JPS6350915A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は垂直磁気記録媒体に関する。更に詳しくは、記
録密度が高く、かつ耐久性の優れた垂直磁気記録媒体に
関する。

〔従来の技術〕

従来、垂直磁気記録媒体として、 ■　ｃｏ−ｃｒ、ｃｏ−ｖなどのコバルトと他の金属と
の合金をスパッタリングや真空蒸着により形成したもの
（特開昭５５−１２２２３２．５６−１０７５０６号公
報）、 ■　ＱＯ，ＦｅまたはＮｉなどの磁性金属を酸素を含ん
だ反応性ガス中で真空蒸着あるいはスパッタし、Ｃ０１
ＦｅまたはＮｉなどの金属とその酸化物の混合膜を形成
したもの（特開昭５９−１６２６２２．５９−１６３８
１０号公報）、■　バリウムフェライトの粉末と有機バ
インダー等との混合物を塗工し、容易磁化軸を基体面と
垂直方向に配向させたもの、（特開昭５７−１９８５３
７号公報）、 ■　Ｃｏ−０ｒスパツタ膜から成る第１の垂直磁化膜の
上に、保磁力の異なるＱｏ−Ｑｒスパッタ膜（特開昭５
７−１７９９４２＠公報）やＦｅ３Ｏ４スパッタ膜（特
開昭５９−１１９５３３号公報）から成る第２の垂直磁
化膜を積層したものなどが知られている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、このような従来の垂直磁気記録媒体には、次の
ような問題があった。

すなわち、■のコバルト合金薄膜については高温高湿下
で酸化が起りやすく磁気特性が経時変化する。また、磁
気ヘッド等との接触により膜が傷つき、摩耗し、耐久性
が悪い。■の金属と酸化物との混合膜については、酸化
による磁気特性の変化は少ないものの、薄膜型磁気記録
媒体に共通する問題として、磁気ヘッド等との接触によ
り摩耗や傷が発生する。いずれも、表面に潤滑剤を塗布
したり、Ｓ　ｉ　０２やダイアモンド薄膜などの硬い膜
で保護する試みが提案されているが、必ずしも十分では
ない。

これに対し、■のバリウムフェライト塗工膜は、有機バ
インダーによる柔軟性によりキズがつきにくく、酸化も
起りにくいが、記録密度が低い。■の二層の垂直磁化膜
をスパッタしたものについては、硬さは優れているもの
の柔軟性に乏しく、耐摩耗性が十分でないという問題が
ある。

本発明の目的は、上記欠点のないもの、すなわち、記録
密度が高く、耐摩耗性や耐久性に優れた垂直磁気記録媒
体を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

すなわち、本発明は、基体と、該基体上に真空析出され
たコバルトと他の１種以上の金属との合金から成り、か
つ、基体面と垂直方向に磁気異方性を有する第１の垂直
磁化膜と、この第１の垂直磁化膜上に塗工された、バリ
ウムフェライトと有機バインダとを少なくとも含み、か
つ、基体面と垂直方向に磁気異方性を有する第２の垂直
磁化膜とから成ることを特徴とする垂直磁気記録媒体を
提供する。

以下、本発明の内容を図面を用いて説明する。

第１図は、本発明の垂直磁気記録媒体の一例を示す概略
断面図であり、１は基体、２は該基体上に形成された第
１の垂直磁化膜、３は第１の垂直磁化膜上に形成された
第２の垂直磁化膜である。

第２図は本発明の垂直磁気記録媒体の他の例をに示す概
略断面図であり、４は基体、５．６は第１の垂直磁化膜
、７．８は第２の垂直磁化膜である。

本発明で用いられる基体としては、特に限定されるもの
ではないが、アルミニウム、銅、ステンレスなどで代表
される金属、ガラス、セラミックなどの無機材料、プラ
スチックフィルムなどの有機重合体材料などが挙げられ
る。特にテープ、フレキシブルディスクなどとして加工
性、成形性、可撓性が重視される場合には、有機重合体
材料が適しており、中でもポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレン２，６ナフタレートなどのポリエステル
、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン
、ポリメチルメタアクリレート、ポリカーボネート、ポ
リスルホン、ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリフェ
ニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリア
ミドイミド、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリ弗化ビニリデン、ポリテトラフルオロエ
チレン、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂あるい
はこれらの混合物、共重合物などが適している。特に二
輪延伸されたフィルム、シート類は、平面性、寸法安定
性に優れ最も適しており、中でも、ポリエステル、ポリ
フェニレンスルフィド、芳香族ポリアミド、などが最も
適している。

