JPWO2010103822A1 - 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る露光装置EXの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置EXは、液体LQを介して露光光ELで基板Pを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、露光光ELの光路の少なくとも一部が液体LQで満たされるように液浸空間LSが形成される。液浸空間LSは、液体LQで満たされた部分(空間、領域)である。基板Pは、液浸空間LSの液体LQを介して露光光ELで露光される。本実施形態においては、液体LQとして、水(純水)を用いる。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第5実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第6実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第7実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
Claims (42)
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光を射出する射出面を有する光学系と、
前記射出面から射出される前記露光光の光路を前記液体で満たすために前記液体を供給する液体供給口と、
前記液体で形成された液浸空間の周囲の空間の少なくとも一部に、前記液体の比抵抗値を変更可能な物質を含む流体を供給する流体供給口と、
を備える露光装置。 - 前記光路の周囲の少なくとも一部に配置された液浸部材をさらに備え、
前記液浸空間の一部が前記液浸部材と対向する物体と前記液浸部材との間に形成される請求項1記載の露光装置。 - 前記光路の周囲の少なくとも一部であって、前記光学系の光軸に対する放射方向において前記液浸部材の外側に配置された保持部材をさらに備え、
前記保持部材と前記物体との間に前記流体の少なくとも一部が保持される請求項2記載の露光装置。 - 前記流体供給口と、前記流体の少なくとも一部を回収する流体回収口とが、前記液浸部材に設けられている請求項2又は3記載の露光装置。
- 前記流体供給口が前記液浸部材に設けられ、
前記流体の少なくとも一部を回収する流体回収口が、前記保持部材に設けられている請求項3記載の露光装置。 - 前記流体供給口と、前記流体の少なくとも一部を回収する流体回収口とが、前記保持部材に設けられている請求項3記載の露光装置。
- 前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記流体回収口は、前記流体供給口の外側に配置されている請求項4〜6のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記液浸部材は、前記液体の少なくとも一部を回収する液体回収口を有し、
前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記流体供給口は、前記液体回収口の外側に配置されている請求項2〜7のいずれか一項記載の露光装置。 - 前記光学系と前記液浸部材との間の空間の少なくとも一部に、前記液体の比抵抗値を変更可能な物質を含むガスを供給可能なガス供給口をさらに備える請求項2〜8のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記流体は、ガスを含む請求項1〜9のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記基板の露光が行われる空間の環境を制御する制御装置と、
前記ガスが供給された空間の湿度を前記制御装置によって制御される空間の湿度よりも高くする加湿装置と、を備える請求項10記載の露光装置。 - 前記加湿装置は、前記液体の蒸気によって前記ガスを加湿する請求項11記載の露光装置。
- 前記流体は、液体を含む請求項1〜9のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記物質は、前記液体供給口から供給される前記液体に可溶である請求項1〜13のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記物質は、前記液体の比抵抗値を低下させる請求項1〜14のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記物質は、二酸化炭素、オゾン、及び水素の少なくとも一つを含む請求項1〜15のいずれか一項記載の露光装置。
- 露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光を射出する射出面を有する光学系と、
前記射出面から射出される前記露光光の光路を第1の比抵抗値を有する第1液体で満たすために前記第1液体を供給する第1供給口と、
前記第1液体で形成された液浸空間の周囲の空間の少なくとも一部に、前記第1液体よりも低い比抵抗値を有する第2液体を供給する第2供給口と、
を備える露光装置。 - 前記光路の周囲の少なくとも一部に配置された液浸部材をさらに備え、
前記液浸空間の一部が前記液浸部材に対向する物体と前記液浸部材との間に形成される請求項17記載の露光装置。 - 前記液浸部材は、前記第1液体の少なくとも一部を回収する第1回収口を有し、
前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記第2供給口は、前記第1回収口の外側に配置されている請求項18記載の露光装置。 - 前記光路の周囲の少なくとも一部であって、前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記液浸部材の外側に配置された保持部材をさらに備え、
前記保持部材と前記物体との間に前記第2液体の少なくとも一部が保持される請求項18又は19記載の露光装置。 - 前記第2供給口と、前記第2液体の少なくとも一部を回収する第2回収口とが、前記液浸部材に設けられている請求項18〜20のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第2供給口が前記液浸部材に設けられ、
前記第2液体の少なくとも一部を回収する第2回収口が、前記保持部材に設けられている請求項18又は19記載の露光装置。 - 前記第2供給口と、前記第2液体の少なくとも一部を回収する第2回収口とが、前記保持部材に設けられている請求項18又は19記載の露光装置。
- 前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記第2回収口は、前記第2供給口の外側に配置されている請求項21〜23のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記光学系と前記液浸部材との間の空間の少なくとも一部に、前記第1液体の比抵抗値を変更可能な物質を含むガスを供給可能なガス供給口をさらに備える請求項18〜24のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第2液体は、前記第1液体を含む請求項17〜25のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第2液体は、二酸化炭素、オゾン、及び水素の少なくとも一つを含む請求項17〜26のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第2液体は、前記第1液体の比抵抗値を低下させる物質を前記第1液体に溶解させることによって形成される請求項17〜26のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記物質は、二酸化炭素、オゾン、及び水素の少なくとも一つを含む請求項28記載の露光装置。
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光を射出する射出面を有する光学系と、
前記射出面から射出される前記露光光の光路を前記液体で満たすために前記液体を供給する液体供給口と、
前記液体の比抵抗値を変更可能な物質を含む流体を供給する流体供給口と、
前記液体で形成された液浸空間の周囲の空間の少なくとも一部から前記流体の少なくとも一部を回収する流体回収口と、を備える露光装置。 - 前記光路の周囲の少なくとも一部に配置された液浸部材をさらに備え、
前記液浸空間の一部が前記液浸部材と対向する物体と前記液浸部材との間に形成される請求項30記載の露光装置。 - 前記流体供給口と、前記流体の少なくとも一部を回収する流体回収口とが、前記液浸部材に設けられている請求項31記載の露光装置。
- 前記液浸部材は、前記液体の少なくとも一部を回収する液体回収口を有し、
前記光学系の光軸に対する放射方向において、前記流体回収口は、前記液体回収口の外側に配置されている請求項31または32記載の露光装置。 - 前記光学系と前記液浸部材との間の空間の少なくとも一部に、前記液体の比抵抗値を変更可能な物質を含むガスを供給可能なガス供給口をさらに備える請求項30〜33のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記物質は、前記液体供給口から供給される前記液体に可溶である請求項30〜34のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記物質は、前記液体の比抵抗値を低下させる請求項30〜35のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記物質は、二酸化炭素、オゾン、及び水素の少なくとも一つを含む請求項30〜36のいずれか一項記載の露光装置。
- 請求項1〜37のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、
を含むデバイス製造方法。 - 光学系の射出面と基板との間の露光光の光路を液体で満たすことと、
前記基板上に形成された前記液体の液浸空間の周囲の空間の少なくとも一部に、前記液体の比抵抗値を変更可能な物質を含む流体を供給することと、
前記射出面と前記基板との間の前記液体を介して前記露光光で前記基板を露光することと、
を含む露光方法。 - 光学系の射出面と基板との間の露光光の光路を第1液体で満たすことと、
前記基板上に形成された前記第1液体の液浸空間の周囲の空間の少なくとも一部に、前記第1液体よりも低い比抵抗値を有する第2液体を供給することと、
前記射出面と前記基板との間の前記第1液体を介して前記露光光で前記基板を露光することと、
を含む露光方法。 - 光学系の射出面と基板との間の露光光の光路を液体で満たすことと、
前記液体の比抵抗値を変更可能な物質を含む流体を供給することと、
前記基板上に形成された前記液体の液浸空間の周囲の空間の少なくとも一部から前記流体の少なくとも一部を回収することと、
前記射出面と前記基板との間の前記液体を介して前記露光光で前記基板を露光することと、
を含む露光方法。 - 請求項39〜41のいずれか一項記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、
を含むデバイス製造方法。
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