KR100506800B1 - 현상액 이상 흐름 검출 시스템 - Google Patents

현상액 이상 흐름 검출 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 현상액 공급 시스템의 현상액 이상 흐름 검출 시스템으로서, 현상액 공급 시스템의 비정상적인 동작에 의한 현상액의 누수를 감지하기 위하여, 본 발명은 현상액 공급 시스템의 복수의 배수부와 연결된 현상액 검출 탱크와, 현상액 검출 탱크에 소정양의 현상액이 채원진 상태를 감지할 수 있는 현상액 검출 센서 및 상기 배수부를 통하여 상기 현상액 검출 탱크로 보내진 현상액을 배수하기 위한 검출 배수관과 배수 밸브로 구성된 검출 배수부를 갖는 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 제공한다. 특히, 배수부를 통하여 비정상적으로 배수되는 현상액은 배수 밸브가 닫혀진 현상액 검출 탱크로 보내지고 소정양의 현상액이 현상액 검출 탱크에 채워진 경우 현상액 검출 센서는 이를 감지하여 현상액이 누수되고 있음을 알리는 전기적인 신호를 출력하는 것을 특징으로 한다. 특히, 본 발명에 따른 현상액 검출 센서로 마그네트 센서를 사용하는 것이 바람직하다.

Description

현상액 이상 흐름 검출 시스템{System for sensing strange flow of developer}
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 포토레지스트의 현상 공정에 사용되는 현상액 공급 시스템에 있어서 현상액의 배수관으로의 누수와 같은 현상액의 이상 흐름을 검출할 수 있는 현상액 공급 시스템의 현상액 이상 흐름 검출 시스템에 관한 것이다.
포토레지스트(photoresist)를 이용한 사진 공정은 포토레지스트 도포 공정, 노광 공정, 현상 공정 및 에싱 공정으로 이루어진다. 현상 공정은 웨이퍼에 상에 도포된 포토레지스트에 대한 노광 공정이 완료된 이후에 현상액(developer)을 포토레지스트가 도포된 웨이퍼에 분사하여 노광된( 또는 노광되지 않은) 부분의 포토레지스트를 제거하여 웨이퍼 상에 포토 마스크(photo mask)를 형성하는 공정이다.
포토레지스트가 도포된 웨이퍼 상에 현상액을 공급하기 위한 현상액 공급 시스템(system for supplying developer)은 현상액을 현상액 주 공급부로부터 공급받아 최종단인 노즐(nozzle)에 공급하는 시스템으로서, 중간 부분은 많은 종류의 부품과 배관 등으로 연결되어 있다.
통상적으로 현상액 주 공급부에서 공급된 현상액은 바로 노즐로 공급되지 않고 보조 탱크인 버퍼 탱크(buffer tank)로 보내지고, 버퍼 탱크로부터 필요한 현상액을 복수의 노즐로 공급하여 현상 공정을 진행한다. 버퍼 탱크에는 버퍼 탱크로 공급되는 현상액의 양을 감지하기 위한 현상액 검출 센서가 설치되어 있다. 현상액 검출 센서는 버퍼 탱크로 공급되는 현상액의 양을 감지하여 버퍼 탱크의 수용 용량 이상의 현상액이 공급된 경우에 이를 외부에 알리고 수용 용량 이상의 현상액은 버퍼 탱크 밖으로 배수시킬 수 있도록 버퍼 탱크에 연결된 배수 밸브를 동작시키게 된다. 그리고, 현상액 공급 시스템의 각 부분에서의 유지 보수 작업을 진행하기 위해서, 현상액 공급 시스템 내에 잔존하는 현상액을 현상액 공급 시스템 밖으로 배수할 수 있도록 버퍼 탱크를 포함한 배관 사이에 복수개의 배수 밸브와 배수관을 포함하는 배수부가 설치되어 있다.
이와 같은 현상액 공급 시스템에 있어서, 버퍼 탱크에 설치된 현상액 검출 센서는 버퍼 탱크로 공급되는 현상액의 양을 감지하기 위한 센서 라인이 현상액과 접촉된 상태를 항상 유지하고 있기 때문에, 부식성을 갖는 현상액이 현상액 검출 센서의 센서 라인에 침투하여 현상액 검출 센서의 오동작시키는 원인으로 작용할 수 있다.
배수 밸브는 수동 밸브로서 유지 보수 작업이 필요한 경우 작업자는 배수 밸브를 수동으로 열어 현상액 공급 시스템 내의 현상액을 배수관을 통하여 배수한 이후에 작업을 진행한다. 이때, 유지 보수 작업이 완료된 이후에 배수 밸브를 잠그지 않고 현상 공정을 진행할 경우, 잠그지 않은 배수 밸브와 연결된 배수관을 통하여 현상액이 빠져나가는 불량이 발생될 수 있다.
그리고, 종래 기술에 따른 배수부는 현상액 공급 시스템 내에 잔존하는 현상액을 외부로 배수시키기 위한 부분으로서, 배수 밸브를 지나 배수관으로 배수되는 현상액의 양을 점검하는 부분을 별도로 갖추고 있지 않다.
따라서, 본 발명의 목적은 배수관을 통한 현상액의 누수를 감지할 수 있는 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 현상액 주 공급부에서 공급된 현상액을 보조 탱크를 통하여 노즐로 공급하며, 현상액 주 공급부와 노즐 사이의 현상액을 배수하기 위한 복수의 배수부가 설치된 현상액 공급 시스템의 현상액 이상 흐름 검출 시스템으로, 복수의 배수부와 연결된 현상액 검출 탱크와; 현상액 검출 탱크에 설치되어 현상액 검출 탱크로 소정양의 현상액이 채워질 경우 이를 감지하는 현상액 검출 센서; 및 배수부를 통하여 현상액 검출 탱크로 보내진 현상액을 배수하기 위한 검출 배수부로서, 검출 배수부는 현상액 검출 탱크와 연결된 검출 배수관 및 검출 배수관에 설치된 배수 밸브로 구성된 검출 배수부;를 포함하며, 배수부를 통하여 정상적으로 배수되는 현상액은 배수 밸브가 열여진 현상액 검출 탱크로 유입되고, 유입된 현상액은 검출 배수관을 통하여 외부로 배수되며, 배수부를 통하여 비정상적으로 배수되는 현상액은 배수 밸브가 닫혀진 현상액 검출 탱크로 보내지고 소정양의 현상액이 현상액 검출 탱크에 채워진 경우 현상액 검출 센서는 이를 감지하는 것을 특징으로 하는 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 제공한다.
현상액 주 공급부와 보조 탱크 사이에 개폐용 밸브가 설치되며, 현상액 검출 센서가 현상액의 이상 흐름 감지시 개폐용 밸브를 닫아 현상액의 추가적인 누수를 막는다.
본 발명에 따른 현상액 검출 센서로 부력 센서를 사용하는 것이 바람직하다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 포함하는 현상액 공급 시스템을 나타내는 도면이다.
도 1을 참조하면 현상액 공급 시스템(100)은 현상액 주 공급부(61)로부터 현상액을 공급받아 최종단인 노즐(69)로 공급하여 현상 공정을 진행하는 시스템으로, 중간 부분은 많은 종류의 부품과 배관 등으로 연결되어 있다. 그리고, 본 발명의 현상액 공급 시스템(100)은 현상액의 이상 흐름 발생시 이를 검출할 수 있는 현상액 이상 흐름 검출 시스템(50)을 더 포함하고 있다.
통상적으로 현상액 공급 시스템(100)은 현상액 주 공급부(61), 버퍼 탱크(63), 유량계(65; flowmeter), 온조기(67) 및 노즐(69)로 구성된다. 그리고, 각 구성요소를 연결하는 배관(68) 사이에 여과기(71, 77), 밸브(57, 72, 74, 78, 81, 83), 역류 방지기(59, 73, 75, 79) 등이 설치되어 있다.
