KR100600924B1

KR100600924B1 - 막형성장치

Info

Publication number: KR100600924B1
Application number: KR1020000076997A
Authority: KR
Inventors: 기타노다카히로; 모리카와마사테루; 에사키유키히코; 이시자카노부카즈; 고가노리히사; 다케시타가즈히로; 오쿠마히로후미; 아키모토마사미
Original assignee: 동경 엘렉트론 주식회사
Priority date: 1999-12-16
Filing date: 2000-12-15
Publication date: 2006-07-13
Also published as: US20010003968A1; TW514959B; KR20010082581A; US6514344B2

Abstract

본 발명은 토출노즐로부터 기판상에 도포액을 공급하여 이 기판상에 막을 형성하는 막형성장치로서, 상기 토출노즐을 이동시키는 이동수단을 구비하여, 상기 이동수단, 상기 토출노즐을 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재를 이동시키는 이동부재와, 상기 지지부재에 형성된 축받이부를 지나는 가이드축과 상기 축받이부와 상기 가이드축의 틈에, 기체를 공급하는 기체공급기구를 구비하고 있다.

토출노즐은 가이드축으로 따라 이동하면서 도포액을 토출한다. 기판상에서는, 토출노즐의 이동궤적에 따른 도포액의 도포가 행하여진다. 축받이부와 가이드축의 틈에, 기체공급기구로부터 기체가 공급되기 때문에, 가이드축으로 대하여 지지부재를 중공부상시킨 상태로 할 수 있다. 따라서, 축받이부와 가이드축에 기계적인 접촉이 없으므로, 접동저항이 거의 생기지 않는다. 그 결과, 토출노즐을 고속으로 이동시키더라도, 접동저항에 의한 진동을 억제할 수 있고, 토출노즐의 미동에 의해 도포액 토출이 흐트러지는 것은 없고, 소정의 도포액의 도포가 정확히 행하여진다.

Description

막형성장치{FILM FORMING UNIT}

도1은 실시예에 따른 레지스트 도포장치를 구비한 도포현상처리시스템의 외관을 나타내는 평면도,

도2는 도1의 도포현상처리시스템의 정면도,

도3은 도1의 도포현상처리시스템의 배면도,

도4는 본 실시예에 따른 레지스트 도포장치의 종단면의 설명도,

도5는 본 실시예에 따른 레지스트 도포장치의 횡단면의 설명도,

도6은 이동수단 및 토출노즐의 사시도,

도7은 구동벨트의 이동에 의해 토출노즐 및 슬라이더와 밸런스 웨이트가 왕복이동할 때 상태를 나타내는 평면도,

도8은 이동수단의 종단면의 설명도,

도9는 도7과는 다른 방향으로 본 슬라이더의 종단면의 설명도,

도10은 축받이부 및 가이드축의 종단면의 확대도,

도11은 레지스트액의 도포경로와, 토출노즐의 속도변화를 나타낸 그래프를 포함하여 나타낸 설명도,

도12는 구동벨트의 이동에 의해, 토출노즐 및 슬라이더와 다른 토출노즐 및 슬라이더가 왕복운동할 때의 상태를 나타내는 평면도,

도13은 축받이부 및 가이드축의 다른 예를 나타내는 종단면의 확대도,

도14는 밸런스 웨이트측의 가이드축이 1개인 경우의 이동수단의 종단면도,

도15는 판스프링을 통하여 2개의 가이드축을 가설한 상태를 나타내는 종단면도,

도16은 밸런스 웨이트에 대신하여 다른 토출노즐을 장비한 경우의 이동수단의 종단면도,

도17은 토출노즐을 진행방향의 전후에 있는 경우의 레지스트액의 도포경로를 나타내는 평면에서 본 설명도,

도18은 다른 실시예에 따른 레지스트 도포장치의 종단면의 설명도,

도19는 다른 실시예에 따른 레지스트 도포장치의 횡단면의 설명도,

도20은 커버, 칸막이판, 이동수단을 분해하여 나타낸 사시도,

도21은 커버내에 배치된 이동수단의 종단면의 설명도,

도22는 커버내의 배치된 이동수단의 평면의 설명도,

도23은 기초대의 평면도,

도24는 커버의 내부면과 구동벨트와의 사이에 칸막이판을 가지는 이동수단의 평면의 설명도,

도25는 커버외에 모터가 설치된 상태를 정면에서 나타내는 설명도,

도26은 커버외에 모터가 설치된 상태를 측면에서 나타내는 설명도,

도27은 슬라이더의 변형예를 나타내는 사시도,

도28은 커버에 광학센서를 설치한 경우, 커버내에 배치된 이동수단의 평면의 설명도,

도29는 다른 커버를 이동수단의 종단면의 설명도,

도30은 도29에 나타난 다른 커버의 사시도,

도31은 다른 실시예에 따른 레지스트 도포장치의 종단면의 설명도,

도32는 도31에 나타난 실시예에 따른 레지스트 도포장치의 횡단면의 설명도,

도33은 토출노즐의 이동기구를 나타낸 사시도,

도34는 레지스트 도포장치에 사용되는 토출노즐의 종단면을 나타내는 설명도,

도35는 토출노즐의 외관을 나타내는 사시도,

도36은 토출노즐의 노즐홀더를 나타내는 사시도,

도37은 토출노즐의 이동기구와 노즐반송아암과 노즐박스를 나타낸 사시도,

도38은 노즐박스의 종단면을 나타내는 설명도,

도39는 노즐박스의 외관을 나타내는 사시도,

도40은 노즐홀더의 다른 형태를 나타낸 사시도,

도41은 다른 형태의 노즐홀더의 설명도, (a)는 평면도, (b)는 종단면도, (c)는 저면도,

도42는 노즐홀더에 토출노즐을 주고받기 가능한 위치까지 이동가능한 노즐박스를 나타낸 사시도,

도43은 또한 다른 실시예인 도포막 형성장치에 관하여 나타내는 개략구성도,

도44는 도43에 나타낸 도포막 형성장치의 평면도,

도45는 웨이퍼의 둘레가장자리부를 덮는 마스크부재를 사용한 경우의 도포액의 공급 상태를 나타낸 사시도,

도46은 마스크부재의 다른 예를 나타낸 사시도,

도47은 또한 다른 실시예에 있어서 도포액공급 상태를 나타낸 개략사시도,

도48은 또한 다른 실시예에 관한 도포막 형성장치를 나타내는 개략사시도,

도49는 또한 다른 실시예에 관한 도포막 형성장치의 다른 예를 나타내는 개략사시도,

도50은 실시예의 작용을 설명하는 설명도,

도51은 실시예에 작용을 설명하는 설명도,

도52는 또한 다른 실시예에 관한 X 방향 구동부를 나타내는 개략시시도,

도53은 도52에 나타낸 실시예에 관한 노즐지지체 및 밸런서를 나타내는 종단면도,

도54는 도53에 나타낸 노즐지지체에 관하여 설명하기 위한 부분확대도,

도55는 도52에 나타낸 실시예에 관한 X 방향 구동부의 다른 예를 나타낸 개략단면도,

도56은 본 실시예의 도포막 형성장치를 조립한 도포ㆍ현상장치의 일예를 나타내는 사시도,

도57은 도56에 나타낸 도포ㆍ현상장치의 평면에서 본 설명도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1 : 도포현상처리시스템 2: 카세트 스테이션

3 : 처리 스테이션 4 : 인터페이스부

5 : 카세트 재치대 7,50 : 웨이퍼 반송체

8 : 반송로 18,20 : 현상처리장치

51 : 주변노광장치 60 : 케이싱

61 : 외용기 62 : 내용기

63 : 레일 64 : 구동기구

65 : 재치대 66 : 회전기구

67 : 고주파진동자 68 : 용제탱크

70 : 마스크 부재 71 : 마스크지지부재

80 : 덮개체 80a : 슬릿

81 : 히터 85 : 토출노즐

86 : 이동수단 90 : 기초대

91 : 슬라이더 92 : 구동벨트

95 : 모터 96 : 밸런스 웨이트

98a,98b,100a,100b : 가이드축 101 : 에어공급튜브

본 발명은 기판의 막형성장치에 관한 것이다.

예를 들면, 반도체 디바이스의 제조 프로세스에 있어서 포토리소그래피공정에서는 웨이퍼 표면에 레지스트액을 도포하고, 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포처리, 웨이퍼에 패턴을 노광하는 노광처리, 노광후의 웨이퍼에 대하여 현상을 행하는 형상처리등을 행하고, 웨이퍼에 소정의 회로패턴을 형성한다. 포토리소그래피공정은 도포현상처리장치에서 행해진다. 이 도포현상처리장치는 레지스트 도포처리를 행하는 레지스트 도포장치를 구비하고 있다.

종래의 레지스트 도포장치에 있어서, 레지스트액을 도포하는 방법으로서는 스핀코팅법이 주류로 되어 있다. 이 스핀코팅법에 의하면, 웨이퍼의 중심에 레지스트액을 토출하여 이 웨이퍼를 회전시킨다. 이 것에 의해 웨이퍼상에 도포된 레지스트액이 원심력에 의해 확산하고, 웨이퍼의 전체면에 걸쳐 균일한 레지스트막을 형성한다.

그러나, 스핀코팅법은 웨이퍼를 고속으로 회전시키기 때문에 웨이퍼 둘레가장자리부에서 대량의 레지스트액을 비산하고, 쓸데없게 되는 레지스트액이 많다. 또, 레지스트액의 비산에 의해 장치가 오염되기 때문에 빈번하게 세정하지 않으면 안 되는 등 폐해가 생겼다.

여기서, 발명자들은 스핀코팅법을 바꾸어, 레지스트액을 토출하는 토출노즐 과 웨이퍼를 상대적으로 이동시켜 레지스트액을 도포하는 장치를 검토하고 있다. 이 신규에 검토되어 있는 도포장치는 웨이퍼의 위쪽에서 토출노즐을 왕복이동시키는 리니어슬라이드(linear slide)수단을 구비하고, 이 리니어슬라이드수단은 가이드축 슬라이드를 자유롭게 부착된 슬라이더를 구비하고, 이 슬라이더에 토출노즐이 부착된다. 따라서, 토출노즐은 가이드축에 따라 이동할 때에, 직선상에 레지스트액을 웨이퍼 상에 도포할 수 있다. 한편, 수평으로 지지되는 웨이퍼는 다른 구동기구에 의해 토출노즐의 슬라이드 방향과는 직각의 방향으로 이동된다.

그리고, 토출노즐은 왕복이동하면서 레지스트액을 웨이퍼(W)에 향하여 토출한다. 한편, 토출노즐의 슬라이드 방향과는 직각의 방향으로 웨이퍼를 간헐적으로 이동된다. 이와 같은 복합적 동작에 의해, 토출노즐은 웨이퍼상을 주사하고 있고, 그 결과 웨이퍼상에는 소위 싱글 스트로크의 요령에서 레지스트액이 순차 도포되어 있다. 이 경우 토출노즐은 웨이퍼상을 이동할 때에 가장 고속이 되고, 웨이퍼 둘레가장자리부에 갔을 때 감속하여 반복하고, 그 후 가속하여 고속하게 되고, 다시 웨이퍼 상을 이동한다.

그런데, 이 소위 싱글 스트로크의 요령에서 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포장치에 있어서, 신속한 레지스트 도포를 행함에는 토출노즐을 이루기 위해 고속으로 움직일 필요가 있다. 그러나, 상기 슬라이더를 볼베어링 등의 축수를 통하여 가이드레일에 부착하면, 접동저항이 생긴다. 그렇게 되면, 토출노즐을 고속으로 이동시킨 경우, 접동저항에 의한 진동이 발생하고, 토출노즐이 미동해 버리고, 정확한 직선상의 레지스트 도포를 행하지 않는 우려가 있다. 또한, 이 진동이 도 포현상처리장치에 구비된 다른 장치에 전달되어, 다른 장치의 프로세스에 악영향을 미칠 우려도 있다. 또 토출노즐의 반복시의 감속 및 가속도, 상기 접동저항에 의해 원활히 행하지 않게 되고, 시간을 요하는 우려가 생긴다. 따라서, 고정도한 레지스트 도포를 실현하기 위해서는 이들의 점에 관하여 개선할 여지가 있다.

본 발명은 이러한 점에 따라 이루어진 것이고, 토출노즐을 이동시킬 때에 접동저항을 보다 작게 하여 상기 한 바와 같이 진동을 억제하는 것을 제 1 목적으로 하고 있다.

또 상기한 싱글 스트로크의 도포방법에 있어서는 직선상의 도포영역을 횡으로 열거하여 전면을 도포하기 때문에 토출노즐의 스캔회수가 많고, 따라서, 가능한 노즐의 스캔속도를 크게 하여 처리시간을 단축하는 것이 실용적이다.

여기서 노즐을 X 방향으로 이동시킬 때, 예를 들면 일단측에서 6∼10m/s에서 수 m/s 정도까지 가속시키고, 다른 단측에서 급격한 감속을 행하는 것을 검토하고 있지만, 당해 노즐의 가속시 및 감속시에 큰 진동이 생기어 버린다는 문제가 있다. 따라서, 스루풋을 높이기 위해 노즐의 스캔 속도를 높이도록 하면, 이 진동이 증대하고, 예를 들면 도포, 현상시스템내의 다른 유니트나 노광장치까지 진동이 전파할 우려가 생긴다.

본 발명은 상기의 사정을 감안하여 이루어진 것이고, 그 제 2 의 목적은 생산효율이 높은 또 균일한 도포막을 형성할 수 있고, 게다가 스루풋의 높은 도포막 형성장치를 제공하는 것에 있다. 또 본 발명의 다른 목적은 진동이 작은 도포막 형성장치를 제공하는 것에 있다.

상기 제 1의 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 제 1 관점에 의하면, 본 발명의 막형성장치는 토출노즐에서 기판상에 도포액을 공급하여 이 기판상에 막을 형성하는 막형성장치에서, 상기 토출노즐을 이동시키는 이동수단을 구비하고, 상기 이동수단은 상기 토출노즐을 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재를 이동시키는 이동부재와, 상기 지지부재에 형성된 축받이부를 통하는 가이드축과, 상기 축받이부와 상기 가이드축의 틈에 기체를 공급하는 기체공급기구를 구비하고 있다.

본 발명에 의하면, 이동수단은 지지부재를 통하여 토출노즐을 이동시킨다. 토출노즐은 가이드축에 따라 이동하면서 도포액을 토출한다. 기판상에서는 토출노즐의 이동궤적에 따른 도포액의 도포가 행해진다. 여기서, 축받이부와 가이드축의 틈에 기체공급기구에서 기체가 공급되므로, 가이드축에 대하여 지지부재를 중공부상시킨 상태에 하는 것이 가능하다. 따라서, 축받이부와 가이드축에 기계적인 접촉이 없으므로 접동저항이 거의 생기지 않는다. 그 결과, 토출노즐을 고속으로 이동시켜도, 접동저항에 의한 진동을 억제할 수 있고, 토출노즐의 미동에 의해 도포액 토출이 포함되는 것은 없고, 소정의 도포액의 도포가 정확히 행해진다. 또, 진동이 다른 장치에 전달되어 다른 장치의 프로세스에 악영향을 미치는 사태를 방지할 수 있다.

또, 본 발명의 제 2 관점에 의하면, 상기 이동수단은 또한 이동기구를 포함하고, 상기 이동기구를 덮는 커버와, 상기 커버에 형성되고, 상기 커버내의 분위기를 배기하는 배기구를 가지고 있다.

