JPWO2006082714A1 - Scanning beam irradiation device - Google Patents
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Abstract
試料を支持し少なくとも二次元方向に移動可能なステージと、試料に走査ビームを照射するビーム源と、試料に設けられたマークと、走査ビームの照射位置を検出する検出機構と、この検出機構からの検出信号に基づき走査画像を形成する画像形成機構と、この画像形成機構によって形成された走査画像とマークとの位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出し且つこの位置ずれ補正係数に基づきビーム源およびステージの駆動を制御する制御機構とを備えている走査ビーム照射装置。
【選択図】図1
A stage that supports the sample and is movable in at least two dimensions, a beam source that irradiates the sample with a scanning beam, a mark provided on the sample, a detection mechanism that detects the irradiation position of the scanning beam, and this detection mechanism. And an image forming mechanism that forms a scanning image based on the detection signal, and a positional deviation correction coefficient is calculated by detecting the positional deviation between the scanning image and the mark formed by the image forming mechanism, and based on this positional deviation correction coefficient. A scanning beam irradiation device comprising a beam source and a control mechanism for controlling driving of a stage.
[Selection diagram] Figure 1
Description
本発明は、電子ビームやイオンビーム等の荷電粒子ビームを試料上に照射し二次元的に走査して走査画像を形成する走査ビーム照射装置に関し、特に、走査画像の直線性を補正する機能を備える走査ビーム照射装置に関する。 The present invention relates to a scanning beam irradiation apparatus that irradiates a charged particle beam such as an electron beam or an ion beam onto a sample and two-dimensionally scans the sample to form a scanned image, and particularly, a scanning beam irradiation apparatus that corrects the linearity of the scanned image. And a scanning beam irradiation device.
一つ又は複数のビーム源からの走査ビームを試料上に照射し二次元的に走査するには、走査ビームと試料ステージとをX軸方向及びY軸方向に相対的に移動することによって、通常、X軸方向に1ライン分移動して検出信号を取得した後、Y軸方向に1ライン分ずらす操作を繰り返すことによって1フレーム分の走査信号を取得している。 In order to irradiate a sample with a scanning beam from one or a plurality of beam sources and perform two-dimensional scanning, it is usual to move the scanning beam and the sample stage relatively in the X-axis direction and the Y-axis direction. , The scanning signal for one frame is acquired by repeating the operation of shifting by one line in the X-axis direction to acquire the detection signal and then shifting the line in the Y-axis direction by one line.
ステージの座標と走査ビームの座標とが一致していない場合には、検出信号を取得して得られる走査画像の位置とステージ上に配置された試料の位置との間に位置ずれ(走査信号の視野ずれ)が生じることになる。 When the coordinates of the stage and the coordinates of the scanning beam do not match, the position shift (scanning signal of the scanning signal) between the position of the scanning image obtained by acquiring the detection signal and the position of the sample placed on the stage is detected. (Visual field shift) will occur.
従来、この位置ずれの補正は、試料上に位置合わせのためのマークを設け、ステージを動作させながら試料上に設けたマークの位置を確認し、ステージの座標と走査ビームの座標を座標変換することによって行っている。
また、走査信号の視野ずれを補正する際、走査画像を目視で確認しながら補正値を手動で求めるようにしている。Conventionally, this misalignment is corrected by providing a mark for alignment on the sample, confirming the position of the mark provided on the sample while operating the stage, and converting the coordinates of the stage and the coordinates of the scanning beam. I'm doing it.
Further, when correcting the visual field shift of the scanning signal, the correction value is manually calculated while visually confirming the scanned image.
しかしながら、走査信号の視野ずれを補正するために、走査画像を目視で確認しながら補正値を手動で求めると、走査のための作業時間が長くなるという問題がある他、客観的な走査基準がないため作業者によって補正値が異なるという問題があった。 However, in order to correct the field deviation of the scanning signal, if the correction value is obtained manually while visually confirming the scanned image, there is a problem that the working time for scanning becomes long, and the objective scanning standard is There is a problem that the correction value differs depending on the worker because it does not exist.
また、補正値を得るためのマークが試料側に設けられているため、試料を交換する毎に位置ずれが生じ、ステージ動作と走査ビームとの関係を求めることが困難であるという問題がある。 Further, since the mark for obtaining the correction value is provided on the sample side, there is a problem that a position shift occurs every time the sample is exchanged, and it is difficult to obtain the relationship between the stage operation and the scanning beam.
更に、複数のビーム源からの走査ビームによって走査を行う構成では、これら複数のビーム源間の相対位置を補正する必要がある。これらビーム源間の相対位置を補正するには、ビーム源間のビームピッチや、制御値あたりの移動量等を計算しながら行わなければならないと共に、これらの演算を人手によって行う場合には、計算やずれ方向の間違い等の人為的な誤りが発生する要素が含まれるという問題があった。 Further, in a configuration in which scanning is performed by scanning beams from a plurality of beam sources, it is necessary to correct the relative position between these plurality of beam sources. In order to correct the relative position between these beam sources, it is necessary to calculate the beam pitch between the beam sources and the amount of movement per control value, and when performing these calculations manually, There is a problem in that there is an element that causes an artificial error such as a mistake in the direction of slippage.
そこで、本発明の目的は、上述の如き従来の問題点を解決し、走査信号の視野ずれの補正を自動的に得るようにした走査ビーム照射装置を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a scanning beam irradiation apparatus which solves the above-mentioned conventional problems and automatically obtains the correction of the field deviation of the scanning signal.
また、本発明は、複数のビーム源の相対的位置関係を補正し、ビーム源の回転方向、X軸方向、Y軸方向の少なくとも一つの位置ずれを補正するようにした走査ビーム照射装置を提供することにある。 Further, the present invention provides a scanning beam irradiation apparatus which corrects a relative positional relationship between a plurality of beam sources and corrects at least one positional deviation of the beam sources in a rotation direction, an X axis direction, and a Y axis direction. To do.
上述の目的を達成するため、本発明の一つの実施例に係る走査ビーム照射装置は、試料を支持し少なくとも二次元方向に移動可能なステージと、この試料に走査ビームを照射するビーム源と、試料に設けられたマークと、走査ビームの照射位置を検出する検出機構と、この検出機構からの検出信号に基づき走査画像を形成する画像形成機構と、この画像形成機構によって形成された走査画像とマークとの位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出し且つこの位置ずれ補正係数に基づきビーム源およびステージの駆動を制御する制御機構とを備えている。 In order to achieve the above-mentioned object, a scanning beam irradiation apparatus according to one embodiment of the present invention includes a stage that supports a sample and is movable in at least two dimensions, and a beam source that irradiates the sample with a scanning beam. A mark provided on the sample, a detection mechanism that detects the irradiation position of the scanning beam, an image forming mechanism that forms a scanning image based on a detection signal from this detection mechanism, and a scanning image formed by this image forming mechanism. And a control mechanism for detecting the positional deviation from the mark, calculating the positional deviation correction coefficient, and controlling the driving of the beam source and the stage based on the positional deviation correction coefficient.
上記走査ビームは、例えば、荷電電子ビームから成っている。 The scanning beam is, for example, a charged electron beam.
上記マークは、例えば、ステージの座標を検出するためのステージ用シンボルから成り、このステージ用シンボルは、ステージ上の位置を定める位置シンボルと、位置シンボルの方向を定める方向シンボルとを備えている。 The mark includes, for example, a stage symbol for detecting the coordinates of the stage, and the stage symbol includes a position symbol that determines the position on the stage and a direction symbol that determines the direction of the position symbol.
上記検出機構は、走査ビームが照射された試料からの荷電粒子を検出するように構成されている。 The detection mechanism is configured to detect charged particles from the sample irradiated with the scanning beam.
上記画像形成機構は、検出機構からの検出信号に基づいて走査画像を形成し且つこの走査画像を記憶する走査画像記憶部を含む。 The image forming mechanism includes a scan image storage unit that forms a scan image based on a detection signal from the detection mechanism and stores the scan image.
上記制御機構は、画像形成機構によって得られた走査画像とマークとの位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出する位置ずれ補正係数算出部と、この位置ずれ補正係数に基づきビーム源およびステージの駆動を制御する制御部を備えている。 The control mechanism detects a positional deviation between the scan image and the mark obtained by the image forming mechanism and calculates a positional deviation correction coefficient, and a beam source and a stage based on the positional deviation correction coefficient. The control unit controls the driving of the.
本発明に係る走査ビーム照射装置は、更に、位置ずれ補正係数を記憶する記憶部を備えている。 The scanning beam irradiation apparatus according to the present invention further includes a storage unit that stores the positional deviation correction coefficient.
また、本発明に係る走査ビーム照射装置は、試料に照射される走査ビームを放出する複数のビーム源を備えている。 Further, the scanning beam irradiation device according to the present invention includes a plurality of beam sources that emit the scanning beam with which the sample is irradiated.
マークは、例えば、各ビーム源の走査ビームの各走査範囲内に設ける走査ビーム用シンボルから成り、この走査ビーム用シンボルの走査画像の位置ずれから、走査ビームの座標系においてビーム源の回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、X軸方向ずれの少なくともいずれか一つの位置ずれ量を求めることができる。 The mark is composed of, for example, a scanning beam symbol provided in each scanning range of the scanning beam of each beam source, and from the positional deviation of the scanning image of this scanning beam symbol, the rotational direction deviation of the beam source in the coordinate system of the scanning beam. It is possible to obtain at least one of the positional shift amounts of the Y-axis direction shift and the Y-axis direction shift.
上記走査ビーム用シンボルは、走査方向の直線を含む水平シンボルと、この水平シンボルに対して斜め方向の直線を含む斜めシンボルとを備えている。 The scanning beam symbol includes a horizontal symbol including a straight line in the scanning direction and an oblique symbol including a straight line in an oblique direction with respect to the horizontal symbol.
上記水平シンボルの両端のY軸方向の位置ずれ量から回転方向ずれを求め、二つのビーム源により得られる走査画像の二つの水平シンボルにおいて同一部分のY軸方向の位置ずれ量からY軸方向ずれを求め、二つのビーム源により得られる走査画像の二つの斜めシンボルにおいて同一部分のY軸方向の位置ずれ量からX軸方向ずれを求めることができる。 The rotational displacement is obtained from the positional displacement amount of the both ends of the horizontal symbol in the Y-axis direction, and the positional displacement amount in the Y-axis direction of the same portion in the two horizontal symbols of the scanning image obtained by the two beam sources is displaced in the Y-axis direction. Then, the X-axis shift can be calculated from the amount of positional shift in the Y-axis direction of the same portion in the two diagonal symbols of the scan image obtained by the two beam sources.
本発明によれば、走査画像の位置とステージ上の試料の位置との位置ずれを自動的に検出し、且つその位置ずれを自動的に補正することができ、これによって、走査ビームを常に試料の正しい位置に照射することができる。 According to the present invention, the positional deviation between the position of the scanning image and the position of the sample on the stage can be automatically detected, and the positional deviation can be automatically corrected. It can irradiate the right position.
本発明によれば、複数のビーム源の相対的位置関係を補正することができる。また、ビーム源の回転方向、X軸方向、Y軸方向の少なくとも一つの位置ずれを補正することができる。 According to the present invention, the relative positional relationship between a plurality of beam sources can be corrected. Further, it is possible to correct at least one positional deviation of the beam source in the rotation direction, the X axis direction, and the Y axis direction.
1…走査ビーム照射装置、2…ビーム源、3…ステージ、4…検出機構、5…走査画像形成部、6…走査画像記憶部、7…位置ずれ補正係数算出部、7a…回転方向ずれ補正係数算出部、7b…Y軸方向ずれ補正係数算出部、7c…X軸方向ずれ補正係数算出部、8…パラメータ記憶部、9…制御部、11…ステージ用シンボル、11a…位置シンボル、11b…方向シンボル、12…走査ビーム用シンボル、12a…水平シンボル、12b…斜めシンボル、13‥パス 1... Scan beam irradiation device, 2... Beam source, 3... Stage, 4... Detection mechanism, 5... Scan image forming unit, 6... Scan image storage unit, 7... Position deviation correction coefficient calculation unit, 7a... Rotation direction deviation correction Coefficient calculation unit, 7b... Y axis direction deviation correction coefficient calculation unit, 7c... X axis direction deviation correction coefficient calculation unit, 8... Parameter storage unit, 9... Control unit, 11... Stage symbol, 11a... Position symbol, 11b... Direction symbol, 12... Scanning beam symbol, 12a... Horizontal symbol, 12b... Diagonal symbol, 13... Path
以下、本発明の実施の形態について、図面に示された実施例に基づき詳細に説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail based on an example shown in the drawings.
図1は、本発明に係る走査ビーム照射装置の一実施例を示す。この走査ビーム照射装置1は、試料を支持し少なくとも二次元方向に移動可能なステージ3と、試料に走査ビームを照射するビーム源2と、試料に設けられたマークと、走査ビームの照射位置を検出する検出機構4と、この検出機構4からの検出信号に基づき走査画像を形成する画像形成機構と、この画像形成機構によって形成された走査画像とマークとの位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出し且つ該位置ずれ補正係数に基づき前記ビーム源およびステージの駆動を制御する制御機構とを備えている。
FIG. 1 shows an embodiment of a scanning beam irradiation device according to the present invention. This scanning
検出機構4は、走査ビームが照射された試料からの荷電粒子を検出するように構成されている。画像形成機構は、検出機構からの検出信号に基づいて走査画像を形成し且つこの走査画像を記憶する走査画像記憶部6を含む。制御機構は、画像形成機構によって得られた走査画像とマークとの位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出する位置ずれ補正係数算出部7と、この位置ずれ補正係数に基づきビーム源およびステージの駆動を制御する制御部9を備えている。ビーム源2は、電子やイオン等の荷電粒子ビームを試料上に照射する。ステージ3は、基板等の試料を支持し図示しない駆動機構によってX,Y方向に移動可能である。検出機構4は、ビーム源2からの荷電粒子ビームの照射によって試料から発生する二次電子等を検出し、荷電粒子ビームのスキャンやステージの移動によって試料上においてビームの照射位置を走査する。
The
走査画像形成部5は、検出機構4で取得された検出信号を用いて走査画像を形成する。走査画像記憶部6は、この形成された走査画像を記憶する。位置ずれ補正係数算出部7は、得られた走査画像に基づいて位置ずれ補正係数を算出する。パラメータ記憶部8は、位置ずれ補正係数算出部7で算出された位置ずれ補正係数等のパラメータを記憶する。制御部9は、得られた位置ずれ補正係数やその他のパラメータに基づいてビーム源2やステージ3の駆動制御を行う。
The scanning
位置ずれ補正係数算出部7は、ビーム源2の基準座標(ビーム座標系あるいはステージ座標系)に対する回転方向ずれのずれ畳を求め、この求められたずれ量を補正する補正係数を算出する回転方向ずれ補正係数算出部7aと、ビーム源2を複数備える構成において、各ビーム源間のY軸方向ずれのずれ量を求め、この求められたずれ量を補正する補正係数を算出するY軸方向ずれ補正係数算出部7bと、各ビーム源間のX軸方向ずれのずれ量を求め、この求められたずれ量を補正する補正係数を算出するX軸方向ずれ補正係数算出部7Cとを備えている。
The misalignment correction
本発明の走査ビーム照射装置1は、ステージ3上に配置された試料とビーム源との位置ずれを算出するため試料に設けられたマークを備える。図2は、本発明の走査ビーム照射装置1が備えるマークを説明するための図である。図2において、マークは、ステージ座標を取得するステージ用シンボル11と、走査ビームの位置ずれを算出するための走査ビーム用シンボル12を備える。マークはステージの上端及び/又は下端にエッチング等によって形成される。図2ではマークはステージの上端に設けた例を示しているが、下端に設ける構成の他、上端及び下端の両端に設ける構成としてもよい。ステージ用シンボル11はビ−ム源2毎に設けられ、走査ビーム用シンボル12はビーム源間に設けられる。
The scanning
ビーム源2は、照射ビームのスキャン及びステージの移動によってパス13の走査範囲内を走査して走査画像を取得する。
The
図3Aおよび図3Bは、マークの形状例を説明するための図である。図3Aは、ステージ用シンボル11の一形状例を示している。ステージ用シンボル11は、ステージ上の位置を定める位置シンボル11aと、位置シンボル11aが走査範囲のいずれ方向にあるいかを示す方向シンルボル11bとを備える。得られた走査画像内に位置シンボル11aが見つからない場合には、この方向シンボル11bを参照することで位置シンボル11aが存在する方向を確認することができる。
3A and 3B are views for explaining an example of the shape of the mark. FIG. 3A shows an example of the shape of the
なお、図3Aに示された位置シンボル11a及び方向シンボル11bの形状は一例であり、この形状に限定されるものではない。
The shapes of the
また、図3Bは、走査ビーム用シンボル11aの一形状例を示している。走査ビーム用シンボル12は、各ビーム源2の走査ビームの各走査範囲内に設けられ、この走査ビーム用シンボル12は、走査ビームの座標系におけるビーム源の回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、X軸方向ずれ等の位置ずれを求めるための指標として用いられる。
Further, FIG. 3B shows an example of the shape of the
走査ビーム用シンボル12は、走査方向の直線を含む水平シンボル12aと、水平シンボル12aに対して例えば45度方向に傾斜した経線を含む斜めシンボル12bとを備えている。
The
以下、主に走査ビーム用シンボルによる、回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、及びX軸方向ずれの補正について説明する。 Hereinafter, correction of a rotational direction shift, a Y-axis direction shift, and an X-axis direction shift, which are mainly caused by scanning beam symbols, will be described.
