KR100495163B1

KR100495163B1 - 처리 시스템

Info

Publication number: KR100495163B1
Application number: KR1019990047408A
Authority: KR
Inventors: 오타요시하루
Original assignee: 동경 엘렉트론 주식회사
Priority date: 1998-10-30
Filing date: 1999-10-29
Publication date: 2005-06-14
Also published as: TW425598B; KR20000029409A

Abstract

피처리기판에 복수종류의 처리를 처리순으로 실시하기 위한 처리 시스템으로서, 병설된 직선형상의 복수의 반송로(7∼12)와, 상기 복수의 반송로(7∼12)의 각 반송로를 사이에 두고, 처리순으로 나열되고, 상기 복수종류의 처리의 각 처리를 하기 위한 복수의 처리부(13∼18)와, 상기 반송로(7∼12)상을 이동가능하게 배치되고, 상기 처리부(13∼18)사이에서 피처리기판의 주고 받음을 하는 반송장치(19)를 가지며, 상기 각 처리부(13∼18)는, 상기 각 반송로(7∼12)에 따라 동일한 처리를 하는 복수의 처리유니트(SCR, HP, COL, CT, HP, COL)를 갖는 것이다.

Description

처리 시스템{PROCESSING SYSTEM}

본 발명은, 예컨대 액정디스플레이(Liquid Crystal Display : LCD)에 사용되는 유리기판(glass substrate)상에 레지스트액(Photo-resist solution)을 도포하여 현상처리를 실시하기 위한 처리 시스템에 관한 것이다.

예컨대 LCD의 제조공정에 있어서는, LCD용 유리기판상에 ITO(Indium Tin Oxide)의 박막이나 전극패턴(electrode pattern)을 형성하기 위해서, 반도체 디바이스(semiconductor device)의 제조에 사용되는 것으로 같은 포토리소그래피 기술(photo-lithography technique)이 이용된다. 포토리소그래피 기술로서는, 레지스트액을 유리기판상에 도포하여 이것을 노광하고 그 후 현상처리한다.

예컨대 레지스트액을 유리기판에 도포하는 시스템에서는, 우선 세정장치에 의해 유리기판에 대하여 스크러버(scrubber)세정을 하고, 가열장치에 의해 가열건조한 후에 냉각장치에 의해 냉각하여, 레지스트액도포장치에 의해 레지스트액을 도포한다. 그리고 가열장치에 의해 포스트베이크(post- baking)를 한 후에 냉각장치에 의해 냉각하고 있다.

이러한 시스템에서는, 예컨대 도 7에 나타낸 바와 같이 반송장치(101)가 주행하는 반송로(102)에 따라 냉각장치(103), 레지스트액 도포장치(104), 가열장치(105)등이 배치되어 있다.

그리고 예컨대 레지스트액 도포장치(104)를 중심으로 생각하면, 냉각장치(103)로부터 반송로(102)를 통해 레지스트액 도포장치(104)로 유리기판(G)이 반송되고(동도면①의 공정), 레지스트액이 도포된다. 그 후, 이 유리기판(G)은 반송로(102)를 통해 레지스트액 도포장치(104)로부터 가열장치(105)에 반송된다(동도면②의 공정).

그러나 이러한 시스템에서는 1개의 반송장치(101)가 레지스트액 도포장치(104)등의 1개의 처리부에 대하여 반송과 반출의 두가지 공정(도 7①②)을 담당하는 셈이 되기 때문에, 시스템전체의 처리능력을 향상시키기 힘들다는 과제가 있었다.

본 발명은 상기와 같은 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 시스템 전체의 처리능력의 향상을 도모할 수 있는 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.

또한 본 발명의 별도의 목적은, 시스템의 처리능력을 단계적으로 확장할 수가 있는 처리 시스템을 제공하는 것에 있다.

