KR200270009Y1 - 트랙장비의 케미컬 드레인 장치 - Google Patents
트랙장비의 케미컬 드레인 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR200270009Y1 KR200270009Y1 KR2020010040911U KR20010040911U KR200270009Y1 KR 200270009 Y1 KR200270009 Y1 KR 200270009Y1 KR 2020010040911 U KR2020010040911 U KR 2020010040911U KR 20010040911 U KR20010040911 U KR 20010040911U KR 200270009 Y1 KR200270009 Y1 KR 200270009Y1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- chemical
- exhaust pipe
- photosensitive agent
- exhaust
- track equipment
- Prior art date
Links
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
본 고안은 감광제 도포 또는 현상 공정에서 케미컬(chemical) 누설로 인한 장비의 오염 및 장비 다운(down)을 방지할 수 있는 트랙(track)장비의 케미컬 드레인(drain) 장치에 관해 개시한다.
개시된 본 고안에서는 웨이퍼에 감광제 도포 또는 현상 공정이 완료된 케미컬이 배기되는 배기관과, 상기 배기관에 형성되어 상기 배기관으로 오버플로우(overfolw)된 케미컬을 쎈씽(sensing)하기 위한 쎈서(sensor)를 구비한 트랙장비의 케미컬 드레인 장치에 있어서, 배기관에 설치되어 케미컬의 배기를 원활하게 하기 위한 트랩(trap)을 포함한다.
Description
본 고안은 웨이퍼 노광용 트랙장비에 관한 것으로, 보다 상세하게는 케미컬 (chemical) 누설로 인한 장비의 오염 및 장비 다운(down)을 방지할 수 있는 트랙장비의 케미컬 드레인 장치에 관한 것이다.
도 1은 종래 기술에 따른 감광제 도포 장치를 나타낸 구성도이다.
먼저, 감광제 도포 장치를 가동시키면, 감광제 수납용기(13)에 연결된 감광제 디스펜스용 펌프(12)가 작동하게 되고, 상기 펌프(12)가 작동함에 따라 감광제 수납용기(13) 내의 감광제는 필터 하우징(14)을 거쳐 캣치컵(catch cup)의 웨이퍼척(16)에 안착된 웨이퍼(17)의 상면에 도포된다.
이때, 도포되는 감광제에 이물질이나 마이크로 버블(micro bubble)이 섞일 경우에는 감광제 도포 불량을 야기하게 되므로, 이를 방지하기 위해 일물 및 버블 등을 제거하는 필터 하우징(14)부의 마이크로 밸브가 동시에 개방된다.
따라서, 감광제 중 일부는 필터 하우징(14)을 통과하여 이물 및 마이크로 버블이 제거된 상태로 웨이퍼(17)에 분사되고, 일부는 필터 하우징(14)부에 연결된 서브 배기관(1) 상에 설치된 마이크로 밸브(18)를 통해 드레인(drain)된다.
이때, 웨이퍼(17) 상면에 분사되는 감광제 중 도포되고 남은 감광제는 캣치컵(15) 하부로 모인 다음, 공정 진행 후에, 메인 드레인 가이드(main drain guide)(19)를 통하여 메인 드레인 탱크(main drain tank)(20)으로 빠져나가게 된다.
한편, 필터 하우징(14)에 연결된 서브 배기관(1)의 마이크로 밸브(18)를 통해 드레인되는 이물이나 마이크로 버블을 포함한 감광제는 1차 집결지 역할을 하는 서브 드레인 가이드(21)(sub drain guide)에 모여진 후, 업다운 드레인 가이드(up/down drain guide)(22)를 통과하여 메인 드레인 탱크(20)으로 배출된다.
도 2 및 도 3은 종래 기술에 따른 현상 장치의 배기 계통도이다.
종래 기술에 따른 현상 장치에는, 도 2에 도시된 바와 같이, 감광제 도포 장치와 마찬가지로, 공정 진행 중에 해당 공정에서 웨이퍼가 적정 압력에서 케미컬과 반응하도록 웨이퍼에 일정 압력의 배기 조건이 부여된다.
상기 압력을 쎈씽하기 위해, 현상 장치의 배기관(34)에 1∼2mm 2개의 배기 쎈씽 홀(sensing hole)로 구성된 쎈서(sensor)(35)를 형성하여 현상액의 배기 상태를 모니터링한다.
