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-에틸아세트아닐리드의 제조
반응용기에 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-에틸아세트아닐리드 1.0g(3.03mmo1), 에탄올 20㎖를 넣어 5℃ 이하로 냉각하였다. 이어서, 수소화붕소나트륨 0.13g(3.65mmol)을 넣어, 같은 온도에서 1시간 교반 하였다. 그 후, 실온 까지 승온하였다. 반응종료 후, 염화암모늄수용액을 가하고, 초산에틸로 추출하였다. 유기층을 농축하고, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-에틸아세트아닐리드 0.82g(2.48mmo1)을 얻었다. 수율 82%. 융점 143∼147℃.
MS m/e : 331(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 1.24 (t, 3H), 2.22(s, 3H), 2.64(q, 2H), 3.97(s, 6H), 4.88(d, 1H), 5.89(d, 1H), 5.95(s, 1H), 7.2∼7.5(m, 3H), 9.25(bs, 1H)
실시예 6 (공정 4)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-에틸아닐린의 제조
반응용기에 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-에틸아세트아닐리드 0.1g(0.30mmol), 메탄올 2㎖, 물 2㎖을 넣었다. 이어서, 수산화칼륨 60mg (1.1mmo1)을 가하여 70℃에서 6시간 교반하였다. 반응종료 후, 고속액체크로마토그래피 분석을 했더니, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-에틸아닐린이 65% 생성되어 있었다.
실시예 7 (공정 1)
3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-메톡시메틸인돌의 제조
반응용기에 1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논 6.2g(31.6 mmol), 2-메톡시메틸페닐히드라진 4.8g(31.5mmol), 염화아연 4.76g(34.9 mmol), 톨루엔 60㎖를 넣고 2시간 가열환류시켰다. 반응종료 후, 실온까지 냉각하고, 물, 초산에틸을 가하여 분액하였다. 초산에틸층은 농축하고, 석출한 결정을 디이소프로필에테르로 세정하여 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-메톡시메틸인돌 4.57g(14.6 mmol)을 얻었다. 수율 46%
MS m/e : 313(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.95(s, 3H), 3.34(s, 3H), 4.06(s, 6H), 4.74(s, 2H), 5.81(s, 1H), 7.0∼7.1(m, 3H), 8.65(d, 1H)
얻어진 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-메톡시메틸인돌은 실시예 4에 준하여, 공정 2의 반응에 사용할 수 있다.
실시예 8 (공정 2)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아세트아닐리드의 제조
반응용기에 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-메톡시메틸인돌 1.0g (31.9mmol), 초산에틸 40㎖를 넣었다. 거기에 0℃부터 10℃에서 오존을 4시간 불어넣었다. 반응종료 후, 실온까지 승온하여 농축하였다. 잔사를 실리카겔 컬럼크로마토그래피 분리(전개용매:n-헥산/초산에틸)했더니, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아세트아닐리드를 0.40g(11.6mmol) 얻었다. 융점 147∼ l50℃(수율 36.4%)
MS m/e : 345(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.13(s, 3H), 3.39(s, 3H), 3.94(s, 6H), 4.47(s, 2H), 6.15(s, 1H), 7.26(t, 1H), 7.60(d, 2H), 7.63(d, 1H), 9.29(b, 1H)
얻어진 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아세트아닐리드는, 실시예 5에 준하여 공정 3의 반응에 사용할 수가 있었다.
실시예 9 (공정 3, 공정 4의 동일반응기 내에서의 연속실시)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아닐린의 제조
반응용기에 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아세트아닐리드 1.0g(2.9mmol), 에탄올 20㎖를 넣고 5℃ 이하로 냉각하였다. 거기에 수소화붕소나트륨 0.5g(13.5mmo1)을 넣고, 같은 온도에서 1시간 교반하였다. 그 후, 실온까지 승온하였다. 반응종료 후, 염화암모늄수용액을 가하고, 초산에틸로 추출하였다. 유기층을 농축하였다. 잔사에 물 20㎖, 수산화칼륨 0.4g(7.1mmo1)을 넣어 70℃에서 2시간 교반하였다. 반응종료 후, 실온까지 냉각하고, 초산에틸 50㎖, 물 50㎖을 넣어 추출하였다. 유기층을 농축 후, 실리카겔 컬럼크로마토그래피 분리를 하여(전개용매:n-헥산/초산에틸), 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아닐린 0.35g(1.48mmol)을 얻었다. 수율 51.0%.
실시예 10 (공정 1)
3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌의 제조
1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논 1.61g(8.2mmo1) 및 페닐히드라진 1.08g(10mmo1)을 톨루엔 10㎖에 용해하고, 이것에 염화아연 1.36g (10mmol)을 가하여 1시간 환류하였다. 방냉 후, 초산에틸 및 물을 가하여 반응혼합물 전량을 용해하고, 기름층을 수세 후, 분액한 후 황산나트륨으로 건조하였다. 이것을 회전 농 축기로 감압농축하여 얻어진 주황색 고체를 메탄올로부터 재결정하여 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌 1.37g (5.1mmol)을 얻었다. 수율 62%. 융점 182∼184℃.
