JPWO2012008444A1 - Curable resin composition for antistatic layer, optical film, polarizing plate and display panel - Google Patents

Curable resin composition for antistatic layer, optical film, polarizing plate and display panel Download PDF

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Abstract

十分な帯電防止性並びに隣接するＨＣ層との密着性に優れた帯電防止層を形成することができる帯電防止層用硬化性樹脂組成物及び当該帯電防止層を有する光学フィルムを提供する。本発明は（Ａ）帯電防止剤、（Ｂ）１分子中に光硬化性基を２個以上有し、分子量９００以下の多官能モノマー及び（Ｃ）１分子中に（メタ）アクリロイル基を６個以上有し、重量平均分子量１０００〜１１０００のウレタンアクリレートを含み、当該（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の総量に対する当該（Ａ）の割合が、１〜３０質量％、かつ、当該（Ｂ）及び（Ｃ）の総量に対する当該（Ｃ）の割合が１〜４０質量％であることを特徴とする、帯電防止層用硬化性樹脂組成物である。また、本発明はＴＡＣ基材の一面側に、ＴＡＣ基材側から、当該帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなる膜厚１〜５μｍの帯電防止層とハードコート層が設けられている光学フィルムである。Provided are a curable resin composition for an antistatic layer capable of forming an antistatic layer excellent in sufficient antistatic properties and adhesion to an adjacent HC layer, and an optical film having the antistatic layer. The present invention includes (A) an antistatic agent, (B) a polyfunctional monomer having two or more photocurable groups in one molecule, a molecular weight of 900 or less, and (C) six (meth) acryloyl groups in one molecule. The urethane acrylate having a weight average molecular weight of 1000 to 11000, the ratio of the (A) to the total amount of the (A), (B) and (C) is 1 to 30% by mass, and the ( The ratio of (C) to the total amount of B) and (C) is 1 to 40% by mass, and is a curable resin composition for an antistatic layer. In the present invention, an antistatic layer having a thickness of 1 to 5 μm and a hard coat layer made of a cured product of the curable resin composition for an antistatic layer are provided on one side of the TAC substrate from the TAC substrate side. It is an optical film.

Description

本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）又はプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）等のディスプレイ（画像表示装置）の前面に設置される帯電防止層を有する光学フィルム及びその帯電防止層用の組成物並びに当該光学フィルムを用いた偏光板及びディスプレイパネルに関する。   The present invention relates to an optical film having an antistatic layer placed on the front surface of a display (image display device) such as a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube display (CRT), or a plasma display (PDP), and the antistatic layer. And a polarizing plate and a display panel using the optical film.

上記のようなディスプレイにおいては、一般に最表面には反射防止性、ハードコート性や帯電防止性等の種々の機能を有する層からなる光学フィルムが設けられている。尚、本明細書において、ハードコートを単に「ＨＣ」ということがある。   In the display as described above, an optical film composed of layers having various functions such as antireflection properties, hard coat properties and antistatic properties is generally provided on the outermost surface. In this specification, the hard coat may be simply referred to as “HC”.

このような光学フィルムの機能層の一つとして、帯電防止性を付与するための帯電防止層が知られている。この帯電防止層は、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）やスズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）等の金属酸化物系の導電性超微粒子、高分子型導電性組成物や４級アンモニウム塩系導電材等の帯電防止剤を添加することにより形成されている（例えば、特許文献１）。これらの帯電防止剤を使用する場合は、所望の帯電防止性と光学特性（低ヘイズや高全光線透過率）を両立させるために、帯電防止剤を含有する０．１〜１μｍ程度の薄膜層を形成することによって所望の機能を付与することが行われていた。   As one of the functional layers of such an optical film, an antistatic layer for imparting antistatic properties is known. This antistatic layer is composed of metal oxide-based conductive ultrafine particles such as antimony-doped tin oxide (ATO) and tin-doped indium oxide (ITO), polymer-type conductive compositions, and quaternary ammonium salt systems. It is formed by adding an antistatic agent such as a conductive material (for example, Patent Document 1). When these antistatic agents are used, in order to achieve both desired antistatic properties and optical characteristics (low haze and high total light transmittance), a thin film layer of about 0.1 to 1 μm containing the antistatic agent. A desired function is imparted by forming the film.

また、上記のようなディスプレイにおいては、ディスプレイの画像表示面に取扱い時に傷がつかないように硬度を付与することが要求される。これに対して、特許文献１には、トリアセチルセルロース（以下、単に「ＴＡＣ」ということがある。）基材上に薄膜の帯電防止層を設け、その帯電防止層上にＨＣ層を設ける光学フィルムの構成が開示されている。   Further, in the display as described above, it is required to give hardness so that the image display surface of the display is not damaged when handled. On the other hand, Patent Document 1 describes an optical system in which a thin antistatic layer is provided on a triacetylcellulose (hereinafter, simply referred to as “TAC”) substrate, and an HC layer is provided on the antistatic layer. The composition of the film is disclosed.

しかし、帯電防止層は薄膜であるため層中に含まれるペンタエリスリトールトリアクリレート（以下、単に「ＰＥＴＡ」ということがある。）やジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（以下、単に「ＤＰＨＡ」ということがある。）のようなバインダー成分及び帯電防止剤の量が限られており、さらに、当該帯電防止層に隣接するＨＣ層との密着性が不足しやすいという問題がある。   However, since the antistatic layer is a thin film, it may be referred to as pentaerythritol triacrylate (hereinafter sometimes simply referred to as “PETA”) or dipentaerythritol hexaacrylate (hereinafter simply referred to as “DPHA”). The amount of the binder component and the antistatic agent is limited, and there is a problem that the adhesion with the HC layer adjacent to the antistatic layer tends to be insufficient.

基材/帯電防止層/ＨＣ層を基本構成とする光学フィルムには、帯電防止層とＨＣ層との間の界面、及び、帯電防止層と基材との間の界面があり、夫々の界面において密着性の課題がある。   An optical film having a base material / antistatic layer / HC layer as a basic structure has an interface between the antistatic layer and the HC layer, and an interface between the antistatic layer and the base material. There is a problem of adhesion.

帯電防止層とＨＣ層との間の界面においては、帯電防止層とＨＣ層のそれぞれの反応性基が架橋結合して密着するが、同時に帯電防止層は帯電防止性能の発揮が求められる。帯電防止剤が金属酸化物の場合には、帯電防止層が帯電防止性能を発揮するために、帯電防止剤の微粒子同士が密着している必要があることから、大量の帯電防止剤が添加されるが、ヘイズが増加したり、全光線透過率が悪化することがある。しかし、光学特性を重視して金属酸化物の量を減らすと、帯電防止性能が発揮されにくくなる。また、帯電防止剤の量を増加させると、帯電防止層と隣接する層との界面においてバインダー成分の量が不足して、帯電防止層と隣接する層との密着性が悪くなる恐れがある。しかし、密着性を重視して金属酸化物の量を減らすと、帯電防止性能が発揮されにくくなる。   At the interface between the antistatic layer and the HC layer, each reactive group of the antistatic layer and the HC layer is cross-linked and adhered, but at the same time, the antistatic layer is required to exhibit antistatic performance. When the antistatic agent is a metal oxide, a large amount of antistatic agent is added because the antistatic agent particles need to be in close contact with each other in order for the antistatic layer to exhibit antistatic performance. However, haze may increase or total light transmittance may deteriorate. However, if the amount of the metal oxide is reduced with emphasis on optical characteristics, the antistatic performance is hardly exhibited. Further, when the amount of the antistatic agent is increased, the amount of the binder component is insufficient at the interface between the antistatic layer and the adjacent layer, and the adhesion between the antistatic layer and the adjacent layer may be deteriorated. However, if the amount of metal oxide is reduced with emphasis on adhesion, the antistatic performance is hardly exhibited.

帯電防止剤が４級アンモニウム塩の場合には、帯電防止層が帯電防止性能を発揮するために、４級アンモニウム塩が層内にバインダーよりも多量に存在する必要がある。もしくは、帯電防止層のＨＣ層と隣接する界面付近に集中して存在することが必要である。しかし、そのような場合、界面付近に存在する４級アンモニウム塩が、帯電防止層とＨＣ層の密着を阻害し、帯電防止層と隣接するＨＣ層との界面においてバインダー成分（ＨＣ層との架橋密度を高める反応性基を有する成分）の量が不足して、帯電防止層と隣接するＨＣ層との密着性が悪くなる恐れがある。しかし、密着性を重視して４級アンモニウム塩の量を減少させると、帯電防止性能が悪化してしまう。   When the antistatic agent is a quaternary ammonium salt, the quaternary ammonium salt needs to be present in the layer in a larger amount than the binder in order for the antistatic layer to exhibit antistatic performance. Alternatively, it needs to be concentrated near the interface adjacent to the HC layer of the antistatic layer. However, in such a case, the quaternary ammonium salt present in the vicinity of the interface inhibits the adhesion between the antistatic layer and the HC layer, and the binder component (cross-linking with the HC layer) at the interface between the antistatic layer and the adjacent HC layer. There is a risk that the adhesion between the antistatic layer and the adjacent HC layer may deteriorate due to a shortage of the component having a reactive group that increases the density. However, if the amount of the quaternary ammonium salt is reduced with an emphasis on adhesion, the antistatic performance deteriorates.

帯電防止性と密着性を両立させるために、単純にＰＥＴＡ（ペンタエリスリトールトリアクリレート）やＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）のようなバインダー成分の量を多くするという方法が考えられるが、このようなバインダー成分の量を多くすると帯電防止層の膜厚が厚くなり、それに伴い、帯電防止層のカール（反り）が大きくなるという問題及び帯電防止層中に分散させる高価な帯電防止剤の使用量も増え、コストが増してしまうという問題がある。また、密着性向上のためにバインダーにおける反応性基を有する成分を増やす方法が考えられるが、上述したように、帯電防止性能を発現するために必要な帯電防止剤の量があり、バインダーの量に制限があるため、この方法を採用することは難しい。   In order to achieve both antistatic properties and adhesion, a method of simply increasing the amount of a binder component such as PETA (pentaerythritol triacrylate) or DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate) can be considered. When the amount of the binder component is increased, the film thickness of the antistatic layer increases, and accordingly, the problem that the curling (warping) of the antistatic layer increases, and the amount of the expensive antistatic agent dispersed in the antistatic layer is also increased. There is a problem that the cost increases. In addition, a method of increasing the component having a reactive group in the binder can be considered to improve adhesion, but as described above, there is an amount of an antistatic agent necessary to develop antistatic performance, and the amount of the binder It is difficult to adopt this method because there is a limit to

また、上述のように薄膜である帯電防止層の層中に含まれるバインダー成分と帯電防止剤の総量が限られるため、帯電防止剤の使用量を減らし、その分だけバインダー成分の使用量を増やして帯電防止層とＨＣ層との密着性を高めようとすると、帯電防止剤の使用量が減ってしまい、帯電防止性能が低下してしまうという問題があった。   In addition, since the total amount of binder component and antistatic agent contained in the antistatic layer, which is a thin film, is limited as described above, the amount of antistatic agent used is reduced and the amount of binder component used is increased accordingly. When trying to improve the adhesion between the antistatic layer and the HC layer, there is a problem that the amount of the antistatic agent used decreases and the antistatic performance deteriorates.

一方、帯電防止層と基材との間の界面においては、帯電防止層が基材に密着するために、基材に帯電防止層の組成物のバインダー成分が浸透し、かつ、基材と帯電防止層との界面で、基材内に浸透したバインダー成分と、帯電防止層を形成するバインダー成分が硬化結合していることが必要である。   On the other hand, at the interface between the antistatic layer and the base material, since the antistatic layer adheres to the base material, the binder component of the composition of the antistatic layer penetrates the base material, and the base material and the base material are charged. It is necessary that the binder component that has penetrated into the base material and the binder component that forms the antistatic layer are cured and bonded at the interface with the prevention layer.

帯電防止剤が４級アンモニウム塩の場合には、従来、耐久性や帯電防止性を向上させる目的で、分子量の大きなものを使用することが知られている。しかしながら、４級アンモニウム塩の分子量が大きいと、帯電防止層の組成物のバインダー成分が基材に浸透し難いことから、帯電防止層と基材の密着性を得るために、多量の浸透性溶剤の使用または基材に浸透可能な分子量の小さいバインダーの使用が必要であった。しかし、その場合には、帯電防止層とＨＣ層との界面の密着性が悪くなる問題があった。   In the case where the antistatic agent is a quaternary ammonium salt, it is conventionally known to use one having a large molecular weight for the purpose of improving durability and antistatic properties. However, if the molecular weight of the quaternary ammonium salt is large, the binder component of the composition of the antistatic layer hardly penetrates into the base material. Therefore, in order to obtain adhesion between the antistatic layer and the base material, Or the use of a low molecular weight binder that can penetrate the substrate. However, in that case, there is a problem that the adhesion at the interface between the antistatic layer and the HC layer is deteriorated.

また、従来、浸透性溶剤を用いることで干渉縞防止が可能であり、外観を良好にできる技術が知られているが、浸透性溶剤を用いると、基材内に新たな界面が出来ることもあり、上述した密着性の悪化に加えて、干渉縞を生じ外観も悪くなる問題がある。   In addition, conventionally, a technique that can prevent interference fringes by using a permeable solvent and can improve the appearance is known, but if a permeable solvent is used, a new interface may be formed in the substrate. In addition to the above-described deterioration in adhesion, there is a problem that interference fringes are generated and the appearance is also deteriorated.

特開２００９−０８６６６０号公報JP 2009-086660 A

本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、光学特性や外観が良好で、十分な帯電防止性及び隣接するＨＣ層及びＴＡＣ基材との密着性に優れた帯電防止層を形成することができる帯電防止層用硬化性樹脂組成物を提供することを第一の目的とする。
また、本発明は、そのような組成物を用いて形成された帯電防止層を有するホコリ付着防止性に優れた光学フィルムを提供することを第二の目的とする。
また、本発明は、そのような光学フィルムを有する偏光板を提供することを第三の目的とする。
また、本発明は、そのような光学フィルムを有するディスプレイパネルを提供することを第四の目的とする。The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and has an antistatic layer having good optical characteristics and appearance, sufficient antistatic properties and excellent adhesion to adjacent HC layers and TAC substrates. It is a first object to provide a curable resin composition for an antistatic layer that can be formed.
In addition, a second object of the present invention is to provide an optical film having an antistatic layer formed using such a composition and excellent in dust adhesion prevention.
Moreover, this invention sets it as the 3rd objective to provide the polarizing plate which has such an optical film.
Moreover, this invention sets it as the 4th objective to provide the display panel which has such an optical film.

本発明者らが鋭意検討した結果、帯電防止層の組成物に含まれるバインダー成分であって、隣接するＨＣ層との架橋密度を高め、密着性を得るために用いていたＰＥＴＡやＤＰＨＡのような分子量が９００以下の比較的分子量の小さいバインダー成分がＴＡＣ基材にほぼ全て浸透してしまったり、ＴＡＣ基材の、ＨＣ層との界面である表面からＴＡＣ基材のＨＣ層のない裏面への深さ方向にバインダー成分の浸透の度合いによって、結果、バインダー成分が基材の中に偏在してしまうと、基材上の帯電防止層中に含まれるバインダー成分が少なくなって、ＨＣ層と帯電防止層との界面で反応する成分が不足するため、帯電防止層とＨＣ層との密着性が十分に得られなくなることがあることがわかった。また、ＴＡＣ基材内部に浸透した部分が、グラデーションで浸透せずに、浸透する材料全てが一様に同じ深さまでＴＡＣ基材に浸透してしまうと、ＴＡＣ基材内にバインダー浸透層ができて、基材内に新たな界面が生じ、干渉縞が発生するなど外観が悪化することも分かった。   As a result of intensive studies by the present inventors, it is a binder component contained in the composition of the antistatic layer, such as PETA and DPHA used for increasing the crosslink density with the adjacent HC layer and obtaining adhesion. The binder component with a relatively low molecular weight of 900 or less penetrates almost all into the TAC substrate, or from the surface of the TAC substrate that is the interface with the HC layer to the back surface of the TAC substrate without the HC layer Depending on the degree of penetration of the binder component in the depth direction, as a result, if the binder component is unevenly distributed in the base material, the binder component contained in the antistatic layer on the base material is reduced, and the HC layer It has been found that sufficient adhesion between the antistatic layer and the HC layer may not be obtained due to a lack of components that react at the interface with the antistatic layer. In addition, if the portion that has penetrated into the TAC base material does not penetrate with gradation, and all of the infiltrated material uniformly penetrates the TAC base material to the same depth, a binder permeation layer is formed in the TAC base material. It was also found that the appearance deteriorates, for example, a new interface is formed in the substrate and interference fringes are generated.

そこで本発明者らは、組成物に含まれる帯電防止剤、ＴＡＣ基材に浸透し難い又は浸透しないバインダー成分である特定分子量のウレタンアクリレート及びＴＡＣ基材に浸透するバインダー成分（多官能モノマー）を特定の割合とすることで、十分な帯電防止性を有しながら、ＨＣ層及びＴＡＣ基材との密着性に優れた帯電防止層を形成することができ、光学フィルム全体としては、優れたホコリ付着防止性能が得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。   Therefore, the present inventors include an antistatic agent contained in the composition, a urethane acrylate having a specific molecular weight, which is a binder component that does not easily or does not penetrate into the TAC substrate, and a binder component (polyfunctional monomer) that penetrates into the TAC substrate. By setting a specific ratio, it is possible to form an antistatic layer excellent in adhesion to the HC layer and the TAC substrate while having sufficient antistatic properties, and the entire optical film has excellent dust. It has been found that adhesion prevention performance can be obtained, and the present invention has been completed.

すなわち、上記問題点を解決する本発明に係る帯電防止層用硬化性樹脂組成物は、
（Ａ）帯電防止剤、
（Ｂ）１分子中に光硬化性基を２個以上有し、分子量９００以下の多官能モノマー及び
（Ｃ）１分子中にアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を６個以上有し、重量平均分子量１０００〜１１０００のウレタンアクリレートを含み、
当該（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の総量に対する当該（Ａ）の割合が、１〜３０質量％、かつ、
当該（Ｂ）及び（Ｃ）の総量に対する当該（Ｃ）の割合が１〜４０質量％であることを特徴とする。That is, the curable resin composition for an antistatic layer according to the present invention that solves the above problems is
(A) antistatic agent,
(B) a polyfunctional monomer having two or more photocurable groups in one molecule and a molecular weight of 900 or less; and (C) six or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in one molecule, and a weight average molecular weight. Including 1000-11000 urethane acrylate,
The ratio of (A) to the total amount of (A), (B) and (C) is 1 to 30% by mass, and
The ratio of the (C) to the total amount of the (B) and (C) is 1 to 40% by mass.