이것에 의하여, 이동기구의 동작에 의해 먼지등의 파티클이 발생해도, 이동기구가 커버에 의해 덮여져 있고, 또 커버내의 분위기가 배기구에 의해 배기되어 있으므로, 이 파티클을 주위에 확산시키는 것이 없고 커버내에서 배기할 수 있다. 그 결과, 확산한 파티클이 기판상에 부착하는 사태를 방지할 수 있고, 생산효율의 향상을 도모할 수 있다. 이 때의 열분위기는 커버내에 의해 배기되어 기판에 미치는 것은 없다. 그 결과, 기판에 대하여 적절한 막형성을 행할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 3 관점에 의하면, 본 발명의 막형성장치에 있어서는, 상기 지지부재는 토출노즐을 유지하는 토출노즐 유지부재를 더욱 가지고, 상기 토출노즐 유지부재에 대하여 상기 토출노즐이 착탈 자유롭게 하고, 상기 토출노즐 유지부재는 상기 토출노즐의 일부를 흡착하는 흡인기구를 가지고 있다.

이와 같이, 상기 토출노즐의 일부를 흡착하는 흡인기구에 의해서 토출노즐을 유지부재가 유지하기 때문에, 토출노즐이 고속으로 이동해도 토출노즐이 낙하하거나, 어긋나거나 하는 것은 없다. 게다가 토출노즐의 교환이 가능하다. 흡인기구로 대신하여 전자석을 이용한 솔레노이드도 사용할 수 있다. 흡인기구로 대신하여 또 에어에 유입에 의해서 팽창하는 가압부재, 그 다른 유지부재를 포켓형상으로 성형하여, 토출노즐을 이 포켓에 수납하도록 해도 좋다.

상기 제 2 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 막형성장치는 상기 기판유지부에 유지된 기판과 대향하여 설치되고, 이 기판유지부에 유지된 기판에 도포액을 토출하는 토출노즐과, 상기 토출노즐을 X 방향으로 이동시키는 X 방향 구동부와, 상기 토출노즐을 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 노즐용의 Y 방향 구동부와, 상기 기판유지부를 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 기판유지부용의 Y 방향 구동부를 구비하고, 또 상기 토출노즐이 X 방향으로 이동되어 기판표면에 도포액을 직선형상으로 도포한 후, 토출노즐 및 기판유지부를 동시에 서로 Y 방향 역방향으로 간헐 이동되어, 이미 도포된 영역의 이웃의 영역에 토출노즐을 대향시키고, 이렇게 해서 X 방향으로 도포한 영역이 Y 방향으로 순차 배열되도록 제어되어 있다.

또한, 본 발명의 다른 관점에 의하면, 본 발명의 막형성장치는 기판을 유지하는 기판유지부와, 각각 기판유지부에 유지된 기판과 대향하도록 또한 Y 방향으로 이간하여 설치되고, 해당 기판과 대향하여 설치되는 제 l의 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐과, 이들 제 1 노즐 및 제 2 토출노즐을 각각 X 방향으로 이동시키는 X 방향 구동부와, 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐과 기판유지부를 상대적으로 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 Y 방향 구동부를 구비하고, 토출노즐을 X 방향으로 이동시키는 것에 의해 기판표면에 도포액을 직선형상으로 도포한 후, 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐을 Y 방향으로 상대적으로 이동시켜, 미리 도포된 영역의 이웃 영역에 토출노즐을 대향시켜, 이렇게 하여 X 방향으로 도포한 영역을 순차 Y 방향으로 배열하고 있다.

이와 같은 구성에 의하면, 제 1 토출노즐과 제 2 토출노즐이 함께 X 방향으로 도포한 영역을 Y 방향으로 배열되어 있기 때문에 단일의 토출노즐에 의한 처리에 비하여 단시간으로 처리를 행할 수 있다.

이 발명에 있어서도, 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐과 기판유지부를 Y 방향으로 동시에 역방향으로 간헐적으로 이동시키도록 해도 좋다.

또한, 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐을 예를 들면 공통의 기초체에 설치하고, 각 토출노즐이 서로 역방향으로 또 대칭으로 이동하도록 구성해도 좋고, 이와 같은 구성으로 하는 것으로, 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐의 가속, 감속시에 생기는 충격이 서로 상쇄되어 저감된다.

또한, 이 경우에 있어서 기판유지부와, 제 1 기판유지부 및 제 2 기판유지부를 구비하고, 제 1 토출노즐은 제 1 기판유지부에 유지된 기판에 대하여 도포액을 토출하고, 제 2 토출노즐은 제 2 기판유지부에 유지된 기판에 대하여 도포액을 토출하도록 구성하는 것으로, 더욱 일층 처리효율을 높일 수 있다.

또한, 다른 관점에 의하면, 본 발명의 막형성장치는 기판을 유지하는 기판유지부와, 상기 기판유지부에 유지된 기판과 대향하여 설치되고, 해당 기판에 도포액을 토출하는 토출노즐과, 토출노즐을 기판유지부에 대하여 상대적으로 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 Y 방향 구동부와, 토출노즐을 X 방향으로 이동시킬 때에 이 토출노즐에 대하여 역방향으로 또 대칭으로 이동하는 충격 완화용의 이동체를 구비하고, 토출노즐을 X 방향으로 이동시키는 것에 의해 기판 표면에 도포액을 직선형상으로 도포한 후, 토출노즐을 Y 방향으로 상대적으로 이동시켜, 이미 도포된 영역의 이웃 영역에 토출노즐을 대향시켜, 이렇게 하여 X 방향으로 도포한 영역을 Y 방향으로 배열하고 있다.

이와 같은 구성에서는, 토출노즐에 대하여 역방향으로 또 대칭으로 이동하는 충격완화용의 이동체가 설치되어 있으므로, 상술한 바와 같이 토출노즐의 가속ㆍ감속시의 충격이 저감된다.

또, 상술의 발명에 있어서, X 방향 구동부는 토출노즐을 가이드하기 위해 X 방향으로 신장하는 가이드축 부재와, 이 가이드축 부재의 주위를 틈을 통하여 둘러싸도록 설치된 노즐유지체와, 이 노즐유지체와 축부재와의 사이에 가압기체를 공급하는 기체공급수단을 구비한 구성으로 해도 좋고, 이와 같은 구성에 의하면, 축부재와 노즐유지체를 접촉시키지 않고 해당 축부재에 의한 토출노즐의 가이드를 행하므로 토출노즐의 이동에 의해 생기는 마찰이나 진동을 경감시키는 것이 가능하다.

(실시예)

이하, 본 발명이 바람직한 실시예에 대하여 설명한다. 도1은 본 실시예에 따른 레지스트 도포장치를 갖는 도포현상처리시스템(1)의 평면도이고, 도2는 도포현상처리시스템(l)의 정면도이고, 도3은 도포현상처리시스템(1)의 배면도이다.

도포현상처리시스템(1)은 도1에 나타난 바와 같이, 예를 들면 25매의 웨이퍼(W)를 카세트단위로 외부에서 도포현상처리시스템(1)에 대하여 반입출하거나, 카세트(C)에 대하여 웨이퍼(W)를 반입출하거나 하는 카세트 스테이션(2)과, 도포현상처리공정 중에서 매엽식으로 소정의 처리를 실시하는 각종 처리장치를 다단배치하여 이루어지는 처리스테이션(3)과, 이 처리스테이션(3)에 인접하여 설치되어 있는 도시하지 않은 노광장치와의 사이에서 웨이퍼(W)의 주고받음을 하는 인터페이스부(4)를 일체로 접속한 구성을 갖고 있다.

카세트 스테이션(2)에서는, 재치부로 된 카세트 재치대(5) 상의 소정의 위치로, 복수의 카세트(C)를 X 방향(도1중의 상하방향)으로 일렬로 재치 자유롭게 되어 있다. 그리고, 이 카세트 배열방향(X 방향)과 카세트(C)에 수용된 웨이퍼(W)의 웨 이퍼 배열방향(Z 방향; 연직방향)에 대하여 이송가능한 웨이퍼 반송체(7)가 반송로(8)에 따라 이동이 자유롭게 설치되어 있고, 각 카세트(C)에 대하여 선택적으로 억세스할 수 있도록 되어 있다.

웨이퍼 반송체(7)는 웨이퍼(W)의 위치맞춤을 행하는 얼라이먼트 기능을 구비하고 있다. 이 웨이퍼 반송체(7)는 후술하는 바와 같이 처리스테이션(3) 측의 제 3 처리장치군(G3)에 속하는 익스테이션장치(32)에 대해서도 억세스할 수 있도록 구성되어 있다.

처리스테이션(3)에서는 그 중심부에 주반송장치(13)가 설치되어 있고, 이 주반송장치(13)의 주변에서는 각종 처리장치가 다단에 배치되어 처리장치군을 구성하고 있다. 이 도포현상처리시스템(1)에 있어서는 4개의 처리장치군(G1,G2,G3,G4)가 배치되어 있고, 제 1 및 제 2 처리장치군(G1, G2)는 현상처리시스템(l)의 정면측에 배치되고, 제 3 처리장치군(G3)은 카세트 스테이션(2)에 인접하여 배치되고, 제 4 처리장치군(G4)은 인터페이스부(4)에 인접하여 배치되어 있다. 더욱 오프션으로서 파선으로 나타낸 제 5 처리장치군(G5)을 배면측에 별도 배치가능하게 되어 있다. 상기 주반송장치(13)은, 이들의 처리장치군(G1∼G5)에 배치되어 있는 후술하는 각종 처리장치군에 대하여, 웨이퍼(W)를 반입출가능하다.

제 1 처리장치군(G1)에서는, 예를 들면, 도2에 나타낸 바와 같이, 본 실시예에 따른 레지스트 도포장치(17)와, 웨이퍼(W)에 현상액을 공급하여 처리하는 현상처리장치(18)를 아래에서 차례대로 2단에 배치되어 있다. 제 2 처리장치군(G2)의 경우도 마찬가지로, 레지스트 도포장치(19)와 현상처리장치(20)가 아래에서 차례대 로 2단으로 겹쳐져 있다.

제 3 처리장치군(G3)에서는, 예를 들면 도3에 나타낸 바와 같이, 웨이퍼(W)를 냉각처리하는 쿨링장치(30), 레지스트액과 웨이퍼(W)와의 정착성을 높이기 위한 어드히젼장치(31), 웨이퍼(W)를 대기시키는 익스텐션장치(32), 레지스트액중의 용제를 감압건조시키는 진공드라잉장치(33), 플리베이킹장치(34) 및 현상처리후의 가열처리를 실시하는 포스트베이킹장치(35, 36) 등이 아래로 차례대로 예를 들면 7단으로 포개여지고 있다.

제 4 처리장치군(G4)에서는, 예컨대 쿨링장치(40), 재치한 웨이퍼(W)를 자연냉각시키는 익스텐션·쿨링장치(41), 익스텐션장치(42), 쿨링장치(43), 노광처리후의 가열처리를 하는 포스트엑스포져베이킹장치(44,45), 포스트베이킹장치(46, 47)등이 아래로부터 차례대로 예컨대 8단으로 겹쳐지고 있다.

인터페이스부(4)의 중앙부에는 웨이퍼 반송체(50)가 설치되어 있다. 이 웨이퍼 반송체(50)는 X 방향(도1중의 상하방향), Z 방향(수직방향)의 이동과 θ방향 (Z축을 중심으로 하는 회전방향)의 회전이 자유롭게 할 수 있도록 구성되어 있고, 제 4 처리장치군(G4)에 속하는 익스텐션·쿨링장치(41), 익스텐션장치(42), 주변노광장치(51) 및 도시하지 않은 노광장치에 대하여 액세스 할 수 있도록 구성되어 있다.

다음에, 상술한 레지스트 도포장치(17)의 구성에 대하여 설명하지만, 이 레지스트 도포장치(17)은 레지스트액을 토출하는 토출노즐이 웨이퍼(W)에 대하여, 상대적으로 이동하면서 레지스트액을 도포하는, 소위 싱글 스트로크의 요령의 도포방 식을 채용하고 있다.

레지스트 도포장치(17)의 케이싱(60)내에는, 도4, 도5에 나타낸 바와 같이, Y 방향(도5중의 상하방향)에 긴 대략 상자형의 외용기(61)가 설치되어 있고, 이 외용기(61)는 상면이 개구하고 있다. 이 외용기(61)내에는 그 안에서 웨이퍼(W)를 처리하는 내용기(62)가 설치되어 있다. 이 내용기(62)는 상면이 개구하고 있고, 또, 외용기(61)의 저면상에 설치된 Y 방향으로 신장하는 2 개의 레일(63) 상을 내용기 구동기구(64)에 의해 이동이 자유롭게 구성되어 있다. 따라서, 웨이퍼(W)를 내용기(62)에 반입, 반출하는 경우에는, 내용기(62)가 외용기(61)의 Y 방향 정방향측(도5중의 위쪽)의 반송부(L)에 이동하고, 웨이퍼(W)를 도포처리하는 경우에는, Y 방향 음방향측(도5중의 아래쪽)의 처리부(R)에 이동하는 것이 가능하다. 또한, 웨이퍼(W)에 대하여 레지스트액을 도포중에 있더라도 내용기(62)를 소정의 타이밍으로 소정의 거리만 Y 방향으로 이동시키는 것이 가능해진다.

내용기(62)내에는, 웨이퍼(W)를 흡착하여 유지하는 재치대(65)가 설치되어 있고, 그 아래쪽에는 이 재치대(65)를 회전 자유롭도록 하는 회전구동(66)이 설치되어 있다. 재치대(65)에는 예컨대 초음파진동자(67)가 부착되어 있고, 재치대 (65)를 고주파수로 진동시킬 수 있다. 내용기(62)의 저면에는 내용기(62)내를 소정 농도의 용제분위기로 유지하기 위한 용제를 저류(貯留)하는 용제탱크(68)가 설치되어 있다.

내용기(62)의 저면에는, 배기구(73)가 설치되고, 여기에서의 배기에 의해 내용기(62)내에 기류를 발생시켜 웨이퍼(W) 주변을 소정의 용제농도로 유지하는 것이 가능하도록 되어 있다.

웨이퍼(W) 상을 덮는 웨이퍼(W)의 도포범위(Wa)를 한정하는 마스크부재(70)가 웨이퍼(W)의 위쪽에 배치되어 있다. 마스크부재(70)은 내용기(62)의 내측벽에 설치되어 있는 마스크지지부재(71)로 지지된다. 마스크부재(70)는 도시하지 않은 반송기구에 의해 X 방향으로 반송가능하게 되고 있다. 따라서, 마스크부재(70)를 외용기(61)의 X 방향 음방향측(도5중의 왼쪽방향)의 세정부에 대기시키고 있고, 웨이퍼(W)를 가지는 내용기(62)가 처리부(R)에 이동한 후에, 상기 반송기구에 의해 마스크부재(70)를 내용기(62)내의 마스크지지부재(71) 상에 반입하는 것이 가능하게 된다.

외용기(61)에는, 외용기(61)의 처리부(R) 측에 덮개를 하는 덮개체(80)가 고정되어 부착되어 있고, 내용기(62)가 처리부(R) 측에 이동한 때에, 그 위쪽이 덮개체(80)로 덮히면, 소정의 분위기를 유지하기 쉽게 된다. 이 덮개체(80)에는 온도조절이 가능한 히터(81)가 내장되어 있고, 상기 용제탱크(68)내의 용제가 덮개체 (80) 아래면에 결로(結露)하는 것을 방지하고 있다. 덮개체(80)에는 X 방향으로 신장하는 슬릿(80a)이 설치되어 있고, 이 슬릿(80a) 내를 후술하는 토출노즐(85)이 X 방향으로 왕복이동한다.