이러한 과제를 해결하기 위해서 본 발명은 피처리기판에 복수종류의 처리를 차례로 실시하기 위한 처리 시스템으로서, 피처리기판이 반입되는 반입부와, 피처리기판이 반출되는 반출부와, 상기 반입부에서 상기 반출부까지의 사이에 설치되고, 이차원 평면시야에 있어서 실질적으로 평행하게 배열된 직선형상의 복수의 반송로와, 상기 반송로의 상호간에 각각 설치되고, 이차원평면시야에 있어서 상기 복수종류의 처리순서로 나열되며, 피처리기판에 대하여 동일의 처리를 행하는 복수의 처리유니트를 각각 가지는 복수의 처리부와, 상기 복수의 처리유니트는 이차원평면시야에 있어서 상기 반송로를 따라 나열되어 있는 것과, 상기 반송로중 하나의 반송로를 따라 이동가능하게 설치되고, 상기 반입부와 상기 처리부중 하나와 사이에서 피처리기판을 주고받음 반송하는 제1 반송장치와, 상기 반송로중 하나의 반송로를 따라 이동가능하게 설치되고, 상기 처리부중 2개의 사이에서 피처리기판을 주고받음 반송하는 제2 반송장치와, 상기 반송로중 하나의 반송로를 따라 이동가능하게 설치되고, 상기 반출부와 상기 처리부중 하나와의 사이에서 피처리기판을 주고받음 반송하는 제3 반송장치를 구비하며, 상기 제1, 제2 및 제3 반송장치는, 상기 복수종류의 처리가 차례로 이루어지도록 상기 반입부측에서 상기 반출부측을 향하여 피처리기판을 항상 순서대로 반송하는 것을 특징으로 하는 처리 시스템을 제공하는 것이다.

본 발명의 1의 실시형태에 의하면, 각 처리부에 설치하는 처리유니트의 대수는 그 처리유니트의 처리시간의 길이에 따라서 결정된다. 이 경우, 각 처리부에 설정된 처리유니트의 대수는 처리유니트마다의 처리시간을 그 처리유니트의 대수로 나눈 시간이, 모든 처리부에서 대략 같게 되도록 설정되는 것이 바람직하다. 또한 각 처리부에 설정된 처리유니트의 대수는, 처리유니트마다의 처리시간을 그 처리유니트의 대수로 나눈 시간이, 상기 반송장치에 의해 반송시간에 대략 같게 되도록 설정되어 있어도 좋다.

또한 본 발명의 1의 실시형태에 의하면, 이 시스템은 또한 전처리부의 처리유니트로부터 피처리기판을 반송하는 다음 처리부의 처리유니트를 선택하기 위한 선택룰을 격납하는 선택룰격납부와, 상기 선택룰에 따라서 상기 반송장치를 제어하여 피처리기판을 전의 처리부의 처리유니트로부터 다음 처리부의 처리유니트로 반송시키는 제어장치를 갖는 것이 바람직하다.

이 경우, 상기 선택룰은 복수의 조건을 포함하고, 적어도 상기 반송장치의 이동거리가 최단이라는 조건을 포함하는 것이 바람직하다. 또한 상기 선택룰은, 복수의 조건을 포함하여 적어도 상기 반송장치의 이동시간이 최단이라는 조건을 포함하는 것이어도 좋다.

또한 본 발명의 1의 실시형태에 의하면, 상기 각 처리부의 각 처리유니트내에 피처리기판이 존재하는가를 판단하는 판단수단을 가지며, 상기 제어장치는, 이 판단수단에 의한 판단결과를 상기 선택룰에 적용하는 것으로 피처리체를 반송하는 처리유니트를 선택하는 것이 바람직하다.

<실시형태>

이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 근거하여 설명한다.

도 1은 본 발명의 1실시형태에 관한 레지스트액 도포시스템의 평면도이다.

도 1에 나타낸 바와 같이 레지스트액 도포시스템(1)의 전방(지면좌측)에는, 유리기판(G)을 레지스트액 도포시스템(1)에 반입하는 반입부(2)가 설치된다. 또한 이 레지스트액 도포시스템(1)의 후방(지면우측)에는 유리기판(G)을 레지스트액 도포시스템(1)으로부터 반출하는 반출부(3)가 설치된다.