帯電防止剤（Ａ）の割合を上記範囲とすることにより、上記組成物を用いて形成した膜厚１〜５μｍの帯電防止層は十分な帯電防止性を有し、その上にＨＣ層を積層して光学フィルムとする場合であっても十分なホコリ付着防止性が確保される。   By setting the ratio of the antistatic agent (A) within the above range, the antistatic layer having a thickness of 1 to 5 μm formed using the above composition has sufficient antistatic properties, and an HC layer is laminated thereon. Even if it is a case where it is set as an optical film, sufficient dust adhesion prevention property is ensured.

従来、帯電防止層の膜厚は、光学性能や透明性を鑑み、０．１〜１μｍ程度の薄膜で設けられていたが、このような薄膜層であると、帯電防止性を付与するために、層内の組成物のほとんどを帯電防止性材料にする必要があったため、基材やその上にくる層との密着性を出すために必要となる反応性基を有するなんらかのバインダーを充分な量添加することが不可能であった。そこで、本願においては、膜厚をある程度厚くし、帯電防止層と隣接する層との密着性を確実なものとするため、帯電防止性材料以外の反応性基を有するバインダー成分を充分に添加可能になるようにした。   Conventionally, the film thickness of the antistatic layer has been provided as a thin film of about 0.1 to 1 μm in view of optical performance and transparency, but such a thin film layer provides antistatic properties. Because most of the composition in the layer needed to be an antistatic material, a sufficient amount of some binder having a reactive group required to provide adhesion to the substrate and the layer on it It was impossible to add. Therefore, in the present application, a binder component having a reactive group other than the antistatic material can be sufficiently added in order to increase the film thickness to some extent and ensure the adhesion between the antistatic layer and the adjacent layer. I tried to become.

また、多官能モノマー（Ｂ）とウレタンアクリレート（Ｃ）の総量に対する、ウレタンアクリレート（Ｃ）の割合を上記範囲とすることにより、ＴＡＣ基材上にＴＡＣ基材側から順に帯電防止層及びＨＣ層を形成しても、ウレタンアクリレート（Ｃ）はＴＡＣ基材に浸透しない又は多官能モノマー（Ｂ）よりも浸透し難いため、ウレタンアクリレート（Ｃ）により帯電防止層とＨＣ層との十分な密着性が得られ、かつ、多官能モノマー（Ｂ）がＴＡＣ基材に浸透するため帯電防止層とＴＡＣ基材との密着性も得られる。   Further, by setting the ratio of urethane acrylate (C) to the total amount of polyfunctional monomer (B) and urethane acrylate (C) within the above range, an antistatic layer and an HC layer are sequentially formed on the TAC substrate from the TAC substrate side. The urethane acrylate (C) does not penetrate into the TAC substrate or is harder to penetrate than the polyfunctional monomer (B), so that sufficient adhesion between the antistatic layer and the HC layer is achieved with the urethane acrylate (C). In addition, since the polyfunctional monomer (B) penetrates into the TAC substrate, adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate is also obtained.

本発明に係る帯電防止層用硬化性樹脂組成物においては、帯電防止剤（Ａ）が、重量平均分子量１０００〜５００００の４級アンモニウム塩であることが、帯電防止剤のＴＡＣ基材への浸透を抑え、かつ、塗工性に優れることから好ましい。   In the curable resin composition for an antistatic layer according to the present invention, the antistatic agent (A) is a quaternary ammonium salt having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000, so that the antistatic agent penetrates into the TAC substrate. It is preferable because it is excellent in coating property and is excellent in coating property.

本発明に係る帯電防止層用硬化性樹脂組成物においては、さらに、（Ｄ）浸透性溶剤及び（Ｅ）非浸透性溶剤を含むことが、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の働きを高められる点から好ましい。   In the curable resin composition for an antistatic layer according to the present invention, the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) may further contain (D) a permeable solvent and (E) a non-permeable solvent. This is preferable from the viewpoint of improving work.

本発明に係る帯電防止層用硬化性樹脂組成物においては、上記帯電防止層用硬化性樹脂組成物の膜厚１〜５μｍの硬化物の表面抵抗値を、１×１０１２Ω／□未満とすることも可能である。帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物、すなわち帯電防止層がこのような帯電防止性能にすることで、帯電防止層の上に５〜１５μｍのハードコート層を積層した光学フィルムはホコリ防止性を発揮することができる。In the curable resin composition for an antistatic layer according to the present invention, the surface resistance value of a cured product having a film thickness of 1 to 5 μm of the curable resin composition for an antistatic layer is less than 1 × 10 12 Ω / □. It is also possible to do. The cured product of the curable resin composition for the antistatic layer, that is, the antistatic layer has such an antistatic performance, so that the optical film in which a hard coat layer of 5 to 15 μm is laminated on the antistatic layer prevents dust. Can demonstrate its sexuality.

なお、表面抵抗値は、ＴＡＣ基材上に上記帯電防止層用硬化性樹脂組成物の膜厚１〜５μｍの硬化物（帯電防止層）を形成し、当該硬化物表面を高抵抗率計（（株）三菱化学アナリテック製；商品名：ハイレスタ ＩＰ ＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて印加電圧１０００Ｖ、温度２５℃、湿度４０％で２４時間調湿の条件下で測定した値を意味する。   In addition, surface resistance value forms the hardened | cured material (antistatic layer) with a film thickness of 1-5 micrometers of the said curable resin composition for antistatic layers on a TAC base material, and the said hardened | cured material surface is a high resistivity meter ( It means a value measured under the condition of humidity control for 24 hours at an applied voltage of 1000 V, a temperature of 25 ° C., and a humidity of 40% by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd .; trade name: Hiresta IP MCP-HT260.

本発明に係る光学フィルムは、トリアセチルセルロース基材の一面側に、当該トリアセチルセルロース基材側から膜厚１〜５μｍの帯電防止層、及びハードコート層が隣接して設けられている光学フィルムであって、当該帯電防止層が上記帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、当該トリアセチルセルロース基材の帯電防止層側の界面近傍の領域には前記多官能モノマー（Ｂ）が浸透して硬化していることを特徴とする。   The optical film according to the present invention is an optical film in which an antistatic layer having a thickness of 1 to 5 μm and a hard coat layer are adjacently provided on one side of a triacetylcellulose substrate from the side of the triacetylcellulose substrate. The antistatic layer comprises a cured product of the curable resin composition for the antistatic layer, and the polyfunctional monomer (B) is present in a region near the interface on the antistatic layer side of the triacetylcellulose substrate. Is characterized in that it penetrates and hardens.

ＴＡＣ基材の一面側に、ＴＡＣ基材側から膜厚１〜５μｍの帯電防止層、及びＨＣ層が設けられている、本発明に係る光学フィルムは、帯電防止層が上記帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなることにより、十分なホコリ付着防止性を有する。更に、ＨＣ層と帯電防止層の密着性は優れたものになる。また、多官能モノマー（Ｂ）がＴＡＣ基材の帯電防止層側の界面側の領域に浸透して硬化していることにより、帯電防止層とＴＡＣ基材との密着性も得られる。光学フィルム全体としては、優れたホコリ付着防止性能が得られる。   An antistatic layer having a film thickness of 1 to 5 μm from the TAC substrate side and an HC layer are provided on one side of the TAC substrate, and the optical film according to the present invention has the antistatic layer cured for the antistatic layer. By having a cured product of the adhesive resin composition, it has sufficient dust adhesion prevention properties. Furthermore, the adhesion between the HC layer and the antistatic layer is excellent. Moreover, the adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate can also be obtained by the penetration of the polyfunctional monomer (B) into the region on the interface side of the TAC substrate on the antistatic layer side. As an entire optical film, excellent dust adhesion prevention performance can be obtained.

本発明に係る光学フィルムの好ましい態様においては、前記ハードコート層、前記帯電防止層及び前記トリアセチルセルロース基材間の碁盤目密着性試験の密着率を、９０〜１００％とし、かつ、温度３０℃、湿度４０％において、紫外線を１時間当たり５００Ｗ／ｍ２の光量で１９２時間照射した後の当該密着率を、８０〜１００％とすることも可能である。In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, the adhesion rate in a cross-cut adhesion test between the hard coat layer, the antistatic layer and the triacetyl cellulose substrate is 90 to 100%, and the temperature is 30. At 90 ° C. and a humidity of 40%, it is possible to set the adhesion rate after irradiation for 192 hours with a light amount of 500 W / m 2 per hour to 80 to 100%.

なお、碁盤目密着性試験の密着率とは、温度２５℃、湿度４０％で２４時間調湿した後の光学フィルムについて、ＪＩＳ Ｋ５４００の碁盤目試験の方法に準じて、ハードコート層面に１ｍｍ間隔で縦及び横、それぞれ１１本の切れ目を入れて１００個の碁盤目を作り、ニチバン（株）製セロテープ（登録商標）を碁盤目上に貼り付けた後、これを速やかに９０°の方向に引張って剥離させ、下記基準に基づいて算出される、剥がれずに残った碁盤目の割合を意味する。
密着率（％）＝（剥がれなかった碁盤目の数／合計の碁盤目数１００）×１００In addition, the adhesion rate of the cross-cut adhesion test refers to the optical film after being conditioned for 24 hours at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 40% according to the cross-cut test method of JIS K5400 on the surface of the hard coat layer. Make 100 grids with 11 cuts in the vertical and horizontal directions, and paste the Nichiban Co., Ltd. cello tape (registered trademark) on the grid, and then quickly turn it into the 90 ° direction. It means the ratio of the grids left without being peeled off, which is calculated based on the following criteria.
Adhesion rate (%) = (number of grids not peeled / total number of grids 100) × 100

本発明に係る光学フィルムの好ましい態様においては、ハードコート層の帯電防止層とは反対側の面にさらに、低屈折率層が設けられている構成とすることも可能である。   In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, a configuration in which a low refractive index layer is further provided on the surface of the hard coat layer opposite to the antistatic layer may be employed.

本発明に係る光学フィルムの好ましい態様においては、ハードコート層を、電離放射線硬化性樹脂を含む組成物の硬化物とすることも可能である。   In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, the hard coat layer can be a cured product of a composition containing an ionizing radiation curable resin.

本発明に係る偏光板は、光学フィルムのトリアセチルセルロース基材側に偏光子が設けられていることを特徴とする。   The polarizing plate according to the present invention is characterized in that a polarizer is provided on the triacetylcellulose substrate side of the optical film.

本発明に係るディスプレイパネルは、光学フィルムのトリアセチルセルロース基材側にディスプレイが配置されていることを特徴とする。   The display panel according to the present invention is characterized in that a display is disposed on the triacetylcellulose substrate side of the optical film.

帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）を上記特定の割合で含有する組成物を硬化させて膜厚１〜５μｍの帯電防止層を形成することで、ＴＡＣ基材上にＴＡＣ基材側から帯電防止層、及びＨＣ層を有する層構成であっても、十分なホコリ付着防止性が得られ、かつ、帯電防止層とＴＡＣ基材及びＨＣ層との密着性が良好な光学フィルムが得られる。また、この帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）を上記特定の割合で含む組成物は、そのような特性を有する光学フィルムに用いられる帯電防止層を形成するのに好適に用いることができる。   By curing the composition containing the antistatic agent (A), the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) in the above specific ratio to form an antistatic layer having a thickness of 1 to 5 μm, a TAC group Even if the layer structure has an antistatic layer and an HC layer from the TAC substrate side on the material, sufficient dust adhesion prevention property is obtained, and adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate and HC layer is obtained. Is obtained. Further, the composition containing the antistatic agent (A), the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) in the specific ratio forms an antistatic layer used for an optical film having such characteristics. It can be used suitably.

図１は、本発明に係る光学フィルムの層構成の一例を示した模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of a layer structure of an optical film according to the present invention. 図２は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を示した模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing another example of the layer structure of the optical film according to the present invention. 図３は、本発明に係る偏光板の層構成の一例を示した模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing an example of the layer structure of the polarizing plate according to the present invention.

以下、本発明に係る帯電防止層用硬化性樹脂組成物（以下、単に「帯電防止層用組成物」ということがある。）、光学フィルム並びに当該光学フィルムを用いた偏光板及びディスプレイパネルについて説明する。   Hereinafter, the curable resin composition for an antistatic layer according to the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “antistatic layer composition”), an optical film, a polarizing plate and a display panel using the optical film are described. To do.

本発明において、（メタ）アクリロイルは、アクリロイル及び／又はメタクリロイルを表し、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを表す。
本発明の光には、可視光並びに紫外線及びＸ線等の非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線のような粒子線及び電磁波と粒子線を総称する放射線又は電離放射線が含まれる。In the present invention, (meth) acryloyl represents acryloyl and / or methacryloyl, and (meth) acrylate represents acrylate and / or methacrylate.
The light of the present invention includes not only visible light and electromagnetic waves having wavelengths in a non-visible region such as ultraviolet rays and X-rays, but also particle beams such as electron beams and radiation or ionizing radiation that collectively refers to electromagnetic waves and particle beams.

本発明において、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で、「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。   In the present invention, the “hard coat layer” refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test (4.9 N load) defined in JIS K5600-5-4 (1999).

なお、フィルムとシートのＪＩＳ−Ｋ６９００での定義では、シートとは薄く一般にその厚さが長さと幅の割りには小さい平らな製品をいい、フィルムとは長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通例、ロールの形で供給されるものをいう。したがって、シートの中でも厚さの特に薄いものがフィルムであるといえるが、シートとフィルムの境界は定かではなく、明確に区別しにくいので、本発明では、厚みの厚いもの及び薄いものの両方の意味を含めて、「フィルム」と定義する。   In the definition of film and sheet in JIS-K6900, a sheet is a thin and generally flat product whose thickness is small relative to the length and width. A film has a thickness compared to the length and width. A thin, flat product that is extremely small and has an arbitrarily limited maximum thickness, usually supplied in the form of a roll. Therefore, it can be said that a film having a particularly thin thickness among the sheets is a film, but the boundary between the sheet and the film is not clear and is difficult to distinguish clearly. Therefore, in the present invention, the meaning of both a thick sheet and a thin sheet is meant. Including “” is defined as “film”.

本発明において樹脂とは、モノマーやオリゴマーの他、ポリマーを含む概念であり、硬化後に帯電防止層やＨＣ層等のその他の機能層のマトリクスとなる成分を意味する。   The resin in the present invention is a concept including a polymer in addition to a monomer and an oligomer, and means a component that becomes a matrix of other functional layers such as an antistatic layer and an HC layer after curing.

本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、ＴＨＦ溶剤におけるゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。   In the present invention, the molecular weight means a weight average molecular weight which is a polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC) in a THF solvent when having a molecular weight distribution, and when having no molecular weight distribution, It means the molecular weight of the compound itself.

本発明において、微粒子の平均粒径とは、組成物における微粒子の場合は、日機装（株）製のＭｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計を用いて測定した値を意味し、硬化膜中の微粒子の場合は、硬化膜の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子１０個の平均値を意味する。   In the present invention, the average particle size of the fine particles means a value measured using a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. in the case of fine particles in the composition. It means the average value of 10 particles observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph of the cross section of the membrane.

本発明において、浸透とは、ＴＡＣ基材を溶解又は膨潤させることをいう。
本発明において、固形分とは、溶剤を除く成分をいう。In the present invention, osmosis means dissolving or swelling the TAC substrate.
In this invention, solid content means the component except a solvent.

（帯電防止層用硬化性樹脂組成物）
本発明に係る帯電防止層用硬化性樹脂組成物は、
（Ａ）帯電防止剤、
（Ｂ）１分子中に光硬化性基を２個以上有し、分子量９００以下の多官能モノマー及び
（Ｃ）１分子中に（メタ）アクリロイル基を６個以上有し、重量平均分子量１０００〜１１０００のウレタンアクリレートを含み、
当該（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の総量に対する当該（Ａ）の割合が、１〜３０質量％、かつ、
当該（Ｂ）及び（Ｃ）の総量に対する当該（Ｃ）の割合が１〜４０質量％であることを特徴とする。(Curable resin composition for antistatic layer)
The curable resin composition for an antistatic layer according to the present invention is
(A) antistatic agent,
(B) two or more photocurable groups in one molecule, a polyfunctional monomer having a molecular weight of 900 or less, and (C) six or more (meth) acryloyl groups in one molecule, and a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000 11,000 urethane acrylates,
The ratio of (A) to the total amount of (A), (B) and (C) is 1 to 30% by mass, and
The ratio of the (C) to the total amount of the (B) and (C) is 1 to 40% by mass.

帯電防止剤（Ａ）の割合を上記範囲とすることにより、帯電防止層は帯電防止性を付与することができ、膜厚１〜５μｍの帯電防止層の上にＨＣ層を形成する場合であっても十分なホコリ付着防止性が確保される。
また、多官能モノマー（Ｂ）とウレタンアクリレート（Ｃ）の総量に対する、ウレタンアクリレート（Ｃ）の割合を上記範囲とすることにより、ＴＡＣ基材上にＴＡＣ基材側から帯電防止層次いでＨＣ層を形成すると、ウレタンアクリレート（Ｃ）はＴＡＣ基材に浸透しないか、又は多官能モノマー（Ｂ）よりも浸透し難いため、ウレタンアクリレート（Ｃ）は、帯電防止層とＨＣ層との界面にも存在し、ウレタンアクリレート（Ｃ）の有する（メタ）アクリロイル基とＨＣ層中の反応性基とが硬化結合することにより帯電防止層とＨＣ層の十分な密着性が得られる。By setting the proportion of the antistatic agent (A) within the above range, the antistatic layer can impart antistatic properties, and this is the case where the HC layer is formed on the antistatic layer having a thickness of 1 to 5 μm. However, sufficient dust adhesion prevention is ensured.
Further, by setting the ratio of urethane acrylate (C) to the total amount of polyfunctional monomer (B) and urethane acrylate (C) within the above range, the antistatic layer and then the HC layer are formed on the TAC substrate from the TAC substrate side. When formed, the urethane acrylate (C) does not penetrate into the TAC substrate or is harder to penetrate than the polyfunctional monomer (B), so the urethane acrylate (C) is also present at the interface between the antistatic layer and the HC layer. In addition, the (meth) acryloyl group of the urethane acrylate (C) and the reactive group in the HC layer are cured and bonded, so that sufficient adhesion between the antistatic layer and the HC layer can be obtained.

