JP2003313260A - Radiation curable resin composition and film having cured film comprising the composition - Google Patents
Radiation curable resin composition and film having cured film comprising the compositionInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は高屈折率の放射線硬
化型樹脂組成物およびそれから得られる硬化皮膜を有す
るフィルムに関する。更に詳しくは、硬化性および密着
性に優れ、透明性の良好な高屈折層を形成するための放
射線硬化型樹脂組成物と、それを用いて得られる反射防
止性の良好なフィルムに関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a radiation-curable resin composition having a high refractive index and a film having a cured film obtained from the radiation-curable resin composition. More specifically, the present invention relates to a radiation curable resin composition for forming a highly refractive layer having excellent curability and adhesiveness and good transparency, and a film having good antireflection properties obtained using the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】現在、プラスチックは自動車業界、家電
業界、電気電子業界を始めとして種々の産業界で大量に
使われている。このようにプラスチックが大量に使われ
ている理由はその加工性、透明性等に加えて、軽量、安
価、光学特性に優れる等の理由による。2. Description of the Related Art At present, plastics are used in large quantities in various industries including the automobile industry, the home appliance industry, the electric and electronic industries. The reason why plastics are used in large quantities is that they are lightweight, inexpensive, and have excellent optical characteristics in addition to their workability and transparency.
【０００３】近年、放射線硬化型のアクリル系ハードコ
ート剤が開発され、実用に供されるようになった。放射
線硬化型ハードコート剤は、紫外線等の放射線を照射す
ることによって速やかに硬化して硬い皮膜を形成するた
めに、加工処理スピードが速く、またハードネス、耐摩
耗性等に優れた性能を持ち、トータルコスト的に安価に
なるので、今やハードコート分野の主流に成っている。
特にポリエステルフイルム等のプラスチックフィルムの
連続加工には適している。プラスチックフィルムとして
は、ポリエステルフィルム、ポリアクリレートフィル
ム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、塩
化ビニルフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、
ポリエーテルスルフォンフィルム等があるが、これらの
うち、ポリエステルフィルムは種々の優れた特徴から最
も広く使用されているフィルムの一種である。即ち、ポ
リエステルフィルムは、ガラスの飛散防止フィルム、あ
るいは自動車の遮光フィルム、又、電子材料的にはタッ
チパネル、液晶ディスプレイ、ＣＲＴフラットテレビあ
るいは冷蔵庫等家電製品のハウジングの鉄板にラミネー
トして化粧性を向上するために、更にはホワイトボード
の表面のフィルム等として広く用いられている。これら
の用途においては、何れもその表面が傷つかないように
するためにハードコート層を設ける必要がある。In recent years, radiation-curable acrylic hard coating agents have been developed and put into practical use. The radiation-curable hard coating agent is rapidly cured by irradiation with radiation such as ultraviolet rays to form a hard film, so that the processing speed is fast, and the hardness and abrasion resistance are excellent. It becomes the mainstream in the hard coat field because the total cost becomes cheaper.
Particularly, it is suitable for continuous processing of plastic films such as polyester film. As the plastic film, polyester film, polyacrylate film, acrylic film, polycarbonate film, vinyl chloride film, triacetyl cellulose film,
Among them, there are polyether sulfone films and the like. Among them, polyester films are one of the most widely used films because of various excellent characteristics. That is, the polyester film is laminated on an anti-scattering film of glass, a light-shielding film of an automobile, or an electronic material such as a touch panel, a liquid crystal display, a CRT flat TV, or an iron plate of a housing of a home electric appliance such as a refrigerator to improve cosmetic properties. Therefore, it is widely used as a film on the surface of a whiteboard. In any of these applications, it is necessary to provide a hard coat layer in order to prevent the surface from being damaged.
【０００４】ハードコート剤をコーティングしたフィル
ムを表面に設けたＣＲＴ、ＬＣＤなどの表示体では、フ
ィルム面が平滑になるため、反射により表示体画面が見
難くなり、目が疲れやすいと言う問題が生ずるため、用
途によっては、表面反射防止能のあるハードコート処理
が必要である。表面反射防止の方法としては、放射線硬
化型樹脂中に無機フィラーや有機系微粒子のフィラーを
分散させたものをフィルム上にコーティングし、表面に
凹凸をつけて反射を防止する方法（ＡＧ処理）、フィル
ム上に高屈折率層、低屈折率層の順に多層構造を設け、
屈折率の差で映り込み、反射を防止する方法（ＡＲ処
理）、又は上記２つの方法を組み合わせたＡＧ／ＡＲ処
理法等がある。In a display such as a CRT or LCD having a surface coated with a film coated with a hard coat agent, the film surface becomes smooth, so that the screen of the display is difficult to see due to reflection, and the eyes are easily tired. Therefore, depending on the application, a hard coat treatment having a surface antireflection property is required. As a method of preventing surface reflection, a method of coating a film in which a filler of an inorganic filler or an organic fine particle is dispersed in a radiation curable resin and coating the surface with unevenness to prevent reflection (AG treatment), Provide a multilayer structure on the film in the order of high refractive index layer and low refractive index layer,
There are a method of preventing reflection due to a difference in refractive index (AR processing), an AG / AR processing method in which the above two methods are combined, and the like.
【０００５】[0005]
【発明が解決使用とする課題】ＡＲ処理の材料として高
屈折率層を得るための形成材料としては例えば特開平８
−９４８０６号公報にあるように、芳香環を含む樹脂、
Ｆ以外のハロゲン元素例えばＢｒ、Ｉ、Ｃｌなどを含む
樹脂、Ｓ、Ｎ、Ｐなどの原子を含む樹脂など高屈折率の
樹脂を用いる方法や、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｓｂ
2Ｏ3などの高屈折率微粒子を用いる方法などが提案され
ている。しかしながらそれらの膜の形成方法は複雑であ
り、使用する樹脂の種類や硬化剤の種類によっては安定
性や硬化性が十分でない場合もあった。また、高屈折の
微粒子を用いる紫外線硬化型の高屈折率の塗料も、各種
提案されている。一般的には屈折率の高い微粒子を用い
たほうが添加量によって膜の屈折率を調整しやすく好ま
しいが、例えば酸化チタン等をはじめとする金属微粒子
は紫外線を吸収するため、これらを含有する紫外線硬化
型の塗料を硬化させる際に硬化不良を起こしやすいなど
の問題がある。また、酸化チタンは白色インク顔料とし
て用いられていることから明かなようにその隠蔽性か
ら、光学用途などに用いる場合には特に十分な微粒子化
処理が必要であり、また保存安定性、塗工適性が優れて
いないと透明で高屈折率の膜が得られず、十分な実用性
を得るのは難しかった。したがって市場では硬化性が良
好で透明性が優れた膜を得易い材料が求められている。
さらに１μｍ未満の膜厚では、酸素阻害による硬化速度
の低下もあり、硬化不良やそれに伴う膜物性の低下で、
耐擦傷性や密着が不十分になるという問題もある。As a forming material for obtaining a high refractive index layer as a material for AR treatment, there is, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H8 (1998) -58242.