반입부(2)에는, 유리기판(G)을 예컨대 25장씩 수납한 카세트(C) (cassette)를 소정위치에 정렬시켜 재치시키는 카세트재치대(4)가 설치된다. 또한 반출부(3)에는, 유리기판(G)을 예컨대 25장씩 수납되는 카세트(C)를 소정위치에 정렬시켜 재치시키는 카세트재치대(5)가 설치된다.

반입부(2)와 반출부(3)와의 사이에는, 직선형상의 반송로(6∼12)가 복수, 여기서는 7개가 거의 평행으로 나열되어 있다. 그리고, 각 반송로간(6∼12)에는, 처리부(13∼18)가 배치되어 있다. 처리부(13∼18)는 유리기판(G)에 대하여 각각 다른 처리를 실시하는 것이다.

보다 구체적으로는, 예컨대 이 레지스트액 도포시스템(1)으로서는, 스크러버세정→가열건조→냉각→레지스트액 도포→포스트베이크→냉각의 순서로 처리가 행하여진다. 따라서 제1열째의 반송로(6)와 제2열째의 반송로(7)와의 사이에는, 복수의 세정처리유니트(SCR)를 갖는 세정처리부(13)가 배치되고, 제2열째의 반송로(7)와 제3열째의 반송로(8)와의 사이에는 복수의 가열처리유니트(HP)를 가지는 제 1 가열처리부(14)가 배치되어, 제3열째의 반송로(8)와 제4열째의 반송로(9)와의 사이에는 복수의 냉각처리유니트(COL)를 갖는 제 1 냉각처리장치(15)가 배치되고, 제4열째의 반송로(9)와 제5열째의 반송로(10)와의 사이에는 복수의 레지스트액 도포유니트(CT)를 갖는 레지스트액 도포처리부(16)가 배치되어, 제5열째의 반송로(10)와 제6열째의 반송로(11)와의 사이에는 복수의 가열유니트(HP)를 갖는 제 2 가열처리부(17)가 배치되어, 제6열째의 반송로(11)와 제7열째의 반송로(12)와의 사이에는 복수의 냉각유니트(COL)를 갖는 제 2 냉각처리부(18)가 배치되어 있다.

여기서 상기 세정처리부(13)에 있어서의 세정유니트(SCR)는, 컵(cup)안에서 유리기판(G)을 회전시키면서 이 유리기판(G) 상을 스크러버세정하는 것이다. 상기 제 1 가열처리부(14)에 있어서의 가열유니트(HP)는, 세정후의 유리기판(G)을 가열건조하는 것이다. 상기 제 1 냉각처리부(15)에 있어서의 냉각유니트(COL)는 가열건조된 유리기판(G)을 냉각하는 것이다. 레지스트액 도포유니트(CT)는, 컵 안에서 냉각된 유리기판(G)을 회전시키면서 이 유리기판(G) 상에 레지스트액을 공급하는 것이다. 상기 제 2 가열처리부(17)에 있어서의 가열유니트(HP)는 레지스트액이 도포된 유리기판(G)을 포스트베이크하는 것이다. 상기 제 2 냉각처리부(18)에 있어서의 냉각유니트(COL)는, 포스트베이크된 유리기판(G)을 냉각하는 것이다.

이들 처리부(13∼18)중, 컵계의 처리부인 세정처리부(13) 및 레지스트액 도포처리부(16)와 비교하여, 오픈(open)계 처리부인 제 1, 제 2 가열처리부(14,17) 제 1, 제 2 냉각처리부(15,18)는 높이가 낮은 점에서, 다단, 예컨대 상하 2단으로 구성되어 있다. 이에 따라, 반송로의 단축화를 도모할 수 있고, 점유공간이 작게 되도록 하고 있다.