현상액 주 공급부(61)는 현상액 공급원으로 보조 탱크인 버퍼 탱크(63)에 배관(68a)으로 연결되어 있다. 현상액 주 공급부(61)와 버퍼 탱크(63) 사이의 배관(68a)에는 현상액 주 공급부(61)에서 버퍼 탱크(63)로 보내지는 현상액의 양을 조절하기 위한 제 1 개폐용 밸브(57)가 설치되고, 다음으로 역류를 방지하기 위한 제 1 역류 방지기(59)가 차례로 설치되어 있다. 다음으로 현상액 주 공급부(61)에서 공급된 현상액에 잔존하는 찌꺼기를 일차적으로 여과하기 위한 제 1 여과기(71)와, 제 2 개폐용 밸브(72) 및 제 2 역류 방지기(73)가 차례로 설치되어 있다. 그리고, 제 1 여과기에 연결된 배수관(68b)에는 배수 밸브(81)가 설치되고, 배수관(68b)은 현상액 검출 탱크(55)에 연결되어 있다.
버퍼 탱크(63)는 현상액 주 공급부(61)에서 공급받은 현상액을 복수의 노즐(69; 도 1에는 하나의 노즐만 도시되어 있지만)로 현상액을 공급하는 부분으로서, 버퍼 탱크(63)로 공급되는 현상액의 양을 감지하기 위한 제 1 현상액 검출 센서(66)가 버퍼 탱크(63)에 설치되어 있다. 제 1 현상액 검출 센서(66)는 버퍼 탱크(63)로 공급된 현상액의 양을 감지하기 위해서 버퍼 탱크(63)의 아래쪽에 소정의 간격을 두고 2개(64a, 64b)가 설치되고, 위쪽에 소정의 간격을 두고 2개(62a, 62b)가 설치된다. 제 1 현상액 검출 센서(66) 중에서 맨 아래와 맨 위에 설치된 센서(62b, 64b; 이하, '한계 센서'라 하자)는 버퍼 탱크(63)에 채워질 수 있는 현상액의 하한(下限)과 상한(上限)을 나타내며, 중간의 두 개의 센서(62a, 64a; 이하, '적정 센서'라 하자)는 적정량의 현상액이 공급된 상태를 감지하게 된다. 즉, 버퍼 탱크(63)에서 노즐(69)로의 현상액의 공급은 현상액이 적정 센서(62a, 64a) 사이에 있을 때 이루어지며, 현상액이 하한의 한계 센서(64b)로 내려갈 때는 현상액의 노즐(69)로의 공급을 중단시키고, 상한의 한계 센서(62b)로 올라올 때는 현상액의 버퍼 탱크(63)로의 공급을 중단시킨다.
버퍼 탱크(63)와 노즐(69) 사이의 배관(68c)에는 버퍼 탱크(63)에서 노즐(69)로 공급되는 현상액의 양을 채크하기 위한 유량계(65)가 설치되고, 다음으로 노즐(69)로 공급되는 현상액을 작업 온도로 맞추어 주기 위한 온조기(67)가 차례로 설치되어 있다. 통상적으로 현상 공정을 진행하기 위한 현상액의 작업 온도는 23±0.5℃ 정도이다. 버퍼 탱크(63)와 유량계(65) 사이의 배관(68c)에 노즐(69)로 공급되는 현상액의 양을 조절하기 위한 제 3 개폐용 밸브(74)와, 제 3 역류 방지기(75) 및 제 2 여과기(77)가 차례로 설치되어 있다.
버퍼 탱크(63)와 연결된 배수관(68b)에는 제 2 배수 밸브(78) 및 제 4 역류 방지기(79)가 설치되어 있고, 제 2 여과기와 연결된 배수관(68b)에는 제 3 배수 밸브(83)가 설치되어 있다. 한편, 버퍼 탱크(63) 및 제 2 여과기(77)과 연결된 배수관(68b) 또한 현상액 검출 탱크(55)에 연결되어 있다.
그리고, 본 발명에 따른 현상액 이상 흐름 검출 시스템(50)은 현상액 검출 탱크(55)와, 제 2 현상액 검출 센서(51) 및 검출 배수부(57)로 구성된다.
현상액 검출 탱크(55)는 제 1 여과기(71), 제 2 여과기(77) 및 버퍼 탱크(63)과 연결된 배수관(68b)이 연결되는 부분으로서, 배수관(68b)을 통하여 배수되는 현상액이 보내지는 곳으로 용량이 약 50ml 정도이다.