MS m/e : 269(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.94(s, 3H), 4.06(s, 6H), 5,81(s, 1H), 7.1(m, 2H), 7.3(m, 1H), 8.7(m, 1H)
IR(KBr, cm-1) : 3490(NH), 1570
얻어진 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌은 실시예 4 또는 실시예 8에 준하여, 공정 2의 반응에 사용할 수가 있었다.
실시예 11 (공정 2)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드의 제조
반응용기에, 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌 0.8g (3.0mmol), 아세톤 30㎖, 물 8㎖를 넣고, 이어서 과망간산칼륨 1.5g (9.9mmo1), 과옥소산나트륨 2.29g(10.7mmol)을 가하여 실온에서 12시간 반응시켰다. 반응종료 후, 여과하여 여과액은 초산에틸로 추출하였다. 초산에틸층을 농축하고, 잔사는 이소프로필에테르로 세정을 하여, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드 0.57g (1.9 mmo1)을 얻었다. 수율 63%.
MS m/e : 301(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.28(s, 3H), 3.96(s, 6H), 6.16(s, 1H), 7.06(t, 1H), 7.27(b, 1H), 7.59(d, 1H), 8.78(d, 1H)
IR(KBr, cm-1) : 3270(NH), 1700, 1660(C=0)
얻어진 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드는, 실시예 5 또는 실시예 9에 준하여, 공정 3의 반응에 사용할 수 있다.
실시예 12 (공정 1)
3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2,7-디메틸인돌의 제조
1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논 0.77g(3.9mmol) 및 2-메틸페닐히드라진염산염 0.69g(4.3mmol)을 톨루엔 20㎖에 용해하고, 이것에 염화아연 0.64g (4.7mmol)을 가하여 2시간 환류하였다. 방냉 후, 초산에틸및 얼음을 가하여 반응혼합물 전량을 용해하고, 기름층을 수세 후 분액한 후 황산나트륨으로 건조하였다. 이것을 회전 농축기로 감압농축하여 얻어진 주황색 고체를 초산에틸/n-헥산으로 처리하여 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2,7-디메틸인돌 0.38g(1.34mmol)을 얻었다. 수율 34%. 융점 145∼147℃.
MS m/e : 283(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.47(s, 3H), 2.90(s, 3H), 4.05(s, 6H), 5.83(s, 1H), 6.98(d, 1H), 7.13(t, 1H), 8.15(d, 1H), 8. 50(d, 1H)
IR(cm-1) : 3350(NH)
얻어진 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2,7-디메틸인돌은 실시예 4 또는 실시예 8 또는 실시예 12에 준하여, 공정 2의 반응에 사용할 수가 있었다.
실시예 13 (공정 2)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드의 제조
반응용기에 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌 1.0g(3.7mmo1), 아세톤 30㎖, 물 15㎖를 넣고, 거기에 과망간산칼륨 3.0g(19mmo1)을 가하여 실온에서 12시간 반응시켰다. 반응종료 후, 가스크로마토그래피로 분석했더니 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드가 전체면적비로 74% 생성하고 있었다.
실시예 14 (공정 2)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메틸아세트아닐리드의 제조
반응용기에 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2,7-디메틸인돌 283mg (1.0mmol), 아세톤 15㎖를 넣고, 이것에 과망간산칼륨 790mg(5.0mmol), 과옥소산나트륨 214mg(1.0mmo1)을 가하여 12시간 반응시켰다. 반응종료 후, 여과하여, 여과액은 초산에틸로 추출하였다. 초산에틸층을 농축하고, 잔사를 이소프로필에테르로 세정하여 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메틸아세트아닐리드 80mg(0.25 mmo1)을 얻었다. 수율 25%. 융점 151∼153℃
MS m/e : 315(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.47(s, 3H), 2.90(s, 3H), 4.05(s, 6H), 5.83(s, 1H), 6.98(d, 1H), 7.13(t, 1H), 8.15(b, 1H), 8.50(d, 1H)
얻어진, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메틸아세트아닐리드는 실시예 5 또는 실시예 9에 준하여, 공정 3의 반응에 사용할 수가 있었다.
실시예 15 (공정 2)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드의 제조
반응용기에 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌 0.27g (l0mmo1), 초산에틸 10㎖를 넣었다. 이어서, 0℃∼10℃에서 오존을 3시간 불어넣었다. 반응종료 후, 실온까지 승온하여 농축하였다. 잔사를 가스크로마토그래피로 분석했더니, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드가 전체면적비로 88% 생성되고 있었다.
실시예 16 (공정 2)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메틸아세트아닐리드의 제조
반응용기에 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2,7-디메틸인돌, 초산에틸을 넣었다. 거기에 0℃부터 10℃에서 오존을 2시간 불어넣었다. 반응종료 후, 실온까지 승온하여 농축하였다. 잔사를 가스크로마토그래피로 분석한 바, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메틸아세트아닐리드가 전체면적비로 63% 생성되고 있었다.
실시예 17 (공정 2)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-에틸아세트아닐리드의 제조
반응용기에 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-에틸인돌 0.5g (1.7mmol), 아세톤 10㎖, 물 5㎖를 넣었다. 거기에 과망간산칼륨, 과옥소산나트륨을 넣어 실온에서 교반하였다. 반응액을 가스크로마토그래피로써 분석한 바, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-에틸아세트아닐리드가 전체면적비로 47% 생성되고 있었다.
실시예 18 (공정 3)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아세트아닐리드의 제조
반응용기에 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아세트아닐리드 1.7g(4.9 mmol), 에탄올 20㎖를 넣고 5℃로 이하로 냉각하였다. 거기에 수소화붕소나트륨 0.4g(10.8mmo1)을 넣어, 같은 온도에서 1시 간 교반하였다. 그 후, 실온까지 승온하였다. 반응종료 후, 염화암모늄수용액을 가하고, 초산에틸로 추출하였다. 유기층을 농축하여, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아세트아닐리드 1.32g (3.8mmol)을 얻었다. 수율 78%. 융점 79∼82℃
MS m/e : 347(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.24(s, 3H), 3.38(s, 3H), 3.97(s, 6H), 4.45(q, 2H), 4.87(d, 1H), 5.90(d, 1H), 7.2∼7.3(m, 1H), 7.46(d, 2H), 9.41(bs, 1H)
얻어진 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아세트아닐리드는, 실시예 6에 준하여 공정 4의 반응에 사용할 수가 있었다.
실시예 19 (공정 2, 공정 3의 동일반응기 내에서의 연속실시)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-에틸아세트아닐리드의 제조
반응용기에 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-에틸인돌 1.0g (3.37mmol), 초산에틸 20㎖를 넣고, 5℃ 이하로 냉각하였다. 이어서 0℃∼10℃에서 오존을 2시간 불어넣었다. 반응종료 후, 에탄올 20㎖를 가하고, 더욱 수소화붕소나트륨 0.25g(6.76mmol)을 가하여 1시간 교반하였다. 반응종료 후, 실온까지 승온하고, 염화암모늄수용액과 초산에틸을 가하여 추출하였다. 유기층을 농축 후, 실리카겔 컬럼크로마토그래피 분리를 하여(전개용매:n-헥산/초산에틸), 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-에틸아세트아닐리드 0.26g(0.79mmol)을 얻었다. 수율 27.4%.
얻어진 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-에틸아세트아닐리드는, 실시예 6에 준하여 공정 4의 반응에 사용할 수가 있었다.
실시예 20 (공정 3, 공정 4의 동일반응기 내에서의 연속실시)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아닐린의 제조
반응용기에 실시예 8에 준하여 제조한 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아세트아닐리드 1.0g(2.9mmol), 에탄올 20㎖를 넣어 5℃ 이하로 냉각하였다. 거기에 수소화붕소나트륨 0.5g(13.5mmo1)을 넣어, 같은 온도에서 1시간 교반하였다. 그 후, 실온까지 승온하였다. 반응종료 후, 염화암모늄수용액을 가하고, 초산에틸로 추출하였다. 유기층을 농축한 후, 잔사에 메탄올 20㎖, 수산화칼륨 1.5g(26.8mmol)을 넣어 70℃에서 2시간 교반하였다. 반응종료 후, 실온까지 냉각하고, 초산에틸 50㎖, 물 50㎖를 넣어 추출하였다. 유기층을 농축 후, 실리카겔 컬럼크로마토그래피 분리를 하여(전개용매:n-헥산/초산에틸), 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아닐린 0.24g(0.79mmol)을 얻었다. 수율 27.1%.
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 3.31(s, 3H), 3.94(s, 6H), 4.51(dd, 2H), 4.66(bs, 1H), 5.15(bs, 2H), 5.84(s, 1H), 5.93(s, 1H), 6.71(t, 1H), 6.7∼6.8(m, 1H), 6.9∼7.1(m, 1H), 7.2∼7.3(m, 1H)
실시예 21 (공정 2, 공정 3의 동일반응기 내에서의 연속실시)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아세트아닐리드의 제조
반응용기에 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸-7-메톡시메틸인돌 1.0g (3.19mmol), 초산에틸 20㎖를 넣고, 5℃ 이하로 냉각하였다. 이어서 0℃∼10℃에서 오존을 3시간 불어넣었다. 반응종료 후, 에탄올 20㎖를 가하고, 더욱 수소화붕소나트륨 0.5g(13.5mmol)을 가하여 1시간 교반하였다. 반응종료 후, 실온까지 승온하고, 염화암모늄수용액과 초산에틸을 가하여 추출하였다. 유기층을 농축 후, 컬럼크로마토그래피 분리를 하여 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아세트아닐리드 0.18g(0.52mmol)을 얻었다. 수율 16.3%.