基体の形状としては、ドラム状、ディスク状、シート状
、テープ状、カード状等いずれでも良く、厚みも特に限
定されるものではない。シート状、テープ状、カード状
等の場合、加工性、寸法安定性の点で、厚みは２〜５０
０μ、中でも４〜２００μの範囲が好ましい。

本発明で用いられる基体は、次に述べる第１の垂直磁化
膜の形成に先だち、易接着化、平面性改良、着色、帯電
防止、耐摩耗性付与等の目的で各種の表面処理や前処理
が施されても良い。また、基体と第１の垂直磁化膜との
間には、接着性、耐蝕性、磁気特性などを向上する目的
で、−層または二層以上の中間層を設けることは適宜行
なって良い。特に中間層として、パーマロイなどの軟磁
性膜を設けることは、記録・再生感度を上げるために大
きな効果があり好ましい。

この基体の少なくとも一方の面に、第１の垂直磁化膜が
形成される。

本発明でいう第１の垂直磁化膜とは、基体上に真空析出
された、コバルトと他の１種以上の金属との合金から成
り、かつ、基体面と垂直方向に磁気異方性を有するもの
でおる。

第１の垂直磁化膜でコバルトと合金を形成する他の金属
材料としては、クロム、バナジウム、タングステン、モ
リブデン、マンガン、チタン、タンタル、パラジウム、
白金、ルテニウム、ロジウムなどがあげられる。コバル
ト以外の金属が１種または、２種以上含まれていること
が必要である。

中でも、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏｏ−ＲＬＪ、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｒｕ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｒｈなどが好ましい。

コバルトと他の金属との混合比は、重量比で９ｏ：ｉｏ
から７０：３０の間におることが好ましく、さらに好ま
しくは、８５：’１５〜７５　：　２５の範囲にあるこ
とが望ましい。コバルトが９０を越える場合は、垂直方
向性が悪くなり、７０未満では磁気特性が悪くなる。

第１の垂直磁化膜は、コバルトと他の金属とが、はぼ均
一に混合したものであることが好ましいが、厚み方向、
面内方向に多少の偏在があっても良い。

第１の垂直磁化膜中には、この他、１０〜５０体積％の
空隙（ボイド）が含まれていることが、磁気特性の点で
好ましい。また、他の元素や化合物が磁気特性を損わな
い範囲で微量含まれていてもよい。

第１の垂直磁化膜の厚さは、再生出力、平坦性１、可撓
性などの点から０．０５〜２μの範囲が好ましく、０．
１〜０．５μの範囲がざらに好ましい。

第１の垂直磁化膜の磁気特性としては、基体面と垂直方
向に磁気異方性を有していることが必要である。本発明
において基体面と垂直方向に磁気異方性を有する磁性層
とは、異方性磁界（Ｈｋ）の値が２．０ＫＯｅ以上の磁
性層をいう。異方性磁界（Ｈｋ）が２．０ＫＯｅ未満の
磁性層は高密度記録時の再生出力が低く、垂直磁気記録
媒体としては好ましくない。

この他、第１の垂直磁化膜の保磁力は、３００〜２００
００ｅの範囲が好ましく、５００〜１５００　０ｅであ
ることが更に好ましい。また、飽和磁化の値は、２００
〜８００ｅｍｕ／ｃｃの範囲にあることが好ましく、３
００〜７００ｅｍｕ／ｃｃであることが更に好ましい。

