JPS6267726A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6267726A JPS6267726A JP20921385A JP20921385A JPS6267726A JP S6267726 A JPS6267726 A JP S6267726A JP 20921385 A JP20921385 A JP 20921385A JP 20921385 A JP20921385 A JP 20921385A JP S6267726 A JPS6267726 A JP S6267726A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- recording medium
- heating
- electron beam
- induction heating
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に係り、特に垂直磁
化記録用に適する磁気記録媒体の製造方法に関する。
化記録用に適する磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術
磁気記録に関する方式としては、従来、記録媒体のほぼ
長手方向の磁化を用いる方式が専ら採用されている。
長手方向の磁化を用いる方式が専ら採用されている。
しかし、このように面内長手方向の磁化を用いる方式で
は、記録の高密度化を図ろうとすると、記録媒体内の減
磁界が増加するため、記録の高密度化にも自ずと限界が
ある。
は、記録の高密度化を図ろうとすると、記録媒体内の減
磁界が増加するため、記録の高密度化にも自ずと限界が
ある。
そこで、このような不具合を解消するために、記録媒体
の表面と直交する方向の磁化を利用する。
の表面と直交する方向の磁化を利用する。
いわゆる垂直磁化記録方式が考えられている。この垂直
磁化記録方式を採用すると、記録密度の増加と共に、媒
体内域磁界が減少するため高密度記録化が可能となる。
磁化記録方式を採用すると、記録密度の増加と共に、媒
体内域磁界が減少するため高密度記録化が可能となる。
ところで、垂直磁化記録方式を採用するには、記録媒体
と直交する方向に磁化容易軸金有する記録媒体を必要と
する。
と直交する方向に磁化容易軸金有する記録媒体を必要と
する。
このような記録媒体の代表的なものは、ポリイミド等の
高分子フィルム上にＣｒ ｆ ２０ ｗｔ％前後含むＣ
Ｏ合金薄膜ヲ０．１μｍ〜０．３μｍ形成したものが知
られている。
高分子フィルム上にＣｒ ｆ ２０ ｗｔ％前後含むＣ
Ｏ合金薄膜ヲ０．１μｍ〜０．３μｍ形成したものが知
られている。
Ｃｏ−０ｒ薄膜の形成は、スパッタリング法、電子ビー
ム蒸着法、イオンブレーティング法等が検討されている
。
ム蒸着法、イオンブレーティング法等が検討されている
。
中でも電子ビーム蒸着法、イオンブレーティング法は薄
膜形成速度が大きいので、実用面から注目されている。
膜形成速度が大きいので、実用面から注目されている。
〔例えば、電子通信学会論文誌Ｖｏｌｔ、 Ｉ ｅｅ−
Ｃ、５５〜６１頁（１９８３）参照〕発明が解決しよう
とする問題点 しかし、電子ビーム蒸着法では、大きい抗磁力を得るに
は、高分子フィルムを高温にする必要が生じ、巻取り時
にシワが生じることが多く、これを避ける為に、ポリイ
ミド等の極めて高価なフィルムを用いるとすると、実用
性がなくなる難点があった。
Ｃ、５５〜６１頁（１９８３）参照〕発明が解決しよう
とする問題点 しかし、電子ビーム蒸着法では、大きい抗磁力を得るに
は、高分子フィルムを高温にする必要が生じ、巻取り時
にシワが生じることが多く、これを避ける為に、ポリイ
ミド等の極めて高価なフィルムを用いるとすると、実用
性がなくなる難点があった。
一方、イオンブレーティングは、高分子フィルムの温度
を電子ビーム蒸着法に比べて低くできるという期待があ
るが、装置上に難点がある。即ち、広幅の高分子フィル
ム上に均一な垂直磁化膜を得るには、グロー放電域を均
一に幅広く構成する必要があるが、安定に長時間、その
状態を保持するのは困難である。
を電子ビーム蒸着法に比べて低くできるという期待があ
るが、装置上に難点がある。即ち、広幅の高分子フィル
ム上に均一な垂直磁化膜を得るには、グロー放電域を均
一に幅広く構成する必要があるが、安定に長時間、その
状態を保持するのは困難である。
それは、蒸発源を、例えば高周波コイルが見込むように
構成してしまうと、高周波コイルが蒸着され、条件の安
