JPS647075B2 - - Google Patents

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JPS647075B2
JPS647075B2 JP54070926A JP7092679A JPS647075B2 JP S647075 B2 JPS647075 B2 JP S647075B2 JP 54070926 A JP54070926 A JP 54070926A JP 7092679 A JP7092679 A JP 7092679A JP S647075 B2 JPS647075 B2 JP S647075B2
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JP
Japan
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oxo
compound
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compound according
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JP54070926A
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JPS5519250A (en
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Shinji Hashimoto
Keiji Henmi
Matsuhiko Araya
Shuichi Takeno
Daijiro Hagiwara
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPS5519250A publication Critical patent/JPS5519250A/ja
Publication of JPS647075B2 publication Critical patent/JPS647075B2/ja
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D505/00—Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04—Antibacterial agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
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    • C07D205/095—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a sulfur atom directly attached in position 4 and with a nitrogen atom directly attached in position 3
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07F9/568—Four-membered rings
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Description

【発明の詳細な説明】
この発明は、新規なセフアロスポリン類縁化合
物およびその医薬的に受容し得る塩類に関するも
のである。さらに詳しくいうと、この発明は、抗
微生物活性、特に抗かび活性を有する新規なセフ
アロスポリン類縁化合物およびその医薬的に受容
し得る塩類、ならびにその製造法、それからなる
医薬組成物、および人間および動物における感染
症特にかび感染症に対する治療上の使用方法に関
するものである。 したがつて、この発明の目的は、広範囲の病原
性微生物、特にかびに対して強い活性を有する新
規なセフアロスポリン類縁化合物およびその医薬
的に受容し得る塩類を提供するにある。 この発明の他の目的は、新規なセフアロスポリ
ン類縁化合物およびその医薬的に受容し得る塩類
の製造法を提供するにある。 この発明の別の目的は、上記セフアロスポリン
類縁化合物およびその医薬的に受容し得る塩類を
有効成分とする医薬組成物を提供するにある。 この発明のさらに別の目的は、病原性微生物、
特にかびによりひき起こされた人間および動物に
おける感染症の処理方法を提供するにある。 この発明の目的をなすセフアロスポリン類縁化
合物は新規であつて下記一般式（） （式中、Ｘは−Ｏ−または−Ｓ−、R1はアミ
ノ基またはアシルアミノ基、R2はカルボキシ基
またはエステル化されたカルボキシ基を意味す
る） で示される。 この発明の目的化合物（）およびその関連化
合物（例えば他の目的化合物、原料化合物等）に
おいて、分子内の不斉炭素原子および（または）
二重結合に基づく１種以上の光学異性体および
（または）幾何異性体等の立体異性体が存在し得
るが、これらの異性体もこの発明の範囲に包含さ
れる。このような異性体の詳細は、下記の説明に
よつて明らかにする。 例えば、この発明の目的化合物の縮合β−ラク
タム環における６位において、２種の配置があり
得る。したがつて、Ｘが−Ｏ−である核、および
Ｘが−Ｓ−である核であり、かつ天然セフアロス
ポリン化合物と同一配置を有する核に対してそれ
ぞれ「１−オキサデチア−２−オキソ−３−セフ
エムおよび「２−オキソ−３−セフエム」と命名
される。そして、これらの核はこの明細書を通じ
て下記の式で示される。 （注、式中、〓の記号はβ−配置を意味し、点
線はα配置を意味する。） この発明のセフアロスポリン類縁化合物（）
は、下記の方法により製造することができる。 〔式中、R1aはアシルアミノ基、R1cは保護され
たアミノ基を置換基として有するアシルアミノ
基、R1dはアミノ基を置換基として有するアシル
アミノ基、R2aはエステル化されたカルボキシ
基、R3aが水素原子でR3bが式：
【式】 （式中、R4は低級アルキル基を意味する）で示さ
れる基であるか、またはR3aとR3bが一緒になつ
て式：
【式】（式中、R5は低級アルキル 基、アリール基またはジ（低級）アルキルアミノ
基を意味する）で示される基を意味し、R1、R2
およびＸはそれぞれ前と同じ意味〕 原料化合物（）および（）は新規であり、
例えば下記の図に示す方法により製造することが
できる。
【表】
【表】
【表】
【表】
（式中、R6およびR7はそれぞれ低級アルキル
基、R7′はアルキリデン基、R8およびR9はそれぞ
れヒドロキシ基の保護基、R10はアシル基、Ｙは
ハロゲンを意味し、Ｘ、R1、R1a、R2、R3aおよ
びR3bはそれぞれ前と同じ意味） 目的とするセフアロスポリン類縁化合物（）
の適当な医薬的に受容し得る塩としては、慣用さ
れる非毒性塩を含み、例えば、アルカリ金属塩
（例えばナトリウム塩、カリウム塩等）、アルカリ
土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグネシウム
塩等）のような金属塩、アンモニウム塩等のよう
な無機塩基との塩類、例えば有機アミン塩（例え
ばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピ
リジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン
塩、Ｎ，N′−ジベンジルエチレンジアミン塩）
等のような有機塩基との塩類、有機酸塩（例えば
マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、
ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩
等）、無機酸塩（例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、りん酸塩等）、またはアミノ酸（例えば
アルギニン、アスパラギン酸、リジン、グルタミ
ン酸等）との塩類のようなものが包含され得る。 次に、この発明における定義について詳細に説
明する。 この明細書では、別に規定しない限り、「低級」
なる語は炭素数１ないし６を、また「高級」なる
語は炭素数７ないし18をそれぞれ意味するものと
する。 「エステル化されたカルボキシ基」におけるエ
ステルの例としては、例えば、メチルエステル、
エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピ
ルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステ
ル、第３級ブチルエステル、ペンチルエステル、
第３級ペンチルエステル、ヘキシルエステル、１
−シクロプロピルエチルエステル等の低級アルキ
ルエステル、ビニルエステル、アリルエステル等
の低級アルケニルエステル、ニチニルエステル、
プロピニルエステル等の低級アルキニルエステ
ル、２−ヨードエチルエステル、２，２，２−ト
リクロロエチルエステル等のモノ−、ジ−もしく
はトリハロ（低級）アルキルエステル、アセトキ
シメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエ
ステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリ
ルオキシメチルエステル、ピバロイルオキシメチ
ルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステ
ル、２−アセトキシエチルエステル、２−プロピ
オニルオキシエチルエステル等の低級アルカノイ
ルオキシ（低級）アルキルエステル、２−メシル
エチルエステル等の低級アルカンスルホニル（低
級）アルキルエステル、ベンジルエステル、４−
メトキシベンジルエステル、４−ニトロベンジル
エステル、フエネチルエステル、トリチルエステ
ル、ジフエニルメチルエステル、ビス（メトキシ
フエニル）メチルエステル、３，４−ジメトキシ
ベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ
第３級ブチルベンジルエステル等の１もしくは２
以上の置換基を有してもよいフエニル（低級）ア
ルキルエステルのようなアル（低級）アルキルエ
ステル、フエニルエステル、トリルエステル、第
３級ブチルフエニルエステル、キシリルエステ
ル、メシチルエステル、クメニルエステル等の１
もしくは２以上の置換基を有していてもよいアリ
ールエステル等が挙げられる。 「保護されたアミノ基を置換基として有するア
シルアミノ基」における「保護されたアミノ部
分」としては、アシルアミノ基およびアル（低
級）アルキルのようなアシル以外の慣用される保
護基で置換されたアミノ基が含まれる。 「アシル基」、および「アシルアミノ基」にお
ける「アシル部分」としては、カルバモイル基、
脂肪族アシル、芳香族アシルおよび複素環アシル
を包含する。ここで、芳香族アシルおよび複素環
アシルは、それぞれ芳香環または複素環を含むア
シルを意味する。このように定義されたアシル基
の具体例は次のとおりである。 「脂肪族アシル」としては例えば、ホルミル、
アセチル、サクシニル、ヘキサノイル、ヘプタノ
イル、ステアロイル等の低級または高級アルカノ
イル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、第３級ブトキシカルボニル、第３級ペンチル
オキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル等
の低級または高級アルコキシカルボニル基、およ
びメタンスルホニル、エタンスルホニル等の低級
または高級アルカンスルホニル基などが挙げられ
る。 「芳香環を含むアシル」としては例えば、ベン
ゾイル、トルオイル、ナフトイル等のアロイル
基、フエニルアセチル、フエニルプロピオニル等
のアル（低級）アルカノイル基、フエノキシカル
ボニル、ナフチルオキシカルボニル等のアリール
オキシカルボニル基、フエノキシアセチル、フエ
ノキシプロピオニル等のアリールオキシ（低級）
アルカノイル基、フエニルグリオキシロイル、ナ
フチルグリオキシロイル等のアリールグリオキシ
ロイル基、ベンジルオキシカルボニル基、ジフエ
ニルメトキシカルボニル基等のアル（低級）アル
コキシカルボニル基、ベンゼンスルホニル、パラ
トルエンスルホニル等のアレーンスルホニル基等
が挙げられる。 「複素環を含むアシル」としては例えば、テノ
イル、フロイル、ニコチノイル等の複素環、カル
ボニル基、チエニルアセチル、チアゾリルアセチ
ル、テトラゾリルアセチル等の複素環（低級）ア
ルカノイル基、チアゾリルグリオキシロイル、チ
エニルグリオキシロイル等の複素環グリオキシロ
イル基などが挙げられる。 上記した「複素環カルボニル基」、「複素環（低
級）アルカノイル基」および「複素環グリオキシ
ロイル基」における「複素環部分」は窒素原子、
硫黄原子および酸素原子等から選ばれた少なくと
も１つの複素原子を含む、飽和もしくは不飽和の
単環もしくは多環の複素環式基であり、そのよう
な複素環式基のうち好ましいものとしては例え
ば、ピロリル基、ピロリニル基、イミダゾリル
基、ピラゾリル基、ピリジン基およびそのＮ−オ
キシド、ジヒドロピリジル基、ピリミジニル基、
ピラジニル基、ピリダジニル基、4H−１，２，
４−トリアゾリル、1H−１，２，３−トリアゾ
リル、2H−１，２，３−トリアゾリル等のトリ
アゾリル基、1H−テトラゾリル、2H−テトラゾ
リル等のテトラゾリル基等の１〜４個の窒素原子
を含有する３〜８員不飽和単環複素環式基、ピロ
リジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペ
ラジニル等の１〜４個の窒素原子を含有する３〜
８員飽和単環複素環式基、インドリル基、イソイ
ンドリル基、インドリジニル基、ベンズイミダゾ
リル基、キノリル基、イソキノリル基、インダゾ
リル基、ベンゾトリアゾリル基等の１〜４個の窒
素原子を含有する不飽和縮合複素環式基、オキサ
ゾリル基、イソオキサゾリル基、１，２，４−オ
キサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリ
ル、１，２，５−オキサジアゾリル等のオキサジ
アゾリル基等の１〜２個の酸素原子および１〜３
個の窒素原子を含有する３〜８員不飽和単環複素
環式基、モルホリニル、シドノニル等の１〜２個
の酸素原子および１〜３個の窒素原子を含有する
３〜８員飽和単環複素環式基、ベンズオキサゾリ
ル、ベンズオキサジアゾリル等の１〜２個の酸素
原子および１〜３個の窒素原子を含有する不飽和
縮合複素環式基、チアゾリル基、イソチアゾリル
基、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−
チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、
１，２，５−チアジアゾリル等のチアジアゾリル
基、ジヒドロチアジアジリル等の１〜２個の硫黄
原子および１〜３個の窒素原子を含有する３〜８
員不飽和単環複素環式基、チアゾリジニル等の１
〜２個の硫黄原子および１〜３個の窒素原子を含
有する３〜８員飽和単環複素環式基、チエニル
基、ジヒドロジチイニル基、ジヒドロジチオリル
基等の１〜２個の硫黄原子を含有する３〜８員不
飽和単環複素環式基、ベンゾチアゾリル、ベンゾ
チアジアゾリル等の１〜２個の硫黄原子および１
〜３個の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環式
基、フリル基等の酸素原子を含有する３〜８員不
飽和単環複素環式基、ジヒドロオキサチイニル基
等の酸素原子および１〜２個の硫黄原子を含有す
る３〜８員不飽和単環複素環式基、ベンゾチエニ
ル基、ベンゾジチイニル基等の１〜２個の硫黄原
子を含有する不飽和縮合複素環式基、ベンゾオキ
サチイニル基等の酸素原子および１〜２個の硫黄
原子を含有する不飽和縮合複素環式基等が挙げら
れる。 前記のアシル部分は、１〜10個の同じかまたは
異なつた適当な置換基を有していてもよい。これ
らの適当な置換基としては、例えば低級アルキル
基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等の低級ア
ルコキシ基、メチルチオ、エチルチオ等の低級ア
ルキルチオ基、メチルアミノ等の低級アルキルア
ミノ基、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシ
クロ（低級）アルキル基、シクロヘキセニル、シ
クロヘキサジエニル等のシクロ（低級）アルケニ
ル基、ハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ
基、ヒドロキシ基、保護されたヒドロキシ基、シ
アノ基、ニトロ基、カルボキシ基、保護されたカ
ルボシキ基、スルホ基、スルフアモイル基、イミ
ノ基、オキソ基、アミノメチル、アミノエチル等
のアミノ（低級）アルキル基、式＝Ｎ−OR11〔式
中、R11は水素原子、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル
等の低級アルキル基、ビニル、アリル、２−ブテ
ニル等の低級アルケニル基、エチニン、２−プロ
ピニル等の低級アルキニル基、またはシクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシク
ロ（低級）アルキル基等を意味する〕で示される
基等が挙げられる。 上記したアシル部分が式：＝Ｎ−OR11（式中、
R11は前と同じ意味）で示される基を置換基とし
て有する場合には、その二重結合に由来する幾何
異性体（シン異性体およびアンチ異性体）が存在
する。例えばシン異性体とは式 で示される基を有する幾何異性体を意味し、アン
チ異性体とは式 で示される基を有するもう一方の幾何異性体を意
味する。 「低級アルキル基」としては直鎖もしくは分岐
鎖状の飽和脂肪族炭化水素残基が含まれ、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、第３級ブチル、ペンチル、
ヘキシル等が挙げられるが、炭素数１ないし２の
ものが好ましい。 「アリール基」としては例えば、フエニル、ト
リル、キシリル、メシチル、クメニル、ナフチル
等が挙げられる。 「ジ（低級）アルキルアミノ基」としては例え
ば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピ
ルアミノ、メチルエチルアミノ等が挙げられる。 「アルキリデン基」としては直鎖もしくは分岐
鎖状の二価飽和脂肪族炭化水素残基が含まれ、例
えばメチレン、エチリデン、プロピリデン、イソ
プロピリデン、ブチリデン、イソブチリデン、第
３級ブチリデン、ペンチリデン、ヘキシリデン等
が挙げられる。 「ヒドロキシ保護基」には、アシル基および前
記したアル（低級）アルキルのようなアシル以外
の慣用される保護基が含まれる。 「ハロゲン原子」には、塩素原子、臭素原子、
ふつ素原子およびよう素原子が含まれる。 R1の好ましい例としてはアミノ基およびアシ
ルアミノ基、さらに好ましくはアミノ基、アリー
ルオキシ（低級）アルカノイルアミノ基、最も好
ましくは例えばフエノキシアセトアミド、フエノ
キシプロピオンアミド等のフエノキシ（低級）ア
ルカノイルアミノ基、アル（低級）アルコキシカ
ルボニルアミノ基、最も好ましくは例えばベンジ
ルオキシカルボニルアミノ、フエネチルオキシカ
ルボニルアミノ等のフエニル（低級）アルコキシ
カルボニルアミノ基、低級アルコキシイミノ基を
置換基として有していてもよいアル（低級）アル
カノイルアミノ基、最も好ましくは例えばフエニ