水平シンボル12aの両端のY軸方向の位置ずれ量から回転方向ずれが求められる。図4Aは、水平シンボルによる回転方向ずれの検出を説明するための図である。図4Aにおいて、回転方向のずれ角度θは水平シンボル12aの両端のY軸方向の位置ずれ量に対応しているため、Y軸方向の位置ずれ量から回転方向ずれ量を算出することができる。
The displacement in the rotational direction is obtained from the amount of displacement in the Y-axis direction of both ends of the
また、二つのビーム源により得られる走査画像の二つの水平シンボル12aにおいて同一部分のY軸方向の位置ずれ量からY軸方向ずれが求められる。図4Bは、水平シンボルによるY軸方向ずれの検出を説明するための図である。図4Bにおいて、二つのビーム源のY軸方向のずれは、各ビーム源で走査して得られる走査画像の二つの水平シンボル12aのY軸方向の位置ずれ量に対応しているため、Y軸方向の位置ずれ量からビーム源間のY軸方向ずれ量を算出することができる。
In addition, the Y-axis direction shift is obtained from the Y-axis direction position shift amount of the same portion in the two
また、二つのビーム源により得られる走査画像の二つの斜めシンボル12bにおいて同一部分のY軸方向の位置ずれ量からX軸方向ずれが求められる。図4Cは、斜めシンボルによるX軸方向ずれの検出を説明するための図である。図4Cにおいて、二つのビーム源のX軸方向ずれは、各ビーム源で走査して得られる走査画像の二つの斜めシンボル12bの角度をY軸方向の位置ずれ量に対応している。この斜めシンボル12bの角度を水平シンボル12aに対して45度の角度とする場合には、X軸方向ずれのずれ量とY軸方向ずれのずれ量とは同角度となるため、Y軸方向ずれのずれ量をX軸方向ずれのずれ量として求めることができる。
Further, in the two
なお、斜めシンボル12bの角度を水平シンボル12aに対して45度以外の任意の角度とすることもできる。この場合には、X軸方向ずれのずれ量とY軸方向ずれのずれ量とは同角度ではなく所定の対応角度関係となるため、Y軸方向ずれのずれ量に対して所定の対応角度関係に基づいた演算を行うことでX軸方向ずれのずれ量を求めることができる。
The angle of the
なお、図4Cの左方は、太い線で示すマークを基準としたとき細い線で示すマークが左方にずれた状態を示し、図4Cの右方は、太い線で示すマークを基準としたとき細い線で示すマークが右方にずれた状態を示している。このX軸方向ずれは、斜めシンボル12b(実線で示す〉のY軸方向ずれから求めることができる。
The left side of FIG. 4C shows a state in which the mark indicated by the thin line is shifted to the left when the mark indicated by the thick line is used as a reference, and the right side of FIG. 4C is indicated using the mark indicated by the thick line as a reference. At this time, the mark indicated by a thin line is shifted to the right. This X-axis direction deviation can be obtained from the Y-axis direction deviation of the
図5A、図5Bおよび図6A乃至図6Dを用いてY軸方向ずれ及びX軸方向ずれについて説明する。なお、ここでは、ビーム源mとビーム源m−1の間のずれが示されている。 The shift in the Y-axis direction and the shift in the X-axis direction will be described with reference to FIGS. 5A and 5B and FIGS. 6A to 6D. In addition, here, a deviation between the beam source m and the beam source m−1 is shown.
図5Aは、Y軸方向ずれを説明するための図である。ビーム源間のY軸方向ずれは、各ビーム源によって得られる走査画像の各マークを比較し、そのマークの水平シンボル12a(実線で示す)のY軸方向のずれ量から求めることができる。
FIG. 5A is a diagram for explaining the deviation in the Y-axis direction. The shift in the Y-axis direction between the beam sources can be obtained by comparing the marks of the scan images obtained by the beam sources and the shift amount in the Y-axis direction of the
図5Bは、X軸方向ずれを説明するための図である。ビーム源間のX軸方向ずれは、各ビーム源によって得られる走査画像の各マークを比較し、そのマークの斜めシンボル12b(実線で示す)のY軸方向のずれ量から求めることができる。
FIG. 5B is a diagram for explaining the displacement in the X-axis direction. The X-axis displacement between the beam sources can be obtained from the amount of displacement of the
図6A乃至図6Dは、X軸方向ずれ及びY軸方向ずれを説明するための図である。ビーム源間のY軸方向ずれは、図6Cに示すように各ビーム源によって得られる走査画像の各マークを比較し、そのマークの水平シンボル12aのY軸方向のずれ量から求められる。ビーム源間のX軸方向ずれは、図6Dに示すように各ビーム源によって得られる走査画像の各マークを比較し、そのマークの斜めシンボル12bのY軸方向のずれ量から求められる。
6A to 6D are diagrams for explaining the X-axis direction deviation and the Y-axis direction deviation. The shift in the Y-axis direction between the beam sources is obtained from the shift amount in the Y-axis direction of the
上記した回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、及びX軸方向ずれの各位置ずれを補正することで、走査画像のずれを補正することができる。図7A乃至図7Dは、位置ずれ補正による走査画像のずれ補正を説明するための図である。なお、ここでは、3つのビーム源がそれぞれ4つのパスによって走査画像を取得する状態を示している。 By correcting the positional deviations of the rotational direction deviation, the Y-axis deviation, and the X-axis deviation described above, the deviation of the scanned image can be corrected. FIG. 7A to FIG. 7D are diagrams for explaining misregistration correction of a scan image by position misalignment correction. Note that here, a state is shown in which three beam sources each acquire a scan image by four passes.
図7Aは、回転方向ずれを含む走査画像例を示している。ビーム源2の設置角度やビームの照射状鰻によって回転方向にずれが生じると、得られる走査画像に回転方向ずれが含まれることになる。直線の走査画像は、回転方向ずれによって水平に対して角度を有する斜めの線として表れる。
FIG. 7A shows an example of a scanned image including a rotational direction shift. When a deviation occurs in the rotation direction due to the installation angle of the
図7Bは、回転方向ずれを補正した状態を示している。回転方向ずれ補正によって斜めの線は直線となる。このとき、ビーム源間においてY軸方向のずれが存在する場合には、各ビーム源で得られる走査画像の直線はY軸方向にずれる。 FIG. 7B shows a state in which the deviation in the rotation direction is corrected. The slanted line becomes a straight line by the correction of the rotational direction deviation. At this time, when there is a shift in the Y-axis direction between the beam sources, the straight line of the scan image obtained by each beam source is shifted in the Y-axis direction.
図7Cは、水平シンボルを用いてY軸方向ずれを補正した状態を示している。Y軸方向ずれ補正によってビーム源間のY軸方向のずれは解消される。このとき、ビーム源間においてX軸方向ずれ方向にずれが存在する場合には、各ビーム源で得られる走査画像の直線はX軸方向にずれる。 FIG. 7C shows a state in which the horizontal axis symbol is used to correct the deviation in the Y-axis direction. By correcting the deviation in the Y-axis direction, the deviation in the Y-axis direction between the beam sources is eliminated. At this time, when there is a shift in the X-axis direction shift direction between the beam sources, the straight line of the scan image obtained by each beam source shifts in the X-axis direction.
図7Dは、斜めシンボルを用いてX軸方向ずれを補正した状態を示している。X軸方向ずれ補正によってビーム源間のX軸方向のずれは解消される。 FIG. 7D shows a state in which the deviation in the X-axis direction is corrected using the diagonal symbol. The X-axis direction deviation correction eliminates the X-axis direction deviation between the beam sources.
次に、図8のフローチャートを用いて、回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、及びX軸方向ずれの各位置ずれを補正するパラメータを求める手順について説明する。 Next, the procedure for obtaining the parameters for correcting the positional deviations of the rotational direction deviation, the Y axis direction deviation, and the X axis direction deviation will be described using the flowchart of FIG.
はじめに、走査画像を取得する際の制御パラメータの内で回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、X軸方向ずれ等を補正するパラメータを“0”に設定し(S1)、この状態でビームを走査して、ステージ上に形成したマークの走査画像が取得される。ここでは、回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、及びX軸方向ずれを補正するために、走査ビーム用シンボルの走査画像が取得される(S2)。 First, of the control parameters for acquiring the scanned image, the parameters for correcting the rotational direction deviation, the Y axis direction deviation, the X axis direction deviation, etc. are set to "0" (S1), and the beam is scanned in this state. Thus, a scanned image of the mark formed on the stage is acquired. Here, a scanning image of the scanning beam symbol is acquired in order to correct the rotational direction deviation, the Y axis direction deviation, and the X axis direction deviation (S2).
この取得された走査ビーム用シンボルを用いてビ−ム源の回転方向ずれの補正係数を求め(S3)、この求められた回転方向ずれ補正係数を用いて制御パラメータを設定し(S4)、回転方向ずれを補正した状態で回転方向ずれ補正係数を再度用いてビームを走査して、走査ビーム用シンボルの走査画像が取得される(S5)。 Using the acquired scanning beam symbol, a correction coefficient for the rotational deviation of the beam source is calculated (S3), and a control parameter is set using the calculated rotational deviation correction coefficient (S4) for rotation. The beam is scanned using the rotational direction deviation correction coefficient again with the direction deviation corrected, and a scan image of the scanning beam symbol is acquired (S5).
次に、回転方向ずれを補正して取得された走査画像の走査ビーム用シンボルの水平シンボルを用いてY軸方向ずれ補正係数(補正量)が求められ(S6)、走査ビーム用シンボルの斜めシンボルを用いてX軸方向ずれ補正係数(補正量)が求められる(S7)。 Next, the Y axis direction deviation correction coefficient (correction amount) is obtained using the horizontal symbol of the scanning beam symbol of the scanned image acquired by correcting the deviation in the rotational direction (S6), and the diagonal symbol of the scanning beam symbol is obtained. The X-axis direction deviation correction coefficient (correction amount) is obtained by using (S7).
前記各工程で求められた回転方向ずれ補正係数、Y軸方向ずれ補正係数、X軸方向ずれ補正係数を用いてビーム制御のパラメータを設定する(S8)。 Beam control parameters are set using the rotational direction deviation correction coefficient, the Y-axis direction deviation correction coefficient, and the X-axis direction deviation correction coefficient obtained in each of the steps (S8).
以下、図9、図10A,図10B,図11A乃至図11Eを参照して回転方向ずれ補正について説明し、図12、図13A乃至図13C、図14A乃至図14C,〜図15を参照してY軸方向ずれ補正について説明し、図16A乃至図16C、図17A乃至図17C、図18A乃至図18Cを参照してX軸方向ずれ補正について説明する。 Hereinafter, the rotation direction deviation correction will be described with reference to FIGS. 9, 10A, 10B, and 11A to 11E, and with reference to FIGS. 12, 13A to 13C, and 14A to 14C to 15. The Y-axis direction deviation correction will be described, and the X-axis direction deviation correction will be described with reference to FIGS. 16A to 16C, 17A to 17C, and 18A to 18C.
図9は、ビーム源の回転方向ずれ補正係数の算出(図8のフローチャート中のS3)を説明するためのフローチャートである。なお、ここでは、複数のビーム源(ビーム源の個数をNとする)を備える場合について説明する。 FIG. 9 is a flowchart for explaining the calculation of the rotational direction deviation correction coefficient of the beam source (S3 in the flowchart of FIG. 8). Note that, here, a case where a plurality of beam sources (the number of beam sources is N) is provided will be described.
n=0として(S3a)、ビーム源nの走査画像から走査用ビームシンボルの水平シンボルについて2点を指定し(S3b)、これら指定された2点のY軸方向のずれ量が求められる(S3c)。
この求められたY軸方向ずれ量から回転方向ずれ補正係数が算出される(S3d)。When n=0 (S3a), two points are designated for the horizontal symbol of the scanning beam symbol from the scanning image of the beam source n (S3b), and the shift amount of these designated two points in the Y-axis direction is calculated (S3c). ).
A rotation direction deviation correction coefficient is calculated from the obtained Y axis direction deviation amount (S3d).
n=n+1として(S3e)、nとNとを比較し(S3f)、nがNとなるまで(S3b)
〜(S3e)の工程を繰り返すことによって、全てのビーム源について回転方向ずれ補正係数が算出される。Set n = n + 1 (S3e), compare n with N (S3f), until n becomes N (S3b)
By repeating the steps (S3e) to (S3e), the rotation direction deviation correction coefficient is calculated for all the beam sources.