얻어진 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아세트아닐리드는, 실시예 6에 준하여 공정 4의 반응에 사용할 수가 있었다.
실시예 22 (공정 5)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아닐린의 제조
반응용기에 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드 0.57g (1.9mmo1), 메탄올 10㎖, 6N-염산 5㎖를 넣고, 1시간 가열환류하였다. 반응종료 후, 수산화나트륨으로 알칼리성으로 하고, 초산에틸로 추출하였다. 초산에틸층을 농축 후, 잔사를 가스크로마토그래피로 분석한 바, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아닐린이 생성되고 있었다. 전화율 100%(가스크로마토그래피 전체면적비).
실시예 23 (공정 5)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아닐린의 제조
반응용기에, 메탄올 50㎖, 진한황산 10㎖를 혼합하고, 여기에 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아세트아닐리드 1.0g(2.9 mmol)을 가하여, 4시간 65℃에서 환류하였다. 그 후, 실온까지 방냉하고, 물 50㎖를 가하여, 약 20℃에서 1일밤 교반하였다. 반응종료 후, 반응혼합물을 물에 넣고, 초산에틸로써 추출하였다. 초산에틸층을 농축하여 잔사를 컬럼크로마토그래피 분리한 바, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-6-메톡시메틸아닐린을 0.30g(1mmol) 얻었다. 수율 34%.
실시예 24 (공정 2, 공정 5의 동일반응기 내에서의 연속실시)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아닐린의 제조
반응용기에, 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌 0.60g(22mmo1), 초산에틸 20㎖를 넣었다. 거기에 0℃∼10℃에서 오존을 4시간 불어넣었다. 박층크로마토그래피에 의해 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌의 소실을 확인하여, 반응종료로 하였다. 반응종료 후, 실온까지 승온하여, 농축하였다. 거기에, 메탄올 20㎖, 6N-염산 5㎖를 넣고, 1시간 가열환류하였다. 반응종료 후, 실온까지 냉각하고, 물 100㎖를 넣었다. 그것을 수산화나트륨수용액으로 알칼리성으로 하고, 초산에틸로 추출하였다. 유기층을 농축후, 컬럼크로마토그래피 분리를 하여, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아닐린 0.26g(10mmol)을 얻었다. 수율 46%.
MS m/e : 259(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 3.99(s, 6H), 6.18(s, 1H), 6.42(b, 2H), 6.5-6.6(m, 1H), 6.70(d, 1H), 7.2-7.3(m, 1H), 7.40(d, 1H)
실시예 25 (공정 1)
5-클로로-3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌의 제조
1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논 8.0g(40mmol) 및 4-클로로페닐히드라진염산염 7.9g(44mmo1)을 톨루엔 80㎖에 첨가하고, 이것에 염화아연 6.54g (48mmo1)을 가하여, 2시간 가열환류하였다. 방냉 후 초산에틸 및 물을 가하여 반응혼합물 전량을 용해하고, 기름층을 수세 후 분액한 후, 황산나트륨으로 건조하였 다. 이것을 회전 농축기로 감압농축하여 얻어진 주황색 고체를 이소프로필에테르로 세정하여, 5-클로로-3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌 10.2g (33.7mmo1)을 얻었다. 수율 84%. 융점 179∼181℃.
MS m/e : 303(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.91(s, 3H), 4.04(s, 6H), 5.82(s, 1H), 7.1(m, 1H), 7.3(m, 1H), 8.7(m, 1H)
IR(KBr, cm-1) : 3510(NH), 1580
실시예 26 (공정 2)
4-클로로-2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드의 제조
반응용기에, 5-클로로-3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-메틸인돌 6.1g(20 mmol), 아세톤 200㎖, 물 100㎖를 넣고, 거기에 과망간산칼륨 19.0g(120mmol), 과옥소산나트륨 8.6g(40mmo1)을 가하여, 실온에서 16시간 반응시켰다. 반응종료 후, 여과하여, 여과액을 초산에틸로 추출하였다. 초산에틸층을 농축하여, 실리카겔 컬럼크로마토그래피(n-헥산/초산에틸=4/1)로 정제하여 4-클로로-2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드 1.8g(5.4mmol)을 얻었다. 수율 27%. 융점 142∼144℃.