さらに、多官能モノマー（Ｂ）がＴＡＣ基材に適度に浸透し（一様に同じ深さではなく、グラデーションを有して浸透）、ＴＡＣ基材中に存在する浸透した多官能モノマー（Ｂ）の反応性基（光硬化性基）と帯電防止層中に存在する多官能モノマー（Ｂ）の反応性基およびウレタンアクリレート（Ｃ）の反応性基（（メタ）アクリロイル基）とが硬化結合するため帯電防止層とＴＡＣ基材との密着性も得られる。   Furthermore, the polyfunctional monomer (B) penetrates the TAC substrate moderately (uniformly penetrates with gradation, not the same depth), and the penetrated polyfunctional monomer (B) present in the TAC substrate. The reactive group (photo-curable group) of the polyfunctional monomer (B) present in the antistatic layer and the reactive group ((meth) acryloyl group) of the urethane acrylate (C) are cured and bonded. Therefore, adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate can also be obtained.

以下、本発明に係る帯電防止層用組成物の必須成分である上記帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）並びに必要に応じて適宜含まれていても良いその他の成分について説明する。   Hereinafter, the antistatic agent (A), the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C), which are essential components of the composition for an antistatic layer according to the present invention, and others that may be appropriately included as necessary. The components of will be described.

（Ａ：帯電防止剤）
帯電防止剤（Ａ）は、帯電防止層用組成物の硬化膜である帯電防止層又は光学フィルムに導電性を付与して帯電を防止し、埃や塵が付着したり、帯電による工程内不良が発生したりするのを防ぐ性質、すなわち帯電防止性を付与する働きを有する成分である。(A: Antistatic agent)
The antistatic agent (A) imparts conductivity to the antistatic layer or optical film, which is a cured film of the composition for the antistatic layer, to prevent electrification, and dust or dust adheres to it. It is a component that has the property of preventing the occurrence of, i.e., the function of imparting antistatic properties.

帯電防止剤（Ａ）としては、従来公知の帯電防止剤を用いることができ、特に限定されない。
例えば、特許文献１に記載の４級アンモニウム塩等のカチオン性化合物、スルホン酸塩基等のアニオン性化合物、アミノ酸系等の両性化合物、アミノアルコール系等のノニオン性化合物、有機金属化合物及び金属キレート化合物並びにこれら化合物を高分子量化した化合物、重合性化合物、平均１次粒径が１〜１００ｎｍの酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の導電性超微粒子並びに脂肪族共役系のポリアセチレン等の高分子型導電性組成物が挙げられる。A conventionally known antistatic agent can be used as the antistatic agent (A), and is not particularly limited.
For example, a cationic compound such as a quaternary ammonium salt described in Patent Document 1, an anionic compound such as a sulfonate group, an amphoteric compound such as an amino acid group, a nonionic compound such as an amino alcohol group, an organometallic compound, and a metal chelate compound In addition, high molecular weight compounds of these compounds, polymerizable compounds, conductive ultrafine particles such as indium tin oxide (ITO) having an average primary particle size of 1 to 100 nm, and polymer type conductivity such as aliphatic conjugated polyacetylene A composition.

本発明に係る帯電防止層用硬化性樹脂組成物においては、帯電防止剤（Ａ）が、重量平均分子量１０００〜５００００の４級アンモニウム塩であることが、帯電防止剤（Ａ）のＴＡＣ基材への浸透を抑え、かつ、塗工性に優れることから好ましい。上記上限を超えると、組成物の塗工性が悪化し、上記下限を下回ると、帯電防止層のＨＣ層との界面に帯電防止剤がブリードアウトしやすくなり、帯電防止層とＨＣ層との密着性が悪化する恐れがある。   In the curable resin composition for an antistatic layer according to the present invention, the antistatic agent (A) is a quaternary ammonium salt having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000, and the TAC substrate of the antistatic agent (A). It is preferable because it suppresses penetration into the resin and is excellent in coatability. When the above upper limit is exceeded, the coating property of the composition deteriorates, and when below the lower limit, the antistatic agent tends to bleed out at the interface between the antistatic layer and the HC layer, and the antistatic layer and the HC layer Adhesion may be deteriorated.

従来、帯電防止層の膜厚は、光学性能や透明性を鑑み、０．１〜１μｍ程度の薄膜で設けられていたが、このような薄膜層であると、帯電防止性を付与するために、層内の組成物のほとんどを帯電防止性材料にする必要があったため、基材やその上にくる層との密着性を出すために必要となる反応性基を有する樹脂組成物を充分な量添加することが非常に困難であった。そこで、本発明においては、膜厚を１〜５μｍと従来よりも厚くし、帯電防止層と隣接する層との密着性を確実なものとするため、帯電防止性材料以外の反応性基を有する樹脂組成物を充分に添加可能になるようにしている。膜厚が増加するため、添加する帯電防止剤は、透明性の高い材料を選択することが望ましい。この点において、無機材料よりは透明性の高い有機材料が好ましく、更に、有機材料の中でも着色の極めて少ない４級アンモニウム塩が最適である。４級アンモニウム塩を用いた場合には、透明性基材がＴＡＣである場合、光学フィルム全体の全光線透過率を９０％以上にすることができる点でも好ましい。また、ヘイズ値も０．５％以下にすることが可能になる。全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１（１９９７）に従い、ヘイズ値はＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００）に従い、村上色彩技術研究所製ＨＭ１５０などで測定できる。   Conventionally, the film thickness of the antistatic layer has been provided as a thin film of about 0.1 to 1 μm in view of optical performance and transparency, but such a thin film layer provides antistatic properties. Since most of the composition in the layer had to be made into an antistatic material, a resin composition having a reactive group necessary for providing adhesion to the base material and the layer on it was sufficient. It was very difficult to add the amount. Therefore, in the present invention, in order to make the film thickness 1-5 μm thicker than before and to ensure the adhesion between the antistatic layer and the adjacent layer, it has a reactive group other than the antistatic material. The resin composition can be sufficiently added. Since the film thickness increases, it is desirable to select a highly transparent material for the antistatic agent to be added. In this respect, an organic material having higher transparency than the inorganic material is preferable, and among the organic materials, a quaternary ammonium salt with extremely little coloring is optimal. When a quaternary ammonium salt is used, when the transparent substrate is TAC, it is preferable in that the total light transmittance of the entire optical film can be 90% or more. Further, the haze value can be reduced to 0.5% or less. The total light transmittance can be measured according to JIS K7361 (1997), and the haze value can be measured with HM150 manufactured by Murakami Color Research Laboratory according to JIS K7136 (2000).

さらに、この４級アンモニウム塩は、光硬化性基を有することが、ＨＣ層のバインダー成分との架橋反応により帯電防止層とＨＣ層との密着性を高められる点から好ましい。光硬化性基は、重合性不飽和基であることが好ましく、より好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基等のエチレン性不飽和結合を有する基並びにエポキシ基等が挙げられる。
このような重量平均分子量が１０００〜５００００である４級アンモニウム塩の市販品としては、例えば、三菱化学（株）製の商品名Ｈ６１００並びに新中村化学工業（株）製の商品名ユニレジンＡＳ−１０／Ｍ、ユニレジンＡＳ−１２／Ｍ、ユニレジンＡＳ−１５／Ｍ及びユニレジンＡＳＨ２６等を挙げることができる。Further, it is preferable that the quaternary ammonium salt has a photocurable group from the viewpoint of improving the adhesion between the antistatic layer and the HC layer by a crosslinking reaction with the binder component of the HC layer. The photocurable group is preferably a polymerizable unsaturated group, and more preferably an ionizing radiation curable unsaturated group. Specific examples thereof include a group having an ethylenically unsaturated bond such as a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, a vinyl group and an allyl group, and an epoxy group.
Examples of commercially available quaternary ammonium salts having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 include, for example, trade name H6100 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation and trade name Uniresin AS-10 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. / M, Uniresin AS-12 / M, Uniresin AS-15 / M, Uniresin ASH26 and the like.

帯電防止層用組成物において帯電防止剤（Ａ）は、帯電防止剤（Ａ）と後述する多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）との総量に対して、１〜３０質量％含まれている。
帯電防止剤（Ａ）の割合が上記総量（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）に対して１質量％未満では、十分な帯電防止性能が得られない。また、帯電防止剤（Ａ）の割合が上記総量（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）に対して３０質量％を超えると帯電防止層用組成物における多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の割合が減少し、帯電防止層の当該層に隣接するＴＡＣ基材やＨＣ層との十分な密着性が得られなくなる。
帯電防止剤（Ａ）の割合は、上記総量（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）に対して、１〜３０質量％であるが、好ましくは、５〜２０質量％である。In the composition for an antistatic layer, the antistatic agent (A) is contained in an amount of 1 to 30% by mass based on the total amount of the antistatic agent (A) and the polyfunctional monomer (B) and urethane acrylate (C) described later. ing.
If the proportion of the antistatic agent (A) is less than 1% by mass relative to the total amount (A + B + C), sufficient antistatic performance cannot be obtained. Moreover, when the proportion of the antistatic agent (A) exceeds 30% by mass with respect to the total amount (A + B + C), the proportion of the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) in the antistatic layer composition is decreased. Sufficient adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate or HC layer adjacent to the layer cannot be obtained.
The ratio of the antistatic agent (A) is 1 to 30% by mass, preferably 5 to 20% by mass, based on the total amount (A + B + C).

（Ｂ：多官能モノマー）
多官能モノマー（Ｂ）は、硬化して帯電防止層のマトリクスとなるバインダー成分の一つであり、１分子中に光硬化性基を２個以上有する分子量９００以下の単量体である。分子量が小さく、かつ、多官能であることにより帯電防止層内や帯電防止層に隣接するＨＣ層との架橋密度を高め、密着性向上に寄与する成分である。また、多官能モノマーは、その少なくとも一部がＴＡＣ基材に浸透し、硬化することにより帯電防止層とＴＡＣ基材との密着性向上にも寄与する。
多官能モノマー（Ｂ）の分子量が９００を超えると、ＴＡＣ基材への浸透性が低下し帯電防止層とＴＡＣ基材の十分な密着性が得られなくなるおそれがある。
多官能モノマー（Ｂ）の分子量は、９００以下であれば良いが、多官能モノママー（Ｂ）のＴＡＣ基材への浸透を適度にして、帯電防止層とＨＣ層との密着性と帯電防止性（表面抵抗値）を高度に両立する観点から、多官能モノマー（Ｂ）の分子量は、２３０以上であることが好ましく、２９０以上であることがより好ましい。分子量が２３０よりも小さいと、多官能モノマー（Ｂ）のＴＡＣ基材への浸透が適度でなく、すべて一様の深さに浸透して新たな界面が発生してしまうことがあり、その界面で反射した光と、帯電防止層とＨＣ層との界面で反射した光や、ＨＣ層表面で反射した光との間で光干渉が起こり、干渉縞が生じて外観が悪化する恐れがある。(B: polyfunctional monomer)
The polyfunctional monomer (B) is one of binder components that are cured to form a matrix of the antistatic layer, and is a monomer having a molecular weight of 900 or less having two or more photocurable groups in one molecule. It is a component that contributes to improving adhesion by increasing the crosslink density with the HC layer in the antistatic layer or adjacent to the antistatic layer by having a low molecular weight and polyfunctionality. Further, at least a part of the polyfunctional monomer penetrates into the TAC base material and is cured, thereby contributing to improvement in adhesion between the antistatic layer and the TAC base material.
When the molecular weight of the polyfunctional monomer (B) exceeds 900, the permeability to the TAC substrate is lowered, and sufficient adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate may not be obtained.
The molecular weight of the polyfunctional monomer (B) may be 900 or less, but the penetration of the polyfunctional monomer (B) into the TAC base material is moderated, and the adhesion between the antistatic layer and the HC layer and the antistatic property From the viewpoint of highly satisfying (surface resistance value), the molecular weight of the polyfunctional monomer (B) is preferably 230 or more, and more preferably 290 or more. If the molecular weight is less than 230, the polyfunctional monomer (B) may not penetrate into the TAC base material properly, and may penetrate into a uniform depth and generate a new interface. There is a possibility that optical interference occurs between the light reflected at, the light reflected at the interface between the antistatic layer and the HC layer, and the light reflected from the surface of the HC layer, resulting in interference fringes and deterioration of the appearance.

多官能モノマー（Ｂ）として、１種又は２種以上を用いることができる。
多官能モノマー（Ｂ）の光硬化性基は架橋構造を形成するために２個以上であるが、３個以上有することが好ましく、５個以上有することがより好ましい。３個以上であれば、帯電防止層とＨＣ層及びＴＡＣ基材との十分な密着性が得られやすくなる。光硬化性基としては、帯電防止剤で挙げたものと同様のものが挙げられる。1 type (s) or 2 or more types can be used as a polyfunctional monomer (B).
The number of photocurable groups of the polyfunctional monomer (B) is 2 or more in order to form a crosslinked structure, but preferably 3 or more, more preferably 5 or more. If the number is 3 or more, sufficient adhesion between the antistatic layer, the HC layer, and the TAC substrate is easily obtained. Examples of the photocurable group include the same ones as mentioned for the antistatic agent.

多官能モノマー（Ｂ）としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート及びトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート並びにこれらの変性体が挙げられる。
なお、変性体としては、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性体、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性体、ＣＬ（カプロラクトン）変性体及びイソシアヌル酸変性体等が挙げられる。
上記多官能モノマーにおいて、硬化反応性の点から、光硬化性基はメタクリロイル基よりもアクリロイル基が好ましい。
多官能モノマー（Ｂ）としては、特にジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）が好ましく用いられる。Examples of the polyfunctional monomer (B) include pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and trimethylolpropane hexa. Examples thereof include (meth) acrylates and modified products thereof.
Examples of modified products include EO (ethylene oxide) modified products, PO (propylene oxide) modified products, CL (caprolactone) modified products, and isocyanuric acid modified products.
In the polyfunctional monomer, from the viewpoint of curing reactivity, the photocurable group is preferably an acryloyl group rather than a methacryloyl group.
As the polyfunctional monomer (B), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) are particularly preferably used.

本発明に係る帯電防止層用組成物において、多官能モノマー（Ｂ）は、上述した帯電防止剤の含有割合を満たし、かつ、多官能モノマー（Ｂ）と後述するウレタンアクリレート（Ｃ）の総量に対して６０〜９９質量％である。６０質量％未満では、帯電防止層とＨＣ層及びＴＡＣ基材との十分な密着性が得られない。また、９９質量％を超えると、ウレタンアクリレート（Ｃ）の割合が少なく、帯電防止層とＨＣ層との十分な密着性が得られない。   In the composition for an antistatic layer according to the present invention, the polyfunctional monomer (B) satisfies the above-described content ratio of the antistatic agent, and the total amount of the polyfunctional monomer (B) and urethane acrylate (C) described later. It is 60-99 mass% with respect to it. If it is less than 60% by mass, sufficient adhesion between the antistatic layer, the HC layer and the TAC substrate cannot be obtained. Moreover, when it exceeds 99 mass%, the ratio of urethane acrylate (C) is small, and sufficient adhesion between the antistatic layer and the HC layer cannot be obtained.

（Ｃ：ウレタンアクリレート）
ウレタンアクリレート（Ｃ）は、硬化して帯電防止層のマトリクスとなるバインダー成分の一つであり、１分子中に（メタ）アクリロイル基を６個以上有し、重量平均分子量が１０００〜１１０００であり、好ましくは１０００〜１００００、より好ましくは１０００〜５０００である。
重量平均分子量が１０００〜１１０００であることにより、塗工性が良好で、ＴＡＣ基材に浸透しない又は多官能モノマー（Ｂ）よりも浸透し難く、浸透の制御がしやすく、確実に帯電防止層中全体に存在する。(C: urethane acrylate)
Urethane acrylate (C) is one of the binder components that are cured to form a matrix of the antistatic layer, has 6 or more (meth) acryloyl groups in one molecule, and has a weight average molecular weight of 1000 to 11000. , Preferably it is 1000-10000, More preferably, it is 1000-5000.
When the weight average molecular weight is 1000 to 11000, the coating property is good, the TAC base material does not penetrate or it is harder to penetrate than the polyfunctional monomer (B), the penetration is easy to control, and the antistatic layer is surely Present throughout.

帯電防止剤（Ａ）が、４級アンモニウム塩である場合、この化合物の性質として、親水性の化合物との相溶性が良い。そのため、帯電防止層中のバインダーがＯＨ基を有する化合物（ＰＥＴＡ、ＰＥＴＴＡ ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＤＰＰＡ ジペンタエリスリトールペンタアクリレートなど）であると、帯電防止剤が層全体に分散しすぎてしまい、帯電防止性が得られなくなる。ＤＰＨＡは構造式上はＯＨ基を含有しないが、一般的に合成上１００％６官能にすることは困難であることから、実際には５官能や４官能部分との混合化合物であることが知られており、一般に市販されている樹脂はＯＨ基が残っている化合物であるため、好ましい帯電防止性が得られなかった。   When the antistatic agent (A) is a quaternary ammonium salt, this compound has good compatibility with a hydrophilic compound. Therefore, if the binder in the antistatic layer is a compound having an OH group (PETA, PETTA pentaerythritol tetraacrylate, DPPA dipentaerythritol pentaacrylate, etc.), the antistatic agent is excessively dispersed throughout the layer, and thus the antistatic Sex cannot be obtained. Although DPHA does not contain an OH group in terms of structural formula, it is generally difficult to make it 100% hexafunctional in the synthesis, so it is known that it is actually a mixed compound with pentafunctional or tetrafunctional moieties. In general, a commercially available resin is a compound in which an OH group remains, so that a preferable antistatic property cannot be obtained.

この分散性を制御できるのが、疎水性樹脂であるウレタンアクリレート（Ｃ）である。ウレタンアクリレート（Ｃ）が層の中全体に存在することによって、帯電防止剤（Ａ）が、４級アンモニウム塩系であった場合、帯電防止剤が、層内で分散しすぎたり、ＨＣとの界面方向にブリードアウトしたりすることを確実に制御できる。ＨＣ界面方向にブリードアウトしやすいのは、上記したように４級アンモニウム塩は親水性を好むので、帯電防止層を積層、硬化したときにその表面には空気が存在し、その空気中の水分に反応してブリードアウトするからである。   This dispersibility can be controlled by urethane acrylate (C) which is a hydrophobic resin. When the urethane acrylate (C) is present in the entire layer, when the antistatic agent (A) is a quaternary ammonium salt system, the antistatic agent is excessively dispersed in the layer, or Bleed out in the interface direction can be reliably controlled. As described above, the quaternary ammonium salt prefers hydrophilicity because it tends to bleed out in the HC interface direction. Therefore, when the antistatic layer is laminated and cured, air is present on its surface, and moisture in the air is present. It is because it bleeds out in response to.

そして、（メタ）アクリロイル基を６個以上有することにより帯電防止層内や帯電防止層に隣接するＨＣ層中の反応性基との架橋密度を高め、帯電防止層とＨＣ層の密着性の向上に寄与する。また、ＴＡＣ基材に浸透した帯電防止層の多官能モノマー（Ｂ）の反応性基が、帯電防止層中に存在するウレタンアクリレート（Ｃ）の（メタ）アクリロイル基や多官能モノマーの反応性基と架橋密度を高めることから、ウレタンアクリレート（Ｃ）は帯電防止層とＴＡＣ基材の密着性の向上にも寄与する。密着性の面からみた場合は、ウレタンアクリレート（Ｃ）は添加せずに、帯電防止剤（Ａ）以外は反応性基を多数有する多官能モノマー（Ｂ）であればよいことになるが、上記したように帯電防止剤（Ａ）の帯電防止層内での動きを制御するためには多官能モノマー（Ｂ）だけでは制御困難であり、帯電防止剤（Ａ）が分散しないために疎水性で、かつ反応性基を多数有するウレタンアクリレート（Ｃ）が必須なのである。
また、ウレタンアクリレート（Ｃ）を含有することは、カール（反り）発生の抑制にも有効である。And by having six or more (meth) acryloyl groups, the crosslink density with the reactive groups in the antistatic layer or in the HC layer adjacent to the antistatic layer is increased, and the adhesion between the antistatic layer and the HC layer is improved. Contribute to. In addition, the reactive group of the polyfunctional monomer (B) of the antistatic layer penetrating into the TAC substrate is a reactive group of the (meth) acryloyl group of the urethane acrylate (C) or the polyfunctional monomer present in the antistatic layer. Therefore, the urethane acrylate (C) contributes to the improvement of the adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate. From the standpoint of adhesion, the urethane acrylate (C) is not added, and any polyfunctional monomer (B) having many reactive groups other than the antistatic agent (A) may be used. As described above, in order to control the movement of the antistatic agent (A) in the antistatic layer, it is difficult to control with the polyfunctional monomer (B) alone, and since the antistatic agent (A) is not dispersed, it is hydrophobic. And urethane acrylate (C) having many reactive groups is essential.
Moreover, containing urethane acrylate (C) is also effective in suppressing curling (warping).

ウレタンアクリレート（Ｃ）の重量平均分子量が１０００未満では、ウレタンアクリレート（Ｃ）がＴＡＣ基材に浸透し易くなり、ＴＡＣ基材に浸透しすぎて、帯電防止層とＨＣ層の界面におけるアクリロイル基が減少してしまい、帯電防止層とＨＣ層の密着性が得られにくくなるおそれがある。
ウレタンアクリレート（Ｃ）の重量平均分子量が１１０００を超えると、塗工性が悪化するおそれがある。When the weight average molecular weight of the urethane acrylate (C) is less than 1000, the urethane acrylate (C) easily penetrates into the TAC substrate, and penetrates too much into the TAC substrate, and acryloyl groups at the interface between the antistatic layer and the HC layer are formed. There is a risk that the adhesion between the antistatic layer and the HC layer may be difficult to obtain.
If the weight average molecular weight of the urethane acrylate (C) exceeds 11,000, the coatability may be deteriorated.

ウレタンアクリレート（Ｃ）は、（メタ）アクリロイル基を６個以上有すれば、電離放射線硬化性不飽和基等の他の架橋反応性の官能基が含まれていても良い。（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基とメタクリロイル基を合わせて６個以上有すれば良く、アクリロイル基のみを有していても良いし、メタクリロイル基のみを有していても良い。   As long as the urethane acrylate (C) has 6 or more (meth) acryloyl groups, other crosslinking reactive functional groups such as ionizing radiation-curable unsaturated groups may be included. The (meth) acryloyl group may be 6 or more in total including the acryloyl group and methacryloyl group, may have only acryloyl group, or may have only methacryloyl group.

本発明のウレタンアクリレート（Ｃ）としては、ウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−）を有し、（メタ）アクリロイル基を６個以上有し、かつ、上記重量平均分子量であれば特に限定されない。ウレタンアクリレート（Ｃ）としては、塗膜とした時に光が透過する透光性のものが好ましく、紫外線又は電子線で代表される電離放射線により硬化する樹脂である電離放射線硬化性ウレタンアクリレート、その他公知のウレタンアクリレートなどを要求性能などに応じて適宜採用すればよい。   The urethane acrylate (C) of the present invention is not particularly limited as long as it has a urethane bond (—NH—CO—O—), has 6 or more (meth) acryloyl groups, and has the above weight average molecular weight. . The urethane acrylate (C) is preferably a translucent material that transmits light when formed into a coating film, an ionizing radiation curable urethane acrylate that is a resin that is cured by ionizing radiation represented by ultraviolet rays or electron beams, and other publicly known ones. The urethane acrylate or the like may be appropriately employed depending on the required performance.

上記ウレタンアクリレートの市販品としては例えば、特許文献１に記載の日本合成化学工業（株）製の商品名ＵＶ１７００Ｂ、根上工業（株）製の商品名ＵＮ３３２０ＨＳ、荒川化学工業（株）製の商品名ＢＳ５７７並びに新中村化学工業（株）製の商品名Ｕ１５ＨＡ、Ｕ１５Ｈ、Ｕ９ＨＡ、Ｕ９Ｈ、Ｕ６ＨＡ及びＵ６Ｈ等を挙げることができる。   Commercially available products of the urethane acrylate include, for example, trade name UV1700B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. described in Patent Document 1, trade name UN3320HS manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., trade name manufactured by Arakawa Chemical Industries Examples include BS577 and trade names U15HA, U15H, U9HA, U9H, U6HA and U6H manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.

本発明の帯電防止層用組成物において、ウレタンアクリレート（Ｃ）は、上述した帯電防止剤の含有割合を満たし、かつ、上記多官能モノマー（Ｂ）とウレタンアクリレート（Ｃ）の総量に対して１〜４０質量％である。１質量％未満では、帯電防止層とＨＣ層との十分な密着性が得られない。また、４０質量％を超えると、多官能モノマー（Ｂ）の割合が少なく、帯電防止層とＴＡＣ基材との十分な密着性が得られない。
ウレタンアクリレート（Ｃ）の割合は、上記総量（Ｂ＋Ｃ）に対して、１〜４０質量％であるが、好ましくは、５〜３０質量％である。In the composition for an antistatic layer of the present invention, the urethane acrylate (C) satisfies the above-described content ratio of the antistatic agent and is 1 with respect to the total amount of the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C). -40 mass%. If it is less than 1% by mass, sufficient adhesion between the antistatic layer and the HC layer cannot be obtained. Moreover, when it exceeds 40 mass%, the ratio of a polyfunctional monomer (B) will be small, and sufficient adhesiveness of an antistatic layer and a TAC base material will not be obtained.
The ratio of the urethane acrylate (C) is 1 to 40% by mass, preferably 5 to 30% by mass, based on the total amount (B + C).

このように、バインダー中の多官能モノマー（Ｂ）、ウレンタンアクリレート（Ｃ）の割合が適切であることによって、帯電防止剤（Ａ）が帯電防止層内に分散しすぎることも、ブリードアウトしてしまうこともなく、層内に帯電防止性を発揮できるレベルに集まって存在できる。この組成であるからこそ、帯電防止層の表面低効率が１×１０１２Ω／□未満が可能になる。As described above, when the ratio of the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) in the binder is appropriate, the antistatic agent (A) may be excessively dispersed in the antistatic layer. In this way, the layers can be present at a level where antistatic properties can be exhibited. With this composition, the surface low efficiency of the antistatic layer can be less than 1 × 10 12 Ω / □.

帯電防止層用組成物には、上記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分の他、必要に応じて適宜溶剤及び重合開始剤が含まれていても良い。以下、これらのその他の成分について説明する。   In addition to the components (A), (B), and (C), the antistatic layer composition may appropriately contain a solvent and a polymerization initiator as necessary. Hereinafter, these other components will be described.

（溶剤）
溶剤としては、特許文献１に記載のアセトン等のケトン系溶剤、酢酸メチル等のエステル系溶剤、アセトニトリル等の含窒素系溶剤、メチルグリコール等のグリコール系溶剤、ＴＨＦ等のエーテル系溶剤、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶剤及びメチルセロソルブ等のグリコールエーテル系溶剤等の浸透性溶剤を用いることができる。(solvent)
Examples of the solvent include ketone solvents such as acetone described in Patent Document 1, ester solvents such as methyl acetate, nitrogen-containing solvents such as acetonitrile, glycol solvents such as methyl glycol, ether solvents such as THF, and methylene chloride. A permeable solvent such as a halogenated hydrocarbon solvent such as methyl glycol solvent and a methyl ether solvent such as methyl cellosolve can be used.

浸透性溶剤としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）及びシクロヘキサノンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。   The permeable solvent is preferably at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), and cyclohexanone.

また、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール及びｔｅｒｔ−ブタノール等の非浸透性溶剤を用いても良い。   Further, non-permeable solvents such as propylene glycol monomethyl ether (PGME), normal propanol, isopropanol, normal butanol, sec-butanol, isobutanol and tert-butanol may be used.

上記溶剤は１種単独で用いても良いし、２種以上を混合して用いても良い。
本発明の帯電防止層用組成物においては、浸透性溶剤を用いることにより、上記多官能モノマー（Ｂ）のＴＡＣ基材への浸透が促進され、帯電防止層とＴＡＣ基材の密着性が向上すると推測されることから浸透性溶剤を用いることが好ましい。The said solvent may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.
In the composition for an antistatic layer of the present invention, by using a permeable solvent, the penetration of the polyfunctional monomer (B) into the TAC substrate is promoted, and the adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate is improved. Then, since it is estimated, it is preferable to use a permeable solvent.

また、本発明の帯電防止層用組成物においては、非浸透性溶剤を用いることにより、上記ウレタンアクリレート（Ｃ）のＴＡＣ基材への浸透が抑制され、帯電防止層とＨＣ層の密着性が向上すると推測されることから非浸透性溶剤を用いることが好ましい。   In the antistatic layer composition of the present invention, by using a non-permeable solvent, the penetration of the urethane acrylate (C) into the TAC substrate is suppressed, and the adhesion between the antistatic layer and the HC layer is improved. Since it is estimated that it improves, it is preferable to use a non-permeable solvent.

そのため、本発明の帯電防止層用組成物においては、溶剤が１種の場合は浸透溶剤を用いることが好ましいが、２種類以上の溶剤の場合に、浸透性溶剤と非浸透性溶剤を組み合わせて用いることが最も好ましい。１種類(浸透溶剤のみ)でもウレタンアクリレート（Ｃ）の分子量で浸透の制御はできるが、浸透性溶剤と非浸透性溶剤を組み合わせて用いた方がより浸透の制御がしやすく、組成物を用いた帯電防止層の安定した性能を得ることができるからである。
浸透性溶剤と非浸透性溶剤を組み合わせて用いる場合、その質量比が、浸透性溶剤：非浸透性溶剤＝１００：０〜、好ましくは９０：１０〜５０：５０であり、かつ、帯電防止層用組成物の全固形分１００質量部に対して、３０〜５００質量部であることが好ましい。Therefore, in the composition for an antistatic layer of the present invention, it is preferable to use a penetrating solvent when there is only one solvent, but in the case of two or more kinds of solvents, a combination of a penetrating solvent and a non-permeable solvent is used. Most preferably, it is used. Even one type (only penetrating solvent) can control penetration by the molecular weight of urethane acrylate (C), but the combination of penetrating solvent and non-penetrating solvent makes it easier to control penetrating and uses composition. This is because the stable performance of the antistatic layer can be obtained.
When the osmotic solvent and the non-permeable solvent are used in combination, the mass ratio is osmotic solvent: non-permeable solvent = 100: 0, preferably 90:10 to 50:50, and the antistatic layer It is preferable that it is 30-500 mass parts with respect to 100 mass parts of total solid content of the composition for an object.

（重合開始剤）
重合開始剤は、上記バインダー成分（Ｂ）の架橋反応を開始又は促進する成分であり、必要に応じて従来公知のラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いても良い。ラジカル重合開始剤としては、例えば、チバ・ジャパン（株）製の商品名イルガキュア１８４（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）が好ましく用いられる。重合開始剤を用いる場合、その含有量は、帯電防止層用組成物の全固形分の合計質量に対して０．４〜２．０質量％であることが好ましい。このように帯電防止層用組成物に用いる重合開始剤の量を、ＨＣ層で用いる重合開始剤の１／１０〜１／２の量にすることで、帯電防止層の反応性基を多く残すことができる。これにより反応が進行しづらくなるため、カールの発生も防止される。(Polymerization initiator)
A polymerization initiator is a component which starts or accelerates | stimulates the crosslinking reaction of the said binder component (B), You may select and use a conventionally well-known radical, a cationic polymerization initiator, etc. suitably as needed. As the radical polymerization initiator, for example, trade name Irgacure 184 (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. is preferably used. When using a polymerization initiator, it is preferable that the content is 0.4-2.0 mass% with respect to the total mass of the total solid of the composition for antistatic layers. Thus, the amount of the polymerization initiator used in the composition for the antistatic layer is 1/10 to 1/2 that of the polymerization initiator used in the HC layer, so that many reactive groups in the antistatic layer remain. be able to. This makes it difficult for the reaction to proceed, thus preventing curling.

（帯電防止層用硬化性樹脂組成物の調製）
上記帯電防止層用硬化性樹脂組成物は、溶剤に上記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分を混合分散することにより得ることができる。また、上記（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）成分が溶剤が無くても十分な流動性を有する場合には、溶剤は無くても良い。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等の公知の方法を使用することができる。(Preparation of curable resin composition for antistatic layer)
The curable resin composition for an antistatic layer can be obtained by mixing and dispersing the components (A), (B), and (C) in a solvent. Further, when the component (A), (B) or (C) has sufficient fluidity even without a solvent, the solvent may be omitted. A known method such as a paint shaker or a bead mill can be used for mixing and dispersing.

本発明に係る帯電防止層用硬化性樹脂組成物においては、帯電防止剤（Ａ）を上述した範囲とすることにより、上記帯電防止層用硬化性樹脂組成物の膜厚１〜５μｍの硬化物の表面抵抗値を、１×１０１２Ω／□未満とすることも可能である。帯電防止層がこのような帯電防止性能であることによって、比較的厚い膜厚のＨＣ層を積層しても、光学フィルム全体において優れたホコリ付着防止性能を発揮することができる。In the curable resin composition for an antistatic layer according to the present invention, by setting the antistatic agent (A) in the above-described range, the cured product having a film thickness of 1 to 5 μm of the curable resin composition for an antistatic layer. It is also possible to make the surface resistance value of less than 1 × 10 12 Ω / □. Since the antistatic layer has such an antistatic performance, even if a relatively thick HC layer is laminated, it is possible to exhibit an excellent dust adhesion preventing performance in the entire optical film.

帯電防止層の膜厚を１μｍ未満にすると、同等の表面抵抗を維持するために帯電防止剤である４級アンモニウム塩の量を増加する必要があるが、その場合には帯電防止剤の反応性基が減少し、帯電防止層とＨＣ層との密着が悪化する恐れがある。
帯電防止層の膜厚が５μｍを超えると、表面抵抗は発現しやすいが、カールが発生し、コストが上昇し、ハンドリング性が悪化する恐れがある。If the film thickness of the antistatic layer is less than 1 μm, it is necessary to increase the amount of the quaternary ammonium salt as an antistatic agent in order to maintain the same surface resistance. There is a possibility that the number of groups decreases and the adhesion between the antistatic layer and the HC layer deteriorates.
When the film thickness of the antistatic layer exceeds 5 μm, surface resistance tends to be manifested, but curling occurs, costs increase, and handling properties may deteriorate.

さらに、帯電防止層用組成物において、帯電防止剤（Ａ）を帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の総量に対して５〜２０質量％、かつ、ウレタンアクリレート（Ｃ）を多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の総量に対して５〜３０質量％とすることにより、十分な帯電防止性に加え、光学フィルムの密着性の紫外線（ＵＶ）に対する優れた耐久性も得られる。   Furthermore, in the composition for an antistatic layer, the antistatic agent (A) is 5 to 20% by mass with respect to the total amount of the antistatic agent (A), the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C), and urethane. By making the acrylate (C) 5 to 30% by mass with respect to the total amount of the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C), in addition to sufficient antistatic properties, the ultraviolet rays (UV) of the adhesiveness of the optical film Excellent durability is also obtained.

（光学フィルム）
本発明に係る光学フィルムは、トリアセチルセルロース基材の一面側に、当該トリアセチルセルロース基材側から膜厚１〜５μｍの帯電防止層、及びハードコート層が隣接して設けられている光学フィルムであって、当該帯電防止層が上記帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、トリアセチルセルロース基材の当該帯電防止層側の界面側の領域には前記多官能モノマー（Ｂ）が浸透して硬化していることを特徴とする。(Optical film)
The optical film according to the present invention is an optical film in which an antistatic layer having a thickness of 1 to 5 μm and a hard coat layer are adjacently provided on one side of a triacetylcellulose substrate from the side of the triacetylcellulose substrate. The antistatic layer is made of a cured product of the curable resin composition for the antistatic layer, and the polyfunctional monomer (B) is present in the region on the interface side of the antistatic layer side of the triacetyl cellulose substrate. Is characterized in that it penetrates and hardens.

ＴＡＣ基材の一面側に、ＴＡＣ基材側から膜厚１〜５μｍの帯電防止層、及びＨＣ層が設けられている光学フィルムであっても、帯電防止層が上記帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなることにより、十分なホコリ付着防止性を有しながら、ＨＣ層と帯電防止層の密着性が優れたものになる。また、多官能モノマー（Ｂ）がＴＡＣ基材の帯電防止層側の界面側の領域に浸透して硬化していることにより、帯電防止層とＴＡＣ基材との密着性も得られる。光学フィルム全体としては、優れたホコリ付着防止性能が得られる。   Even if it is an optical film in which an antistatic layer having a film thickness of 1 to 5 μm from the TAC substrate side and an HC layer is provided on one side of the TAC substrate, the antistatic layer is the curable resin for the antistatic layer. By comprising the cured product of the composition, the adhesion between the HC layer and the antistatic layer is excellent while having sufficient dust adhesion prevention properties. Moreover, the adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate can also be obtained by the penetration of the polyfunctional monomer (B) into the region on the interface side of the TAC substrate on the antistatic layer side. As an entire optical film, excellent dust adhesion prevention performance can be obtained.

本発明に係る光学フィルムの好ましい形態においては、帯電防止層が上記帯電防止層用組成物の硬化物から形成されていることにより、光学フィルムの前記ハードコート層、前記帯電防止層及び前記トリアセチルセルロース基材間の碁盤目密着性試験の密着率を、９０〜１００％とし、かつ、温度３０℃、湿度４０％において、紫外線を１時間当たり５００Ｗ／ｍ２の光量で１９２時間照射した後（以下、単に「耐ＵＶ試験後」ということがある。）の当該密着率を、８０〜１００％とすることも可能である。
この密着率は、ＨＣ層、帯電防止層及びＴＡＣ基材の密着、すなわち、帯電防止層とＨＣ層間の密着及び帯電防止層とＴＡＣ基材間の密着性を表している。In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, the antistatic layer is formed from a cured product of the antistatic layer composition, whereby the hard coat layer, the antistatic layer, and the triacetyl of the optical film are formed. After irradiating ultraviolet rays with a light amount of 500 W / m 2 per hour at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 40% at a cross-cut adhesion test between cellulose substrates of 90 to 100% (for 192 hours ( Hereinafter, it may be simply referred to as “after UV resistance test”.) The adhesion rate may be 80 to 100%.
This adhesion rate represents adhesion between the HC layer, the antistatic layer and the TAC substrate, that is, adhesion between the antistatic layer and the HC layer and adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate.

従来の、バインダーとしてウレタンアクリレート（Ｃ）を含まず、主に多官能モノマー（Ｂ）のみを含む組成物又はウレタンアクリレート（Ｃ）が含まれていても帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）が特定の割合で含まれていない組成物の硬化物からなる帯電防止層を有する光学フィルムでは、帯電防止層とＴＡＣ基材間の密着は良いが、帯電防止層とＨＣ層間の密着が不十分であった。このように、帯電防止層とＨＣ層間の密着性が十分でない場合、密着性試験を行うと、帯電防止層とＴＡＣ基材間では剥離が生じないが、帯電防止層とＨＣ層の間で剥離が生じ、剥がれてしまう。帯電防止層とＴＡＣ基材間の密着が不十分な場合は、帯電防止層とＴＡＣ基材の間で剥離が生じ、剥がれてしまう。そのため、光学フィルムとして優れた密着性を得るためには、帯電防止層とＨＣ層間の密着及び帯電防止層とＴＡＣ基材間の密着が必要となる。   Even if the conventional composition containing only the polyfunctional monomer (B) or the urethane acrylate (C) does not contain the urethane acrylate (C) as the binder, the antistatic agent (A), the polyfunctional monomer ( In an optical film having an antistatic layer comprising a cured product of a composition that does not contain B) and urethane acrylate (C) at a specific ratio, the antistatic layer and the TAC substrate have good adhesion, but the antistatic layer And the adhesion between the HC layers was insufficient. As described above, when the adhesion between the antistatic layer and the HC layer is not sufficient, when the adhesion test is performed, no separation occurs between the antistatic layer and the TAC substrate, but the separation between the antistatic layer and the HC layer occurs. Will occur and peel off. When the adhesion between the antistatic layer and the TAC base material is insufficient, peeling occurs between the antistatic layer and the TAC base material, resulting in peeling. Therefore, in order to obtain excellent adhesion as an optical film, adhesion between the antistatic layer and the HC layer and adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate are required.

上記帯電防止層用組成物を硬化させて帯電防止層を形成することにより、膜厚１〜５μｍの帯電防止層とＨＣ層間の密着及び帯電防止層とＴＡＣ基材間の密着に優れ、光学フィルム全体として優れた密着性を発現する。特に、この密着性は、耐ＵＶ試験後において顕著である。本発明に係る光学フィルムは、耐ＵＶ試験後においても優れた密着性を発現する。   By forming the antistatic layer by curing the antistatic layer composition, the optical film has excellent adhesion between the antistatic layer having a film thickness of 1 to 5 μm and the HC layer and adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate. Excellent adhesion as a whole. In particular, this adhesion is remarkable after the UV resistance test. The optical film according to the present invention exhibits excellent adhesion even after the UV resistance test.

図１は、本発明に係る光学フィルムの層構成の一例を示した模式図である。トリアセチルセルロース基材１０の一面側に帯電防止層２０及びハードコート層３０がこの順で隣接して設けられている。図２は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を示した模式図である。図１と同じ光学フィルムのハードコート層上にさらに低屈折率層４０が設けられている。   FIG. 1 is a schematic view showing an example of a layer structure of an optical film according to the present invention. An antistatic layer 20 and a hard coat layer 30 are provided adjacent to each other in this order on one side of the triacetyl cellulose substrate 10. FIG. 2 is a schematic view showing another example of the layer structure of the optical film according to the present invention. A low refractive index layer 40 is further provided on the hard coat layer of the same optical film as in FIG.

以下、本発明に係る光学フィルムの必須の構成要素であるトリアセチルセルロース基材、帯電防止層及びハードコート層並びに必要に応じて適宜設けることができる、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層、防眩層及び防汚層等のその他の層について説明する。   Hereinafter, a triacetyl cellulose base material, an antistatic layer and a hard coat layer, which are essential components of the optical film according to the present invention, and a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a low refractive index layer which can be appropriately provided as necessary. Other layers such as a refractive index layer, an antiglare layer, and an antifouling layer will be described.

（トリアセチルセルロース基材）
本発明に用いられるトリアセチルセルロース基材は、光透過性の高いトリアセチルセルロースフィルムであり、光学フィルムの光透過性基材として用い得る物性を満たすものであれば特に限定されることはなく、従来公知のハードコートフィルムや光学フィルムのＴＡＣ基材を適宜選択して用いることができる。(Triacetyl cellulose base material)
The triacetyl cellulose base material used in the present invention is a triacetyl cellulose film having a high light transmittance, and is not particularly limited as long as it satisfies physical properties that can be used as a light transparent base material of an optical film. A conventionally known TAC substrate of a hard coat film or an optical film can be appropriately selected and used.

可視光域３８０〜７８０ｎｍにおけるＴＡＣ基材の平均光透過率は好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上である。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計（例えば、（株）島津製作所製の商品名ＵＶ−３１００ＰＣ）を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。
ＴＡＣ基材にけん化処理やプライマー層を設ける等の表面処理が施されていても良い。また、帯電防止剤等の添加剤が添加されていても良い。
ＴＡＣ基材の厚さは特に限定されず、通常３０〜２００μｍであり、好ましくは４０〜２００μｍである。The average light transmittance of the TAC substrate in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 80% or more, particularly preferably 90% or more. In addition, the measurement of light transmittance uses the value measured in room temperature and air | atmosphere using the ultraviolet visible spectrophotometer (For example, brand name UV-3100PC made from Shimadzu Corporation).
A surface treatment such as saponification treatment or provision of a primer layer may be applied to the TAC substrate. In addition, additives such as an antistatic agent may be added.
The thickness of a TAC base material is not specifically limited, Usually, it is 30-200 micrometers, Preferably it is 40-200 micrometers.

（帯電防止層）
本発明の帯電防止層は、上記帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、膜厚が１〜５μｍである。膜厚が１μｍより薄いと十分な帯電防止性能が得られず、他の層との密着性を確保するために必須のバインダーが十分に添加できない。５μｍより厚いと、帯電防止剤はある程度密に層内に存在していないと性能を発揮できないため、帯電防止層のカールが大きくなることで加工性が悪化し、さらに膜厚が厚くなると含まれる帯電防止剤等の量が増え、コスト増となる。(Antistatic layer)
The antistatic layer of this invention consists of hardened | cured material of the said curable resin composition for antistatic layers, and a film thickness is 1-5 micrometers. If the film thickness is less than 1 μm, sufficient antistatic performance cannot be obtained, and an essential binder cannot be sufficiently added to ensure adhesion with other layers. If it is thicker than 5 μm, the antistatic agent cannot exhibit its performance unless it exists in the layer to some extent, so that the curability of the antistatic layer increases and the workability deteriorates, and the film thickness further increases. The amount of antistatic agent and the like increases, resulting in an increase in cost.

帯電防止層の性能としては表面抵抗が１×１０１２Ω／□未満であることが好ましく、１×１０１１Ω／□以下、さらに１×１０１０Ω／□以下となることがより好ましい。帯電防止層の表面抵抗が良好であれば、ＨＣ層を積層した光学フィルムのホコリ付着防止性が更に良好になってよい。As the performance of the antistatic layer, the surface resistance is preferably less than 1 × 10 12 Ω / □, more preferably 1 × 10 11 Ω / □ or less, and further preferably 1 × 10 10 Ω / □ or less. If the surface resistance of the antistatic layer is good, the dust adhesion preventing property of the optical film laminated with the HC layer may be further improved.

（ハードコート層）
ハードコート層は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で、「Ｈ」以上の硬度を示す層であって、本発明に係る光学フィルムに硬度を付与する。
ＨＣ層は、ハードコート層用組成物の硬化物からなり、従来公知のハードコート層を用いて良く、バインダー成分のみを含むハードコート層用組成物の硬化物からなるものであっても良いし、その他、上記帯電防止層用組成物で挙げた重合開始剤等が組成物に含まれていても良い。ＨＣ層の硬度等を高める目的で、従来公知の硬度を付与する成分、例えば、特開２００８−１６５０４０号公報記載のバインダー成分との架橋反応性を有する反応性シリカ微粒子が含まれていても良い。(Hard coat layer)
The hard coat layer is a layer showing a hardness of “H” or higher in the pencil hardness test (4.9 N load) defined in JIS K5600-5-4 (1999), and the optical film according to the present invention has a hardness. Give.
The HC layer is composed of a cured product of the composition for hard coat layer, may be a conventionally known hard coat layer, or may be composed of a cured product of the composition for hard coat layer containing only the binder component. In addition, the polymerization initiators and the like mentioned in the antistatic layer composition may be contained in the composition. For the purpose of increasing the hardness of the HC layer and the like, a component imparting conventionally known hardness, for example, reactive silica fine particles having crosslinking reactivity with a binder component described in JP-A-2008-165040 may be contained. .

具体的な例としては、透明樹脂として電離放射線硬化性樹脂を含有する樹脂組成物を透明基材に塗布し、該樹脂組成物中に含まれるモノマー、オリゴマー及びプレポリマーを架橋及び／又は重合させることによりＨＣ層を形成することができる。   As a specific example, a resin composition containing an ionizing radiation curable resin as a transparent resin is applied to a transparent substrate, and monomers, oligomers and prepolymers contained in the resin composition are crosslinked and / or polymerized. Thus, an HC layer can be formed.

透明樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂が好ましく、モノマー、オリゴマー及びプレポリマーの官能基としては、電離放射線重合性の官能基が好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。この官能基が、帯電防止層用樹脂組成物中のウレタンアクリレート（Ｃ）の反応性基と硬化結合することにより帯電防止層とＨＣ層の十分な密着性が得られる。   The transparent resin is preferably an ionizing radiation curable resin, and the functional group of the monomer, oligomer, and prepolymer is preferably an ionizing radiation polymerizable functional group, and more preferably a photopolymerizable functional group. Sufficient adhesion between the antistatic layer and the HC layer can be obtained by this functional group being cured and bonded to the reactive group of the urethane acrylate (C) in the resin composition for the antistatic layer.

光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられる。
また、プレポリマー及びオリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等のアクリレート、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂等が挙げられる。Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group.
Examples of the prepolymer and oligomer include acrylates such as urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate, unsaturated polyester, and epoxy resin.

モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、等のアクリル系モノマー；トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコール等の分子中に２個以上のチオール基を有するポリオール化合物、また、２以上の不飽和結合を有するウレタン（メタ）アクリレートやポリエステル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。   Monomers include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; methyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol Tetra (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxytetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethoxytri (meth) Acrylate, glycerin propoxytriacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol Nord F EO-modified di (meth) acrylate, bisphenol A EO-modified di (meth) acrylate, isocyanuric acid EO-modified di (meth) acrylate, isocyanuric acid EO-modified tri (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylol Acrylic monomers such as propane PO-modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane EO-modified tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate; trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate Polyol compounds having two or more thiol groups in the molecule such as pentaerythritol tetrathioglycol, and urethane (meth) acrylates having two or more unsaturated bonds Etc., polyester (meth) acrylate.

特に、架橋密度を高め、傷つき防止性を得る観点から、多官能アクリレートモノマーであることが好ましく、中でも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが、帯電防止層との密着が良く、鉛筆硬度も良いのでさらに好ましい。また、これらのモノマーに、ウレタン多官能アクリレートなどのオリゴマー成分を混合することも硬度を良好にできるとともに、重合収縮を減少させ、カールやクラック防止性を良好に出来るため好ましい。   In particular, from the viewpoint of increasing the crosslinking density and obtaining scratch resistance, it is preferably a polyfunctional acrylate monomer, and among them, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth). Acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are more preferred because they have good adhesion to the antistatic layer and good pencil hardness. It is also preferable to mix an oligomer component such as urethane polyfunctional acrylate with these monomers because the hardness can be improved, polymerization shrinkage can be reduced, and curling and crack prevention can be improved.

このような樹脂組成物の中に、硬度向上のためにシリカ等無機微粒子等含有していても良い。また、樹脂組成物との相溶性をよくするため、有機表面処理をしていてもよいし、反応性基を有していてもよい。   Such a resin composition may contain inorganic fine particles such as silica to improve hardness. Moreover, in order to improve compatibility with a resin composition, the organic surface treatment may be performed and you may have a reactive group.

また、バインダーとして、ポリマーを上記樹脂組成物に添加して用いることも可能である。ポリマーとしては、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）等が挙げられる。ポリマーを添加することで、塗液の粘度調整が可能であり、これにより、塗工を容易にする利点がある。   Moreover, it is also possible to add a polymer to the said resin composition and use it as a binder. Examples of the polymer include polymethyl methacrylate (PMMA) and cellulose acetate propionate (CAP). By adding a polymer, it is possible to adjust the viscosity of the coating liquid, which has the advantage of facilitating coating.

また、上記樹脂組成物には、必要に応じて、光ラジカル重合開始剤を添加することができる。好ましい添加量は、上記樹脂組成物の全固形分の合計質量に対して０．８〜８．０質量％である。光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物等が用いられる。   Moreover, a radical photopolymerization initiator can be added to the resin composition as necessary. A preferable addition amount is 0.8 to 8.0% by mass with respect to the total mass of the total solid content of the resin composition. As the radical photopolymerization initiator, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds and the like are used.

アセトフェノン類としては、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−ジメチル−ｐ−イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン等が挙げられ、ベンゾイン類としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等が挙げられる。As acetophenones, 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxy-dimethylphenylketone, 1-hydroxy-dimethyl-p-isopropylphenylketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl- Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, and benzoin benzene sulfonic acid. Ester, benzoin toluenesulfonic acid ester, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether.

また、ベンゾフェノン類としては、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等が使用可能である。   Benzophenones include benzophenone, hydroxybenzophenone, 4benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethylaminobenzophenone ( Michler's ketone), 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, and the like can be used.

また、光増感剤を混合して用いることもでき、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。   Moreover, a photosensitizer can also be mixed and used and the specific example includes n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.

ＨＣ層の膜厚は適宜調節すれば良く、例えば、１〜２０μｍであれば良い。好ましくは、５〜１５μｍである。１５μｍを超えると、優れたホコリ付着防止性能が得られず、５μｍ未満であると、硬度が不足になり、また、密着性も弱くなる。
通常、帯電防止層の上に積層されるＨＣ層が厚くなるとホコリ付着防止性能は悪くなるが、本願の構成および組成物であると優れたホコリ付着防止性能が得られるのである。The thickness of the HC layer may be adjusted as appropriate, for example, 1 to 20 μm. Preferably, it is 5-15 micrometers. If it exceeds 15 μm, excellent dust adhesion preventing performance cannot be obtained, and if it is less than 5 μm, the hardness becomes insufficient and the adhesion also becomes weak.
Normally, when the HC layer laminated on the antistatic layer becomes thick, the dust adhesion preventing performance deteriorates. However, with the configuration and composition of the present application, excellent dust adhesion preventing performance can be obtained.

本発明に係る光学フィルムの好適な実施形態においては、帯電防止層が１〜５μｍ、かつ、ＨＣ層が５〜１５μｍのように、帯電防止層の上に、厚いＨＣ層が積層されていても、光学フィルムは十分なホコリ付着防止性能と、十分な帯電防止層とＨＣ層の密着性が得られる。   In a preferred embodiment of the optical film according to the present invention, even if a thick HC layer is laminated on the antistatic layer such that the antistatic layer is 1 to 5 μm and the HC layer is 5 to 15 μm. The optical film can provide sufficient dust adhesion prevention performance and sufficient adhesion between the antistatic layer and the HC layer.

（その他の層）
本発明に係る光学フィルムにおいては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記ＨＣ層の帯電防止層とは反対側の面に、光学フィルムの反射防止性、防眩性及び防汚性等の向上を目的として、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層、防眩層及び防汚層等のその他の層を設けても良い。(Other layers)
In the optical film according to the present invention, the antireflection, antiglare and antifouling properties of the optical film are provided on the surface of the HC layer opposite to the antistatic layer without departing from the spirit of the present invention. For the purpose of improvement, other layers such as a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a low refractive index layer, an antiglare layer, and an antifouling layer may be provided.

（高屈折率層及び中屈折率層）
高屈折率層及び中屈折率層は、本発明に係る光学フィルムの反射率を調整するために設けられる層である。高屈折率層を設ける場合は、図示しないが、通常、低屈折率層のＴＡＣ基材側に隣接して設ける。また、中屈折率層を設ける場合は、図示しないが、通常、ＴＡＣ基材側から中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層の順に設ける。(High refractive index layer and medium refractive index layer)
The high refractive index layer and the medium refractive index layer are layers provided for adjusting the reflectance of the optical film according to the present invention. When providing a high refractive index layer, although not shown, it is usually provided adjacent to the TAC substrate side of the low refractive index layer. Moreover, when providing a middle refractive index layer, although not shown, it is usually provided in the order of a middle refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer from the TAC substrate side.

高屈折率層及び中屈折率層は、バインダー成分と屈折率調整用の粒子とを主に含有する組成物の硬化物からなる。バインダー成分としては、帯電防止層用組成物で挙げた多官能モノマー等を用いることができる。屈折率調整用の粒子としては、例えば、粒径が１００ｎｍ以下の微粒子を挙げることができる。このような微粒子としては、酸化亜鉛（屈折率：１．９０）、チタニア（屈折率：２．３〜２．７）、セリア（屈折率：１．９５）、スズドープ酸化インジウム（屈折率：１．９５）、アンチモンドープ酸化スズ（屈折率：１．８０）、イットリア（屈折率：１．８７）、ジルコニア（屈折率：２．０）からなる群から選ばれた１種以上を挙げることができる。   The high refractive index layer and the medium refractive index layer are made of a cured product of a composition mainly containing a binder component and refractive index adjusting particles. As a binder component, the polyfunctional monomer etc. which were mentioned by the composition for antistatic layers can be used. Examples of the particles for adjusting the refractive index include fine particles having a particle size of 100 nm or less. Examples of such fine particles include zinc oxide (refractive index: 1.90), titania (refractive index: 2.3 to 2.7), ceria (refractive index: 1.95), and tin-doped indium oxide (refractive index: 1). .95), at least one selected from the group consisting of antimony-doped tin oxide (refractive index: 1.80), yttria (refractive index: 1.87), and zirconia (refractive index: 2.0). it can.

高屈折率層は具体的には、１．５０〜２．８０の屈折率であることが好ましい。中屈折率層は高屈折率層用理も屈折率が低く、１．５０〜２．００の屈折率であることが好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の膜厚は、適宜調節すればよく、５０〜３００ｎｍであることが好ましい。Specifically, the high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.50 to 2.80. The medium refractive index layer has a low refractive index for the high refractive index layer, and preferably has a refractive index of 1.50 to 2.00.
The film thickness of the high refractive index layer and the middle refractive index layer may be adjusted as appropriate, and is preferably 50 to 300 nm.

（低屈折率層）
低屈折率層は、シリカやフッ化マグネシウム等の屈折率の低い成分とバインダー成分を含む組成物又はフッ化ビニリデン共重合体等のフッ素含有樹脂を含む低屈折率層用組成物の硬化物からなり、従来公知の低屈折率層とすることができる。(Low refractive index layer)
The low refractive index layer is a cured product of a composition containing a low refractive index component such as silica or magnesium fluoride and a binder component or a composition for a low refractive index layer containing a fluorine-containing resin such as a vinylidene fluoride copolymer. Thus, a conventionally known low refractive index layer can be obtained.

低屈折率層を形成するための組成物には、低屈折率層の屈折率を低減させるために中空粒子を含有させても良い。中空粒子は、外殻層を有し外殻層に囲まれた内部が多孔質組織又は空洞である粒子をいう。当該多孔質組織や空洞には空気（屈折率：１）が含まれており、屈折率１．２０〜１．４５の中空粒子を低屈折率層に含有させることで低屈折率層の屈折率を低減することができる。中空粒子の平均粒径は１〜１００ｎｍであることが好ましい。中空粒子は従来公知の低屈折率層に用いられているものを用いることができ、例えば、特開２００８−１６５０４０号公報に記載の空隙を有する微粒子が挙げられる。   The composition for forming the low refractive index layer may contain hollow particles in order to reduce the refractive index of the low refractive index layer. A hollow particle refers to a particle having an outer shell layer and the inside surrounded by the outer shell layer being a porous structure or a cavity. The porous structure or cavity contains air (refractive index: 1), and the refractive index of the low refractive index layer is obtained by including hollow particles having a refractive index of 1.20 to 1.45 in the low refractive index layer. Can be reduced. The average particle diameter of the hollow particles is preferably 1 to 100 nm. As the hollow particles, those conventionally used for a low refractive index layer can be used, and examples thereof include fine particles having voids described in JP-A-2008-165040.

上記脂肪酸金属塩粒子の個数平均一次粒径が、上記下限未満である場合には、脂肪酸金属塩粒子同士の凝集や、着色樹脂粒子に対する脂肪酸金属塩粒子の埋没等の不具合が生じ易くなり、トナーの印字性能に悪影響を及ぼす場合がある。   If the number average primary particle size of the fatty acid metal salt particles is less than the lower limit, problems such as aggregation of the fatty acid metal salt particles and embedding of the fatty acid metal salt particles in the colored resin particles are likely to occur. May adversely affect printing performance.

一方、上記脂肪酸金属塩粒子の個数平均一次粒径が、上記上限を超える場合には、脂肪酸金属塩粒子が着色樹脂粒子から遊離（脱離）し易くなり、所望の外添剤の機能（トナーに帯電安定性、及び流動性等を付与する機能）をトナー粒子に十分に付与させることができず、トナーの印字性能に悪影響を及ぼす場合がある。   On the other hand, when the number average primary particle size of the fatty acid metal salt particles exceeds the above upper limit, the fatty acid metal salt particles are easily released (desorbed) from the colored resin particles, and a desired external additive function (toner) In other words, the toner particles may not be sufficiently imparted with a function of imparting charging stability, fluidity, etc. to the toner particles, which may adversely affect toner printing performance.

（防眩層）
防眩層はバインダー成分と防眩剤とを含む防眩層用組成物の硬化物からなり、バインダー成分は、上記帯電防止層用組成物で挙げた多官能モノマー等を用いることができる。
防眩剤としては微粒子が挙げられ、例えば、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）及びアクリルビーズ（屈折率１．４９）等が挙げられる。このような防眩性を付与する微粒子の平均粒径は１００〜５００ｎｍであることが好ましい。防眩性を付与する微粒子の含有量は、防眩層用組成物に含まれるバインダー成分の全質量に対して、２〜３０質量％であることが好ましい。(Anti-glare layer)
The antiglare layer is composed of a cured product of a composition for an antiglare layer containing a binder component and an antiglare agent, and the multifunctional monomer described in the above composition for an antistatic layer can be used as the binder component.
Examples of the antiglare agent include fine particles, and examples thereof include styrene beads (refractive index 1.59), melamine beads (refractive index 1.57), and acrylic beads (refractive index 1.49). The average particle diameter of such fine particles imparting antiglare properties is preferably 100 to 500 nm. The content of the fine particles imparting the antiglare property is preferably 2 to 30% by mass with respect to the total mass of the binder component contained in the composition for the antiglare layer.

（防汚層）
本発明の好ましい態様によれば、光学フィルム最表面の汚れ防止を目的として、光学フィルムのＴＡＣ基材とは反対側の最表面に防汚層を設けることができる。防汚層により、光学フィルムに対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。防汚層は、防汚剤とバインダー成分を含む防汚層用組成物の硬化物からなる。(Anti-fouling layer)
According to a preferred aspect of the present invention, an antifouling layer can be provided on the outermost surface of the optical film opposite to the TAC substrate for the purpose of preventing the outermost surface of the optical film from being stained. The antifouling layer makes it possible to further improve the antifouling property and scratch resistance of the optical film. The antifouling layer comprises a cured product of the antifouling layer composition containing an antifouling agent and a binder component.

防汚層用組成物のバインダー成分は、従来公知のものを用いて良く、例えば、上記帯電防止層用組成物で挙げた多官能モノマーを用いることができる。
防汚層用組成物に含まれる防汚剤は、公知のレベリング剤等の防汚剤から適宜選択して１種又は２種以上を用いることができる。防汚剤の含有量は、防汚層用組成物に含まれるバインダー成分の全質量に対して、０．１〜５質量％であることが好ましい。A conventionally well-known thing may be used for the binder component of the composition for antifouling layers, for example, the polyfunctional monomer quoted by the said composition for antistatic layers can be used.
The antifouling agent contained in the antifouling layer composition can be appropriately selected from antifouling agents such as known leveling agents, and one or more can be used. The content of the antifouling agent is preferably 0.1 to 5% by mass with respect to the total mass of the binder component contained in the antifouling layer composition.

（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムの製造方法としては、上述した光学フィルムの層構成を得られる方法であれば特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。
その一例としては、（ｉ）トリアセチルセルロース基材を準備する工程、（ｉｉ）上記帯電防止層用組成物及びハードコート層用組成物を準備する工程、（ｉｉｉ）当該ＴＡＣ基材の一面側に、当該帯電防止層用組成物を塗布し、塗膜とする工程、（ｉｖ）当該帯電防止層用組成物の塗膜に光照射し、硬化させ帯電防止層を形成する工程、（ｖ）帯電防止層上に当該ハードコート層用組成物を塗布し、塗膜とする工程、（ｖｉ）当該ＨＣ層用組成物の塗膜に光照射し、硬化させＨＣ層を形成する工程からなる。(Optical film manufacturing method)
The method for producing the optical film of the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining the layer configuration of the optical film described above, and a conventionally known method can be used.
For example, (i) a step of preparing a triacetyl cellulose base material, (ii) a step of preparing the composition for antistatic layer and the composition for hard coat layer, (iii) one side of the TAC base material (Iv) a step of applying the antistatic layer composition to form a coating film, (iv) irradiating the coating film of the antistatic layer composition with light and curing to form an antistatic layer, (v) A step of applying the hard coat layer composition on the antistatic layer to form a coating film; (vi) a step of irradiating the coating film of the composition for HC layer with light and curing to form an HC layer.

この他、上記（ｉｖ）工程にて帯電防止層用組成物の塗膜を完全硬化（フルキュアー）せずに、半硬化（ハーフキュアー）し、当該ハーフキュアーした塗膜上にＨＣ層用組成物を塗布し、塗膜とし、当該ハーフキュアーした塗膜とＨＣ層用組成物の塗膜を合わせて光照射し、フルキュアーして光学フィルムを得ても良い。このようにハーフキュアー法を用いることにより、帯電防止層とＨＣ層の密着性が高まる利点がある。   In addition, the composition of the composition for an antistatic layer is not completely cured (full cure) in the step (iv), but is semi-cured (half cured), and the composition for the HC layer is formed on the half-cured coating. An optical film may be obtained by applying a product to form a coating film, irradiating the half-cured coating film and the coating film of the HC layer composition together with light irradiation, and performing full curing. By using the half cure method in this way, there is an advantage that the adhesion between the antistatic layer and the HC layer is increased.

塗布方法は、従来公知の方法を用いれば良く、特に限定されず、グラビアコート法、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法及びピードコーター法等の各種方法を用いることができる。   The coating method may be a conventionally known method, and is not particularly limited. Gravure coating method, spin coating method, dipping method, spray method, slide coating method, bar coating method, roll coater method, meniscus coater method, flexographic printing Various methods such as a method, a screen printing method, and a pea coater method can be used.

光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線又は電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２である。ハーフキュアーする場合の照射量は、５〜５０ｍＪ／ｃｍ２である。光照射に加えて、加熱する場合は、通常４０℃〜１２０℃の温度にて処理する。For light irradiation, ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation, or the like is mainly used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp are used. The irradiation amount of the energy ray source is 50 to 500 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm. The irradiation amount in the case of half-curing is 5 to 50 mJ / cm 2 . In addition to light irradiation, when heating, it processes normally at the temperature of 40 to 120 degreeC.

帯電防止層用組成物の塗布後、光照射を行う前に、乾燥を行っても良い。乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらの乾燥を組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥させる場合は、３０〜１１０℃で乾燥させることが好ましい。例えば、帯電防止層用組成物の溶剤としてメチルエチルケトンを用いる場合は、室温〜８０℃、好ましくは４０℃〜７０℃の範囲内の温度で、２０秒〜３分、好ましくは３０秒〜１分の時間で乾燥工程を行うことができる。   After application of the antistatic layer composition, drying may be performed before light irradiation. Examples of the drying method include reduced-pressure drying or heat drying, and a method combining these drying methods. Moreover, when drying at normal pressure, it is preferable to dry at 30-110 degreeC. For example, when methyl ethyl ketone is used as the solvent for the composition for the antistatic layer, the temperature is in the range of room temperature to 80 ° C, preferably 40 ° C to 70 ° C, and 20 seconds to 3 minutes, preferably 30 seconds to 1 minute. The drying process can be performed in time.

ＨＣ層や低屈折率層等の組成物は、上記帯電防止層と同様の方法で調製すれば良い。また、ＨＣ層上に低屈折率層等を設ける場合は、上記帯電防止層の塗布方法や硬化方法を用いることができる。   Compositions such as the HC layer and the low refractive index layer may be prepared by the same method as that for the antistatic layer. When a low refractive index layer or the like is provided on the HC layer, the above antistatic layer coating method or curing method can be used.

（偏光板）
本発明に係る偏光板は、上記光学フィルムのトリアセチルセルロース基材側に偏光子が設けられていることを特徴とする。図３は、本発明に係る偏光板の層構成の一例を示す模式図である。図３に示す偏光板８０は、光学フィルム１並びに保護フィルム５０及び偏光層６０が積層された偏光子７０とを有しており、光学フィルム１のトリアセチルセルロース基材１０側に偏光子７０が設けられている。(Polarizer)
The polarizing plate according to the present invention is characterized in that a polarizer is provided on the triacetylcellulose substrate side of the optical film. FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of the layer structure of the polarizing plate according to the present invention. The polarizing plate 80 shown in FIG. 3 has the optical film 1 and the polarizer 70 in which the protective film 50 and the polarizing layer 60 are laminated, and the polarizer 70 is disposed on the triacetylcellulose substrate 10 side of the optical film 1. Is provided.

なお、光学フィルムのトリアセチルセルロース基材側に偏光子が配置されているとは、光学フィルムと偏光子とが別に形成されている場合だけでなく、光学フィルムを構成する部材が偏光子を構成する部材を兼ねている場合をも含むものである。   Note that the polarizer is disposed on the triacetyl cellulose base material side of the optical film, not only when the optical film and the polarizer are separately formed, but also the members constituting the optical film constitute the polarizer. It also includes the case of serving also as a member.

また、本発明に係る偏光板をディスプレイパネルに用いる場合、通常、偏光子側にディスプレイパネルが配置される。   Moreover, when using the polarizing plate which concerns on this invention for a display panel, a display panel is normally arrange | positioned at the polarizer side.

なお、光学フィルムについては、上述した光学フィルムを用いればよいので、ここでの説明は省略する。以下、本発明に係る偏光板における他の構成について説明する。   In addition, about an optical film, since the optical film mentioned above should just be used, description here is abbreviate | omitted. Hereinafter, another configuration of the polarizing plate according to the present invention will be described.

（偏光子）
本発明に用いられる偏光子としては、所定の偏光特性を備えるものであれば特に限定されるものではなく、一般的に液晶表示装置に用いられる偏光子を用いることができる。
偏光子の形態は、所定の偏光特性を長期間保持できる形態であれば特に限定されるものではなく、例えば、偏光層のみから構成されていてもよく、保護フィルムと偏光層とが貼り合わされたものであってもよい。保護フィルムと偏光層とが貼り合わされている場合、偏光層の片面のみに保護フィルムが形成されていてもよく、偏光層の両面に保護フィルムが形成されていてもよい。(Polarizer)
The polarizer used in the present invention is not particularly limited as long as it has predetermined polarization characteristics, and a polarizer generally used in a liquid crystal display device can be used.
The form of the polarizer is not particularly limited as long as predetermined polarization characteristics can be maintained for a long period of time. For example, the polarizer may be composed of only a polarizing layer, and the protective film and the polarizing layer are bonded together. It may be a thing. When the protective film and the polarizing layer are bonded together, the protective film may be formed only on one side of the polarizing layer, or the protective film may be formed on both sides of the polarizing layer.

偏光層としては、通常、ポリビニルアルコールからなるフィルムにヨウ素を含浸させ、これを一軸延伸することによってポリビニルアルコールとヨウ素との錯体を形成させたものが用いられる。   As the polarizing layer, usually, a film made of polyvinyl alcohol is impregnated with iodine and uniaxially stretched to form a complex of polyvinyl alcohol and iodine.

また、保護フィルムとしては、上記偏光層を保護することができ、かつ、所望の光透過性を有するものであれば特に限定されるものではない。保護フィルムの光透過性としては、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。なお、上記保護フィルムの透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。   Moreover, as a protective film, if the said polarizing layer can be protected and it has desired light transmittance, it will not specifically limit. As the light transmittance of the protective film, the transmittance in the visible light region is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. In addition, the transmittance | permeability of the said protective film can be measured by JISK7361-1 (The test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).

保護フィルムを構成する樹脂としては、例えば、セルロース誘導体、シクロオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート等を挙げることができる。中でも、セルロース誘導体又はシクロオレフィン系樹脂を用いることが好ましい。   Examples of the resin constituting the protective film include cellulose derivatives, cycloolefin resins, polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, and polyethylene terephthalate. Among them, it is preferable to use a cellulose derivative or a cycloolefin resin.

保護フィルムは、単一の層からなるものであっても良く、複数の層が積層されたものであっても良い。また、保護フィルムが複数の層が積層されたものである場合は、同一組成の複数の層が積層されても良く、また、異なる組成を有する複数の層が積層されても良い。   The protective film may be composed of a single layer or may be a laminate of a plurality of layers. When the protective film is a laminate of a plurality of layers, a plurality of layers having the same composition may be laminated, or a plurality of layers having different compositions may be laminated.

また、保護フィルムの厚さは、本発明の偏光板の可撓性を所望の範囲内にすることができ、かつ、偏光層と貼り合わせることにより、偏光子の寸法変化を所定の範囲内にできる範囲であれば特に限定されるものではないが、５〜２００μｍの範囲内であることが好ましく、特に１５〜１５０μｍの範囲内であることが好ましく、さらに３０〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。上記厚さが５μｍよりも薄いと、本発明の偏光板の寸法変化が大きくなってしまうおそれがある。また、上記厚みが２００μｍよりも厚いと、例えば、本発明の偏光板を裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまうおそれがある。   In addition, the thickness of the protective film can make the flexibility of the polarizing plate of the present invention within a desired range, and by bonding to the polarizing layer, the dimensional change of the polarizer can be within a predetermined range. Although it is not particularly limited as long as it is possible, it is preferably in the range of 5 to 200 μm, particularly preferably in the range of 15 to 150 μm, and more preferably in the range of 30 to 100 μm. preferable. If the thickness is less than 5 μm, the dimensional change of the polarizing plate of the present invention may increase. Moreover, when the said thickness is thicker than 200 micrometers, when cutting the polarizing plate of this invention, there exists a possibility that a process waste may increase or abrasion of a cutting blade may become quick.

保護フィルムは、位相差性を有するものであってもよい。位相差性を有する保護フィルムを用いることにより、本発明の偏光板をディスプレイパネルの視野角補償機能を有するものにできるという利点がある。   The protective film may have retardation. By using a protective film having retardation, there is an advantage that the polarizing plate of the present invention can have a viewing angle compensation function for a display panel.