상술한 바와 같이, 외용기(61)의 처리부(R) 측에 설치된 덮개체(80)의 슬릿(80a)에는 레지스트액을 토출하는 전술한 토출노즐(85)이 아래쪽의 웨이퍼(W)에 토출 가능하게 설치되어 있다. 토출노즐(85)을 왕복이동시키는 본 발명에 따른 이동수단(86)이 구비하고 있다.

도6∼8에 나타낸 바와 같이, 이동수단(86)은 에어슬라이더방식을 채용하고 있다. 즉, 이동수단(86)은 기초대(90)와 토출노즐(85)을 지지하는 지지부재로서의 슬라이더(91)와, 슬라이더(91)를 슬라이드 이동시키는 이동부재로서의 예를 들면, 무단의 구동벨트(92)를 구비하고 있다. 이 구동벨트(92)는 기초대(90) 상에 설치된 구동풀리(93) 및 종동풀리(94)의 사이에서 걸치어 있다.

구동풀리(93)는 모터(95)에 의해서 회전구동된다. 구동밸트(92)에는 슬라이더(91)의 반대측의 위치에서 밸런스 웨이트(96)가 부착되어 있다. 슬라이더(91)에는 축받이부(97a, 97b)가 형성되고, 이들 축받이부(97a, 97b)를 통해 슬라이더(91)가 가이드축(98a, 98b)에 슬라이드 자유롭게 부착되어 있다. 밸런스 웨이트(96)에는, 축받이부(99a, 99b)가 형성되고, 이들 축받이부(99a, 99b)를 통해 밸런스 웨이트(96)가 가이드축(100a, 100b)에 슬라이드 자유롭게 부착되어 있다.

축받이부(97a)와 가이드축(98a)의 틈, 축받이부(97b)와 가이드축(98b)의 틈에 각각 에어를 공급하는 에어공급튜브(101)과, 축받이부(99a)와 가이드축(100a)의 틈, 축받이부(99b)와 가이드축(100b)의 틈에 각각 에어를 공급하는 에어공급튜브 (102)가 설치되어 있다.

토출노즐(85)은 지지부재로서의 노즐브래킷(110)에 부착되고, 이 노즐브래킷 (110)은 이동부재로서의 슬라이더(91)에 고정되어 있다. 슬라이더(91)의 대략 중심위치에, 구동벨트(92)가 벨트클램프(111a)에 의해 연결되어 있다. 밸런스 웨이트(96)의 약 중심위치에도, 구동벨트(92)가 벨트클램프(111b)에 의해 연결되어 있다. 즉, 슬라이더(91), 밸런스 웨이트(96)와도, 그 중심위치에서, 구동벨트(92)에 부착되어 있다.

구동풀리(93)은, 기초대(90)의 한쪽 측(도6중의 좌측)에 설치된 브래킷 (1l2a) 내에 수납되어 있다. 모터(95)는 브래킷(112a)의 위쪽에 설치되어 있다. 모터(95)의 회전축(113)은 브래킷(112a)의 윗면을 관통한 후에, 구동풀리(93)에 접속되어 있다. 종동풀리(94)는 기초대(90)의 다른 쪽 측(도6중의 우측)에 설치된 브래킷(l12b) 내에 수납되어 있다. 모터(95)에 의해 구동풀리(93)를 회전시켜 구동벨트(92)를 회전시킨다. 구동풀리(93)를 정전·반전시키면, 구동벨트(92)의 이동방향이 전환되고, 토출노즐(85)을 왕복이동시킬 수 있다. 따라서, 도5에 나타난 바와 같이, 토출노즐(85)이 아래쪽의 웨이퍼(W)에 대하여 왕복이동하면서, 레지스트액을 토출하고, 더욱 내용기(62)가 토출노즐(85)의 왕복방향(도5중의 X 방향)과 직각의 방향(도5중의 Y 방향)에 간헐적으로 이동하는 것에 의해, 소위 싱글 스트로크의 요령으로, 토출노즐(85)의 이동궤적에 따른 레지스트액의 도포가 행한다.

밸런스 웨이트(96)의 중량은, 슬라이더(91)와 토출노즐(85)[노즐브래킷(110)을 포함한다]를 합친 중량과 동일하다. 도7에 나타난 바와 같이, 구동풀리(93)가 정전(正轉)하여 토출노즐(85)이 X 방향 정방향측(도7중의 우축방향)으로 이동할 때에는, 밸런스 웨이트(96)는 X 방향 음방향측(도7중의 좌측방향)으로 이동하고, 밸러스 웨이트(96)는 X 방향 정방향측으로 이동한다. 밸런스 웨이트(96)는 구동풀리 (92)의 중심(重心)을 중심으로서 대칭의 운동을 이룬다.

도8 및 도9에 나타낸 바와 같이, 슬라이더(91)의 중심을 중심으로 하여, 축받이부(97a)는 슬라이더(91)의 상부에, 축받이부(97b)는 슬라이더(9l)의 하부에 각 각 형성되어 있다. 축받이부(97a, 97b)는 약 상자형의 형태를 가지고 있다. 도10에 나타난 바와 같이, 축받이부(97a)의 종단면형상은 링형상을 하고, 내벽에 다공질막(115a)이 피복되어 있다. 축받이부(97b)의 종단면형상도 링형상을 이루고, 내벽에 다공질막(115b)이 피복되어 있다. 다공질막(115a, 115b)에는 미세한 구멍이 다수형성되어 있다. 다공질막(115a, 1l5b)의 매질에는 카본 등을 이용하면 좋다.

도6에 나타낸 바와 같이, 가이드축(98a, 98b)는 브래킷(112a)측에 세운 상태로 설치된 가설대(116a)와, 브래킷(112b) 측에 세운 상태로 설치된 가설대(116b)의 사이에 수평하게 가설되어 있다. 또한 가이드축(98a, 98b)의 표면은 마찰이 생기지 않도록 연마되어 있다.

에어공급튜브(101)의 입구측은 도시하지 않은 에어공급원에 접속되어 있다. 에어공급튜브(101)의 출구측은 슬라이더(9l)에 접속되고, 슬라이더(91)내에 형성된 유로(117a, 117b)에 통하여 있다. 유로(117a)는 다공질막(115a)에 통하고, 유로 (117b)는 다공질막(115b)에 통하고 있다. 따라서, 에어공급튜브(1O1)로부터 공급된 에어는 유로(1l7a, 117b)를 경유한 후, 다공질막(115a, 115b)의 미세한 구멍을 통하여 축받이부(97a, 97b) 내에 토출된다.

축받이부(97a, 97b)의 둘레에, 에어가 균등하게 공급되는 것으로 되므로, 가이드축(98a)는 축받이부(97a)내로, 가이드축(98b)은 축받이부(97b)내에 각각 떠있다. 이것 때문에 슬라이더(91)는 가이드축(98a, 98b)에 비접촉의 상태로 지지되어 있다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 축받이부(97a)[다공질막(115a)의 외주면)]과 가이드축(98a)의 거리 M1, 축받이부(97b)[다공질막(115b)의 외주면]과 가이드축(98b) 의 거리 M2는 각각 예컨대 10㎛ 정도로 하면 좋다. 가이드축(98a)은 에어를 개재시켜 축받이부(97a) 내를, 가이드축(98b)은 에어를 개재시켜 축받이부(98b) 내를 각각 통하는 구성으로 되어 있다.

밸런스 웨이트(96)에 있어서, 축받이부(99a, 99b)는 상기 축받이부(97a, 97b)와 같은 구성을 갖고 있다. 표면이 연마된 가이드축(100a, 100b)은 가설대 (l20a, 120b)의 사이에 수평으로 가설되어 있다. 에어공급튜브(102)로부터 공급된 에어는 밸런스 웨이트(96)내에 형성된 유로(121a, 121b)를 경유한 후, 다공질막의 미세의 구멍을 통하여 축받이부(99a, 99b) 내에 토출된다. 따라서, 밸런스 웨이트(96)는 가이드축(100a, 100b)에 비접촉의 상태로 지지되어 있다.

다음에, 이상과 같이 구성되어 있는 레지스트 도포장치(17)의 작용에 대하여, 도포현상처리시스템(1)에서 행하여지는 포토리소그래피공정의 프로세스와 함께 설명한다.

우선, 웨이퍼 반송체(7)가 카세트(C)에서 미처리의 웨이퍼(W)를 l 매를 꺼내고, 제 3 처리장치군(G3)에 속하는 어드히젼(31)에 반입한다. 그리고, 레지스트액의 밀착성을 향상시키는 예컨대 HMDS를 도포된 웨이퍼(W)는 주반송장치(13)에 의해서, 쿨링장치(30)에 반송되고, 소정의 온도에 냉각된다. 그 후, 웨이퍼(W)는 레지스트 도포장치(17 또한 l9)에 반송된다.

이 레지스트 도포장치(17 또는 19)에서, 후술하는 소위 싱글 스트로크의 요령으로 레지스트액이 도포된 웨이퍼(W)는 그 후 주반송장치(13)에 의해서, 진공드라잉장치(33), 프리베이킹장치(34), 쿨링장치(40)에 순차 반송된다. 그 후 웨이퍼 (W)는, 각 처리장치에서 노광처리, 현상처리등의 일련의 소정의 처리가 행하여져, 도포현상처리가 종료한다.

상술한 레지스트 도포장치(17)의 작용에 관해서 자세히 설명하면, 우선, 쿨링장치(30)에 있어서 소정의 온도로 냉각된 웨이퍼(W)가 주반송장치(13)에 의해, 레지스트 도포장치(17)의 케이싱(60)내에 반입된다. 이 때 외용기(61)내의 내용기 (62)는 미리 반송부(L)에서 대기하고 있고, 웨이퍼(W)는 주반송장치(13)에 의해 직접 재치대(65)에 재치되고, 흡착유지된다. 여기서 도시하지 않은 얼라이먼트기구에 의해 웨이퍼(W)의 노치 또는 오리엔테이션 플레이트(orientation flat)가 검출되고, 회전기구(66)에 의해, 웨이퍼(W)는 소정의 위치로 위치 결정된다. 다음으로, 내용기 구동기구(64)에 의해 내용기(62)를 처리부(R)에 이동시킨다. 그 후 세정부로 대기되어 있던 마스크부재(70)이 도시하지 않은 반송기구에 의해, 외용기 (6l) 바깥에서 내용기(62)내로 반송되고, 마스크 지지부재(71)상에 얹어 놓인다.

다음에, 배기구(73)로부터 내용기(62)내의 기체를 소정속도로 배기하고, 내용기(62)내를 소정의 분위기로 유지한다. 내용기(62) 내에서, 토출노즐(85)가 웨이퍼(W)에 대하여 상대적으로 이동하면서, 레지스트액을 도포하고, 웨이퍼(W) 상에 레지스트막을 형성한다.

레지스트액의 도포경로의 예를 도11(a)에 나타내고, 토출노즐(85)의 속도변화를 도1l(b)의 그래프로 나타낸다. 도1l(a)에 나타낸 바와 같이, 토출노즐(85)는, 도11에 나타내는 START위치에서 왕복이동을 개시하고, 레지스트액을 토출한다. 한편, 토출노즐(85)의 왕복방향(X 방향)과 직각의 방향(Y 방향)으로 웨이퍼(W)를 간헐적으로 소정거리만 이동시킨다. 이것에 의해, 토출노즐(85)은 웨이퍼(W) 전체를 주사하여 소위 싱글 스트로크의 요령으로 레지스트액을 도포할 수 있다. 그리고, 도11(a)에 나타내는 END위치로 온 곳에서 토출을 정지하고, 도포를 종료한다.

토출노즐(85)의 속도변화를, 웨이퍼(W)의 약 중앙의 도포범위(Wa)에서 레지스트액의 도포경로(a,b,c,d)를 예로 설명한다. 도포경로(a)에서는 토출노즐 (85)이 감속한다. 그 후, 토출노즐(85)이 반복하고, 도11(b)에 나타낸 바와 같이, 도포경로(b)에서는 가속한다. 알맞은 도포범위(Wa) 내에 들어오는 직전에 가장 고속이 되고, 도포경로(c)에서는 일정한 속도로 도포범위(Wa) 내를 이동한다. 그 후, 도포범위(Wa) 내로부터 벗어나고, 도포경로(d)에서는 감속한다. 이하, 반복하고, 가속하여 고속이 되고, 다시 도포범위(Wa) 내를 이동한다. 이와 같이, 도포범위 (Wa)내로 레지스트액을 토출하는 경우, 토출노즐(85)은 가장 고속이 되고, 되돌아가는 경우, 감속 및 가속한다. 또, 도시의 예에서는, 토출노즐(85)이 감속을 개시한 시점으로부터, 웨이퍼(W)를 소정거리 Y 방향으로 움직인다. 또한, 토출노즐 (85)은 감속ㆍ되돌아감ㆍ가속중도 레지스트액을 토출하고 있다. 이 감속ㆍ되돌아감ㆍ가속중에 토출된 레지스트액은 레지스트막 형성에 사용되지 않고서 마스크부재 (70)에 의해 막아내어 배액된다.

토출노즐(85)의 왕복이동은 이동수단(86)에 의해 행하여진다. 즉, 도7에 나타낸 바와 같이, 모터(95)에 의해 구동풀리(93)를 회전구동시키는 것에 의해, 구동벨트(92)를 움직인다. 이 경우, 모터(95)에 의해 구동풀리(93)를 정역회전시키면, 구동벨트(92)의 주동방향을 적당히 전환하여, 토출노즐(85)의 왕복이동을 실시할 수가 있다.

레지스트액의 도포경로는 토출노즐(85)의 이동궤적에 의해서 결정된다. 즉, 도6에 나타낸 바와 같이, 이동수단(86)은 슬라이더(91)를 통해 토출노즐(85)을 왕복이동시킨다. 토출노즐(85)은 가이드축(98a, 98b)에 따라 이동하면서 레지스트액을 토출하는 것이 된다. 여기서, 도8,9에 나타낸 바와 같이, 슬라이더(91)의 축받이부(97a)와 가이드축(98a)의 틈에, 축받이부(97b)와 가이드축(98b)의 틈에, 에어공급튜브(101)에 의해 에어를 각각 공급되기 때문에, 가이드축(98a, 98b)에 대하여 슬라이더(91)를 중공부상시킨 상태로 할 수 있다. 이 상태에서는, 구동벨트(92)에 의해, 가이드축(98a, 98b)에 따라 슬라이더(9l)를 슬라이드 이동시켜도, 축받이부 (97a)와 가이드축(98a)에 축받이부(97b)와 가이드축(98b)에 각각 기계적인 접촉이 없으므로, 종래와 같은 접동저항이 거의 생기지 않는다.

따라서, 본 발명에 따른 레지스트 도포장치(17)에 의하면, 토출노즐(85)를 고속으로 이동시킨 경우, 접동저항에 의한 진동을 억제할 수 있고, 토출노즐(85)를 가이드축(98a, 98b)에 따라서 충실히 이동시킬 수 있다. 그 결과, 토출노즐(85)의 미동에 의해 레지스트 토출이 흐트러져 예를 들면 겹침 도포등의 불균일한 도포가 행해지는 사태를 방지하고, 정확한 직선형상의 궤적으로 레지스트 도포가 행해져, 신속 또 고정도한 막형성을 하는 것이 가능해진다. 더욱, 진동이 다른 장치에 전달되어 이 다른 장치의 프로세스에 악영향을 미치는 사태를 방지할 수 있다. 예를 들면, 노광장치에서의, 패턴의 포개어짐 정도등이 진동에 의해 악영향을 받는 일이 없다.

또한, 접동저항이 거의 생기지 않기 때문에, 감속 및 가속을 원활히 행할 수 있다. 이 때문에, 감속시간 및 가속시간을 단축할 수 있고, 배액되는 레지스트액량을 저감시킬 수 있다. 그 결과, 러닝코스트가 우수하다.

또한, 상하 2개의 가이드축(98a, 98b)를 사용하여 슬라이더(91)를 지지하여 그 슬라이드 이동을 안내함과 동시에, 구동벨트(92)에 의한 동력이 슬라이더(91)의 약 중심위치로 이동하도록 되기 때문에, 감속ㆍ되돌아감ㆍ가속중에, 모터(95)의 회전력이 급격히 변화하는 것이 있어도, 밸런스가 무너져 슬라이더(91)의 자세가 흐트러지는 사태를 방지할 수 있고, 왕복이동 중의 토출노즐(85)의 자세를 안정시킬 수 있다.

또, 도7에 나타낸 바와 같이, 밸런스 웨이트(96)가 슬라이드(91)의 반대측에서 구동벨트(92)에 연결되어 있기 때문에, 권회된 구동벨트(92)의 한쪽 측에 따른 하중을 균형이 잡히게 할 수 있다. 그리고, 구동벨트(92)를 주동시키는 경우, 밸런스 웨이트(96)은 권회된 구동벨트(92)의 중심을 중심으로 슬라이더(91)의 움직임과 대칭의 움직임을 이룬다. 이것에 의해, 예컨대 토출노즐(85) 및 슬라이더(9l)가 이동하는 것에 의한 구동벨트(92)에의 영향(진동등)이 상쇄된다. 이 때문에, 보다 안정한 상태로 토출노즐(85)를 왕복이동시킬 수 있다. 물론, 밸런스 웨이트 (96)에도 축받이부(99a, 99b)가 형성되어 있기 때문에, 그 왕복이동은 적절히 행한다.

도포 후, 고주파진동자(67)의 진동에 의해, 웨이퍼(W) 상의 레지스트액이 평탄화된다. 그리고, 최종적으로, 웨이퍼(W) 상의 도포범위(Wa)에는 레지스트액이 얼룩이 없이 도포되고, 소정의 막두께의 레지스트막이 형성된다. 마스크부재(70)이 외용기(61) 내로부터 퇴출한 후, 웨이퍼(W)는 반송부(L)에 반송된다. 그리고, 주반송장치(13)에 의해, 케이싱(60)내로부터 반출되고, 다음 공정이 행하여지는 진공드라잉장치(33)에 반송되어 감압건조처리된다.

더욱, 본 발명의 실시예의 일례에 관해서 설명하였지만, 본 발명은 이 예에 한정하는 종들의 형태를 채용하는 것이다. 예를 들면, 밸런스 웨이트(96)의 대신으로, 다른 슬라이더(130) 및 토출노즐(131)을 구동벨트(92)에 연결시켜도 좋다. 그렇게 되면, 구동벨트(92)의 양측의 하중을 균형이 잡힐 뿐만 아니고, 구동벨트 (92)의 양측으로 레지스트 토출을 동시에 행할 수 있게 된다. 이 때문에, 레지스트막형성을 신속히 행하는 것이 가능하게 된다. 물론, 구동벨트(92)에의 영향도 상쇄된다.

또한, 토출노즐(85)의 감소 및 가속의 타이밍, 웨이퍼(W)의 Y 방향으로 이동하는 타이밍등은 프로세스에 따라서 자유롭게 바꿀 수 있다. 예를 들면, 토출노즐 (85)의 감속은 예컨대 웨이퍼(W)의 둘레가장자리부로 이동하여 개시해도 좋고, 토출노즐(85)의 감속이 멈춘 시점으로부터, 웨이퍼(W)를 소정거리 Y 방향으로 움직이도록 해도 좋다.

또한, 다공질막(115a, 115b)을 통해 축받이부(97a, 97b) 내 에어를 토출하고 있었지만, 가이드축을 통해 축받이부(97a, 97b) 내에 에어를 토출하도록 해도 좋다. 즉, 도l3에 나타낸 바와 같이, 다공질체의 가이드축(140a)의 내부에, 통로 (141)가 형성되어 있다. 그리고, 가이드축(140a)에 에어공급튜브(101)가 접속되어 있다. 이것에 의해, 축받이부(97a)와 가이드축(140a)과의 틈에, 에어를 공급할 수 있다. 축받이부(97b) 내를 지나는 가이드축도 같은 구성으로 한다. 따라서, 슬라이더(91)를 중립부상시킨 상태로 하는 것이 가능해진다.

상기 실시예에서는, 슬라이더(91), 밸런스 웨이트(96) 측도 각각 2개의 가이드축(98a,98b,100a,100b)를 갖고 있지만, 이에 대신하여 도l4에 나타낸 바와 같이, 밸런스 웨이트(96)의 구성을 바꾸어 1 개의 가이드축(100c)에 따라 밸런스 웨이트(96)를 이동시키도록 해도 좋다. 따라서, 도14의 예에서는, 가이드축은 합계 3개로 되고, 장치 전체의 간소화를 도모한다.

또한, 실시예에서는, 브래킷(112a) 측에 입설된 가설대(116a)와, 브래킷 (112b) 측에 입설된 가설대(116b)의 사이에, 가이드축(98a, 98b)이 직접 수평으로 가설되어 있지만, 조립작업의 용이함으로 감안하고, 도15에 나타낸 바와 같이 해서 가이드축(98a, 98b)도 가설대(116a)와 가설대(116b) 사이에 가설해도 좋다.

도 15에 나타낸 예에서는, 위쪽의 가이드축(98a)을 지지하는 지지부재(98c)와, 아래쪽의 가이드축(98b)를 지지하는 지지부재(98d)를 독립시키고, 양 지지부재 (98c, 98d)가, 판 스프링(98e)에서 접속되어 있다. 그리고 지지부재(98c)를 가설대(116a)에 고정하고, 한쪽 지지부재(98d)에 대해서는 슬라이더(91)의 슬라이드 상태를 체크하면서, 그 후에 가설대(1l6a)에 고정한다. 이와 같은 부착과정을 거치는 것으로, 면도한 가이드축(98a, 98b)의 수평도의 조정을 용이하게 실시하는 것이 가능하다.

상기 실시예에서는, 토출노즐(85)는 전면측, 즉, 가이드축(98a, 98b) 측에 설치된 슬라이더(91)에만 장비되고, 배면측, 즉 가이드축(100a, 100b) 측에는 밸런스 웨이트(96)가 장비되어 있었다. 도16의 예에서는, 밸런스 웨이트의 대신으로, 토출노즐(85a)[토출노즐(85)와 동일 구성을 갖고 있다]를 갖는 별도의 슬라이더 (91)를 장비하고 있다. 그 결과, 도16의 예는, 전면측, 배면측에 2개의 토출노즐 (85)을 갖는다.

도16에 나타낸 이동수단에 의하면, 동시에 2개의 토출노즐(85,85a)로부터 레지스트액을 토출시키기 때문에, 도17에 나타낸 도포방법을 실현할 수 있다. 즉, 도17에 나타낸 바와 같이, Y 방향을 따라서 전후로 2개의 토출노즐(85, 85a)가 배치되는 것으로 되기 때문에, 웨이퍼(W)의 Y 방향의 보냄피치(1 스텝인 이동거리)를 도11의 예보다도 2배로 하고, 웨이퍼(W) 상에 레지스트액을 도포할 수가 있다. 따라서, 도포에 필요한 시간이 도11의 예의 반분으로 완료되고, 스루풋이 향상한다.

다음에, 다른 실시예에 관해서 설명한다. 이 실시예에 따른 레지스트 도포장치(17)의 케이싱(60)내에는, 도18, l9에 나타낸 바와 같이, 토출노즐(85)을 왕복이동시키는 이동수단은 커버(87)에 의해 덮어진다.

도20∼도22에 나타낸 바와 같이, 이동수단(86)에는 에어슬라이더방식이 채용되고 있다. 즉, 이동수단(86)은 슬라이더(91)를 슬라이드 이동시키는 슬라이드 이동기구가 설치된 기초대(90)를 구비하고 있다. 기초대(90)는 상부(90a)와 하부 (90b)에 의해서 구성되어 있다.

상기 커버(87)에 슬릿(201)이 형성되어 있다. 노즐브래킷(110)은 슬릿(201)을 통해 고착부재(202)에 의해, 커버(87)내에 배치된 슬라이더(91)에 고착되어 있 다. 따라서, 토출노즐(85)은 커버(87) 외에 왕복이동하도록 되어 있다.

에어공급튜브(101)의 입구측은, 도시하지 않은 에어공급원에 접속되어 있다. 에어공급튜브(101)의 출구측은 슬릿(201)을 통해 커버(87)내에 도입되어 슬라이더 (91)에 접속되고, 슬라이더(91)내에 형성된 유로(117a)에 통하여 있다. 축받이부 (99a, 100b) 내에는 유로(121a)를 통하여, 슬릿(225)으로부터 도입된 에어공급튜브 (102)에 의해 에어가 각각 공급된다.

커버(87)에는, 커버(87)내의 분위기를 배기하는 배기구(230, 231, 232, 233)가 4개소에 형성되어 있다. 배기구(230)는 커버측면(87a)에서 구동풀리(93) 근방에, 배기구(231)은 커버(87b)에서 구동풀리(93) 근방에 각각 형성되어 있다. 배기구(232)는 커버측면(87c)에서 종동풀리(94) 근방에, 배기구(233)는 커버측면(87b)에서 종동풀리(94) 근방에, 각각 형성되어 있다. 배기구(230)에 배기관(235)이, 배기구(231)에 배기관(236)이, 배기구(232)에 배기관(237)이, 배기구(233)에 배기관(238)이 각각 접속되어 있다. 각 배기관(235∼238)은 공장내의 배기계에 통하여 있다. 따라서, 각 배기구(230∼233)의 배기에 의해, 커버(87)내를 부압(負壓)분위기로 할 수 있다.

구동풀리(93)와 종동풀리(94)와의 사이에 권회된 구동벨트(92)의 내측에, 슬라이더(91) 측(권회된 구동벨트(92)의 한쪽)과 밸런스 웨이트(96)측 (권회된 구동벨트(92)의 다른 쪽)과의 사이를 칸막이하는 칸막이판(240)이 설치되어 있다. 이 칸막이판(240)은 기초대(90)의 상부(90a)에 고정되어 있다. 이 칸막이판(240)에 의해 구동벨트(92)의 내측의 공간이 거의 2분된다.

도21 및 도23에 나타낸 바와 같이, 기초대(90)의 하부(90b)의 한쪽측(도21중에서는 좌측, 도23중에서는 하측)에, 슬라이더(91)의 이동궤적에 따른 슬릿형상의 배기구(245)가 형성되어 있다. 하부(93b)의 다른쪽측(도21중에서는 우측, 도23중에서는 상측)에, 밸런스 웨이트(96)의 이동궤적에 따른 슬릿형상의 배기구(246)가 형성되어 있다. 이들 배기구(245, 246)는, 하부(90b)내에 형성된 복수의 통로 (247)로 통하고 있다. 각 통로(247)에는 배기튜브(248)이 각각 접속되어 있다.

구동벨트(92)의 구동에 의해 슬라이더(9l)나 밸런스 웨이트(96)가 이동한 때, 주변에서는 기류가 발생한다. 또한, 구동벨트(92)와 구동풀리(93) 및 종동풀리(94)가 서로 스친 때에 먼지가 발생하는 경우도 있다. 따라서, 본 실시예에 의하면, 이들의 부재는 커버(87)내에 배치되고, 또한 커버(87)내의 분위기가 배기구(230∼233, 245, 246)에 의해 배기되어 있으므로, 기류 및 파티클을 주위에 확산시키는 일없이 커버(87)내로부터 배기할 수 있다. 생산효율의 향상을 도모할 수 있다. 또한, 모터(95)가 작동하여 발열하는 것이 있어서도, 이 때의 열분위기는 커버(87)내로부터 배기되어 웨이퍼(W)에 미치지는 것은 없다. 그 결과, 웨이퍼 (W)에 대하여 적합한 레지스트막의 형성을 수행할 수 있다.

더구나, 배기구(230, 231)은 구동풀리(93) 근방에 형성되고, 배기구 (232, 233)는 종동풀리(94) 근방에 형성되어 있으므로, 구동풀리(93) 및 종동풀리(94)의 주변에서 발생한 파티클을 즉시 배기할 수 있고, 파티클 확산을 확실히 방지할 수가 있다.

구동벨트(92)의 내측에 칸막이 판(240)이 설치되어 있으므로, 구동벨트(92) 의 주동(周動)이나 구동풀리(93) 및 종동풀리(94)의 회전에 의해 야기되는 난류(亂流)를 제어할 수 있고, 커버(87)내의 분위기를 배기구(230∼233)내에 효율 좋게 끌어들일 수 있다.

기초대(90)의 하부(90b)에, 슬라이더(9l)의 이동방향에 따라서 슬릿형상의 배기구(245)가 형성되어 있기 때문에, 토출노즐(85)의 왕복이동에 따라 발생하는 파티클을, 이 배기구(245)로부터도 배기할 수 있다. 이렇게 하여, 웨이퍼(W)에의 파티클 부착을 이중으로 방지한다. 마찬가지로 배기 구(246)로부터, 밸런스 웨이트(96)의 슬라이드이동에 따라서 발생하는 파티클을 배기할 수 있다.

더욱, 다른 실시예에 덧붙여 설명한다. 도24에 나타낸 바와 같이, 구동벨트 (92)의 내측 만큼 칸막이 판(240)을 설치하는 것은 아니고, 예컨대 슬라이더(91) 측에서의 구동벨트(92)와 커버(87)의 내주면과의 사이에 칸막이 판(250)을 설치하도록 해도 좋다. 이 칸막이 판(250)에는, 슬라이더(91)와 토출노즐(85)를 접속하기 위한 슬릿(도시하지 않음)이 형성되어 있다. 구성에 의하면, 슬라이더(9l)의 주변에서 발생한 기류를 칸막이 판(250)의 내측에 정지할 수 있고, 기류의 확산을 보다 확실히 방지할 수 있다.

도25 및 도26에 나타낸 바와 같이, 모터(95)만을 커버(255)의 외에 배치하도록 해도 좋다. 이 예에서는, 모터(95)의 가까이 커버(255)의 상면에, 상기 필터유니트(69)로부터 보내져오는 다운플로를 모터(95)에 안내시키는 가이드(256)가 설치되어 있다. 가이드(256) 측면형상은 약 L자 형상을 이루고, 그 내측각부가 내측에 오목형에 만곡하고 있다. 이 때문에 가이드(256)는 다운플로를 모터(95)에 용이하 게 유도할 수 있는 구성이 되고 있다. 이와 같은 구성에 의하면, 커버(255)의 높이를 낮게 누를 수 있는 한편으로, 다운플로에 의해 모터(95)를 냉각하여, 모터(95)로부터 그 외에 대하여 열적영향을 억제할 수 있다.

더욱, 슬라이더의 변형예를 도 27에 나타낸다. 상기 슬라이더(91)는 블록부재를 적당히 가공하여 내부에 축받이부(97a, 97b)를 형성한 구성이였지만, 도27에 나타내는 슬라이더(260)는 한 쌍의 축받이부재(261a, 261b)를 접속부재(262)에 의해 접속한 구성으로 되어 있다. 상측의 축받이부재(261a) 내에 가이드축(98a)이, 하측의 축받이부재(261b) 내에 가이드축(98b)이 각각 통하고 있다. 축받이부재 (261b)에, 상기 토출노즐(85) 및 노즐브래킷(110)이 고착부재(202)에 의해 고착되어 있다. 접속부재(262)에 구동벨트(92)가 연결되어 있다. 접속부재(262)에 에어공급튜브(101)가 접속되고, 접속부재(262)내에는 축받이부재(261a, 261b)에 통하는 통로(도시하지 않은)이 형성되어 있다. 이러한 구성의 슬라이더(260)는 토출노즐 (85)을 지지하여 슬라이드이동하기 위해, 거의 필요최저한의 부재로부터 구성되어 있으므로, 공기저항이 낮고, 고속으로 슬라이드이동해도 기류를 발생시키기 어렵다. 더욱, 중량도 가벼운 것으로 구동벨트(92)에 부담이 걸리지 않는다. 따라서, 모터(95)가 정역회전할 때에는, 구동벨트(92)를 빠르게 응답시켜, 그 이동방향을 신속히 전환할 수 있다.

