JPS6378338A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6378338A JPS6378338A JP22316586A JP22316586A JPS6378338A JP S6378338 A JPS6378338 A JP S6378338A JP 22316586 A JP22316586 A JP 22316586A JP 22316586 A JP22316586 A JP 22316586A JP S6378338 A JPS6378338 A JP S6378338A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜が垂直
磁化可能な磁気記録層である磁気記録媒体の製造方法に
関する□。
磁化可能な磁気記録層である磁気記録媒体の製造方法に
関する□。
従来の技術
次の世代の高密度化を担う磁気記録技術として新しい垂
直磁気記録方式が注目されている〔外国論文誌：アイイ
ーイーイー トランザクシコンズオン マグネティクス
（ＩＥＥＥ Ｔ ＲＡＮＳＡＣＴ Ｉ ＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥ
Ｔ Ｉ Ｃ８） ｖｏｌ。
直磁気記録方式が注目されている〔外国論文誌：アイイ
ーイーイー トランザクシコンズオン マグネティクス
（ＩＥＥＥ Ｔ ＲＡＮＳＡＣＴ Ｉ ＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥ
Ｔ Ｉ Ｃ８） ｖｏｌ。
ＭＡＧ−１３，煮６．ｐ、ｐ、１２７２〜１２７７（１
ｓｙｙ））。
ｓｙｙ））。
垂直記録では、媒体面に垂直な反平行磁化転移を形成さ
せるので、磁化転移が極めて狭いものとなり、高密度の
記録が可能になるが、この方式の実現には、垂直異方性
を有する媒体の使用が不可欠で、耐久性のある、信号出
力対雑音比（以下、Ｃ／Ｎと記す）の大きな媒体の量産
技術の確立が重要である〔応用磁気セミナ、６垂直磁気
記録方弐″（ＳＯ年１２月）〕。
せるので、磁化転移が極めて狭いものとなり、高密度の
記録が可能になるが、この方式の実現には、垂直異方性
を有する媒体の使用が不可欠で、耐久性のある、信号出
力対雑音比（以下、Ｃ／Ｎと記す）の大きな媒体の量産
技術の確立が重要である〔応用磁気セミナ、６垂直磁気
記録方弐″（ＳＯ年１２月）〕。
現在、スパッタリング法〔日本応用磁気学会、第３′９
回研究会資料ｐ、３１ （１９８５）参照〕電子ビーム
蒸着法〔電子通信学会論文誌ｆ６６−Ｃ。
回研究会資料ｐ、３１ （１９８５）参照〕電子ビーム
蒸着法〔電子通信学会論文誌ｆ６６−Ｃ。
ＡＩ 、ｐ、ｓｓ （１９８３） 〕の両者がＣｏ−Ｃ
ｒ膜を中心に検討されているが、電子ビーム蒸着法は、
高温での蒸着を必要とする点や、スパッタリング法に比
べて、垂直配向性の点で劣るが、高速性が工業化にとっ
て大きな利点であり、熱じれ対策含め改良が続けられて
いる。
ｒ膜を中心に検討されているが、電子ビーム蒸着法は、
高温での蒸着を必要とする点や、スパッタリング法に比
べて、垂直配向性の点で劣るが、高速性が工業化にとっ
て大きな利点であり、熱じれ対策含め改良が続けられて
いる。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記した構成、入射角の規制、真突変の規
制２円筒キャンの設定温度、高分子フィルムの前処理等
を調整するだけでは、電子ビーム蒸着法により形成され
る垂直磁化膜は、出力レベルはスパッタリング法で得ら
れるものと同水準にできているが、雑音が大きいといっ
た点が課題で改善が望まれている。本発明は上記した事
情に鑑みなされたものでＣ／Ｎの良好な垂直磁化膜を大
量に得るのに適した製造方法を提供するものである。
制２円筒キャンの設定温度、高分子フィルムの前処理等
を調整するだけでは、電子ビーム蒸着法により形成され
る垂直磁化膜は、出力レベルはスパッタリング法で得ら
れるものと同水準にできているが、雑音が大きいといっ
た点が課題で改善が望まれている。本発明は上記した事
情に鑑みなされたものでＣ／Ｎの良好な垂直磁化膜を大
量に得るのに適した製造方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、高分子フィルム上
に、ほぼ垂直入射で強磁性金属材料の蒸気流を照射する
際、該蒸気流が中性粒子で構成されるようにしたもので
ある。
に、ほぼ垂直入射で強磁性金属材料の蒸気流を照射する
際、該蒸気流が中性粒子で構成されるようにしたもので
ある。
作 用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記した構成により
、従来の製法では高分子フィルムが絶縁物であるため電
荷をもった粒子が蒸気流に含まれていることから、この
電荷蓄積が微視的に不均一性をもたらし、極短波長にな
ると雑音の原因となっていたものを取除くことができる
ことになり、大面積に渡ｐｃ／Ｈの良好な磁気記録媒体
を得ることができるようになるのである。
、従来の製法では高分子フィルムが絶縁物であるため電
荷をもった粒子が蒸気流に含まれていることから、この
電荷蓄積が微視的に不均一性をもたらし、極短波長にな
ると雑音の原因となっていたものを取除くことができる
ことになり、大面積に渡ｐｃ／Ｈの良好な磁気記録媒体
を得ることができるようになるのである。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について詳し
く説明する。第１図は、本発明を実施するのに用いた蒸
着装置の要部構成図である。第１図で１は高分子フィル
ム、２は電子ビーム蒸発源、３は限定された中性蒸気流
、４は温調可能な回転支持体、５は巻出し軸、６は巻取
り軸、７は荷電粒子トラップ磁界発生装置、８は垂直に
近い成分で蒸着を行うためのスリット付きの遮蔽板、９
は真空容器、１ｏは真空排気系である。
く説明する。第１図は、本発明を実施するのに用いた蒸
着装置の要部構成図である。第１図で１は高分子フィル
ム、２は電子ビーム蒸発源、３は限定された中性蒸気流
、４は温調可能な回転支持体、５は巻出し軸、６は巻取
り軸、７は荷電粒子トラップ磁界発生装置、８は垂直に
近い成分で蒸着を行うためのスリット付きの遮蔽板、９
は真空容器、１ｏは真空排気系である。
第２図は、本発明により得ることの出来る磁気記録媒体
の一例の拡大断面図で、１１は高分子フィルム、１２は
垂直磁化膜、１３は潤滑層である。
の一例の拡大断面図で、１１は高分子フィルム、１２は
垂直磁化膜、１３は潤滑層である。
第１図の装置で、回転支持体は一り０℃〜＋１ｅＯ℃の
範囲で±１℃の温度が出来る円筒状キャン（直径５０
ｃｍ ）で、電子ビーム蒸発源はキャン直下４７ ｃｍ
に配置し、荷電粒子成分のトラップは磁場で行うように
し、中性蒸気流中には正。
範囲で±１℃の温度が出来る円筒状キャン（直径５０
ｃｍ ）で、電子ビーム蒸発源はキャン直下４７ ｃｍ
に配置し、荷電粒子成分のトラップは磁場で行うように
し、中性蒸気流中には正。
負いずれのイオン及び電子も含まれないようにした。入
射蒸気流成分は１０度以内とした。
射蒸気流成分は１０度以内とした。
電子ビーム蒸発源の加熱は１ｓＫＶ 、３０ＫＷのピア
ス型電子銃で行った。
ス型電子銃で行った。
表面に山脈状のヒダ（高さ１００人）を付した芳香族ポ
リアミドを１２として用い、その上にＣｏ−Ｃｒ（Ｃｒ
２０．４ｗｔ％）垂直磁化膜１３．０．１５）ｔｍを配
しその上に、真空蒸着法でステアリン酸アミド８ｏ人を
蒸着して潤滑層１４を形成し、それを８訓幅の磁気テー
プとして、改造した８ミリビデオデツキでＣ／Ｎを比較
し次。
リアミドを１２として用い、その上にＣｏ−Ｃｒ（Ｃｒ
２０．４ｗｔ％）垂直磁化膜１３．０．１５）ｔｍを配
しその上に、真空蒸着法でステアリン酸アミド８ｏ人を
蒸着して潤滑層１４を形成し、それを８訓幅の磁気テー
プとして、改造した８ミリビデオデツキでＣ／Ｎを比較
し次。
トラップ磁界を調整し中性蒸気流でＧｏ−Ｃｒ膜を形成
した実施例と、トラップ磁界なしで、Ｃｏ−Ｃｒ膜を形
成した比較例いずれも、回転ドラム温度は１４６℃一定
とした。
した実施例と、トラップ磁界なしで、Ｃｏ−Ｃｒ膜を形
成した比較例いずれも、回転ドラム温度は１４６℃一定
とした。
改造したデツキで使用したビデオヘッドはギャップ長０
．１６．ｍｍのフェライトヘッドで、記録波長は０．５
．ｌ１ｍと０．３３）ｔｍの２点で比較した。
．１６．ｍｍのフェライトヘッドで、記録波長は０．５
．ｌ１ｍと０．３３）ｔｍの２点で比較した。
実施例は比較例に対して、０．５）ｔｍで＋２．１（ｄ
Ｂ）、−０，３３μ で＋ｓ、７（ｄＢ）と改善が著し
いものであった。
Ｂ）、−０，３３μ で＋ｓ、７（ｄＢ）と改善が著し
いものであった。
更に１任意の１００本のテープを選んで０．４／ｊｍの
波長を記録した時の任意の１０００点のＣ／Ｈの値は、
実施例が１（ｄＢ）以内のバラツキに入っていたが、比
較例は３．７（ｄＢ） とバラツキが大きく、実施例
の均一性が確かめられた。
波長を記録した時の任意の１０００点のＣ／Ｈの値は、
実施例が１（ｄＢ）以内のバラツキに入っていたが、比
較例は３．７（ｄＢ） とバラツキが大きく、実施例
の均一性が確かめられた。
上記した実施例では高分子フィルムとして芳香族ポリア
ミドとしたが他にポリエチレンテレフタレート、ポリフ
ェニレン廿ル７アイド１．ポリイミド、ポリサルフォン
等としてもよい。
ミドとしたが他にポリエチレンテレフタレート、ポリフ
ェニレン廿ル７アイド１．ポリイミド、ポリサルフォン
等としてもよい。
垂直磁化膜としてはＣｏ−Ｃｒ膜の他にＣｏ−０゜Ｃｏ
−Ｗ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｔｉ等としてもよい。
−Ｗ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｔｉ等としてもよい。
発明の効果
以上のように本発明によれば、高分子フィルム上にＣ／
Ｎの良好を垂直磁化膜を大面積均一に形成できるため、
優れた垂直磁気２鎌用の磁気記録媒体を得ることができ
るといったすぐれた効果がある。
Ｎの良好を垂直磁化膜を大面積均一に形成できるため、
優れた垂直磁気２鎌用の磁気記録媒体を得ることができ
るといったすぐれた効果がある。
第１図は本発明を実施するのに用いた蒸着装置の一例の
要部構成図、第２図は本発明により製造できる磁気記録
媒体の一例の拡大断面図である。 １．１１・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・
蒸発源、３・・・・・・中性蒸気流、４・・・・・・回
転支持体、１２・・・・・・垂直磁化膜、１３・・・・
・・潤滑層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／
−−一高勿゛子フィルム ？−−−電子ビーム声、范沸 ３−市性監気弐
要部構成図、第２図は本発明により製造できる磁気記録
媒体の一例の拡大断面図である。 １．１１・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・
蒸発源、３・・・・・・中性蒸気流、４・・・・・・回
転支持体、１２・・・・・・垂直磁化膜、１３・・・・
・・潤滑層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／
−−一高勿゛子フィルム ？−−−電子ビーム声、范沸 ３−市性監気弐
Claims (1)
- 高分子フィルム上に、ほぼ垂直入射で強磁性金属材料の
蒸気流を照射する際、前記蒸気流を中性粒子で構成した
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22316586A JPS6378338A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22316586A JPS6378338A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6378338A true JPS6378338A (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=16793816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22316586A Pending JPS6378338A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6378338A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6095730A (ja) * | 1983-10-29 | 1985-05-29 | Taiyo Yuden Co Ltd | 磁性膜作製装置 |
-
1986
- 1986-09-19 JP JP22316586A patent/JPS6378338A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6095730A (ja) * | 1983-10-29 | 1985-05-29 | Taiyo Yuden Co Ltd | 磁性膜作製装置 |
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