保護フィルムが位相差性を有する態様としては、所望の位相差性を発現できる態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、例えば、保護フィルムが単一の層からなる構成を有し、位相差性を発現する光学特性発現剤を含有することにより位相差性を有する態様と、上述した樹脂からなる保護フィルム上に、屈折率異方性を有する化合物を含有する位相差層が積層された構成を有することにより、位相差性を有する態様とを挙げることができる。本発明においては、これらのいずれの態様であっても好適に用いることができる。   The aspect in which the protective film has retardation is not particularly limited as long as the protective film can exhibit desired retardation. As such an embodiment, for example, the protective film has a configuration consisting of a single layer, and includes an optical property developing agent that expresses retardation, and has retardation, and the above-described resin. By having a structure in which a retardation layer containing a compound having refractive index anisotropy is laminated on the protective film to be formed, an embodiment having retardation can be mentioned. In the present invention, any of these embodiments can be suitably used.

（ディスプレイパネル）
本発明に係るディスプレイパネルは、上記光学フィルムのトリアセチルセルロース基材側にディスプレイが配置されていることを特徴とする。
ディスプレイとしては、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等が挙げられる。
本発明に係るディスプレイパネルは、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等にも用いることができる。(Display panel)
The display panel according to the present invention is characterized in that a display is disposed on the triacetylcellulose substrate side of the optical film.
Examples of the display include LCD, PDP, ELD (organic EL, inorganic EL), CRT, touch panel, electronic paper, and tablet PC.
The display panel according to the present invention can also be used for touch panels, electronic paper, tablet PCs, and the like.

上記ディスプレイの代表的な例であるＬＣＤは、透過型であり、透過性表示体と、それを背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記ディスプレイがＬＣＤの場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学フィルムや当該光学フィルムを備える上記偏光板が配置されてなるものである。   The LCD, which is a typical example of the display, is a transmissive type, and includes a transmissive display body and a light source device that irradiates it from the back. When the display is an LCD, the optical film of the present invention and the polarizing plate including the optical film are arranged on the surface of the transmissive display body.

上記ディスプレイの他の一例であるＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。上記ディスプレイがＰＤＰの場合、表面ガラス基板の表面又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上記光学フィルムを備えるものでもある。   A PDP, which is another example of the display, includes a front glass substrate and a rear glass substrate disposed so as to be opposed to the front glass substrate with a discharge gas sealed therebetween. When the display is a PDP, the optical film is also provided on the surface of the surface glass substrate or the front plate (glass substrate or film substrate).

上記ディスプレイは、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置又は電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどのディスプレイであっても良い。この場合、ＥＬＤ装置又はＣＲＴの最表面又はその前面板の表面に上記光学フィルムを備えるものである。   In the above display, a light emitter such as zinc sulfide or a diamine substance that emits light when a voltage is applied is vapor-deposited on a glass substrate, and an ELD device that performs display by controlling the voltage applied to the substrate or an electric signal is converted into light. It may be a display such as a CRT that generates a visible image. In this case, the optical film is provided on the outermost surface of the ELD device or CRT or the surface of the front plate.

以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention.

以下の組成を有する帯電防止層用組成物１及びＨＣ層用組成物１を調製した。
（帯電防止層用組成物１）
帯電防止剤（Ａ）：日本化成（株）製の商品名ＵＶ-ＡＳＨＣ-０１（重量平均分子量２００００、固形分７０％、４級アンモニウム塩成分は固形分中１５％）：固形分換算１質量部
多官能モノマー（Ｂ）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製、６官能、分子量５７８）：６４質量部
ウレタンアクリレート（Ｃ）：荒川化学工業（株）製の商品名ＢＳ５７７（６官能、重量平均分子量１０００）：３５質量部
重合開始剤：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の商品名イルガキュア１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）：１質量部
メチルエチルケトン：１００質量部An antistatic layer composition 1 and an HC layer composition 1 having the following compositions were prepared.
(Antistatic layer composition 1)
Antistatic agent (A): Nippon Kasei Co., Ltd. product name UV-ASHC-01 (weight average molecular weight 20000, solid content 70%, quaternary ammonium salt component is 15% in solid content): 1 mass in terms of solid content Parts polyfunctional monomer (B): dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) (trade name: KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, molecular weight 578): 64 parts by mass Urethane acrylate (C): Arakawa Chemical Industries Product name BS577 (6-functional, weight average molecular weight 1000) manufactured by Co., Ltd .: 35 parts by mass Polymerization initiator: Product name Irgacure 184 (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd .: 1 mass Methyl ethyl ketone: 100 parts by mass

（ＨＣ層用組成物１）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製、６官能、分子量５７８）：９８質量部
重合開始剤：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の商品名イルガキュア１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）：４質量部
メチルエチルケトン：１００質量部(Composition 1 for HC layer)
Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: KAYARAD DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, molecular weight 578): 98 parts by mass Polymerization initiator: Trade name Irgacure 184 (1) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. -Hydroxycyclohexyl phenyl ketone): 4 parts by mass Methyl ethyl ketone: 100 parts by mass

（実施例１）
厚さ８０μｍのＴＡＣ基材（富士フィルム（株）製の商品名ＴＦ８０ＵＬ）を準備し、ＴＡＣ基材の片面に、調製した上記帯電防止層用組成物１を塗布し、温度７０℃の熱オーブン中で６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させることにより、乾燥時の厚さ２．５μｍの帯電防止層を形成した。Example 1
A TAC substrate having a thickness of 80 μm (trade name TF80UL manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) was prepared, and the prepared composition 1 for antistatic layer was applied to one side of the TAC substrate, and a heating oven at a temperature of 70 ° C. In the film for 60 seconds, the solvent in the coating film is evaporated, and the coating film is cured by irradiating ultraviolet rays so that the integrated light quantity is 50 mJ. Formed.

次いで、得られた帯電防止層上に調製した上記ハードコート層用組成物１を塗布し、帯電防止層と同様に乾燥し、紫外線を積算光量が１５０ｍＪになるように照射して塗膜を硬化させ乾燥時の厚さ１２μｍのハードコート層を形成し、これによりＴＡＣ基材の一面側にＴＡＣ基材側から帯電防止層及びハードコート層を順に有する光学フィルムを作製した。   Next, the hard coat layer composition 1 prepared above is applied onto the obtained antistatic layer, dried in the same manner as the antistatic layer, and the coating film is cured by irradiating ultraviolet rays so that the integrated light quantity becomes 150 mJ. Then, a hard coat layer having a thickness of 12 μm at the time of drying was formed, and thereby an optical film having an antistatic layer and a hard coat layer in order from the TAC substrate side on one side of the TAC substrate was produced.

また、帯電防止層の表面抵抗値を測定するために、上記光学フィルムと同様にＴＡＣ基材（ＴＦ８０ＵＬ）上に帯電防止層の形成までを行い、ＴＡＣ基材の一面側に帯電防止層のみを有する積層体も作製した。   In addition, in order to measure the surface resistance value of the antistatic layer, the antistatic layer is formed on the TAC substrate (TF80UL) in the same manner as the optical film, and only the antistatic layer is provided on one side of the TAC substrate. The laminated body which has was also produced.

（実施例２〜７）
実施例１において、帯電防止層用組成物１に含まれる帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の量又は種類を、それぞれ、表１に示すように代えた以外は実施例１と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。尚、実施例７で用いたウレタンアクレート（Ｃ）は、商品名ＵＶ−７６１０Ｂ（日本合成製）である。(Examples 2 to 7)
In Example 1, the amounts or types of the antistatic agent (A), polyfunctional monomer (B) and urethane acrylate (C) contained in the antistatic layer composition 1 were changed as shown in Table 1, respectively. Except for the above, an optical film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1. In addition, the urethane acrylate (C) used in Example 7 is a brand name UV-7610B (made by Nippon Gosei).

（比較例１、２）
実施例１において、帯電防止層用組成物１に含まれる帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の量を、それぞれ、表１に示すように代えた以外は実施例１と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Comparative Examples 1 and 2)
In Example 1, the amounts of the antistatic agent (A), polyfunctional monomer (B) and urethane acrylate (C) contained in the antistatic layer composition 1 were changed as shown in Table 1, respectively. An optical film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1.

（比較例３）
実施例１において、帯電防止層用組成物１に含まれる多官能モノマー（Ｂ）をＤＰＨＡに代えて日本化薬（株）製のＲ１２８Ｈ（単官能、分子量２２２）を用いて、帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の量を、それぞれ、表１に示すように代えた以外は、実施例１と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Comparative Example 3)
In Example 1, R128H (monofunctional, molecular weight 222) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used instead of DPHA for the polyfunctional monomer (B) contained in the composition 1 for antistatic layer, and an antistatic agent ( An optical film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the amounts of A), polyfunctional monomer (B) and urethane acrylate (C) were changed as shown in Table 1, respectively.

（比較例４）
実施例１において、帯電防止層用組成物１に含まれる多官能モノマー（Ｂ）をＤＰＨＡに代えて日本化薬（株）製のＤＰＣＡ６０（６官能、分子量１２６３）を用いて、帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の量を、それぞれ、表１に示すように代えた以外は実施例１と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Comparative Example 4)
In Example 1, the polyfunctional monomer (B) contained in the antistatic layer composition 1 was replaced with DPHA using DPCA60 (hexafunctional, molecular weight 1263) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. An optical film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the amounts of A), the polyfunctional monomer (B), and the urethane acrylate (C) were changed as shown in Table 1, respectively.

（比較例５）
実施例１において、帯電防止層用組成物１に含まれるウレタンアクリレート（Ｃ）をＢＳ５７７に代えてダイセル・サイテック（株）製のＥＢＥＣＲＹＬ２７０（２官能、分子量１５００）を用いて、帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の量を、それぞれ、表１に示すように代えた以外は実施例１と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Comparative Example 5)
In Example 1, the urethane acrylate (C) contained in the antistatic layer composition 1 was replaced with BS577 by using EBECRYL270 (bifunctional, molecular weight 1500) manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd. ), An optical film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the amounts of the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) were changed as shown in Table 1, respectively.

（比較例６）
実施例１において、帯電防止層用組成物１に含まれるウレタンアクリレート（Ｃ）をＢＳ５７７に代えてダイセル・サイテック（株）製のＥＢＥＣＲＹＬ５１２９（６官能、分子量８００）を用いて、帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の量を、それぞれ、表１に示すように代えた以外は実施例１と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Comparative Example 6)
In Example 1, the urethane acrylate (C) contained in the antistatic layer composition 1 was replaced with BS577 by using EBECRYL5129 (6-functional, molecular weight 800) manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd. ), An optical film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the amounts of the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) were changed as shown in Table 1, respectively.

（比較例７）
実施例１において、帯電防止層用組成物１に含まれるウレタンアクリレート（Ｃ）をＢＳ５７７に代えて荒川化学工業（株）製のＢＳ３７１ＭＬＶ（５０官能、分子量２００００）を用いて、帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の量を、それぞれ、表１に示すように代えた以外は実施例１と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Comparative Example 7)
In Example 1, the urethane acrylate (C) contained in the antistatic layer composition 1 was replaced with BS577, and BS371MLV (50 functional, molecular weight 20000) manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. was used, and an antistatic agent (A ), An optical film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the amounts of the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) were changed as shown in Table 1, respectively.

（比較例８〜１１）
実施例１において、帯電防止層用組成物１に含まれる帯電防止剤（Ａ）、多官能モノマー（Ｂ）及びウレタンアクリレート（Ｃ）の量を、それぞれ、表１に示すように代えた以外は実施例１と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Comparative Examples 8-11)
In Example 1, the amounts of the antistatic agent (A), polyfunctional monomer (B) and urethane acrylate (C) contained in the antistatic layer composition 1 were changed as shown in Table 1, respectively. An optical film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1.

（参考例１）
実施例６において、帯電防止層用組成物１に含まれる溶剤を、非浸透溶剤のみに代えた以外は実施例６と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Reference Example 1)
In Example 6, an optical film and a laminate were produced in the same manner as in Example 6 except that the solvent contained in the antistatic layer composition 1 was replaced with only the non-penetrating solvent.

（比較例１２）
実施例３において、帯電防止層用組成物１に含まれるウレタンアクリレート（Ｃ）を、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ-６０；日本化薬（株）製）に代えた以外は、実施例３と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。この化合物は、ＤＰＨＡと同様な理由により親水性傾向がある。(Comparative Example 12)
In Example 3, except that the urethane acrylate (C) contained in the antistatic layer composition 1 was replaced with caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: KAYARAD DPCA-60; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Produced an optical film and a laminate in the same manner as in Example 3. This compound tends to be hydrophilic for the same reason as DPHA.

（参考例２）
実施例３において、帯電防止層用組成物１に含まれる帯電防止剤（Ａ）を、帯電防止剤（Ｂ）（金属微粒子：ＡＴＯ；商品名：ＥＬＣＯＭ Ｖ３５６０；日揮触媒化成製）に代えた以外は実施例３と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Reference Example 2)
In Example 3, the antistatic agent (A) contained in the antistatic layer composition 1 was replaced with the antistatic agent (B) (metal fine particles: ATO; trade name: ELCOM V3560; manufactured by JGC Catalysts & Chemicals). Produced an optical film and a laminate in the same manner as in Example 3.

（参考例３）
参考例２において、帯電防止層用組成物１に含まれる帯電防止剤（Ｂ）の量を表１に示すように多くした以外は、参考例２と同様に光学フィルム及び積層体を作製した。(Reference Example 3)
In Reference Example 2, an optical film and a laminate were produced in the same manner as in Reference Example 2 except that the amount of the antistatic agent (B) contained in the antistatic layer composition 1 was increased as shown in Table 1.

（帯電防止層の表面抵抗値の評価）
実施例１〜７、比較例１〜１２、及び参考例１〜３の基材上に帯電防止層を積層した積層体について、高抵抗率計（（株）三菱化学アナリテック製の商品名ハイレスタ ＩＰ ＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて印加電圧１０００Ｖで表面抵抗値を測定した。その結果を表１に示す。なお、本願において記載している表面抵抗値の単位Ω／□とは、Ω／ｓｑ．（単位面積あたりの抵抗）の意味である。(Evaluation of surface resistance of antistatic layer)
About the laminated body which laminated | stacked the antistatic layer on the base material of Examples 1-7, Comparative Examples 1-12, and Reference Examples 1-3, high resistivity meter (trade name Hiresta made by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) The surface resistance value was measured at an applied voltage of 1000 V with IP MCP-HT260). The results are shown in Table 1. The unit Ω / □ of the surface resistance value described in the present application is Ω / sq. It means (resistance per unit area).

（光学フィルムのホコリ付着防止性の評価）
実施例および比較例で作製した基材／帯電防止層／ハードコート層からなる光学積層体の、ＨＣ層面をポリエステル布にて２０往復こすり、そのこすった面をタバコの灰に近づけて塵埃付着防止を下記基準にて評価した。
○：灰の付着がなく、ホコリ付着防止効果があり良好である。
×：灰の付着が多数あり、ホコリ付着防止効果がない。(Evaluation of dust resistance of optical film)
In the optical laminate comprising the base material / antistatic layer / hard coat layer prepared in Examples and Comparative Examples, the HC layer surface is rubbed 20 times with a polyester cloth, and the rubbed surface is brought close to tobacco ash to prevent dust adhesion. Was evaluated according to the following criteria.
○: There is no adhesion of ash, and there is an effect of preventing dust adhesion, which is good.
X: There are many adhesions of ash, and there is no dust adhesion prevention effect.

（光学フィルムの密着性の評価）
実施例１〜７、比較例１〜１２、及び参考例１〜３の光学フィルムについて、温度２５℃、湿度４０％で２４時間調湿した後に、ＪＩＳ Ｋ５４００の碁盤目試験の方法に準じて、ハードコート層面に１ｍｍ間隔で縦及び横、それぞれ１１本の切れ目を入れて１００個の碁盤目を作り、ニチバン（株）製セロテープ（登録商標）を碁盤目上に貼り付けた後、これを速やかに９０°の方向に引張って剥離させ、下記基準に基づいて密着率を算出した。
密着率（％）＝（剥がれなかった碁盤目の数／合計の碁盤目数１００）×１００
また、実施例１〜７、比較例１〜１２、及び参考例１〜３の光学フィルムについて、温度２５℃、湿度４０％で２４時間調湿した後に、温度３０℃、湿度４０％において、紫外線を１時間当たり５００Ｗ／ｍ２の光量で１９２時間照射した後の密着率も求めた。耐ＵＶ試験前後の光学フィルムの密着率の測定結果を表１に合わせて示す。(Evaluation of optical film adhesion)
For the optical films of Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 to 12, and Reference Examples 1 to 3, after conditioning for 24 hours at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 40%, according to the cross-cut test method of JIS K5400, Make a 100 grid by making 11 cuts on the surface of the hard coat layer at 1 mm intervals in the vertical and horizontal directions. The film was pulled and peeled in the direction of 90 °, and the adhesion rate was calculated based on the following criteria.
Adhesion rate (%) = (number of grids not peeled / total number of grids 100) × 100
Moreover, about the optical film of Examples 1-7, Comparative Examples 1-12, and Reference Examples 1-3, after adjusting humidity for 24 hours by temperature 25 degreeC and humidity 40%, in temperature 30 degreeC and humidity 40%, it is an ultraviolet-ray. Was also determined after irradiation for 192 hours with a light intensity of 500 W / m 2 per hour. The measurement results of the adhesion rate of the optical film before and after the UV resistance test are shown in Table 1.

Figure 2012008444
Figure 2012008444

（結果のまとめ）
表１より、実施例１〜７では、いずれも良好な積層体（帯電防止層）の表面抵抗値が得られ、光学フィルムの密着性も良好であった。また、光学特性や外観も良好であった。(Summary of results)
From Table 1, in Examples 1-7, the surface resistance value of the favorable laminated body (antistatic layer) was obtained, and the adhesiveness of the optical film was also favorable. Also, the optical characteristics and appearance were good.

しかし、比較例１、２では、帯電防止層用組成物に多官能モノマー（Ｂ）やウレタンアクリレート（Ｃ）が含まれていないため、耐ＵＶ試験前は密着率が良好であったが、耐ＵＶ試験後の密着率が悪かった。   However, in Comparative Examples 1 and 2, since the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) were not included in the antistatic layer composition, the adhesion rate was good before the UV resistance test. The adhesion rate after the UV test was poor.

比較例３では、多官能モノマー（Ｂ）が単官能であるため、十分な密着率が得られなかった。   In Comparative Example 3, since the polyfunctional monomer (B) was monofunctional, a sufficient adhesion rate could not be obtained.

比較例４では、多官能モノマー（Ｂ）の分子量が１０００を超えており、密着率が低く、特に耐ＵＶ試験後の密着率が低かった。これは、多官能モノマー（Ｂ）のＴＡＣ基材への浸透が不十分でＴＡＣ基材と帯電防止層の密着性が不十分となったためと考えられる。   In Comparative Example 4, the molecular weight of the polyfunctional monomer (B) exceeded 1000, the adhesion rate was low, and particularly the adhesion rate after the UV resistance test was low. This is presumably because the penetration of the polyfunctional monomer (B) into the TAC substrate was insufficient and the adhesion between the TAC substrate and the antistatic layer became insufficient.

比較例５では、ウレタンアクリレート（Ｃ）の官能基数が２と少なく、密着率が低く、特に耐ＵＶ試験後の密着率が低かった。これは、ウレタンアクリレート（Ｃ）による架橋が少なく、帯電防止層とＨＣ層の密着性が不十分となったためと考えられる。   In Comparative Example 5, the number of functional groups of urethane acrylate (C) was as small as 2, the adhesion rate was low, and particularly the adhesion rate after the UV resistance test was low. This is presumably because there was little cross-linking by urethane acrylate (C) and the adhesion between the antistatic layer and the HC layer was insufficient.

比較例６では、ウレタンアクリレート（Ｃ）の分子量が１０００未満で、特に耐ＵＶ試験後の密着率が低かった。これは、ウレタンアクリレート（Ｃ）がＴＡＣ基材に浸透し過ぎたことにより、帯電防止層とＨＣ層の密着性が不十分となったためと考えられる。   In Comparative Example 6, the molecular weight of the urethane acrylate (C) was less than 1000, and particularly the adhesion rate after the UV resistance test was low. This is thought to be because the adhesion between the antistatic layer and the HC layer became insufficient due to excessive penetration of the urethane acrylate (C) into the TAC substrate.

比較例７では、ウレタンアクリレート（Ｃ）の分子量が１００００を超えており、密着率が低く、特に耐ＵＶ試験後の密着率が低かった。表面抵抗値も高く、これは、ウレタンアクリレート（Ｃ）がＴＡＣ基材に全く浸透せず、帯電防止層中の帯電防止剤（Ａ）の相対的な量が少なくなったためと考えられる。   In Comparative Example 7, the molecular weight of urethane acrylate (C) exceeded 10,000, the adhesion rate was low, and particularly the adhesion rate after the UV resistance test was low. The surface resistance value is also high, which is considered to be because the urethane acrylate (C) did not penetrate into the TAC substrate at all and the relative amount of the antistatic agent (A) in the antistatic layer was reduced.

比較例８では、帯電防止剤（Ａ）の含有割合が少なく、表面抵抗値が高くなってしまった。   In Comparative Example 8, the content ratio of the antistatic agent (A) was small, and the surface resistance value was high.

比較例９では、帯電防止剤（Ａ）の含有割合が多く、帯電防止性は良好であったが、バインダーとなる多官能モノマー（Ｂ）とウレタンアクリレート（Ｃ）の量が少なくなったため、耐ＵＶ試験前後で密着率が低かった。   In Comparative Example 9, the content of the antistatic agent (A) was large and the antistatic property was good, but the amount of the polyfunctional monomer (B) and the urethane acrylate (C) serving as a binder was reduced, The adhesion rate before and after the UV test was low.

比較例１０では、多官能モノマー（Ｂ）の含有割合が多く、ウレタンアクリレート（Ｃ）の含有割合が少ないため、密着率が低く、特に耐ＵＶ試験後の密着率が低かった。   In Comparative Example 10, since the content ratio of the polyfunctional monomer (B) was large and the content ratio of the urethane acrylate (C) was small, the adhesion rate was low, and particularly the adhesion rate after the UV resistance test was low.

比較例１１では、ウレタンアクリレート（Ｃ）の含有割合が多く、多官能モノマー（Ｂ）の含有割合が少ないため、耐ＵＶ試験前は密着率が良好であったが、耐ＵＶ試験後の密着率が低かった。   In Comparative Example 11, since the content ratio of the urethane acrylate (C) was large and the content ratio of the polyfunctional monomer (B) was small, the adhesion rate was good before the UV resistance test, but the adhesion rate after the UV resistance test. Was low.

参考例１では、密着率が低く、表面抵抗値が高かった。これは、帯電防止層用組成物中の溶剤を被浸透溶剤のみにしたため、ウレタンアクリレート（Ｃ）がＴＡＣ基材に十分に浸透せず、帯電防止層中の帯電防止剤（Ａ）の相対的な量が少なくなったためと考えられる。   In Reference Example 1, the adhesion rate was low and the surface resistance value was high. This is because the urethane acrylate (C) does not sufficiently penetrate the TAC substrate because the solvent in the composition for the antistatic layer is only the permeation solvent, and the relative antistatic agent (A) in the antistatic layer This is thought to be due to the fact that the amount of the product has decreased.

比較例１２では、疎水性樹脂であるウレタンアクリレート（Ｃ）を用いなかったため、４級アンモニウム塩が分散しすぎてしまい、表面抵抗値が高かった。よって、ホコリ付着防止性も得られなかった。   In Comparative Example 12, since urethane acrylate (C), which is a hydrophobic resin, was not used, the quaternary ammonium salt was excessively dispersed, and the surface resistance value was high. Therefore, the dust adhesion preventing property was not obtained.

参考例２では、帯電防止剤として金属微粒子を用いた。４級アンモニウム塩の場合と同等の全光線透過率が得られるレベルの添加量（かなり少ない）としたので表面抵抗値が悪かった。   In Reference Example 2, metal fine particles were used as an antistatic agent. The surface resistance value was poor because the amount of addition (considerably small) was such that a total light transmittance equivalent to that of the quaternary ammonium salt was obtained.

参考例３では、全光線透過率を考えず必要な帯電防止性を得るために帯電防止剤として金属微粒子を参考例２よりも多く配合したため、密着性が悪かった。添加量が多いことが原因で着色があり４級アンモニウム塩の場合よりも全光線透過率が低く（８８％）、ヘイズ（０．８％）が高くなった。   In Reference Example 3, in order to obtain the necessary antistatic property without considering the total light transmittance, more metal fine particles were blended as the antistatic agent than in Reference Example 2, and thus the adhesion was poor. The coloring was caused by the large amount of addition, and the total light transmittance was lower (88%) and haze (0.8%) was higher than in the case of the quaternary ammonium salt.

実施例、比較例及び参考例の光学フィルムのホコリ付着防止性を評価したところ、積層体の表面抵抗値が１×１０１２Ω／□未満である場合は全て良好であったが、それ以外の場合には、灰が多数付着していた。つまり、好ましい表面抵抗値を有する帯電防止層であれば、その上にＨＣ層を積層しても光学フィルムにホコリ付着防止性を付与できていた。When the dust resistance of the optical films of Examples, Comparative Examples and Reference Examples was evaluated, the laminates were all good when the surface resistance value was less than 1 × 10 12 Ω / □. In some cases, a lot of ash was attached. That is, if the antistatic layer has a preferable surface resistance value, even if an HC layer is laminated on the antistatic layer, the anti-dust adhesion property can be imparted to the optical film.

１、２ 光学フィルム
１０ トリアセチルセルロース基材
２０ 帯電防止層
３０ ハードコート層
４０ 低屈折率層
５０ 保護フィルム
６０ 偏光層
７０ 偏光子
８０ 偏光板DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Optical film 10 Triacetyl cellulose base material 20 Antistatic layer 30 Hard coat layer 40 Low refractive index layer 50 Protective film 60 Polarizing layer 70 Polarizer 80 Polarizing plate

帯電防止剤（Ａ）としては、従来公知の帯電防止剤を用いることができ、特に限定されない。
例えば、特許文献１に記載の４級アンモニウム塩等のカチオン性化合物、スルホン酸塩等のアニオン性化合物、アミノ酸系等の両性化合物、アミノアルコール系等のノニオン性化合物、有機金属化合物及び金属キレート化合物並びにこれら化合物を高分子量化した化合物、重合性化合物、平均１次粒径が１〜１００ｎｍの酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の導電性超微粒子並びに脂肪族共役系のポリアセチレン等の高分子型導電性組成物が挙げられる。 A conventionally known antistatic agent can be used as the antistatic agent (A), and is not particularly limited.
For example, cationic compounds such as quaternary ammonium salts described in Patent Document 1, anionic compounds such as a sulfonic acid salt, an amphoteric compound of the amino acid-based, etc., nonionic compound of amino alcohol and the like, organic metal compounds and metal chelate compounds In addition, high molecular weight compounds of these compounds, polymerizable compounds, conductive ultrafine particles such as indium tin oxide (ITO) having an average primary particle size of 1 to 100 nm, and polymer type conductivity such as aliphatic conjugated polyacetylene A composition.

（Ｂ：多官能モノマー）
多官能モノマー（Ｂ）は、硬化して帯電防止層のマトリクスとなるバインダー成分の一つであり、１分子中に光硬化性基を２個以上有する分子量９００以下の単量体である。分子量が小さく、かつ、多官能であることにより帯電防止層内や帯電防止層に隣接するＨＣ層との架橋密度を高め、密着性向上に寄与する成分である。また、多官能モノマーは、その少なくとも一部がＴＡＣ基材に浸透し、硬化することにより帯電防止層とＴＡＣ基材との密着性向上にも寄与する。
多官能モノマー（Ｂ）の分子量が９００を超えると、ＴＡＣ基材への浸透性が低下し帯電防止層とＴＡＣ基材の十分な密着性が得られなくなるおそれがある。
多官能モノマー（Ｂ）の分子量は、９００以下であれば良いが、多官能モノマー（Ｂ）のＴＡＣ基材への浸透を適度にして、帯電防止層とＨＣ層との密着性と帯電防止性（表面抵抗値）を高度に両立する観点から、多官能モノマー（Ｂ）の分子量は、２３０以上であることが好ましく、２９０以上であることがより好ましい。分子量が２３０よりも小さいと、多官能モノマー（Ｂ）のＴＡＣ基材への浸透が適度でなく、すべて一様の深さに浸透して新たな界面が発生してしまうことがあり、その界面で反射した光と、帯電防止層とＨＣ層との界面で反射した光や、ＨＣ層表面で反射した光との間で光干渉が起こり、干渉縞が生じて外観が悪化する恐れがある。 (B: polyfunctional monomer)
The polyfunctional monomer (B) is one of binder components that are cured to form a matrix of the antistatic layer, and is a monomer having a molecular weight of 900 or less having two or more photocurable groups in one molecule. It is a component that contributes to improving adhesion by increasing the crosslink density with the HC layer in the antistatic layer or adjacent to the antistatic layer by having a low molecular weight and polyfunctionality. Further, at least a part of the polyfunctional monomer penetrates into the TAC base material and is cured, thereby contributing to improvement in adhesion between the antistatic layer and the TAC base material.
When the molecular weight of the polyfunctional monomer (B) exceeds 900, the permeability to the TAC substrate is lowered, and sufficient adhesion between the antistatic layer and the TAC substrate may not be obtained.
The molecular weight of the polyfunctional monomer (B) is sufficient if 900 or less, penetration of the TAC substrate of a polyfunctional mono M a (B) in the appropriate charging and adhesion between the antistatic layer and the HC layer From the viewpoint of achieving both a high level of prevention (surface resistance value), the molecular weight of the polyfunctional monomer (B) is preferably 230 or more, and more preferably 290 or more. If the molecular weight is less than 230, the polyfunctional monomer (B) may not penetrate into the TAC base material properly, and may penetrate into a uniform depth and generate a new interface. There is a possibility that optical interference occurs between the light reflected at, the light reflected at the interface between the antistatic layer and the HC layer, and the light reflected from the surface of the HC layer, resulting in interference fringes and deterioration of the appearance.

アセトフェノン類としては、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−ジメチル−ｐ−イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン等が挙げられ、ベンゾイン類としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル等が挙げられる。 As acetophenones, 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxy-dimethylphenylketone, 1-hydroxy-dimethyl-p-isopropylphenylketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl- Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, and benzoin benzene sulfonic acid. Ester, and benzoin toluenesulfonic acid ester.

高屈折率層は具体的には、１．５０〜２．８０の屈折率であることが好ましい。中屈折率層は高屈折率層よりも屈折率が低く、１．５０〜２．００の屈折率であることが好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の膜厚は、適宜調節すればよく、５０〜３００ｎｍであることが好ましい。 Specifically, the high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.50 to 2.80. The middle refractive index layer has a lower refractive index than the high refractive index layer, and preferably has a refractive index of 1.50 to 2.00.
The film thickness of the high refractive index layer and the middle refractive index layer may be adjusted as appropriate, and is preferably 50 to 300 nm.

塗布方法は、従来公知の方法を用いれば良く、特に限定されず、グラビアコート法、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法及びビードコーター法等の各種方法を用いることができる。 The coating method may be a conventionally known method, and is not particularly limited. Gravure coating method, spin coating method, dipping method, spray method, slide coating method, bar coating method, roll coater method, meniscus coater method, flexographic printing Law, various methods such as a screen printing method and the bi Dokota method can be used.

（光学フィルムのホコリ付着防止性の評価）
実施例および比較例で作製した基材／帯電防止層／ハードコート層からなる光学積層体の、ＨＣ層面をポリエステル布にて２０往復こすり、そのこすった面をタバコの灰に近づけて塵埃付着防止性を下記基準にて評価した。
○：灰の付着がなく、ホコリ付着防止効果があり良好である。
×：灰の付着が多数あり、ホコリ付着防止効果がない。 (Evaluation of dust resistance of optical film)
In the optical laminate comprising the base material / antistatic layer / hard coat layer prepared in Examples and Comparative Examples, the HC layer surface is rubbed 20 times with a polyester cloth, and the rubbed surface is brought close to tobacco ash to prevent dust adhesion. The properties were evaluated according to the following criteria.
○: There is no adhesion of ash, and there is an effect of preventing dust adhesion, which is good.
X: There are many adhesions of ash, and there is no dust adhesion prevention effect.

Claims (11)

（Ａ）帯電防止剤、
（Ｂ）１分子中に光硬化性基を２個以上有し、分子量９００以下の多官能モノマー及び
（Ｃ）１分子中にアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を６個以上有し、重量平均分子量１０００〜１１０００のウレタンアクリレートを含み、
当該（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の総量に対する当該（Ａ）の割合が、１〜３０質量％、かつ、
当該（Ｂ）及び（Ｃ）の総量に対する当該（Ｃ）の割合が１〜４０質量％であることを特徴とする、帯電防止層用硬化性樹脂組成物。(A) antistatic agent,
(B) a polyfunctional monomer having two or more photocurable groups in one molecule and a molecular weight of 900 or less; and (C) six or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups in one molecule, and a weight average molecular weight. Including 1000-11000 urethane acrylate,
The ratio of (A) to the total amount of (A), (B) and (C) is 1 to 30% by mass, and
A curable resin composition for an antistatic layer, wherein the ratio of the (C) to the total amount of the (B) and (C) is 1 to 40% by mass. 前記（Ａ）が、重量平均分子量１０００〜５００００の４級アンモニウム塩であることを特徴とする、請求項１に記載の帯電防止層用硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition for an antistatic layer according to claim 1, wherein (A) is a quaternary ammonium salt having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000. さらに、（Ｄ）浸透性溶剤及び（Ｅ）非浸透性溶剤を含むことを特徴とする、請求項１又は２に記載の帯電防止層用硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition for an antistatic layer according to claim 1, further comprising (D) a permeable solvent and (E) a non-permeable solvent. 前記帯電防止層用硬化性樹脂組成物の膜厚１〜５μｍの硬化物の表面抵抗値が、１×１０１２Ω／□未満であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の帯電防止層用硬化性樹脂組成物。4. The surface resistance value of a cured product having a film thickness of 1 to 5 μm of the curable resin composition for an antistatic layer is less than 1 × 10 12 Ω / □. 5. The curable resin composition for an antistatic layer according to Item. トリアセチルセルロース基材の一面側に、当該トリアセチルセルロース基材側から膜厚１〜５μｍの帯電防止層、及びハードコート層が隣接して設けられている光学フィルムであって、
当該帯電防止層が前記請求項１乃至４のいずれか一項に記載の帯電防止層用硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
当該トリアセチルセルロース基材の帯電防止層側の界面近傍の領域には前記多官能モノマー（Ｂ）が浸透して硬化していることを特徴とする、光学フィルム。An optical film in which an antistatic layer having a film thickness of 1 to 5 μm and a hard coat layer are adjacently provided on one side of the triacetyl cellulose substrate from the triacetyl cellulose substrate side,
The antistatic layer comprises a cured product of the curable resin composition for an antistatic layer according to any one of claims 1 to 4,
An optical film, wherein the polyfunctional monomer (B) penetrates and cures in a region near the interface on the antistatic layer side of the triacetylcellulose base material. ホコリ付着防止性を有することを特徴とする、請求項５に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 5, wherein the optical film has a dust adhesion preventing property. 前記ハードコート層、当該帯電防止層及び前記トリアセチルセルロース基材間の碁盤目密着性試験の密着率が、９０〜１００％であり、かつ、温度３０℃、湿度４０％において、紫外線を１時間当たり５００Ｗ／ｍ２の光量で１９２時間照射した後の当該密着率が、８０〜１００％であることを特徴とする、請求項５又は６に記載の光学フィルム。An adhesion rate in a cross-cut adhesion test between the hard coat layer, the antistatic layer and the triacetyl cellulose substrate is 90 to 100%, and ultraviolet rays are applied for 1 hour at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 40%. The optical film according to claim 5 or 6, wherein the adhesion rate after irradiation for 192 hours with a light amount of 500 W / m 2 is 80 to 100%. 前記ハードコート層の帯電防止層とは反対側の面にさらに、低屈折率層が設けられていることを特徴とする、請求項５乃至７に記載の光学フィルム。   8. The optical film according to claim 5, further comprising a low refractive index layer provided on a surface of the hard coat layer opposite to the antistatic layer. 前記ハードコート層が、電離放射線硬化性樹脂を含む組成物の硬化物であることを特徴とする、請求項５乃至８のいずれかに記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 5, wherein the hard coat layer is a cured product of a composition containing an ionizing radiation curable resin. 前記請求項５乃至９のいずれか一項に記載の光学フィルムのトリアセチルセルロース基材側に偏光子が設けられていることを特徴とする、偏光板。   A polarizing plate, wherein a polarizer is provided on the triacetylcellulose substrate side of the optical film according to any one of claims 5 to 9. 前記請求項５乃至９のいずれか一項に記載の光学フィルムのトリアセチルセルロース基材側にディスプレイが配置されていることを特徴とする、ディスプレイパネル。   A display panel, wherein a display is disposed on the triacetylcellulose substrate side of the optical film according to any one of claims 5 to 9.
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