基体上に、第１の垂直磁化膜を形成する方法としては、
真空蒸着、イオンブレーティング、スパッタリング、プ
ラズマ化学蒸着などの真空析出法が用いられる。このう
ち、コバルト合金をターゲットとして、ＤＣスパッタ、
ＲＦスパッタ、ＤＣマグネトロンスパッタ、ＲＦマグネ
トロンスパッタ、バイアススパンタなどのスパッタリン
グ法により真空析出する方法、およびコバルト合金また
は、コバルトと他の金属とを抵抗加熱蒸発、誘導加熱蒸
発、電子ビーム加熱蒸発などにより真空析出する方法が
好ましく、さらに、磁気特性、蒸着速度などの点から、
マグネトロンスパッタ、電子ビーム蒸着が最も好ましい
。

次にマグネトロンスパッタによる第１の垂直磁化膜の製
法の一例を示す。

１Ｘ１０　　トールに排気した真空系内に設置された二
軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム基体
上に、ｌＸ１０−３トールの圧力となるようアルゴンガ
スを導入し、直流マグネトロンスパッタ法により、Ｑｏ
−Ｃｒ合金ターゲット（ＣｏとＣｒの組成比は８１：１
９重置％）を、毎分０．５μｍの速度でスパッタし、Ｃ
ｏ−Ｃｒ合金から成る第１の垂直磁化膜を得る。このと
き基体は、１２０℃に加熱されたドラムに接して移送さ
れる。また、スパッタ膜にＯ〜−５００Ｖのバイアス電
圧を印加しても良い。

このような方法で、基体面と垂直方向に磁気異方性を有
する第１の垂直磁化膜が基体上に形成される。

次いで第１の垂直磁化膜の上に第２の垂直磁化膜が形成
される。

本発明でいう第２の垂直磁化膜とは、第１の垂直磁化膜
上に塗工された、バリウムフェライトと有機バインダと
を少なくとも含み、基材と垂直方向に磁気異方性を有す
る垂直磁化膜である。

第２の垂直磁化膜の磁性材料としては、バリウムフェラ
イト（化学式Ｂ　ａ　Ｆ　８１２０１ｇ＞が用いられる
。磁性材料としてさらに好ましくは、バリウムフェライ
ト中のＦｅの一部と１ｉＳ３ｉ、Ｑ。

などで置換したＢ　ａ　Ｆ　Ｏ１２−ｘ”　ｉ　Ｘ　０
１９、ＢａＦｅ　１２−ｙＳ　ｔ　’／　０１９、Ｂ　
ａ　Ｆ　ｅ　１２−ＺＣｏ　ｚ　０１ｇ、ＢａＦｅ　　
　　Ｔ　ｉ　ｘｓ　ｆ　’ｙ’０１ｇ（Ｘ、　’Ｓ／、
　ＺはＯ２−ｘ−ｙ 〜１２の間の数）などが磁気特性の点で優れており望ま
しい。

バリウムフェライト粒子は六方晶の結晶構造をとる。粒
子サイズとしては、Ｃ軸方向の厚さが１００〜６００人
、好ましくは２５０〜４００人、Ｃ軸方向と直交する方
向の粒子径が３００〜１０００人、好ましくは４００〜
８００人が磁気特性の点から好ましい。

バリウムフェライト微粒子の製造方法としては、共沈法
、ガラス化結晶法、水熱法などがあり、中でも、微粒子
化や結晶性の点でガラス化結晶法で得られたものが磁気
特性や粒子サイズの点で優れており望ましい。

第２の垂直磁化膜は、バリウムフェライト以外に、有機
バインダ成分を含んでいることが必要である。

有機バインダ成分の例としては、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリア
ミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、イソシアネート樹脂
などがめげられるが必ずしもこれらに限定されるわけで
はない。

バリウムフェライトと有機バインダとの混合比は重量比
で３０　：　７０〜９０：１０が好ましく、さらに４０
　：　６０〜８０　：　２０がより好ましい。

第２の垂直磁化膜中には、上記のもののほかアルミナ、
カーボン粉などの非磁性無機粒子や、レシチン、あるい
はステアリン酸、ラウリル酸などの高級脂肪酸やその塩
類あるいは、フッ素化合物などの添加剤が、耐摩耗性や
潤滑性等を向上する目的で添加されていても良い。