또한, 토출노즐(85)의 감소 및 가속의 타이밍, 웨이퍼(W)의 Y 방향으로 이동하는 타이밍 등은, 프로세스에 따라서 자유롭게 바꾸는 것이 가능하다. 예를 들면, 토출노즐(85)의 감속은, 웨이퍼(W)의 도포범위(Wa)에서 벗어나도 즉각 개시하 지 않고, 예컨대 웨이퍼(W)의 둘레가장자리부에 이동하여 개시하도록 해도 좋다.

토출노즐(85)의 이동허용범위는 미리 정해지고 있지만, 구동벨트(92)의 열화(劣化)나 신장등에 의해서 이 허용범위를 일탈하는 경우도 예상된다. 이러한 자체를 방지하기 위해서, 예컨대 도28에 나타낸 바와 같이, 커버(87)내에 있어서, 상기 허용범위의 양끝단에 예컨대 광학식 센서(A1, A2)를 설치하여, 이 광학식 센서(A1, A2)에 의해서 감시하도록 해도 좋다. 즉, 광학식 센서(A1, A2)는 일종의 리미트센서로서 기능한다. 그리고, 광학식 센서(A1, A2)가 토출노즐(85)이나 슬라이더(91), 노즐브래킷(110)의 내의 l개를 검출한 시점에서, 그것을 외부에 알리도록 하면, 뜻밖의 사태를 미연에 방지할 수 있다. 더욱, 광학식 센서(Al, A2) 사이에, 슬라이더(91)의 허용범위의 제어가 용이하게 된다.

도29에 나타낸 예는 커버(87)의 외측에 더욱 이동수단(86) 전체를 다른 커버(271)를 가지고 있다. 이 도29의 예에서는 먼지발생량(發塵量)이 많은 구동풀리나 종동풀리를 커버(87)내에 거두고, 이 커버(87)내의 분위기를, 배면측의 배기관(272,273)으로 배기하고 있다. 배기관(272, 273)의 커버(87)에서의 배기구는 구동풀리나 종동풀리의 근방에 설치된다.

한편, 다른 커버(271)내의 분위기는, 다른 커버(27l)의 배면측 설치된 배기관(274)에 의해서 배기된다. 토출노즐(85)에 보내여지는 레지스트액은 토출노즐 (85)과 다른 커버(271)에 설치된 커넥터(275)와의 사이를 잇는 제 1 튜브(276)와, 예컨대 레지스트액 저장탱크(도시하지 않음)와 상기 커넥터(275)를 잇는 제 2 튜브(277)를 경유하여 보내여진다. 이러한 구성에 의해, 토출노즐(85)이 고속이고 이동하여 제 1 튜브(276)가 그것에 따라 이동하더라도, 그 튜브의 이동범위는 다른 커버(271)내에 수습된다. 따라서, 제 1 튜브(276)를 직접 상기 레지스트액 저장탱크에 접속하는 것보다도, 튜브의 안전성이 좋고, 또 튜브의 이동 스페이스도 조밀하다.

그리고, 커버내의 분위기의 배기에 관해서도, 먼지발생량이 많은 커버(87)내의 분위기는, 배기관(272, 273)을 통하여 배기되고, 보다 적은 먼지발생량의 다른 커버(271)내의 분위기는 배기관(274)을 통하여 배기되기 때문에, 배기관(272, 273)과, 배기관(274)을 별도의 배기수단(예컨대, 펌프)에 접속하여, 배기의 때의 에너지의 절약을 도모할 수 있다. 예컨대 배기관(274)에 있어서는, 공장의 집중배기 시스템에 접속하고, 배기관(272, 273)에 있어서는 전용의 고속 인젝터 (injector)에 접속하는 것을 제안할 수 있다.

또한, 도30으로부터 알 수 있는 것처럼, 배기관(272, 273, 274)은 모두 다른 커버271의 배면측에 설치되기 때문에, 배기관주위가 정연히 하고 있다.

또 에어공급튜브등에 관해서도, 마찬가지로 다른 커버(271)에 설치한 커넥터를 일단 통해, 외부의 에어공급원과 접속하더라도 좋다.

더욱, 다른 커버(271)의 전면측에 투명한 창부재(窓部材)(278)를 설치하면, 다른 커버(271)내의 모양을 눈으로 관찰할 수 있다. 물론, 커버(87)에도 그와 같은 창부재를 설치하더라도 좋다.

더욱, 별도의 실시예에 관해서 설명한다. 도31, 32에 나타낸 바와 같이, 실시예에서는, 상기 내용기(62)의 X 방향 정방향측 외측으로부터 토출노즐(85)을 교 환하기 위한 노즐반송아암(330)을 설치하였기 때문에, 그 교환위치 S까지 상기 토출노즐(85)이 이동할 수 있도록, 슬릿(80a)의 길이가 X 방향 정방향으로 연장되어 있다. 제33도에 나타낸 바와 같이, 토출노즐(85)은 토출노즐 유지부재로서의 노즐홀더(300)에 고정되고, 더욱 이 노즐홀더(300)는 슬라이더(91)에 부착되고 있다. 또한, 토출노즐(85)을 교환하는 때는, 상술한 내용기(62) 외의 교환위치 S까지 토출노즐(85)을 이동할 수가 있다.

도33에 나타낸 실시예에 있어서의 토출노즐(85)은 도34에 나타낸 바와 같이, 약 통형의 내부 몸체(326)과 이 하면을 폐쇄하는 노즐플레이트(325)를 가지고, 이 노즐플레이트(325)의 중심에 토출구(324)가 형성되어 있다. 이 노즐플레이트(325)는 내부 몸체(326)의 외측에서 나사붙임하는 누름부재로서의 외부 몸체(327)에 의해서, 내부 몸체(326)의 아래면에 대하여, 밀착고정되어 있다.

외부 몸체(327)의 측면은 평탄히 형성되어 있고, 토출노즐(85)이 노즐홀더 (300)에 밀착하여 유지되게 되고 있다. 또한, 외부 몸체(327)측면에는, 도35에 나타낸 바와 같이 2개의 오목부(327a, 327b)가 형성되어 있고, 노즐홀더(300)에 설치된 후술의 볼록부(300g, 300h)와 흡착시에 감합하게 되고 있다. 외부 몸체(327)의 하단면의 중심부근에는 레지스트액의 토출을 방해하지 않도록 구멍이 설치된다.

토출노즐(85)에는, 도34에 나타낸 바와 같이 노즐플레이트(325)와, 토출되는 레지스트액의 온도를 소정의 온도에 설치가능하게 한다. 예컨대 필터소자(329)가 접촉하여 부착되고 있다. 내부 몸체(326)의 외측면과 외부 몸체(327)의 내측면에는 나사가 베여지고, 내부 몸체(327)로부터 외부 몸체(327)를 떼어내는 것에 의해, 노즐플레이트(325)를 떼어낼 수 있다. 따라서, 노즐플레이트(325)가 오염된 경우나 노즐플레이트(325)를 여러가지의 재질, 형상, 토출구가 다른 경의 것에 교환하는 경우에 신속하고 또한 용이하게 대응할 수 있다.

상술한 노즐 홀더(300)에 관해서 도36을 사용하여 자세히 설명한다. 노즐 홀더(300)의 외형은 수직부(300a)와 수평부(300b)로 구성된 약 L 자형으로 형성되어 있다. 수직부(300a)의 외측면은 평탄히 형성되어 있고, 상술한 슬라이더(91)에 밀착하여 부착된다.

수직부(300a)의 내측면에는, 타원형의 얕은 흡착오목부(300c)가 형성되어 있고, 이 흡착오복부(300c)의 중심부근에는, 복수의 흡인구(300d)가 열려진다. 흡인구(300d)에 통하는 흡인경로(300e)가 수직부(300a) 내의 수직방향으로 설치되고, 수직부(300a) 윗면에 부착되고 있는 흡인관(300f)에서, 도시하지 않은 흡인장치에 의해 기체를 흡인할 수 있도록 구성되어 있다. 따라서, 이 흡인에 의해 상술한 토출노즐(85)의 일부를 흡착하여 유지할 수가 있다. 또한, 토출노즐(85)을 교환하는 경우에는, 이 흡인을 해제하는 것에 의해, 용이하게 토출노즐(85)을 뗄 수 있다. 또, 흡착오목부(300c)의 둘레가장자리부에는 흡착시에 기체가 유입하지 않도록 O 링(301)이 설치된다.

수직부(300a)의 내측면에는 상술한 토출노즐(85)의 외부 몸체(327)의 오목부(327a, 327b)에 감합하는 볼록부(300g, 300h)가 수평방향(Y 방향 음방향)에 돌출하여 형성되고 있다. 이 볼록부(300g, 300h)를 오목부(327a, 327b)에 감합함으로써, 토출노즐(85)이 왕복이동하는 때에도 토출노즐(85)이 노즐 홀더(300)로부 터 어긋나거나 빠지거나 하는 것이 방지된다.

한편, 노즐 홀더(300)의 수평부(300b)는 토출노즐(85)의 외부 몸체(327)의 하단면을 아래로부터 지지하도록 평탄하게 형성되고, 토출노즐(85)의 토출구(324)로부터의 레지스트액의 토출을 방해하지 않도록, 약 반원형의 절결부(300i)가 열리고 있다.

노즐 홀더(300)에 유지된 토출노즐(85)을 교환하는 경우에는, 상술한 바와 같이, 노즐홀더(300)가 교환위치 S에 이동하여 행하여지지만, 이 교환위치 S에서 토출노즐(85)을 후술하는 노즐대기부재로서의 노즐박스(335)까지 반송하는 반송수단으로서의 노즐반송아암(330)이 도31, 도32에 나타낸 바와 같이 내용기(62)와 외용기(61)의 사이에 설치된다.

이 노즐반송아암(330)의 선단에는, 도 37에 나타낸 바와 같이 토출노즐(85)을 위쪽으로부터 꽉 쥐는 파지부(330a)가 설치되고, 토출노즐(85)을 쥐거나 떼거나 할 수가 있다. 노즐반송아암(330)은, 상하로 이동가능하게 하는 실린더부(330b)를 갖는다. 더욱, 노즐반송아암(330)은 외용기(61)에 따라 설치되는 노즐반송레일 (331)상을 Y 방향으로 이동 자유롭다. 따라서, 노즐반송아암(330)은 상하방향과 Y 방향으로 이동가능하고, 토출노즐(85)을 노즐 홀더(300)로부터 받아 취하고, 노즐박스(335)로 반송하고, 주고받는 것이 가능해진다. 또, 본 실시예에서는 X 방향에의 이동기능을 갖게 하지 않았기 때문, 교환위치 S와 파지부(330a) 및 후술하는 노즐박스(335)의 토출노즐을 지지하는 수용부(337)는 동일 Y축 상에 배치될 필요가 있다. 단지 노즐반송아암(330)에 X 방향으로의 이동을 자유롭게 하는 이동기구를 갖게 하더라도 좋고, 이 경우에는, 상술한 바와 같은 동일 Y축 상에 배치할 필요는 없다.

상술한 교환용의 토출노즐(85)을 대기시켜 놓은 노즐박스(335)는 도31, 32에 나타낸 바와 같이 외용기(61)의 내벽면에 고정된 지지대(136)에 지지되어, 외용기(61)와 내용기(62)의 사이에 설치된다.

이 노즐박스(135)는 도38, 도39에 나타낸 바와 같이 복수의 토출노즐(85)의 아래쪽을 지지하여 수용시켜 놓기 위한 수용부(337)를 그 윗면에 갖고 있다. 이 수용부(337)는 토출노즐(85)의 아래쪽을 수용할 수 있도록 외 몸체(327)의 외형에 대응한 오목형으로 형성되어 있다. 이 수용부(337)의 바닥부는, 아래쪽으로 감에 따라서 끝이 가늘게 되는 테이퍼형으로 형성되어 있다. 수용부(337)의 가장 바닥부에는, 이 수용부(337)를 용제분위기로 유지하기 위한 용제도입구(338)가 개구하여 설치된다. 이 용제분위기는 수용부(337) 아래쪽으로 설치된 용제가 흐르고 있는 용제유로(340)로부터 용제분위기도입로(339)를 통해서 공급되어 있다. 또, 이 용제분위기도입로(339)는 각 수용부(337)의 용제도입구(338)마다 설치된다. 수용부(337)에 수용된 토출노즐(85)의 토출구(324)가 용제분위기에 유지되어, 토출구 (324)의 건조가 방지된다.

각 수용부(337)에는 토출구(334)에 대하여 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부로서의 세정액 공급구(341)가 개구하여 설치되고, 토출노즐(85)이 대기중에 토출구(324)에 세정액을 직접 공급하고, 토출구(324)를 세정할 수가 있다. 또, 세정에 사용된 세정액은 상술한 용제유로(340)로부터 배출할 수가 있다.

수용부(337)는 이 수용부(337)를 개폐자유로운 수용부 덮개체(342),예컨대, 스프링등의 탄성체에 의해 외력을 제거하면, 덮개가 닫힌 상태로 되돌아가는 것을 가지고, 토출노즐(85)이 수용부(337)에 대기하는 때에는, 수용부 덮개체(342)는 개방되어, 토출노즐(85)이 반출된 경우에는, 수용부 덮개체(342)가 폐쇄된다. 따라서, 수용부(337)에 도입되는 용제의 분위기가 레지스트 도포장치(17)내에 방출되어, 도포처리에 영향을 주는 것이 방지된다.

상술한 도포처리에 있어서 사용된 토출노즐(85)는 웨이퍼(W)의 소정의 처리매수 마다 혹은, 레시피 마다 또는 소정시간마다 교환된다. 이하 이 교환프로세스에 관해서 설명한다.

우선 도37에 나타낸 바와 같이, 웨이퍼(W)의 도포처리를 종료시킨 토출노즐 (85)은 노즐 홀더(300)에 흡착유지된 상태로, 구동벨트(92)에 의해 교환위치 S까지 이동된다. 그 때, 소정위치로 대기하고 있는 노즐반송아암(330)도 노즐반송레일 (331)에 따라 교환위치 S 위쪽까지 이동하고, 대기한다. 그리고, 노즐 홀더(300)로서는 흡인관(309f)으로부터의 흡인력을 걸어멈추고, 토출노즐(85)의 흡착을 해제한다. 그 후, 노즐반송아암(330)이 실린더부(330b)에 의해 하강하고, 파지부 (330a)에서 토출노즐(85)을 위쪽으로부터 꽉 쥔다.

다음에, 노즐반송아암(330)이 수평방향으로 Y 방향 음방향측에 이동한다. 그리고, 그대로 노즐반송레일(331)에 따라 이동하고, 노즐박스(335)에 있어서 아무것도 지지되어 있지 않다, 즉 비어 있는 수용부(337) 위쪽으로 정지한다. 그리고, 노즐반송아암(330)이 실린더부(330b)에 의해 하강하고, 도39에 나타낸 바와 같이, 토출노즐(85)의 아래쪽을 수용부(337)내에 납입시킨다. 이 때 도38에 나타내는 수용부(337)에 설치되어 있는 수용부 덮개체(342)를 토출노즐(85)의 하부에서 누르면서 연다. 그 후, 파지부(330a)가 토출노즐(85)을 떼고, 토출노즐(85)이 수용부 (337)에 지지된다.