MS m/e : 335(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.27(s, 3H), 3.98(s, 6H), 6.20(s, 1H), 7.56(q, 1H), 7.69(M, 1H), 8.76(d, 1H)
IR(KBr, cm-1) : 3320(NH), l700, 1660(C=0)
실시예 27 (공정 3)
4-클로로-2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드의 제조
반응용기에 4-클로로-2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)아세트아닐리드 1.00g(3.0mmol), 에탄올 20㎖를 넣어 5℃ 이하로 냉각하였다. 거기에 수소화붕소나트륨 0.25g(6.6mmol)을 넣어, 같은 온도에서 1시간 교반 하였다. 그 후, 실온까지 승온하였다. 반응종료 후, 염화암모늄수용액을 가하고, 초산에틸로 추출하였다. 유기층을 농축하고, 실리카겔 컬럼크로마토그래피(n-헥산/초산에틸=1/1)로 정제하여 4-클로로-2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아세트아닐리드 0.69g(2.0mmol)을 얻었다. 수율 68%.
융점 121℃∼123℃
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.22(s, 3H), 3.98(s, 6H), 4.89(d, 1H), 5.81(d, 1H), 5.89(s, 1H), 7.2(m, 1H), 7.5(m, 1H), 7.8(d, 1H), 9.72(b, 1H)
IR(KBr, cm-1) : 3430(NH), 3300(OH), 1700, 1600(C=0)
실시예 28 (공정 1)
3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-5-메톡시-2-메틸인돌의 제조
1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논 8.0g(40mmol) 및 4-메톡시페닐히드라진염산염 7.7g(44mmol)을 톨루엔 80㎖에 첨가하고, 이것에 염화아연 6.0g (44mmol)을 가하여, 2시간 가열환류하였다. 방냉 후 초산에틸 및 물을 가하여 반응혼합물 전량을 용해하고, 기름층을 수세 후 분액한 후, 황산나트륨으로 건조하였다. 이것을 회전 농축기로 감압농축하여 주황색 고체, 3-(4,6-디메톡시피리미딘 -2-일)-5-메톡시-2-메틸인돌 8.0g(26.7mmo1)을 얻었다. 수율 67%. 톨루엔으로부터 재결정하였다.
융점 182∼184℃.
MS m/e : 299(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.87(s, 3H), 3.89(s, 3H), 4.07(s, 6H), 5.84(s, 1H), 6.9(m, 1H), 7.2(m, 1H), 8.2(b, 1H), 8.7(s, 1H)
IR(cm-1) : 3340(NH), 1570
실시예 29 (공정2)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-4-메톡시아세트아닐리드의 제조
반응용기에, 3-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-5-메톡시-2-메틸인돌 6.0g(20 mmol), 아세톤 200㎖, 물 100㎖를 넣고, 거기에 과망간산칼륨 19.0g(120mmol), 과옥소산나트륨 8.6g(40mmol)을 가하여, 실온에서 16시간 반응시켰다. 반응종료 후, 여과액을 초산에틸로 추출하였다. 초산에틸층을 농축하여, 얻어진 잔사를 실리카 겔 컬럼크로마토그래피(n-헥산/초산에틸=4/1)로 정제하여, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-4-메톡시아세트아닐리드 0.9g(2.7mmol)을 얻었다. 수율 14%.
MS m/e : 331(M+)
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.25(s, 3H), 3.74(s, 3H), 3.96(s, 6H), 6.17(s, 1H), 7.1-7.2(m, 2H), 8.7(d, 1H)
IR(cm-1) : 3250(NH), 1690, 1650(C=0)
실시예 30 (공정 3)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-4-메톡시아세트아닐리드의 제조
반응용기에 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일카르보닐)-4-메톡시아세트아닐리드 0.66g(2.0mmol), 에탄올 10㎖를 넣고 5℃ 이하로 냉각하였다. 거기에 수소화붕소나트륨 0.17g(4.4mmol)을 넣어, 같은 온도에서 1시간 교반하였다. 그 후, 실온까지 승온하였다. 반응종료 후, 염화암모늄수용액을 가하고, 초산에틸로 추출하였다. 유기층을 농축하여, 실리카겔 컬럼크로마토그래피(n-헥산/초산에틸=2/3)로 정제하여 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-4-메톡시아세트아닐리드 0.55g (1.6mmo1)을 얻었다. 수율 82%.