상기 쎈서(35)의 쎈씽 홀 간의 압력 차에 의해서 배기값을 메인 콘트롤러로 보내게 된다.
그러나, 종래 기술에서는 트랙 장비 내의 현상 장치에서 케미컬(chemical)이 캐치컵 외부로 넘치게 되면 넘쳐진 케미컬이 배기관으로 끌려 들어가는 현상이 발생된다. 따라서, 상기 케미컬이 쎈서의 쎈씽 홀에 흡입되면서 쎈씽 홀이 막히게 된다. 이에따라, 현상 공정 진행 중 쎈씽되는 배기값은 상, 하한 수치를 초과하게 되어 베기 에러를 일으키게 되며, 그 결과 트랙 장비의 가동을 다운시키고 웨이퍼의 불량을 초래하여 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.
이에 본 고안은 상기 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 감광제 또는 현상액 등의 케미컬을 배기 시, 상기 케미컬이 쎈씽 홀로 흘러들어가는 것을 방지할 수 있는 트랙장비의 케미컬 드레인 장치를 제공함에 그 목적이 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 트랙장비의 감광제 도포 장치를 나타낸 구성도.
도 2 및 도 3은 종래 기술에 따른 트랙장비의 현상 장치의 배기 계통도.
도 4는 본 고안에 따른 트랙장비의 케미컬 드레인 장치를 나타낸 배기 계통도.
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안에서는, 웨이퍼 상에 감광제 도포 또는 현상 공정이 완료된 감광제 또는 현상액 등의 케미컬이 배기되는 배기관과, 배기관에 형성되어 배기관으로 오버플로우된 케미컬을 쎈씽하기 위한 쎈서를 구비한 트랙장비의 케미컬 드레인 장치에 있어서, 배기관에 설치되어 케미컬의 배기를 원활하게 하기 위한 트랩을 포함한 것을 특징으로 한다.
이하, 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 4는 본 고안에 따른 트랙장비의 케미컬 드레인 장치를 나타낸 배기 계통도이다.
본 고안의 트랙장비의 케미컬 드레인 장치는, 도 4에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 상에 감광제 도포 또는 현상 공정이 완료된 감광제 또는 현상액 등의 케미컬이 배기되는 제 1배기관(100-1)과, 오버플로우(overflow)된 케미컬을 쎈씽하기 위한 쎈서(135)가 설치된 제 2배기관(100-2)과, 제 1배기관(100-1)과 제 2배기관(100-2) 사이에 형성되어 제 1배기관(100-1) 내의 케미컬의 흐름을 원활하게 하기 위한 트랩(trap)(120)으로 구성된다.
상기 구성을 가진 본 고안의 트랙장비의 케미컬 드레인 장치에 있어서, 감광제 도포 장치에서는 먼저, 호스트 컴퓨터에 프로그램을 입력한 후, 장비를 가동시키면, 감광제 수납용기에 연결된 디스펜스용 펌프가 작동하게 되고, 상기 펌프가 작동함에 따라 감광제 수납용기 내의 감광제는 필터 하우징을 거쳐서 코터 컵의 웨이퍼 척에 안착된 웨이퍼 상면에 도포된다.
이때, 도포되는 감광제에 이물질이나 마이크로 버블(micro bubble)이 섞일 경우에는 감광제 도포 불량을 야기하게 되므로, 이를 방지하기 위해 일물 및 버블 등을 제거하는 필터 하우징부의 마이크로 밸브가 동시에 개방된다.
따라서, 감광제 중 일부는 필터 하우징을 통과하여 이물 및 마이크로 버블이 제거된 상태로 웨이퍼에 분사되고, 일부는 필터 하우징부에 연결된 배기관 상에 설치된 마이크로 밸브를 통해 드레인된다.
이때, 서브 배기관에 트랩을 설치하고, 상기 트랩을 이용하여 감광제의 원활한 배출을 실시한다.
한편, 필터 하우징에 연결된 서브 배기관의 마이크로 밸브를 통해 드레인되는 이물이나 마이크로 버블을 포함한 감광제는 1차 집결지 역할을 하는 서브 드레인 가이드에 모여진 후, 업다운 드레인 가이드를 통과하여 메인 드레인 탱크로 배출된다.
