JP2016031748A - 電極およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
・基板温度:室温〜400℃
・成膜温度:室温〜400℃
・雰囲気ガス:窒素ガス、Arガス
・成膜時の窒素ガス流量:Arガスの5〜50%
・スパッタパワー:100〜500W
・到達真空度:1×10-6Torr以下
(1−1)第1層の成膜
まず、透明基板として無アルカリ硝子板(板厚0.7mm、直径4インチ)を用い、その表面に、DCマグネトロンスパッタリング法により、表1に示す第1層を成膜した。成膜に当たっては、成膜前にチャンバー内の雰囲気を一旦、到達真空度:3×10-6Torrに調整してから、上記金属膜と同一の成分組成を有する直径4インチの円盤型スパッタリングターゲットを用い、下記条件でスパッタリングを行った。
(スパッタリング条件)
・Arガス圧:2mTorr
・Arガス流量:30sccm
・スパッタパワー:500W
・基板温度:室温
・成膜温度:室温
・第1層の膜厚:250nm
第2層が表1に記載の組成となるよう、所望組成のAl−Cu合金ターゲットを用い、以下の条件で、窒素との反応性スパッタリング法による成膜を行なった。
(反応性スパッタリング条件)
・Ar+N2ガス圧:2mTorr
・Arガス流量:10sccm
・N2ガス流量:5sccm
・スパッタパワー:500W
・基板温度:室温
・成膜温度:室温
・第2層の膜厚:50nm
上記のようにして第2層のAl−Cu合金−N層を成膜した後、引き続き、その表面に、DCマグネトロンスパッタリング法により、下記のスパッタリング条件で、透明導電膜としてIZO膜またはITO膜(第3層)を成膜した。透明導電膜の成膜に当たっては、成膜前にチャンバー内の雰囲気を一旦、到達真空度:3×10-6Torrに調整してから、透明導電膜と同一組成のIZOスパッタリングターゲットまたはITOスパッタリングターゲット(直径4インチの円盤型)を用いた。
(スパッタリング条件)
・ガス圧:2mTorr
・Arガス流量:18sccm
・O2ガス流量:1sccm
・スパッタパワー:250W
・基板温度:室温
・成膜温度:室温
・第3層の膜厚:50nm
上記の方法で得られた積層膜の反射率について、日本分光社製V−570分光光度計を用い、360〜800nmの可視光領域での絶対反射率を測定して求めた。このようにして得られた絶対反射率をもとに、前述したCIE Yxy表色系にて、色度x、yと刺激値Yを算出した。本実施例では、下記◎または〇を合格(色度が適切に制御されている)と評価した。
・◎:色度(x,y)が0.22≦x≦0.32、且つ0.22≦y≦0.32を満たし、刺激値Yが8以下であるもの
・〇:色度(x,y)が0.19≦x≦0.22、且つ0.19≦y≦0.22を満たし、刺激値Yが8以下であるもの
Claims (9)
- 基板上に形成される電極であって、基板側から順に、
Al膜またはAl合金膜からなる第1層と、
10〜13原子%のCuを含むAl−Cu合金の窒化膜ならなる第2層と、
透明導電膜からなる第3層の積層構造を有する電極。 - Yxy表色系における色度座標(x、y)が、0.19≦x≦0.32、且つ0.19≦y≦0.32を満たし、刺激値Yが8以下である請求項1に記載の電極。
- 基板上に形成される電極であって、基板側から順に、
Al膜またはAl合金膜からなる第1層と、
10〜12原子%のCuを含むAl−Cu合金の窒化膜ならなる第2層と、
透明導電膜からなる第3層の積層構造を有する電極。 - Yxy表色系における色度座標(x、y)が、0.22≦x≦0.32、且つ0.22≦y≦0.32を満たし、刺激値Yが8以下である請求項3に記載の電極。
- 前記第3層は、InとSnを少なくとも含む酸化物からなる透明導電膜、またはInとZnを少なくとも含む酸化物からなる透明導電膜である請求項1〜4のいずれかに記載の電極。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の電極を有する入力装置。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の電極を有するタッチパネルセンサー。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の電極を構成する第2層の成膜に用いられるスパッタリングターゲットであって、10〜13原子%のCuを含み、残部:Alおよび不可避的不純物であるスパッタリングターゲット。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の電極を製造する方法であって、
窒素ガスを含む反応性スパッタリング法によって前記第2層を成膜する電極の製造方法。
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JP2013540331A (ja) * | 2010-10-19 | 2013-10-31 | エルジー・ケム・リミテッド | 導電性パターンを含むタッチパネルおよびその製造方法 |
WO2014035197A1 (ko) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 주식회사 엘지화학 | 전도성 구조체 및 이의 제조방법 |
JP2014130565A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | タッチパネルおよびその製造方法 |
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