융점 122℃∼125℃
1H-NMR(CDCl3/TMS), δ(ppm) : 2.21(s, 3H), 3.80(s, 3H), 3.97(s, 6H), 4.87(d, 1H), 5.84(d, 1H), 5.96(s, 1H), 6.8(m, 1H), 7.07(d, 1H), 7.69(q, 1H), 9.49 (b, 1H)
IR(cm-1) : 3470(NH), 3250(OH), 1670, 1600(C=0)
실시예 31 (공정 6)
2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아닐린의 제조
반응용기에, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2일)카르보닐-6-메톡시메틸아닐린 1.0g(0.0033mol), 에탄올 50㎖를 넣었다. 거기에, 빙냉(10℃ 이하)하에서, 수소화붕소나트륨 0.125g(0.0033mol)을 가하여, 실온에서 2시간 교반하였다. 반응종료 후의 반응액에, 포화염화암모늄수용액을 가하여, 산성으로 한 후, 초산에틸을 가하여 추출하였다. 얻어진 유기층을 순차로, 수세, 포화식염수로 씻었다. 이어서, 유기층을 무수황산나트륨으로 건조한 후, 농축함으로써, 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아닐린을 0.91g(0.0030몰) 얻었다. 수율 90%. 얻어진 2-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일히드록시메틸)-6-메톡시메틸아닐린의 기기분석 데이터는, 실시예에서 얻어진 화합물의 것과 일치하였다.
본 발명에 의해, 뛰어난 제초효과를 나타내는 술폰아닐리드 화합물의 중요한 중간체인 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물과, 그것을 중간체로서 사용하는 치환 아닐린 화합물의 공업적인 제조방법이 제공된다.
Claims (22)
- 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하여, 이 화합물에 대하여 환원, 및 탈아세틸화를 하는 것을 특징으로 하는 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법. - 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물을 환원하여, 일반식(5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)로 표시되는 2-(피리미딘-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 계속하여 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는, 일반식(6)
(식중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법. - 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해 얻어지는 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 단리(單離)하지 않고 환원하여, 일반식(5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 계속하여 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는, 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법. - 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물을 탈아세틸하여, 일반식(7)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)로 표시되는 아미노 화합물을 제조하고, 계속해서 환원하는 것을 특징으로 하는, 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 환원을 수소화붕소나트륨에 의해 행하는 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)로 표시되는 치환 인돌 화합물을, 일반식(1)
(식 중, R1, R2 및 R3은 상기와 같은 의미를 나타낸다.)로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물과, 일반식(2)
(식중, X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다. )로 표시되는 히드라진 화합물을 산의 존재하에서 반응시켜 제조하는 치환 아닐린 화합물의 제조방법. - 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환를 하는 것에 의해, 일반식(4)
(식중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물을 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는, 일반식(7)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는, 상기와 같은 의미를 나타낸다.)로 표시되는 아미노 화합물의 제조방법. - 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해, 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 제조하고, 이 화합물을 환원하는 것을 특징으로 하는 일반식(5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는, 상기와 같은 의미를 나타낸다.)로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물의 제조방법. - 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것에 의해 얻어지는 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 단리하지 않고 환원하는 것을 특징으로 하는, 일반식(5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물의 제조방법. - 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 환원을 수소화붕소나트륨에 의해 행하는 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
- 일반식(1)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타낸다)로 표시되는 (피리미딘-2-일)-2-프로파논 화합물과, 일반식(2)
(식 중, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)로 표시되는 히드라진 화합물을 산의 존재하에서 반응시키는 것을 특징으로 하는, 일반식(3)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)으로 표시되는 치환 인돌 화합물의 제조방법. - 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)으로 표시되는 치환 인돌 화합물을 산화하여 인돌환의 개환을 하는 것을 특징으로 하는 일반식(4)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다.)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물의 제조방법. - 일반식(4)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는 일반식(7)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)로 표시되는 아미노 화합물의 제조방법. - 삭제
- 일반식(4)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다)로 표시되는 아세트아닐리드 화합물을 환원하는 것을 특징으로 하는 일반식 (5)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y, Ac는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물의 제조방법. - 제 15 항에 있어서, 환원을 수소화붕소나트륨에 의해 행하는 치환 아닐린 화합물의 제조방법.