As described in JP-A-94806, a resin containing an aromatic ring,
A method using a resin having a high refractive index such as a resin containing a halogen element other than F, for example, Br, I, Cl, etc., a resin containing an atom such as S, N, P, ZnO, TiO 2 , CeO 2 , Sb.
A method using high refractive index fine particles such as 2 O 3 has been proposed. However, the method for forming these films is complicated, and depending on the type of resin used and the type of curing agent, stability and curability may not be sufficient. In addition, various types of UV-curable high-refractive-index paints using high-refractive-index fine particles have been proposed. In general, it is preferable to use fine particles having a high refractive index because the refractive index of the film can be easily adjusted by the addition amount, but for example, metal fine particles such as titanium oxide absorb ultraviolet rays, and thus ultraviolet curing containing them There is a problem that curing failure is likely to occur when curing the mold paint. In addition, since titanium oxide is used as a white ink pigment, it is clear from the concealing property that it needs to be sufficiently microparticulated for use in optical applications. If the suitability is not excellent, a transparent film having a high refractive index cannot be obtained, and it is difficult to obtain sufficient practicality. Therefore, in the market, there is a demand for a material that has a good curability and is easy to obtain a film having excellent transparency.
Further, if the film thickness is less than 1 μm, the curing rate may decrease due to oxygen inhibition, which may result in poor curing or deterioration of the film physical properties.
There is also a problem that scratch resistance and adhesion become insufficient.
【０００６】本発明は、上記の欠点を改善し、硬化速度
が良好で、耐擦傷性、密着性、透明性が良好な高屈折率
の膜が得られる放射線硬化型樹脂組成物およびその硬化
皮膜を有するフィルムを提供することを目的とする。The present invention improves the above-mentioned drawbacks, has a good curing rate, and provides a radiation-curable resin composition and a cured film thereof, which is capable of obtaining a film having a high refractive index which is excellent in scratch resistance, adhesion and transparency. It aims at providing the film which has.
【０００７】[0007]
【 課題を解決するための手段】本発明者は、上記問題
を解決するために鋭意検討の結果、特定の組成を有する
放射線硬化型樹脂組成物が前記課題を解決するものであ
ることを見出し、本発明を完成した。即ち、本発明は、
（１）エチレン性不飽和基を有し、アミン変性された樹
脂（Ａ）、分子内に３個以上のエチレン性不飽和基を有
する樹脂（Ｂ）及び一次粒径が１〜２００ナノメートル
で、屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）を含有すること
を特徴とする放射線硬化型樹脂組成物、（２）その硬化
皮膜の屈折率が１．６以上である（１）の放射線硬化型
樹脂組成物、（３）一次粒径が１〜２００ナノメートル
で、屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）が酸化チタン又
は酸化チタンである（１）又は（２）に記載の放射線硬
化型樹脂組成物、（４）分子内にエチレン性不飽和基お
よびアルキレンオキサイド基を有するモノマー（ａ）と
無水マレイン酸（ｂ）とスチレン（ｃ）とを共重合した
ポリマー（Ｄ）を含有する（１）乃至（３）に記載の放
射線硬化型樹脂組成物、（５）ポリマー（Ｄ）が下記一
般式（１）Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor found that a radiation curable resin composition having a specific composition solves the above problems, The present invention has been completed. That is, the present invention is
(1) An amine-modified resin (A) having an ethylenically unsaturated group, a resin (B) having three or more ethylenically unsaturated groups in the molecule, and a primary particle size of 1 to 200 nm. A radiation-curable resin composition containing fine particles (C) having a refractive index of 1.7 or more, (2) the radiation-curing of (1), wherein the cured film has a refractive index of 1.6 or more. Type resin composition, (3) The radiation according to (1) or (2), wherein the fine particles (C) having a primary particle size of 1 to 200 nm and a refractive index of 1.7 or more are titanium oxide or titanium oxide. Curable resin composition, (4) containing a polymer (D) obtained by copolymerizing a monomer (a) having an ethylenically unsaturated group and an alkylene oxide group in the molecule, maleic anhydride (b) and styrene (c) The radiation curable resin assembly according to (1) to (3) Things, (5) polymers (D) is the following general formula (1)
【０００８】[0008]
【化２】 [Chemical 2]
【０００９】（式（１）中ＡＯはアルキレンオキサイド
基を表し、Ｒは水素原子又は炭素数１〜２５のアルキル
基を表す。ｍ、ｎは１〜８０の整数を表す。又ａ、ｂ及
びｃは、ｎが前記の条件を満たす範囲で、任意の順序で
且つ任意の数存在しているものとする。）で示されるポ
リマーである（４）に記載の放射線硬化型樹脂組成物、
（６）基材フィルム上に（１）乃至（５）のいずれか一
項に記載の放射線硬化型樹脂組成物の硬化皮膜を設けて
なる硬化皮膜つきフィルム、に関する。(In the formula (1), AO represents an alkylene oxide group, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, m and n represent an integer of 1 to 80. Also, a, b and The radiation-curable resin composition according to (4), wherein c is a polymer represented by any number and in any order as long as n satisfies the above conditions.
(6) A film with a cured film, comprising a substrate film and a cured film of the radiation curable resin composition according to any one of (1) to (5).
