KR0149167B1 - 광학적 디스크기판, 광학적 정보기록매체 및 그 광학적 디스크 기판의 제조방법 및 장치 - Google Patents

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Description

광학적 디스크 기판, 광학적 정보기록매체 및 그 광학적 디스크 기판의 제조방법 및 장치

본 발명은 이물질의 양을 감소시킨 광학적 디스크 기판, 광학적 정보기록매체 및 그 광학적 디스크 기판의 제조에 적합한 사출성형방법 및 장치에 관한 것이다.

오디오 디스크, 레이져 디스크, 광 디스크 메모리 혹은 광자기 디스크등의 레이져 광을 이용해서 정보의 재생 또는 기록을 행하는 광학적 기록매체에 있어서는 폴리 카보네이트, 폴리 메타아크릴산 메틸 또는 유리등으로 된 투명기판, 즉 광학적 디스크 기판중에 포함된 이물질(먼지와 탄화물등)이 정보의 기록 또는 재생의 신뢰성에 커다란 영향을 준다.

그런데 종래는 원료중의 이물질을 원료의 정제과정과 조립과정등에 있어서 필터에서 여과하는 등 이물질의 감소화를 꾀하고 있는데, 예를들면 특개소 61-90345호 또는 특개소 63-91231호에 나타낸 바와같은 기술이 제안되고 있다.

이중에 특개소 61-90345호에는 광학적 디스크용기에 있어서, 입자지름 0.5μm 이상 크기의 이물질의 양 1×10⁵개/g 이하로 하고 또한 이 조건을 만족시키기 위해서 모노머등의 사용원료중의 이물질을 증류 및 여과시켜 제거하는 동시에 제조설비의 세정 및 제조과정에 따른 이물질의 혼입을 방지할 필요가 있다고 개시되어 있다.

또 특개소 63-91231호에는 광학소자에 있어서 입자지름 1μm 이상 이물질의 양을 10000개/g 이하로 하고 또 이 조건을 만족시키기 위하여 유기용매로 용해시킨 용액을 여과해서 이물질을 제거하기도 하고 용융상태에 있을때에 소결 금속 필터를 통하여 이물질 미립자를 제거한 수지조성물로 광학소자를 형성하는 기술이 기재되어 있다.

전술한 종래기술에는 0.5μm 또는 1μm 이상의 이물질이 원료 1g에 대해서 차지하는 개수가 기록재생 특성의 성능 예를들면 에러율(비트에러율:BER)에 관계된다는 것이 나타나 있다.

그러나, 이들은 반드시 적정한 평가 방법이라고는 할 수 없다.

또, 이물질의 양을 감소시킬 경우 미용융 원료 수지중에서 이물질을 제거하는 것만으로는 불충분하고 원료의 펠레트화 공정에 따른 먼지의 혼입방지 또는 압출성형시에 따른 탄화물의 생성 또는 혼입방지등을 꾀하지 않으면 않되기 때문에 일본 특개소 58-126119호 또는 동 61-95914호에 기재되어 있는 바와같은 기술도 제안되어 있다.

일본 특개소 58-126119호에 기재되어 있는 기술은 폴리 카보네이트 플래그에 산화방지제를 배합해서 펠레트화한 펠레트를 이용해서 광학적 디스크 기판을 성형하는 것이다.

그러나 이 기술은 펠레트화 할때에 용융가열에 의해 재료의 열 약화를 초래하는 동시에 펠레트화 공정에 따른 이물질의 혼입을 충분히 방지할 수 없다는 문제가 있다.

따라서 고성능화에도 자연히 한계가 있다.

또 일본 특개소 61-95914호에서 기재된 기술은 메틸메타아크릴레이트(MMA)를 현탁중합해서 얻은 비스상의 투명 아크릴 수지를 펠레트화 하는 것이 아니고 그대로 사출성형해서 광학적 디스크 기판을 제조하는 것이다.

그러나 이 기술은 내열성, 내습성, 강도 낮은 아크릴계 수지에서 용융 가능한 것이고 광학적 디스크용 재료로서 우수한 성능을 가진 폴리 카보네이트에서는 중합법이 다르기 때문에 비스상 폴리머를 얻을 수 없어서 그대로 적용할 수는 없다는 문제점이 있다.

본 발명자는 이물질의 강도의 개념을 채택한다는 광학적 디스크 기판의 평가를 실제로 다르게 정량적으로 행할수 있다는 것을 발견했다.