定化がはかれないことになるし、これを避けようとする
と、コイルを大きくする必要が生じ、磁界の影響が弱ま
ると、電子ビームが影響を受けて、蒸発源を安定に加熱
できないという問題があった。
構成してしまうと、高周波コイルが蒸着され、条件の安
定化がはかれないことになるし、これを避けようとする
と、コイルを大きくする必要が生じ、磁界の影響が弱ま
ると、電子ビームが影響を受けて、蒸発源を安定に加熱
できないという問題があった。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、高分子フ
ィルムを高温にしなくても、高速で広幅の均一な高い抗
磁力の垂直磁化膜形成を行うことの出来る製造方法を提
供するものである。
ィルムを高温にしなくても、高速で広幅の均一な高い抗
磁力の垂直磁化膜形成を行うことの出来る製造方法を提
供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体の製
造方法は、Ｃｒ ｆ誘導加熱、Ｃｏｆ電子ビーム加熱に
より蒸着せしめるようにしたものである。
造方法は、Ｃｒ ｆ誘導加熱、Ｃｏｆ電子ビーム加熱に
より蒸着せしめるようにしたものである。
作 用
本発明は上記し次構成により、ＣＯの加熱により大量に
発生する２次電子が、誘導加熱の磁界の作用で、Ｃｒ蒸
気と長時間作用するようになる為、Ｃｒがエネルギー的
に大きい状態になり、ｃｏ−Ｃｒ膜の結晶配向性を改良
するため、高分子フィルムの温度が低くても大きい抗磁
力ヲ褥ることができ、広幅の蒸発源を用いるだけでグロ
ー放電を用いなくてもよいので、幅方向の均一性は安定
に確保でできることになる。
発生する２次電子が、誘導加熱の磁界の作用で、Ｃｒ蒸
気と長時間作用するようになる為、Ｃｒがエネルギー的
に大きい状態になり、ｃｏ−Ｃｒ膜の結晶配向性を改良
するため、高分子フィルムの温度が低くても大きい抗磁
力ヲ褥ることができ、広幅の蒸発源を用いるだけでグロ
ー放電を用いなくてもよいので、幅方向の均一性は安定
に確保でできることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する。図は本発明の実施に用いた磁気記録媒体の製造装
置の一例である。図において、１は高分子フィルム、２
は送り出し軸、３は巻取り軸、４は円筒キャン、６は第
１の蒸発源容器、６熱コイル、１１はＣｏ、１２はＣｒ
、１３はマスク、１４はスリット、１６は真空容器、１
６は真空ポンプである。
する。図は本発明の実施に用いた磁気記録媒体の製造装
置の一例である。図において、１は高分子フィルム、２
は送り出し軸、３は巻取り軸、４は円筒キャン、６は第
１の蒸発源容器、６熱コイル、１１はＣｏ、１２はＣｒ
、１３はマスク、１４はスリット、１６は真空容器、１
６は真空ポンプである。
図に示した装置で円筒キャン４の直径はＦｚＯｃｍ＋マ
スク１３の位置はキャン中心より２８傭、スリット幅は
フィルムの運転方向に６．２ ｃＷｔ、蒸発源は蒸発面
がキャン中心より４８ｃｒ：Ｌで、ＣＯ蒸発源中心とＣ
ｒ蒸発源中心との距離は１０ｃｍである。誘導加熱コイ
ルは１６ターンで、周波数可変電源で加熱し、電子ビー
ムは、２７０度偏向型と、直進銃（３０ＫＶｘ２Ａ）の
２種類を用いた。
スク１３の位置はキャン中心より２８傭、スリット幅は
フィルムの運転方向に６．２ ｃＷｔ、蒸発源は蒸発面
がキャン中心より４８ｃｒ：Ｌで、ＣＯ蒸発源中心とＣ
ｒ蒸発源中心との距離は１０ｃｍである。誘導加熱コイ
ルは１６ターンで、周波数可変電源で加熱し、電子ビー
ムは、２７０度偏向型と、直進銃（３０ＫＶｘ２Ａ）の
２種類を用いた。
比較のために、電子ビーム蒸発源からＣｏ、Ｃｒの両元
素を同時に蒸発させることで磁気記録媒体を製造した。
素を同時に蒸発させることで磁気記録媒体を製造した。
用いた高分子フィルムはポリエチレンテレフタレートと
、ポリアミドフィルタで夫々厚みは１５μｍ一定とした
。
、ポリアミドフィルタで夫々厚みは１５μｍ一定とした
。
なお、イオンブレーティングによる製造も試みたが、そ
の時、高周波コイルは３ターンで、キャン中心よりコイ
ルの上部までが２９ｃｔｎ、下部までが３６ｃ、とじた
コイルで、はぼ長方形のコイルでフィルムの移動方向に
１１ｃｒｎ、それと直角方向に６９備のものを用いた。
の時、高周波コイルは３ターンで、キャン中心よりコイ
ルの上部までが２９ｃｔｎ、下部までが３６ｃ、とじた
コイルで、はぼ長方形のコイルでフィルムの移動方向に
１１ｃｒｎ、それと直角方向に６９備のものを用いた。
先ず、本発明の磁気記録媒体Ａの製造条件の主なものは