상기 구성을 가진 본 고안의 트랙장비의 케미컬 드레인 장치에서는 상기 감광제 도포 장치 뿐만 아니라, 현상 장치에도 동일하게 이용 가능하며, 캐치컵(미도시)의 하부에 90도 경사를 두고 쎈서(135)의 장착 부위 바로 이전에 케미컬 유입 시 트랩(120)에서 제 2배기관(100-2)을 설치하여 케미컬 유입 시 바로 드레인된다.
상기 트랩(120) 설치로 인해 케미컬이 제 2배기관(100-1)으로 오버플로우되는 것을 방지할 수 있어 케미컬의 배기가 안정적으로 제어된다.
이상에서와 같이, 본 고안의 장치에서는 트랩 설치로 인해 배기관으로 케미컬이 유입되는 것을 방지함으로써 배기가 안정적으로 제어된다.
또한, 배기관으로 케미컬이 유입되지 않음에 따라, 쎈서의 불량율이 현저하게 줄어들고 쎈서의 수명이 연장되어 트랙 장비의 가동율이 향상된다.
기타, 본 고안은 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.
Claims (1)
- 웨이퍼 상에 감광제 도포 또는 현상 공정이 완료된 케미컬이 배기되는 배기관과, 상기 배기관에 형성되어 상기 배기관으로 오버플러우된 케미컬을 쎈씽하기 위한 쎈서를 구비한 트랙장비의 케미컬 드레인 장치에 있어서,상기 배기관에 설치되어 상기 케미컬의 배기를 원활하게 하기 위한 트랩을 포함한 것을 특징으로 하는 트랙장비의 케미컬 드레인 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2020010040911U KR200270009Y1 (ko) | 2001-12-29 | 2001-12-29 | 트랙장비의 케미컬 드레인 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2020010040911U KR200270009Y1 (ko) | 2001-12-29 | 2001-12-29 | 트랙장비의 케미컬 드레인 장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR200270009Y1 true KR200270009Y1 (ko) | 2002-03-25 |
Family
ID=73115386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2020010040911U KR200270009Y1 (ko) | 2001-12-29 | 2001-12-29 | 트랙장비의 케미컬 드레인 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR200270009Y1 (ko) |
-
2001
- 2001-12-29 KR KR2020010040911U patent/KR200270009Y1/ko not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4298384B2 (ja) | 液供給装置および基板処理装置 | |
US20090239384A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
KR200270009Y1 (ko) | 트랙장비의 케미컬 드레인 장치 | |
JP2015020100A (ja) | レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法 | |
KR100780936B1 (ko) | 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법 | |
JP2007035733A (ja) | 薬液処理装置 | |
JPH0770507B2 (ja) | 半導体ウエハ用洗浄装置 | |
KR100914533B1 (ko) | 약액 공급 장치 | |
US6872014B1 (en) | Method for developing a photoresist pattern | |
TW202222418A (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
KR100598914B1 (ko) | 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 | |
JP4245200B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR100666467B1 (ko) | 버블 제거 장치를 포함하는 코터 설비 | |
KR100737752B1 (ko) | 처리액 공급장치 및 이를 이용한 처리액 공급방법 | |
JP2001028356A (ja) | 洗浄装置 | |
KR200247991Y1 (ko) | 시너 라인의 버블 자동 배출장치 | |
JP2994288B2 (ja) | 薬液用フィルターの処理方法およびその装置 | |
KR20030008448A (ko) | 보조 싱크대를 갖는 습식 세정 장치의 배쓰 유닛 | |
JP2000021839A (ja) | ウエハ洗浄装置及びウエハの洗浄方法 | |
KR200181367Y1 (ko) | 웨이퍼 노광용 트랙장비의 감광제 드레인 장치 | |
KR20030037908A (ko) | 반도체소자 제조용 포토레지스트 현상장치 | |
KR20060026365A (ko) | 반도체 제조 설비의 약액 공급 장치 | |
KR200373861Y1 (ko) | 반도체 웨이퍼 식각 공정의 과다 식각을 방지하기 위한 약액조장치 | |
KR20000020878A (ko) | 반도체장치 제조설비용 약액배출장치 | |
KR20010038435A (ko) | 반도체 제조를 위한 스피너 설비 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
REGI | Registration of establishment | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20080103 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |