JPWO2018029886A1 - 透明導電層付き基板、液晶パネル及び透明導電層付き基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一形態に係る透明導電層付き基板として、基板と、透明導電層とを具備する。前記透明導電層は、前記基板上に設けられ、酸化スズと、酸化ニオブ、酸化タンタル及び酸化アンチモンの少なくともいずれかと、を含む透明導電層付き基板が提供される。これにより、この透明導電層付き基板においては、抵抗の経時変化が少なくなる。
Description
前記透明導電層は、前記基板上に設けられ、酸化スズと、酸化ニオブ、酸化タンタル及び酸化アンチモンの少なくともいずれかと、を含む。
これにより、この透明導電層付き基板においては、抵抗の経時変化が少なくなる。
これにより、この透明導電層付き基板においては、酸化物が還元されにくく、透明導電層の高抵抗状態が維持される。
前記透明導電層の透過率は、波長550nmにおいて98.5%以上であってもよい。
このような高い光透過率の透明導電層付き基板をインセル型の液晶パネルに用いることにより、カラーフィルタの帯電が抑制され、さらに液晶パネルにおける光透過率が著しく減少しないことになる。
これにより、この透明導電層付き基板においては、適切な抵抗及び透過率を有する透明導電層が基板上に設けられる。
これにより、この透明導電層付き基板においては、透明導電層の抵抗が窒素の添加量により調整される。
前記透明基板は、前記透明導電層と前記カラーフィルタとの間に設けられてもよい。
これにより、カラーフィルタへの帯電が透明導電層によって抑制される。
前記透明導電層付き基板は、第1の面と第2の面とを有する第1の透明基板と、透明導電層と、カラーフィルタとを有する。透明導電層は、前記第1の面上に設けられ、酸化スズと、酸化ニオブ、酸化タンタル及び酸化アンチモンの少なくともいずれかとを含む。カラーフィルタは、前記第2の面上に設けられる。
前記対向基板は、第2の透明基板と、前記第2の透明基板上に設けられた感知センサ用電極及び液晶駆動用電子回路とを有する。
前記液晶は、前記透明導電層付き基板と前記対向基板との間に設けられ、前記液晶駆動用電子回路によって駆動制御される。
これにより、この液晶パネルにおいては、透明導電層によってカラーフィルタの帯電が防止される。さらに、この透明導電層において、抵抗の経時変化が少ない。その結果、液晶パネルにおいてタッチ感知機能の経時変化が少なく、信頼性がさらに高くなる。
これにより、液晶パネルの透明導電層付き基板においては、酸化物が還元されにくく、透明導電層の高抵抗状態が維持される。
前記透明導電層の透過率は、波長550nmにおいて98.5%以上であってもよい。
このような高い光透過率の透明導電層付き基板をインセル型の液晶パネルに用いることにより、カラーフィルタの帯電が抑制され、さらに液晶パネルにおける光透過率が著しく減少しないことになる。
これにより、この液晶パネルにおいては、適切な抵抗及び透過率を有する透明導電層が透明基板上に設けられる。
これにより、この液晶パネルにおいては、透明導電層の抵抗が窒素の添加量により調整される。
このような混合ガス雰囲気下で透明導電層を成膜することにより、所望の高抵抗の透明導電層が得られる。さらに、透明導電層における酸化物の還元が抑制され、抵抗の経時変化の少ない透明導電層が得られる。
これにより、この透明導電層付き基板においては、透明導電層の抵抗が窒素の添加量により調整される。
図1は、本実施形態に係る液晶パネルを示す概略的断面図である。
図1に示す液晶パネル1は、画像を表示する機能と、タッチパネル機能とを兼ね備える。液晶パネル1は、透明導電層付き基板10と、対向基板20と、液晶40と、偏光板50と、カバーガラス60と、偏光板51とを具備する。図1の例では、Z軸方向において、偏光板51、対向基板20、液晶40、透明導電層付き基板10、偏光板50及びカバーガラス60がこの順に積層されている。液晶40内には、スペーサ41が設けられている。
液晶パネル1の構成要素である透明導電層付き基板10の製造方法について図1を参照しながら説明する。
放電ガス:アルゴン(Ar)/酸素(O2)
ガス全圧:0.1Pa以上1.0Pa以下
アルゴン分圧:0.2Pa(流量40sccm)
酸素分圧:0.005Pa(流量1.0sccm)以上0.05Pa(10sccm)以下、好ましくは、0.005Pa(流量1.0sccm)以上0.013Pa(流量2.5sccm)以下
基板温度:25℃設定
放電ガス:アルゴン(Ar)/酸素(O2)/窒素(N2)
ガス全圧:0.1Pa以上1.0Pa以下
アルゴン分圧:0.2Pa(流量40sccm)
酸素分圧:0.005Pa(流量1.0sccm)以上0.05Pa(10sccm)以下、好ましくは、0.005Pa(流量1.0sccm)以上0.013Pa(流量2.5sccm)以下
窒素分圧:0.025Pa(流量5.0sccm)以上0.1Pa(流量20sccm)以下
基板温度:25℃設定
図5は、透明導電層の光透過率を示す概略的グラフ図である。
図5の横軸は、波長(nm)であり、縦軸は、光透過率(%)である。
放電ガス:アルゴン(Ar)/酸素(O2)/窒素(N2)
ガス全圧:0.1Pa以上1.0Pa以下
アルゴン分圧:0.2Pa(流量40sccm)
酸素分圧:0.013Pa(流量2.5sccm)
窒素分圧:0Pa(流量0sccm)以上0.1Pa(流量20sccm)以下
基板温度:25℃設定
図6、7の横軸は、時間(h)であり、縦軸は、シート抵抗(Ω/sq.)である。
図6には、透明導電層12を室温で、大気中に放置した場合の結果が示されている。
図7には、透明導電層12を60℃、水蒸気90RH%下で放置した場合の結果が示されている。図6、7における成膜条件は、以下の通りである。
放電ガス:アルゴン(Ar)/酸素(O2)/窒素(N2)
ガス全圧:0.1Pa以上1.0Pa以下
アルゴン分圧:0.2Pa(流量40sccm)
酸素分圧:0.013Pa(流量2.5sccm)
窒素分圧:0Pa(流量0sccm)以上0.05Pa(流量10sccm)以下
基板温度:25℃設定
図8において、横軸は、透明導電層12及びITO層をリン硝酢酸に浸漬させた時間(min)であり、縦軸は、シート抵抗(Ω/sq.)である。
成膜条件は、以下の通りである。成膜時の酸素分圧については、透明導電層12及びITO層のシート抵抗が1×108(Ω/sq.)以上1×1010(Ω/sq.)以下に収まるように調整されている。
ターゲット材:酸化スズ/酸化ニオブ(10wt%)
放電ガス:アルゴン(Ar)/酸素(O2)
ガス全圧:0.21Pa
アルゴン分圧:0.2Pa(流量40sccm)
膜厚:10nm
基板温度:25℃設定
ターゲット材:酸化インジウム/酸化スズ(10wt%)
放電ガス:アルゴン(Ar)/酸素(O2)
ガス全圧:0.23Pa
アルゴン分圧:0.2Pa(流量40sccm)
膜厚:10nm
基板温度:25℃設定
10…透明導電層付き基板
11…透明基板
11a、11b…表面
12…透明導電層
14…カラーフィルタ基板
15…カラーフィルタ
20…対向基板
21…透明基板
21a、21b…表面
22…機能層
40…液晶
41…スペーサ
50、51…偏光板
60…カバーガラス
70…指
Claims (13)
- 基板と、
前記基板上に設けられ、酸化スズと、酸化ニオブ、酸化タンタル及び酸化アンチモンの少なくともいずれかとを含む透明導電層と
を具備する透明導電層付き基板。 - 請求項1に記載の透明導電層付き基板であって、
前記酸化ニオブ、前記酸化タンタル及び前記酸化アンチモンの少なくともいずれかの含有率は、前記透明導電層において5wt%以上15%wt以下である
透明導電層付き基板。 - 請求項1または2に記載の透明導電層付き基板であって、
前記透明導電層のシート抵抗は、1×107(Ω/sq.)以上1×1010(Ω/sq.)以下であり、
前記透明導電層の透過率は、波長550nmにおいて98.5%以上である
透明導電層付き基板。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載の透明導電層付き基板であって、
前記透明導電層の厚さは、5nm以上15nm以下である
透明導電層付き基板。 - 請求項1〜4のいずれか1つに記載の透明導電層付き基板であって、
前記透明導電層は、窒素を含有する
透明導電層付き基板。 - 請求項1〜5のいずれか1つに記載の透明導電層付き基板であって、
前記基板は、透明基板と、カラーフィルタとを有し、
前記透明基板は、前記透明導電層と前記カラーフィルタとの間に設けられている
透明導電層付き基板。 - 第1の面と第2の面とを有する第1の透明基板と、前記第1の面上に設けられ、酸化スズと、酸化ニオブ、酸化タンタル及び酸化アンチモンの少なくともいずれかとを含む透明導電層と、前記第2の面上に設けられたカラーフィルタとを有する透明導電層付き基板と、
第2の透明基板と、前記第2の透明基板上に設けられた感知センサ用電極及び液晶駆動用電子回路とを有する対向基板と、
前記透明導電層付き基板と前記対向基板との間に設けられ、前記液晶駆動用電子回路によって駆動制御される液晶と
を具備する液晶パネル。 - 請求項7に記載の液晶パネルであって、
前記酸化ニオブ、前記酸化タンタル及び前記酸化アンチモンの少なくともいずれかの含有率は、前記透明導電層において5wt%以上15%wt以下である
液晶パネル。 - 請求項7または8に記載の液晶パネルであって、
前記透明導電層のシート抵抗は、1×107(Ω/sq.)以上1×1010(Ω/sq.)以下であり、
前記透明導電層の透過率は、波長550nmにおいて98.5%以上である
液晶パネル。 - 請求項7〜9のいずれか1つに記載の液晶パネルであって、
前記透明導電層の厚さは、5nm以上15nm以下である
液晶パネル。 - 請求項7〜10のいずれか1つに記載の液晶パネルであって、
前記透明導電層は、窒素を含有する
液晶パネル。 - 酸化スズと、酸化ニオブ、酸化タンタル及び酸化アンチモンの少なくともいずれかと、を含むターゲット材であって、前記ターゲット材における前記酸化ニオブ、前記酸化タンタル及び前記酸化アンチモンの少なくともいずれかの含有率が5wt%以上15%wt以下である前記ターゲット材を用い、酸素分圧が0.005Pa以上0.05Pa以下のアルゴンと酸素の混合ガス雰囲気下で、基板上に、酸化スズと、酸化ニオブ、酸化タンタル及び酸化アンチモンの少なくともいずれかとを含む透明導電層を成膜する
透明導電層付き基板の製造方法。 - 請求項12に記載の透明導電層付き基板の製造方法であって、
前記混合ガスに窒素を含有させ、前記窒素の分圧が0.025Pa以上0.1Pa以下で前記透明導電層を成膜する
透明導電層付き基板の製造方法。
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