KR0183838B1 - 반도체 제조 장비의 배기 장치 - Google Patents
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Abstract
버퍼 내에서 배출 가스가 액화되어 고이는 것을 방지하는 배기 장치를 제공한다. 본 발명은 반도체 장치 내에서 유해 가스를 배출하기 위한 배기관과, 상기 배기관에 연결되어 상기 유해 가스를 모으는 버퍼와, 상기 버퍼 내에 모인 가스를 외부의 주배기관으로 배출하기 위하여 상기 버퍼와 상기 주배기관 사이를 연결하는 연결 배기관과, 상기 버퍼 내에서 발생하는 액체를 배수하기 위하여 상기 버퍼에 부착된 배수관을 포함하는 배기 장치이다. 따라서, 본 발명의 배기 장치에서는 종래의 경우에 상기 버퍼에서 상기 연결 배수관이 액체에 의해서 막히는 문제를 방지할 수 있고, 이로 인하여 현상 공정의 불량이 발생하지 않게 된다. 또한, 현상 장치에서 발생하는 유해 가스를 원활히 배출할 수 있기 때문에, 환경 오염을 방지하고 안전도를 높일 수 있다.
Description
제1도는 감광막 현상 장치에서 현상시에 발생하는 가스를 배출하기 위한 종래의 배기 장치를 보여주기 위한 도면이다.
제2도는 감광막 현상 장치에서 현상시에 발생하는 가스를 배출하기 위한 본 발명의 배기 장치를 보여주기 위한 도면이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
21 : 버퍼 23, 25, 27 : 배기관
29 : 연결 배기관 31 : 주배기관
33 : 칸막이 35 : 배수관
37 : 밸브
본 발명은 배기 장치에 관한 것으로, 특히 반도체 제조 장비에서 유해 가스를 원활히 배출하기 위한 배기 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조 공정은 크게 사진 공정, 확산 공정, 박막 공정, 식각 공정 등으로 구분되며, 상기 사진 공정은 감광막 도포 공정, 노광 공정, 현상 공정으로 구분할 수 있다. 반도체 제조 공정 중에서 반도체 기판 상에 소자의 패턴을 형성하기 위해서는 웨이퍼에 도포된 감광막을 정렬 노광하고, 현상하여 패턴을 형성하는 공정이 실시된다.
그리고, 패턴을 형성하기 위한 사진 공정에서 사용되는 여러 종류의 화학 약품이 사용되고, 대부분의 상기 화학 약품들은 유해한 물질들이기 때문에 특별한 취급이 요구된다. 또한, 이때 사용되는 화학 약품들이 절절하게 취급되지 않으면 서로 반응하여 반도체 공정에 오염을 발생하거나 공정 불량을 초래한다.
노광된 감광막을 현상하는 경우에도 감광막 현상 장치에는 현상 후에 남아 있는 현상액의 성분이 웨이퍼를 오염시키거나 공정 불량을 일으키는 것을 방지하기 위하여 별도의 배기관이 연결되어 있다.
이하, 노광된 도포막을 현상하기 위한 감광막 현상 장치에서 사용되는 종래의 배기 장치에 대하여 상세히 설명한다.
제1도는 감광막 현상 장치에서 현상시에 발생하는 가스를 배출하기 위한 종래의 배기 장치를 보여주기 위한 도면이다.
상세하게 설명하면, 노광된 도포막을 현상하는 현상 장치(도면에 나타나지 않음)에서 발생하는 현상액의 가스를 배출하기 위하여 상기 현상 장치에서 버퍼(1)까지 연결된 배출하기 위하여 상기 현상 장치에서 버퍼(1)까지 연결된 배기관(3,5,7)들이 있고, 상시 배출관(3,5,7)을 통하여 상기 버퍼(1)에 모여진 배출 가스를 외부로 배출하기 우하여 주배기관(11)과 상기 버퍼(1) 사이는 연결 배기관(9)을 통하여 이어져 있다.
일반적으로 현상액은 알칼리성이 많기 때문에 상기 주배기관은 알칼리성 주배기관이다.
그런데, 공정의 진행에 따라 상기 배기관을 통하여 버퍼에 모여진 배출 가스는 대부분 연결 배기관을 통하여 주배기관으로 배출되지만, 이중의 일부는 상기 버퍼 내부에 남아서 버퍼 내부에서 붙어서 액화되어 액체 상태로 상기 버퍼 내부에 고이게 된다.
이렇게 상기 버퍼 내부에 액체로 고인 화학 약품이 증가하면 결국은 상기 버퍼 내부에서 상기 연결 배기관의 일부 또는 전부를 차단하게 되어 현상 장치에서 가스의 배출을 막게 된다.
또한, 이로 인하여 현상 공정의 불량을 초래하고, 심한 경우 오염을 유발하게 된다. 또한 라인 내의 환경을 오염시키는 문제까지 발생한다.
그리고, 상기 사진 공정에서 플리이미드를 사용하는 경우가 있는데 이러한 경우에는 상기 문제점들이 더욱 심각해진다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기 문제점을 해결하기 위하여 버퍼내에서 배출 가스가 액화되어 고이는 것을 방지하는 배기 장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 반도체 장치 내에서 유해 가스를 배출하기 위한 배기관; 상기 배기관에 연결되어 상기 유해 가스를 모으는 버퍼; 상기 버퍼 내에 모인 가스를 외부의 주배기관으로 배출하기 위하여 상기 버퍼와 상기 주배기관 사이를 연결하는 연결 배기관; 및 상기 버퍼 내에서 발생하는 액체를 배수하기 위하여 상기 버퍼에 부착된 배수관을 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 장치를 제공한다.
바람직하게는, 상기 배수관에 밸브가 설치되고, 상기 버퍼의 내부를 볼 수 있는 투명창을 상기 버퍼에 포함한다.
또한, 상기 버퍼 내부에서 상기 배수관과 상기 연결 배기관 사이에 경사지게 칸막이를 가진다.
따라서, 본 발명의 배기 장치에서는 종래의 경우에 상기 버퍼에서 상기 연결 배수관이 액체에 의해서 막히는 문제를 방지할 수 있고, 이로 인하여 현상 공정의 불량이 발생하지 않게 된다. 또한, 현상 장치에서 발생하는 유해 가스를 원활히 배출할 수 있게 때문에, 환경 오염을 방지하고 안전도를 높일 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
제2도는 감광막 현상 장치에서 현상시에 발생하는 가스를 배출하기 위한 본 발명의 배기 장치를 보여주기 위한 도면이다.
상세하게 설명하면, 노광된 도포막을 현상하는 현상 장치(도면에 나타나지 않음)에서 발생하는 현상액의 가스를 배출하기 위하여 상기 현상 장치에서 버퍼(21)까지 연결된 배기관(23,25,27)들이 있고, 상기 배기관(23,25,27)을 통하여 상기 버퍼(21)에 모여진 배출 가스를 외부로 배출하기 위하여 주배기관(31)과 상기 버퍼(21) 사이는 연결 배기관(29)을 통하여 이어져 있다. 이때, 일반적으로 현상액은 알칼리성이 많기 때문에 상기 주배기관은 알칼리성 주배기관이다.
그리고, 상기 버퍼(21)의 하부에는 상기 버퍼(21)의 내부에 모이는 액체를 배출하기 위한 배수관(35)이 밸브(37)를 매개로 연결되어 있다. 그리고, 상기 버퍼(21)의 상부에는 상기 버퍼(21)의 내부를 들여다 볼 수 있는 투명창(39)이 형성되어 있고, 상기 배수관(35)과 연결 배기관(29)을 분리하기 위하여 상기 연결 배기관(29)과 배수관(35) 사이의 상기 버퍼(21)내에 경사지게 칸막이(33)를 설치한다.
본 발명의 배기 장치에 의해서 상기 버퍼 내에 배출 가스가 액화되어 액체가 모이면, 상기 배수관을 통하여 상기 버퍼 내에 모이는 액체를 배수할 수 있다.
따라서, 본 발명의 배기 장치에서는 종래의 경우에 상기 버퍼에서 상기 연결 배수관이 액체에 의해서 막히는 문제를 방지할 수 있고, 이로 인하여 현상 공정의 불량이 발생하지 않게 된다. 또한, 현상 장치에서 발생하는 유해 가스를 원활히 배출할 수 있기 때문에, 환경 오염을 방지하고 안전도를 높일 수 있다.
또한, 상기 투명창을 통하여 상기 버퍼 내부를 볼 수 있기 때문에 배기 장치 내의 이상이 발생하는 것을 좀더 용이하게 조사하여 라인 내의 오염을 사전에 방지하여 이로 인한 생산성 감소를 억제한다.
상기 배수관과 상기 버퍼 사이에는 밸브가 장착되어, 예를 들어, 상기 투명창을 이용하여 상기 버퍼 내에 액체가 모이면, 상기 밸브를 열어 액체를 배출하고, 평상시에는 상기 밸브를 차단하여 가스의 배기를 원활히 할 수 있다.
그리고, 상기 연결 배기관과 상기 배수관 사이에 경사지게 형성된 칸막이는 버퍼 내에서 발생하는 액체를 상기 배수관으로 모으는 기능을 가지고, 상기 연결 배기관으로 가스가 원활히 배출되는 것을 돕는 역할을 한다. 따라서, 종래에 비하여 가스의 배기를 원활히 하고, 배기 장치의 유지 보수를 용이하게 한다. 결국의 현상 장치의 생산성을 증가시키는 효과를 가져온다.
이상, 실시예를 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당분야에서 통상의 지식으로 그 변형이나 개량이 가능하다.
Claims (5)
- 반도체 장치 내에서 유해 가스를 배출하기 위한 배기관; 상기 배기관에 연결되어 상기 유해 가스를 모으는 버퍼; 상기 버퍼 내에 모인 가스를 외부의 주배기관으로 배출하기 위하여 상기 버퍼와 상기 주배기관 사이를 연결하는 연결 배기관; 및 상기 버퍼 내에서 발생하는 액체를 배수하기 위하여 상기 버퍼에 부착된 배수관을 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 배수관에 밸브가 설치된 것을 특징으로 하는 배기 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 버퍼의 내부를 볼 수 있는 투명창을 상기 버퍼에 포함하는 것을 특징으로 하는 배기 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 버퍼 내부에서 상기 배수관과 상기 연결 배수관 사이에 칸막이를 가지는 것을 특징으로 하는 배기 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 칸막이는 상기 배수관과 상기 연결 배기관 사이에 경사지게 설치된 것을 특징으로 하는 배기 장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960011616A KR0183838B1 (ko) | 1996-04-17 | 1996-04-17 | 반도체 제조 장비의 배기 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960011616A KR0183838B1 (ko) | 1996-04-17 | 1996-04-17 | 반도체 제조 장비의 배기 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970072068A KR970072068A (ko) | 1997-11-07 |
| KR0183838B1 true KR0183838B1 (ko) | 1999-04-15 |
Family
ID=19455939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960011616A KR0183838B1 (ko) | 1996-04-17 | 1996-04-17 | 반도체 제조 장비의 배기 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0183838B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100816257B1 (ko) * | 2003-12-23 | 2008-03-24 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 열처리 장비의 배기 시스템 |
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1996
- 1996-04-17 KR KR1019960011616A patent/KR0183838B1/ko not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970072068A (ko) | 1997-11-07 |
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