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】本発明を詳細に説明する。本発明
において使用するエチレン性不飽和基を有し、アミン変
性された樹脂（Ａ）としては、例えばＥｂｅｃｒｙｌ
ＥＢＥ３６００、ＥＢＥ３７０３（何れもＵＣＢ社製）
などのアミン変性エポキシ（メタ）アクリレートや、ラ
ロマーＰＯ８３Ｆ、ＰＯ８４Ｆ、ＰＯ９４Ｆ、ＬＲ８８
６９、ＬＲ８８８９、ＬＲ８９４６（何れもＢＡＳＦ社
製）などのアミン変性オリゴエーテル（メタ）アクリレ
ートや、Ｅｂｅｃｒｙｌ ＥＢ８０、ラロマーＬＲ８８
２８（ＢＡＳＦ社製）などのアミン変性したポリエステ
ル（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの樹脂
（Ａ）は適宜使用されるが、放射線硬化型樹脂組成物の
硬化性および膜の透明性を考慮するとアミン変性オリゴ
エーテル（メタ）アクリレートがより好ましい。このア
ミン変性オリゴエーテルアクリレート樹脂の具体例とし
ては アルキレンオキシド変性トリメチロールプロパン
トリアクリレートのアミン変性物等があげられる。樹脂
（Ａ）の含有量は、得られる膜の透明性および硬化性を
考慮すると、組成物の固形分全体量を１００重量部とし
たとき１０〜７０重量部の範囲であり、好ましくは、２
０〜６０重量部である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail. Examples of the amine-modified resin (A) having an ethylenically unsaturated group used in the present invention include Ebecryl
EBE3600, EBE3703 (both made by UCB)
Amine-modified epoxy (meth) acrylates such as Laromer PO83F, PO84F, PO94F, LR88
69, LR8889, LR8946 (all manufactured by BASF), amine-modified oligoether (meth) acrylate, Ebecryl EB80, Laromer LR88
28 (manufactured by BASF) and amine-modified polyester (meth) acrylate. These resins (A) are used as appropriate, but amine-modified oligoether (meth) acrylate is more preferable in consideration of the curability of the radiation curable resin composition and the transparency of the film. Specific examples of the amine-modified oligoether acrylate resin include alkylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate amine-modified products. The content of the resin (A) is in the range of 10 to 70 parts by weight when the total solid content of the composition is 100 parts by weight, and preferably 2 considering the transparency and curability of the obtained film.
It is 0 to 60 parts by weight.
【００１１】分子内に３個以上のエチレン性不飽和基を
有する樹脂（Ｂ）としては、例えばトリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールオクタ
ントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
ポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパンポリエトキシポリプロポキシト
リ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクロイル
オキシエチル］イソシアヌレート、ペンタエリスリトー
ルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポ
リエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールポリプロポキシテトラ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロイルオキ
シエチル］イソシアヌレート等が挙げられる。樹脂
（Ｂ）の含有量は、得られる膜の硬化性および硬度を考
慮すると、組成物の固形分全体量を１００重量部とした
とき１０〜７０重量部の範囲であり、好ましくは２０〜
６０重量部である。Examples of the resin (B) having three or more ethylenically unsaturated groups in the molecule include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethyloloctanetri (meth) acrylate, trimethylolpropane polyethoxytri ( (Meth) acrylate, trimethylolpropane polypropoxytri (meth) acrylate,
Trimethylolpropane polyethoxypolypropoxytri (meth) acrylate, tris [(meth) acryloyloxyethyl] isocyanurate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol polyethoxytetra (meth) acrylate, pentaerythritol polypropoxytetra ( (Meth) acrylate,
Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate,
Dipentaerythritol tetra (meth) acrylate,
Dipentaerythritol penta (meth) acrylate,
Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate,
Examples thereof include caprolactone-modified tris [(meth) acryloyloxyethyl] isocyanurate. The content of the resin (B) is in the range of 10 to 70 parts by weight, preferably 20 to 70 parts by weight, when the total solid content of the composition is 100 parts by weight, in consideration of the curability and hardness of the obtained film.
60 parts by weight.
【００１２】一次粒径が１〜２００ナノメートルで、そ
の屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）としては、例えば
酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化インジウムスズ、酸化アンチモン、酸化セレン、酸
化イットリウムなどの微粒子が挙げられ，分散溶媒を含
有しない微粉末や溶媒に分散させたコロイド溶液として
用いることができる。また、これらを１種または２種以
上を混合して用いることが出来る。好ましいものは酸化
チタン又はこれを含む微粒子である。分散溶媒としては
水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−
ブタノールなどのアルコール類、エチレングリコールな
どの多価アルコール類およびその誘導体、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
ジメチルジメチルアセトアミドなどのケトン類、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどのエステル類、トルエン、キシレ
ンなどの非極性溶媒、２−ヒドロキシブチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロ
キシブチルアクリレートなどのアクリレート類その他一
般の有機溶媒が使用できる。分散溶媒の量は通常微粒子
１００重量部に対して１００〜２０００重量部である。
また、必要に応じて分散剤として、ポリカルボン酸系の
分散剤やシランカップリング剤、チタネート系カップリ
ング剤、変性シリコーンオイル等のシリコーン系分散剤
や有機共重合体系の分散剤などの公知のものを併用する
ことも可能である。一次粒径が１〜２００ナノメートル
で、その屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）の含有量は
得られる膜の屈折率を考慮すると組成物の固形分全体量
を１００重量部としたとき５〜８０重量部の範囲であ
り、好ましくは、１０〜７０重量部である。The fine particles (C) having a primary particle diameter of 1 to 200 nanometers and a refractive index of 1.7 or more include, for example, zirconium oxide, tin oxide, titanium oxide, zinc oxide,
Fine particles of indium tin oxide, antimony oxide, selenium oxide, yttrium oxide and the like can be mentioned, and they can be used as a fine powder containing no dispersion solvent or a colloid solution dispersed in a solvent. Further, these may be used alone or in combination of two or more. Preferred is titanium oxide or fine particles containing the same. As the dispersion solvent, water, methanol, ethanol, isopropanol, n-
Alcohols such as butanol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol and their derivatives, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone,
Ketones such as dimethyldimethylacetamide, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, non-polar solvents such as toluene and xylene, acrylates such as 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate and 4-hydroxybutyl acrylate, etc. The organic solvent can be used. The amount of the dispersion solvent is usually 100 to 2000 parts by weight based on 100 parts by weight of the fine particles.
Known dispersants such as polycarboxylic acid-based dispersants, silane coupling agents, titanate-based coupling agents, silicone-based dispersants such as modified silicone oil, and organic copolymer-based dispersants are also used as necessary. It is also possible to use those together. The content of the fine particles (C) having a primary particle diameter of 1 to 200 nanometers and a refractive index of 1.7 or more is 100 parts by weight of the total solid content of the composition in consideration of the refractive index of the obtained film. At this time, it is in the range of 5 to 80 parts by weight, preferably 10 to 70 parts by weight.