ルアセトアミド、フエニルプロピオンアミド、２
−メトキシイミノ−２−フエニルアセトアミド、
２−エトキシイミノ−２−フエニルアセトアミ
ド、２−プロポキシイミノ−２−フエニルアセト
アミド、２−イソプロポキシイミノ−２−フエニ
ルアセトアミド、２−ブトキシイミノ−２−フエ
ニルアセトアミド、２−ペンチルオキシイミノ−
２−フエニルアセトアミド、２−ヘキシルオキシ
イミノ−２−フエニルアセトアミド等の低級アル
コキシイミノ基を置換基として有していてもよい
フエニル（低級）アルカノイルアミノ基、低級ア
ルコキシイミノ基を置換基として有していてもよ
い複素環（低級）アルカノイルアミノ基、最も好
ましくは例えば２−メトキシイミノ−２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド、２
−メトキシイミノ−２−（２−ホルムアミドチア
ゾール−４−イル）アセトアミド、２−エトキシ
イミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド、２−プロポキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド、
２−イソプロポキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド、２−ブトキ
シイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド、２−ペンチルオキシイミノ−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド、２−ペンチルオキシイミノ−２−（２−
ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド、２−ヘキシルオキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド等の低級
アルコキシイミノ基およびアミノ基もしくは低級
アルカノイルアミノ基を置換基として有するチア
ゾリル（低級）アルカノイルアミノ基が挙げら
れ、R2の好ましい例としてはカルボキシ基およ
びアル（低級）アルコキシカルボニル基、さらに
好ましくは例えばベンジルオキシカルボニル、フ
エネチルオキシカルボニル等のフエニル（低級）
アルコキシカルボニル基が挙げられる。 次にこの発明の目的化合物の製造法について詳
細に説明する。 方法 １ この発明の目的化合物（ａ）またはその塩類
は、化合物（）もしくはそのホルミル基におけ
る反応性誘導体またはその種類を閉環反応に付す
ことにより製造される。 化合物（）の塩類としては、酢酸塩、マレイ
ン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トル
エンスルホン酸塩等の有機酸との塩、塩酸塩、臭
化水素酸塩、硫酸塩、りん酸塩等の無機酸との塩
等の酸付加塩、またナトリウム塩、カリウム塩、
カリシウム塩、マグネシウム塩等の金属塩、アン
モニウム塩等の無機塩基との塩、トリエチルアミ
ン塩、ジシクロヘキシルアミン塩等の有機アミン
塩などが挙げられる。 化合物（）のホルミル基における反応性誘導
体としては、慣用されるホルミル基における慣用
される反応性誘導体およびこの反応で化合物
（）と均等の作用を有している反応性誘導体等
が包含される。適当な反応性誘導体としては例え
ば、ジメチルアセタール、ジエチルアセタール等
のアセタール、ヘミアセタール、水化物（オルト
アルデヒドまたはジエムージオール）、チオアセ
タール、ヘミチオアセタール、モノ（またはジ）
アシル化されたジオール等が挙げられる。 R3aおよびR3bが一緒になつて式＝Ｐ（R5）3（式
中、R5は前と同じ意味）で示される基である化
合物（）を原料化合物として用いる場合には、
この反応は通常中性条件下または下記のような塩
基の存在下に行われることが多い。この反応は、
通常、溶媒中で行なわれ、その溶媒としては、ベ
ンゼン、塩化メチレン、ジメチルスルホキシド、
酢酸エチル、テトラヒドロフラン、その他この反
応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられ
る。反応温度は特に限定されないが、通常、室温
ないしは加温下に行なわれることが多い。 R3aが水素原子でR3bが式
【式】（式 中、R4は前と同じ意味）で示される基である化
合物（）を原料化合物として用いる場合、この
反応は好ましくは、強塩基の存在下に行われる。
このような塩基としては例えば、水素化ナトリウ
ム、水素化リチウム等の水素化アルカリ金属、水
素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、ナ
トリウム第３級ブトキサイド、カリウム第３級ブ
トキシサイド等のアルカリ金属第３級アルコキサ
イド、トリチルナトリウム、トリチルリチウム等
のアル（低級）アルキルアルカリ金属、フエニル
リチウム等のアリールアルカリ金属等が挙げられ
る。この反応は、通常、溶媒中で行われ、その溶
媒としては、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、その他この反応に悪影響を及ぼさない
すべての溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定
されないが、通常、室温ないし加熱下に行われる
ことが多い。 方法 ２ この発明の目的化合物（ａ）またはその塩類
は、化合物（）もしくはそのヒドロキシメチル
基における反応性誘導体またはその種類を酸化す
ることにより製造される。 化合物（）の塩類としては、化合物（）の
塩類として例示したものと同種の塩類が挙げられ
る。 化合物（）のヒドロキシメチル基における反
応性誘導体としては、化合物（）のヒドロキシ
メチル基が酸残基を有するメチル基に変わること
により得られる化合物を意味し、そのような酸残
基としては例えば、クロル、ブロム等のハロゲ
ン、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、ｐ−ニトロ
ベンゼンスルホニルオキシ等のアレンスルホニル
オキシ基、クロロホルミルオキシ等のハロホルミ
ルオキシ基などが挙げられる。 この酸化反応で用いられる酸化剤としては、ヒ
ドロキシメチル基またはその反応性誘導体をホル
ミル基に酸化するのに慣用される試剤が挙げられ
る。 原料化合物が、そのアゼチジノン環の４位に２
−ヒドロキシアセトキシ基を有する場合、その酸
化剤としては、 (1) ジメチルスルホキシドおよびジシクロヘキシ
ルカルボジイミド、ジメチルスルホキシドおよ
び無水酢酸、ジメチルスルホキシドおよび５酸
化燐、ジメチルスルホキシドおよび３酸化硫黄
−ピリジン、ジメチルスルホキシドおよびケテ
ンイミン、ジメチルスルホキシドおよび塩素、
ジメチルスルホキシドおよび酢酸水銀、ジメチ
ルスルホキシドおよびＮ−クロロスクシンイミ
ド、ジメチルスルフイド（またはメチルフエニ
ルスルフイド）および塩素等の反応により生成
される活性ジメチルスルホキシド、 (2) ３酸化クロム−ピリジン、３酸化クロム−硫
酸２クロム酸ナトリウム、２クロム酸カリウム
等の２クロム酸アルカリ金属塩、クロム酸第３
級ブチル等のクロム酸低級アルキル等のクロム
化合物などが挙げられる。 ジメチルスルホキシドおよびジシクロヘキシル
カルボジイミドを用いる酸化反応は、プロトン供
与体の存在下に行うのが好ましく、そのようなプ
ロトン供与体としては例えば、燐酸、トリフルオ
ロ酢酸、ジクロロ酢酸等の酸、トリフルオロ酢酸
−ピリジン、燐酸−ピリジン等の酸および塩基の
混合物等が挙げられる。 この酸化反応は酸または塩基の存在下または不
存在下に行つてもよく、それらは用いられる酸化
剤の種類によつて適宜選択される。 この反応は、溶媒の存在下または無溶媒下に行
われ、溶媒としては、ベンゼン、トルエン、クロ
ロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、ジエチル
エーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、その他この反応に悪影響を及ぼさない
すべての溶媒が挙げられ、その溶媒は用いる酸化
剤の種類によつて適宜選択される。 この反応の原料化合物が、そのヒドロキシメチ
ル基の反応性誘導体の形で用いられる場合には、
適当な酸化剤としてジメチルスルホキシド等が挙
げられる。この酸化反応は、炭酸水素ナトリウ
ム、トリエチルアミン等の塩基の存在下に行われ
るのが好ましい。 この酸化反応工程における反応温度は特に限定
されず、冷却、室温、加温または加熱下のいずれ
で反応が行われてもよい。また、反応温度は例え
ば用いる酸化剤の種類によつて適宜選択される。 この酸化反応により、一般式（）で示される
化合物が生成するが、この化合物（）は単離す
ることなく、即座に方法１による閉環反応に付
し、目的化合物（ａ）を得ることができる。 方法 ３ 目的化合物（ｃ）またはその塩類は化合物
（ｂ）またはその塩類を７−アシル基の脱離反
応に付すことにより製造される。 化合物（ｂ）の塩類としては、前記したよう
な金属塩、アンモニウム塩または有機アミン塩等
が挙げられる。 この脱離反応には、加水分解、還元、ルイス酸
を用いる脱離、化合物（ｂ）にイミノハロゲン
化剤、ついでイミノエーテル化剤を作用させた
後、必要に応じて加水分解する方法等のアシル基
の脱離方法として慣用される方法が適用される。 加水分解には、酸、塩基またはヒドラジンを用
いる方法が含まれる。これらの方法は、脱離する
保護基の種類に応じて適宜選択される。 これらの方法の中、酸を使用する加水分解は一
般的な好ましい方法の１つであり、例えば第３級
ペンチルオキシカルボニルの様な置換もしくは非
置換アルコキシカルボニル基、ホルミルの様なア
ルカノイル基、シクロアルコキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル、置換ベンジルオキシ
カルボニルの様な置換もしくは非置換アラルコキ
シカルボニル基、等の基の脱離に適用される。ま
た使用される酸としては、ぎ酸、トリフルオロ酢
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、塩酸等の有機および無機の酸が挙げられる。
好ましい酸は、例えばぎ酸、トリフルオロ酢酸、
塩酸等のように、反応混合物から減圧蒸留のよう
な常法により容易に除去できる酸である。これら
の酸は脱離されるアシル基の種類に応じて適宜選
択される。この脱離反応で酸を使用する場合に
は、溶媒中もしくは無溶媒下で行なわれる。溶媒
としては、有機溶媒、水もしくはそれらの混合溶
媒が用いられる。またトリフルオロ酢酸を用いる
場合はアニソールの存在下に反応を行うのが好ま
しい。 また、アシル基は一般に通常の加水分解による
脱離される。アシル基がハロゲン置換アルコキシ
カルボニル基または８−キノリルオキシカルボニ
ル基の場合には、銅、亜鉛等の重金属で処理する
ことにより脱離される。 還元的脱離方法は、例えばトリクロロエトキシ
カルボニルの様なハロアルコキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル、置換ベンジルオキシ
カルボニルの様な置換もしくは非置換アラルコキ
シカルボニル基、２−ピリジルメトキシカルボニ
ル等の基の脱離に適用される。還元的脱離方法と
しては、例えば水素化ほう素ナトリウムの様な水
素化ほう素アルカリ金属による還元方法、接触還
元等が挙げられる。 ルイス酸を用いる脱離反応は、方法５で説明す
るのと実質的に同様の方法で行われる。 前記の方法において使用されるイミノハロゲン
化剤としては、例えば３塩化燐、５塩化燐、３臭
化燐、５臭化燐等のハロゲン化燐、オキシ塩化
燐、塩化チオニル、ホスゲン等が挙げられる。こ
の反応温度は特に限定されないが、通常室温ない
し冷却下で行なわれることが多い。このようにし
て得られる反応生成物に作用させるイミノエーテ
ル化剤としては、アルコール類もしくは金属アル
コキサイド類が挙げられ、アルコールとしてメタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパ
ノール、ブタノール、第３級ブタノール等のアル
カノール類またはこれらのアルキル部分がメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ等のアルコキシ基等で置換された化合物が
挙げられ、金属アルコキサイド類としては、ナト
リウムアルコキサイド、カリウムアルコキサイド
等のアルカリ金属アルコキサイドおよびカルシウ
ムアルコキサイド、バリウムアルコキサイド等の
アルカリ土類金属アルコキサイドなどが例示され
る。反応温度は特に限定されないが、通常、冷却
下〜室温で行なわれる。 このようにして得られる反応生成物を必要に応
じて加水分解反応に付する。加水分解反応は、前
段で得られる反応液をそのまま水中へ注入すれば
充分進行するが、メタノール、エタノール等の親
水溶媒、炭酸水素アルカリ金属、トリアルキルア
ミン等の塩基もしくは希塩酸、酢酸等の酸を予め
水に添加しておいてもよい。 反応温度は特に限定されず、例えばアシル基の
種類、脱離方法の種類等に応じて適宜選択される
が、冷却下、室温ないしやや加温程度の緩和な条
件で行なわれることが望ましい。 この反応では、反応中または後処理中に、反応
条件によりエステル化されたカルボキシ基が遊離
のカルボキシ基に転じることがあるが、これらも
この発明の範囲に含まれる。 方法 ４ この発明の目的化合物（ｄ）またはその塩類
は、化合物（ｃ）もしくはそのアミノ基におけ
る反応性誘導体またはそれらの塩類をアシル基の
導入反応に付すことにより製造される。 化合物（ｃ）のアミノ基における反応性誘導
体としては、例えば、化合物（ｃ）とアルデヒ
ド、ケトン等のカルボニル化合物との反応により
生成するシツフの塩基型イミノ誘導体もしくはそ
の互変異性のエナミン型の誘導体、イソシアネー
ト、化合物（ｃ）とビス（トリメチルシリル）
アセトアミド、トリメチルシリルアセトアミド等
のシリル化合物との反応により生成するシリル誘
導体または化合物（ｃ）と３塩化燐、ホスゲン
等との反応により生成する誘導体等の慣用される
ものが包含される。 化合物（ｃ）の塩類としては、化合物（）
の塩類として例示したものと同種の塩類が挙げら
れる。 このアミノ基へのアシル基導入反応は、化合物
（ｃ）もしくはそのアミノ基における反応性誘
導体またはそれらの塩類に、アシル化剤を反応さ
せることにより行われる。 この反応で用いられるアシル化剤としては、一
般式：R12−OH（）（式中、R12はアシル基
を意味する）で示される化合物もしくはその反応
性誘導体、またはその塩類が包含される。 化合物（）もしくはその反応性誘導体ま
たはその塩類をアミノ基へのアシル基導入剤とし
て用いると、アシル基R12が化合物（ｃ）の７
位のアミノ基に導入される。適当なアシル基とし
ては、前に例示したものが含まれる。 化合物（）のカルボキシ基における反応
性誘導体としては、例えば酸ハライド、酸無水
物、活性アミド、活性エステル等が挙げられる
が、さらに詳細には酸クロリド、酸アジド、ジア
ルキルりん酸、フエニルりん酸、ジフエニルりん
酸、ジベンジルりん酸、ハロゲン化りん酸等の置
換りん酸、ジアルキル亜りん酸、亜硫酸、チオ硫
酸、硫酸、アルキル炭酸、脂肪族カルボン酸（た
とえばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン
酸、２−エチルブタン酸、トリクロル酢酸）、芳
香族カルボン酸（たとえば安息香酸）等の酸との
混合酸無水物、対称形酸無水物等の酸無水物、イ
ミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピ
ラゾール、トリアゾール、テトラゾールなどとの
活性酸アミド、シアノメチルエステル、メトキシ
メチルエステル、ジメチルイミノメチル
〔（CH3）2N＋＝CH−〕エステル、ビニルエステ
ル、プロパルギルエステル、ｐ−ニトロフエニル
エステル、２，４−ジニトロフエニルエステル、
トリクロロフエニルエステル、ペンタクロロフエ
ニルエステル、メシルフエニルエステル、フエニ
ルアゾフエニルエステル、フエニルチオエステ
ル、ｐ−ニトロフエニルチオエステル、ｐ−クレ
ジルチオエステル、カルボキシメチルチオエステ
ル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペ
リジルエステル、８−キノリルチオエステル、ま
たはＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、１−
ヒドロキシ−２−（1H）−ピリドン、Ｎ−ヒドロ
キシサクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミ
ド、１−ヒドロキシ−６−クロロ−1H−ベンゾ
トリアゾール等とのエステル等の活性エステル類
等が挙げられ、これらの反応性誘導体は使用する
化合物（）の種類に応じて適宜選択され
る。 化合物（）の塩類としては、前記したよ
うなアルカリ金属塩（例えばナトリウムまたはカ
リウム塩）、アルカリ土類金属塩（例えばカルシ
ウムまたはマグネシウム塩）等の無機塩基との
塩、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミン等の有機塩基との塩等が挙げ
られる。 化合物（ｃ）と化合物（）の反応は通
常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレ
ン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ピリジンまたはその他の
反応に悪影響を及ぼさない一般有機溶媒等の慣用
溶媒中で行なわれ、これらのうち、親水性の溶媒
は水と混合して使用することもできる。 この反応において化合物（）を遊離酸も
しくはその塩の状態で使用する際は、たとえば、
Ｎ，N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ
−シクロヘキシル−N′−モルホリノエチルカル
ボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−N′−（４−ジ
エチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド、
Ｎ，N′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，N′−ジ
イソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−
N′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイ
ミド等のカルボジイミド類、Ｎ，N′−カルボニ
ルビス（２−メチルイミダゾール）、ペンタメチ
レンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン、ジフエ
ニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン、アルコ
キシアセチレン、１−アルコキシ−１−クロロエ
チレン、亜りん酸トリアルキルエステル、ポリり
ん酸エチルエステル、ポリりん酸イソプロピルエ
ステル、オキシ塩化りん、３塩化りん、塩化チオ
ニル、塩化オキサリル、トリフエニルホスフイ
ン、Ｎ−エチルベンズイソキサゾリウム塩、Ｎ−
エチル−５−フエニルイソキサゾリウム−3′−ス
ルホナート、１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニ
ルオキシ）−６−クロロ−1H−ベンゾトリアゾー
ル、ジメチルホルムアミドおよびオキシ塩化燐か
ら製造される（クロロメチレン）ジメチルアンモ
ニウムクロリド等のビルスマイヤー試薬等の慣用
縮合剤の存在下に行なうのが有利である。 また、この反応は炭酸水素アルカリ金属、炭酸
アルカリ金属、トリ（低級）アルキルアミン、ピ
リジン、Ｎ−（低級）アルキルモルホリン、Ｎ，
Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジ（低級）アルキルアニリン等の無機もしくは
有機の塩基の存在下に行なつてもよい。また、塩
基または縮合剤が液体の場合には、溶媒を兼ねて
使用することができる。反応温度は特に限定され
ないが、通常冷却下ないし室温で行われることが
多い。 この反応において、化合物（）として
R12のアシル基が式：＝Ｎ−OR11（式中R11は前と
同じ意味）で示される基を有するものを用いる場
合には、その活性化処理中または化合物（ｃ）
との反応中に、反応条件等の環境によつて、シン
およびアンチ幾何異性体の間で部分的またはほぼ
完全な異性化が起ることがある。一般に、この異
性化はより安定なアンチ異性体に向かつて平衡が
傾いている。このような化合物（）の化学
的特性を考えると、目的化合物（ｄ）のシン異
性体を選択的かつ高収率に得るためには、原料化
合物（）としてシン異性体を用い、しかも
シン異性体を選択的かつ高収率に得るのに適した
反応条件を選択する必要がある。例えば、この目
的のために、この方法のアシル化反応をビルスマ
イヤー試薬等の縮合剤の存在下に中性附近等の反
応条件下で、化合物（ｃ）と（）を反応
させることにより行なうのが好ましい。 方法 ５ 目的化合物（ｇ）またはその塩類は、化合物
（ｆ）またはその塩類をエステルの脱離反応に
付すことにより製造される。 化合物（ｆ）の塩類としては、化合物（）
の酸付加塩として例示されたものと同種の塩類が
挙げられる。 この脱離反応には、加水分解、還元、ルイス酸
を用いる脱離方法等のエステルの脱離方法として
慣用されるすべての方法が適用できる。加水分解
は塩基または酸の存在下に行なうのが好ましい。 使用される酸としては、ぎ酸、酢酸、プロピオ
ン酸等の有機酸および塩酸、臭化水素酸、硫酸等
の無機酸等が挙げられる。 この加水分解反応は、通常、有機溶媒、水また
はそれらの混合溶媒中で行われる。 反応温度は特に限定されず、脱離されるエステ
ルの種類および脱離方法に従つて、適宜選択され
る。 ルイス酸を用いる脱離方法は、置換または非置
換アル（低級）アルキルエステルの脱離に適して
おり、化合物（ｆ）またはその塩類をルイス酸
と反応させることにより行われる。このようなル
イス酸としては例えば、３塩化ほう素、３ふつ化
ほう素等の３ハロゲン化ほう素、４塩化チタン、
４臭化チタン等の４ハロゲン化チタン、４塩化
錫、４臭化錫等の４ハロゲン化錫、塩化アルミニ
ウム、臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニ
ウム、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の３
ハロゲン化酢酸等が挙げられる。この脱離反応は
アニソール、フエノール等の陽イオントラツピン
グ剤の存在下に行なうのが好ましく、また通常、
溶媒中で行われる。溶媒としては、ニトロメタ
ン、ニトロエタン等のニトロアルカン、塩化メチ
レン、塩化エチレン等のハロゲン化アルキレン、
ジエチルエーテル、２硫化炭素、その他この反応
に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられ
る。さらに、これらの溶媒は混合してもよい。反
応温度は特に限定されないが、通常、冷却下、室
温ないしは加温下に行われることが多い。 還元による脱離方法は、２−ヨードエチル、
２，２，２−トリクロロエチル等のハロ（低級）
アルキル、エステル等の保護基を脱離するのに適
している。 この還元による脱離方法としては例えば、亜
鉛、亜鉛アマルガム等の金属または塩化第１クロ
ム、酢酸第１クロム等のクロム化合物の塩類と酢
酸、プロピオン酸、塩酸等の有機または無機酸と
を組み合わせて用いる還元、および慣用する金属
触媒の存在下に行う接触還元等の方法が挙げられ
る。 このエステルの脱離反応において、反応中また
は後処理中に、反応条件およびエステルの種類等
により、（ｆ）の保護されたアミノ基および／
またはエステル化されたカルボキシ基が遊離のア
ミノ基およびまたはカルボキシ基に変わる場合が
あるが、これらもすべてこの発明の範囲に含まれ
る。 方法 ６ 目的化合物（ｉ）またはその塩類は、化合物
（ｈ）またはその塩類をアミノ保護基の脱離反
応に付すことにより製造される。 化合物（ｈ）の塩類としては、化合物（）
の塩類として例示したものと同種の塩類が挙げら
れる。 この脱離反応は、方法３で説明したのと実質的
に同様の方法で行われる。 この反応において、反応中または後処理中に、
反応条件等により、エステル化されたカルボキシ
基が遊離のカルボキシ基に変わる場合があるが、
これらもこの発明の範囲に含まれる。 前記した反応において、上記反応中または後処
理中に、前記した幾何異性体および／または互変
異性体が他方の幾何異性体および／または互変異
性体に変わる場合があるが、これらの場合もこの
発明の範囲に含まれる。 この発明において、目的化合物（）が遊離の
カルボキシ基および／または遊離のアミノ基を有
する場合には、常法により前記した医薬的に受容
し得る塩類に導くことができる。 次にこの発明の原料化合物の製造法について説
明する。 化合物（）、（XI）、（XII）、（）、（
）、
（）、（XI）、（）、（ａ）、（

ｂ）、（）、（ａ）、（）、（

ａ）、（）および（）の塩類として
は、化合物（）について例示したのと同種の塩
類が挙げられる。 化合物（）、（）、（）、（）、（）、（
）、
（XI）、（）、（）、（）、（）、（
XI）
および（）の塩類としては、化合物（Ib）
について例示したのと同種の塩類が挙げられる。 化合物（）および（）のカルボキシ基に
おける反応性誘導体としては、例えば方法４で説
明した酸ハライド、酸無水物、活性アミド、活性
エステル等が挙げられる。 製造法 Ａ １ （）＋（）→（）〔方法Ａ−１〕、（）＋
（）→（）〔方法Ａ−１〕および（
）→（ａ）〔方法Ａ−１〕 化合物（）および（）またはそれらの塩類
は、化合物（）またはその塩類に化合物（）
もしくはそのカルボキシ基における反応性誘導体
またはその塩類を反応させるか、または化合物
（）またはその塩類に化合物（XI）もしくは
そのカルボキシ基における反応性誘導体またはそ
の塩類を反応させることによりそれぞれ製造さ
れ、化合物（ａ）またはその塩類は、化合
物（）もしくはそのアミノ基における反応性
誘導体またはその塩類をアシル基の導入反応に付
すことにより製造される。この反応は、方法４で
説明したのと実質的に同様の方法で行われる。 ２ （）＋（XI）→（XII）〔方法Ａ−１〕 化合物（XII）またはその塩類は、化合物（）
またはその塩類に化合物（XI）もしくはそのヒド
ロキシ基における反応性誘導体またはその塩類を
反応させることにより製造される。 化合物（XI）のヒドロキシ基における反応性誘
導体としては、化合物（）の反応性誘導体
として例示したものが挙げられる。この反応は、
方法４で説明したのと実質的に同様の方法で行わ
れる。 製造法 Ｂ （）→（）〔方法Ａ−１〕、（）→（
）〔方法Ａ−３〕および（XI）→（）
〔方法Ｃ〕 化合物（）、（）および（）またはそれ
らの塩類は、化合物（）、（）および（XI
）またはそれらの塩類をヒドロキシ保護基の脱
離反応に付すことによりそれぞれ製造される。 この脱離反応は、加水分解、還元、ルイス酸を
用いる脱離反応のような慣用の方法に従つて行わ
れる。この方法は、方法５で説明したのと実質的
に同様の方法で行われる。 製造法 Ｃ （）→（）〔方法Ａ−１〕および（）
→（）〔方法Ａ−２〕 化合物（）および（）またはそれらの塩類
は、化合物（）および（）またはそれらの
塩類をヒドロキシ保護基の導入反応に付すことに
よりそれぞれ製造される。 導入方法はヒドロキシ基に導入される保護基の
種類によつて変わる。アシル基が導入される場合
には、この反応は方法４で説明したのと実質的に
同様の方法で行われる。反応は通常溶媒中で行わ
れ、その溶媒としては塩化メチレン、その他この
反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げら
れる。反応温度は特に限定されないが、通常冷却
下または室温で行われることが多い。 製造法 Ｄ （）→（）〔方法Ａ−１〕、（）→（）
〔方法Ａ−２〕および（）→（）〔方法Ａ
−３〕 化合物（）、（）および（）またはそ
れらの塩類は、化合物（）、（）および（）
またはそれらの塩類をハロゲン化することにより
それぞれ製造される。 この反応は、例えば塩素、臭素等のハロゲンの
ようなハロゲン化剤を用いて行われる。この反応
は、通常慣用される溶媒中で行われ、その溶媒と
しては、塩化メチレン、クロロホルム、その他こ
の反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げ
られる。反応温度は特に限定されないが、通常冷
却下または室温で行われることが多い。 製造法 Ｅ （）→（）〔方法Ａ−１〕、（）→（
）〔方法Ａ−２〕および（）→（）
〔方法Ａ−３〕 化合物（）、（）および（）またはそ
れらの塩類は、化合物（）、（XI）および（
）またはそれらの塩類を閉環反応に付すことに
よりそれぞれ製造される。 この反応は、無機金属塩の存在下に行なうのが
好ましく、無機金属塩としては、例えば４ふつ化
ほう素酸銀、過塩素酸銀等の銀塩、塩化錫、塩化
亜鉛等が挙げられる。また、この反応は、例えば
酸化銀等の塩基の存在下に行なうことができる。
この反応は、通常溶媒中で行われ、その溶媒とし
ては、塩化メチレン、トルエン、クロロホルム、
その他この反応に悪影響を及ぼさないすべての溶
媒が挙げられる。反応温度は特に限定されない
が、通常冷却下または室温で行われることが多
い。 製造法 Ｆ （）→（）〔方法Ａ−１〕および（XII）
→（ａ）〔方法Ａ−１〕 化合物（）および（ａ）またはそれ
らの塩類は、化合物（）および（XII）またはそ
れらの塩類を開環反応に付すことによりそれぞれ
製造される。 この反応は、例えば、特に酸を用いる、加水分
解のような慣用される方法によつて行われる。酸
としては、方法３で例示したもののほか、ｄ−樟
脳スルホン酸が挙げられる。この反応は、通常慣
用される溶媒中で行われ、その溶媒としては、塩
化メチレン、アセトン、その他この反応に悪影響
を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応温
度は特に限定されないが、通常冷却下、室温また
は加温下に行われることが多い。 製造法 Ｇ （）＋（）→（）〔方法Ｂ−１〕お
よび（XII）＋（）→（）〔方法Ｂ−
２〕 化合物（）またはその塩類および化合物
（）は、化合物（）またはその塩類
および化合物（XII）に化合物（）もしくは
そのカルボキシ基における反応性誘導体またはそ
の塩類を反応させることによりそれぞれ製造され
る。 反応条件は、方法４について説明したのとほぼ
同様である。 製造法 Ｈ （）→（ｂ）〔方法Ｂ−１〕 化合物（ｂ）またはその塩類は、化合物
（）またはその塩類を異性化させることによ
り製造される。 この反応は、方法４で例示した塩基の存在下に
行われる。この反応は、通常慣用される溶媒中で
行われ、その溶媒としては、ベンゼン、その他こ
の反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げ
られる。反応温度は特に限定されないが、通常冷
却下または室温で行われることが多い。 製造法 Ｉ （）＋（）→（ａ）〔方法Ｂ
−２〕 化合物（ａ）またはその塩類は、化合物
（）に化合物（）またはその塩類を
反応させることによつて製造される。 この反応は通常慣用される溶媒中で行われ、そ
の溶媒としては、ベンゼン、その他この反応に悪
影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反
応温度は特に限定されないが、通常室温または加
熱下に行われることが多い。 製造法 Ｊ （）→（XI）〔方法Ｂ−１〕、（XI）→
（ａ）〔方法Ｂ−１〕および（）→
（）〔方法Ｃ〕 化合物（XI）、（XIａ）および（）ま
たはそれらの塩類は、化合物（）、（XI）お
よび（）またはそれらの塩類をオゾン分解
に付し、次いで得られた化合物を必要に応じて還
元反応に付すことにより製造される。 オゾン分解反応は、化合物（）、（XI）お
よび（）にオゾンを反応させることにより
行われる。この反応は、通常、溶媒中で行なわ
れ、溶媒としては酢酸エチル、酢酸メチル、その
他この反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が
挙げられる。反応温度は特に限定されないが、通
常、冷却下ないしは室温で行われることが多い。 この反応で、対応するオゾニド化合物が得られ
た場合、化合物（XI）、（ａ）および（
）またはその塩類は、このオゾニド化合物
を、さらに亜硫酸ナトリウム、酸性亜硫酸ナトリ
ウム、硫化ジメチル、トリメチルホスフアイト等
の慣用する還元剤を用いて還元することにより得
られる。この反応は、通常、溶媒中で行なわれ、
溶媒としては酢酸エチル、その他この反応に悪影
響を及ぼさないすべての溶媒が挙げられる。反応
温度は特に限定されないが、通常、冷却下ないし
は室温で行なわれることが多い。 製造法 Ｋ （）→（）〔方法Ｃ〕 化合物（）またはその塩類は、化合物
（）またはその塩類を還元反応に付すこと
により製造される。 この還元反応は、−CO−基を対応する−CH
（OH）−基に変換するのに慣用する還元方法が適
用され、このような還元方法としては、亜鉛のよ
うな金属と酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機ま
たは無機酸の組み合わせの試剤を用いる方法、水
素化ほう素リチウム、水素化ほう素ナトリウム、
アルミニウムアマルガム等の金属アマルガスを用
いる還元方法および接触還元方法等が挙げられ
る。この反応は、通常、溶媒中で行われ、溶媒と
しては塩化メチレン、テトラヒドロフラン、その
他この反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が
挙げられる。反応温度は、特に限定されないが、
通常、冷却下、室温ないしは加温下で行われるこ
とが多い。 製造法 Ｌ （）→（）〔方法Ｃ〕 化合物（）またはその塩類は、化合物
（）またはその塩類をハロゲン化すること
により製造される。 このハロゲン化反応は、３ハロゲン化燐、５ハ
ロゲン化燐、オキシ塩化燐、ハロゲン化チオニル
等の慣用されるハロゲン化剤を用いて行われる。
この反応は、ルチジン、ピリジン等の塩基の存在
下に行つてもよい。この反応は、通常、溶媒中で
行われ、溶媒としては塩化メチレン、その他この
反応に悪影響を及ぼさないすべての溶媒が挙げら
れる。反応温度は特に限定されないが、通常、冷
却下、室温ないしは加温下に行われることが多
い。 製造法 Ｍ （）→（）〔方法Ｃ〕 化合物（）またはその塩類は、化合物
（）またはその塩類に、一般式：Ｐ（OR4）3 またはＯ ‖ HP （OR4）2またはＰ（R5）3 （式中、R4およびR5はそれぞれ前と同じ意味）
で示される化合物を反応させることにより製造さ
れる。 この反応で、一般式：
【式】（式中、 R4はは前と同じ意味）で示される化合物を用い
る場合には、この反応は先に挙げた塩基の存在下
に行うのが好ましい。この反応は、通常、溶媒中
で行われ、溶媒としては塩化メチレン、ベンゼ
ン、その他この反応に悪影響を及ぼさないすべて
の溶媒が挙げられる。反応温度は特に限定されな
いが、通常、室温ないしは加温下で行われること
が多い。 製造法 Ｎ （）→（）〔方法Ｃ〕 化合物（）またはその塩類は、化合物（）
またはその塩類を酸化することにより製造され
る。 この反応は、方法２で説明したのと実質的に同
様の方法で行われる。 この発明の目的化合物（）は、高い抗菌力を
有し、かびを含む広範囲の微生物の生育を阻止す
るので、医薬として有用である。 この発明のセフアロスポリン類縁化合物を予防
もしくは治療の目的で投与するに当つては、該物
質を主成分とし、これに医薬として許容しうる媒
体、例えば経口、非経口もしくは外用に適する有
機もしくは無機の、固体または液体賦形剤を加え
た医薬製剤の形で投与される。このような製剤と
しては、カプセル、錠剤、顆粒剤、軟膏、座剤等
の固体状製剤、または液剤、懸濁剤もしくは乳剤
等の液体状製剤がある。さらに必要であれば前記
製剤中に補助剤、安定剤、湿潤剤もしくは乳化
剤、緩衝剤、その他汎用添加剤等を含有させるこ
ともできる。 化合物の投与量は年令、患者の状態等によつて
決められるが、一般的には１mgないし1000mgの間
で１日１回以上投与され、さらに平均的には１回
につき50mg、100mg、250mg、500mgの量でこの発
明の化合物を投与すると、多数の病原性微生物に
よつて起る感染症の治療に有効であることがわか
つた。一般的には１日当り１mgないし約1000mgま
たはそれ以上の量が投与される。 次に、この発明の目的化合物（）の効果とし
て、この発明の代表的な化合物の抗菌活性を示
す。 試験化合物 (1) 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−２−
オキソ−３−セフエム−４−カルボン酸のベン
ジルエステル (2) 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−１−
オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４
−カルボン酸のベンジルエステル 試験方法 下記の寒天板倍数希釈法により試験管内抗菌活
性を測定した。 トリプチケース・ソーイ・ブロス（菌数104〜5
個／ml）中で一夜培養した試験菌株の一白金耳を
ハート・インフユージヨン・アガー（Ｈ−寒
天）に接種した。この培地には抗菌剤が各濃度で
含まれており、37℃で20時間培養した後、最低発
育阻止濃度（MIC）をμｇ／ml単位で測定した。
〔原料化合物の製造〕
(a)−(1) ２−〔２−オキソ−3β−アミノ−4β−（メチル
チオ）アゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−ブテン酸のベンジルエステルのｐ−トルエンス
ルホン酸塩（49.2ｇ）を塩化メチレン（100ml）
に溶かした溶液に、−40℃において、トリエチル
アミン（31.2ml）を加え、次いで塩化（２−アセ
トキシアセチル）（15.3ｇ）と塩化メチレン（10
ml）の溶液を30分間に滴下する。塩化メチレン
（25ml）を加え、混合物を40分間撹拌し、その間
に温度を−７℃まで徐々に上昇させる。混合物に
冷水および1N−塩酸を加え、水層および塩化メ
チレン層を分離する。水層をさらに塩化メチレン
で抽出する。抽出液を上記塩化メチレン層に合わ
せ、1N−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム溶液お
よび塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状の２−
〔２−オキソ−3β−（２−アセトキシアセトアミ
ド）−4β−（メチルチオ）アゼチジン−１−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸のベンジルエステル
（43.95ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3410、1770、1720、1695cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 1.92（3H、ｓ）、1.99（3H、ｓ）、2.12
（3H、ｓ）、2.24（3H、ｓ）、4.60（2H、
ｓ）、5.04（1H、ｄ、）Ｊ＝4.5Hz）、
5.08および5.28（2H、ABq、Ｊ＝12
Hz）、5.47（1H、dd、Ｊ＝4.5、８Hz）、
7.03（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz）、7.37（5H、
ｓ） (a)−(2) ２−〔２−オキソ−3β−（２−アセトキシアセ
トアミド）−4β−（メチルチオ）アゼチジン−１
−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベンジル
エステル（43.95ｇ）をアセトン（260ml）と水
（100ml）の混合物に溶かした溶液に、1N−水酸
化ナトリウム水溶液（100ml）を３℃において30
分間に滴下する。同温度で10分間撹拌後、1N−
塩酸で反応混合物のPHを７に調整し、減圧下にア
セトンを留去する。混合物を酢酸エチルで２回
（250mlと50ml）抽出する。抽出液を炭酸水素ナト
リウム飽和水溶液および塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮すると
油状物（38.8ｇ）を得る。 油状物をシリカゲル（500ｇ）を用いてカラム
クロマトグラフイーに付する。カラムをベンゼン
（500ml×４）、ベンゼン：アセトン（17：３）混
合物、ベンゼン：アセトン（４：１）混合物で順
次溶出する。まず、ベンゼン：アセトン（17：
３）混合物のフラクシヨンから、原料化合物
（6.10ｇ）が回収される。次に、続くフラクシヨ
ンから、２−〔２−オキソ−3β−（２−ヒドロキ
シアセトアミド）−4β−（メチルチオ）アゼチジ
ン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベ
ンジルエステル（28.75ｇ）が得られる。 I.R. （CH2Cl2） 3600、3400、1770、1720、1690cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 1.92（3H、ｓ）、2.03（3H、ｓ）、2.24
（3H、Ｓ）、4.12（2H、Ｓ）、4.35（1H、
broad ｓ）、5.14（1H、ｄ、Ｊ＝4.5
Hz）、5.40（1H、dd、Ｊ＝4.5、８Hz）、
5.14および5.32（2H、ABq、Ｊ＝12
Hz）、7.36（5H、ｓ）、7.84（1H、ｄ、
Ｊ＝８Hz） (a)−(3) ２−〔２−オキソ−3β−（２−ヒドロキシアセ
トアミド）−4β−（メチルチオ）アゼチジン−１
−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベンジル
エステル（28.65ｇ）を塩化メチレン（150ml）に
溶かした溶液に、ピリジン（7.35ml）を−30℃で
加え、次に２、２、２−トリクロロエチルクロロ
ホルメート（17.7ｇ）と塩化メチレン（10ml）の
溶液を−30℃で25分間に滴下する。反応温度を０
℃に上昇させ、1N−塩酸を加えて混合物を振盪
する。塩化メチレン層を分離し、水層をさらに塩
化メチレンで抽出する。抽出液を合わせ、1N−
塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および塩化
ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濃縮すると、油状の２−〔２−オキ
ソ−3β−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ）アセトアミド｝−4β−（メ
チルチオ）アゼチジン−１−イル〕−３−メチル
−２−ブテン酸のベンジルエステル（43.30ｇ）
を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3400、1770、1710、1695cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 1.92（3H、ｓ）、2.02（3H、ｓ）、2.27
（3H、ｓ）、4.76（2H、ｓ）、4.82（2H、
ｓ、）5.44（1H、dd、Ｊ＝4.5、８Hz）、
5.04〜5.32（3H、ｍ）、7.13（1H、ｄ、
Ｊ＝８Hz）、7.38（5H、ｓ） (a)−(4) ２−〔２−オキソ−3β−アミノ−4β−（メチル
チオ）アゼチジン−１−イル〕−３−メチル−２
−ブテン酸のベンジルエステルのｐ−トルエンス
ルホン酸塩（150ｇ）を塩化メチレン（1000ml）
に溶かした溶液に、塩化２−（２、２、２−トリ
クロロエトキシカルボニル）アセチル（114.2ｇ）
と塩化メチレン（100ml）の溶液を−40℃で30分
間を要して滴下する。混合物を30分間放置して温
度を０℃まで上昇させる。反応混合物を1N−塩
酸、氷水、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液および
塩化ナトリウム飽和水溶液で続けて洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。酸留物
をシリカゲル（１ｇ）を用いてクロマトグラフイ
ーに付し、ベンゼン、ベンゼン：酢酸エチル
（５：１および３：１）混合物で順次溶出すると、
油状の２−〔２−オキソ−3β−｛２−（２、２、２
−トリクロロエトキシカルボニルオキシ）アセト
アミド｝−4β−（メチルチオ）アゼチジン−１−
イル〕−３−メチルブテン酸のベンジルエステル
（174.6ｇ）を得る。 (a)−(5) ２−〔２−オキソ−3β−｛２−（２、２、２−ト
リクロロエトキシカルボニルオキシ）アセトアミ
ド｝−4β−（メチルチオ）アゼチジン−１−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸のベンジルエステル
（43.30ｇ）を塩化メチレン（220ml）に溶かした
溶液に、塩素（6.7ｇ）と４塩化炭素（78ml）の
溶液を−70℃で一時に加える。得られる混合物を
−50℃で17分間撹拌し、次いで34分間撹拌し、そ
の間に反応温度を徐々に室温に上昇させる。反応
混合物に窒素ガスを氷冷下40分間通し、混合物を
濃縮すると、油状の２−〔２−オキソ−3β−｛２
−（２、２、２−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ）アセトアミド｝−4α−（クロロ）アゼチ
ジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸の
ベンジルエステル（少量の4β−クロロ体を含む）
（51.5ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3400、1780、1710、1695cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 2.05（3H、ｓ）、2.34（3H、ｓ）、4.73
（2H、ｓ）、4.84（2H、ｓ）、5.15（1H、
dd、Ｊ＝2.8Hz）、5.20（2H、broad
ｓ）、5.80（1H、ｄ、Ｊ＝２Hz）、7.3
（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz、）7.40（5H、ｓ） (a)−(6) ２−〔２−オキソ−3β−｛２−（２、２、２−ト
リクロロエトキシカルボニルオキシ）アセトアミ
ド｝−4α−（クロロ）アゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸のベンジルエステル（少
量の4β−クロロ体を含む）（2.37ｇ）を塩化メチ
レン（20ml）に溶かした溶液に、酸化銀（0.65
ｇ）および４ふつ化ほう素酸銀（1.10ｇ）を順次
加え、得られる混合物を−20℃で撹拌する。１時
間撹拌後、塩化メチレン（10ml）を加える。さら
に30分間撹拌後、反応混合物を放置して温度を０
℃に上昇させ、ベンゼン（30ml）および塩化ナト
リウム（１ｇ）を加える。15分間撹拌後、混合物
に塩化ナトリウム飽和水溶液（３ml）を加え、撹
拌を10分間続ける。得られる混合物を過し、
液の有機層を塩化ナトリウム飽和水溶液、水およ
び塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄し、乾燥
後濃縮すると油状物（2.30ｇ）を得る。油状物を
シリカゲル（60ｇ）を用いてクロマトグラフイー
に付し、塩化メチレン、次いでメタノール：塩化
メチレン（１：199）の混合物で溶出すると、無
色油状の２−〔２−｛２、２、２−トリクロロエト
キシ）カルボニルオキシメチル｝−４−オキソ−
3a、5a−ジヒドロ−4H−アゼト〔３、２−ｄ〕
オキサゾール−５−イル〕−３−メチル−２−ブ
テン酸のベンジルエステル（下記構造式）（1.47
ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1780、1720cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 1.91（3H、ｓ）、2.25（3H、ｓ）、4.73
（2H、ｓ）、4.75（2H、ｓ）、5.11およ
び5.22（2H、ABq、Ｊ＝13Hz）、5.2
（1H）、5.98（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、
7.32（5H、ｓ） (a)−(7) ２−〔２−｛（２、２、２−トリクロロエトキシ）
カルボニルオキシメチル｝−４−オキソ−3a、5a
−ジヒドロ−4H−アゼト〔３、２−ｄ〕オキサ
ゾール−５−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
のベンジルエステル（680mg）を無水テトラヒド
ロフラン（５ml）に溶かした溶液に、ピリジン
（0.15ml）および塩化２−フエノキシアセチル
（0.21ml）を−78℃で加える。得られる混合物を
撹拌して温度を室温まで上昇させる。１ 2/3時間
撹拌後、反応混合物を室温で濃縮し、残留物を酢
酸エチルで抽出する。抽出液を希塩酸、塩化ナト
リウム希水溶液および塩化ナトリウム飽和水溶液
で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
すると、油状の２−〔２−｛（２、２、２−トリク
ロロエトキシ）カルボニルオキシメチレン｝−３
−（フエノキシアセチル）−４−オキソ−２、３、
3a、5a−テトラヒドロ−4H−アゼト〔３、２−
ｄ〕−オキサゾール−５−イル〕−３−メチル−２
−ブテン酸ベンジルエステル（下記構造式）（880
mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1785、1725、1700、1600cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 1.97（3H、ｓ）、2.32（3H、ｓ）、4.82
（2H、ｓ）、4.92（2H、broad ｄ、Ｊ
＝２Hz）、5.22（2H、broad ｄ、Ｊ＝
２Hz）、5.58（1H、dd、Ｊ＝４Hz）、
6.15（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、6.8〜7.6
（10H、ｍ）、7.67（1H、ｓ） (a)−(8) ２−〔２−｛（２、２、２−トリクロロエトキシ）
カルボニルオキシメチレン｝−３−（２−フエノキ
シアセチル）−４−オキソ−２、３、3a、5a−テ
トラヒドロ−4H−アゼト〔３、２−ｄ〕オキサ
ゾール−５−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
のベンジルエステル（1.30ｇ）、ｄ−樟脳スルホ
ン酸（23mg）、塩化メチレン（15ml）および水
（0.054ml）の混合物を、室温で30分間撹拌する。
混合物を酢酸エチルで抽出する。抽出液を炭酸水
素ナトリウム水溶液、水および塩化ナトリウム飽
和水溶液で順次洗浄し、乾燥し、濃縮すると、油
状物（1.37ｇ）を得る。油状物をシリカゲル（20
ｇ）を用いてクロマトグラフイーに付し、ベンゼ
ン：アセトン（９：１）混合物で溶出すると、油
状の２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシア
セトアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロ
ロエトキシカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
のベンジルエステル（1.08ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1780、1765、1720、1695cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 2.08（3H、ｓ）、2.30（3H、ｓ）、4.5〜
4.9（6H、ｍ）、5.23（2H、ｓ）、5.38
（1H、dd、Ｊ＝4.8Hz）、6.38（1H、ｄ、
Ｊ＝４Hz）、6.8〜7.6（11H、ｍ） (a)−(9) ２−〔２−｛（２、２、２−トリクロロエトキシ）
カルボニルオキシメチル｝−４−オキソ−3a、5a
−ジヒドロ−4H−アゼト〔３、２−ｄ〕オキサ
ゾール−５−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
のベンジルエステル（15.0ｇ）を乾燥アセトン
（100ml）に溶かした溶液に、ｐ−トルエンスルホ
ン酸１水化物（5.81ｇ）を加え18℃で20分間撹拌
する。反応混合物を減圧下に濃縮すると、半固体
（23ｇ）を得る。この残留物をジエチルエーテル
（50ml）と共にすりつぶし、次いで石油エーテル
（70ml）を加える。混合物を冷却し、沈殿を取
し、減圧下に乾燥すると、白色粉末状、mp109−
113℃（分解）の２−〔２−オキソ−3β−アミノ
−4θ−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキシカ
ルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチジン−１−
イル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベンジルエ
ステルのｐ−トルエンスルホン酸塩（18.1ｇ）を
得る。 I.R. （CH2Cl2） 1785、1770、1725cm-1 N.M.R.（d6−DMSO、δ） 2.00（3H、ｓ）、2.18（3H、ｓ）、2.33
（3H、ｓ）、4.8〜5.1（3H、ｍ）5.01
（2H、ｓ）、5.25（2H、ｓ）、6.47（1H、
ｄ、Ｊ＝４Hz）、7.17および7.55（4H、
ABq、Ｊ＝８Hz）、7.42（5H、ｓ） (a)−(10) ２−〔２−オキソ−3β−アミノ−4β−｛２−
（２、２、２−トリクロロエトキシカルボニルオ
キシ）アセトキシ｝アゼチジン−１−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸のベンジルエステルのｐ
−トルエンスルホン酸塩（4.0ｇ）を乾燥塩化メ
チレン（20ml）に溶かした溶液に、塩化２−フエ
ノキシアセチル（1.03ml）を氷冷下に加え、この
混合物にピリジン（１ml）と塩化メチレン（４
ml）の溶液を滴下する。混合物を同温度で30分間
撹拌し、減圧下に濃縮する。得られる残留物を酢
酸エチル（100ml）に溶解し、希塩酸、水、炭酸
水素ナトリウム水溶液および塩化ナトリウム水溶
液で順次洗浄し、溶媒を留去すると、油状の２−
〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセトアミ
ド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチジン−
１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベンジ
ルエステル（3.9ｇ）を得る。 (a)−(11) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチ
ジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸の
ベンジルエステル（338mg）を酢酸エチル（６ml）
に溶かした溶液に、溶液の色が青色に変るまで、
−78℃でオゾンと酸素の混合ガスを通じ、溶液を
−78℃で５分間放置する。次に溶液に−78℃で窒
素ガスを通じてオゾンを除く。得られる溶液を、
亜硫酸水素ナトリウム（1.04ｇ）、亜硫酸ナトリ
ウム（0.32ｇ）および水（10ml）の溶液中に注入
し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を塩化ナトリ
ウム希水溶液で２回、および塩化ナトリウム飽和
水溶液で順次洗浄し、乾燥し、濃縮すると、泡状
物質（350mg）を得、これにメタノール：エーテ
ル（１：９）の混合物を加えて結晶化すると、結
晶状、mp122−126℃（分解）の２−〔２−オキソ
−3β−（２−フエノキシアセトアミド）−4β−｛２
−（２、２、２−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ）アセトキシ｝アゼチジン−１−イル〕グ
リオキシル酸のベンジルエステル（240mg）を得
る。 I.R. （ヌジヨール） 1830、1765、1740、1720、1680cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 4.49（4H、ｓ）、4.57（2H、ｓ）、5.26
（2H、ｓ）、5.47（1H、dd、Ｊ＝5.9
Hz）、6.70（1H、dJ＝５Hz）、6.6〜7.5
（11H、ｍ） (a)−(12) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチ
ジン−１−イル〕グリオキシル酸のベンジルエス
テル（395mg）、亜粉末（300mg）、プロピオン酸
（0.3ml）および塩化メチレン（４ml）の混合物
を、０℃で40分間、13℃で10分間、次いで０℃で
７分間撹拌する。反応混合物を冷酢酸エチル（４
ml）で希釈し過する。液を炭酸水素ナトリウ
ム冷水溶液、塩化ナトリウム希水溶液および塩化
ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去すると、泡状物質の
２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセト
アミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエ
トキシカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチジ
ン−１−イル〕グリコール酸のベンジルエステル
（２位エピマーの混合物）（370mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1795、1765、1695cm-1 (a)−（13） ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチ
ジン−１−イル〕グリコール酸のベンジルエステ