제 2 현상액 검출 센서(51)는 현상액 검출 탱크(55) 내부에 설치되어 현상액 검출 탱크(55)로 보내지는 현상액의 양을 감지하여 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액이 누수되고 있는지의 여부를 알리는 전기적인 신호를 출력하는 센서이다. 본 발명에 현상액 검출 센서(51)는 마그네트 센서로서, 현상액 검출 탱크(55)에 수직으로 설치된 센서 라인(54)과, 센서 라인(54)의 상부와 하부에 삽입 설치된 마그네트 블록(52, 53)으로 구성되며, 마스네트 블록(52, 53)은 현상액 검출 탱크(55)내로 유입되는 현상액에 밀려 센서 라인(54)을 타고 상승하거나 하강하게 된다. 특히, 센서 라인(54)은 마그네트 블록(52, 53)이 센서 라인(54)의 특정 지점에 올라간 상태를 감지하여 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액이 누수됨을 감지하게 된다.
그리고, 검출 배수부(57)는 현상액 검출 탱크(55)에 채워진 현상액 또는 현상액 탱크(55) 내로 유입되는 현상액을 밖으로 배수시키는 부분으로, 현상액 검출 탱크(55)와 연결된 검출 배수관(58)에 제 4 배수 밸브(59)가 설치된 구조를 갖는다.
이와 같은 현상액 검출 시스템(50)의 구동 관계를 설명하면, 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액을 공급하는 정상적인 구동 상태를 유지할 경우 제 4 배수 밸브(59)는 닫혀진 상태를 유지하고, 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액을 배수하는 정상적인 구동 상태를 유지하는 경우 제 4 배수 밸브(59)는 열여진 상태를 유지하여 복수의 배수관(68b)을 통하여 배수되는 현상액은 현상액 검출 탱크(55)를 통과하여 검출 배수관(58)을 통하여 외부로 배수된다. 이때, 현상액이 현상액 검출 탱크(55)로 유입되지만 제 2 현상액 검출 센서(51)는 현상액의 이상 흐름이라고 인식하지 않는다. 왜냐하면, 제 4 배수 밸브(59)가 열여 있어 현상액 검출 탱크(55)로 보내지는 현상액은 바로 제 4 배수 밸브(59)가 설치된 검출 배수관(58)을 통하여 외부로 배출되기 때문에, 제 2 현상액 검출 센서(51)가 인식할 정도로 현상액이 현상액 검출 탱크(55)에 채워지지 않는다.
하지만, 현상액 공급 시스템(100)에서 현상액 공급되는 상태에서 현상액 공급 시스템(100)이 비정상적으로 구동할 때, 예를 들면 현상액 주 공급부(61)를 통하여 현상액은 공급되지만, 제 1 배수 밸브(81), 제 2 배수 밸브(78) 및 제 3 배수 밸브(83) 중에서 적어도 하나의 배수 밸브가 열여 있는 경우 열여진 특정의 배수 밸브와 연결된 배수관(68b)을 통하여 현상액이 누수되는 현상이 발생한다. 종래에는 현상액이 누수되는 것을 현상액 공급 시스템으로서는 감지할 수 없었다. 하지만, 본 발명에서는 누수되는 현상액이 제 4 배수 밸브(59)가 닫혀진 현상액 검출 탱크(55)로 유입되어 채워지고, 유입된 현상액의 부력을 받아 마그네트 블록(52, 53)은 상승하게 된다. 마그네트 블록(52, 53)이 센서 라인(54)의 특정 지점까지 상승한 경우 센서 라인(54)은 마그네트 블록(52, 53)을 감지하여 현상액 검출 시스템(100)에서의 현상액 누수를 감지하게 되며, 이 사실을 전기적 신호를 통하여 현상액의 누수 상태를 작업자에게 알림과 동시에 현상액 공급 시스템(100)의 작동을 정지시킨다. 물론, 현상액 공급 시스템(100)의 작동을 중단시키기 전에 제 1 개폐용 밸브(57)를 닫아 현상액의 추가적인 누수를 막게 된다.