또한 도 2에 나타낸 바와 같이, 각 처리부(13∼18)의 일측에는, 유리기판(G)을 반입하기 위한 반입구(31)가 설치되고 각 처리부(13∼18)의 다른 측에는, 유리기판(G)을 반출하기 위한 반출구(32)가 설치된다.

각 반송로(6∼12)에는, 반송장치(19)가 이동가능하게 배치되어 있다. 이 반송장치(19)는 도 3에 나타낸 바와 같이 반송로(6∼12)를 따라 이동가능한 본체(20)와, 장치본체(20)에 대하여 상하이동 및 선회운동이 가능한 베이스부재(21)(base member)와, 베이스부재(21)상을 수평방향을 따라서 이동가능한 기판지지부재(22)를 갖고 있다. 그리고, 베이스부재(21)의 중앙부와 장치본체(20)가 연결부(23)에 의해 연결되어 있다. 본체(20)에 내장된 도시하지 않은 모터(motor)에 의해 연결부(23)를 상하이동 또는 회전시킴으로써 베이스부재(21)가 상하이동 또는 선회운동된다. 이와 같은 베이스부재(21)의 상하이동 및 선회운동, 및 기판지지부재(22)의 수평이동에 의해 유리기판(G)의 반송이 행하여진다. 참조부호 24는, 기판지지부재(22)를 가이드(guiding)하는 가이드레일(guide-rail)이다.

여기서 반송장치(19)의 1동작이 예컨대 10초, 세정처리부(13)의 1동작이 120초, 제 1 가열처리부(14)의 1동작이 180초, 제 1 냉각처리부(15)의 1동작이 120초, 레지스트액 도포처리부(16)의 1동작이 60초, 제 2 가열처리부(17)의 1동작이 180초, 제 2 냉각처리부(18)의 1동작이 180초로 한다. 그리고 본 실시형태의 시스템에서는, 각 처리부(13∼18)의 처리시간(1동작)을 해당 처리부에 설정된 각 처리유니트의 대수로 나눈 값이, 1대의 반송장치(19)에 의한 반송시간(1동작)에 거의 같아지도록 각 처리유니트의 대수를 정하고 있다.

구체적으로는, 세정처리부(13)는 12대의 세정처리유니트(SCR)를 가지며, 제 1 가열처리부(14)는 18대의 가열처리유니트(HP)를 가지며, 제 1 냉각처리부(15)는 12대의 냉각처리유니트(COL)를 가지며, 레지스트액 도포처리부는 6대의 레지스트액 도포유니트(CT)를 가지며, 제 2 가열처리부(17)는 18대의 가열처리유니트(HP)를 가지며, 제 2 냉각처리부(18)는 18대의 냉각처리유니트(COL)를 갖고 있다. 이에 따라, 시스템전체의 1동작은 10초가 된다. 그러나, 이 대수는 시스템을 최적화한 경우이며, 시스템 도입시에는 필요한 대수의 처리유니트를 갖는 각 처리장치(13∼18)를 설치한 간격, 필요에 따라 단계적으로 대수를 늘리도록 하더라도 물론 상관없다. 이에 따라, 단계적인 투자, 또한 프로세스성능(process performance)에 맞는 최적의 투자가 가능해진다.

다음에 이와 같이 구성된 처리 시스템(1)의 동작에 관해서 도 4를 참조하면서 설명한다.