ル（２位エピマーの混合物）（1.26ｇ）および２、
６−ルチジン（0.35ml）を塩化メチレン（15ml）
に溶かした溶液に、塩化チオニル（0.22ml）を−
30℃で加え、得られる混合物を20分間放置して温
度を０℃に上昇させ、０℃で１ 2/3時間放置す
る。反応混合物を塩化ナトリウム冷希水溶液中に
注入し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を塩化ナ
トリウム希水溶液、炭酸水素ナトリウム希水溶液
および塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、乾燥
し、濃縮すると、油状の２−クロロ−２−〔２−
オキソ−3β−（２−フエノキシアセトアミド）−
4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキシカ
ルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチジン−１−
イル〕酢酸のベンジルエステル（２位エピマーの
混合物）（1.31ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1805、1765、1730、1700cm-1 (a)−（14） 上記(10)で得られた油状物（1.31ｇ）、トリフエ
ニルホスフイン（1.05ｇ）および塩化メチレン
（10ml）の混合物を、室温で12時間放置し、次い
で4.5時間加熱還流する。反応混合物を塩化メチ
レンで希釈し、炭酸水素ナトリウム希水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
ると褐色油状物を得る。この油状物を、シリカゲ
ル（12ｇ）を用いてクロマトグラフイーに付し、
ベンゼン、ベンゼン：酢酸エチル（10：１）およ
びベンゼン：酢酸エチル（４：１）で続けて溶出
すると、無定形固体の２−トリフエニルホスホラ
ニリデン−２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノ
キシアセトアミド）−4β−｛２−（２、２、２−ト
リクロロエトキシカルボニルオキシ）アセトキ
シ｝アゼチジン−１−イル〕酢酸のベンジルエス
テル（986mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1765、1690、1620cm-1 (a)−（15） ２−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２
−オキソ−3β−（２−フエノキシアセトアミド）
−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチジン−１
−イル〕酢酸のベンジルエステル（915mg）、亜鉛
末（750mg）、酢酸（0.5ml）および塩化メチレン
（5.0ml）の混合物を、15℃で４時間撹拌する。さ
らに亜鉛末（150mg）を加え、混合物を15℃で１
時間撹拌する。反応混合物を過し、液を炭酸
水素ナトリウム飽和水溶液（16ml）、水および塩
化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると、油状物
（780mg）を得る。油状物をシリカゲル（５ｇ）を
用いてクロマトグラフイーに付し、ベンゼン、ベ
ンゼン：酢酸エチル（10：１）混合物、ベンゼ
ン：酢酸エチル（５：１）混合物、ベンゼン：酢
酸エチル（２：１）混合物および酢酸エチルで続
けて溶出すると、泡状物質の２−トリフエニルホ
スホラニリデン−２−〔２−オキソ−3β−（２−
フエノキシアセトアミド）−4β−（２−ヒドロキ
シアセトキシ）アゼチジン−１−イル〕酢酸のベ
ンジルエステル（550mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1780、1755、1690、1620cm-1 (b)−(1) ２−〔２−オキソ−3β−（２−アセトキシアセ
トアミド）−4β−（メチルチオ）アゼチジン−１
−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベンジル
エステル（4.4ｇ）を塩化メチレン（50ml）に溶
かした溶液に、塩素（1.5ｇ）および４塩化炭素
（20ml）の溶液を−78℃で加える。得られる溶液
を−78℃で40分間、次いで０℃で20分間撹拌す
る。反応混合物を炭酸水素ナトリウム冷水溶液中
に注入し、塩化メチレン（100ml、10ml×２）で
抽出する。抽出液を合わせ、水および塩化ナトリ
ウム飽和水溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去すると、油状の２−〔２
−オキソ−3β−（２−アセトキシアセトアミド）
−4α−（クロロ）アゼチジン−１−イル〕−３−
メチル−２−ブテン酸のベンジルエステル（5.5
ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1780、1755、1700cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 2.00（3H、ｓ）、2.10（3H、ｓ）、2.27
（3H、ｓ）、4.54（2H、ｓ）、5.04（1H、
ｄ、Ｊ＝８Hz）、5.18（2H、ｓ）、5.76
（1H、ｓ）、7.24（5H、ｓ） (b)−(2) ２−〔２−オキソ−3β−（２−アセトキシアセ
トアミド）−4α−（クロロ）アゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベンジルエス
テル（5.5ｇ）をテトラヒドロフラン（40ml）に
溶かした溶液に、酸化銀（4.6ｇ）および４ふつ
化ほう素酸銀（3.90ｇ）を−30℃で加える。得ら
れる混合物を−20℃ないし−10℃で２時間40分、
次いで室温で１時間撹拌する。反応混合物を０℃
に冷却し、ベンゼン（100ml）、塩化ナトリウム水
溶液（20ml）および炭酸水素ナトリウム水溶液
（20ml）を加える。混合物を20分間撹拌し、セラ
イト層を通して過する。有機層を分離し、塩化
ナトリウム飽和水溶液（３回）で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留する
油状物（5.4ｇ）をシリカゲル（120ｇ）を用いて
クロマトグラフイーに付し、まず塩化メチレン、
次いで塩化メチレン中メタノール1.5％の溶液で
溶出すると、油状の２−〔２−アセトキシメチル
−４−オキソ−3a、5a−ジヒドロ−4H−アゼト
〔３、２−ｄ〕オキサゾール−５−イル〕−３−メ
チル−４−ブテン酸のベンジルエステル（下記構
造式）（3.30ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1780、1750、1720cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 1.94（3H、ｓ）、2.12（3H、ｓ）、2.19
（3H、ｓ）、4.69（2H、ｓ）、5.2（1H）、
5.23（2H、ｓ）、6.01（1H、ｄ、Ｊ＝３
Hz）、7.38（5H、ｓ） (b)−(3) ２−〔２−アセトキシメチル−４−オキソ−
3a、5a−ジヒドロ−4H−アゼト〔３、２−ｄ〕
オキサゾール−５−イル〕−３−メチル−２−ブ
テン酸のベンジルエステル（985mg）、炭酸カリウ
ム（440mg）とアセトン（15ml）、および水（7.5
ml）を55℃で３時間加熱する。得られる溶液を濃
縮し、残留物に酢酸エチルを加える。酢酸エチル
層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で続けて
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
する。残留する油状物（800ml）をシリカゲル
（30ｇ）を用いてクロマトグラフイーに付し、ま
ずベンゼン、次いでベンゼン：アセトン（３：
１）混合物で溶出すると、２−〔２−ヒドロキシ
メチル−４−オキソ−3a、5a−ジヒドロ−4H−
アゼト〔３、２−ｄ〕オキサゾール−５−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸のベンジルエステル
（210mg）を得、また原料化合物（322mg）を回収
する。生成物は、実施例１(b)−(5)の製品と薄層ク
ロマトグラフイーにより同定した。 (b)−(4) ２−〔２−オキソ−3β−（２−ヒドロキシアセ
トアミド）−4β−（メチルチオ）アゼチジン−１
−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベンジル
エステル（1.15ｇ）を塩化メチレン（20ml）に溶
かした溶液に、塩素（440mg）と４塩化炭素（2.5
ml）の溶液を−78℃で１時に加える。得られる混
合物を−78℃で40分間、次いで０℃で40分間撹拌
する。反応混合物を炭酸水素ナトリウム冷水溶液
（50ml）中に注入し、塩化メチレンで抽出する。
抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると、油
状の２−〔２−オキソ−3β−（２−ヒドロキシア
セトアミド）−4β−（クロロ）アゼチジン−１−
イル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベンジルエ
ステル（1.35ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1780、1720、1690cm-1 (b)−(5) ２−〔２−オキソ−3β−（２−ヒドロキシアセ
トアミド）−4β−（クロロ）アゼチジン−１−イ
ル〕−３−メチル−２−ブテン酸のベンジルエス
テル（380mg）、酸化銀（400mg）および無水テト
ラヒドロフラン（６ml）の混合物に、４ふつ化ほ
う素酸銀（320mg）を−40℃で加える。得られる
混合物を−40℃ないし−30℃で30分間撹拌し、次
いで徐々に温度を０℃に上昇させる。70分後、ベ
ンゼン（20ml）、塩化ナトリウム水溶液（３ml）
および炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（１ml）を
加える。反応混合物を５分間撹拌し、セライト層
を通して過する。液を水および塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去すると、油状物（300mg）
を得る。油状物（265mg）をシリカゲル（7.5ｇ）
を用いてクロマトグラフイーに付し、まず塩化メ
チレン、次いで塩化メチレン中メタノール２％の
溶液で溶出する。目的化合物を含むフラクシヨン
を集め溶媒を留去すると、２−〔２−ヒドロキシ
メチル−４−オキソ−3a、5a−ジシドロ−4H−
アゼト〔３、２−ｄ〕オキサゾール−５−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸のベンジルエステル
（下記構造式）（96mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1780、1720、1655cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 1.90（3H、ｓ）、2.27（3H、ｓ）、3.9
（1H、ｍ）、4.24（2H、broad ｓ）、
5.20（1H、ｄ、Ｊ＝３Hz）、5.23（2H、
ｓ）、6.03（1H、ｄ、Ｊ＝３Hz）、7.39
（5H、ｓ） (b)−(6) ２−〔２−ヒドロキシメチル−４−オキソ−
3a、5a−ジヒドロ−4H−アゼト〔３、２−ｄ〕
オキサゾール−５−イル〕−３−メチル−２−ブ
テン酸のベンジルエステル（210mg）、ピリジン
（64ml）および塩化メチレン（4.5ml）の溶液に、
２、２、２−トリクロロエチルクロロホルメート
（96μ）を−35℃で加える。得られる混合物の
温度を１時間を要して徐々に０℃まで上昇させ
る。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、希塩酸、
水、塩化ナトリウム飽和水溶液、炭酸水素ナトリ
ウム希水溶液、塩化ナトリウム希水溶液および塩
化ナトリウム飽和水溶液で続けて洗浄する。有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残留する油状物（311mg）をシリカゲル（10
ｇ）を用いてクロマトグラフイーに付し、塩化メ
チレンで溶出すると、油状の２−〔２−｛（２、２、
２−トリクロロエトキシ）カルボニルオキシメチ
ル｝−４−オキソ−3a、5a−ジヒドロ−4H−アゼ
ト〔３、２−ｄ〕オキサゾール−５−イル〕−３
−メチル−２−ブテン酸のベンジルエステル
（200mg）を得る。この生成物は、実施例１(a)−(6)
の製品と薄層クロマトグラフイーにより固定し
た。 (c)−(1) ２−〔２−オキソ−3β−アミノ−4β−｛２（２、
２、２−トリクロロエトキシカルボニルオキシ）
アセトキシ｝アゼチジン−１−イル〕−３−メチ
ル−４−ブテン酸のベンジルエステルのｐ−トル
エンスルホン酸塩（18.1ｇ）およびベンジルクロ
ロホルメート（3.82ml）を塩化メチレン（80ml）
にけんだくした液に、ピリジン（4.90ml）と塩化
メチレン（10ml）の溶液を０℃で15分を要して滴
下する。混合物を０℃で１時間撹拌し、濃縮す
る。残留物を酢酸エチル（250ml）に溶解し、溶
液を希塩酸、水、炭酸水素ナトリウム希水溶液お
よび塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、濃縮すると、油状物
（13.2ｇ）を得る。油状物をシリカゲル（220ｇ）
を用いてクロマトグラフイーに付し、ベンゼンお
よびベンゼン：アセトン（20：３）混合物で溶出
すると、油状の２−〔２−オキソ−3β−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−4β−｛２−（２、２、
２−トリクロロエトキシカルボニルオキシ）アセ
トキシ｝アゼチジン−１−イル〕−３−メチル−
２−ブテン酸のベンジルエステル（13.2ｇ）を得
る。 I.R. （CH2Cl2） 1780、1760、1720cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 2.00（3H、ｓ）、2.26（3H、ｓ）、4.60
（2H、ｓ）、4.76（2H、ｓ）、5.16（2H、
ｓ）、5.20（2H、ｓ）、5.25（1H）、5.47
（1H、broad ｄ、Ｊ＝９Hz）、6.34
（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、7.37（10H、
ｓ） (c)−(2) ２−〔２−オキソ−3β−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−4β−｛２−（２、２、２−トリクロ
ロエトキシカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
のベンジルエステル（13.7ｇ）を酢酸エチル
（260ml）に溶かした溶液に、オゾンを含む酸素ガ
スを−78℃で20分間通じる。溶液の色が淡青色に
なつた後、溶液中に窒素ガスを−78℃で15分間通
して過剰のオゾンを除去する。混合物の温度を窒
素気流中で40分を要して徐々に０℃に上昇させ
る。得られる混合物を亜硫酸ナトリウム（10.4
ｇ）、亜硫酸水素ナトリウム（3.2ｇ）と水（100
ml）の***液中に注入し、振盪する。有機層を分
離し、塩化ナトリウム希水溶液および塩化ナトリ
ウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を蒸発させ乾固すると、無定形固体を
得る。この残留物にジエチルエーテル（30ml）を
加えて結晶化し、混合物から溶媒を蒸発させ乾固
する。残留物にジイソプロピルエーテル（30ml）
を加えてすりつぶす。結晶を取し、ジイソプロ
ピルエーテル（25ml×２）で洗浄し、真空乾燥す
ると、mp118−121℃（分解）の２−〔２−オキソ
−3β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4β−
｛２−（２、２、２−トリクロロエトキシカルボニ
ルオキシ）アセトキシ｝アゼチジン−１−イル〕
グリオキシル酸のベンジルエステル（12.07ｇ）
を得る。 I.R. （ヌジヨール） 1830、1765、1735、1720、1698cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 4.56（2H、broad ｓ）、4.74（2H、ｓ）、
5.10（2H、broad ｓ）、5.30（2H、ｓ）、
5.2〜5.4（1H、ｍ）、5.68（1H、ｄ、Ｊ
＝９Hz）、6.69（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、
7.32（5H、ｓ）、7.38（5H、ｓ） (c)−(3) ２−〔２−オキソ−3β−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−4β−｛２−（２、２、２−トリクロ
ロエトキシカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼ
チジン−１−イル〕グリオキシル酸のベンジルエ
ステル（4.80ｇ）および酢酸（4.8ml）を塩化メ
チレン（40ml）に溶かした溶液に、亜鉛末（995
mg）を13℃で加える。得られる混合物を窒素気流
中13℃ないし17℃で３時間撹拌し、この間にさら
に亜鉛末（400mg）を４回に分けて加える。反応
混合物を酢酸エチルで希釈し、過する。液を
酢酸エチル（150ml）で希釈し、冷水、炭酸水素
ナトリウム希水溶液および塩化ナトリウム水溶液
で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
すると、油状の２−〔２−オキソ−3β−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−4β−｛２−（２、２、
２−トリクロロエトキシカルボニルオキシ）アセ
トキシ｝アゼチジン−１−イル〕グリコール酸の
ベンジルエステル（２位エピマーの混合物）
（4.60ｇ）を得る。この油状物をシリカゲルを用
いてクロマトグラフイーに付し、ベンゼン：酢酸
エチル（４：１）混合物で流出すると純品を得
る。 I.R. （CH2Cl2） 1800、1765、1740cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 4.52および4.63（2H、two ｓ）、4.75
（2H、ｓ）、5.12（2H、ｓ）、5.22およ
び5.25（2H、two ｓ）、5.1〜5.6（2H、
ｍ）、5.65〜6.0（1H、ｍ）、6.17および
6.33（1H、two ｄ）、7.37（10H、
broad ｓ） (c)−(4) ２−〔２−オキソ−3β−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−4β−｛２−（２、２、２−トリクロ
ロエトキシカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼ
チジン−１−イル〕グリコール酸のベンジルエス
テル（9.30ｇ）および２、６−ジメチルピリジン
（2.68ml）を塩化メチレン（100ml）に溶かした溶
液に、塩化チオニル（1.68ml）を窒素気流中−30
℃で５分間に滴下する。得られる混合物を20分間