前記(S3b)の工程では、回転方向ずれを求めるために水平シンボル中の2点が指定されている。図10Aは、水平シンボルにおける2点の一指定例を示す図であり、二つの水平シンボルの一方の水平シンボルの上側の端部を指定し(チェックNo.1)、他方の水平シンボルの下側の端部を指定する(チェックNo.2)。また、図10Bは、水平シンボルにおける2点の他の指定例を示す図であり、一つの水平シンボルの両端部(チェックNo.1,チェックNo.2)を指定し、走査画像において指定した点のY軸方向のポイント数でずれ量が求められる。なお、ここでは、ずれ量は、図中のチェックNo.1のポイントからチェックNo.2のポイントを差し引いたポイント数で表されている。
In the step (S3b), two points in the horizontal symbol are designated in order to obtain the rotation direction deviation. FIG. 10A is a diagram showing an example of specifying two points in a horizontal symbol, in which the upper end of one of the two horizontal symbols is specified (check No. 1) and the lower side of the other horizontal symbol is specified. Specify the end of (Check No. 2). 10B is a diagram showing another example of designation of two points in a horizontal symbol, in which both end portions (check No. 1, check No. 2) of one horizontal symbol are designated and the points designated in the scanned image are designated. The shift amount is obtained by the number of points in the Y-axis direction. In addition, here, the deviation amount is the check number in the figure. Check No. from
図11は、フレームと回転方向ずれとの関係を示している。図11Aおよび図11Bは、一フレームの範囲及び一フレームのポイント数の一例を示している。このフレームは、X方向長さLX(例えば、47mm)とy方向長さLy(例えば、3mm)とを有し、X方向にPxのポイント数を有し、y方向にPyのポイント数を有する。 FIG. 11 shows the relationship between the frame and the rotation direction deviation. 11A and 11B show an example of the range of one frame and the number of points in one frame. This frame has a length LX in the X direction (eg, 47 mm) and a length in the y direction Ly (eg, 3 mm), has Px points in the X direction, and Py points in the y direction. .
そこで、水平シンボルのY軸方向のずれ量を、ポイント数をフレームに対応づけることでフレームにおける回転方向ずれのずれ係数が算出される。算出は以下の式によって行うことができる。
回転方向ずれ補正係数=フレームY方向の長さ/フレームY方向のポイント/フレームX方向の長さ×ずれ量
例えば、一フレームの範囲が(47mm×3mm〉であり、一フレームのポイント数が(3520ポイント×68ポイント)であるとき、ずれ量としてY軸方向で2ポイント数分ずれている場合には、
0.001855347=3(mm)/68(point)/47(mm)/2(point)
となる。Therefore, the shift coefficient of the rotational direction shift in the frame is calculated by associating the number of points with the amount of shift in the Y-axis direction of the horizontal symbol in the frame. The calculation can be performed by the following formula.
Rotational direction deviation correction coefficient=length in frame Y direction/point in frame Y direction/length in frame X direction×deviation amount For example, the range of one frame is (47 mm×3 mm), and the number of points in one frame is ( 3520 points x 68 points), if the amount of deviation is 2 points in the Y-axis direction,
0.00001855347=3(mm)/68(point)/47(mm)/2(point)
Becomes
図11Cは、回転方向ずれが左回転の場合を示し、図11Dは、回転方向ずれが右回転の場合を示している。図11Eは、回転方向ずれの回転方向の表示例であり、図中の“right”は回転方向ずれが右回転であることを示し、図中の“1eft”は回転方向ずれが左回転であることを示している。なお、上記数値例の場合には、右回転方向に対応している。 FIG. 11C shows a case where the rotational direction shift is left rotation, and FIG. 11D shows a case where the rotational direction shift is right rotation. FIG. 11E is a display example of the rotation direction deviation, in which “right” in the figure indicates that the rotation direction deviation is right rotation, and “1eft” in the figure indicates that the rotation direction deviation is left rotation. It is shown that. Note that the above numerical example corresponds to the right rotation direction.
次に、Y軸方向ずれ補正係数の算出について説明する。 Next, the calculation of the Y axis direction deviation correction coefficient will be described.
図12は、ビーム源のY軸方向ずれ補正係数の算出(図8のフローチャート中のS6)を説明するためのフローチャートである。なお、ここでは、複数のビーム源(ビーム源の個数をNとする)を備える場合について、ビーム源mを基準として他のビーム源のY軸方向ずれ補正する補正係数を順に求める手順を示している。 FIG. 12 is a flowchart for explaining the calculation of the Y-axis direction deviation correction coefficient of the beam source (S6 in the flowchart of FIG. 8). It should be noted that, here, in the case where a plurality of beam sources (the number of beam sources is N) is provided, a procedure for sequentially obtaining a correction coefficient for correcting the deviation of the other beam sources in the Y-axis direction with respect to the beam source m is shown. There is.
先ず、基準のビーム源mが設定される。複数のビーム源内で何れのビーム源を基準のビーム源として設定するかは任意とすることができる。例えば、ビーム源の個数が“7”である場合に、m=4として中央に位置する第4番目のビーム源を基準とすることができる(S6a)。 First, the reference beam source m is set. Which of the plurality of beam sources is set as the reference beam source may be arbitrary. For example, when the number of beam sources is “7”, the fourth beam source located at the center can be used as a reference with m=4 (S6a).
次に、基準のビーム源に対して隣接するビーム源のY軸方向ずれを求め、この求められたY軸方向ずれを補正する補正係数を求め、さらに、隣接するビーム源のY軸方向ずれを求めて補正係数を求める。この演算を基準のビーム源の両側について行うことで、全てのビーム源について基準のビーム源に対してY軸方向ずれを補正する補正係数を求めることができる。 Next, the deviation in the Y-axis direction of the adjacent beam source with respect to the reference beam source is obtained, the correction coefficient for correcting the calculated deviation in the Y-axis direction is obtained, and further the deviation in the Y-axis direction of the adjacent beam source is Then, the correction coefficient is obtained. By performing this calculation for both sides of the reference beam source, the correction coefficient for correcting the deviation in the Y-axis direction with respect to the reference beam source can be obtained for all the beam sources.
はじめに、基準のビーム源mに対して一方の側に存在するビーム源(m−1,m−2,…,1)についてY軸方向ずれの補正係数を求め(S6b〜S6f)、次に基準のビーム源mに対して他方の側に存在するビーム源(m十1,m十2,…,N)についてY軸方向ずれの補正係数を求める(S6g〜S6k)。 First, the correction coefficient of the Y-axis direction deviation is obtained for the beam sources (m−1, m−2,..., 1) existing on one side of the reference beam source m (S6b to S6f), and then the reference For the beam sources (m+1, m+2,..., N) existing on the other side of the beam source m, the correction coefficient for the Y-axis direction deviation is obtained (S6g to S6k).
Y軸方向ずれの補正係数を求める場合、ビーム源mとビーム源m−1の走査画像から走査用ビームシンボルの水平シンボルについて2点を指定し(S6b)、これら指定された2点のY軸方向のずれ量が求められる(S6c)。この求められたY軸方向ずれ量からY軸方向ずれ補正係数が算出される(S6d)。 To obtain the correction coefficient of the Y-axis direction deviation, two points are designated for the horizontal symbol of the scanning beam symbol from the scanning images of the beam source m and the beam source m−1 (S6b), and these designated two points of the Y-axis are designated. The amount of deviation in the direction is obtained (S6c). A Y-axis direction deviation correction coefficient is calculated from the obtained Y-axis direction deviation amount (S6d).
m=m−lとして(S6e)、mと“0”とを比較し(S6f)、mが“0”となるまで(S6b)〜(S6e)の工程を繰り返すことによって、基準のビーム源1〜m−1のビ−ム源についてY軸方向ずれ補正係数が算出される。
By setting m=m−1 (S6e), comparing m with “0” (S6f), and repeating the steps (S6b) to (S6e) until m becomes “0”, the
次に、ビーム源mとビーム源m+1の走査画像から走査用ビームシンボルの水平シンボルについて2点が指定され(S6g)、これら指定された2点のY軸方向のずれ量が求められる(S6h)。この求められたY軸方向ずれ量からY軸方向ずれ補正係数が算出される(S6i)。 Next, two points are designated for the horizontal symbol of the beam symbol for scanning from the scanning images of the beam source m and the beam source m+1 (S6g), and the shift amount of these designated two points in the Y-axis direction is obtained (S6h). .. A Y-axis direction deviation correction coefficient is calculated from the obtained Y-axis direction deviation amount (S6i).
m=m+1として(S6j)、mと“N”とを比較し(S6k)、mが“N”となるまで(S6g)〜(S6j)の工程を繰り返すことによって、基準のビーム源m+1〜NについてY軸方向ずれ補正係数が算出される。 By setting m=m+1 (S6j), comparing m with “N” (S6k), and repeating the steps (S6g) to (S6j) until m becomes “N”, the reference beam sources m+1 to N A Y-axis direction deviation correction coefficient is calculated for.
これによって、基準のビーム源mに対して全てのビーム源のY軸方向ずれを補正する補正係数を求めることができる。 With this, it is possible to obtain the correction coefficient for correcting the deviation of all the beam sources in the Y-axis direction with respect to the reference beam source m.
図13は、ビーム源間のY軸方向ずれ補正を説明するための図である。図13Aは、ビーム源mとm−1と走査ビーム用シンボルとの位置関係を示し、図13Bは、走査ビーム用シンボルの走査画像を示している。ビーム源mとビーム源m−1との走査ビーム用シンボルの画像は、ビーム源のY軸方向ずれによって、Y軸方向にずれて観察される。ここで、図13Cに示すように、走査ビーム用シンボルの水平シンボル(実線で表示)についてチェックNo.1とチェックNo.2とを指定し、この指定された点のY軸方向のポイント数でずれ量が求められる。 FIG. 13 is a diagram for explaining the correction of the deviation between the beam sources in the Y-axis direction. FIG. 13A shows the positional relationship between the beam sources m and m−1 and the scanning beam symbol, and FIG. 13B shows the scanning image of the scanning beam symbol. The images of the scanning beam symbols of the beam source m and the beam source m-1 are observed while being displaced in the Y axis direction due to the displacement of the beam source in the Y axis direction. Here, as shown in FIG. 13C, the check No. for the horizontal symbol (indicated by a solid line) of the scanning beam symbol. 1 and check No. 2 is specified, and the amount of deviation is obtained by the number of points in the Y-axis direction of the specified points.
なお、ここでは、ずれ量は図中のチェックNo.1のポイントからチェックNo.2のポイントを差し引いたポイント数で表わされる。
In addition, here, the deviation amount is the check No. in the figure. Check No. from
図14はフレームとY軸方向ずれとの関係を示している。図14Bおよび図14Cは、−フレームの範囲及び−フレームのポイント数の一例を示し、Y方向にpy分だけずれている状態を示している。図14Aは、二つの走査ビーム用シンボルの走査画像(それぞれ片側のみが示されている)を示し、Y方向にpyだけずれていることを観察することができる。 FIG. 14 shows the relationship between the frame and the deviation in the Y-axis direction. FIGS. 14B and 14C show an example of the range of the frame and the number of points of the frame, and show a state in which they are displaced by py in the Y direction. FIG. 14A shows scanned images of two scanning beam symbols (only one side of each is shown), and it can be observed that they are offset by py in the Y direction.
フレームはX方向長さLx(例えば、47mm)とy方向長さLy(例えば、3mm)を有し、X方向にPxのポイント数を有し、y方向にアyのポイント数を有する。 The frame has a length Lx (eg, 47 mm) in the X direction and a length Ly (eg, 3 mm) in the y direction, has Px points in the X direction, and y points in the y direction.
前記したフレームとの対応関係において、水平シンボルのY軸方向のずれ量を、ポイント数をフレームに対応づけることでY軸方向ずれのずれ係数により算出される。この算出は以下の式によって行われる。
Y軸方向ずれ補正係数=ずれ量×フレームY方向の長さ/フレームY方向のポイント/最小分解能
例えば、一フレームの範囲が(47mm×3mm)であり、一フレームのY方向のサンプリング点数が68であるとき、ずれ量としてY軸方向で−4ポイント数分ずれている場合には、−44=−4(point)×3000(um)/6.8(point)/4(um)となる。In the above-mentioned correspondence with the frame, the shift amount of the horizontal symbol in the Y-axis direction is calculated by the shift coefficient of the Y-axis shift by associating the number of points with the frame. This calculation is performed by the following formula.
Y axis direction deviation correction coefficient=deviation amount×frame Y direction length/frame Y direction points/minimum resolution For example, the range of one frame is (47 mm×3 mm), and the number of sampling points in the Y direction of one frame is 68. When the amount of deviation is -4 points in the Y-axis direction, the deviation amount is −44=−4 (point)×3000 (um)/6.8 (point)/4 (um). ..
次に、X軸方向ずれ補正係数の算出について説明する。 Next, the calculation of the X-axis direction deviation correction coefficient will be described.
図15は、ビーム源のX軸方向ずれ補正係数の算出(図8のフローチャート中のS7)を説明するためのフローチャートである。なお、ここでは、複数のビーム源(ビーム源の個数をNとする)を備える場合について、ビーム源mを基準として他のビーム源のY軸方向ずれ補正する補正係数を順に求める手順を示している。 FIG. 15 is a flowchart for explaining the calculation of the X-axis direction deviation correction coefficient of the beam source (S7 in the flowchart of FIG. 8). It should be noted that, here, in the case where a plurality of beam sources (the number of beam sources is N) is provided, a procedure for sequentially obtaining a correction coefficient for correcting the deviation of the other beam sources in the Y-axis direction with respect to the beam source m is shown. There is.
先ず、基準のビーム源mが設定される。複数のビーム源内で何れのビーム源を基準のビーム源として設定するかは任意とすることができる。例えば、ビーム源の個数が“7”である場合に、m=4として中央に位置する第4番目のビーム源を基準とすることができる(S7a)。 First, the reference beam source m is set. Which of the plurality of beam sources is set as the reference beam source may be arbitrary. For example, when the number of beam sources is “7”, the fourth beam source located at the center can be used as a reference with m=4 (S7a).
次に、基準のビーム源に対して隣接するビーム源のX軸方向ずれを求め、この求められたX軸方向ずれを補正する補正係数を求め、さらに、隣接するビーム源のX軸方向ずれを求めて補正係数を求める。この演算を基準のビーム源の両側について行うことで、全てのビーム源について基準のビーム源に対してX軸方向ずれを補正する補正係数を求めることができる。 Next, the X-axis direction shift of the adjacent beam source with respect to the reference beam source is obtained, the correction coefficient for correcting the obtained X-axis direction shift is obtained, and the X-axis direction shift of the adjacent beam source is further obtained. Then, the correction coefficient is obtained. By performing this calculation for both sides of the reference beam source, it is possible to obtain the correction coefficient for correcting the X-axis direction deviation with respect to the reference beam source for all the beam sources.
はじめに、基準のビーム源mに対して一方の側に存在するビーム源(m−l,m−2,…,1)についてX軸方向ずれの補正係数を求め(S7b〜S7f)、次に基準のビーム源mに対して他方の側に存在するビーム源(m+1,m十2,・・・,N)についてX軸方向ずれの補正係数を求める(S7g〜S7k)。 First, a correction coefficient for the X-axis direction deviation is obtained for the beam sources (m-1, m-2,..., 1) existing on one side of the reference beam source m (S7b to S7f), and then the reference Of the beam source (m+1, m+2,..., N) existing on the other side of the beam source m of (3) is obtained (S7g to S7k).