次の通りである。真空度：ｌＸ１Ｏ−６（Ｔｏｒｒ）
、誘導加熱：１０）Ｊｉ ２４ＫＷ、電子ビーム条件
： ５ｏＫＶ １．ｓＡ 、媒体Ｂの条件は、誘導加熱
：１００ｋ）ｈ、２６ＫＷ以外はＡと同一、媒体Ｃ条件
は、電子ビーム条件が１０ＫＶ１．６Ａの２７０度偏向
型を４台幅方向に並べた以外はへ条件に合わせた。
次の通りである。真空度：ｌＸ１Ｏ−６（Ｔｏｒｒ）
、誘導加熱：１０）Ｊｉ ２４ＫＷ、電子ビーム条件
： ５ｏＫＶ １．ｓＡ 、媒体Ｂの条件は、誘導加熱
：１００ｋ）ｈ、２６ＫＷ以外はＡと同一、媒体Ｃ条件
は、電子ビーム条件が１０ＫＶ１．６Ａの２７０度偏向
型を４台幅方向に並べた以外はへ条件に合わせた。
イオンブレーティング条件は、１００１．［１，１ＫＷ
の高周波グロー放電を起こして、７．θｘ １０−”Ｔ
ｏｒｒで蒸着した。
の高周波グロー放電を起こして、７．θｘ １０−”Ｔ
ｏｒｒで蒸着した。
他の条件と得られた磁気特性の幅方向の均一性。
長手方向の均一性を調べた結果を次表に示した。
上表より、本発明によれば、円筒キャンの温度を高くし
なくても、大きな保磁力が得られる。従ってポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを用いることができる。
なくても、大きな保磁力が得られる。従ってポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを用いることができる。
又、磁気特性の均一性にも優れている。
これらは、誘導加熱方式と、電子ビーム蒸発源の恐らく
２次電子の多量発生に基づくものと思われる。 Ｃｒの
活性を著しく高める作用とが組み合わされてでてくる効
果と考えられるものであり、他の高分子フィルムでも全
く同様の効果が得られるものである。
２次電子の多量発生に基づくものと思われる。 Ｃｒの
活性を著しく高める作用とが組み合わされてでてくる効
果と考えられるものであり、他の高分子フィルムでも全
く同様の効果が得られるものである。
発明の効果
以上のように本発明によれば、高い抗磁力のＣ。
−Ｏｒ 垂直磁化膜を、高分子フィルムを加熱しなく
ても、高速で、均一に得ることができるといったすぐれ
た効果を有する。
ても、高速で、均一に得ることができるといったすぐれ
た効果を有する。
図は本発明を実施するのに用いた蒸着装置の一例の要部
構成図である。 １・・・・・・高分子フィルム、４・・・・・・円筒キ
ャン、８・・・・・・２次電子ビーム、１０・・・・・
・誘導加熱コイル。
構成図である。 １・・・・・・高分子フィルム、４・・・・・・円筒キ
ャン、８・・・・・・２次電子ビーム、１０・・・・・
・誘導加熱コイル。
Claims (1)
- Ｃｏ−Ｃｒからなる垂直磁化膜を形成する際に、Ｃｒを
誘導加熱、Ｃｏを電子ビーム加熱により、蒸着せしめる
ようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20921385A JPS6267726A (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20921385A JPS6267726A (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6267726A true JPS6267726A (ja) | 1987-03-27 |
Family
ID=16569221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20921385A Pending JPS6267726A (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6267726A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003089867A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着薄膜の製造方法 |
-
1985
- 1985-09-20 JP JP20921385A patent/JPS6267726A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003089867A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着薄膜の製造方法 |
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