KR100667069B1 - 도너 기판 및 그를 사용한 유기전계발광표시장치의 제조방법 - Google Patents
도너 기판 및 그를 사용한 유기전계발광표시장치의 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (33)
- 베이스 기판;상기 베이스 기판 상에 위치하는 전사층; 및상기 베이스 기판과 상기 전사층 사이에 개재되고, 광-열 변환에 의해 열이 발생되는 열-발생영역과 상기 열-발생영역에 인접하는 열-비발생영역을 구비하는 선택적 열발생 구조체를 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 1 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 베이스 기판의 일 영역 상에 선택적으로 위치하는 광-열 변환층 패턴을 구비하며, 상기 광-열 변환층 패턴은 상기 열-발생영역을 정의하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 2 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 광-열변환층 패턴의 측부에 노출된 베이스 기판 상에 위치하는 반사막을 구비하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 3 항에 있어서,상기 반사막은 상기 광-열변환층 패턴을 덮는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 2 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체와 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 5 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 광-열변환층 패턴을 덮는 반사막을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 2 항에 있어서,상기 베이스 기판은 리세스된 영역(recessed region)을 구비하고,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 리세스된 영역에 선택적으로 위치하는 광-열 변환층 패턴을 구비하며, 상기 광-열 변환층 패턴은 상기 열-발생영역을 정의하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 7 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 광-열 변환층 패턴 및 상기 베이스 기판 상에 위치하는 반사막을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 7 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체와 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 7 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 광-열 변환층 패턴 및 상기 베이스 기판 상에 위치하는 반사막을 더 구비하고, 상기 반사막을 구비하는 선택적 열발생 구조체와 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 1 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 베이스 기판의 일 영역 상에 선택적으로 위치하는 반사막 패턴 및 상기 반사막 패턴을 덮는 광-열변환층을 구비하며, 상기 반사막 패턴은 상기 열-비발생영역을 정의하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 11 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 광-열변환층 상에 위치하는 반사막을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 11 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체와 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 포함 하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 11 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 광-열변환층 상에 위치하는 반사막을 더 구비하고, 상기 반사막을 구비하는 선택적 열발생 구조체와 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 베이스 기판;상기 베이스 기판의 일 영역 상에 선택적으로 위치하는 광-열 변환층(LTHC) 패턴; 및상기 광-열 변환층 패턴 상에 위치하는 전사층을 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 15 항에 있어서,상기 광-열변환층 패턴의 측부에 노출된 베이스 기판 상에 위치하는 반사막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 16 항에 있어서,상기 반사막은 상기 광-열변환층 패턴을 덮는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 15 항에 있어서,상기 광-열변환층 패턴과 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 15 항에 있어서,상기 광-열변환층 패턴을 덮는 반사막; 및상기 반사막 및 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 15 항에 있어서,상기 베이스 기판은 리세스된 영역을 구비하고,상기 광-열 변환층 패턴은 상기 리세스된 영역 내에 선택적으로 위치하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 20 항에 있어서,상기 광-열 변환층 패턴 및 상기 베이스 기판과 상기 전사층 사이에 개재된 반사막을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 20 항에 있어서,상기 광-열 변환층 패턴 및 상기 베이스 기판과 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 20 항에 있어서,상기 광-열 변환층 패턴 및 상기 베이스 기판 상에 위치하는 반사막; 및 상기 반사막 및 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 베이스 기판;상기 베이스 기판의 일 영역 상에 선택적으로 위치하는 반사막 패턴과 상기 반사막 패턴을 덮는 광-열변환층; 및상기 광-열변환층 상에 위치하는 전사층을 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 24 항에 있어서,상기 광-열변환층과 상기 전사층 사이에 개재된 반사막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 24 항에 있어서,상기 광-열변환층과 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 제 24 항에 있어서,상기 광-열변환층 상에 위치하는 반사막; 및 상기 반사막과 상기 전사층 사이에 개재된 중간층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도너 기판.
- 베이스 기판; 상기 베이스 기판 상에 위치하는 전사층; 및 상기 베이스 기판과 상기 전사층 사이에 개재되고, 광-열 변환에 의해 열이 발생되는 열-발생영역과 상기 열-발생영역에 인접하는 열-비발생영역을 구비하는 선택적 열발생 구조체를 갖는 도너 기판을 준비하고,적어도 화소전극을 구비하는 억셉터 기판 상에 상기 도너 기판의 전사층이 상기 억셉터 기판을 바라보도록 위치시키고,상기 도너 기판 상에 적어도 상기 열-발생영역보다 폭이 큰 레이저 빔을 조사하여 상기 억셉터 기판의 화소전극 상에 전사층 패턴을 형성하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.
- 제 28 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 베이스 기판의 일 영역 상에 선택적으로 위치하는 광-열 변환층 패턴을 구비하며, 상기 광-열 변환층 패턴은 상기 열-발생영역을 정의하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.
- 제 29 항에 있어서,상기 베이스 기판은 리세스된 영역(recessed region)을 구비하고,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 리세스된 영역에 선택적으로 위치하는 광-열 변환층 패턴을 구비하며, 상기 광-열 변환층 패턴은 상기 열-발생영역을 정의하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.
- 제 28 항에 있어서,상기 선택적 열발생 구조체는 상기 베이스 기판의 일 영역 상에 선택적으로 위치하는 반사막 패턴 및 상기 반사막 패턴을 덮는 광-열변환층을 구비하며, 상기 반사막 패턴은 상기 열-비발생영역을 정의하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.
- 제 28 항에 있어서,상기 전사층 패턴은 발광층인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.
- 제 32 항에 있어서,상기 전사층 패턴은 정공수송층, 정공주입층, 정공억제층, 전자수송층 및 전자주입층으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 유기전 계발광표시장치의 제조방법.
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