放置して温度を０℃に上昇させ、０℃で1.5時間
撹拌する。反応混合物を氷水（40ml）中に注入
し、塩化メチレン（50ml）を加える。得られる混
合物を振盪後、塩化メチレン層を分離する。塩化
メチレン層を氷水、氷冷した塩化ナトリウム飽和
水溶液（50ml）および炭酸水素ナトリウム飽和水
溶液（15ml）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去すると、油状の２−クロロ−２−
〔２−オキソ−3β−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエト
キシカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチジン
−１−イル〕酢酸のベンジルエステル（２位エピ
マーの混合物）（9.50ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1805、1770、1735cm-1 (c)−(5) ２−クロロ−２−〔２−オキソ−3β−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−4β−｛２−（２、２、
２−トリクロロエトキシカルボニルオキシ）アセ
トキシ｝アゼチジン−１−イル〕酢酸のベンジル
エステル（9.50ｇ）およびトリフエニルホスフイ
ン（7.9ｇ）を塩化メチレン（70ml）に溶かした
溶液を、窒素気流中室温で13.5時間放置し、次い
で窒素気流中７時間加熱還流する。反応混合物を
濃縮した後、酢酸エチル（150ml）中に注入する。
混合物を氷冷した炭酸水素ナトリウム飽和水溶液
（30ml）および塩化ナトリウム飽和水溶液で続け
て洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を留去する。残留する油状物（16.4ｇ）をシリカ
ゲル（200ｇ）を用いてクロマトグラフイーに付
しベンゼンおよびベンゼン：アセトン（７：１、
５：１、４：１、３：１および２：１）混合物で
続けて溶出する。目的化合物を含むフラクシヨン
から溶媒を留去すると、油状の２−トリフエニル
ホスホラニリデン−２−〔２−オキソ−3β−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4β−｛２−（２、
２、２−トリクロロエトキシカルボニルオキシ）
アセトキシ｝アゼチジン−１−イル〕酢酸のベン
ジルエステル（6.80mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1775、1770、1725、1625cm-1 (c)−(6) ２−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２
−オキソ−3β−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ）アセトキシ｝アゼチジン−
１−イル〕酢酸のベンジルエステル（6.75ｇ）を
塩化メチレン（35ml）と酢酸（3.5ml）の混合物
中に溶かし、亜鉛末（5.5ｇ）を撹拌下15℃で加
え、得られる混合物を同温度でさらに２時間撹拌
し、０℃で１時間放置する。反応混合物を酢酸エ
チル（40ml）で希釈し、過し、固体を酢酸エチ
ルで洗浄する。酢酸エチル層と洗液を合わせて氷
冷した炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（100ml）
と振盪し、過する。有機層を分離し、水層を酢
酸エチル（50ml）で抽出する。分離した有機層と
抽出液を合わせ、水および塩化ナトリウム飽和水
溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、過する。液から溶媒を留去すると、無定
形固体（5.35ｇ）を得る。こうして得られた固体
をシリカゲル（35ｇ）を用いてクロマトグラフイ
ーに付し、ベンゼンおよびベンゼン：酢酸エチル
（５：１、２：１および１：１）混合物で続けて
溶出する。目的化合物を含むフラクシヨンから溶
媒を留去すると、無定形固体の２−トリフエニル
ホスホラニリデン−２−〔２−オキソ−3β−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4β−（２−ヒドロ
キシアセトキシ）アゼチジン−１−イル〕酢酸の
ベンジルエステル（4.11ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1780、1750、1725、1620cm-1 〔目的化合物の製造〕 (d)−(1) ２−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２
−オキソ−3β−（２−フエノキシアセトアミド）
−4β−（２−ヒドロキシアセトキシ）アゼチジン
−１−イル〕酢酸のベンジルエステル（288mg）、
ジメチルスルホキシド（1.4ml）および無水酢酸
（1.4ml）の混合物を室温で４時間撹拌する。反応
中に、２−トリフエニルホスホラニリデン−２−
〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセトアミ
ド）−4β−（グリオキシロイルオキシ）アゼチジ
ン−１−イル〕酢酸のベンジルエステルが生成す
る。反応混合物を室温で1.5mlまで減圧濃縮する。
残留物を炭酸水素ナトリウム冷希水溶液中に注入
し、ベンゼン：酢酸エチル（１：２）の混合物で
抽出する。抽出液を塩化ナトリウム希水溶液、水
（３回）および塩化ナトリウム飽和水溶液で続け
て洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去すると、油状物（282mg）を得る。油状物をシ
リカゲル（５ｇ）を用いてクロマトグラフイーに
付し、ベンゼン：アセトン（５：１）の混合物で
溶出すると、無定形固体の7β−（２−フエノキシ
アセトアミド）−１−オキサデチア−２−オキソ
−３−セフエム−４−カルボン酸のベンジルエス
テル（134mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1820、1745、1700cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 4.53（2H、ｓ）、5.33（2H、ｓ）、5.77
（2H、ｍ）、6.18（1H、ｓ）、6.7〜7.7
（11H、ｍ） (d)−(2) ２−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２
−オキソ−3β−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−4β−（２−ヒドロキシアセトキシ）アゼチジ
ン−１−イル〕酢酸のベンジルエステル（1.00
ｇ）をジメチルスルホキシド（４ml）および無水
酢酸（４ml）に溶かした溶液を室温で５時間40分
撹拌し、さらに28℃ないし31℃で70分間撹拌す
る。反応中に、２−トリフエニルホスホラニリデ
ン−２−〔２−オキソ−3β−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−4β−（グリオキシロイルオキシ）
アゼチジン−１−イル〕酢酸のベンジルエステル
が生成する。反応混合物を室温で約４mlまで減圧
濃縮する。濃縮物を酢酸エチル：ベンゼン（１：
１）混合物（80ml）に溶解し、炭酸水素ナトリウ
ム冷希水溶液、塩化ナトリウム飽和水溶液、水
（３回）、および塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄
し、乾燥し、溶媒を留去すると、黄色油状物
（1.06ｇ）を得る。得られた油状物をシリカゲル
（15ｇ）を用いてクロマトグラフイーに付し、ベ
ンゼン：酢酸エチル（４：１）混合物で溶出す
る。目的化合物を含むフラクシヨンから溶媒を留
去すると、油状の7β−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ−１−オキサデチア−２−オキソ−３−
セフエム−４−カルボン酸のベンジルエステル
（370mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1818、1735、cm-1 N.M.R.（アセトン−d6、δ） 5.11（2H、ｓ）、5.35（2H、ｓ）、5.66
（1H、dd、Ｊ＝4.9Hz）、6.06（1H、ｄ、
Ｊ＝４Hz）、6.31（1H、ｓ）、7.1〜7.6
（10H、ｍ） 実施例 ２ 実施例１と同様にして、下記の化合物を製造し
た。 １ 7β−〔２−ペンチルオキシイミノ−２−（２
−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセト
アミド〕−１−オキサデチア−２−オキソ−３
−セフエム−４−カルボン酸のベンジルエステ
ル（シン異性体） I.R. （CH2Cl2） 3350、1810、1730、1690cm-1 ２ 7β−（２−メトキシイミノ−２−フエニルア
セトアミド）−１−オキサデチア−２−オキソ
−３−セフエム−４−カルボン酸のベンジルエ
ステル（シン異性体） I.R. （CH2Cl2） 3390、1815、1740、1685、1610cm-1 N.M.R.〔（CD3）2C＝Ｏ、δ〕 3.95（3H、ｓ）、5.40（2H、ｓ）、6.03
（1H、dd、Ｊ＝４および８Hz）、6.23
（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、7.33〜7.83（10
〜11H、ｍ） 実施例 ３ 〔原料化合物の製造〕 (a)−(1) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−（メルカプト）アゼチジン−１
−イル〕−３−メチル−３−ブテン酸のベンジル
エステル（4.40ｇ）および塩化２−（２、２、２
−トリクロロエトキシカルボニルオキシ）アセチ
ル（4.02ｇ）を無水塩化メチレン（22ml）にけん
だくした液に、ピリジン（1.03ｇ）と塩化メチレ
ン（５ml）の溶液を撹拌下に−15℃ないし−10℃
で加え、撹拌を15分間続ける。反応混合物を酢酸
エチル（100ml）および２％塩酸（30ml）の混合
物中に注入する。有機層を分離し、水（２回）、
５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２回）および塩
化ナトリウム水溶液（３回）で続けて洗浄し、溶
媒を留去すると、２−〔２−オキソ−3β−（２−
フエノキシアセトアミド）−4β−｛２−（２、２、
２−トリクロロエトキシカルボニルオキシ）アセ
チルチオ｝アゼチジン−１−イル〕−３−メチル
−３−ブテン酸のベンジルエステル（8.0ｇ）を
得る。 I.R. （CH2Cl2） 1750、1720、1700cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 1.85（3H、ｓ）、4.5〜5.3（7H、ｍ）、
5.47（1H、dd、Ｊ＝５および８Hz）、
6.10（1H、ｄ、Ｊ＝５Hz）、6.8〜7.5
（11H、ｍ） (a)−(2) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテン酸
のベンジルエステル（520mg）を酢酸エチル（15
ml）に溶かし、ドライアイス−アセトン浴で冷却
下、溶液が淡青色になるまでオゾン化する。溶液
を同温度で10分間放置した後、溶液に窒素ガスを
通し、次いで温度を室温まで上昇させる。得られ
る溶液を亜硫酸ナトリウム（15ｇ）および亜硫酸
水素ナトリウム（50ｇ）を水（500ml）に溶かし
た液で洗浄し、洗液を酢酸エチルで抽出する。洗
浄した有機層と酢酸エチル抽出液を合わせ、塩化
ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去すると、油状の２−〔２
−オキソ−3β−（２−フエノキシアセトアミド）
−4β−（２、２、２−トリクロロエトキシカルボ
ニルオキシ）アセチルチオ｝アゼチジン−１−イ
ル〕−３−ヒドロキシ−４−ブテン酸のベンジル
エステル（533mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3400、1775、1700、1660cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 2.24（3H、ｓ）、4.56（2H、ｓ）、4.77
（2H、ｓ）、4.80（2H、ｓ）、5.25（2H、
ｓ）、5.21（1H、dd、Ｊ＝５および９
Hz）、6.00（1H、ｄ、５Hz）、6.86〜
7.50（10H、ｍ） (a)−(3) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼ
チジン−１−イル〕−３−ヒドロキシ−２−ブテ
ン酸のベンジルエステル（244mg）を酢酸エチル
（15ml）に溶かし、ドライアイス−アセトン浴で
冷却下、青色が濃くなるまでオゾン化する。溶液
に窒素ガスを通し、次いで温度を室温まで上昇さ
せる。得られる溶液を亜硫酸ナトリウム−亜硫酢
水素ナトリウム溶液で洗浄し、洗液を酢酸エチル
で抽出する。洗浄した有機層と洗液を合わせ、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥後溶媒を留去する。ジエチルエーテルと目
的化合物の結晶種子を残留物に加え、結晶を取
し、ジエチルエーテルで洗浄し、酢酸エチル：ジ
エチルエーテル混合物から再結晶すると、mp130
−134℃の２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキ
シアセトアミド）−4β−（２、２、２−トリクロ
ロエトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝ア
ゼチジン−１−イル〕グリオキシル酸のベンジル
エステル（140mg）を得る。 I.R. （ヌジヨール） 3350、1820、1760、1730、1720、1660
cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 4.56（2H、ｓ）、4.74（4H、ｓ）、5.33
（2H、ｓ）、5.50（1H、dd、Ｊ＝6.5お
よび8.5Hz）、6.05（1H、ｄ、Ｊ＝8.5
Hz）、6.8〜7.4（10H、ｍ） 元素分析 Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ Cl 計算値 46.35 3.27 4.32 4.95 16.42 実験値 45.95 3.16 4.35 5.27 16.46 (a)−(4) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−３−ブテン酸
のベンジルエステル（20.5ｇ）をベンゼン（200
ml）に溶かした溶液に、トリエチルアミンを氷冷
下に加える。混合物を室温で70分間撹拌する。反
応混合物を1N−塩酸（60ml×２）および塩化ナ
トリウム水溶液で続けて洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去する。残留物をシリカゲ
ル（120ｇ）を用いてクロマトグラフイーに付し、
ベンゼン：酢酸エチル（40：１ないし30：１）混
合物で溶出する。目的化合物を含むフラクシヨン
から溶媒を留去すると、油状の２−〔２−オキソ
−3β−（２−フエノキシアセトアミド）−4β−｛２
−（２、２、２−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ）アセチルチオ｝アゼチジン−１−イル〕
−３−メチル−２−ブテン酸のベンジルエステル
（6.2ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3400、1770、1720、1700cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 2.07（3H、ｓ）、2.25（3H、ｓ）、4.55
（2H、ｓ）、4.72（2H、ｓ）、4.75（2H、
ｓ）、5.21（2H、ｓ）、5.14（1H、ｍ）、
6.01（1H、ｄ、Ｊ＝５Hz）、6.85〜7.41
（10H、ｍ） (a)−(5) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼ
チジン−１−イル〕−３−メチル−２−ブテン酸
のベンジルエステル（11.8ｇ）を酢酸エチル
（130ml）に溶かし、ドライアイス−アセトン浴で
冷却下、溶液が青色になるまでオゾン化する。溶
液に窒素ガスを通じる。得られる溶液を、亜硫酸
水素ナトリウム（50ｇ）および亜硫酸ナトリウム
（15ｇ）を水（500ｇ）に溶かした液50ml（２回）、
および塩化ナトリウム水溶液で続けて洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると、油
状の２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシア
セトアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロ
ロエトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝ア
ゼチジン−１−イル〕グリオキシル酸のベンジル
エステル（10.9ｇ）を得る。本品は実施例３(a)−
(3)の製品と同定した。 (a)−(6) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼ
チジン−１−イル〕グリオキシル酸のベンジルエ
ステル（19.9ｇ）を、アルミニウムアマルガム
（アルミニウム末20ｇから常法で製造したもの）
をテトラヒドロフラン（300ml）にけんだくした
液に加える。混合物を６〜７℃に冷却した後、酢
酸（20ml）および水（６ml）を加える。得られる
混合物を70分間同温度で撹拌し、セライト層を通
して過する。液を半分に濃縮し、酢酸エチル
（700ml）中に注入する。混合物を、炭酸水素ナト
リウム（44ｇ）を水（500ml）に溶かした溶で洗
浄し、洗液を酢酸エチルで抽出する。有機層を合
わせ、塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると、泡状物質
の２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼ
チジン−１−イル〕グリコール酸のベンジルエス
テル（２位エピマーの混合物）（18.8ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3480、3380、1780、1740、1690cm-1 (a)−(7) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼ
チジン−１−イル〕グリオキシル酸のベンジルエ
ステル（520mg）および亜鉛末（410mg）を、撹拌
下に酢酸（0.5ml）および塩化メチレン（10ml）
の混合物に加える。得られる混合物を室温で１時
間撹拌後、不溶物を去する。液を酢酸エチル
（50ml）で希釈し、炭酸水素ナトリウムと塩化ナ
トリウムの希水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去すると、２−〔２−オキソ
−3β−（２−フエノキシアセトアミド）−4β−｛２
−（２、２、２−トリクロロエトキシカルボニル
オキシ）アセチルチオ｝アゼチジン−１−イル〕