- 일반식(5)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다)로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물을 탈아세틸하는 것을 특징으로 하는 일반식(6)
(식 중, R1, R2, R3 및 X, Y는 상기와 같은 의미를 나타낸다.)으로 표시되는 치환 아닐린 화합물의 제조방법. - 식
로 표시되는 것을 특징으로 하는 2-메톡시메틸페닐히드라진. - 식
로 표시되는 것을 특징으로 하는 1-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)-2-프로파논. - 일반식(3)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타낸다)으로 표시되는 치환 인돌 화합물. - 일반식(4)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다)로 표시되는 치환 아세트아닐리드 화합물. - 일반식(5)
(식 중, R1, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬카르복사미드기, 니트로기, C6∼C10의 아릴기, 직쇄 또는 분지상 C6∼C10의 아릴(C1∼C6)알킬기, C6∼C10의 아릴옥시기, 할로겐원자 또는 수소원자를 나타내고, X, Y는, 각각 독립적으로 수소원자, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시(C1∼C6)알킬기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 할로알킬기, 카르복실기, 직쇄 또는 분지상 C1∼C6의 알콕시카르보닐기, 또는 할로겐원자를 나타내고, Ac는 아세틸기를 나타낸다)로 표시되는 2-(피리미딘-2-일히드록시메틸)아세트아닐리드 화합물.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2000-00316345 | 2000-10-17 | ||
| JP2000316345 | 2000-10-17 | ||
| JPJP-P-2001-00034216 | 2001-02-09 | ||
| JP2001034216 | 2001-02-09 | ||
| PCT/JP2001/009040 WO2002032882A1 (fr) | 2000-10-17 | 2001-10-15 | Procede de production de compose aniline substituee |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20030074607A KR20030074607A (ko) | 2003-09-19 |
| KR100720220B1 true KR100720220B1 (ko) | 2007-05-21 |
Family
ID=26602218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020037005218A KR100720220B1 (ko) | 2000-10-17 | 2001-10-15 | 치환 아닐린 화합물의 제조방법 |
Country Status (21)
| Country | Link |
|---|---|
| US (5) | US7271263B2 (ko) |
| EP (2) | EP1334968B1 (ko) |
| JP (1) | JP4189217B2 (ko) |
| KR (1) | KR100720220B1 (ko) |
| CN (5) | CN100439326C (ko) |
| AT (2) | ATE540934T1 (ko) |
| AU (2) | AU2001295934B2 (ko) |
| BR (1) | BR0114647B1 (ko) |
| CA (1) | CA2425531C (ko) |
| CZ (1) | CZ304539B6 (ko) |
| DE (1) | DE60143102D1 (ko) |
| ES (1) | ES2379459T3 (ko) |
| HU (1) | HUP0303102A3 (ko) |
| IL (2) | IL155486A (ko) |
| MX (2) | MX2008009729A (ko) |
| NO (2) | NO324704B1 (ko) |
| PL (1) | PL209226B1 (ko) |
| RU (1) | RU2292338C2 (ko) |
| TW (1) | TWI302910B (ko) |
| UA (1) | UA76127C2 (ko) |
| WO (1) | WO2002032882A1 (ko) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1334968B1 (en) * | 2000-10-17 | 2012-01-11 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for producing substituted aniline compound |
| JP4615881B2 (ja) * | 2004-03-15 | 2011-01-19 | イハラケミカル工業株式会社 | アニリン化合物の製造方法 |
| JP4545487B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2010-09-15 | イハラケミカル工業株式会社 | アニリド化合物の製造方法 |
| JP2006124347A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Bayer Cropscience Ag | フェニル２−ピリミジニルケトン類の新規製造方法及びその新規中間体 |
| ATE474829T1 (de) * | 2005-06-27 | 2010-08-15 | Amgen Inc | Entzündungshemmende arylnitrilverbindungen |
| AT502538B1 (de) * | 2005-09-30 | 2007-08-15 | Dsm Fine Chem Austria Gmbh | Verfahren zur herstellung von n-substituierten aminoacetophenonen und folgeprodukten |
| US8034081B2 (en) | 2007-02-06 | 2011-10-11 | CollabComl, LLC | Interspinous dynamic stabilization implant and method of implanting |
| CN110759893B (zh) * | 2018-07-26 | 2022-10-28 | 南开大学 | Hyrtinadine生物碱衍生物及其制备和在抗植物病毒和病菌中的应用 |
| CN111004185A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-04-14 | 安徽省化工研究院 | 苯胺类化合物及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000044546A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-15 | Kumiai Chem Ind Co Ltd | ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 |
| JP2000063360A (ja) * | 1998-08-21 | 2000-02-29 | Kumiai Chem Ind Co Ltd | トリフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2406799A1 (de) * | 1974-02-11 | 1975-08-21 | Schering Ag | Neue indolderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| US4225711A (en) * | 1978-10-02 | 1980-09-30 | Schering Corporation | Substituted 2-[(methylsulfinyl)acetyl]-3-heterocyclicindoles and their use as immunosuppressants |
| DE3379544D1 (en) * | 1982-06-08 | 1989-05-11 | Ciba Geigy Ag | 2-phenyl-2-naphthyl and 2-heterocyclic pyrimidines as antidotes for protecting cultured plants before phytotoxic damages caused by herbicides |
| JPH0748359A (ja) | 1992-10-16 | 1995-02-21 | Nippon Soda Co Ltd | 縮合ピリミジン誘導体、除草剤および農園芸用殺菌剤 |
| DE19521355A1 (de) | 1995-06-12 | 1996-12-19 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Sulfonamide, Verfahren zu deren Herstellung und ihre Verwendung als Herbizide und Pflanzenwachstumsregulatoren |
| JPH1160562A (ja) | 1997-06-11 | 1999-03-02 | Kumiai Chem Ind Co Ltd | スルホンアニリド誘導体及び除草剤 |
| ATE252088T1 (de) * | 1998-07-29 | 2003-11-15 | Ihara Chemical Ind Co | Difluoromethansulfonyl-anilid-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und sie als aktiven bestandteil enthaltende herbizide |