【００１３】本発明において、分子内にエチレン性不飽
和基およびアルキレンオキサイドを有するモノマー
（ａ）と無水マレイン酸（ｂ）とスチレン（ｃ）とが共
重合したポリマー（Ｄ）は、必要により使用されるが、
ポリマー（Ｄ）としては以下のものを用いることが出来
る。分子内にエチレン性不飽和基およびアルキレンオキ
サイド基を有するモノマー（ａ）としては、分子内に例
えばビニル基、プロペニル基、アクリロイル基、メタク
リロイル基などのエチレン性不飽和基を有し、さらにエ
チレンオキサイド基やプロピレンオキサイド基を有する
化合物であればどのようなものでも良い。これらのモノ
マー（ａ）と無水マレイン酸（ｂ）とスチレン（ｃ）と
を共重合させてポリマー（Ｄ）を得る。このようなポリ
マー（Ｄ）は例えば次のように表示することが出来る。In the present invention, the polymer (D) obtained by copolymerizing the monomer (a) having an ethylenically unsaturated group and an alkylene oxide in the molecule, maleic anhydride (b) and styrene (c) is used if necessary. Will be
The following can be used as the polymer (D). Examples of the monomer (a) having an ethylenically unsaturated group and an alkylene oxide group in the molecule include an ethylenically unsaturated group such as a vinyl group, a propenyl group, an acryloyl group and a methacryloyl group in the molecule, and further ethylene oxide. Any compound having a group or a propylene oxide group may be used. Polymer (D) is obtained by copolymerizing these monomers (a), maleic anhydride (b) and styrene (c). Such a polymer (D) can be displayed as follows, for example.
【００１４】[0014]
【化３】 [Chemical 3]
【００１５】（式（１）中ＡＯはアルキレンオキサイド
基を表し、Ｒは水素原子または炭素数１〜２５のアルキ
ル基を表す。ｍ、ｎは１〜８０の整数を表す。又ａ、ｂ
及びｃは、ｎが前記の条件を満たす範囲で、任意の順序
で且つ任意の数存在しているものとする。）
式（１）において、ＡＯはエチレンオキサイドやプロピ
レンオキサイド、その両方をランダムに結合した構造を
表す。本発明の放射線硬化型樹脂組成物においては溶剤
を含有せしめるのが好ましいが、溶剤が用いられた場合
はその種類により、ＡＯは適宜選択される。例えば、ア
ルコール系溶媒を用いる場合はエチレンオキサイドが好
ましいが、それ以外の場合はプロピレンオキサイドまた
はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドをランダ
ムにつなげた構造がより好ましい。ＡＯ部分の分子量は
１００〜１００００が好ましく、３００〜４０００がよ
り好ましい。Ｒは水素原子または炭素数１〜２５アルキ
ル基を表すが、本発明の用途では水素または炭素数１〜
８のアルキル基が好ましい。ポリマー（Ｄ）の溶解性
や、本発明の放射線硬化型樹脂組成物の安定性等を考慮
すると、ポリマー（Ｄ）の分子量は通常７００〜１００
０００であり、好ましくは５０００〜５００００であ
る。またポリマー（Ｄ）におけるａ、ｂ及びｃの共重合
の割合は、ポリマー（Ｄ）を構成する単量体のモル数を
１００とすると、エチレン性不飽和基およびアルキレン
オキサイドを有するモノマー（ａ）が１０〜９０、無水
マレイン酸（ｂ）が１０〜９０、スチレン（ｃ）が０〜
１０であることが好ましい。これらのポリマー（Ｄ）を
使用する場合、その含有量は、放射線硬化型樹脂組成物
の膜の硬化性および透明性を考慮すると組成物の固形分
全体量を１００重量部としたとき０．５〜１０重量部の
範囲であり、好ましくは、１〜７重量部である。(In the formula (1), AO represents an alkylene oxide group, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, m and n represent integers of 1 to 80, and a and b.
And c are assumed to exist in an arbitrary order and in an arbitrary number within a range where n satisfies the above condition. In the formula (1), AO represents ethylene oxide, propylene oxide, or a structure in which both are randomly bonded. The radiation-curable resin composition of the present invention preferably contains a solvent, but when a solvent is used, AO is appropriately selected depending on its type. For example, when an alcohol solvent is used, ethylene oxide is preferable, but in other cases, propylene oxide or a structure in which ethylene oxide and propylene oxide are randomly connected is more preferable. The molecular weight of the AO portion is preferably 100 to 10,000, more preferably 300 to 4,000. R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, but in the application of the present invention, hydrogen or 1 to 25 carbon atoms is used.
An alkyl group of 8 is preferred. Considering the solubility of the polymer (D) and the stability of the radiation-curable resin composition of the present invention, the molecular weight of the polymer (D) is usually 700 to 100.
000, preferably 5,000 to 50,000. Further, the copolymerization ratio of a, b and c in the polymer (D) is such that, when the number of moles of the monomer constituting the polymer (D) is 100, the monomer (a) having an ethylenically unsaturated group and an alkylene oxide. 10-90, maleic anhydride (b) 10-90, styrene (c) 0
It is preferably 10. When these polymers (D) are used, their content is 0.5 when the total solid content of the composition is 100 parts by weight, considering the curability and transparency of the film of the radiation curable resin composition. It is in the range of 10 to 10 parts by weight, preferably 1 to 7 parts by weight.
【００１６】本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、電子
線で硬化させる場合は光重合開始剤を使用しなくてもよ
いが、紫外線で硬化させる場合は光重合開始剤を使用
し、更に必要に応じ、光重合促進剤を併用する。使用し
うる光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、ベンゾインエーテル、クロロアセトフェ
ノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフ
ェノン、α−アミノアセトフェノン、ベンジルメチルケ
タール、チオキサントン、α−アシルオキシムエステ
ル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステ
ル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カ
ンファーキノン、ベンジル、ミヒラーケトンなどが挙げ
られる。The radiation-curable resin composition of the present invention does not need to use a photopolymerization initiator when it is cured with an electron beam, but a photopolymerization initiator is required when it is cured with ultraviolet light, and further required. According to the above, a photopolymerization accelerator is used in combination. Examples of the photopolymerization initiator that can be used include acetophenone, benzophenone, benzoin ether, chloroacetophenone, diethoxyacetophenone, hydroxyacetophenone, α-aminoacetophenone, benzylmethyl ketal, thioxanthone, α-acyl oxime ester, acylphosphine oxide, and glyglycine. Examples thereof include oxyester, 3-ketocoumarin, 2-ethylanthraquinone, camphorquinone, benzyl and Michler's ketone.
【００１７】併用しうる光重合促進剤としてＮ−メチル
ジエタノールアミン、トリエタノールアモン、ジエタノ
ールアミン、Ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエ
ステル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｐ−アミノベンゾニトリル
等のアミン系化合物や、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
のリン化合物、ヘキサクロロエタン等の塩素化合物など
が挙げられるが、これらのものは、単独あるいは２種以
上組み合わせて使用することができる。これらの重合開
始剤および促進剤の配合割合は、組成物の全重量に対し
て、それぞれ、好ましくは０．１〜１５重量％、より好
ましくは０．５〜１０％重量である。As photopolymerization accelerators that can be used in combination, amine compounds such as N-methyldiethanolamine, triethanolammon, diethanolamine, P-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, N, N-diethyl-P-aminobenzonitrile, and triamine. Examples thereof include phosphorus compounds such as -n-butylphosphine and chlorine compounds such as hexachloroethane. These compounds can be used alone or in combination of two or more kinds. The mixing ratio of these polymerization initiator and accelerator is preferably 0.1 to 15% by weight, and more preferably 0.5 to 10% by weight, based on the total weight of the composition.
【００１８】また、本発明の放射線硬化型樹脂組成物は
必要に応じて水、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール類、エチレン
グリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トなどの多価アルコール類及びその誘導体、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ジメチルアセトアミドなどのケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのエステル類、トルエン、キシレン
などの非極性溶媒、２−ヒドロキシブチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート，４−ヒドロ
キシブチルアクリレートなどのアクリレート類及びその
他一般有機溶剤類で希釈使用できるが、エチレン性不飽
和基を有し、アミン変性された樹脂（Ａ）、分子内に３
個以上のエチレン性不飽和基を有する樹脂（Ｂ）、ポリ
マー（Ｄ）を溶解するものであればどのようなものでも
よく、また使用する基材フィルムに合わせて選定でき
る。例えばトリアセチルセルロースフィルムや、ポリカ
ーボネートフィルム等を用いる場合は基材を侵さないト
ルエンやアルコール系溶剤などを使用することがより好
ましい。希釈剤の量は、通常放射線硬化型樹脂組成物１
００重量部に対し通常２０〜１００００重量部である。The radiation-curable resin composition of the present invention may contain water, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, etc., ethylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc., if necessary. Polyhydric alcohols and their derivatives, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and dimethylacetamide, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nonpolar solvents such as toluene and xylene, 2-hydroxybutyl acrylate, 2- It can be diluted with acrylates such as hydroxypropyl acrylate and 4-hydroxybutyl acrylate, and other general organic solvents, but it has an ethylenically unsaturated group and is amine-modified. Resin (A), 3 in the molecule
Any resin can be used as long as it can dissolve the resin (B) and the polymer (D) having at least one ethylenically unsaturated group, and can be selected according to the substrate film to be used. For example, when a triacetyl cellulose film or a polycarbonate film is used, it is more preferable to use toluene or an alcohol solvent that does not attack the substrate. The amount of the diluent is usually the radiation curable resin composition 1
It is usually 20 to 10000 parts by weight with respect to 00 parts by weight.
【００１９】また、本発明の放射線硬化型樹脂組成物に
は前記の各成分に加え、必要によりレベリング剤、消泡
剤を添加することもできる。更に、紫外線吸収剤、光安
定剤、無機、有機各種フィラー、ポリマー等を添加し、
機能性を付与することも可能である。In addition to the above-mentioned components, a leveling agent and an antifoaming agent may be added to the radiation-curable resin composition of the present invention, if necessary. Furthermore, ultraviolet absorbers, light stabilizers, inorganic and organic fillers, polymers, etc. are added,
It is also possible to add functionality.
【００２０】本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、上記
の（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）、必要により（Ｄ）および溶
剤を混合することにより得られる。又、必要により、各
成分を混合した後ボールミル、ロールミル、サンドミ
ル、ディゾルバー、ホモミキサー等それ自体公知の分散
機により分散化処理することも出来る。The radiation-curable resin composition of the present invention can be obtained by mixing the above-mentioned (A), (B), (C), if necessary (D) and a solvent. Further, if necessary, the respective components may be mixed and then subjected to a dispersion treatment by a disperser known per se such as a ball mill, a roll mill, a sand mill, a dissolver or a homomixer.
【００２１】本発明のフィルムは、基材フィルム上に本
発明の前記樹脂組成物の乾燥後の膜厚が０．０５〜３０
μｍ、好ましくは０．１〜２０μｍ、用途によっては
０．１〜１μｍになるように塗布し、乾燥後放射線を照
射して硬化膜を形成させることにより得ることができ
る。フィルム基材としては、例えばポリエステル、ポリ
プロピレン、ポリエチレン、ポリアクリレート、ポリカ
ーボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルス
ルフォン等から得られるフイルムがあげられる。フィル
ムはシート状のものであっても良い。また、上記のフィ
ルム上にハードコート層を設けた基材を用いても良い。
本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、前記基材フィルム
上にハードコート層を設ける目的で使用されるが、好ま
しい用途においては、本発明の放射線硬化型樹脂組成物
により基材フィルム上にハードコート層を設け、更にそ
の上層に低屈折率の膜を設け、反射防止性の硬化皮膜
（ハードコート層）つきのフィルムを調製する。この場
合において、得られるフィルムの反射防止効果を考慮す
ると、本発明の放射線硬化型樹脂組成物の硬化膜の屈折
率は少なくとも１．６以上であることが好ましい。反射
防止効果を考慮すると、本発明の放射線硬化型樹脂組成
物の硬化膜の上に設ける低屈折率の膜との屈折率との差
が、０．１以上であるのが好ましく、それに応じて本発
明の放射線硬化型樹脂組成物の屈折率を調整するのが好
ましい。The film of the present invention has a film thickness of 0.05 to 30 after drying the resin composition of the present invention on a substrate film.
It can be obtained by coating so as to have a thickness of 0.1 μm, preferably 0.1 to 20 μm, and depending on the application, 0.1 to 1 μm, and irradiating with radiation after forming a cured film. Examples of the film substrate include films obtained from polyester, polypropylene, polyethylene, polyacrylate, polycarbonate, triacetyl cellulose, polyether sulfone and the like. The film may be in the form of a sheet. Moreover, you may use the base material which provided the hard coat layer on the said film.
The radiation-curable resin composition of the present invention is used for the purpose of providing a hard coat layer on the base film, but in a preferred application, the radiation-curable resin composition of the present invention hard coats the base film. A coat layer is provided, and a film with a low refractive index is further provided on the coat layer to prepare a film with an antireflection cured film (hard coat layer). In this case, considering the antireflection effect of the obtained film, the refractive index of the cured film of the radiation curable resin composition of the present invention is preferably at least 1.6 or more. Considering the antireflection effect, it is preferable that the difference from the refractive index of the low refractive index film provided on the cured film of the radiation curable resin composition of the present invention is 0.1 or more. It is preferable to adjust the refractive index of the radiation curable resin composition of the present invention.
【００２２】本発明の放射線硬化型樹脂組成物の塗布方
法としては、例えばバーコーター塗工、メイヤーバー塗
工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、リバースグラビア
塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷
などが挙げられる。この際、使用するフィルムは柄や易
接着層を設けたものであっても良い。Examples of the method for applying the radiation-curable resin composition of the present invention include bar coater coating, Meyer bar coating, air knife coating, gravure coating, reverse gravure coating, offset printing, flexographic printing and screen printing. And so on. At this time, the film used may have a pattern or an easily adhesive layer.
【００２３】照射する放射線としては、例えば紫外線や
電子線があげられる。紫外線により硬化させる場合、光
源としてキセノンランプ、高圧水銀灯、メタルハライド
ランプ等を備えた紫外線照射装置が使用され、必要に応
じて光量、光源の配置などが調整されるが、高圧水銀灯
を使用する場合、８０〜１２０Ｗ／ｃｍの光量を有した
ランプ１灯に対して搬送速度５〜６０ｍ／分で硬化させ
るのが好ましい。一方、電子線により硬化させる場合、
１００〜５００ｅＶのエネルギーを有する電子線加速装
置の使用が好ましい。Examples of the radiation to be applied include ultraviolet rays and electron beams. When curing with ultraviolet rays, a xenon lamp as a light source, a high pressure mercury lamp, an ultraviolet irradiation device equipped with a metal halide lamp, etc. is used, and the light amount, the arrangement of the light source, etc. are adjusted as necessary, but when using a high pressure mercury lamp, It is preferable to cure one lamp having a light amount of 80 to 120 W / cm at a transportation speed of 5 to 60 m / min. On the other hand, when curing with an electron beam,
It is preferable to use an electron beam accelerator having an energy of 100 to 500 eV.
【００２４】本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、薄膜
でも厚膜でも酸素阻害あるいは微粒子による紫外線吸収
による硬化不良やそれに伴う膜物性の低下をおこさず、
硬化速度が良好で、又鉛筆硬度、耐擦傷性、密着性、透
明性が良好な高屈折率の膜を得られる。また、反射防止
用の高屈折膜としての応用にも適している。従って本発
明の放射線硬化型樹脂組成物を用いて基材フィルム上に
硬化皮膜を設けることにより得られた本発明のフィルム
はプラスチック光学部品、タッチパネル、フラットディ
スプレイ、フィルム液晶素子等、反射防止を必要とする
分野に好適である。The radiation-curable resin composition of the present invention does not cause a curing failure due to oxygen inhibition or ultraviolet absorption by fine particles and a resulting deterioration in film physical properties in both thin and thick films,
It is possible to obtain a film having a high curing rate, a high refractive index and a good pencil hardness, scratch resistance, adhesion, and transparency. It is also suitable for application as a high refractive film for antireflection. Therefore, the film of the present invention obtained by providing a cured film on a substrate film using the radiation-curable resin composition of the present invention requires antireflection such as plastic optical parts, touch panels, flat displays, film liquid crystal elements, etc. It is suitable for the field.
【００２５】[0025]
【実施例】次に、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明がこれらに限定されるものではない。
尚、実施例において、部は重量部を意味する。EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically by way of examples, but the present invention is not limited to these.
In the examples, “part” means “part by weight”.
【００２６】実施例１
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬
（株）製カヤラッドＤＰＨＡ）を９部、エチレン性不飽
和基を有し、アミン変性されたアクリレート（ＢＡＳＦ
（株）製ラロマーＬＲ８８６９）を８部、イルガキュア
ー１８４（チバスペシャルティケミカルズ製）を１部、
イルガキュアー９０７（チバスペシャルティケミカルズ
製）を０．５部、酸化チタン／酸化ジルコニア／酸化ス
ズの複合微粒子のメタノール分散液（固形分３０重量
％、日産化学工業（株）製 ＨＩＴ−３０Ｍ）７０部
メチルエチルケトン２０部を混合し、本発明の放射線硬
化型樹脂組成物を得た。これを必要な膜厚に合わせてメ
チルイソブチルケトンで希釈し、バーコーターを用いて
１８８μｍの易接着処理ＰＥＴ（ポリエステル）フィル
ム基材に塗工し、８０℃の乾燥機中に１分間放置後、空
気雰囲気下で８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯１０ｃｍの距離
から１０ｍ／分のコンベアースピードで紫外線を照射
し、硬化皮膜（約１０μｍおよび１μｍ）を有する本発
明のフィルムを得た。Example 1 9 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (Kayarad DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and an amine-modified acrylate having an ethylenically unsaturated group (BASF
8 parts of Laromer LR8869 manufactured by Co., Ltd., 1 part of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals),
0.5 parts of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 70 parts of a dispersion of titanium oxide / zirconia / tin oxide composite particles in methanol (solid content 30% by weight, Nissan Chemical Industries, Ltd. HIT-30M)
20 parts of methyl ethyl ketone was mixed to obtain a radiation curable resin composition of the present invention. This was diluted with methyl isobutyl ketone according to the required film thickness, coated on a PET (polyester) film substrate with an easy-adhesion treatment of 188 μm using a bar coater, and left in a dryer at 80 ° C. for 1 minute, The film of the present invention having a cured coating (about 10 μm and 1 μm) was obtained by irradiating ultraviolet rays from a distance of 10 cm of a high-pressure mercury lamp of 80 W / cm at an conveyor speed of 10 m / min in an air atmosphere.
【００２７】実施例２
実施例１においてエチレン性不飽和基を有し、アミン変
性されたアクリレート（ＢＡＳＦ（株）製ラロマー Ｌ
Ｒ８８６９）のかわりに同じくアミン変性アクリレート
（ＢＡＳＦ（株）製ラロマー ＰＯ９４Ｆ）を用いる以
外は実施例１と同様に本発明の放射線硬化型樹脂組成物
および硬化皮膜を有する本発明のフィルムを得た。Example 2 An amine-modified acrylate having an ethylenically unsaturated group in Example 1 (LAROMER L manufactured by BASF Corp.)
A radiation-curable resin composition of the present invention and a film of the present invention having a cured film were obtained in the same manner as in Example 1 except that the same amine-modified acrylate (LALOMER PO94F manufactured by BASF Co., Ltd.) was used instead of R8869).