グリコール酸のベンジルエステル（２位エピマー
の混合物）（440mg）を得る。本品は実施例３(a)−
(6)の製品と同定した。 (a)−(8) ２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセ
トアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロ
エトキシカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼ
チジン−１−イル〕グリコール酸のベンジルエス
テル（２位エピマーの混合物）（19.6ｇ）を塩化
メチレン（220ml）に溶かした溶液を−40℃に冷
却し、2.6−ルチジン（5.17ｇ）を加える。この
溶液に塩化チオニル（5.75ｇ）と塩化メチレン10
mlの溶液を同温度で20分を要して滴下し、温度を
徐々に−５℃に上昇させる。２−クロロ−２−
〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシアセトアミ
ド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼチジン
−１−イル〕酢酸のベンジルエステル（２位のエ
ピマーの混合物）を含む混合物を塩化ナトリウム
水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。
トリフエニルホスフイン（15.7ｇ）を加え、得ら
れる溶液を5.5時間加熱還流する。反応混合物を
冷却し、炭酸水素ナトリウム冷水溶液（２回）お
よび塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留物をシリ
カゲル（300ｇ）を用いてカラムクロマトグラフ
イーに付し、ベンゼン：酢酸エチル（４：１）混
合物で溶出し、油状の２−トリフエニルホスホラ
ニリデン−２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノ
キシアセトアミド）−4β−｛２−（２、２、２−ト
リクロロエトキシカルボニルオキシ）アセチルチ
オ｝アゼチジン−１−イル〕酢酸のベンジルエス
テル（10.65ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3380、1760、1690、1615cm-1 (a)−(9) ２−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２
−オキソ−3β−（２−フエノキシアセトアミド）
−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキシ
カルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼチジン−
１−イル〕酢酸のベンジルエステル（12.51ｇ）
を塩化メチレン（115ml）に溶かした溶液に、酢
酸（6.8ml）および亜鉛末（10.0ｇ）を氷冷下に
続けて加え、室温で１時間撹拌する。酢酸エチル
（400ml）を加えた後、セライト層を通して反応混
合物を過する。液を炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液および塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると、粗
製物（10.4ｇ）を得る。これをシリカゲル（90
ｇ）を用いてカラムクロマトグラフイーに付し、
ベンゼン：酢酸エチル（３：１）混合物で溶出す
ると油状物（5.6ｇ）を得る。この生成物をベン
ゼンから結晶化すると、mp128ないし132℃の２
−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２−オ
キソ−3β−（２−フエノキシアセトアミド）−4β
−（２−ヒドロキシアセチルチオ）アゼチジン−
１−イル〕酢酸のベンジルエステル（2.1ｇ）を
得る。 I.R. （ヌジヨール） 3300、3060〜3180、1770、1680、1600
cm-1 元素分析 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値 66.84 4.91 3.90 実験値 67.16 4.96 3.66 〔目的化合物の製造〕 (b) ２−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２
−オキソ−3β−（２−フエノキシアセトアミド）
−4β−（２−ヒドロキシアセチルチオ）アゼチジ
ン−１−イル〕酢酸のベンジルエステル（2.04
ｇ）、無水酢酸（８ml）およびジメチルスルホキ
シド（８ml）の混合物を室温で４時間45分間撹拌
する。反応中に、２−トリフエニルホスホラニリ
デン−２−〔２−オキソ−3β−（２−フエノキシ
アセトアミド）−4β−（グリオキシロイルチオ）
アゼチジン−１−イル〕酢酸のベンジルエステル
が生成する。過剰の無水酢酸を真空で除去し、得
られる溶液を酢酸エチルと冷水中に注入する。有
機層を分離し、水、炭酸水素ナトリウム希水溶液
および塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。残
留する油状物をシリカゲル（24ｇ）を用いてクロ
マトグラフイーに付し、まずベンゼン次いでベン
ゼン：酢酸エチル（９：１）混合物で溶出する
と、無定形固体を得、これをジエチルエーテルか
ら結晶化すると、mp127−128℃の7β−（２−フエ
ノキシアセトアミド）−２−オキソ−３−セフエ
ム−４−カルボン酸のベンジルエステル（0.80
ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3390、1805、1735、1700、1655cm-1 N.M.R.（DMSO−d6、δ） 4.63（2H、ｓ）、5.36（2H、ｓ）、5.86
（1H、dd、Ｊ＝５および８Hz）、6.05
（1H、ｄ、Ｊ＝５Hz）、6.33（1H、
ｓ）、6.88〜7.05および7.20〜7.50
（10H、ｍ）、9.36（1H、ｄ、Ｊ＝８
Hz） 元素分析 Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値 60.26 4.13 6.39 7.31 実験値 60.63 4.12 6.29 7.08 U.V.（ジオキサン） λnax 314（ε＝6022）、277（ε＝4196）、270（ε
＝3987） 実施例 ４ 〔原料化合物の製造〕 (a)−(1) ２−オキソ−3β−（２−フエニルアセトアミ
ド）−4β−メルカプトアゼチジン（4.72ｇ）、塩化
２−（２、２、２−トリクロロエトキシカルボニ
ルオキシ）アセチル（9.38ｇ）および塩化メチレ
ン（25ml）の混合物を０℃に冷却し、これにピリ
ジン（2.21ｇ）を撹拌下に加え、同温度で１時間
撹拌する。反応混合物を酢酸エチル（120ml）で
希釈し、氷水（120ml）中に注入する。有機層を
分離し、２％塩酸（30ml）、水（30ml）、２％炭酸
水素ナトリウム水溶液（30ml）および水（30ml）
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減
圧留去する。残留物をジエチルエーテル（150ml）
と共にすりつぶし、沈殿を取し、ジエチルエー
テルで洗浄し、乾燥すると、２−オキソ−3β−
（２−フエニルアセトアミド）−4β−〔２−（２、
２、２−トリクロロエトキシカルボニルオキシ）
アセチルチオ〕アゼチジン（7.60ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3400、1785、1700、1685cm-1 N.M.R.（DMSO−d6＋D2O、δ） 3.62（2H、ｓ）、4.8−5.5（5H、ｍ）、
5.63（1H、ｄ、Ｊ＝4.5Hz）、7.35（5H、
ｓ） (a)−(2) ２−オキソ−3β−（２−フエニルアセトアミ
ド）−4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキ
シカルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼチジン
（469mg）およびグリオキシル酸ベンジルエステル
（1.64ｇ）をベンゼンに溶かした溶液を、水を連
続的に除きながら（デイーンスタークの装置）撹
拌下に11時間加熱還流する。２−〔２−オキソ−
3β−（２−フエニルアセトアミド）−4β−｛２−
（２、２、２−トリクロロエトキシ）カルボニル
オキシアセチルチオ｝アゼチジン−１−イル〕グ
リコール酸のベンジルエステル（２位エピマーの
混合物）を含む反応混合物を、10％亜硫酸水素ナ
トリウム（20ml５回）および水（２回）で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残留する油状物（1.36ｇ）を無水塩化メチレ
ン（30ml）に溶かした溶液に、２、６−ルチジン
（535mg）を加え、溶液を０℃に冷却する。塩化チ
オニル（600mg）を撹拌下に加え、溶液を０℃で
45分間撹拌する。２−クロロ−２−〔２−オキソ
−3β−（２−フエニルアセトアミド）−4β−｛２−
（２、２、２−トリクロロエトキシカルボニルオ
キシ）アセチルチオ｝アゼチジン−１−イル〕酢
酸のベンジルエステル（２位エピマーの混合物）
を含む反応混合物を塩化ナトリウム水溶液（20ml
×３）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、次
にこれにトリフエニルホスフイン（1.40ｇ）を加
える。得られる混合物を、10時間加熱還流する。
反応混合物を、５％炭酸水素ナトリウム水溶液
（30ml）および水（30ml×２）で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残留する
油状物（1.95ｇ）をシリカゲルを用いてカラムク
ロマトグラフイーに付し、ベンゼン：酢酸エチル
混合物で溶出すると、２−トリフエニルホスホラ
ニリデン−２−〔２−オキソ−3β−（２−フエニ
ルアセトアミド）−4β−｛２−（２、２、２−トリ
クロロエトキシカルボニルオキシ）アセチルチ
オ｝アゼチジン−１−イル〕酢酸のベンジルエス
テル（0.54ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 1755、1720、1670、1610cm-1 (a)−(3) ２−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２
−オキソ−3β−（２−フエニルアセトアミド）−
4β−｛２−（２、２、２−トリクロロエトキシカ
ルボニルオキシ）アセチルチオ｝アゼチジン−１
−イル〕酢酸のベンジルエステル（500mg）を、
酢酸（0.25ml）および塩化メチレン（2.5ml）の
混合物に加える。混合物を10℃ないし15℃に冷却
し、亜鉛末（400mg）を撹拌下に加え、撹拌を１
時間続ける。反応混合物を過し、液を酢酸エ
チル（20ml）で希釈し、炭酸水素ナトリウムおよ
び塩化ナトリウムの５％水溶液で続けて洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する
と、２−トリフエニルホスホラニリデン−２−
〔２−オキソ−3β−（２−フエニルアセトアミド）
−4β−（２−ヒドロキシアセチルチオ）アゼチジ
ン−１−イル〕酢酸のベンジルエステル（0.37
ｇ）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3300、1760、1690、1610cm-1 〔目的化合物の製造〕 (b) ２−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２
−オキソ−3β−（２−フエニルアセトアミド）−
4β−（２−ヒドロキシアセチルチオ）アゼチジン
−１−イル〕酢酸（92mg）を、ジメチルスルホキ
シド（0.4ml）および無水酢酸（0.4ml）の混合物
に加え、室温で6.5時間撹拌する。反応中に、２
−トリフエニルホスホラニリデン−２−〔２−オ
キソ−3β−（２−フエニルアセトアミド）−4β−
（グリオキシロイルチオ）アゼチジン−１−イル〕
酢酸のベンジルエステルが生成する。反応混合物
を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル（20ml）に溶
解する。酢酸エチル層を分離し、氷水、２％炭酸
水素ナトリウム水溶液および水で続けて洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残
留物をシリカゲルを用いてカラムクロマトグラフ
イーに付し、ベンゼン：酢酸エチル（３：１）混
合物で流出すると、泡状物質の7β−（２−フエニ
ルアセトアミド）−２−オキソ−３−セフエム−
４−カルボン酸のベンジルエステル（12mg）を得
る。 I.R. （CH2Cl2） 3400、1800、1730、1690、1650cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 3.60（2H、ｓ）、5.26（2H、ｓ）、5.62
（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、5.80（1H、dd、
Ｊ＝４および８Hz）、6.36（1H、ｓ）、
6.60（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz）、7.0−7.4
（10H、ｍ） 実施例 ５ 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−１−オ
キサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４−カ
ルボン酸のベンジルエステル（379mg）を塩化メ
チレン（10ml）に溶かした溶液に、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアニリン（218mg）および５塩化燐（373mg）
を−40℃で加え、ほぼ−35℃で50分間撹拌する。
混合物にメタノール（0.6ml）を−55℃で加え、
70分間を要して温度を０℃まで徐々に上昇させ
る。反応混合物に水（0.3ml）を加え、氷冷下に
25分間撹拌する。沈殿を取し、少量のイソプロ
ピルアルコールで洗浄し、５塩化燐上で真空乾燥
すると、mp70−82℃（分解）の7β−アミノ−１
−オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４
−カルボン酸のベンジルエステルの塩酸塩（70
mg）を得る。 I.R. （ヌジヨール） 1820、1730cm-1 N.M.R.（CD3OD、δ） 5.24（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、6.15（1H、
ｄ、Ｊ＝４Hz）、5.33（2H、ｓ）、6.46
（1H、ｓ）、7.4（5H、ｍ） 実施例 ６ 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−２−オ
キソ−３−セフエム−４−カルボン酸のベンジル
エステル（294mg）を塩化メチレン（７ml）に溶
かした溶液に、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン（0.17
ml）および５塩化燐（281mg）を−35℃で続けて
加える。混合物を1.5時間−35℃ないし−30℃で
撹拌し、−50℃に冷却し、メタノール（0.57ml）
を加える。1.5時間を要して温度を徐々に０℃ま
で上昇させた後、水（0.5ml）を加える。沈殿を
取し、少量のイソプロピルアルコールで洗浄す
ると、7β−アミノ−２−オキソ−３−セフエム
−４−カルボン酸のベンジルエステルの塩酸塩
（96.5mg）を得る。 I.R. （ヌジヨール） 3140、1800、1730、1640cm-1 N.M.R.（DMSO−d6、δ） 5.40（2H、ｓおよび1H、ｄ、Ｊ＝５
Hz）、6.13（1H、ｄ、Ｊ＝５Hz）、6.45
（1H、ｓ）、7.45（5H、ｓ） 実施例 ７ Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（292mg）を塩
化メチレン（10ml）に溶かした溶液（１ml）に、
５塩化燐（318mg）を塩化メチレン（10ml）に溶
かした溶液（１ml）を氷冷下に加え、同温度で80
分間撹拌する。この混合物に、２−ペンチルオキ
シイミノ−２−（２−ホルムアミドチアゾール−
４−イル）酢酸（シン異性体）（57mg）を加え、
得られる澄明な溶液を氷冷下に１時間撹拌する。
他方、7β−アミノ−１−オキサデチア−２−オ
キソ−３−セフエム−４−カルボン酸のベンジル
エステルの塩酸塩（50mg）を塩化メチレン（２
ml）にけんだくした液を−45℃に冷却し、これに
ピリジン（400mg）と塩化メチレン（10ml）の溶
液を加える。この溶液に直ちに上で得られた澄明
溶液を加え、85分間を要して温度を徐々に−５℃
まで上昇させる。反応混合物を酢酸エチル（50
ml）と冷水の混合物中に注入し、有機層を分取す
る。有機層を冷希塩酸、炭酸水素ナトリウム冷希
水溶液および塩化ナトリウム水溶液で続けて洗浄
し、溶媒を留去すると、黄色油状物（62mg）を得
る。この油状物をシリカゲル（1.3ｇ）を用いて
クロマトグラフイーに付し、ベンゼン：酢酸エチ
ル（３：１）混合物で溶出する。目的化合物を含
むフラクシヨンから溶媒を留去すると、7β−〔２
−ペンチルオキシイミノ−２−（２−ホルムアミ
ドチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−１−
オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４−
カルボン酸のベンジルエステル（シン異性体）
（30mg）を得る。 I.R. （CH2Cl2） 3350、1810、1730、1690cm-1 N.M.R.（CD3COCD3、δ） 0.90（3H、ｔ、Ｊ＝６Hz）、1.1−1.9
（6H、ｍ）、4.17（2H、ｔ、Ｊ＝６
Hz）、5.40（2H、ｓ）、5.96（1H、dd、
Ｊ＝４および８Hz）、6.20（1H、ｄ、
Ｊ＝４Hz）、6.34（1H、ｓ）、7.34（1H、
ｓ）、7.43（5H、ｍ）、8.48（1H、ｄ、
Ｊ＝８Hz）、8.67（1H、ｓ）、11.50
（1H、broad） 実施例 ８ 実施例７と同様にして、下記の化合物を製造し
た。 １ 7β−（２−メトキシイミノ−２−フエニルア
セトアミド）−１−オキサデチア−２−オキソ
−３−セフエム−４−カルボン酸のベンジルエ
ステル（シン異性体） I.R. （CH2Cl2） 3390、1815、1740、1685、1610cm-1 N.M.R.（（CD3）2C＝Ｏ、δ） 3.95（3H、ｓ）、5.40（2H、ｓ）、6.03
（1H、dd、Ｊ＝４および８Hz）、6.23
（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、7.33−7.83（10
−11H、ｍ） ２ 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−１−
オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４
−カルボン酸のベンジルエステル I.R. （CH2Cl2） 1820、1745、1700cm-1 ３ 7β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１
−１−オキサデチア−２−オキソ−３−セフエ
ム−４−カルボン酸のベンジルエステル I.R. （CH2Cl2） 1818、1735cm-1 ４ 7β−〔２−ペンチルオキシイミノ−２−（２
−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセト
アミド〕−１−オキサデチア−２−オキソ−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体） I.R. （ヌジヨール） 1800、1720、1680、1660cm-1 ５ 7β−（２−メトキシイミノ−２−フエニルア
セトアミド）−１−オキサデチア−２−オキソ
−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体） I.R. （ヌジヨール） 3370、1815、1740、1680cm-1 ６ 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−１−
オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４
−カルボン酸 I.R. （CH2Cl2） 1815、1735、1695cm-1 ７ 7β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１
−オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−
４−カルボン酸 I.R. （CH2Cl2） 1815、1730cm-1 ８ 7β−〔２−ペンチルオキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−１−オキサデチア−２−オキソ−３−セ
フエム−４−カルボン酸の塩酸塩（シン異性
体） I.R. （ヌジヨール） 1800、1720、1660、1620cm-1 ９ 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−２−
オキソ−３−セフエム−４−カルボン酸のベン
ジルエステル I.R. （CH2Cl2） 3390、1805、1735、1700、1655cm-1 10 7β−（２−フエニルアセトアミド）−２−オ
キソ−３−セフエム−４−カルボン酸のベンジ
ルエステル I.R. （CH2Cl2） 3400、1800、1730、1690、1650cm-1 11 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−２−
オキソ−３−セフエム−４−カルボン酸 I.R. （ヌジヨール） 3350、1810、1790、1725、1650cm-1 12 7β−（２−フエニルアセトアミド）−２−オ
キソ−３−セフエム−４−カルボン酸 I.R. （CH2Cl2） 1800、1750、1685、1650cm-1 実施例 ９ 7β−〔２−ペンチルオキシアミノ−２−（２−
ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセトアミ
ド〕−１−オキサデチア−２−オキソ−３−セフ
エム−４−カルボン酸のベンジルエステル（シン
異性体）（10mg）を酢酸エチル（0.5ml）とエタノ
ール（0.5ml）の混合物に溶かし、パラジウム黒
を用い室温・１気圧で25分間水素化する。反応混
合物を過し不溶物を除き、溶媒を蒸発させ乾固
すると、7β−〔２−ペンチルオキシイミノ−２−
（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセ
トアミド〕−１−オキサデチア−２−オキソ−３
−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）を得
る。 I.R. （ヌジヨール） 1800、1720、1680、1660cm-1 N.M.R.（（CD3）2C＝Ｏ、δ） 0.9（3H、ｔ、Ｊ＝６Hz）、1.1−1.8
（6H、ｍ）、4.16（2H、ｔ、Ｊ＝６
Hz）、6.00（1H、dd、Ｊ＝４および８
Hz）、6.19（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、6.30
（1H、ｓ）、7.49（1H、ｓ）、8.66（1H、
ｓ） 実施例 10 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−１−オ
キサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４−カ
ルボン酸のベンジルエステル（134mg）およびア
ニソール（0.5ml）を塩化メチレン（３ml）に溶
かした溶液に、塩化アルミニウム（206mg）とニ
トロメタン（1.2ml）の溶液を０℃で１分間を要
して加え、混合物を窒素気流中０℃で40分間撹拌
する。反応混合物を氷水中に注入し、水層を1N
−塩酸を用いてPH１の酸性にする。有機層を塩化
メチレンで３回抽出する。抽出液を合わせ、塩化
ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、乾燥し、溶媒を
留去すると半固体（150mg）を得る。これをジエ
チルエーテルで３回洗浄すると、固体（92mg）を
得る。これを、酢酸エチルとともにすりつぶし、
過し、酢酸エチルで２回洗浄する。液と洗液
を合わせ、濃縮すると、無定形固体（66mg）を得
る。固体をジエチルエーテルとともにすりつぶ
し、取すると、固体状の7β−（２−フエノキシ
アセトアミド）−１−オキサデチア−２−オキソ
−３−セフエム−４−カルボン酸（42mg）を得
る。 I.R. （CH2Cl2） 1815、1735、1695cm-1 N.M.R.（アセトン−d3、δ） 4.62（2H、ｓ）、5.84（1H、dd、Ｊ＝４
および９Hz）、6.08（1H、ｄ、Ｊ＝４
Hz）、6.22（1H、ｓ）、6.7−7.6（5H、
ｍ）、8.50（1H、broad ｄ、Ｊ＝９Hz） 実施例 11 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−２−オ
キソ−３−セフエム−４−カルボン酸のベンジル
エステル（369mg）を塩化メチレン（15ml）に溶
かした溶液に、アニソール（1.37ml）および塩化
アルミニウム（560mg）とニトロメタン（５ml）
の溶液を氷冷下に続けて加える。混合物を同温度
で25分間撹拌し、塩化メチレンと希塩酸の混合物
中に注入する。有機層を分離し、塩化ナトリウム
水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃
縮乾固する。残留物にジイソプロピルエーテルを
加え、沈殿を取し、少量のジエチルエーテルで
洗浄すると、mp158−160℃（分解）の7β−（２−
フエノキシアセトアミド）−２−オキソ−３−セ
フエム−４−カルボン酸（235mg）を得る。 I.R. （ヌジヨール） 3350、1810、1790、1725、1650cm-1 N.M.R.（DMSO−d6、δ） 4.62（2H、ｓ）、5.82（1H、dd、Ｊ＝５
および８Hz）、6.01（1H、ｄ、Ｊ＝５
Hz）、6.23（1H、ｓ）、6.85〜7.5（5H、
ｍ）、9.38（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz） 元素分析 Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値 51.72 3.47 8.04 9.20 実験値 51.82 3.49 7.70 8.95 U.V.（ジオキサン） 270（ε＝3950）、277（ε＝4280）、313（ε＝
6090） 実施例12 実施例９なしい11と同様にして、下記の化合物
を製造した。 (1) 7β−（２−メトキシイミノ−２−フエニルア
セトアミド）−１−オキサデチア−２−オキソ
−３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性
体） I.R. （ヌジヨール） 3370、1815、1740、1680cm-1 N.M.R.（DMSO−d6、δ） 3.95（3H、ｓ）、5.75（1H、dd、Ｊ＝４
および８Hz）、6.11（1H、ｄ、Ｊ＝４
Hz）、6.19（1H、ｓ）、7.35〜7.75（5H、
ｍ）、9.61（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz） (2) 7β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１
−オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−
４−カルボン酸 I.R. （CH2Cl2） 1815、1730cm-1 N.M.R.（アセトン−d6、δ） 5.16（2H、ｓ）、5.70（1H、dd、Ｊ＝４
および９Hz）、6.10（1H、ｄ、Ｊ＝４
Hz）、6.29（1H、ｓ）、7.39（6H、ｓ）、
7.80（1H、ｍ） (3) 7β−（２−フエニルアセトアミド）−２−オ
キソ−３−セフエム−４−カルボン酸 I.R. （CH2Cl2） 1800、1750、1685、1650cm-1 N.M.R.（CDCl3、δ） 3.67（2H、ｓ）、5.63（1H、ｄ、Ｊ＝４
Hz）、5.88（1H、dd、Ｊ＝４および８
Hz）、6.37（1H、ｓ）、7.3〜7.6（6H、
ｍ） (4) 7β−〔ペンチルオキシイミノ−２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−
１−オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム
−４−カルボン酸の塩酸塩（シン異性体） I.R. （ヌジヨール） 1800、1720、1660、1620cm-1 (5) 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−１−
オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４
−カルボン酸 I.R. （CH2Cl2） 1815、1735、1695cm-1 実施例 13 7β−〔ペンチルオキシイミノ−２−（２−ホル
ムアミドチアゾール−４−イル）アセトアミド〕
−１−オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム
−４−カルボン酸（シン異性体）（201mg）をメタ
ノール（５ml）に氷冷下に溶かし、これに濃塩酸
をメタノールで10倍に希釈した溶液を加える。混
合物を同温度で３時間撹拌し、さらに室温で３時
間撹拌する。反応混合物を濃縮乾固し、残留物を
ジエチルエーテル中ですりつぶし、取して粉末
を得る。粉末を酢酸エチルで洗浄し、過し、乾
燥すると、黄色粉末状の7β−〔２−ペンチルオキ
シイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミド〕−１−オキサデチア−２−オ
キソ−３−セフエム−４−カルボン酸の塩酸塩
（シン異性体）（175mg）を得る。 I.R. （ヌジヨール） 1800、1720、1660、1620cm-1 N.M.R.（DMSO−d6、δ） 0.90（3H、ｔ、Ｊ＝６Hz）、1.1−1.9
（6H、ｍ）、4.16（2H、ｔ、Ｊ＝６
Hz）、5.76（1H、dd、Ｊ＝４および８
Hz）、6.14（1H、ｄ、Ｊ＝４Hz）、6.28
（1H、ｓ）、6.92（1H、ｓ）、9.64（1H、
ｄ、Ｊ＝８Hz）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、Ｘは−Ｏ−または−Ｓ−、R1はアミ
    ノ基またはアシルアミノ基、R2はカルボキシ基
    またはエステル化されたカルボキシ基を意味す
    る） で示されるセフアロスポリン類縁化合物、および
    その医薬的に受容し得る塩類。 ２ Ｘが−Ｏ−である特許請求の範囲第１項記載
    の化合物。 ３ R1がアミノ基であり、R2がアル（低級）ア
    ルコキシカルボニル基である特許請求の範囲第２
    項記載の化合物。 ４ R2がフエニル（低級）アルコキシカルボニ
    ル基である特許請求の範囲第３項記載の化合物。 ５ 7β−アミノ−１−オキサデチア−２−オキ
    ソ−３−セフエム−４−カルボン酸のベンジルエ
    ステルまたはその塩酸塩である特許請求の範囲第
    ４項記載の化合物。 ６ R1がアシルアミノ基である特許請求の範囲
    第２項記載の化合物。 ７ R1がアル（低級）アルコキシカルボニルア
    ミノ基、アリールオキシ（低級）アルカノイルア
    ミノ基、低級アルコキシイミノ基を置換基として
    有するアル（低級）アルカノイルアミノ基、また
    は低級アルコキシイミノ基を置換基として有する
    複素環（低級）アルカノイルアミノ基であり、
    R2がカルボキシ基またはアル（低級）アルコキ
    シカルボニル基である特許請求の範囲第６項記載
    の化合物。 ８ R1がフエニル（低級）アルコキシカルボニ
    ルアミノ基、フエノキシ（低級）アルカノイルア
    ミノ基、低級アルコキシイミノ基を置換基として
    有するフエニル（低級）アルカノイルアミノ基、
    または低級アルコキシイミノ基およびアミノ基ま
    たは低級アルカノイルアミノ基を置換基として有
    するチアゾリル（低級）アルカノイルアミノ基で
    あり、R2がカルボキシ基またはフエニル（低級）
    アルコキシカルボニル基である特許請求の範囲第
    ７項記載の化合物。 ９ R1がベンジルオキシカルボニルアミノ基、
    フエノキシアセトアミド基、２−メトキシイミノ
    −２−フエニルアセトアミド基、２−ペンチルオ
    キシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−
    イル）アセトアミド基、または２−ペンチルオキ
    シイミノ−２−（２−ホルムアミドチアゾール−
    ４−イル）アセトアミド基であり、R2がカルボ
    キシ基またはベンジルオキシカルボニル基である
    特許請求の範囲第８項記載の化合物。 １０ 7β−〔２−ペンチルオキシイミノ−２−
    （２−アミノチアゾール）−４−イル）アセトアミ
    ド〕−１−オキサデチア−２−オキソ−３−セフ
    エム−４−カルボン酸（シン異性体）またはその
    塩酸塩である特許請求の範囲第９項記載の化合
    物。 １１ 7β−〔２−ペンチルオキシイミノ−２−
    （２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセ
    トアミド〕−１−オキサデチア−２−オキソ−３
    −セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）であ
    る特許請求の範囲第９項記載の化合物。 １２ 7β−（２−メトキシイミノ−２−フエニル
    アセトアミド）−１−オキサデチア−２−オキソ
    −３−セフエム−４−カルボン酸（シン異性体）
    である特許請求の範囲第９項記載の化合物。 １３ 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−１
    −オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４
    −カルボン酸である特許請求の範囲第９項記載の
    化合物。 １４ 7β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
    １−オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−
    ４−カルボン酸である特許請求の範囲第９項記載
    の化合物。 １５ 7β−（２−メトキシイミノ−２−フエニル
    アセトアミド）−１−オキサデチア−２−オキソ
    −３−セフエム−４−カルボン酸のベンジルエス
    テル（シン異性体）である特許請求の範囲第９項
    記載の化合物。 １６ 7β−〔２−ペントキシイミノ−２−（２−
    ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセトアミ
    ド〕−１−オキサデチア−２−オキソ−３−セフ
    エム−４−カルボン酸のベンジルエステル（シン
    異性体）である特許請求の範囲第９項記載の化合
    物。 １７ 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−１
    −オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−４
    −カルボン酸のベンジルエステルである特許請求
    の範囲第９項記載の化合物。 １８ 7β−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
    １−オキサデチア−２−オキソ−３−セフエム−
    ４−カルボン酸のベンジルエステルである特許請
    求の範囲第９項記載の化合物。 １９ Ｘが−Ｓ−である特許請求の範囲第１項記
    載の化合物。 ２０ R1がアミノ基であり、R2がアル（低級）
    アルコキシカルボニル基である特許請求の範囲第
    １９項記載の化合物。 ２１ R2がフエニル（低級）アルコキシカルボ
    ニル基である特許請求の範囲第２０項記載の化合
    物。 ２２ 7β−アミノ−２−オキソ−３−セフエム
    −４−カルボン酸のベンジルエステルまたはその
    塩酸塩である特許請求の範囲第２１項記載の化合
    物。 ２３ R1がアシルアミノ基である特許請求の範
    囲第１９項記載の化合物。 ２４ R1がアリールオキシ（低級）アルカノイ
    ルアミノ基、またはアル（低級）アルカノイルア
    ミノ基であり、R2がカルボキシ基またはアル
    （低級）アルコキシカルボニル基である特許請求
    の範囲第２３項記載の化合物。 ２５ R1がフエノキシ（低級）アルカノイルア
    ミノ基、またはフエニル（低級）アルカノイルア
    ミノ基であり、R2がカルボキシ基またはフエニ
    ル（低級）アルコキシカルボニル基である特許請
    求の範囲第２４項記載の化合物。 ２６ R1がフエノキシアセトアミド基、または
    フエニルアセトアミド基であり、R2がカルボキ
    シ基またはベンジルオキシカルボニル基である特
    許請求の範囲第２５項記載の化合物。 ２７ 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−２
    −オキソ−３−セフエム−４−カルボン酸である
    特許請求の範囲第２６項記載の化合物。 ２８ 7β−（２−フエニルアセトアミド）−２−
    オキソ−３−セフエム−４−カルボン酸である特
    許請求の範囲第２６項記載の化合物。 ２９ 7β−（２−フエノキシアセトアミド）−２
    −オキソ−３−セフエム−４−カルボン酸のベン
    ジルエステルである特許請求の範囲第２６項記載
    の化合物。 ３０ 7β−（２−フエニルアセトアミド）−２−
    オキソ−３−セフエム−４−カルボン酸のベンジ
    ルエステルである特許請求の範囲第２６項記載の
    化合物。
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