X軸方向ずれの補正係数を求める場合、ビーム源mとビーム源m−1との走査画像から走査用ビームシンボルの斜めシンボルについて2点を指定し(S7b)、これら指定された2点のY軸方向のずれ量を求める(S7c)。この求められたY軸方向ずれ量からX軸方向ずれ補正係数を算出する(S7d)。 When obtaining the correction coefficient of the X-axis direction deviation, two points are designated for the oblique symbols of the beam symbol for scanning from the scanning images of the beam source m and the beam source m−1 (S7b), and these two designated Y points are designated. Find the amount of axial displacement (S7c). An X axis direction deviation correction coefficient is calculated from the obtained Y axis direction deviation amount (S7d).
m=m−1として(S7e)、mと“0”とを比較し(S7f)、mが“0”となるまで(S7b〉〜(S7e)の工程を繰り返すことによって、基準のビーム源1〜m−1のビーム源についてX軸方向ずれ補正係数が算出される。
By setting m=m−1 (S7e), comparing m with “0” (S7f), and repeating steps (S7b〉 to (S7e) until m becomes “0”, the
次に、ビーム源mとビーム源m+1との走査画像から走査用ビームシンボルの斜めシンボルについて2点を指定し(S7g)、これら指定された2点のY軸方向のずれ量を求める(S7h〉。この求められたY軸方向ずれ量からX軸方向ずれ補正係数が算出される(S7i)。 Next, two points are designated for the oblique symbol of the scanning beam symbol from the scanning images of the beam source m and the beam source m+1 (S7g), and the shift amount of these designated two points in the Y-axis direction is obtained (S7h> An X-axis direction deviation correction coefficient is calculated from the obtained Y-axis direction deviation amount (S7i).
m=m十1として(S7j)、mと“N”とを比較し(S7k)、mが“N”となるまで(S7g)〜(S7j)の工程を繰り返すことによって、基準のビーム源m+1〜Nのビーム源についてX軸方向ずれ補正係数が算出される。 By setting m=m to 1 (S7j), comparing m with “N” (S7k), and repeating the steps (S7g) to (S7j) until m becomes “N”, the reference beam source m+1 X-axis direction deviation correction coefficients are calculated for the beam sources of up to N.
これによって、基準のビ−ム源mに対して全てのビーム源のX軸方向ずれを補正する補正係数を求めることができる。 This makes it possible to obtain a correction coefficient for correcting the deviation of all the beam sources in the X-axis direction with respect to the reference beam source m.
図16は、ビーム源間のX軸方向ずれ補正を説明するための図である。図16Aは、ビーム源mとビーム源m−1と走査ビーム用シンボルとの位置関係を示し、図16Bは、走査ビーム用シンボルの走査画像を示している。ビーム源mとビーム源m−1との走査ビーム用シンボルの画像のX軸方向ずれは、斜めシンボルが水平シンボルに対して45度の角度にある場合にはY軸方向ずれとして観察される。ここで、図16Cに示すように、走査ビーム用シンボルの斜めシンボル(実線で表示)についてチェックNo.1とチェックNo.2とを指定し、これら指定された点のY軸方向のポイント数でずれ量が求められる。 FIG. 16 is a diagram for explaining the X-axis direction deviation correction between the beam sources. FIG. 16A shows the positional relationship among the beam source m, the beam source m−1, and the scanning beam symbol, and FIG. 16B shows the scanning image of the scanning beam symbol. The X-axis direction shift of the image of the scanning beam symbol between the beam source m and the beam source m-1 is observed as the Y-axis direction shift when the oblique symbol is at an angle of 45 degrees with respect to the horizontal symbol. Here, as shown in FIG. 16C, the check No. for the diagonal symbol (displayed by the solid line) of the scanning beam symbol. 1 and check No. 2 is specified, and the amount of deviation is obtained by the number of points in the Y-axis direction of these specified points.
なお、ここでは、ずれ量は図中のチェックNo.1のポイントからチェックNo.2のポイントを差し引いたポイント数で表わされる。
In addition, here, the deviation amount is the check No. in the figure. Check No. from
図17はフレームとX軸方向ずれとの関係を示している。図17Bおよび図17Cは、−フレームの範囲及び一フレームのポイント数の一例を示し、X方向にpx分だけずれている状態を示している。図17Aは、二つの走査ビーム用シンボルの走査画像(それぞれ片側のみが示されている)を示し、X方向にpxだけずれた状態がY方向にpy(=px〉だけずれた状態として観察される。 FIG. 17 shows the relationship between the frame and the displacement in the X-axis direction. FIGS. 17B and 17C show an example of the range of −frames and the number of points in one frame, and show a state where they are shifted by px in the X direction. FIG. 17A shows scanning images of two scanning beam symbols (only one side of each is shown), and a state of being shifted by px in the X direction is observed as a state of being shifted by py (=px>) in the Y direction. It
フレームはx方向長さLx(例えば、47mm)・とy方向長さLy(例えば、3mm)とを有し、X方向にPxのポイント数を有し、y方向にpyのポイント数を有する。 The frame has a length Lx in the x direction (for example, 47 mm) and a length Ly in the y direction (for example, 3 mm), has Px points in the X direction, and py points in the y direction.
前記フレームとの対応関係において、斜めシンボルのY軸方向のずれ量をポイント数をフレームに対応づけることでX軸方向ずれのずれ係数が算出される。この算出は以下の式によって行われる。
X軸方向ずれ補正係数=ずれ量×フレームY方向の長さ/フレームY方向のポイント/最小分解能
例えば、−フレームの範囲が(47mm×3mm)であり、−フレームのY方向のサンプリング点数が68であるとき、ずれ量としてY軸方向で2ポイント数分ずれている場合には、
22=2(point)×3000(um)/68(point)/4(um)となる。In the correspondence relationship with the frame, the shift coefficient of the shift in the X-axis direction is calculated by associating the number of points of the shift amount of the diagonal symbol in the Y-axis direction with the frame. This calculation is performed by the following formula.
X-axis direction deviation correction coefficient=deviation amount×frame Y-direction length/frame Y-direction point/minimum resolution For example, −frame range is (47 mm×3 mm), −frame Y-direction sampling point is 68 If the deviation amount is 2 points in the Y-axis direction,
22 = 2 (point) x 3000 (um)/68 (point)/4 (um).
図18は、回転方向ずれ補正、Y軸方向ずれ補正、及びX軸方向ずれ補正の補正演算の順序を説明するための図である。 FIG. 18 is a diagram for explaining the order of the correction calculation of the rotational direction deviation correction, the Y axis direction deviation correction, and the X axis direction deviation correction.
図18Aは、一例として左から右に向かって順にビーム源の回転方向ずれ補正の演算処理を行う場合について示している。回転方向ずれ補正は、各ビーム源との間で関連がなく、−ビームの回転方向ずれ補正が他のビーム源の回転方向ずれ補正に影響しないため、ビーム源について任意の順序で行うことができる。 FIG. 18A shows, as an example, a case where the calculation processing of the rotational direction deviation correction of the beam source is sequentially performed from left to right. Rotational misalignment correction is unrelated to each beam source, and can be done in any order for a beam source, since-beam rotational misalignment corrections do not affect rotational misalignment corrections of other beam sources. ..
図18Bは、Y軸方向ずれ補正の順序の一例であり、7個のビーム源において中央のビーム源No.4を基準として順にY軸方向ずれ補正を行う。第1番目に基準のビ一ム源No.4に対して左側に隣接するNo.3のビーム源との問でY軸方向ずれ補正を行い、次に、No.3とNo.2のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行った後、No.2とNo.1のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行って左方にあるビーム源のY軸方向ずれ補正を完了する。 FIG. 18B is an example of the order of Y-axis direction deviation correction. The misalignment correction in the Y-axis direction is sequentially performed with reference to 4. The first is the standard beam source No. No. adjacent to the left of 4 Correcting the deviation in the Y-axis direction with the beam source of No. 3 and then No. 3 and No. 3. After performing the Y-axis direction deviation correction with the beam source of No. 2, 2 and No. The Y-axis direction deviation correction is performed between the first beam source and the Y-axis direction deviation correction of the beam source on the left side.
次に、第4番目に基準のビーム源No,4に対して右側に隣接するNo.5のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行い、次に、No.5とNo.6のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行った後、No.6とNo.7のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行って右方にあるビーム源のY軸方向ずれ補正を完了する。 Next, the No. 4 adjacent to the right side of the reference beam source No. 4 is the fourth. No. 5 beam source is used to correct the deviation in the Y-axis direction. 5 and No. After performing Y-axis direction offset correction with the beam source of No. 6, No. 6 6 and No. The Y-axis direction deviation correction is performed between the beam source No. 7 and the beam source on the right side to complete the Y-axis direction deviation correction.
これにより、全てのビーム源についてのY軸方向ずれを補正することができる。 This makes it possible to correct the deviation in the Y-axis direction for all the beam sources.
図18Cは、X軸方向ずれ補正の順序の一例であり、Y軸方向ずれ補正と同様に、7個のビーム源において中央のビーム源No.4を基準として順にX軸方向ずれ補正を行って全てのビーム源のX軸方向ずれ補正を行う。 FIG. 18C is an example of the order of the X-axis direction deviation correction. Similar to the Y-axis direction deviation correction, the central beam source No. is selected from the seven beam sources. The X-axis direction deviation correction is sequentially performed with reference to 4 to perform the X-axis direction deviation correction of all the beam sources.
なお、Y軸方向、X軸方向の補正において、補正を補正後のマークと順次比較することによって補正を行う場合、基準のマークに対する補正係数を求める場合には、前回の補正値を考慮する必要がある。 In the correction in the Y-axis direction and the X-axis direction, when the correction is performed by sequentially comparing the corrected mark with the corrected mark, it is necessary to consider the previous correction value when the correction coefficient for the reference mark is obtained. There is.
次に、本発明の走査ビーム照射装置のアプリケーション上の動作を説明する。
図19は、表示画面例であり、走査画像を表示する画像、走査ビーム用シンボル等のマークを用いて補正処理をための画像を表示する。Next, the application operation of the scanning beam irradiation apparatus of the present invention will be described.
FIG. 19 is an example of a display screen, and displays an image for displaying a scanned image and an image for correction processing using marks such as symbols for scanning beams.
図19の左方画面には走査画像が表示され、この走査画像に表示された走査ビーム用シンボル等のマークの所定位置を指定することができる。走査画像上のポイントの座標値は、図19の左方画面の下方部分に表示され、“Port1”のボタンをクリックすると、第1の補正ポイントの座標値がその右部分に表示され、同様に“Port2”のボタンをクリックすると、第2の補正ポイントの座標値がその右部分に表示される。 A scan image is displayed on the left screen of FIG. 19, and a predetermined position of a mark such as a scanning beam symbol displayed on the scan image can be designated. The coordinate value of the point on the scanned image is displayed in the lower part of the left screen of FIG. 19, and when the “Port1” button is clicked, the coordinate value of the first correction point is displayed in the right part of the same. When you click the "Port2" button, the coordinate value of the second correction point is displayed on the right side of it.
図19の右方画面には走査ビーム用シンボルと指定された補正ポイントとが表示され、その下方には補正事項や操作内容を選択するボタン、及び婦正事項を表すガイドリストが表示される。 The scanning beam symbol and the designated correction point are displayed on the right screen of FIG. 19, and a button for selecting a correction item or operation content and a guide list indicating a correction item are displayed below the symbol.
補正事項を選択するボタンは、回転方向ずれ補正(rotational adjust)を選択するボタン、Y軸方向ずれ補正(Y axial adjust)を避択するボタン、X軸方向ずれ補正(X axial adjust)を選択するボタンがある。操作内容を選択するボタンとして、“Port1”,“Port2”に表示された補正ポイントをガイドリストに追加して登録する“Next”ボタン、元にもどす“Back”ボタンが設けられる。 As a button for selecting correction items, a button for selecting a rotational direction deviation correction (rotational adjust), a button for avoiding a Y axis direction deviation correction (Y axial adjust), and an X axis direction deviation correction (X axial adjust) are selected. There is a button. As buttons for selecting the operation contents, there are provided a "Next" button for adding and registering correction points displayed in "Port1" and "Port2" to the guide list, and a "Back" button for returning to the original.
ガイドリストには、回転方向ずれ補正、Y軸方向ずれ補正、X軸方向ずれ補正等の各補正事項について、ずれ補正係数(パラメータ)がその状態に応じて表示される。例えば、補正係数が既に取得されている状態、現在取得中である状態、取得前の状態等を、背景色を異ならせて表示することができる。なお、図19では、ガイドリストの一部のみを示している。 In the guide list, misregistration correction coefficients (parameters) are displayed according to the state of each correction item such as rotational direction misalignment correction, Y-axis direction misalignment correction, and X-axis direction misalignment correction. For example, the state in which the correction coefficient has already been acquired, the state in which the correction coefficient is currently being acquired, the state before being acquired, and the like can be displayed with different background colors. Note that FIG. 19 shows only part of the guide list.
本発明の走査ビーム照射装置は、TFTアレイ検査装置、電子線マイクロアナライザ、走査電子顕微鏡、X線分析装置等に適用することができる。
The scanning beam irradiation device of the present invention can be applied to a TFT array inspection device, an electron beam microanalyzer, a scanning electron microscope, an X-ray analysis device and the like.
【0002】
毎に位置ずれが生じ、ステージ動作と走査ビームとの関係を求めることが困難であるという問題がある。
[0007]
更に、複数のビーム源からの走査ビームによって走査を行う構成では、これら複数のビーム源間の相対位置を補正する必要がある。これらビーム源間の相対位置を補正するには、ビーム源間のビームピッチや、制御値あたりの移動量等を計算しながら行わなければならないと共に、これらの演算を人手によって行う場合には、計算やずれ方向の間違い等の人為的な誤りが発生する要素が含まれるという問題があった。
[0008]
そこで、本発明の目的は、上述の如き従来の問題点を解決し、走査信号の視野ずれの補正を自動的に得るようにした走査ビーム照射装置を提供することにある。
[0009]
また、本発明は、複数のビーム源の相対的位置関係を補正し、ビーム源の回転方向、X軸方向、Y軸方向の少なくとも一つの位置ずれを補正するようにした走査ビーム照射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
[0010]
上述の目的を達成するため、本発明の一つの実施例に係る走査ビーム照射装置は、試料を支持し少なくとも二次元方向に移動可能なステージと、この試料に荷電粒子ビームからなる走査ビームを照射するビーム源と、試料を支持するステージ上に設けられたマークと、走査ビームが照射された試料からの荷電粒子を検出する検出機構と、この検出機構からの検出信号に基づき前記マークの走査画像を形成する画像形成機構と、この画像形成機構によって形成された前記マークの走査画像の位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出し且つこの位置ずれ補正係数に基づきビーム源およびステージの駆動を制御する制御機構とを備えている。
[0011]
[0012]
上記マークは、例えば、ステージの座標を検出するためのステージ用シンボルから成り、このステージ用シンボルは、ステージ上の位置を定める位置シンボルと、位置シンボルの方向を定める方向シンボルとを備えている。
[0013]
[0014]
上記画像形成機構は、検出機構からの検出信号に基づいて走査画像を形成し且つこの走査画像を記憶する走査画像記憶部を含む。[0002]
There is a problem in that it is difficult to obtain the relationship between the stage operation and the scanning beam because of the positional deviation for each.
[0007]
Further, in a configuration in which scanning is performed by scanning beams from a plurality of beam sources, it is necessary to correct the relative position between these plurality of beam sources. In order to correct the relative position between these beam sources, it is necessary to calculate the beam pitch between the beam sources and the amount of movement per control value, and when performing these calculations manually, There is a problem in that there is an element that causes an artificial error such as a mistake in the direction of slippage.
[0008]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a scanning beam irradiation apparatus which solves the above-mentioned conventional problems and automatically obtains the correction of the field deviation of the scanning signal.
[0009]
Further, the present invention provides a scanning beam irradiation apparatus which corrects a relative positional relationship between a plurality of beam sources and corrects at least one positional deviation of the beam sources in a rotation direction, an X axis direction, and a Y axis direction. To do.
[Means for Solving the Problems]
[0010]
In order to achieve the above object, a scanning beam irradiation apparatus according to one embodiment of the present invention irradiates a stage that supports a sample and is movable in at least a two-dimensional direction, and irradiates the sample with a scanning beam composed of a charged particle beam. Beam source, a mark provided on the stage supporting the sample, a detection mechanism for detecting charged particles from the sample irradiated with the scanning beam, and a scanning image of the mark based on a detection signal from the detection mechanism. And an image forming mechanism that forms the image forming mechanism, detects a positional deviation of the scan image of the mark formed by the image forming mechanism, calculates a positional deviation correction coefficient, and drives the beam source and the stage based on the positional deviation correction coefficient. And a control mechanism for controlling.
[0011]
[0012]
The mark includes, for example, a stage symbol for detecting the coordinates of the stage, and the stage symbol includes a position symbol that determines the position on the stage and a direction symbol that determines the direction of the position symbol.
[0013]
[0014]
The image forming mechanism includes a scan image storage unit that forms a scan image based on a detection signal from the detection mechanism and stores the scan image.
【0003】
[0015]
上記制御機構は、画像形成機構によって得られた走査画像とマークとの位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出する位置ずれ補正係数算出部と、この位置ずれ補正係数に基づきビーム源およびステージの駆動を制御する制御部を備えている。
[0016]
本発明に係る走査ビーム照射装置は、更に、位置ずれ補正係数を記憶する記憶部を備えている。
[0017]
また、本発明に係る走査ビーム照射装置は、試料に照射される走査ビームを放出する複数のビーム源を備えている。
[0018]
マークは、例えば、各ビーム源の走査ビームの各走査範囲内に設ける走査ビーム用シンボルから成り、この走査ビーム用シンボルの走査画像の位置ずれから、走査ビームの座標系においてビーム源の回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、X軸方向ずれの少なくともいずれか一つの位置ずれ量を求めることができる。
[0019]
上記走査ビーム用シンボルは、走査方向の直線を含む水平シンボルと、この水平シンボルに対して斜め方向の直線を含む斜めシンボルとを備えている。
[0020]
上記水平シンボルの両端のY軸方向の位置ずれ量から回転方向ずれを求め、二つのビーム源により得られる走査画像の二つの水平シンボルにおいて同一部分のY軸方向の位置ずれ量からY軸方向ずれを求め、二つのビーム源により得られる走査画像の二つの斜めシンボルにおいて同一部分のY軸方向の位置ずれ量からX軸方向ずれを求めることができる。
【発明の効果】
[0021]
本発明によれば、マークの走査画像の位置とステージ上のマークの位置との位置ずれを検出し、且つその位置ずれを自動的に補正することができる。
[0022]
本発明によれば、複数のビーム源の相対的位置関係を補正することができる。また、ビーム源の回転方向、X軸方向、Y軸方向の少なくとも一つの位置ずれを補正することができる。
【図面の簡単な説明】
[0023]
[図1]本発明に係る走査ビーム照射装置の一実施例を示す概略図。[0003]
[0015]
The control mechanism detects a positional deviation between the scan image and the mark obtained by the image forming mechanism and calculates a positional deviation correction coefficient, and a beam source and a stage based on the positional deviation correction coefficient. The control unit controls the driving of the.
[0016]
The scanning beam irradiation apparatus according to the present invention further includes a storage unit that stores the positional deviation correction coefficient.
[0017]
Further, the scanning beam irradiation device according to the present invention includes a plurality of beam sources that emit the scanning beam with which the sample is irradiated.
[0018]
The mark is composed of, for example, a scanning beam symbol provided in each scanning range of the scanning beam of each beam source, and from the positional deviation of the scanning image of this scanning beam symbol, the rotational direction deviation of the beam source in the coordinate system of the scanning beam. It is possible to obtain at least one of the positional shift amounts of the Y-axis direction shift and the Y-axis direction shift.
[0019]
The scanning beam symbol includes a horizontal symbol including a straight line in the scanning direction and an oblique symbol including a straight line in an oblique direction with respect to the horizontal symbol.
[0020]
The rotational displacement is obtained from the positional displacement amount of the both ends of the horizontal symbol in the Y-axis direction, and the positional displacement amount in the Y-axis direction of the same portion in the two horizontal symbols of the scanning image obtained by the two beam sources is displaced in the Y-axis direction. Then, the X-axis shift can be calculated from the amount of positional shift in the Y-axis direction of the same portion in the two diagonal symbols of the scan image obtained by the two beam sources.
【The invention's effect】
[0021]
According to the present invention, it is possible to detect the positional deviation between the position of the scanned image of the mark and the position of the mark on the stage, and to automatically correct the positional deviation.
[0022]
According to the present invention, the relative positional relationship between a plurality of beam sources can be corrected. Further, it is possible to correct at least one positional deviation of the beam source in the rotation direction, the X axis direction, and the Y axis direction.
[Brief description of drawings]
[0023]
FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of a scanning beam irradiation device according to the present invention.
【0004】
[図2]ステージ上に設けられたマークの説明図。
[図3]Aは、マークの一形状例を説明するための説明図であり、Bはマークの他の形状例を説明するための説明図である。
[図4]Aは、マークによる回転方向ずれを検出するための説明図であり、Bは、マークによるY軸方向ずれを検出するための説明図であり、Cは、マークによるX軸方向ずれを検出するための説明図である。
[図5]Aは、ビーム源のY軸方向ずれを説明するための図であり、Bは、ビーム源のX軸方向ずれを説明するための図である。
[図6]Aは、ビーム源のX軸方向ずれ及びY軸方向ずれを説明するための図であり、Bは、ビーム源のX軸方向ずれ及びY軸方向ずれを説明するための図であり、Cは、ビーム源のY軸方向ずれを説明するための図であり、Dは、ビーム源のX軸方向ずれを説明するための図である。
[図7]Aは、走査画像の回転方向ずれの補正を説明するための図であり、Bは、回転方向ずれが補正された走査画像を示す説明図であり、Cは、Y軸方向ずれが補正された走査画像を示す説明図であり、Dは、X軸方向ずれが補正された走査画像を示す説明図である。
[図8]ビーム源の回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、及びX軸方向ずれの各位置ずれを補正するパラメータを求める手順を説明するためのフローチャート。
[図9]ビーム源の回転方向ずれ補正係数の算出を説明するためのフローチャート。
[図10]Aは、回転方向ずれを求めるため2点が指定された水平シンボルの説明図であり、Bは、回転方向ずれを求めるため他の2点が指定された水平シンボルの説明図。
[図11]Aは、フレームの長さを示す説明図であり、Bは、フレームの方向ポイント数を示す説明図であり、Cは、フレームの回転方向ずれを示す説明図であり、Dは、フレームの回転方向ずれを示す説明図であり、Eは、フレームの回転方向ずれの表示例を示す説明図である。
[図12]ビーム源のY軸方向ずれ補正係数の算出を説明するためのフローチャート。
[図13]Aは、ビーム源と走査ビーム用シンボルとの位置関係を示す説明図であり、B[0004]
FIG. 2 is an explanatory diagram of marks provided on the stage.
[FIG. 3] FIG. 3A is an explanatory diagram for explaining an example of the shape of the mark, and B is an explanatory diagram for explaining another example of the shape of the mark.
[FIG. 4] FIG. 4A is an explanatory diagram for detecting a rotational direction deviation due to a mark, B is an explanatory diagram for detecting a Y axis direction deviation due to a mark, and C is an X axis direction deviation due to a mark. It is an explanatory view for detecting.
[FIG. 5] A is a diagram for explaining a displacement of the beam source in the Y-axis direction, and B is a diagram for explaining a displacement of the beam source in the X-axis direction.
[FIG. 6] A is a diagram for explaining the X-axis direction deviation and the Y-axis direction deviation of the beam source, and B is a diagram for explaining the X-axis direction deviation and the Y-axis direction deviation of the beam source. Yes, C is a diagram for explaining the displacement of the beam source in the Y-axis direction, and D is a diagram for explaining the displacement of the beam source in the X-axis direction.
[FIG. 7] A is a diagram for explaining correction of a rotational direction shift of a scanned image, B is an explanatory view showing a scanned image in which the rotational direction shift is corrected, and C is a Y-axis direction shift. FIG. 6 is an explanatory view showing a scanned image in which the correction is performed, and D is an explanatory view showing a scanned image in which the displacement in the X-axis direction is corrected.
FIG. 8 is a flowchart for explaining a procedure for obtaining parameters for correcting positional deviations of the beam source in the rotational direction, the Y-axis direction, and the X-axis direction.
[FIG. 9] A flowchart for explaining calculation of a rotational direction deviation correction coefficient of a beam source.
[FIG. 10] FIG. 10A is an explanatory diagram of a horizontal symbol in which two points are designated to obtain a rotational direction deviation, and B is an explanatory diagram of a horizontal symbol in which two other points are designated to obtain a rotational direction deviation.
[FIG. 11] A is an explanatory view showing the length of the frame, B is an explanatory view showing the number of directional points of the frame, C is an explanatory view showing the deviation in the rotational direction of the frame, and D is D. , E is an explanatory diagram showing a rotational direction deviation of a frame, and E is an explanatory diagram showing a display example of a rotational direction deviation of a frame.
FIG. 12 is a flowchart for explaining calculation of a Y-axis direction deviation correction coefficient of the beam source.
FIG. 13A is an explanatory diagram showing the positional relationship between the beam source and the scanning beam symbol, and
【0005】
は、走査ビーム用シンボルの走査画像を示す説明図であり、Cは、ビーム源間のY軸方向ずれの補正を示す説明図である。
[図14]Aは、フレームとY軸方向ずれとの関係を示す図であり、Bは、フレームの長さを示す説明図であり、Cは、フレームの方向ポイント数を示す説明図である。
[図15]ビーム源のX軸方向ずれ補正係数の算出を説明するためのフローチャート。
[図16]Aは、ビーム源間のX軸方向ずれ補正を示す説明図であり、Bは、ビーム源の走査ビーム用シンボル画像を示す説明図であり、Cは、ビーム源間のX軸方向ずれ補正を説明するための図である。
[図17]Aは、ビーム源間のX軸方向ずれ補正を示す説明図であり、Bは、フレームの長さを示す説明図であり、Cは、フレームの方向ポイント数を示す説明図である。
[図18]Aは、ビーム源の回転方向ずれ補正の補正演算の順序を説明するための図であり、Bは、ビーム源のY軸方向ずれ補正の補正演算の順序を説明するための図であり、Cは、ビーム源のX軸方向ずれ補正の補正演算の順序を説明するための図である。
[図19]走査ビーム照射装置の表示画面の一例を示す正面図である。
【符号の説明】
[0024]
1…走査ビーム照射装置、2…ビーム源、3…ステージ、4…検出機構、5…走査画像形成部、6…走査画像記憶部、7…位置ずれ補正係数算出部、7a…回転方向ずれ補正係数算出部、7b…Y軸方向ずれ補正係数算出部、7c…X軸方向ずれ補正係数算出部、8…パラメータ記憶部、9…制御部、11…ステージ用シンボル、11a…位置シンボル、11b…方向シンボル、12…走査ビーム用シンボル、12a…水平シンボル、12b…斜めシンボル、13…パス
【発明を実施するための最良の形態】
[0025]
以下、本発明の実施の形態について、図面に示された実施例に基づき詳細に説明する。
[0026]
図1は、本発明に係る走査ビーム照射装置の一実施例を示す。この走査ビーム照射装置1は、試料を支持し少なくとも二次元方向に移動可能なステージ3と、試料に走査ビームを照射するビーム源2と、試料に設けられたマークと、走査ビームが照射[0005]
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a scanned image of a scanning beam symbol, and C is an explanatory diagram showing correction of a Y-axis direction deviation between beam sources.
[FIG. 14] A is a diagram showing a relationship between a frame and a shift in the Y-axis direction, B is an explanatory diagram showing the length of the frame, and C is an explanatory diagram showing the number of directional points of the frame. ..
FIG. 15 is a flowchart for explaining calculation of a beam source X-axis direction deviation correction coefficient.
[FIG. 16] A is an explanatory view showing X-axis direction deviation correction between beam sources, B is an explanatory view showing a scanning beam symbol image of the beam sources, and C is an X axis direction between the beam sources. It is a figure for demonstrating direction shift correction.
[FIG. 17] A is an explanatory diagram showing X-axis direction deviation correction between beam sources, B is an explanatory diagram showing a frame length, and C is an explanatory diagram showing a direction point number of the frame. is there.
[FIG. 18] FIG. 18A is a diagram for explaining the order of the correction calculation of the rotational deviation of the beam source, and FIG. 18B is a diagram for explaining the order of the correction calculation of the Y-axis direction deviation correction of the beam source. And C is a diagram for explaining the order of the correction calculation of the X-axis direction deviation correction of the beam source.
FIG. 19 is a front view showing an example of a display screen of the scanning beam irradiation device.
[Explanation of symbols]
[0024]
DESCRIPTION OF
[0025]
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail based on an example shown in the drawings.
[0026]
FIG. 1 shows an embodiment of a scanning beam irradiation apparatus according to the present invention. This scanning
【0006】
された試料からの荷電粒子を検出する検出機構4と、この検出機構4からの検出信号に基づき走査画像を形成する画像形成機構と、この画像形成機構によって形成された走査画像とマークとの位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出し且つ該位置ずれ補正係数に基づき前記ビーム源およびステージの駆動を制御する制御機構とを備えている。
[0027]
画像形成機構は、検出機構からの検出信号に基づいて走査画像を形成し且つこの走査画像を記憶する走査画像記憶部6を含む。制御機構は、画像形成機構によって得られた走査画像とマークとの位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出する位置ずれ補正係数算出部7と、この位置ずれ補正係数に基づきビーム源およびステージの駆動を制御する制御部9を備えている。ビーム源2は、電子やイオン等の荷電粒子ビームを試料上に照射する。ステージ3は、基板等の試料を支持し図示しない駆動機構によってX,Y方向に移動可能である。検出機構4は、ビーム源2からの荷電粒子ビームの照射によって試料から発生する二次電子等を検出し、走査ビーム照射装置は、荷電粒子ビームのスキャンやステージの移動によって試料上においてビームの照射位置を走査する。
[0028]
走査画像形成部5は、検出機構4で取得された検出信号を用いて走査画像を形成する。走査画像記憶部6は、この形成された走査画像を記憶する。位置ずれ補正係数算出部7は、得られた走査画像に基づいて位置ずれ補正係数を算出する。パラメータ記憶部8は、位置ずれ補正係数算出部7で算出された位置ずれ補正係数等のパラメータを記憶する。制御部9は、得られた位置ずれ補正係数やその他のパラメータに基づいてビーム源2やステージ3の駆動制御を行う。
[0029]
位置ずれ補正係数算出部7は、ビーム源2の基準座標(ビーム座標系あるいはステージ座標系)に対する回転方向ずれのずれ量を求め、この求められたずれ量を補正する補正係数を算出する回転方向ずれ補正係数算出部7aと、ビーム源2を複数備える構成において、各ビーム源間のY軸方向ずれのずれ量を求め、この求められたずれ量を補正する補正係数を算出するY軸方向ずれ補正係数算出部7bと、各ビーム源間のX軸方向ずれのずれ量を求め、この求められたずれ量を補正する補正係数を算出するX軸方向ずれ補正係数算出部7Cとを備えている。[0006]
[0027]
The image forming mechanism includes a scan image storage unit 6 that forms a scan image based on a detection signal from the detection mechanism and stores the scan image. The control mechanism detects a positional shift between the scanned image and the mark obtained by the image forming mechanism and calculates a positional shift correction coefficient, and a beam source and a stage based on the positional shift correction coefficient. The control unit 9 is provided to control the driving of the. The
[0028]
The scan
[0029]
The positional deviation correction
【0007】
[0030]
本発明の走査ビーム照射装置1は、ステージ3上に位置ずれを算出するためのマークを備える。図2は、本発明の走査ビーム照射装置1が備えるマークを説明するための図である。図2において、マークは、ステージ座標を取得するステージ用シンボル11と、走査ビームの位置ずれを算出するための走査ビーム用シンボル12を備える。マークはステージの上端及び/又は下端にエッチング等によって形成される。図2ではマークはステージの上端に設けた例を示しているが、下端に設ける構成の他、上端及び下端の両端に設ける構成としてもよい。ステージ用シンボル11はビーム源2毎に設けられ、走査ビーム用シンボル12はビーム源間に設けられる。
[0031]
ビーム源2は、照射ビームのスキャン及びステージの移動によってパス13の走査範囲内を走査して走査画像を取得する。
[0032]
図3Aおよび図3Bは、マークの形状例を説明するための図である。図3Aは、ステージ用シンボル11の一形状例を示している。ステージ用シンボル11は、ステージ上の位置を定める位置シンボル11aと、位置シンボル11aが走査範囲のいずれ方向にあるいかを示す方向シンルボル11bとを備える。得られた走査画像内に位置シンボル11aが見つからない場合には、この方向シンボル11bを参照することで位置シンボル11aが存在する方向を確認することができる。
[0033]
なお、図3Aに示された位置シンボル11a及び方向シンボル11bの形状は一例であり、この形状に限定されるものではない。
[0034]
また、図3Bは、走査ビーム用シンボル11aの一形状例を示している。走査ビーム用シンボル12は、各ビーム源2の走査ビームの各走査範囲内に設けられ、この走査ビーム用シンボル12は、走査ビームの座標系におけるビーム源の回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、X軸方向ずれ等の位置ずれを求めるための指標として用いられる。
[0035]
走査ビーム用シンボル12は、走査方向の直線を含む水平シンボル12aと、水平シンボル12aに対して例えば45度方向に傾斜した経線を含む斜めシンボル12bとを備えている。
[0036]
以下、主に走査ビーム用シンボルによる、回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、及びX軸方向ずれの補正について説明する。[0007]
[0030]
The scanning
[0031]
The
[0032]
3A and 3B are diagrams for explaining an example of the shape of the mark. FIG. 3A shows an example of the shape of the
[0033]
The shapes of the
[0034]
FIG. 3B shows an example of the shape of the
[0035]
The
[0036]
Hereinafter, correction of a rotational direction shift, a Y-axis direction shift, and an X-axis direction shift, which are mainly caused by scanning beam symbols, will be described.
【0008】
[0037]
水平シンボル12aの両端のY軸方向の位置ずれ量から回転方向ずれが求められる。図4Aは、水平シンボルによる回転方向ずれの検出を説明するための図である。図4Aにおいて、回転方向のずれ角度θは水平シンボル12aの両端のY軸方向の位置ずれ量に対応しているため、Y軸方向の位置ずれ量から回転方向ずれ量を算出することができる。
[0038]
また、二つのビーム源により得られる走査画像の二つの水平シンボル12aにおいて同一部分のY軸方向の位置ずれ量からY軸方向ずれが求められる。図4Bは、水平シンボルによるY軸方向ずれの検出を説明するための図である。図4Bにおいて、二つのビーム源のY軸方向のずれは、各ビーム源で走査して得られる走査画像の二つの水平シンボル12aのY軸方向の位置ずれ量に対応しているため、Y軸方向の位置ずれ量からビーム源間のY軸方向ずれ量を算出することができる。
[0039]
また、二つのビーム源により得られる走査画像の二つの斜めシンボル12bにおいて同一部分のY軸方向の位置ずれ量からX軸方向ずれが求められる。図4Cは、斜めシンボルによるX軸方向ずれの検出を説明するための図である。図4Cにおいて、二つのビーム源のX軸方向ずれは、各ビーム源で走査して得られる走査画像の二つの斜めシンボル12bの角度をY軸方向の位置ずれ量に対応している。この斜めシンボル12bの角度を水平シンボル12aに対して45度の角度とする場合には、X軸方向ずれのずれ量とY軸方向ずれのずれ量とは同角度となるため、Y軸方向ずれのずれ量をX軸方向ずれのずれ量として求めることができる。
[0040]
なお、斜めシンボル12bの角度を水平シンボル12aに対して45度以外の任意の角度とすることもできる。この場合には、X軸方向ずれのずれ量とY軸方向ずれのずれ量とは同角度ではなく所定の対応角度関係となるため、Y軸方向ずれのずれ量に対して所定の対応角度関係に基づいた演算を行うことでX軸方向ずれのずれ量を求めることができる。
[0041]
なお、図4Cの左方は、太い線で示すマークを基準としたとき細い線で示すマークが左方にずれた状態を示し、図4Cの右方は、太い線で示すマークを基準としたとき細い線で示すマークが右方にずれた状態を示している。このX軸方向ずれは、斜めシンボル12b(実線で示す)のY軸方向ずれから求めることができる。[0008]
[0037]
The displacement in the rotational direction is obtained from the amount of displacement in the Y-axis direction of both ends of the
[0038]
Further, the Y-axis direction shift is obtained from the Y-axis direction position shift amount of the same portion in the two
[0039]
Further, the X-axis direction deviation is obtained from the Y-axis direction position deviation amount of the same portion in the two
[0040]
The angle of the
[0041]
It should be noted that the left side of FIG. 4C shows a state in which the mark indicated by the thin line is shifted to the left when the mark indicated by the thick line is used as a reference, and the right side of FIG. 4C is based on the mark indicated by the thick line. At this time, the mark indicated by a thin line is shifted to the right. This X-axis direction deviation can be obtained from the Y-axis direction deviation of the
【0009】
[0042]
図5A、図5Bおよび図6A乃至図6Dを用いてY軸方向ずれ及びX軸方向ずれについて説明する。なお、ここでは、ビーム源mとビーム源m−1の間のずれが示されている。
[0043]
図5Aは、Y軸方向ずれを説明するための図である。ビーム源間のY軸方向ずれは、各ビーム源によって得られる走査画像の各マークを比較し、そのマークの水平シンボル12a(実線で示す)のY軸方向のずれ量から求めることができる。
[0044]
図5Bは、X軸方向ずれを説明するための図である。ビーム源間のX軸方向ずれは、各ビーム源によって得られる走査画像の各マークを比較し、そのマークの斜めシンボル12b(実線で示す)のY軸方向のずれ量から求めることができる。
[0045]
図6A乃至図6Dは、X軸方向ずれ及びY軸方向ずれを説明するための図である。ビーム源間のY軸方向ずれは、図6Cに示すように各ビーム源によって得られる走査画像の各マークを比較し、そのマークの水平シンボル12aのY軸方向のずれ量から求められる。ビーム源間のX軸方向ずれは、図6Dに示すように各ビーム源によって得られる走査画像の各マークを比較し、そのマークの斜めシンボル12bのY軸方向のずれ量から求められる。
[0046]
上記した回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、及びX軸方向ずれの各位置ずれを補正することで、走査画像のずれを補正することができる。図7A乃至図7Dは、位置ずれ補正による走査画像のずれ補正を説明するための図である。なお、ここでは、3つのビーム源がそれぞれ4つのパスによって走査画像を取得する状態を示している。
[0047]
図7Aは、回転方向ずれを含む走査画像例を示している。ビーム源2の設置角度やビームの照射状態によって回転方向にずれが生じると、得られる走査画像に回転方向ずれが含まれることになる。直線の走査画像は、回転方向ずれによって水平に対して角度を有する斜めの線として表れる。
[0048]
図7Bは、回転方向ずれを補正した状態を示している。回転方向ずれ補正によって斜めの線は直線となる。このとき、ビーム源間においてY軸方向のずれが存在する場合には、各ビーム源で得られる走査画像の直線はY軸方向にずれる。
[0049]
図7Cは、水平シンボルを用いてY軸方向ずれを補正した状態を示している。Y軸方向ずれ補正によってビーム源間のY軸方向のずれは解消される。このとき、ビーム源[0009]
[0042]
The Y-axis direction deviation and the X-axis direction deviation will be described with reference to FIGS. 5A and 5B and FIGS. 6A to 6D. It should be noted that here, the deviation between the beam source m and the beam source m-1 is shown.
[0043]
FIG. 5A is a diagram for explaining the deviation in the Y-axis direction. The deviation between the beam sources in the Y-axis direction can be calculated from the deviation amount in the Y-axis direction of the
[0044]
FIG. 5B is a diagram for explaining the displacement in the X-axis direction. The X-axis displacement between the beam sources can be obtained by comparing the marks of the scan images obtained by the beam sources and the displacement amount of the
[0045]
6A to 6D are diagrams for explaining the X-axis direction deviation and the Y-axis direction deviation. The shift in the Y-axis direction between the beam sources is obtained from the shift amount in the Y-axis direction of the
[0046]
By correcting the positional deviations of the rotational direction deviation, the Y-axis deviation, and the X-axis deviation described above, the deviation of the scanned image can be corrected. 7A to 7D are diagrams for explaining the shift correction of the scan image by the position shift correction. In addition, here, a state is shown in which each of the three beam sources acquires a scan image by four passes.
[0047]
FIG. 7A shows an example of a scanned image including a rotational direction shift. If a deviation occurs in the rotation direction due to the installation angle of the
[0048]
FIG. 7B shows a state in which the rotational direction deviation is corrected. The slanted line becomes a straight line by the correction of the rotational direction deviation. At this time, when there is a shift in the Y-axis direction between the beam sources, the straight line of the scan image obtained by each beam source is shifted in the Y-axis direction.
[0049]
FIG. 7C shows a state in which the Y-axis direction deviation is corrected using the horizontal symbol. By correcting the deviation in the Y-axis direction, the deviation in the Y-axis direction between the beam sources is eliminated. At this time, the beam source
【0011】
[0058]
n=0として(S3a)、ビーム源nの走査画像から走査用ビームシンボルの水平シンボルについて2点を指定し(S3b)、これら指定された2点のY軸方向のずれ量が求められる(S3c)。
[0059]
この求められたY軸方向ずれ量から回転方向ずれ補正係数が算出される(S3d)。
n=n+1として(S3e)、nとNとを比較し(S3f)、nがNとなるまで(S3b)〜(S3e)の工程を繰り返すことによって、全てのビーム源について回転方向ずれ補正係数が算出される。
[0060]
前記(S3b)の工程では、回転方向ずれを求めるために水平シンボル中の2点が指定されている。図10Aは、水平シンボルにおける2点の一指定例を示す図であり、二つの水平シンボルの一方の水平シンボルの上側の端部を指定し(チェックNo.1)、他方の水平シンボルの下側の端部を指定する(チェックNo.2)。また、図10Bは、水平シンボルにおける2点の他の指定例を示す図であり、一つの水平シンボルの両端部(チェックNo.1,チェックNo.2)を指定し、走査画像において指定した点のY軸方向のポイント数でずれ量が求められる。なお、ここでは、ずれ量は、図中のチェックNo.1のポイントからチェックNo.2のポイントを差し引いたポイント数で表されている。
[0061]
図11は、フレームと回転方向ずれとの関係を示している。図11Aおよび図11Bは、一フレームの範囲及び一フレームのポイント数の一例を示している。このフレームは、X方向長さLX(例えば、47mm)とy方向長さLy(例えば、3mm)とを有し、X方向にPxのポイント数を有し、y方向にPyのポイント数を有する。
[0062]
そこで、水平シンボルのY軸方向のずれ量を、ポイント数をフレームに対応づけることでフレームにおける回転方向ずれのずれ係数が算出される。算出は以下の式によって行うことができる。
回転方向ずれ補正係数=フレームY方向の長さ/フレームY方向のポイント/フレームX方向の長さ×ずれ量
例えば、一フレームの範囲が(47mm×3mm)であり、一フレームのポイント数が(3520ポイント×68ポイント)であるとき、ずれ量としてY軸方向で2ポイント数分ずれている場合には、
0.001855347=3(mm)/68(point)/47(mm)/2(point)[0011]
[0058]
When n=0 (S3a), two points are designated for the horizontal symbol of the beam symbol for scanning from the scanning image of the beam source n (S3b), and the shift amount of these designated two points in the Y-axis direction is obtained (S3c). ).
[0059]
A rotation direction deviation correction coefficient is calculated from the obtained Y axis direction deviation amount (S3d).
By setting n=n+1 (S3e), comparing n and N (S3f), and repeating the steps (S3b) to (S3e) until n becomes N, the rotation direction deviation correction coefficient is obtained for all beam sources. Is calculated.
[0060]
In the step (S3b), two points in the horizontal symbol are designated in order to obtain the rotational direction deviation. FIG. 10A is a diagram showing an example of specifying two points in a horizontal symbol, in which the upper end of one of the two horizontal symbols is specified (check No. 1) and the lower side of the other horizontal symbol is specified. Specify the end of (check No. 2). 10B is a diagram showing another example of designation of two points in the horizontal symbol, in which both end portions (check No. 1, check No. 2) of one horizontal symbol are designated and the points designated in the scanned image are designated. The shift amount is obtained by the number of points in the Y-axis direction. Note that, here, the shift amount is the check number in the figure. Check No. 1 from the
[0061]
FIG. 11 shows the relationship between the frame and the rotation direction deviation. 11A and 11B show an example of the range of one frame and the number of points in one frame. This frame has an X-direction length LX (for example, 47 mm) and a y-direction length Ly (for example, 3 mm), has Px points in the X direction, and Py points in the y direction. ..
[0062]
Therefore, the shift coefficient of the rotational direction shift in the frame is calculated by associating the number of points with the amount of shift in the Y-axis direction of the horizontal symbol in the frame. The calculation can be performed by the following formula.
Rotation direction deviation correction coefficient=length in frame Y direction/point in frame Y direction/length in frame X direction×deviation amount For example, the range of one frame is (47 mm×3 mm), and the number of points in one frame is ( 3520 points×68 points), when the amount of deviation is two points in the Y-axis direction,
0.001855347=3 (mm)/68 (point)/47 (mm)/2 (point)
【0013】
[0070]
m=m−1として(S6e)、mと“0”とを比較し(S6f)、mが“0”となるまで(S6b)〜(S6e)の工程を繰り返すことによって、基準のビーム源1〜m−1のビーム源についてY軸方向ずれ補正係数が算出される。
[0071]
次に、ビーム源mとビーム源m+1の走査画像から走査用ビームシンボルの水平シンボルについて2点が指定され(S6g)、これら指定された2点のY軸方向のずれ量が求められる(S6h)。この求められたY軸方向ずれ量からY軸方向ずれ補正係数が算出される(S6i)。
[0072]
m=m+1として(S6j)、mと“N”とを比較し(S6k)、mが“N”となるまで(S6g)〜(S6j)の工程を繰り返すことによって、基準のビーム源m+1〜NについてY軸方向ずれ補正係数が算出される。
[0073]
これによって、基準のビーム源mに対して全てのビーム源のY軸方向ずれを補正する補正係数を求めることができる。
[0074]
図13は、ビーム源間のY軸方向ずれ補正を説明するための図である。図13Aは、ビーム源mとm−1と走査ビーム用シンボルとの位置関係を示し、図13Bは、走査ビーム用シンボルの走査画像を示している。ビーム源mとビーム源m−1との走査ビーム用シンボルの画像は、ビーム源のY軸方向ずれによって、Y軸方向にずれて観察される。ここで、図13Cに示すように、走査ビーム用シンボルの水平シンボル(実線で表示)についてチェックNo.1とチェックNo.2とを指定し、この指定された点のY軸方向のポイント数でずれ量が求められる。
[0075]
なお、ここでは、ずれ量は図中のチェックNo.1のポイントからチェックNo.2のポイントを差し引いたポイント数で表わされる。
[0076]
図14はフレームとY軸方向ずれとの関係を示している。図14Bおよび図14Cは、一フレームの範囲及び一フレームのポイント数の一例を示し、Y方向にpy分だけずれている状態を示している。図14Aは、二つの走査ビーム用シンボルの走査画像(それぞれ片側のみが示されている)を示し、Y方向にpyだけずれていることを観察することができる。
[0077]
フレームはX方向長さLx(例えば、47mm)とy方向長さLy(例えば、3mm)を有し、X方向にPxのポイント数を有し、y方向にPyのポイント数を有する。[0013]
[0070]
By setting m=m−1 (S6e), comparing m with “0” (S6f), and repeating the steps (S6b) to (S6e) until m becomes “0”, the
[0071]
Next, two points are designated for the horizontal symbol of the scanning beam symbol from the scanning images of the beam source m and the beam source m+1 (S6g), and the shift amount of these designated two points in the Y-axis direction is obtained (S6h). .. A Y-axis direction deviation correction coefficient is calculated from the obtained Y-axis direction deviation amount (S6i).
[0072]
By setting m=m+1 (S6j), comparing m with "N" (S6k), and repeating the steps (S6g) to (S6j) until m becomes "N", the reference beam sources m+1 to N are obtained. A Y-axis direction deviation correction coefficient is calculated for.
[0073]
Accordingly, it is possible to obtain the correction coefficient for correcting the deviation of all the beam sources in the Y-axis direction with respect to the reference beam source m.
[0074]
FIG. 13 is a diagram for explaining the correction of the deviation between the beam sources in the Y-axis direction. FIG. 13A shows the positional relationship between the beam sources m and m−1 and the scanning beam symbol, and FIG. 13B shows the scanned image of the scanning beam symbol. The images of the scanning beam symbols of the beam source m and the beam source m-1 are observed while being displaced in the Y axis direction due to the displacement of the beam source in the Y axis direction. Here, as shown in FIG. 13C, the check No. for the horizontal symbol (indicated by a solid line) of the scanning beam symbol. 1 and check No. 2 is specified, and the deviation amount is obtained by the number of points in the Y-axis direction of the specified points.
[0075]
In addition, here, the shift amount is the check No. in the figure. Check No. 1 from the
[0076]
FIG. 14 shows the relationship between the frame and the shift in the Y-axis direction. 14B and 14C show an example of the range of one frame and the number of points in one frame, and show a state in which they are displaced by py in the Y direction. FIG. 14A shows scanned images of two scanning beam symbols (only one side of each is shown), and it can be observed that they are offset by py in the Y direction.
[0077]
The frame has a length Lx in the X direction (for example, 47 mm) and a length Ly in the y direction (for example, 3 mm), has Px points in the X direction, and has Py points in the y direction.
【0014】
[0078]
前記したフレームとの対応関係において、水平シンボルのY軸方向のずれ量を、ポイント数をフレームに対応づけることでY軸方向ずれのずれ係数により算出される。この算出は以下の式によって行われる。
Y軸方向ずれ補正係数=ずれ量×フレームY方向の長さ/フレームY方向のポイント/最小分解能
例えば、一フレームの範囲が(47mm×3mm)であり、一フレームのY方向のサンプリング点数が68であるとき、ずれ量としてY軸方向で−4ポイント数分ずれている場合には、−44=−4(point)×3000(um)/68(point)/4(mm)となる。
[0079]
次に、X軸方向ずれ補正係数の算出について説明する。
[0080]
図15は、ビーム源のX軸方向ずれ補正係数の算出(図8のフローチャート中のS7)を説明するためのフローチャートである。なお、ここでは、複数のビーム源(ビーム源の個数をNとする)を備える場合について、ビーム源mを基準として他のビーム源のY軸方向ずれ補正する補正係数を順に求める手順を示している。
[0081]
先ず、基準のビーム源mが設定される。複数のビーム源内で何れのビーム源を基準のビーム源として設定するかは任意とすることができる。例えば、ビーム源の個数が“7”である場合に、m=4として中央に位置する第4番目のビーム源を基準とすることができる(S7a)。
[0082]
次に、基準のビーム源に対して隣接するビーム源のX軸方向ずれを求め、この求められたX軸方向ずれを補正する補正係数を求め、さらに、隣接するビーム源のX軸方向ずれを求めて補正係数を求める。この演算を基準のビーム源の両側について行うことで、全てのビーム源について基準のビーム源に対してX軸方向ずれを補正する補正係数を求めることができる。
[0083]
はじめに、基準のビーム源mに対して一方の側に存在するビーム源(m−1,m−2,…,1)についてX軸方向ずれの補正係数を求め(S7b〜S7f)、次に基準のビーム源mに対して他方の側に存在するビーム源(m+1,m+2,・・・,N)についてX軸方向ずれの補正係数を求める(S7g〜S7k)。
[0084]
X軸方向ずれの補正係数を求める場合、ビーム源mとビーム源m−1との走査画像から走査用ビームシンボルの斜めシンボルについて2点を指定し(S7b)、これら指定[0014]
[0078]
In the above-mentioned correspondence with the frame, the shift amount of the horizontal symbol in the Y-axis direction is calculated by the shift coefficient of the Y-axis shift by associating the number of points with the frame. This calculation is performed by the following formula.
Y axis direction deviation correction coefficient=deviation amount×frame Y direction length/frame Y direction point/minimum resolution For example, the range of one frame is (47 mm×3 mm), and the number of sampling points in the Y direction of one frame is 68. Then, when the shift amount is −4 points in the Y-axis direction, −44=−4 (point)×3000 (um)/68 (point)/4 (mm).
[0079]
Next, the calculation of the X-axis direction deviation correction coefficient will be described.
[0080]
FIG. 15 is a flowchart for explaining the calculation of the X-axis direction deviation correction coefficient of the beam source (S7 in the flowchart of FIG. 8). In addition, here, in the case where a plurality of beam sources (the number of beam sources is N) is provided, a procedure for sequentially obtaining a correction coefficient for correcting the deviation of the other beam sources in the Y-axis direction with respect to the beam source m is shown. There is.
[0081]
First, the reference beam source m is set. Which of the plurality of beam sources is set as the reference beam source may be arbitrary. For example, when the number of beam sources is “7”, the fourth beam source located at the center can be used as a reference with m=4 (S7a).
[0082]
Next, the X-axis direction shift of the adjacent beam source with respect to the reference beam source is obtained, the correction coefficient for correcting the obtained X-axis direction shift is obtained, and the X-axis direction shift of the adjacent beam source is further obtained. Then, the correction coefficient is obtained. By performing this calculation on both sides of the reference beam source, it is possible to obtain correction coefficients for all the beam sources, which correct the deviation in the X-axis direction with respect to the reference beam source.
[0083]
First, the correction coefficient for the X-axis direction deviation is obtained for the beam sources (m-1, m-2,..., 1) existing on one side of the reference beam source m (S7b to S7f), and then the reference The correction coefficient for the X-axis direction deviation is obtained for the beam sources (m+1, m+2,..., N) existing on the other side with respect to the beam source m (S7g to S7k).
[0084]
When obtaining the correction coefficient for the X-axis direction deviation, two points are designated for the oblique symbol of the scanning beam symbol from the scanning images of the beam source m and the beam source m-1 (S7b), and these designations are made.
【0015】
された2点のY軸方向のずれ量を求める(S7c)。この求められたY軸方向ずれ量からX軸方向ずれ補正係数を算出する(S7d)。
[0085]
m=m−1として(S7e)、mと“0”とを比較し(S7f)、mが“0”となるまで(S7b)〜(S7e)の工程を繰り返すことによって、基準のビーム源1〜m−1のビーム源についてX軸方向ずれ補正係数が算出される。
[0086]
次に、ビーム源mとビーム源m+1との走査画像から走査用ビームシンボルの斜めシンボルについて2点を指定し(S7g)、これら指定された2点のY軸方向のずれ量を求める(S7h)。この求められたY軸方向ずれ量からX軸方向ずれ補正係数が算出される(S7i)。
[0087]
m=m+1として(S7j)、mと“N”とを比較し(S7k)、mが“N”となるまで(S7g)〜(S7j)の工程を繰り返すことによって、基凖のビーム源m+1〜Nのビーム源についてX軸方向ずれ補正係数が算出される。
[0088]
これによって、基準のビーム源mに対して全てのビーム源のX軸方向ずれを補正する補正係数を求めることができる。
[0089]
図16は、ビーム源間のX軸方向ずれ補正を説明するための図である。図16Aは、ビーム源mとビーム源m−1と走査ビーム用シンボルとの位置関係を示し、図16Bは、走査ビーム用シンボルの走査画像を示している。ビーム源mとビーム源m−1との走査ビーム用シンボルの画像のX軸方向ずれは、斜めシンボルが水平シンボルに対して45度の角度にある場合にはY軸方向ずれとして観察される。ここで、図16Cに示すように、走査ビーム用シンボルの斜めシンボル(実線で表示)についてチェックNo.1とチェックNo.2とを指定し、これら指定された点のY軸方向のポイント数でずれ量が求められる。
[0090]
なお、ここでは、ずれ量は図中のチェックNo.1のポイントからチェックNo.2のポイントを差し引いたポイント数で表わされる。
[0091]
図17はフレームとX軸方向ずれとの関係を示している。図17Bおよび図17Cは、一フレームの範囲及び一フレームのポイント数の一例を示し、X方向にpx分だけずれている状態を示している。図17Aは、二つの走査ビーム用シンボルの走査画像(それぞれ片側のみが示されている)を示し、X方向にpxだけずれた状態がY方向にpy(=[0015]
The amount of deviation of the two points in the Y-axis direction is calculated (S7c). An X axis direction deviation correction coefficient is calculated from the obtained Y axis direction deviation amount (S7d).
[0085]
By setting m=m−1 (S7e), m is compared with “0” (S7f), and the steps (S7b) to (S7e) are repeated until m becomes “0”. The X-axis direction deviation correction coefficient is calculated for the beam sources up to m-1.
[0086]
Next, two points are designated for the oblique symbols of the scanning beam symbol from the scanning images of the beam source m and the beam source m+1 (S7g), and the shift amount of these designated two points in the Y-axis direction is obtained (S7h). .. An X-axis direction deviation correction coefficient is calculated from the obtained Y-axis direction deviation amount (S7i).
[0087]
By setting m=m+1 (S7j), comparing m with "N" (S7k), and repeating the steps (S7g) to (S7j) until m becomes "N", the beam sources m+1 to The X-axis direction deviation correction coefficient is calculated for the N beam sources.
[0088]
With this, it is possible to obtain the correction coefficient for correcting the deviation of all the beam sources in the X-axis direction with respect to the reference beam source m.
[0089]
FIG. 16 is a diagram for explaining the X-axis direction deviation correction between the beam sources. FIG. 16A shows the positional relationship among the beam source m, the beam source m−1, and the scanning beam symbol, and FIG. 16B shows the scanned image of the scanning beam symbol. The X-axis direction deviation of the scanning beam symbol images between the beam source m and the beam source m-1 is observed as the Y-axis direction deviation when the oblique symbol is at an angle of 45 degrees with respect to the horizontal symbol. Here, as shown in FIG. 16C, the check No. for the diagonal symbol (displayed by a solid line) of the scanning beam symbol. 1 and check No. 2 is designated, and the shift amount is obtained by the number of points in the Y-axis direction of these designated points.