【００２８】実施例３
実施例２において酸化チタン／酸化ジルコニア／酸化ス
ズ複合微粒子のメタノール分散液（固形分３０％、日産
化学工業（株）製 ＨＩＴ−３０Ｍ）のかわりに酸化チ
タンの３０重量％メチルイソブチルケトン分散液（シー
アイ化成（株）製）を用い、メチルエチルケトン２０部
を混合しない以外は実施例２と同様に本発明の放射線硬
化型樹脂組成物および硬化皮膜を有する本発明のフィル
ムを得た。Example 3 Instead of the methanol dispersion of titanium oxide / zirconia / tin oxide composite fine particles (solid content 30%, HIT-30M manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) in Example 2, 30% by weight of titanium oxide was used. A radiation-curable resin composition of the present invention and a film of the present invention having a cured film were obtained in the same manner as in Example 2 except that a methyl isobutyl ketone dispersion liquid (manufactured by CI Kasei Co., Ltd.) was used and 20 parts of methyl ethyl ketone was not mixed. It was
【００２９】実施例４
実施例３において、式１でＡＯ＝プロピレンオキサイ
ド、Ｒ＝ブチルの化合物（日本油脂（株）製 マリアリ
ムＡＡＢ−０８５１）を４部さらに併用する以外は実施
例３と同様に本発明の放射線硬化型樹脂組成物および硬
化皮膜を有する本発明のフィルムを得た。Example 4 In the same manner as in Example 3 except that 4 parts of the compound of formula 1 in which AO = propylene oxide and R = butyl (Marialim AAB-0851 manufactured by NOF CORPORATION) was further used. A radiation-curable resin composition of the present invention and a film of the present invention having a cured film were obtained.
【００３０】実施例５
実施例４の放射線硬化型樹脂組成物を用いて、易接着処
理ＰＥＴフィルム基材上に厚さが約０．１μｍの硬化皮
膜を形成した。さらにその上に、ＭｇＦ2微粒子を含有
した紫外線硬化型低屈折コート剤（膜の屈折率１．３
９）を用いて約０．２μｍの膜を形成し反射防止フィル
ムを得た。セロファンテープで密着性を確認したが、良
好だった。また、得られたフィルムの反射率を測定し
た。測定は分光光度計ＵＶ−３１００（島津製作所製）
にて行い、５５０ｎｍ付近が極小値となるように調整し
た上で、全反射の値を測定したところ、０．７％だっ
た。また、実施例５での密着性および反射率の結果か
ら、反射防止用の高屈折膜として適していることが明か
である。Example 5 Using the radiation-curable resin composition of Example 4, a cured film having a thickness of about 0.1 μm was formed on a PET film substrate that was subjected to easy adhesion treatment. On top of that, a UV-curable low-refractive-index coating agent containing MgF 2 particles (refractive index of the film of 1.3
A film having a thickness of about 0.2 μm was formed using 9) to obtain an antireflection film. The adhesion was confirmed with cellophane tape, but it was good. Moreover, the reflectance of the obtained film was measured. Measurement is by spectrophotometer UV-3100 (manufactured by Shimadzu Corporation)
The value of total reflection was measured and the value was 0.7%. Further, from the results of the adhesion and the reflectance in Example 5, it is clear that the film is suitable as a high refractive film for antireflection.
【００３１】比較例１
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬
（株）製カヤラッドＤＰＨＡ）を１７部、イルガキュア
ー１８４（チバスペシャルティケミカルズ製）を２部、
酸化チタンの３０重量％メチルイソブチルケトン分散液
（シーアイ化成（株））を混合し、比較用の放射線硬化
型樹脂組成物を得た。本発明の放射線硬化型樹脂組成物
の代わりに比較用の放射線硬化型樹脂組成物を用いる以
外は実施例１と同様に比較用の硬化皮膜を有するフィル
ムを得た。Comparative Example 1 17 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (Kayarad DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 2 parts of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals),
A 30 wt% methyl isobutyl ketone dispersion of titanium oxide (CI Kasei Co., Ltd.) was mixed to obtain a radiation curable resin composition for comparison. A film having a comparative cured film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the comparative radiation curable resin composition was used in place of the radiation curable resin composition of the present invention.
【００３２】このようにして得られた本発明及び比較用
のフィルムを用い評価を行った結果を表１に示した。ま
た、評価基準は以下に述べるものを採用した。Table 1 shows the results of evaluation using the films of the present invention and comparative films thus obtained. The evaluation criteria used are as described below.
【００３３】（１）硬化性
硬化後の膜の硬化状態を指でさわって確認した。皮膜の
厚さ約１０μｍおよび１μｍの両方について実施）
(1) Curability The cured state of the cured film was confirmed by touching it with a finger. Conducted for both film thicknesses of about 10 μm and 1 μm)
【００３４】（２）鉛筆硬度測定
硬化皮膜約１０μｍのものを用い、ＪＩＳ Ｋ ５４０
０に準じて、鉛筆引っかき試験機を用いて２Ｈの鉛筆引
っかき試験を測定した。
(2) Pencil hardness measurement Using a cured film of about 10 μm, JIS K 540
According to 0, a 2H pencil scratch test was measured using a pencil scratch tester.
【００３５】（３）耐擦傷性
硬化皮膜約１０μｍのものを用い、スチールウール＃０
０００上に２００ｇ／ｃｍ2の荷重をかけて１０往復さ
せ、傷の状況を目視で判定した。
(3) Using a scratch resistant cured film of about 10 μm, steel wool # 0
A load of 200 g / cm 2 was applied to the 000 to reciprocate 10 times, and the state of scratches was visually determined.
【００３６】（４）密着性
硬化皮膜約１０μｍのものを用い、ＪＩＳ Ｋ ５４０
０碁盤目試験に準じ、フィルムの表面の密着性の評価を
行った。判定は碁盤目１００個のうち残った個数にて評
価した。(4) Adhesion cured film having a thickness of about 10 μm is used, and JIS K 540 is used.
The adhesion of the surface of the film was evaluated according to the cross cut test. The judgment was evaluated based on the remaining number of 100 grids.
【００３７】（５）外観
表面の透明性、白化、くもり等の状態を目視にて判定し
た。
(5) Appearance The state of the surface such as transparency, whitening and cloudiness was visually evaluated.
【００３８】（６）屈折率
硬化皮膜約１μｍのものを用い、得られたフィルムの反
射率を分光光度計ＵＶ−３１００（島津製作所製）で測
定し、その値から本発明の放射線硬化型樹脂組成物の硬
化皮膜の屈折率を計算で求めた。(6) The refractive index cured film having a thickness of about 1 μm was used, and the reflectance of the obtained film was measured with a spectrophotometer UV-3100 (manufactured by Shimadzu Corporation). From the value, the radiation curable resin of the present invention was measured. The refractive index of the cured film of the composition was calculated.
【００３９】 表１ 評価結果 硬化性 鉛筆硬度 耐擦傷性 密着性 外 観 屈折率 実施例１ ○ ○ ○ １００ ○ １．８０ 実施例２ ○ ○ ○ １００ ○ １．８６ 実施例３ ○ ○ ○ １００ ○ １．８５ 実施例４ ○ ○ ○ １００ ○ １．８３ 比較例１ ○ ○ ○ １００ △ １．７０[0039] Table 1 Evaluation results Curability Pencil hardness Scratch resistance Adhesion External refractive index Example 1 ○ ○ ○ 100 ○ 1.80 Example 2 ○ ○ ○ 100 ○ 1.86 Example 3 ○ ○ ○ 100 ○ 1.85 Example 4 ○ ○ ○ 100 ○ 1.83 Comparative Example 1 ○ ○ ○ 100 △ 1.70
【００４０】表１から明らかなように、本発明の放射線
硬化型樹脂組成物は硬化速度が良好で、鉛筆硬度、耐擦
傷性、密着性、透明性が良好な高屈折率の膜を与える。As is clear from Table 1, the radiation-curable resin composition of the present invention has a high curing rate and gives a film having a high refractive index with good pencil hardness, scratch resistance, adhesiveness and transparency.
【００４１】[0041]
【発明の効果】本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、薄
膜でも厚膜でも酸素阻害あるいは微粒子の紫外線吸収に
よる硬化不良やそれに伴う膜物性の低下がおこらない。
耐擦傷性、密着性、透明性が良好な高屈折率の膜を得ら
れるので、その硬化皮膜を有する本発明のフィルムはプ
ラスチック光学部品、タッチパネル、フラットディスプ
レイ、フィルム液晶素子等、反射防止を必要とする分野
に好適なフィルムである。INDUSTRIAL APPLICABILITY The radiation-curable resin composition of the present invention does not cause curing failure due to oxygen inhibition or ultraviolet absorption of fine particles and deterioration of film physical properties due to inhibition of oxygen in both thin and thick films.
Since a film having a high refractive index with good scratch resistance, adhesion, and transparency can be obtained, the film of the present invention having a cured film requires antireflection such as plastic optical parts, touch panels, flat displays, film liquid crystal elements, etc. It is a film suitable for the following fields.
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F006 AA02 AA12 AA22 AA35 AA36 AA40 AB24 AB42 AB43 BA02 CA05 CA08 DA04 EA03 4F100 AA21 AA21B AA27 AA28 AH03B AK01A AK24B AK42 AL01B AT00A BA02 BA07 CA02B CA23B DE01B EH46 EJ54 EJ54B EJ86 GB41 GB90 JB14B JK12 JK16 JL11 JN01 JN18 JN18B YY00B 4J027 AB01 AB33 AC02 AC03 AC04 AC06 AC09 AE01 AE07 BA24 BA26 CA02 CA09 CA10 CA14 CB10 CC03 CC04 CC05 CC06 CD04 CD08 Continued front page F-term (reference) 4F006 AA02 AA12 AA22 AA35 AA36 AA40 AB24 AB42 AB43 BA02 CA05 CA08 DA04 EA03 4F100 AA21 AA21B AA27 AA28 AH03B AK01A AK24B AK42 AL01B AT00A BA02 BA07 CA02B CA23B DE01B EH46 EJ54 EJ54B EJ86 GB41 GB90 JB14B JK12 JK16 JL11 JN01 JN18 JN18B YY00B 4J027 AB01 AB33 AC02 AC03 AC04 AC06 AC09 AE01 AE07 BA24 BA26 CA02 CA09 CA10 CA14 CB10 CC03 CC04 CC05 CC06 CD04 CD08
Claims (6)
れた樹脂（Ａ）、分子内に３個以上のエチレン性不飽和
基を有する樹脂（Ｂ）及び一次粒径が１〜２００ナノメ
ートルで、屈折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）を含有す
ることを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物1. An amine-modified resin (A) having an ethylenically unsaturated group, a resin (B) having three or more ethylenically unsaturated groups in the molecule, and a primary particle size of 1 to 200 nanometers. Radiation-curable resin composition containing fine particles (C) having a refractive index of 1.7 or more in meters
請求項１の放射線硬化型樹脂組成物2. The radiation curable resin composition according to claim 1, wherein the cured film has a refractive index of 1.6 or more.
折率が１．７以上の微粒子（Ｃ）が酸化チタン又は酸化
チタンを含む微粒子である請求項１又は請求項２に記載
の放射線硬化型樹脂組成物3. The radiation according to claim 1, wherein the fine particles (C) having a primary particle diameter of 1 to 200 nm and a refractive index of 1.7 or more are titanium oxide or fine particles containing titanium oxide. Curable resin composition
ンオキサイド基を有するモノマー（ａ）と無水マレイン
酸（ｂ）とスチレン（ｃ）とを共重合したポリマー
（Ｄ）を含有する請求項１乃至請求項３に記載の放射線
硬化型樹脂組成物4. A polymer (D) obtained by copolymerizing a monomer (a) having an ethylenically unsaturated group and an alkylene oxide group in the molecule, maleic anhydride (b) and styrene (c). To the radiation-curable resin composition according to claim 3.
は水素原子または炭素数１〜２５のアルキル基を表す。
ｍ、ｎは１〜８０の整数を表す。又ａ、ｂ及びｃは、ｎ
が前記の条件を満たす範囲で、任意の順序で且つ任意の
数存在しているものとする。）で示されるポリマーであ
る請求項４に記載の放射線硬化型樹脂組成物5. The polymer (D) has the following general formula (1): (In formula (1), AO represents an alkylene oxide group, and R
Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms.
m and n represent the integer of 1-80. Also, a, b and c are n
Are present in any order and in any number as long as the above condition is satisfied. The radiation curable resin composition according to claim 4, which is a polymer represented by
いずれか一項に記載の放射線硬化型樹脂組成物の硬化皮
膜を設けてなるフィルム6. A film comprising a substrate film and a cured film of the radiation curable resin composition according to claim 1 provided on the substrate film.
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| JP2002125759A JP2003313260A (en) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | Radiation curable resin composition and film having cured film comprising the composition |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006175782A (en) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Toppan Printing Co Ltd | Antireflection laminated film |
-
2002
- 2002-04-26 JP JP2002125759A patent/JP2003313260A/en active Pending
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