반입부(2)의 카세트(C)에 수납된 유리기판(G)은, 제1열째의 반송로(6)를 통해 세정처리부(13)의 세정처리유니트(SCR)에 반송된다(도 4①의 공정). 세정처리유니트(SCR)로 세정이 행하여진 유리기판(G)은, 제2열째의 반송로(7)를 통해 제 1 가열처리부(14)의 가열처리유니트(HP)로 반송된다(도 4②의 공정). 가열처리유니트(HP)(14)로 가열건조된 유리기판(G)은 제3열째의 반송로(8)를 통해 제 1 냉각처리부(15)의 냉각처리유니트(COL)(15)에 반송된다(도 4③). 공정하여 냉각처리유니트(COL)(15)로 냉각된 유리기판(G)은 반송 제4열째의 반송로(9)를 통해 레지스트액 도포처리부(16)의 레지스트도포처리유니트(CT)에 반송된다(도 4④의 공정). 레지스트액 도포처리유니트(CT)로 레지스트액이 도포된 유리기판(G)은, 제5열째의 반송로(10)를 통해 제 2 가열처리부(17)의 가열처리유니트(HP)로 반송된다(도 4⑤의 공정). 가열처리유니트(HP)로 포스트베이크된 유리기판(G)은, 제6열째의 반송로(11)를 통해 제 2 냉각처리부(18)의 냉각처리유니트(COD)(18)로 반송된다(도 4⑥의 공정). 그리고 이 냉각처리유니트(COL)(18)로 냉각된 유리기판(G)은, 제7열째의 반송로(12)를 통해 반출부(3)로 반송되고(도 4⑦의 공정), 반출부(3)의 카세트(C)로 수납된다. 또한 반출부(3)의 카세트(C)는, 유리기판(G)이 수용되면, 자주반송장치(AGV)에 의해 노광장치로 반송된다.

다음에 이 처리 시스템(1)의 제어계통에 관해서 설명한다.

상기 처리 시스템의 경우, 각 처리부(13∼18)가 각각 복수의 처리유니트를 갖지만, 현실에는 어떤 처리유니트를 사용하여 처리를 하는지가 중요하게 된다. 따라서 이 장치에서는 도 6에 나타내는 제어계통을 갖는다.

이 제어계통은, 중앙제어장치(40)와, 각 처리부(13∼18)에 설정되어 각 처리부(13∼18)가 비어 있는 처리유니트를 검출하기 위한 센서(41a∼41f)와, 처리유니트의 선택룰을 받아들이는 처리유니트선택룰격납부(42)와, 상기 중앙제어장치(40)에 설정되어 상기 유니트선택룰과 상기 센서(41)에 의한 검출결과에 따라서 다음 처리부(13∼18)에 있어서 처리를 하는 처리유니트를 선택하는 처리유니트 선택부(43)와, 이 처리유니트선택부(43)에 의한 결정에 따라서 상기 각 처리부(13∼18)사이의 각 반송로(7∼12)에 배치되는 반송장치(19)를 제어하는 반송장치제어부(44)로 이루어진다.

상기 선택룰격납부(42)에 격납된 처리유니트의 선택룰은, 예컨대 전처리유니트로부터 가장 가까운(혹은 반송시간이 가장 짧은) 처리유니트가 선택되고, 또한 모든 처리유니트가 빈틈없이 사용되도록 결정된다. 이와 같은 선택룰의 예로서는:

①세정처리부(1)에 있어서는, 지면위쪽의 세정처리유니트(SCR)에서 지면아래쪽을 향하여 순차로 사용하여 나아가고, 제일 아래쪽의 세정처리유니트(SCR)를 사용한 후는 다시 제일 위쪽의 처리유니트(SCR)를 사용하기 시작한다;

②다음 처리부(14∼18)의 처리유니트를 선택하는 데에 있어서는, 전의 처리부의 처리유니트로부터 가장 가까운 처리유니트를 선택하도록 한다;

③상기 ②에 있어서, 같은 거리의 처리유니트가 복수개 있는 경우에는, 지면 위쪽에 위치하는 처리유니트를 우선시킨다;

④상기 센서(41)에 따라서 에러라고 판단된 처리유니트는 선택하지 않는다;

라는 룰을 들 수 있다.

또, 상기 센서(41a∼41f)는, 각 처리부(13∼18)의 각 처리유니트내에 설치되고 그 유니트안에 기판(G)이 수용되어 있는 가를 판단하는 것이면 좋다. 또한, 센서대신에 각 처리유니트내의 기판유지장치(G)의 동작신호를 사용하여 각 유니트안에 기판(G)이 존재하는지를 판단하도록 하여도 좋다.

이와 같이 본 실시형태의 처리 시스템(1)으로서는, 각 처리부(13∼18)에의 유리기판(G)의 반입과 처리부(13∼18)부터의 유리기판(G)의 반출을 각각 다른 반송장치(19)에 의해 행할 수 있고, 또한 도 4의 ①∼⑦의 공정과 같이 유리기판(G)이 처리순으로 나열된 처리부(13∼18)에 따라 한 방향으로 반송·처리되어 가기 때문에, 반송장치(19)의 부하를 경감할 수 있다. 그리고 통상, 시스템의 택트(1동작)는 반송장치의 택트에 맞추어진 속도이기때문에, 이와 같이 반송장치의 부하를 경감함으로써 시스템전체의 처리능력의 향상을 도모할 수 있다.

또, 본 발명은 상술한 실시형태에는 한정되지 않고, 그 기술사상의 범위 내에서 여러가지 변형이 가능하다.

예컨대, 상술한 실시형태에서는, 레지스트액 도포시스템에 본 발명을 적용한 것이었지만, 다른 시스템, 예컨대 현상처리를 하는 처리 시스템 등에도 본 발명을 적용할 수 있다.

또한, 도 6에 나타낸 바와 같이 노광장치(51)의 1측에 유리기판(G)을 반입하기 위한 반입구(52)를 설치하고, 다른 측에 유리기판(G)을 반출하기 위한 반출구(53)를 설치하고, 본 발명을 적용한 레지스트액 도포시스템(54)을 노광장치(51)의 반입구(52)에 접속하고, 본 발명을 적용한 현상처리 시스템(55)을 노광장치(51)의 반출구(52)에 접속하여, 레지스트액 도포→노광처리→현상처리를 일관해서 행하도록 구성하여도 좋다.

이러한 구성에 의하면, 처리부로의 피처리체의 반입과 처리부로부터의 피처리체의 반출을 각각 별도의 반송수단에 의해 행할 수 있고, 또한 피처리체가 순서대로 나열된 처리부에 따라 한 방향으로 반송·처리되기 때문에 반송수단의 부하를 경감할 수 있고, 이 결과 시스템 전체의 처리능력의 향상을 도모할 수 있다.

또한 본 발명은, LCD의 유리기판(G) 에 대한 처리 시스템을 예로 들어 설명하였는데, 반도체웨이퍼(semiconductor wafer) 등의 다른 기판을 처리하는 시스템에도 당연히 적용할 수 있다.

도 1은 본 발명의 한 실시형태에 관한 레지스트액 도포시스템(resist coating system)의 평면도,

도 2는 도 1에 나타낸 처리부의 구성을 나타내는 사시도,

도 3은 반송장치의 구성을 나타내는 사시도,

도 4는 도 1에 나타낸 레지스트액도포시스템의 처리의 흐름을 도시한 도면,

도 5는 도 1에 나타낸 레지스트액도포시스템의 제어계통을 나타내는 블록도,

도 6은 본 발명의 다른 실시형태에 관한 처리 시스템의 평면도,

도 7은 종래의 레지스트액 도포시스템의 설명도이다.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1 : 레지스트액 도포시스템 2 : 반입부