[0090]
In addition, here, the shift amount is the check No. in the figure. Check No. 1 from the
[0091]
FIG. 17 shows the relationship between the frame and the displacement in the X-axis direction. FIGS. 17B and 17C show an example of the range of one frame and the number of points in one frame, and show a state of being shifted by px in the X direction. FIG. 17A shows scanned images of two scanning beam symbols (only one side of each is shown), and a state shifted by px in the X direction is py(=
【0016】
px)だけずれた状態として観察される。
[0092]
フレームはx方向長さLx(例えば、47mm)とy方向長さLy(例えば、3mm)とを有し、X方向にPxのポイント数を有し、y方向にpyのポイント数を有する。
[0093]
前記フレームとの対応関係において、斜めシンボルのY軸方向のずれ量をポイント数をフレームに対応づけることでX軸方向ずれのずれ係数が算出される。この算出は以下の式によって行われる。
X軸方向ずれ補正係数=ずれ量×フレームY方向の長さ/フレームY方向のポイント/最小分解能
例えば、一フレームの範囲が(47mm×3mm)であり、一フレームのY方向のサンプリング点数が68であるとき、ずれ量としてY軸方向で2ポイント数分ずれている場合には、
22=2(point)×3000(um)/68(point)/4(um)となる。
[0094]
図18は、回転方向ずれ補正、Y軸方向ずれ補正、及びX軸方向ずれ補正の補正演算の順序を説明するための図である。
[0095]
図18Aは、一例として左から右に向かって順にビーム源の回転方向ずれ補正の演算処理を行う場合について示している。回転方向ずれ補正は、各ビーム源との間で関連がなく、一ビームの回転方向ずれ補正が他のビーム源の回転方向ずれ補正に影響しないため、ビーム源について任意の順序で行うことができる。
[0096]
図18Bは、Y軸方向ずれ補正の順序の一例であり、7個のビーム源において中央のビーム源No.4を基準として順にY軸方向ずれ補正を行う。第1番目に基準のビーム源No.4に対して左側に隣接するNo.3のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行い、次に、No.3とNo.2のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行った後、No.2とNo.1のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行って左方にあるビーム源のY軸方向ずれ補正を完了する。
[0097]
次に、第4番目に基準のビーム源No,4に対して右側に隣接するNo.5のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行い、次に、No.5とNo.6のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行った後、No.6とNo.7のビーム源との間でY軸方向ずれ補正を行って右方にあるビーム源のY軸方向ずれ補正を完了する。[0016]
It is observed as a state shifted by px).
[0092]
The frame has a length Lx in the x direction (for example, 47 mm) and a length Ly in the y direction (for example, 3 mm), has Px points in the X direction, and py points in the y direction.
[0093]
In the correspondence relationship with the frame, the shift coefficient of the X-axis direction shift is calculated by associating the amount of shift of the diagonal symbol in the Y-axis direction with the number of points in the frame. This calculation is performed by the following formula.
X-axis direction deviation correction coefficient=deviation amount×length in frame Y direction/point in frame Y direction/minimum resolution For example, the range of one frame is (47 mm×3 mm), and the number of sampling points in the Y direction of one frame is 68. And when the amount of deviation is two points in the Y-axis direction,
22=2 (point)×3000 (um)/68 (point)/4 (um).
[0094]
FIG. 18 is a diagram for explaining the order of the correction calculation of the rotational direction deviation correction, the Y axis direction deviation correction, and the X axis direction deviation correction.
[0095]
FIG. 18A shows, as an example, the case where the calculation processing of the rotational direction deviation correction of the beam source is sequentially performed from left to right. Rotational direction deviation correction can be performed in any order for the beam sources, since there is no relationship between each beam source and the rotational direction deviation correction of one beam does not affect the rotational direction deviation correction of the other beam source. ..
[0096]
FIG. 18B is an example of the order of the correction of the Y-axis direction shift, and in the seven beam sources, the central beam source No. The deviation correction in the Y-axis direction is sequentially performed with reference to 4. The first reference beam source No. No. 4 adjacent to the left side with respect to No. No. 3 beam source is used to correct the deviation in the Y-axis direction. 3 and No. No. 2 after performing the Y-axis direction deviation correction with the beam source of No. 2 2 and No. The deviation correction in the Y-axis direction is performed between the first beam source and the deviation correction in the Y-axis direction of the beam source on the left side.
[0097]
Next, the No. 4 adjacent to the right side of the reference beam source No. 4 is the fourth. No. 5 beam source is used to correct the deviation in the Y-axis direction. 5 and No. After performing the Y-axis direction deviation correction with the beam source of No. 6, 6 and No. The deviation correction in the Y-axis direction is performed with the beam source No. 7 to complete the deviation correction in the Y-axis direction of the beam source on the right side.
【0017】
[0098]
これにより、全てのビーム源についてのY軸方向ずれを補正することができる。
[0099]
図18Cは、X軸方向ずれ補正の順序の一例であり、Y軸方向ずれ補正と同様に、7個のビーム源において中央のビーム源No.4を基準として順にX軸方向ずれ補正を行って全てのビーム源のX軸方向ずれ補正を行う。
[0100]
なお、Y軸方向、X軸方向の補正において、補正を補正後のマークと順次比較することによって補正を行う場合、基準のマークに対する補正係数を求める場合には、前回の補正値を考慮する必要がある。
[0101]
次に、本発明の走査ビーム照射装置のアプリケーション上の動作を説明する。
図19は、表示画面例であり、走査画像を表示する画像、走査ビーム用シンボル等のマークを用いて補正処理をための画像を表示する。
[0102]
図19の左方画面には走査画像が表示され、この走査画像に表示された走査ビーム用シンボル等のマークの所定位置を指定することができる。走査画像上のポイントの座標値は、図19の左方画面の下方部分に表示され、“Plot1”のボタンをクリックすると、第1の補正ポイントの座標値がその右部分に表示され、同様に“Plot2”のボタンをクリックすると、第2の補正ポイントの座標値がその右部分に表示される。
[0103]
図19の右方画面には走査ビーム用シンボルと指定された補正ポイントとが表示され、その下方には補正事項や操作内容を選択するボタン、及び婦正事項を表すガイドリストが表示される。
[0104]
補正事項を選択するボタンは、回転方向ずれ補正(rotational adjust)を選択するボタン、Y軸方向ずれ補正(Y axial adjust)を避択するボタン、X軸方向ずれ補正(X axial adjust)を選択するボタンがある。操作内容を選択するボタンとして、“Plot1”,“Plot2”に表示された補正ポイントをガイドリストに追加して登録する“Next”ボタン、元にもどす“Back”ボタンが設けられる。
[0105]
ガイドリストには、回転方向ずれ補正、Y軸方向ずれ補正、X軸方向ずれ補正等の各補正事項について、ずれ補正係数(パラメータ)がその状態に応じて表示される。例えば、補正係数が既に取得されている状態、現在取得中である状態、取得前の状態等を、背景色を異ならせて表示することができる。なお、図19では、ガイドリストの一部のみを示している。[0017]
[0098]
This makes it possible to correct the deviation in the Y-axis direction for all the beam sources.
[0099]
FIG. 18C is an example of the order of the X-axis direction deviation correction. Similar to the Y-axis direction deviation correction, the central beam source No. 7 among the seven beam sources is shown. 4 is used as a reference to perform X-axis direction deviation correction in order to perform X-axis direction deviation correction of all beam sources.
[0100]
In the correction in the Y-axis direction and the X-axis direction, when the correction is performed by sequentially comparing the corrected mark with the corrected mark, it is necessary to consider the previous correction value when the correction coefficient for the reference mark is obtained. There is.
[0101]
Next, the application operation of the scanning beam irradiation apparatus of the present invention will be described.
FIG. 19 is an example of a display screen, and displays an image for displaying a scanned image and an image for correction processing using marks such as symbols for scanning beams.
[0102]
A scan image is displayed on the left screen of FIG. 19, and a predetermined position of a mark such as a symbol for a scanning beam displayed on this scan image can be designated. The coordinate value of the point on the scanned image is displayed in the lower part of the left screen of FIG. 19, and when the “Plot1” button is clicked, the coordinate value of the first correction point is displayed in the right part thereof, and similarly. When the "Plot2" button is clicked, the coordinate value of the second correction point is displayed in the right part.
[0103]
The scanning beam symbol and the designated correction point are displayed on the right screen of FIG. 19, and a button for selecting a correction item or operation content and a guide list indicating a correction item are displayed below the symbol.
[0104]
As a button for selecting correction items, a button for selecting rotational direction misalignment correction (rotational adjust), a button for avoiding Y axis direction misalignment correction (Y axial adjust), and an X axis direction misalignment correction (X axial adjust) are selected. There is a button. As buttons for selecting the operation content, a "Next" button for adding and registering the correction points displayed in "Plot1", "Plot2" to the guide list, and a "Back" button for returning the correction points are provided.
[0105]
In the guide list, misregistration correction coefficients (parameters) are displayed according to the state of each correction item such as rotational direction deviation correction, Y axis direction deviation correction, and X axis direction deviation correction. For example, the state in which the correction coefficient has already been acquired, the state in which the correction coefficient is currently acquired, the state before acquisition, and the like can be displayed with different background colors. Note that FIG. 19 shows only part of the guide list.
Claims (10)
前記試料に走査ビームを照射するビーム源と、
前記試料に設けられたマークと、
前記走査ビームの照射位置を検出する検出機構と、
前記検出機構からの検出信号に基づき走査画像を形成する画像形成機構と、
前記画像形成機構によって形成された走査画像と前記マークとの位置ずれを検出して位置ずれ補正係数を算出し且つ該位置ずれ補正係数に基づき前記ビーム源およびステージの駆動を制御する制御機構とを備えていることを特徴とする走査ビーム照射装置。
A stage that supports the sample and is movable in at least two dimensions
A beam source for irradiating the sample with a scanning beam,
A mark provided on the sample,
A detection mechanism for detecting the irradiation position of the scanning beam,
An image forming mechanism that forms a scanning image based on a detection signal from the detection mechanism,
A control mechanism that detects a positional deviation between the scan image formed by the image forming mechanism and the mark, calculates a positional deviation correction coefficient, and controls the drive of the beam source and the stage based on the positional deviation correction coefficient. A scanning beam irradiation device characterized by being provided.
The scanning beam irradiation apparatus according to claim 1, wherein the scanning beam is a charged electron beam.
The mark comprises a stage symbol for detecting the coordinates of the stage, and the stage symbol includes a position symbol that determines a position on the stage and a direction symbol that determines a direction of the position symbol. The scanning beam irradiation device according to claim 1.
The scanning beam irradiation apparatus according to claim 1, wherein the detection mechanism is configured to detect charged particles from the sample irradiated with the scanning beam.
The scanning beam irradiation apparatus according to claim 1, wherein the image forming mechanism includes a scanning image storage unit that forms a scanning image based on a detection signal from the detection mechanism and stores the scanning image.
The control mechanism detects a positional deviation between the scan image obtained by the image forming mechanism and the mark and calculates a positional deviation correction coefficient, and a beam misalignment correction coefficient calculation unit that calculates the positional deviation correction coefficient. The scanning beam irradiation apparatus according to claim 1, further comprising a control unit that controls driving of the source and the stage.
The scanning beam irradiation apparatus according to claim 6, further comprising a storage unit that stores the positional deviation correction coefficient.
前記マークは前記各ビーム源の走査ビームの各走査範囲内に設ける走査ビーム用シンボルであり、該走査ビーム用シンボルの走査画像の位置ずれから、走査ビームの座標系においてビーム源の回転方向ずれ、Y軸方向ずれ、X軸方向ずれの少なくともいずれか一つの位置ずれ量を求めることを特徴とする請求項1に記載の走査ビーム照射装置。
With multiple beam sources,
The mark is a scanning beam symbol provided within each scanning range of the scanning beam of each beam source, and from the positional deviation of the scanning image of the scanning beam symbol, the rotational direction deviation of the beam source in the coordinate system of the scanning beam, 2. The scanning beam irradiation apparatus according to claim 1, wherein at least one of the positional deviation amount of the Y-axis direction deviation and the X-axis direction deviation is obtained.
9. The scanning beam irradiation apparatus according to claim 8, wherein the scanning beam symbol includes a horizontal symbol including a straight line in the scanning direction and an oblique symbol including a straight line in an oblique direction with respect to the horizontal symbol. ..
The rotational displacement is obtained from the positional displacement amount of the both ends of the horizontal symbol in the Y-axis direction, and the positional displacement amount in the Y-axis direction of the same portion in the two horizontal symbols of the scan image obtained by the two beam sources is displaced in the Y-axis direction. 10. The scanning beam irradiation apparatus according to claim 9, wherein the X-axis direction deviation is obtained from the positional deviation amount of the same portion in the Y-axis direction in the two diagonal symbols of the scanning image obtained by the two beam sources. ..
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005026721 | 2005-02-02 | ||
JP2005026721 | 2005-02-02 | ||
PCT/JP2006/300804 WO2006082714A1 (en) | 2005-02-02 | 2006-01-20 | Scan beam irradiation device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006082714A1 true JPWO2006082714A1 (en) | 2008-08-07 |
JP4555909B2 JP4555909B2 (en) | 2010-10-06 |
Family
ID=36777103
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007501526A Expired - Fee Related JP4555909B2 (en) | 2005-02-02 | 2006-01-20 | Scanning beam irradiation device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4555909B2 (en) |
KR (1) | KR100893283B1 (en) |
CN (1) | CN101080801B (en) |
TW (1) | TWI290430B (en) |
WO (1) | WO2006082714A1 (en) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4855875B2 (en) * | 2006-09-06 | 2012-01-18 | 富士フイルム株式会社 | Electron beam drawing apparatus and electron beam deviation compensation method |
JP5164355B2 (en) * | 2006-09-27 | 2013-03-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Charged particle beam scanning method and charged particle beam apparatus |
CN102047130B (en) * | 2008-06-02 | 2013-09-04 | 株式会社岛津制作所 | Liquid crystal array inspection apparatus and method for correcting imaging range |
JP5120459B2 (en) * | 2008-10-23 | 2013-01-16 | 株式会社島津製作所 | Particle beam therapy system |
JP5472690B2 (en) * | 2009-06-23 | 2014-04-16 | 株式会社島津製作所 | Scanning beam irradiation device |
JP5788719B2 (en) | 2011-06-09 | 2015-10-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Stage device and control method of stage device |
JP6643072B2 (en) * | 2015-12-10 | 2020-02-12 | キヤノン株式会社 | Microscope system and control method thereof |
CN109166781A (en) * | 2018-09-11 | 2019-01-08 | 镇江乐华电子科技有限公司 | scanning transmission electron microscopic imaging method and system |
JP7238672B2 (en) * | 2019-07-25 | 2023-03-14 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | Multi-beam writing method and multi-beam writing apparatus |
CN111879494B (en) * | 2020-08-10 | 2022-05-17 | 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所 | Low-density wind tunnel flow field space measuring point position calibration method based on electron beam fluorescence |
CN112259469B (en) * | 2020-10-21 | 2022-10-18 | 上海华力集成电路制造有限公司 | Semiconductor device critical dimension measuring method and method for obtaining SEM image |
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JP4690586B2 (en) * | 2000-06-09 | 2011-06-01 | 株式会社アドバンテスト | Mask, electron beam deflection calibration method, electron beam exposure apparatus |
JP2004356276A (en) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Riipuru:Kk | Charged beam proximity lithography method and system |
-
2005
- 2005-12-27 TW TW094146676A patent/TWI290430B/en not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-01-20 CN CN2006800013062A patent/CN101080801B/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-01-20 WO PCT/JP2006/300804 patent/WO2006082714A1/en not_active Application Discontinuation
- 2006-01-20 JP JP2007501526A patent/JP4555909B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-01-20 KR KR1020077008261A patent/KR100893283B1/en not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101080801A (en) | 2007-11-28 |
KR100893283B1 (en) | 2009-04-17 |
KR20070056142A (en) | 2007-05-31 |
WO2006082714A1 (en) | 2006-08-10 |
TW200633496A (en) | 2006-09-16 |
TWI290430B (en) | 2007-11-21 |
CN101080801B (en) | 2010-06-23 |
JP4555909B2 (en) | 2010-10-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100216 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100414 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100518 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100531 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100610 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4555909 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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|
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