第２の垂直磁化膜は、あらかじめこれらの成分を有機溶
剤と混合し、ボールミル、振動ミルなどで均一混合した
塗料を、スピンコード法、グラビアロール、リバースロ
ール、スリットダイなどのロールコート法で第１の垂直
磁化膜上に塗工し、必要に応じて、磁界中で基板と垂直
方向に磁気異方性をもつよう配向させたのち、乾燥熱処
理および必要に応じて硬化熱処理、カレンダー処理など
を行なうことによって形成される。

第２の垂直磁化膜の厚さは、特に制限を受けるものでは
ないが、平均厚さとして、１００〜１００００人の範囲
が好ましい。１００人未満では第１の垂直磁化膜に対す
る保護効果、耐摩耗性向上効果が少なく、１００００人
を越える場合は記録再生感度が小さくなる。平均厚さが
２００〜２０００人の範囲がさらに好ましく、３００〜
１０００人の範囲が最も好ましい。

第２の垂直磁化膜も、第１の垂直磁化膜と同様基体面と
垂直方向に磁気異方性を有することが必要であり、異方
性磁界（Ｈｋ＞の値が２．０ＫＯｅ以上であることが好
ましい。

本発明による垂直磁気記録媒体は、磁気ディスり、フロ
ッピーディスク、磁気写真用ディスク、オーディオテー
プ、ビデオテープ、コンピュータ用テープなどに用いる
ことができる。

〔作用〕

本発明による垂直磁気記録媒体は、記録再生感度の優れ
た、コバルトと他の１種以上の金属との合金から成る第
１の垂直磁化膜の表面を、バリウムフェライトと有機バ
インダとを少なくとも含む第２の垂直磁化膜で保護する
ことにより、スペーシング損失が増大せず、ヘッドとの
接触による耐摩耗性を向上することができる。第２の垂
直磁化膜が硬質のバリウムフェライト微粒子と、柔軟か
つ強靭な有機バインダーとの混合物であることが、耐摩
耗性を向上させるのに有効に寄与したものと考えられる
。またバリウムフェライトが六方晶系の微粒子であるた
め、垂直記録でのスペーシング損失が増大せず、高密度
垂直記録の記録再生感度向上にも有効である。

〔実施例〕

以下、実施例を用いて説明する。

〔特性の測定方法〕

本発明における特性の測定には、次の方法を用いた。

〔特性の測定方法・評価基準〕

■　保磁力、飽和磁化、異方性磁界の測定方法磁性層の
磁気特性は、ＪＩＳ　　Ｃ−２５６１で示されている振
動試料型磁力計法や、磁気磁束計法によって測定できる
。磁気特性の測定方法について振動試料型磁力計（理研
電子（株）製、ＢＨＶ−３０＞によって測定する方法を
第３図により説明する。第３図において０は原点、たて
軸は磁化された磁性層の磁化量（Ｍ）を示し、よこ軸は
磁性層に印加する外部磁界（Ｈ）を示す。

磁化されていない測定試料の磁性層に外部磁界（Ｈ）を
一方向に絶えず増加しつつ印加すると、外部磁界（１−
（＞の増加に従って破線矢印の如く磁化！（Ｍ）は増大
していく。外部磁界（Ｈ＞がある値以上になると、それ
以上外部磁界（Ｈ）を増しても磁化Ｉｎ　（Ｍ）は飽和
して、それ以上増大しなくなる。第３図におけるＤ点が
この点である。

Ｄ点における磁化量（Ｍ）を飽和磁化（ＭＳ）と呼ぶ。

さらにＤ点より出発して、逆に外部磁界（Ｈ）を実線矢
印の如く減少させていくと、磁化量（Ｍ）も減少をはじ
める。外部磁界（Ｈ）をＯの状態にしても磁化量（Ｍ）
はＯとならず、残留磁化（Ｍｒ）の値を残す。さらに外
部磁界（Ｈ）をＯを越えて負方向に増大すると磁化量（
Ｍ）はある値で飽和する。この値が負の飽和磁化（第３
図Ｅ点）でおる。

さらにＥ点より出発して再び外部磁界（１−１＞を正方
向に印加をはじめると、磁化量（Ｍ）は再び正方向に実
線矢印の如く増大しはじめ、負方向の残留磁化点（−Ｍ
ｒ）を経て、再び最初の正の飽和磁化点（第３図り点）
に戻る。

以上のようにして得られる曲線は、ヒステリシスループ
と呼ばれており、このヒステリシスループにより保磁力
（ＨＣ）および飽和磁化（Ｍｓ）を得る。振動試料型磁
力計を使用し、外部磁界を基体面の垂直方向に加えた場
合のヒステリシスループを記録し、垂直方向保磁力を得
る。

次に異方性磁界の測定方法について説明する。

垂直磁気記録媒体垂直方向への磁気異方性をあられす指
標として異方性磁界（Ｈｋ）があり、この値が大きいほ
ど垂直方向に磁化されやすい優れた垂直磁気記録媒体と
言える。異方性磁界（Ｈｋ＞の測定方法について第４図
により説明する。第４図においてＯは原点、たて軸は磁
化された磁性層の磁化量（Ｍ＞を示し、よこ軸は磁性層
に印加する外部磁界（Ｈ）を示す。第４図は、試料とす
る磁性層表面に平行方向に外部磁界を加えた場合のヒス
テリシスループである。原点Ｏよりヒステリシスループ
に引いた接線と、正の飽和磁化点りを通り、外部磁界軸
（Ｈ）と平行に引いた直線との交点Ｆの外部磁界（Ｈ）
の値が異方性磁界（Ｈｋ＞でおる。

■　耐摩耗性試験方法 試料を５．２５インチのフレキシブルディスク状に打ち
抜き、弗化炭素系の潤滑剤（ＫＲＹＴＯＸＩ　４３ＡＣ
デュポン社製）を約２００人厚に塗布し、ジャケットに
納める。これを市販の片面ヘッド型のフレキシブルディ
スクドライブにかけ、３００回転後に記録再生を行なう
。この時の再生出力（Ｅ、。〉を測定し、次いで同一ト
ラック上を再生出力を測定しながら走行させる。再生出
力がＥ、。の７０％まで低下した時の走行回転数で耐摩
耗性を評価する。

■　記録密度の測定 試料を５．２５インチのフレキシブルディスク状に打ち
抜き、潤滑剤（ＫＲＹＴＯＸｌ　４３ＡＣデュポン社製
）を約２００人厚に塗布し、ジャケットに納める。この
試料を３０　Ｏｒｐｍで回転させつつ、ギャップ長が０
．２５μｍのリングヘッドで方形波を記録し、またその
再生出力を増幅してシンクロスコープ上で測定する。パ
ルスジェネレーターで発生させる方形波の波長を変化さ
ぜながら、記録再生を行ない、再生出力が最大値の半分
に低下する記録方形波の波長に対応した１インチ当りの
磁化反転密度（ＦＲＰＩ）を記録密度（Ｄ５Ｑ＞とする
。

■　第１の垂直磁化膜の組成分析 Ｘ線光電子分光分析（ＶＧ　　サイアンテイフイックリ
ミツテツド製、ＥＳＣＡ　　ＬＡＢ　　５）およびオー
ジェ電子分光分析（日本電子製、ＪＡＭＰ−１０８＞を
用いて垂直磁化膜の組成を分析した。

実施例１〜３．比較例１ 基体として、幅１５０ｍｍ、長さ５０ｍ、厚さ５０μｍ
の二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム
（東し製、゛ルミラー″）を使用した。

巻取系を有する直流マグネトロンスパッタ装置にロール
状の基体を装着し、真空槽内を３×１０−６トールに排
気した。次にアルゴンガス（純度９９．９％〉を導入し
、Ｃｏ−Ｃｒ合金ターゲット（組成比Ｃｏ　：　Ｃｒ＝
８２　：　１８）に１５Ｗ／’ｏ＋ｔの電力を印加しな
がら、１３０’Ｃに加熱されたドラムに接触して走行す
る基体上に、厚さ３２００人のＱＯ−Ｑｒ金合金ら成る
第１の垂直磁化膜を形成した。

得られたフィルムをフィルムＡと呼び、かつ、比較例１
とする。

フィルムＡの異方性磁界（Ｈｋ）は、４．６ＫＯｅ、基
体と垂直方向の保磁力は７２０　０ｅ。

飽和磁化は４９０　ｅｍｕ／ｃｃであった。

次いで、フィルムＡの垂直磁化膜上に、グラビアロール
塗工法で、下記の組成の塗料（塗料Ａ）を、乾燥後の平
均厚みがそれぞれ３００人、５５０人、９００人となる
よう、グラビアロール形状を変えて塗工し、飽和磁化が
１万ガウスのアルニコ系磁石で、塗工面の裏面から磁界
をかけ、基板と垂直方向に配向させながら乾燥硬化させ
、基体と垂直方向に磁気異方性を有する第２の垂直磁化
膜を得た。

乾燥後の厚さが３００人のものを実施例１．５５０人の
ものを実施例２．９００人のものを実施例３とする。

（塗料Ａ） バリウムフェライト磁性粉　　１００重量部塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体　２０重量部ポリウレタン樹脂　　
　　　　　１８重量部イソシアネート樹脂　　　　　　
　４重量部レシチン　　　　　　　　　　　　４重量部
ステアリン酸　　　　　　　　　　４重量部メチルエチ
ルケトン　　　　　１５０重量部メチルイソブチルケト
ン　　　１００重量部シクロへキサノン　　　　　　１
００重量部第２の垂直磁化膜の異方性磁界（Ｈｋ）は２
゜５ＫＯｅ、基体と垂直方向の保磁力は１０５０Ｑｅ、
飽和磁化は１７０ｅｍｕ／ｃｃであった。

次いで、比較例１、実施例１〜３を５．２５インチ直径
のフロッピディスク状に打ち抜き、潤滑剤（デュポン社
製、ＫＲＹＴＯＸ＞を約２００人塗布し、ジャケットに
納めたのち、記録密度およ比較例２　　３２００ｘ１０
３　　　　５２ｘ１０３比較例２ 実施例１で得られたフィルムＡ（比較例１）の第１の垂
直磁化膜の上に、厚さ１０００人の３ｉ０２膜を真空蒸
着した。

真空蒸着は、Ｓ［）２（純度９９．５％）を１×１０−
５トールの圧力中で電子ビームにより加熱蒸発させた。

このとき、基板ホルダーは５℃に冷却した。

このフィルムを実施例１と同様にして打ち抜き、潤滑剤
を塗工し、ジャケットに納め、記録密度、耐摩耗性を調
べた。

結果を表１に示す。

〔発明の効果〕

本発明の垂直磁気記録媒体は、薄膜型垂直磁気記録媒体
の長所である高密度記録特性を維持し、かつその短所で
ある耐久性、なかんずく耐摩耗性を改良でき、実用的に
優れた高密度磁気記録媒体である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る垂直磁気記録媒体の一例を示す
概略断面図でおり、１は基体、２は第１の垂直磁化膜、
３は第２の垂直磁化膜でおる。 第２図は、本発明の他の例を示す概略断面図であり、４
は基体、５．６は第１の垂直磁化膜、７．８は第２の垂
直磁化膜である。 第３図は、保磁力、飽和磁化の測定方法を示す磁化曲線
（ヒステリシるループ〉を示す。 第４図は、異方性磁界の測定方法を示す磁化曲線（ヒス
テワシスループ）を示す。 特許出願人　　東　し　株　式　会　社壓１躬 茎２１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）基体と、該基体上に真空析出されたコバルトと他
   の１種以上の金属との合金から成り、かつ、基体面と垂
   直方向に磁気異方性を有する第１の垂直磁化膜と、この
   第１の垂直磁化膜上に塗工された、バリウムフェライト
   と有機バインダとを少なくとも含み、かつ、基体面と垂
   直方向に磁気異方性を有する第２の垂直磁化膜とから成
   ることを特徴とする垂直磁気記録媒体。