3 : 반출부 4, 5 : 카세트재치대

6∼12 : 반송로 13 : 세정처리부

14 : 제 1 가열처리부 15 : 제 1 냉각처리부

16 : 레지스트액 도포처리부 17 : 제 2 가열처리부

18 : 제 2 냉각처리부 19 : 반송장치

20 : 장치본체 21 : 베이스부재

22 : 기판지지부재 23 : 연결부

24 : 가이드레일 31 : 반입구

32 : 반출구 40 : 중앙제어장치

41 : 센서 42 : 처리유니트룰격납부

43 : 처리유니트선택부 44 : 반송장치제어부

51 : 노광장치 52 : 반입구

53 : 반출구 54 : 레지스트액 도포시스템

Claims

피처리기판에 복수종류의 처리를 차례로 실시하기 위한 처리 시스템으로서,

피처리기판이 반입되는 반입부와,

피처리기판이 반출되는 반출부와,

상기 반입부에서 상기 반출부까지의 사이에 설치되고, 이차원 평면시야에 있어서 실질적으로 평행하게 배열된 직선형상의 복수의 반송로와,

상기 반송로의 상호간에 각각 설치되고, 이차원평면시야에 있어서 상기 복수종류의 처리순서로 나열되며, 피처리기판에 대하여 동일의 처리를 행하는 복수의 처리유니트를 각각 가지는 복수의 처리부와,

상기 복수의 처리유니트는 이차원평면시야에 있어서 상기 반송로를 따라 나열되어 있는 것과,

상기 반송로중 하나의 반송로를 따라 이동가능하게 설치되고, 상기 반입부와 상기 처리부중 하나와 사이에서 피처리기판을 주고받음 반송하는 제1 반송장치와,

상기 반송로중 하나의 반송로를 따라 이동가능하게 설치되고, 상기 처리부중 2개의 사이에서 피처리기판을 주고받음 반송하는 제2 반송장치와,

상기 반송로중 하나의 반송로를 따라 이동가능하게 설치되고, 상기 반출부와 상기 처리부중 하나와의 사이에서 피처리기판을 주고받음 반송하는 제3 반송장치를 구비하며,

상기 제1, 제2 및 제3 반송장치는, 상기 복수종류의 처리가 차례로 이루어지도록 상기 반입부측에서 상기 반출부측을 향하여 피처리기판을 항상 순서대로 반송하는 것을 특징으로 하는 처리 시스템.
제 1 항에 있어서, 각 처리부에 설치하는 처리유니트의 대수는, 그 처리유니트의 처리시간의 길이에 따라서 결정되는 것을 특징으로 하는 처리 시스템.
제 2 항에 있어서, 각 처리부에 설정된 처리유니트의 대수는, 처리유니트마다의 처리시간을 그 처리유니트의 대수로 나눈 시간이 모든 처리부에서 대략 같게 되도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 처리 시스템.
제 2 항에 있어서, 각 처리부에 설정된 처리유니트의 대수는, 처리유니트마다의 처리시간을 그 처리유니트의 대수로 나눈 시간이, 상기 반송장치에 의해 반송시간에 대략 같게 되도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 처리 시스템.
제 1 항에 있어서,

전처리부의 처리유니트로부터 피처리기판을 반송하는 다음 처리부의 처리유니트를 선택하기 위한 선택룰을 받아들이는 선택룰격납부와,

상기 선택룰에 따라서 상기 반송장치를 제어하고, 피처리기판을 전처리부의 처리유니트로부터 다음 처리부의 처리유니트에 반송시키는 제어장치를 더욱 갖는 것을 특징으로 하는 처리 시스템.
제 5 항에 있어서, 상기 선택룰은, 복수의 조건을 포함하고, 적어도 상기 반송장치의 이동거리가 최단이라는 조건을 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 시스템.
제 5 항에 있어서, 상기 선택룰은, 복수의 조건을 포함하고, 적어도, 상기 반송장치의 이동시간이 최단이라는 조건을 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 시스템.
제 5 항에 있어서, 상기 각 처리부의 각 처리유니트안에 피처리기판이 존재하는가를 판단하는 판단수단을 가지며, 상기 제어장치는, 이 판단수단에 의한 판단결과를 상기 선택룰에 적용하는 것으로 피처리체를 반송하는 처리유니트를 선택하는 것을 특징으로 하는 처리 시스템.
제 1 항에 있어서, 노광장치의 반입구측에 설치되고, 적어도 레지스트액도포유니트를 가지는 제1 처리시스템과,

노광장치의 반출구측에 설치되고, 적어도 현상처리유니트를 가지는 제2 처리시스템을 구비하는 것을 특징으로 하는 처리시스템.