노즐반송아암(330)은 선택된 다른 토출노즐(350)을 꽉 쥐고, 상승한다. 그 후, 앞 과정의 루트를 반대로 취하고, Y 방향 정방향으로 이동하고, 교환위치 S의 앞까지 이동한다. 그 후 천천히, 토출노즐(350)의 오목부(350a, 350b)를 노즐 홀더(300)의 볼록부(300g, 300h)에 감합시킨다. 이 때, 토출노즐(350)의 측면과 노즐 홀더(300)의 수직부(300a)의 내측면이 접촉하는 직전 예컨대, 약 2∼3 mm 앞에서 노즐반송아암(330)을 일단 정지시켜, 노즐 홀더(300)의 흡인수단에 의해 토출노즐(350)을 흡인함과 동시에, 노즐반송아암(330)의 파지부(330a)가 토출노즐(350)을 떼도록 하더라도 좋다. 이렇게 하는 것에 의해, 노즐반송아암(330)이, 토출노즐 (350)을 노즐 홀더(300)에 감합시킬 때에, 그 꽉 누르는 힘에 의해, 슬라이더(91)의 이동기구 예컨대, 가이드축(98a, 98b)에 부하를 주는 파손 등을 야기하는 것이 방지된다.

그 후, 토출노즐(350)이 완전히 노즐 홀더(300)에 흡착유지되면, 노즐반송아암(330)은 소정의 위치에 이동하고, 다음 노즐교환까지 대기한다.

한편, 노즐박스(335)의 수용부(337)에 지지된 토출노즐(85)은 용제유로(340)로부터 증발한 용제에 의해 용제분위기내에 유지되어, 토출노즐(85)의 토출구(324)의 건조가 방지된다. 그 후, 수용부(337)에 세정액 공급구(341)로부터 세정액이 공급되어, 토출구(324)가 세정된다. 이 세정액은 용제분위기도입로(339)를 통하여 용제유로(340)로부터 용제와 함께 배기된다. 그리고, 세정이 종료한 토출노즐(85)은 레지스트액의 더미디스펜스(dummy dispense)소위 시험배출(trial discharge)을 행하고, 다음에 사용될 때까지 대기한다.

이상의 실시예에 의하면, 토출노즐(85)을 흡착수단을 갖는 노즐 홀더(300)에 흡착하여 유지시키는 것에 의해, 경량한 기구로 강력히 유지할 수 있으므로, 토출노즐(85)의 고속이동이 적합하게 실시할 수 있다. 또한, 용이하게 착탈할 수 있으므로 노즐교환가능하다.

또한, 토출노즐(85)의 이동방향(X방향)에 대하여 수직방향으로 돌출한 노즐 홀더(300)의 볼록부(300g, 300h)를 토출노즐(85)의 오목부(327a, 327b)에 감합시키는 것에 의해, 이동시에 이러한 관성력에 의해서, 토출노즐(85)이 노즐 홀더(300)에 대하여 어긋나거나 벗어나거나 하는 것이 방지된다. 또, 당연 토출노즐(85)에 오목부를 설치하고, 노즐 홀더(300)에 볼록부를 설치하도록 하더라도 좋다.

더욱, 상기 볼록부(300g, 300h)가 흡착방향과 동일방향인 수평방향으로 뚫고 나와 설치되기 때문에, 토출노즐(85)의 노즐 홀더(300)에의 최종장착을 흡인수단의 흡인력에 의해 행할 수 있다. 따라서, 토출노즐(85)이 노즐 홀더(300)에 유지될 때에, 쓸데없는 기계적인 부하가 이러한 것이 방지된다. 또, 상기 볼록부(300g, 300h)를 수평방향으로 토출하여 설치하였지만, 토출노즐(85)의 이동방향으로 대하여 수직방향이면, 노즐 홀더(300)의 형상에 따라서 연직방향등의 다른 방향이더라도 좋다.

한편, 토출노즐(85)을 교환할 때에, 토출노즐(85)을 노즐 홀더(300)로부터 노즐박스(335)에 반송하고, 노즐박스(335)로부터 다른 토출노즐(350)을 노즐홀더 (300)에 반송하고, 주고받기 수단으로서, 노즐반송아암(330)을 별도로 설치하고 있다. 따라서, 이 노즐반송수단을 노즐홀더(300)에 상당하는 부분에 부착하고 있던 종래예에 비하여, 노즐홀더(300)가 경량화되어, 토출노즐(85)의 고속이동이 실현된다.

노즐박스(335)에는 복수의 수용부(337)를 설치하고, 이 수용부(337)에 복수의 토출노즐을 지지시켜 둠으로써, 필요에 따라 자동적으로 토출노즐을 교환하고, 장시간 연속하여 레지스트액의 도포처리를 행할 수 있다. 용제유로(34)로부터 증발한 도포액의 용제의 증기가 수용부(337)내에 공급되어, 수용부(337)내의 토출노즐을 용제분위기내에 둘 수 있다. 따라서, 토출노즐의 토출구의 건조가 방지된다. 그리고, 노즐박스(335)에 상기 용제유로(340)내의 용제의 온도를 조절가능하게 하는 온도조절장치, 예를 들면, 히터를 상기 용제유로(34)에 부착하여도 좋다. 이렇게 함으로써, 용제유로(34)내의 용제온도가 변경되고, 그 결과 상기 용제의 증발량이 변경된다. 따라서, 수용부(137)내의 용제온도가 변경되고, 도포액의 종류에 따른 용제분위기를 만들 수 있다. 또한, 도포액의 용제는 용제가 항상 흐르는 용제유로(34)로부터 공급되고 있으나, 노즐박스(335)의 아래쪽에 용제를 저류하는 용제저류부를 설치하여 그곳에서 공급하여도 좋다. 또한 상기 용제유로(340)와 마찬가지로 온도조절장치를 설치하여도 좋다.

또한, 노즐박스(335)에는, 토출노즐(85)의 토출구(324)에 세정액을 공급하는 세정액 공급구(341)가 설치되어, 수용부(337)에 지지된 토출노즐(85)을 적극적으로 세정한다. 그 결과, 토출노즐(85)의 오염이 보다 완전하게 세정되어, 다음의 사용에 대비될 수 있다.

이상의 실시예의 노즐홀더(300)에는 토출노즐(85)을 착탈하기 위해 흡인수단을 설치하고 있으나, 다른 착탈수단이어도 좋다. 이하 다른 착탈수단에 대하여 설명한다.

먼저, 상기 토출노즐(85)의 일부를 흡착하는 흡인수단 대신에 소위 전자석을 사용하여도 좋다. 이와 같이, 전자석을 사용하는 것에 의해서도, 이 전자석에 걸린 전압을 변경시켜, 흡착력을 변동시켜서 착탈할 수 있다.

다음으로, 도 40에 나타낸 바와 같이, 노즐홀더(355)에 토출노즐(85)을 외측에서 꽉 쥐는 파지부(355a)를 설치하고, 더욱 이 파지부(355)의 내측에는, 에어의 유출입에 의해 팽축이 자유로운 가압부재로서의 에어 댐퍼(355b)를 설치하여도 좋다. 이렇게 함으로써, 이 에어 댐퍼(355b)가 팽창하면 토출노즐(85)이 파지되고, 축소하면 토출노즐(85)이 풀어진다. 따라서, 에어 댐퍼(355b)에의 에어의 공급량을 변경시켜서, 토출노즐(85)을 착탈할 수 있다.

또한, 도 41에 나타낸 바와 같이, 노즐홀더(360)를 토출노즐(85)의 외형에 대응시켜서, 상하면이 개구한 대략 통형상으로 하며, 또한, 토출노즐(85)에는 토출노즐(85)을 지지하는 스토퍼(360a)를 설치하도록 하여도 좋다. 노즐홀더(360)를 이러한 소위 포켓형상으로 함으로써, 토출노즐(85)의 네면이 노즐홀더(360)에 의해 구속되어, 토출노즐(85)이 고속으로 이동하여도, 노즐홀더(360)에 대하여 어긋나거 나 빠지거나 하는 것이 방지된다. 그리고, 토출노즐(85)을 교환할 때에는, 토출노즐(85)을 상하방향으로 이동시켜서, 착탈할 필요가 있기 때문에, 상기 노즐반송아암(330)에는, 상하방향의 이동기구가 필요하게 된다.

또, 토출노즐(85)에는, 노즐플레이트(325)에 토출구(324)를 형성한 것을 사용하였으나, 그 외의 형상의 노즐, 예를 들면, 노즐의 선단부가 끝이 가늘게 형성되고, 내부 몸체(326)와 외부 몸체(327)가 일체화하여 형성되어 있는 것도 좋다.

도 42에 나타낸 예는, 노즐박스(335) 쪽을 적절한 구동기구(도시하지 않음)에 의해 예를 들면 Y 방향, Z 방향으로 이동 가능하도록 하고, 노즐홀더(370)에 대하여 토출노즐을 주고받기 가능한 위치까지 노즐박스(335)를 이동시켜서, 토출노즐(85)의 교환이 가능한 구성을 나타내고 있다.

이 경우에는, 에어의 유입, 배출에 의해 척킹 가능한, 파지부재(371)를 노즐홀더(370)에 설치하는 것이 적절하다. 그에 따라 보다 원활하게 토출노즐(85)의 주고받기를 할 수 있다. 도 42는 파지부재(371)가 토출노즐(85)을 파지하고 있는 모양을 나타내고 있다. 동 도면에 있어서, 파선의 상태는 파지부재가 개각하고 있는 상태를 나타낸다. 물론 상기 파지부재(371)에 한정되지 않고, 상기에 나온 각 실시예에서 나타낸 노즐홀더의 유지기구를 채용할 수 있다.

또한 본 발명의 다른 실시예에 대하여 설명한다.

도 43 및 도 44에 나타내는 개략설명도를 참조하면서 설명한다. 기판인 웨이퍼(W)는 승강부(421a)에 의해 승강이 자유로운 예를 들면 진공척으로 이루어진 기판유지부(421)에 의해 수평으로 유지되고 있으며, 승강부(421a)는, Y방향으로 이 어지는 가이드부를 이루는 레일(425)에 가이드되면서 이동하는 이동체(421b)상에 설치되어 있다.

이 이동체(421b)에는 예를 들면 기판유지부(421)의 양쪽으로 뻗어나가고, 웨이퍼(W) 표면보다도 약간 높은 레벨까지 일으켜 세워진 한 쌍의 마스크부재(422)가 설치되어 있다. 이 마스크지지부재(422) 상에는, 마스크부재(423)가 설치되어 있으며, 이 마스크부재(423)는 해당 마스크부재(423) 위쪽에서 공급되는 레지스트액이 웨이퍼(W)의 도포막 형성영역에 부착하는 것을 방지하도록 웨이퍼(W)의 도포막 형성영역에 대응하는 부분에만 개구하는 형상으로 되어 있다. 마스크부재(423)는 예를 들면 장치 외부에 설치되는 도시하지 않은 세정장치로써 세정할 수 있도록 컵(422)에서 떼내기 가능한 구성으로 되어 있다.

상기 이동체(421b)는 상자체(424)의 외측에 설치되는 모터(427)에 의해 회전이동하고, Y방향으로 이어지는 볼나사(426)와 나사맞춤하여, 볼나사(426)의 회전력에 의해 Y방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 여기서 특허청구범위에 있어서의 「기판의 유지부를 Y방향으로 간헐적으로 이동시키는 기판유지부용의 Y방향 구동부」는, 레일(425), 볼나사(426) 및 모터(427) 등이 상당한다.

이 상자체(424)의 바닥면에는, 예를 들면 상기 기판유지부(421) 등의 이동영역을 사이에 끼우도록 하여 1조의 액탱크(428)가 설치되어 있으며, 용제 예를 들면, 신너용액이 저류된다. 이 용제는 웨이퍼(W) 표면에 공급되는 도포액의 증발을 억제하기 위한 것이며, 웨이퍼(W) 주변이 적당한 용제증기의 분위기가 되도록 액탱크(428)내에서 온도 등의 제어가 이루어지고 있다. 또 이 예에 있어서는, 용제증 기의 분위기를 형성하여 외부와 구획하기 위해서, 상자체(424) 등의 장치 본체가 케이스체(420)에 의해 둘러싸여 있다.

상기 상자체(424)에 있어서의 예를 들면 도 44중의 왼쪽의 측면 및 이 측면에 나란한 케이스체(420)의 측면에는 도시하지 않은 웨이퍼(W)의 반출입을 할 수 있도록 개구부가 형성되어 있다. 예를 들면 웨이퍼(W)의 반출입은 도시하지 않은 반송아암을 케이스체(420) 및 상자체(424)의 개구부를 통하여 마스크지지부재(422)와 웨이퍼(W) 이면과의 사이에 끼워 넣고, 해당 반송장치 및/또는 기판지지부재 (421)의 승강동작에 의해 양자의 사이에서 웨이퍼(W)를 주고받음으로써 행하여진다.

다음에, 기판지지부재(421) 위쪽을 이동하고, 웨이퍼(W) 표면에 도포액의 공급을 행하는 토출노즐(403) 주변에 대하여 설명한다. 토출노즐(403)은 토출구멍 (403a)이 웨이퍼(W)와 대향하고, X 방향으로 이동이 자유롭도록 가이드부재(431)에 지지되는 구성으로 되어 있으며, 이 가이드부재(431)는 상자체(424)에 대향하는 측벽의 상단 부근에 설치되어,Y 방향으로 이어지는 레일(432a) 및 레일(432b)에 좌우 끝단이 가이드되면서 Y방향으로 이동할 수 있도록 구성되어 있다.

토출노즐(403)은 가이드부재(431)와 평행하게 설치되는 볼나사(433)와 나사맞춤되고 있으며, 이 볼나사(433)의 한 끝단에 설치되는 모터(434)에 의해 볼나사(433)를 정역회전시킴으로써, 토출노즐(403)이 가이드부재(431)로 안내되어, X방향으로 왕복할 수 있는 구성으로 되어 있다.

한편, 토출노즐(403)은 액공급부(435)와 접속되고 있으며, 액온도 및 농도 등의 조정이 이루어진 도포액 예를 들면 레지스트액을 이 액공급부(435)로부터 도시하지 않은 유량조정용의 밸브를 통하여 공급되고, 웨이퍼(W)와 대향하는 토출구멍(403)으로부터 레지스트액의 토출이 행하여진다.

또한, 가이드부재(431)의 한 끝단 쪽에는, 예를 들면 레일(432b)과 평행하게 설치되어, 모터(437)에 의해 구동되는 볼나사(436)가 나사맞춤되고, 이 볼나사 (436)를 회전시킴으로써 가이드부재(431)는 토출노즐(403) 및 볼나사(433)와 일체로, 레일(432a,432b)에 가이드되어 Y방향으로 이동한다. 이 모터(437) 외에, 모터 (434), 모터(427) 및 상기 승강부재(421a)는 제어부(438)와 접속되고 있어, 예를 들면 각각의 동작이 제어된다. 가이드부재(431), 볼나사(433), 모터(434) 등은 특허청구범위에 있어서의 「토출노즐을 X 방향으로 왕복이동시키는 X 방향 구동부」에 상당하고, 레일(432a, 432b), 볼나사(436), 모터(437) 등이 「토출노즐을 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 토출노즐용 Y방향 구동부」에 상당한다.

다음에 상술한 실시예에 있어서의 작용에 대하여 설명한다. 먼저 도 44에 있어서의 상자체(424)의 왼쪽 끝단쪽에 기판유지부(421)를 위치시키고, 케이스체 (420) 및 상자체(424)의 각 개구부(도시하지 않음)을 통하여 도시하지 않은 반송아암에 의해 웨이퍼(W)를 기판유지부(421)상에 주고받기, 이 주고받기는 기판유지부 (421) 및 상기 반송아암의 적어도 한쪽의 승강동작에 의해 행해진다. 그리고, 토출노즐(403)의 X방향에 있어서의 이동영역이 웨이퍼(W)의 한 끝단에 위치하도록 기판유지부(421) 및/또는 가이드부재(421)를 Y방향으로 이동시킨다. 이 때 토출노즐 (403)은 가이드부재(431)의 한끝단쪽에 대기시킨다.

그리고, 웨이퍼(W)를 정지시켜 두고 토출노즐(403)에 의한 레지스트액의 토출을 행하면서 한 끝단쪽에서 다른 끝단쪽으로 스캔(왕로)를 행하여, 다른 끝단쪽에서 되접힌 토출노즐(403)이 복로로써 도포막형성영역 위쪽에 이르기까지, 즉 토출노즐(403)이 마스크부재(423) 위쪽을 이동하는 동안에 기판유지부(421)와 가이드부재(431)를 동시에 Y방향으로 역방향으로 미소량 예를 들면 각각 0.5mm 씩 이동시킨다. 이렇게 웨이퍼(W) 표면의 도포막 형성영역(W1) 전역에 레지스트액의 액막이 형성되고, 그 후 기판유지부(421)를 웨이퍼 반입시의 위치로 되돌려, 웨이퍼(W)가 반출된다.

본 실시예에 의하면, 토출노즐(403)에 의해 도 45에 나타낸 바와 같이, 소위 싱글 스트로크의 요령으로 레지스트액을 웨이퍼(W)상에 도포하고 있기 때문에, 스핀코팅법에 비하여 레지스트액의 생산수율을 비약적으로 향상시킬 수 있는 동시에, 웨이퍼(W)의 회전에 의한 공기의 난류의 발생이라고 하는 것도 일어나지 않으므로 막두께의 균일성이 높은 등의 효과가 있으며, 또한 마스크부재(441)에 의해 웨이퍼(W)의 둘레가장자리부에 레지스트액이 도포되지 않도록 하고 있기 때문에, 레지스트막의 웨이퍼(W) 둘레가장자리로부터 막의 벗김을 방지할 수 있는 동시에, 웨이퍼(W)의 이면쪽이 오염되는 일도 없으므로, 반송아암 등이 오염될 우려도 없다.

그리고, 웨이퍼(W)와 토출노즐(403)을 동시에 서로 Y방향으로 역방향으로 이동시킴으로써 스캔영역을 이동시키도록 하고 있기 때문에, 이론대로 한다면 한쪽만을 Y방향으로 이동시킨 경우에 비하여 반만큼의 시간으로 끝난다. 싱글 스트로크 로 도포하는 경우 스캔횟수가 많기 때문에, 이 수법은 처리효율의 향상을 도모할 수 있어 효과적이다.

또, 도 46에 나타낸 바와 같이, 웨이퍼(W)의 둘레가장자리부 전체를 덮는 마스크부재(423)에 대신하여 토출노즐(403)의 X방향 이동영역 양 끝단에 있어서, 토출노즐(403)의 스캔영역에 대응하는 웨이퍼(W)의 둘레가장자리 영역만을 덮는 1조의 마스크부재(439a,439b)를 토출노즐(403)과 일체가 되어 Y방향으로 이동할 수 있도록 설치하고, 이들 마스크부재(439a 및 439b)의 이간간격을 구동기구(440)에 의해 웨이퍼(W)의 도포막 형성영역(W1)의 폭에 따라 변화하도록 구성하여도 좋다.

도 47은 다른 실시예이며, 이 예에서는, 도 47에 있어서의 토출노즐(403)의 왼쪽을 바로 앞쪽이라 하기로 하면, 바로 앞쪽의 영역에 있어서 도시하지 않은 반송아암에 의해 복수의 웨이퍼(W)를 순번으로 예를 들면 3대의 기판유지부(441)에 재치하고, 기판유지부(441)를 뒤쪽에, 토출노즐(403)의 가이드부재(431)를 바로 앞쪽에 간헐적으로 이동시켜서, 기술한 실시예와 마찬가지로 하여 웨이퍼(W)상에 레지스트액을 도포한다. 그리고, 도포가 종료한 웨이퍼(W)로부터 순번으로 뒤쪽영역에서 반출되고, 제일 끝의 웨이퍼(W)의 도포가 종료한 시점에서, 각 기판유지부 (441)를 본래의 위치까지 되돌리고, 혹은 이번에는 반출한 영역에서 웨이퍼(W)를 기판유지부(441)에 재치하여, 마찬가지로 처리를 행한다.

이러한 실시예에 의하면, 복수의 기판유지부를 동일한 레일(425) 상에 설치하여, 각 기판유지부와 토출노즐(403)을 각기 역방향으로 이동시키도록 하여 레지스트액의 도포를 행하고 있으므로, 앞의 실시예와 마찬가지로 마찬가지의 효과에 있는 것에 더하여, 도포처리와 웨이퍼(W)의 반입, 반출을 병행하여 행할 수 있기 때문에 처리효율이 보다 향상한다.

또 다른 실시예에 대하여 설명한다. 본 실시예는, 도 48의 개략도에 나타낸 바와 같이 Y방향으로 이어지는 레일(425)을 따라 가이드되도록 2기의 기판유지부 (451a 및 451b)를 설치하고, 그 위쪽에, 기판유지부(451a 및 451b)의 각각에 대응하는 토출노즐(452a 및 452b)과 상기 토출노즐(452a 및 452b)의 각각을 X방향으로 이동할 수 있도록 가이드하는 1조의 가이드수단(453a 및 453b)와, 이들 가이드수단 (453a 및 453b)를 양끝단에서 각각 지지하는 지지체(454,455)를 설치한 구성으로 되어 있다.

또, 이 예에 있어서 가이드수단(453a 및 453b)이 지지체(454,455)를 따라 가이드되면서 Y방향으로 구동되도록 구성하고, 토출노즐(452a 및 452b)와 기판유지부 (451a 및 451b)를 앞의 실시예와 마찬가지로 역방향으로 Y방향으로 이동시키도록 하여도 좋다.

토출노즐(452a 및 452b)는, 예를 들면 도 49에 나타낸 바와 같이 장방형을 이루는 기초체(450)의 Y방향으로 대향하는 1조의 변을 따라 이동할 수 있도록 구성하여도 좋다. 도 49에서는 토출노즐(452a 및 452b)을 X방향으로 구동하기 위한 볼나사부(456) 및 모터(457)를 나타내고 있다. 여기서 도 48 및 도 49에 나타낸 장치의 동작은 동일하기 때문에, 도 49에 나타낸 예를 대표로 하여 작용 및 효과를 설명한다.

우선, 도포공정개시 시의 기초체(450)의 위치는, 기초체(450)가 이제부터 이 동하는 방향을 Y 방향 전방으로 하면, 예컨대 기판유지부(451a 및 451b)에 유지되는 웨이퍼(Wa 및 Wb)의 전방단에, 각기 토출노즐(452a) 및 토출노즐(452b)의 X방향 왕복영역(스캔영역)이 위치하도록 위치 결정된다.

그리고, 토출노즐(452a, 452b)는 도 50에 나타낸 바와 같이 서로 X방향 역의 위치로부터 레지스트액의 도포를 시작한다. 이 X방향의 이동은 각각의 토출노즐이 대칭으로 움직이도록, 예를 들면, 토출노즐(452a, 452b)가 각각의 이동영역의 일 끝단측에서 이동을 시작하여 소정의 속도에 달하기까지의 가속기, 해당 소정속도를 유지하는 등속기, 다른 끝단측 부근에서 정지하여 되돌릴 때까지 감속기, 이 모든 기간에 있어서 토출노즐(452a)와 토출노즐(452b)와의 동기가 도모된다. 요컨대 토출노즐(452a 및 452b)는 기초체(450)의 중심 P에 대하여 항상 점대칭되도록 위치한다.

따라서, 예컨대 토출노즐(452a)이 그 이동영역을 도 50에 나타내는 기초체(450)의 1단 X1측에서 이동을 시작하여 다른 끝단 X2측으로 도착할 때, 동시에 토출노즐(452b)는 해당 이동영역에 있어서의 기초체(450)의 X1측단부로 도착한다.

토출노즐(452a 및 452b)이 각각의 이동영역단부로써 되돌릴 때, 웨이퍼(Wa) 및 웨이퍼(Wb)가 Y 방향 전방으로 간헐이동하고, 토출노즐(452a, 452b)에 의해 마찬가지로 하여 도포가 행하여져, 이러한 동작을 되풀이하는 것으로 웨이퍼(Wa)와 웨이퍼(Wb)와의 각각의 표면전체에 소위 싱글 스트로크 요령으로 레지스트액을 공급할 수가 있다. 또 이 경우에 있어서도, 기초체(450)를 Y 방향 후방에 웨이퍼 (Wa, Wb)와 동시에 이동시키도록 하더라도 좋다.

이와 같이, 본 실시예로서는 공통의 기초체(450)에 2기의 토출노즐(452a 및 452b)를 설치하고 있기 때문에, 예컨대 2장의 웨이퍼에 대하여 동시에 레지스트액의 도포를 할 수 있다. 그리고, 양 토출노즐(452a, 452b)의 X방향에의 왕복이동이 도 50에 나타내는 기초체(450)의 중심점 P를 끼워 점대칭이 되도록 이동시키고 있기 때문에, 서로 토출노즐의 가속시 및 감속시에 생기는 충격은 기초체(450)를 따라서 상쇄되는 것이 되고, 말하자면 서로 토출노즐(452a, 452b)이 카운터밸런스 (counter balance)로서 일하여, 진동을 억제할 수 있다.

또 전번의 실시예에 있어서의 레지스트액의 도포는 아래와 같이 행하여도 좋다. 즉, 도51에 나타낸 바와 같이, 기초체(450)에 관해서 Y 방향의 길이가 웨이퍼 2장분의 지름보다 긴 것을 준비하여, 해당 기초체(450)의 중심점 P에 대하여 점대칭으로 토출노즐(452a 및 452b)를 X 방향으로 이동시킴과 함께, 웨이퍼(Wa) 및 웨이퍼(Wb)를 기초체(450)의 외측에서 중심점 P에 향하여 간헐이동시키는 것이다. 이렇게 하여도 상기의 경우와 마찬가지로 서로 토출노즐에 의한 충격의 발생을 누르면서 동시에 2장의 웨이퍼에 대하여 싱글 스트로크로 레지스트액의 도포를 할 수 있다.

다음에, 더욱 별도의 실시예에 관해서 도52, 도53 및 도54를 참조하면서 설명을 행한다. 본 실시예는 예컨대 전번의 실시예에 있어서의 가이드부재(431)대신 에 사용할 수 있는 토출노즐을 X방향으로 이동시키는 X방향 구동부에 특징이 있는 것으로 해당 부위에 관해서만 설명을 행한다.

도52는 본 실시예에 있어서의 X방향 구동부(460)를 나타내는 개략 사시도이고, X방향으로 신장하는 장방(長方)형상의 기초체(461)상의 양 끝단에는, 한쪽에 구동풀리(462), 다른 쪽에는 종동풀리(463)가 설치되고 있고, 각 풀리(462,463)에는 엔드리스벨트(endless belt)(464)가 걸어지고 있다. 구동풀리(462) 상부에는 모터(465)가 설치되고 있고 구동풀리(462)를 회전시키면, 해당 구동풀리(462)의 정역회전에 따라 벨트(464)도 회전한다.

여기서, 양 풀리(462,463)에 걸어진 엔드리스벨트(464)가 평행한 한 쌍의 벨트부분에 각각 464a, 464b의 부호를 할당하면, 한쪽의 벨트부분(464a)에는 노즐지지체(407), 다른쪽의 벨트부분(464b)에는 충격완화용의 이동체인 밸런서(408)가 설치되고, 각각이 벨트464의 회전에 따라 X방향으로 역방향으로 대칭으로 이동한다. 또한 구동풀리(462)와 종동풀리(463)와의 사이에는, 각각이 X방향으로 신장하는 상하에 평행한 2 개의 가이드축(466 및 467)이 설치되고 있고, 노즐지지체(407)및 밸런서(408)를 X방향으로 가이드하도록 구성되어 있다. 또한, 노즐지지체(407)에는 토출구멍(470)을 갖는 토출노즐(471)이 설치된다. 상기 밸런서(408)의 중량은 예컨대 노즐지지체(407) 및 토출노즐(471)의 총중량과 같은 크기로 설치된다.

이하, 가이드축(466 및 467)에 의해 노즐지지체(407) 및 밸런서(408)가 가이드되는 기구에 관해서 설명한다. 도53은 노즐지지체(407) 및 밸런서(408)의 단면도이며, 여기에 나타낸 바와 같이 노즐지지체(407) 및 밸런서(408)는 고정부재 (472) 및 482에 의해 벨트(464)를 끼도록 하고 해당 벨트(464)에 고정되어 있다. 노즐지지체(407) 및 밸런서(408)에는 상기 가이드축(466 및 467)이 관통하는 관통구멍(473 및 483)이 형성되어 있고, 도54에 나타낸 바와 같이 이 관통구멍(473, 483)의 바깥둘레면은 공기가 통류할 수 있도록 다공질부재 예를 들면, 다수의 구멍이 연 통형상체(473a)에 의해 형성되어 있다. 이 통형상체(473a)의 외측에는 통풍실(473b)이 형성되어 있고, 이 통풍실(473b)은 노즐지지체(407)[밸런서(408)]의 중에 형성된 유로(475)를 통해 공기공급관(476)에 접속되어 있다. 이 공기공급관 (476)에는 도시하지 않은 공기공급원에서 가압공기가 공급되어 있고, 이 가압공기가 유로(475,485) 및 통형상체(473a)를 통해 가이드축(466)(467)과 통형상체(473a)와의 틈에 내뿜어진다. 또 도53에서는 가이드축(466,467) 및 관통구멍(473,483)을 포함하는 부분을 단지 원으로서 간략화하고 있다. 따라서, 노즐지지체(407) 및 밸런서(408)는 가압공기를 개재시킨 상태로 가이드축(466)에 가이드되기 때문에, 고속으로 이동시키더라도 기계적인 마찰이 일어나지 않기 때문에, 부품의 마모를 억제할 수 있다는 효과가 있다. 또 여기서 사용하는 가압공기에 걸려지는 압력은 예컨대 2 Kg/cm²이상이다.

또한 본 실시예에 있어서 밸런서(408) 대신에 노즐지지체(407)와 동형상의 노즐지지체(408A)를 설치하여, 이것에 토출노즐을 부착하도록 하더라도 좋고, 토출노즐(471)을 수평방향으로 향하도록 구성하여, 수직하게 유지된 웨이퍼(W)에 대하여 도포를 하도록 하더라도 좋고, 이 경우 예컨대 도55에 나타낸 바와 같이 X방향 구동부(460)를 끼워 대향하는 2장의 웨이퍼(W)에 노즐지지체(407,408A)에 설치되는 토출노즐(471,481)에 의해 레지스트액의 도포를 하는 구성을 들 수 있다.

다음에, 상술의 도포막형성장치를 도포유니트에 조합한 도포·현상장치의 일례의 개략에 관해서 도56 및 도57을 참조하면서 설명한다. 도56 및 도57 중, 409는 웨이퍼카세트를 반입출하기 위한 반입출 스테이지이고, 예를 들면, 25장 수납된 카세트(C)가 예컨대 자동반송로봇에 의해 얹어놓인다. 반입출스테이지(409)에 향하는 영역에는 웨이퍼(W)의 주고받음 아암(490)이 X, Z, Y 방향 및 θ회전(연직축 주위의 회전)이 자유롭게 설치된다. 더욱 이 주고받음 아암(490)의 내측에는, 예컨대 반입출 스테이지(409)로부터 안을 보아 예컨대 오른쪽에는 도포·현상계의 유니트(U1)[도포유니트(492), 현상유니트(491)]이 좌측, 전방, 내측에는 각각의 유니트가 다단에 포개여지고 구성된 가열·냉각계의 유니트(U2, U3, U4)가 각기 배치되어 있다. 또한, 도포유니트(492), 현상유니트(491)와 가열·냉각계 유니트와의 사이에서 웨이퍼(W)의 주고받음을 하기 위한, 예컨대 승강이 자유롭게, 좌우, 전후로 이동이 자유롭고 또한 연직축 주위에 회전이 자유롭게 구성된 웨이퍼 반송아암(MA)가 설치된다. 단지 도56에서는 편의상 유니트(U2) 및 웨이퍼 반송아암 (MA)은 그리고 있지 않다.

도포·현상계의 유니트에 있어서는, 예컨대 상단에 2개의 상술의 현상장치를 구비한 바친 현상유니트(491)가, 하단에 2개의 도포유니트(492)가 설치된다. 예컨대 가열·냉각계의 유니트에 있어서는, 가열유니트나 냉각유니트 소수화 처리유니트등이 유니트(U2, U3, U4)의 중에 7단의 선반형상으로 수납배치된 구조로 되어있 다.

도포·현상계 유니트나 가열·냉각계 유니트를 포함하는 상술의 부분을 프로세스 스테이션 블록이라고 부르는 것으로 하면, 이 프로세스 스테이션 블록의 내측에는 인터페이스블록(500)을 통해 노광장치(501)가 접속되어 있다. 인터페이스블록 (500)은 예컨대 승강이 자유롭게, 좌우, 전후로 이동 자유롭고 또한 연직축 주위에 회전이 자유롭게 구성된 웨이퍼 반송아암(502)에 의해 노광장치(501)의 사이에서 웨이퍼(W)의 주고받음을 하는 것이다.

이 장치의 웨이퍼의 흐름에 관해서 설명하면, 우선 외부에서 웨이퍼 (W)가 수납된 웨이퍼카세트(C)가 상기 반입출스테이지(409)에 반입되어, 웨이퍼 반송아암 (490)에 의해 카세트(C) 내에서 웨이퍼(W)가 집어내여지고, 기술의 가열·냉각유니트(U3)의 선반의 하나로 있는 주고받음대를 통해 웨이퍼 반송아암(MA)에 주고받아진다. 이어서 유니트(U3)의 하나의 선반의 처리부내에서 소수화처리가 행하여진 후, 도포유니트(492)로써 레지스트액이 도포되어, 레지스트막이 형성된다. 레지스트가 도포된 웨이퍼(W)는 가열유니트로 가열된 후, 유니트(U4)의 인터페이스블록 (500)의 웨이퍼 반송아암(502)과 주고받기 가능한 냉각유니트에 반송되어, 처리 후에 인터페이스블록(500), 웨이퍼 반송아암(502)을 통하여 노광장치(501)에 보내여지고, 여기서 패턴에 대응하는 마스크를 통해 노광이 행하여진다. 노광처리후의 웨이퍼를 웨이퍼 반송아암(502)으로 받아, 유니트(U4)의 주고받음 유니트를 통해 프로세스 스테이션 블록의 웨이퍼 반송아암(MA)에 건네준다.

이 후 웨이퍼(W)는 가열유니트로 소정온도에 가열되어, 이렇게 한 후 냉 각유니트로 소정온도에 냉각되고, 계속해서 현상유니트(49l)에 보내여지고 현상처리되어, 레지스트 마스크가 형성된다. 이렇게 한 후 웨이퍼(W)는 반입출 스테이지 (409) 상의 카세트(C) 내에 복귀된다.

이상의 각 실시예로서는, 웨이퍼(W)에 레지스트액을 도포하고, 레지스트막을 형성하는 막형성장치 있었지만, 본 발명은 절연막등의 다른 막형성장치, 예컨대 SOD, SOG 막형성장치에 있어서도 적용할 수 있다. 또한, 웨이퍼(W) 이외의 기판 예컨대 LCD 기판의 막형성장치에서도 적용된다. 또한, 도포액으로서는 레지스트액에 한하지 않고 층간절연재료, 저유전체재료, 강유전체재료, 배선재료, 유기금속재료, 금속페스트(metal past)등을 사용하더라도 좋다.

Claims

토출노즐로부터 기판상에 도포액을 공급하여 상기 기판상에 막을 형성하는 막형성장치로서,

상기 토출노즐을 이동시키는 이동수단을 구비하고,

상기 이동수단은 상기 토출노즐을 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재를 이동시키는 이동부재와, 상기 지지부재에 형성된 축받이부를 지나는 가이드축과 상기 축받이부와 상기 가이드축의 틈에, 기체를 공급하는 기체공급기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 1 항에 있어서, 상기 토출노즐은 가이드축으로 따라 왕복이동하고, 상기 토출노즐의 왕복이동방향은 직각의 방향으로 기판이 이동하는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 1 항에 있어서, 상기 가이드축은 복수 구비되는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 1 항에 있어서, 상기 이동부재는 상기 지지부재의 중심위치에 부착된 무단(無端)의 구동벨트인 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 4 항에 있어서, 상기 이동수단은 상기 구동벨트가 걸쳐진 구동풀리 및 종동풀리와, 상기 구동풀리를 회전구동시키는 회전구동기구를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 5 항에 있어서, 상기 구동벨트에 있어서의 상기 지지부재의 반대측의 위치에는, 밸런스웨이트가 부착되고 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 5 항에 있어서, 상기 구동벨트에 있어서의 상기 지지부재와 대향하는 위치에는, 다른 토출노즐을 지지하고 있는 다른 지지부재가 부착되고 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 1 항에 있어서, 상기 축받이부의 내벽에 다공질막이 피복되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 1 항에 있어서, 상기 이동수단을 덮는 커버와, 상기 커버에 형성되어, 상기 커버내의 분위기를 배기하는 배기구를 갖고 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 9 항에 있어서, 상기 지지부재는 상기 커버내에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 9 항에 있어서, 상기 이동수단은 상기 지지부재가 부착된 구동벨트와, 상기 구동벨트가 감겨진 구동풀리 및 종동풀리를 구비하고, 상기 구동벨트, 상기 구동풀리 및 상기 종동풀리가 상기 커버내에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 11항에 있어서, 상기 배기구는 적어도 상기 구동풀리근방과 상기 종동풀리 근방에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 11 항에 있어서, 상기 구동벨트의 내측에, 칸막이부재가 설치되는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 9 항에 있어서, 상기 지지부재와 상기 커버의 내주면과의 사이에 칸막이부재가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 9 항에 있어서, 상기 커버는 다른 커버내에 수납되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 15 항에 있어서, 상기 다른 커버내를 분위기를 배기하는 다른 배기구가, 상기 다른 커버에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 15 항에 있어서, 상기 도포액 토출수단에 도포액을 공급하기 위한 유로는, 상기 도포액 토출수단과, 상기 다른 커버에 설치된 접속부를 잇는 제 1 튜브와,

도포액 공급원과 상기 접속부를 잇는 제 2튜브를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 1 항에 있어서, 상기 지지부재는 토출노즐을 유지하는 토출노즐유지부재를 가지고,

상기 토출노즐유지부재에 대하여 상기 토출노즐이 착탈 자유롭고,

상기 토출노즐유지부재는, 상기 토출노즐의 일부를 흡착하는 흡인기구를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 1 항에 있어서, 상기 지지부재는 토출노즐을 유지하는 토출노즐유지부재를 가지고,

상기 토출노즐 유지부재에 대하여 상기 토출노즐이 착탈 자유롭고,

상기 토출노즐 유지부재는 상기 토출노즐의 일부를 흡착하는 솔레노이드를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 1 항에 있어서, 상기 지지부재는 토출노즐을 유지하는 토출노즐 유지부재를 가지고,

상기 토출노즐 유지부재에 대하여 상기 토출노즐이 착탈 자유롭고,

상기 토출노즐 유지부재는 상기 토출노즐을 외측에서 꽉 쥐는 파지부재를 가지고,

상기 파지부재는 에어의 유입출에 의하여 상기 토출노즐에 대하여 팽축이 자유로운 가압부재를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 1 항에 있어서, 상기 지지부재는 토출노즐을 유지하는 토출노즐 유지부재를 가지고,

상기 토출노즐 유지부재에 대하여 상기 토출노즐이 착탈 자유롭고,

상기 토출노즐 유지부재는 상기 토출노즐의 외형에 대응하여 상하면이 개구한 통형상이고, 상기 토출노즐 유지부재는 상기 토출노즐을 지지하는 지지부를 더 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 18 항에 있어서, 상기 토출노즐 유지부재는 상기 토출노즐의 이동방향으로 대하여 직각방향으로 돌출한 볼록부를 가지고, 상기 토출노즐은 상기 볼록부에 감합(嵌合)하는 오목부를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 18 항에 있어서, 상기 토출노즐은 상기 토출노즐의 이동방향으로 대하여 직각방향으로 돌출한 볼록부를 가지고, 상기 토출노즐유지부재는 상기 볼록부에 감 합하는 오목부를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 22 항에 있어서, 상기 볼록부는 수평방향으로 돌출하고 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 23 항에 있어서, 상기 볼록부는 수평방향으로 돌출하고 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 18 항에 있어서, 적어도 상기 토출노즐의 이동범위내에 이동가능한, 상기 토출노즐을 반송하는 반송수단을 가지고,

상기 반송수단은 상기 토출노즐을 상기 토출노즐 유지부재에 대하여 주고받음 가능한 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 26 항에 있어서, 상기 토출노즐을 복수 지지가능한 노즐대기부재를 가지고, 상기 노즐대기부재는 상기 반송수단의 이동범위내에 설치되고, 상기 반송수단은 상기 노즐대기부재에 대하여, 상기 토출노즐을 주고받음 가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 18 항에 있어서, 상기 토출노즐을 복수지지가능한 노즐대기부재를 가지고, 상기 노즐대기부재는 상기 토출노즐 유지부재에 대하여 상기 토출노즐을 주고받음 자유로운 위치까지 이동가능하게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 27 항에 있어서, 상기 노즐대기부재는 상기 토출노즐의 토출구를 수용하고, 또한 상기 토출노즐을 지지하는 수용부를 가지고, 상기 수용부내는 도포액의 용제분위기에 유지되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 29 항에 있어서, 상기 노즐대기부재의 아래쪽으로는, 도포액의 용제가 흐르는 용제유로를 가지고, 상기 용제유로의 분위기를 상기 수용부에 도입하는 분위기 도입로를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 30 항에 있어서, 상기 용제유로의 용제온도를 조절가능한 온도조절장치를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 29 항에 있어서, 상기 수용부를 개폐자유로운 덮개를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 29 항에 있어서, 상기 수용부에 지지된 토출노즐의 토출구에 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 갖는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
토출노즐로부터 기판상에 도포액을 공급하여 상기 기판상에 막을 형성하는 막형성장치로서,

상기 기판을 유지하는 기판유지부와,

상기 기판유지부에 유지된 기판과 대향하여 설치되어, 상기 기판유지부에 유지된 기판에 도포액을 토출하는 토출노즐과,

상기 토출노즐을 X방향으로 이동시키는 X방향 구동부와,

상기 토출노즐을 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 토출노즐용의 Y 방향 구동부와,

상기 기판유지부를 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 기판유지부용의 Y 방향 구동부를 구비하고,

더욱 상기 토출노즐이 X방향으로 이동되어 기판표면에 도포액을 직선형상으로 도포한 후, 토출노즐 및 기판유지부를 동시에 서로 Y 방향 역방향으로 간헐이동되어, 이미 도포된 영역의 이웃의 영역에 토출노즐을 대향시켜, 이렇게 해서 X방향으로 도포한 영역이 Y 방향으로 순차 배열되어지도록 제어되는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
토출노즐로부터 기판상에 도포액을 공급하여 상기 기판상에 막을 형성하는 막형성장치로서,

기판을 유지하는 기판유지부와,

상기 기판유지부에 유지된 기판과 대향하여 설치되고, 상기 기판유지부에 유지된 기판에 도포액을 토출하는 토출노즐과,

각각 기판유지부에 유지된 기판과 대향하도록 또한 서로 Y 방향으로 이간하여 설치되고, 상기 기판과 대향하여 설치되는 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐과,

이들 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐을 각각 X방향으로 이동시키는 X방향 구동부와,

제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐과 기판유지부를 상대적으로 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 Y 방향 구동부를 구비하고,

더욱 토출노즐을 X방향으로 이동시키는 것에 의해 기판표면에 도포액을 직선형상으로 도포한 후, 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐을 Y 방향으로 상대적으로 이동시켜, 이미 도포된 영역의 이웃의 영역에 토출노즐을 대향시켜, 이렇게 해서 X방향으로 도포한 영역을 순차 Y 방향으로 배열되어지도록 제어되는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 35 항에 있어서, Y 방향 구동부는 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐을 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 토출노즐용의 Y 방향 구동부와, 기판유지부를 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 기판유지부용의 Y 방향 구동부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 35 항에 있어서, 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐은 공통의 기초체에 설치된 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 35 항에 있어서, 제 1 토출노즐 및 제 2 토출노즐은 서로 역방향으로 또한 대칭으로 이동하는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 35 항에 있어서, 기판유지부는 제 1 기판유지부 및 제 2 기판유지부를 구비하여, 제 1 토출노즐은 제 1 기판유지부에 유지된 기판에 대하여 도포액을 토출하고, 제 2 토출노즐은 제 2 기판유지부에 유지된 기판에 대하여 도포액을 토출하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
토출노즐로부터 기판상에 도포액을 공급하여, 상기 기판상에 막을 형성하는 막형성장치로서,

기판을 유지하는 기판유지부와,

상기 기판유지부에 유지된 기판과 대향하여 설치되어, 상기 기판유지부에 유지된 기판에 도포액을 토출하는 토출노즐과,

상기 토출노즐을 기판유지부에 대하여 상대적으로 Y 방향으로 간헐적으로 이동시키는 Y 방향구동부와,

상기 토출노즐을 X방향으로 이동시키는 때에, 상기 토출노즐에 대하여 역방향으로 또한 대칭으로 이동하는 충격완화용의 이동체를 구비하고,

상기 토출노즐을 X방향으로 이동시키는 것에 의해 기판표면에 도포액을 직선형상으로 도포한 후에, 토출노즐을 Y 방향으로 상대적으로 이동시켜, 이미 도포된 영역의 이웃의 영역에 토출노즐을 대향시키고, 이렇게 해서 X방향으로 도포한 영역을 Y 방향으로 순차 배열되어지도록 제어되는 것을 특징으로 하는 막형성장치.
제 34 항에 있어서, X방향 구동부는 토출노즐을 가이드하기 위해서 X방향으로 신장하는 가이드축부재와, 상기 가이드축부재의 주위를 공간을 통해 둘러싸도록 설치된 노즐유지체와,

상기 노즐유지체와 축부재와의 사이에 가압기체를 공급하는 기체공급수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 막형성장치.