한편, 이와 같은 불량이 발생한 경우 작업자는 현상액 공급 시스템(100)의 배수 밸브(81, 78, 83)를 점검하고, 열려진 배수 밸브를 닫는 작업을 진행한다. 현상액 검출 탱크(55)에 채워진 현상액은 제 4 배수 밸브(59)를 열어 검출 배수관(58)을 통하여 외부로 배수시킨다. 그리고, 현상액 검출 탱크(55) 내에 있던 현상액이 모두 배수되고 난 이후에 제 4 배수 밸브(59)를 닫고 제 1 개폐용 밸브(57)를 열어 현상액을 다시 공급하여 현상액 공급 시스템(100)을 다시 가동시키게 된다.
따라서, 본 발명의 구조를 따르면 현상액 공급 시스템의 오동작 또는 작업자의 실수로 인하여 발생되는 비정상적인 현상액의 누수를 현상액 이상 흐름 검출 시스템으로 감지하여 현상액의 누수를 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 현상액 이상 흐름 검출 시스템을 포함하는 현상액 공급 시스템을 나타내는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 설명 *
50 : 현상액 이상 흐름 검출 시스템
51, 66 : 현상액 검출 센서 55 : 현상액 검출 탱크
57 : 검출 배수부 61 : 현상액 주 공급부
63 : 버퍼 탱크 65 : 유량계
67 : 온조기 69 : 노즐
71, 77 : 여과기 100 : 현상액 공급 시스템

Claims (3)

  1. 현상액 주 공급부에서 공급된 현상액을 보조 탱크를 통하여 노즐로 공급하며, 상기 현상액 주 공급부와 노즐 사이의 현상액을 배수하기 위한 복수의 배수부가 설치된 현상액 공급 시스템의 현상액 이상 흐름 검출 시스템으로,
    상기 복수의 배수부와 연결이 현상액 검출 탱크와;
    상기 현상액 검출 탱크에 설치되어 상기 현상액 검출 탱크로 소정양의 현상액이 채워질 경우 이를 감지하는 현상액 검출 센서; 및
    상기 배수부를 통하여 상기 현상액 검출 탱크로 보내진 현상액을 배수하기 위한 검출 배수부로서, 상기 검출 배수부는 상기 현상액 검출 탱크와 연결된 검출 배수관 및 상기 검출 배수관에 설치된 배수 밸브로 구성된 검출 배수부;를 포함하며,
    상기 배수부를 통하여 정상적으로 배수되는 현상액은 상기 배수 밸브가 열여진 상기 현상액 검출 탱크로 유입되고, 유입된 상기 현상액은 상기 검출 배수관을 통하여 외부로 배수되며, 상기 배수부를 통하여 비정상적으로 배수되는 현상액은 상기 배수 밸브가 닫혀진 상기 현상액 검출 탱크로 보내지고 소정양의 현상액이 상기 현상액 검출 탱크에 채워진 경우 상기 현상액 검출 센서는 이를 감지하는 것을 특징으로 하는 현상액 이상 흐름 검출 시스템.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 현상액 주 공급부와 보조 탱크 사이에 개폐용 밸브가 설치되며, 상기 현상액 검출 센서가 현상액의 이상 흐름 감지시 상기 개폐용 밸브를 닫아 현상액의 추가적인 누수를 막는 것을 특징으로 하는 현상액 이상 흐름 검출 시스템.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 현상액 검출 센서는 마그네트 센서인 것을 특징으로 하는 현상액 이상 흐름 검출 시스템.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0319317A (ja) * 1989-06-16 1991-01-28 Tokyo Electron Ltd 処理装置
KR970023610A (ko) * 1995-10-16 1997-05-30 김광호 반도체소자 제조용 화학용액의 공급장치
KR970052833U (ko) * 1996-02-23 1997-09-08 삼성전자주식회사 반도체 제조 장치
KR19990041379U (ko) * 1998-05-18 1999-12-15 김영환 포토레지스트 공급장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0319317A (ja) * 1989-06-16 1991-01-28 Tokyo Electron Ltd 処理装置
KR970023610A (ko) * 1995-10-16 1997-05-30 김광호 반도체소자 제조용 화학용액의 공급장치
KR970052833U (ko) * 1996-02-23 1997-09-08 삼성전자주식회사 반도체 제조 장치
KR19990041379U (ko) * 1998-05-18 1999-12-15 김영환 포토레지스트 공급장치

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