따라서 본 발명의 목적은 이물질의 강도를 일정 수준이하로서 이물질에 의한 기록 재생 특성의 감소방지를 꾀하는 광학적 디스크기판을 제공하려는 것이다.

또 본 발명의 다른 목적은 고품질이고 높은 신뢰성을 유지할 수 있는 광학적 정보기록 매체를 제공하는데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 사출형성시에 따르는 이물질의 혼입을 최소한으로 억제시킬 수 있는 광학적 디스크 기판을 제조하는 방법 및 장치를 제공하는데 있다.

본 발명의 기타 목적 및 효과는 이하의 기재로 명백하리라 생각한다.

본 발명에 의하면 이물질의 강도가 1×10⁵μm²/g 이하의 광학적 디스크기판이 제공된다.

즉, 본 발명은 광학적 디스크기판에 포함되어 있는 이물질의 양의 평가방법으로서 이물질의 강도인 개념을 채택해서 이물질 강도와 기록재생 특성의 상관성을 검토한 것이고 이물질 강도와 기록재생 특성의 에러율 사이에 상관관계에 있는 것을 발견했다.

바꾸어 말하면 정보기록 매체의 성능 평가로서 단지 이물질의 갯수만으로는 정확하지않고 갯수와 입자지름 분포를 고려한 이물질 강도가 가장 적당하다는 것을 발견했다.

여기서 「이물질 강도」라는 것은 입자지름 0.5μm 이상을 가진 단위 중량마다의 이물질의 각각 입자지름의 제곱과 갯수의 곱의 합이다.

이물질은 평가해야할 재료(원료 또는 기판등)를 과잉의 유기용매(특히 염화메틸렌)에 용해한 용액중에서 검출되는 것이다.

이물질 강도는 식

로 나타난다.

식중에 I는 이물질 강도이고 d_i는 제i번째의 입자지름 구분치(μm)이고, 그리고 n_i는 입자지름 d_i+1미만 또는 입자지름 d_i이상이고 용액중에 검출된 이물질의 갯수이며 n_i는 사용전에 용매속에 포함된 이물질의 갯수이고 그리고 w는 재료의 중량(g)이다.

입자지름 구분치 설정의 한예를 나타내면 다음과 같다.

입자지름이 25.0μm를 넘는 이물질이 검출될 경우에는 적당한 수치의 d₁₀, d₁₁등을 이용한다.

본 명세서에서 「이물질」이라는 것은 본래는 광학적 디스크 기판에 여러가지 과정을 거치면서 들어오는 오염물질 예를들면 불순물, 먼지 또는 원료수지의 탄화물을 의미하지만, 염화메틸렌 불용성분인 이물질로부터 산출하는 전술한 이물질 강도를 이용해서 광학적 디스크기판의 비트 에러율을 정확히 평가할 수가 있다.

본 발명에 의하면 광학적 정보기록 매체를 이용한 디스크 기판으로서 충분한 신뢰성을 얻기 위해서는 이물질 강도를 1×10⁵μm²/g 이하로 할 필요가 있다.

이물질 강도가 1×10⁵μm²/g보다 증가하면 그 디스크 기판을 포함하는 정보기록 매체에서는 이물질이 확실하게 비트에러를 일으키고 광학적 디스크기판의 신뢰성을 저하시킨다.

역시 이물질 강도는 5×10⁴μm²/g 이하로 함에 따라 충분한 신뢰성을 얻는것이 바람직하고, 더욱이 이물질 강도를 3×10⁴μm²/g 이하로 하면 확실한 신뢰성을 얻을 수 있어서 보다 바람직하다.

이 광학적 디스크기판의 원료수지로서는 수명성등의 광학특성 또는 성형성이 뛰어난 수지는 특히 제한받지 않고 이용할 수 있다.

예를들면 폴리 카보네이트 수지, 아크릴계 수지, 비결정성 폴리 올레핀등을 이용할 수 있다.

내열성, 강도 및 코스트의 면에서 폴리 카보네이트계 수지를 이용하는 것이 바람직하다.

여기서 폴리 카보네이트계 수지는 특히 제한은 없는데, 예를 들면 점도 평균 분자량이 10000-22000, 바람직하게는 12000-20000이고 2가 페놀과 포스겐 또는 디페닐 카보네이트와 같은 탄산 에스테르와의 반응에 의해 제조되는 것이다.

2가 페놀류로서는 하이드로퀴논 4,4'-디옥시페닐비스(히드록시페닐)알칸, 비스(히드록시페닐)사이클로알칸, 비스(히드록시페닐)에테르, 비스(히드록시페닐)케톤, 비스(히드록시페닐)설파이드, 비스(히드록시페닐)설폰, 및 이들의 저급알킬 할로겐등의 치환체를 예를 들을수 있지만, 2,2'-비스(4-히드록시페닐)프로판(이하 비스페놀 A라 한다) 1,1-비스(4-히드록시페닐)에탄, 2-2-비스(4-히드록시페닐)-헥사플루오로프로판등을 사용하는 것이 바람직하다.

또 이들의 2가 페놀은 단체로 혹은 혼합해서 사용할 수 있다.

더욱이 본 발명에서 사용되는 폴리 카보네이트로서는 일부 분지구조로 된것이라도 좋다.

점도 평균 분자량을 10000-22000로 제어하는 것은 폴리 카보네이트의 제조시에 P-t-부틸페놀과 같은 말단 정지제의 첨가에 따라 행할 수 있다.

점도 평균 분자량이 10000미만인 디스크기판의 강도는 실제용도에서 견딜수 없게되고 22000을 넘으면 성형성 또는 광학적 특성의 점에서 충분한 성능을 가진 디스크기판을 얻을 수 없다.

또한 점도평균 분자량［Mv］은 20℃의 염화메틸렌 용액속에 폴리 카보네이트 수지의 비점도 n_sp를 측정하여 식

η_sp/C=［η］(1+0.28η_sp)

［여기서 C는 폴리 카보네이트 수지농도(g/l)이다］ 및

［η］=1.23×10^-5Mv^0.83

에 의해 산출할 수가 있다.

사출성형에서 이용하는 원료 폴리 카보네이트는 종래 공지의 방법에 의해 제조한후에 용액 상태에 있어서 여과 처리를 하기도 하고 입상의 원료를 예를들면 가열 조건하에서 아세톤등의 용매로 세정하기도 해서 저분자량 성분과 비 반응성분등의 불순물과 이물질을 제거하는 것이 바람직하다.

하였튼 사출성형전의 원료는 이물질, 불순물 용매등의 함유량을 매우 적게하는 것이 필요하다.

또 필요에 따라 예를들면 인계등의 산화방지제등의 첨가제를 가하는 것도 가능하다.

폴리 카보네이트계 이외의 수지로서는 아크릴계수지 예를 들면 폴리메타아크릴산 메틸, 메타크릴산 메틸과 다른 메타크릴산 에스테르, 아크릴산 에스테르 또는 스티렌계 모노머 등과의 공중합체 또는 비점성 폴리올레핀(예를들면 에틸렌과 사이클로 올레핀류의 랜덤 공중합체)등을 이용할 수 있다.

이와같이 이물질 강도와 기록재생 특성의 에러율(비트 에러율:BER)의 사이에는 상관관계가 있기 때문에 디스크 기판속의 이물질 강도 크기에서 광학적 디스크의 비트에러율을 정량적으로 조사할 수 있다.

본 발명에 의한 광학적 정보 기록매체는 전술한 광학적 디스크기판에 공지된 정보기록층을 형성하므로서 얻을수 있다.

여기서 정보기록층이라 하면은 천이금속(예를들면 Fe 또는 Co)과 희토류원소(예를들면 Tb 또는 Gd)의 조합한 재료 예를들면 Gd-Fe-Co계 Tb-Fe-Co계 등을 스퍼터링, 증착등의 수단에 의해서 통상 300-1000A 정도의 두께를 형성한다.

더욱이 이 기록층상에 자외선 경화수지에 의해 2-10μm의 보호층을 형성하면 광자기 디스크로서 광학적 정보기록 매체로 할 수가 있다.

역시 정보기록층으로서는 전술한 광자기 타이프에 한정되지 않고 레이저광등에 의해 기록 가능한 것이라면 유기계 기록층(예를들면 프탈로시아닌과 테트라 카르보닐시아닌)등이어도 좋다.

본 발명에 의하면 본 발명의 광학적 디스크기판을 제조하는데에 적당한 사출성형 장치가 제공된다.

이 사출성형 장치는 통상의 사출성형기에 있어서 실린더 내벽면에 Co-Ni-Mo-Cr로 이루어진 합금(예를들면 Co:5-80%, Ni:5-80%, Mo:0.1-10% 및 Cr:1-20%로 이루어진 합금) 라이닝을 행하는 동시에 스크류의 표면에 TiC와 TiN의 2층 코팅을 행한 구성이다.

라이닝은 통상 원심 구조법 또는 열간 정수압 프레스법에 의해서 0.5-5mm의 두께층을 설치한다.

이층 코팅은 CVD법 또는 PVD법에 의해 TiC층(1-20μm) 및 그위에 TiN층(1-20μm)을 입힌다.

종래의 사출성형기를 이용하면 통상 국부적으로 수지가 체류하기도 하고 가열이 불균일하게 될수 있기 때문에 가열용해된 수지가 부분적으로 탄화해서 탄화물이 되고 이것이 이물질이 되어 수지중에 혼입된다.

또, 세정시에 제거할 수 없었던 사출성형 장치의 각부분에 부착되어 있는 이물질이 수지중에 혼입하기도 하기 때문에 일반적인 사출성형장치에 의하면 원료를 호퍼로 투입할때부터 디스크기판으로서 성형될때까지의 사이에 이물질 강도는 1×10⁴-5×10⁵μm²/g 증가한다.

특히 수지의 부분적 탄화에 의한 이물질화는 이물질 강도의 증가에 커다란 영향을 준다.

본 발명에 의한 사출성형장치는 실린더의 내벽면에 Co-Ni-Mo-Cr로 이루어진 합금 라이닝을 행하고 있다.

이와같이 하면 합금의 내식성과 비부착성에 의해 수지의 부착과 체류가 적게되고 수지의 부분적 탄화 또는 손상을 방지할 수가 있다.

또 스크류의 표면에는 TiC와 TiN을 2층으로 코팅되어 있다.

이와같이 하면 수지와의 비부착성에 의해 스크류 표면이 체류소성의 형상이 방지되고 탄화물의 발생을 억제할 수 있다.

이경우 TiC만이 아니고 TiN을 표층으로한 2층 코팅이기 때문에 고온상태에서의 내산화성이 향상되어 탄화물의 발생을 더욱 효과적으로 방지할 수 있다.

원료수지로서는 폴리카보네이트를 이용하여 본 발명 광학적 디스크기판을 제조할 경우에는 이물질 강도가 통상 30000μm²/g 이하 바람직하게는 15000μm²/g 이하의 원료를 사용한다.

사출형성시에 따르는 수지온도는 300-400℃로 하고 금형온도는 통상 50-140℃로 한다.

역시 금형표면 온도만을 고주파등을 이용해서 유리전이 온도이상으로 가열하여 수지사출후에 디스크기판을 꺼낼 수 있는 온도까지 냉각하도록 해도 좋다.

이와같이 하면 보다 광학특성에서 우수한 기판을 얻을 수 있다.

본 발명에 의한 사출성형기는 일반적으로 이물질 농도가 낮은 성형품을 제조할 때에도 이용할 수 있다.

본 발명에 의한 광학적 디스크기판의 제조방법에 의하면 점도평균 분자량 10000-22000의 미용융의 입상 폴리카보네이트를 사출성형해서 이물질 강도가 1×10⁵μm²/g 이하의 디스크기판을 제조한다.

보다 바람직하게는 전술한 입상 폴리카보네이트가 500-2000μm의 입자지름으로 이루어진 폴리카보네이트로 95중량% 이상을 차지하도록 하고 있고, 또 전술한 입상 폴리카보네이트의 부피밀도를 0.6-0.8g/cm³로 하고 있다.

미용융의 입상 폴리카보네이트로부터 직접 사출성형해서 디스크기판을 제조하면 재료자체의 이물질 강도를 낮게할 수 있으며, 동시에 수지의 열 이력을 1회만으로 해서 수지의 열분해를 적게해 탄화물의 혼입을 최소한으로 억제할 수 있기 때문에 이물질 함량이 적고 비트에러가 적은 고성능인 광학적 디스크기판을 용이하게 얻을 수 있다.

이하 본 발명 광학적 디스크기판 제조방법의 바람직한 한 구체적인 실시예에 대해서 설명한다.

디스크기판의 재료로서 폴리 카보네이트 수지를 이용한다.

이때 폴리 카보네이트 수지는 점도평균 분자량 10000-22000, 바람직하게는 12000-20000로 해서 종래 일반적으로 사용되고 있는 용융 펠레트화한 것은 아니고 미용융의 입상으로 한다.

점도평균 분자량은 10000-22000로 하는 것은 디스크기판의 강도, 투명성, 복굴절등의 광학적 성질의 향상과 균일성을 얻기 위하여 양호한 성형성을 확보하기 위한 것이다.

여기서 폴리 카보네이트계 수지로서는 특히 제한은 없어 사출성형에 이용하는 재료 폴리카보네이트는 전술한 바와같은 양상으로 종래의 공지된 방법에 의해 제조한후에 용액상태에 있어서 여과처리를 하기도 하고 입상의 원료를 예를들면 가열조건하에서 아세톤등의 용매에서 세정하기도 해서 저분자량 성분, 비반응 성분등의 불순물과 이물질을 제거하는 것이 바람직하다.

어쨌든, 사출성형전의 원료는 이물질, 불순물, 용매등을 매우 낮게하는 것이 필요하다.

또 필요에 의해 예를 들면 인계등의 산화방지제등의 첨가제를 가할수도 있다.

더욱이 입상 폴리카보네이트에 의한 입자지름 분포는 입자지름이 500-2000μm의 것을 95중량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.

이것은 점도평균 분자량이 22000이하의 경우 일반적으로는 미분말 폴리머로 되어서 용융시의 탈기, 균일수송이 불가능 또는 곤란해서 안정하게 사출성형할 수 없고 양호한 디스크 기판을 얻을수 없게 되기 때문에 입자지름 분포를 전술한 바와같이 하는것이 바람직하다.

따라서 입자지름 분포는 입자지름이 700-1400μm의 것을 95wt.% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다.

이와같이 하면 입자지름 분포가 좁고 사출형성시의 스크류가 소화를 마치 용융 펠레트와 같이 안정되게 행할 수 있다.

더욱이 전술한 입상 폴리카보네이트의 부피밀도는 용융성, 탈기성, 계량성등을 좋게하기 때문에 0.6-0.8g/cm³로 하는것이 바람직하다.

전술한 폴리카보네이트 수지보다 광학적 디스크기판을 제조할 경우에는 사출성형기(사출압축성형기를 포함)를 이용한다.

이 사출성형기로서는 일반적으로 사용되고 있는것이 좋지만 탄화물의 발생을 적게해서 디스크기판의 신뢰성을 높이는 관점에서 보면 전술한 바와같은 양상으로 실린더 내벽면에 Co-Ni-Mo-Cr로 이루어진 합금 라이닝을 행하는 동시에 스크류 표면에 TiC와 TiN의 이층 코팅을 행한것을 이용하는 것이 바람직하다.

즉 실린더의 내벽면에 Co-Ni-Mo-Cr로 이루어진 합금 라이닝과 스크류의 표면에 TiC와 TiN을 이층으로 코팅하면 수지와의 비착성과 표면의 내식성에 의해서, 고온(400℃)로 되어도 탄화물의 발생을 방지할 수 있다.

사출성형시에 따르는 수지온도는 300-400℃로 하고 금형 온도는 50-140℃, 바람직하게는 80-130℃로 한다.

역시 이경우에 금형표면만을 고주파등을 이용해서 유리전이 온도이상으로 가열하고 수지사출성형후에 디스크기판을 꺼낼 수 있는 온도까지 냉각하도록 해도 좋다.

이에 따라 광학적으로 우수한 기판을 얻을수가 있다.

본 제조방법에 따라서 제조되는 광학적 디스크기판의 사이즈는 반경 40-170mm, 두께 1-3mm의 것이 많다.

또 광학적 디스크기판의 이물질 강도는 1×10⁵μm²/g 이하로 되도록 하고 비트에러율을 더욱이 감소시키고 보다 확실한 신뢰성을 얻기 위해서는 5×10μm²/g 이하로 되도록 하는것이 바람직하다.

이와같이 이물질 강도를 적게하기 위해서는 전술한 실린더 내벽면 또는 스크류표면에 가공을 실시한 사출성형기의 이용여부나 입상 폴리머의 제조과정에 있어서 용융상태에서 충분한 물세척, 산세척, 알카리세척을 반복하여 물과 온수로 입상화하며, 더욱이 아세톤등의 용매로 세정해서(필요에 따라 가열) 저분자량 성분(분자량 3000이하)을 5중량% 이하로, 미반응 비스페놀 A 등의 불순물을 20ppm 이하로, 염화 메틸렌 등의 용제를 20ppm 이하로 한 입상 폴리카보네이트를 이용하는 것이 효과적이다.

[실시예]

다음으로 실시예에 따라서 발명을 더 구체적으로 설명하지만 이것은 본 발명에 한정되는 것은 아니다.

[실시예 1]

사출성형장치(테크노플라스사제품:SIM4749)의 실린더 내벽을 Co-Ni-Mo-Cr의 합금(일본 고주파 강업제품 1K 얼로이)으로 라이닝하고, 스크류내면을 TiC층(4μm) 및 TiN(4μm)의 이층으로 코팅한 것을 이용하였다.

성형원료로서는 펠레트상의(3mmØ×3mm) 폴리카보네이트(점도평균 분자량 15000)를 이용하였다.

이 성형재료의 이물질 강도 8000μm²/g이었다.

수지온도 360℃ 및 금형온도 120℃의 성형조건에서 형성하고 광학적 디스크기판 130mmØ×1.2mm를 조정했다.

얻어진 디스크기판에 기록재료로서 Tb-Fe-Co 기록막을 스퍼터링에 의해 형성하고 광학적 정보기록 매체를 얻는다.

다음으로 이 정보기록 매체의 비트에러율을 나가미찌제품인 평가장치 OMS-1000로 측정한다.

이때의 기판 이물질 강도와 비트에러율을 표 1에 나타낸다.

[실시예 2 및 3]

원료 펠레트로서 이물질 강도 3500μm²/g(실시예 2) 또는 이물질 강도 2500μm²/g(실시예 3)의 폴리카보네이트를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 같은 조건이고, 광학적 디스크기판을 형성하여 이것을 평가하였다.

이 결과를 표 1에 나타내었다.

[비교예]

사출성형장치의 스크류표면을 Ni-SiC로 코팅해서 실린더 내벽을 질화처리한 것 이외는 실시예 1과 동일 조건으로 성형을 행하였다.

이때 기판 이물질 강도와 비트에러율을 표 1로 나타내었다.

이 결과 본 발명의 장치에 의해서 형성한 광학적 디스크 기판의 이물질 강도의 폭이 낮고 또 이에 따라 얻어진 광학적 정보기록매체의 비트에러율도 적다고 판명됐다.

[실시예 4-6]

원료로서 표 2에 나타낸 미용융 폴리카보네이트［점도평균 분자량 15600, 입자지름 분포 700-1400μm의 입자가 96.5wt.%, 부피밀도 0.68g/cm ］를 이용해서 성형온도 360℃ 및 금형온도 120℃의 조건하에서 표 2에 나타낸 처리를 한 사출성형기를 사용하고 130mmØ×1.2mm의 광학적 디스크기판을 형성했다.

다음으로 이 기판상에서 실시예 1과 같은 양상으로 Tb-Fe-Co계의 기록막을 스퍼터링에 의해 형성하고 비트에러의 측정을 행했다.

디스크기판의 이물질 강도와 비트에러율의 결과를 표 2로 나타내었다.

[실시예 7]

미용융 폴리카보네이트의 대신에 용융성형된 폴리카보네이트 펠레트［점도평균 분자량 15400, 크기 3mmØ×3mm］를 이용한 것 이외는 실시예 4에 준해서 행하였다.

그결과를 표 2에 나타내었다.

이결과 미용융 폴리카보네이트를 이용해서 제조한 광학적 디스크기판 및 광학요소에서는 이물질 강도 및 비트에러가 향상된 것이 판명됐다.

즉, 이물질 강도 1×10 μm /g 이하의 고성능 디스크 기판이 얻어진다는 것이 분명하다.

이상 본 발명을 특정의 상태에 따라서 설명했지만 본 발명의 취지에 어긋나지 않는한 당업자가 자명한 기술적 내용을 변경 사용하는 것은 본 발명에 포함되는 것으로 이해할 수 있다.

Claims (4)

1. 입자 지름이 0.5μm 이상의 크기로 이루어진 단위 중량당 이물질 각각의 입자 지름의 제곱과 개수와의 곱의 합인 이물 강도를 4.8×10⁴μm²/g 이하의 값으로 하는 것을 특징으로 하는 광학식 디스크 기판.
2. 입자 지름이 0.5μm 이상의 크기로 이루어진 단위 중량당 이물질 각각의 입자 지름의 제곱과 개수와의 곱의 합인 이물 강도가 4.8×10⁴μm²/g 이하인 광학식 디스크 기판과 그 위에 담겨진 정보기록층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 광학식 디스크 정보기록매체.
3. 실린더 내벽면에 Co-Ni-Mo-Cr로 이루어진 합금 라이닝을 하는 동시에 스크류 표면에 TiC와 TiN의 2층 코팅을 행하는 것을 특징으로 하는 광학식 디스크 기판을 제조하는 사출성형장치.
4. 제1항에 있어서, 점도 평균 분자량이 10000∼22000의 폴리카보네이트계 수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 광학식 디스크 기판.