| EP1101769A3 (en) * | 1999-11-18 | 2001-10-24 | Pfizer Products Inc. | Nitrogen containing erythromycin derivatives |
| EP1334968B1 (en) * | 2000-10-17 | 2012-01-11 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for producing substituted aniline compound |
| CN1262544C (zh) * | 2001-10-15 | 2006-07-05 | 隆萨股份公司 | 1－(嘧啶－2基)丙－2－酮的制备方法 |
| JP4353800B2 (ja) * | 2001-10-17 | 2009-10-28 | ロンザ リミテッド | （ピリミジン−２−イル）メチルケトン類の製造法 |
-
2001
- 2001-10-15 EP EP01976689A patent/EP1334968B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-15 AU AU2001295934A patent/AU2001295934B2/en not_active Ceased
- 2001-10-15 MX MX2008009729A patent/MX2008009729A/es active IP Right Grant
- 2001-10-15 HU HU0303102A patent/HUP0303102A3/hu unknown
- 2001-10-15 AT AT01976689T patent/ATE540934T1/de active
- 2001-10-15 PL PL362050A patent/PL209226B1/pl unknown
- 2001-10-15 MX MXPA03003275A patent/MXPA03003275A/es active IP Right Grant
- 2001-10-15 CN CNB2006100999073A patent/CN100439326C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-15 BR BRPI0114647-5A patent/BR0114647B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-10-15 CN CN2006100999069A patent/CN1935793B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-15 RU RU2003114411/04A patent/RU2292338C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2001-10-15 CN CNB2006100999054A patent/CN100503579C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-15 AU AU9593401A patent/AU9593401A/xx active Pending
- 2001-10-15 KR KR1020037005218A patent/KR100720220B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-10-15 IL IL155486A patent/IL155486A/en not_active IP Right Cessation
- 2001-10-15 CZ CZ2003-1021A patent/CZ304539B6/cs not_active IP Right Cessation
- 2001-10-15 EP EP08017752A patent/EP2025665B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-15 US US10/398,025 patent/US7271263B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-15 ES ES01976689T patent/ES2379459T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-15 JP JP2002536265A patent/JP4189217B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-15 UA UA2003054401A patent/UA76127C2/uk unknown
- 2001-10-15 CN CNB2005100517019A patent/CN1288146C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-15 CA CA2425531A patent/CA2425531C/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-15 DE DE60143102T patent/DE60143102D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-15 CN CNB018188575A patent/CN1223587C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-15 AT AT08017752T patent/ATE481380T1/de active
- 2001-10-15 WO PCT/JP2001/009040 patent/WO2002032882A1/ja active Application Filing
- 2001-10-16 TW TW090125569A patent/TWI302910B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-04-11 NO NO20031683A patent/NO324704B1/no not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-05-31 US US11/442,970 patent/US7521555B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-04-30 US US11/790,941 patent/US7504503B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-04-30 US US11/790,939 patent/US7531654B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-04-30 US US11/790,940 patent/US7820861B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-15 NO NO20074193A patent/NO20074193L/no not_active Application Discontinuation
-
2008
- 2008-07-15 IL IL192827A patent/IL192827A/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000044546A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-15 | Kumiai Chem Ind Co Ltd | ジフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 |
| JP2000063360A (ja) * | 1998-08-21 | 2000-02-29 | Kumiai Chem Ind Co Ltd | トリフルオロメタンスルホニルアニリド誘導体、その製造方法及びそれを有効成分とする除草剤 |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6061158B2 (ja) | ６−（７−（（１−アミノシクロプロピル）メトキシ）−６−メトキシキノリン−４−イルオキシ）−ｎ−メチル−１−ナフトアミド、またはそれの薬学的に許容される塩の合成中間体およびその使用 | |
| US7531654B2 (en) | Process for producing substituted aniline compound | |
| JP7426481B2 (ja) | ３－ｎ－シクロプロピルメチル－２－フルオロベンズアミド系化合物、およびその調製方法と使用 | |
| KR20190013553A (ko) | 아미노피리미딘 유도체의 개선된 제조방법 | |
| US8664402B2 (en) | Process for preparing 1-(6-methylpyridin-3-yl)-2-[4-(methylsulfonyl)phenyl]ethanone, an intermediate of etoricoxib | |
| JP5558352B2 (ja) | ６−アリールオキシキノリン誘導体の製造方法およびその中間体 | |
| EP1431278A1 (en) | Process for producing (2-nitrophenyl)acetonitrile derivative and intermediate therefor | |
| AU2006203037B2 (en) | Process for production of substituted aniline compound | |
| JP2003506312A (ja) | メタ−ニトロフェノール誘導体およびその製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130502 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140418 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |